JPH10162145A - Arithmetic unit for calculating correction data of center coordinate data of registered pattern in pattern matching method, and laser plotting device using it - Google Patents

Arithmetic unit for calculating correction data of center coordinate data of registered pattern in pattern matching method, and laser plotting device using it

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JPH10162145A
JPH10162145A JP33449096A JP33449096A JPH10162145A JP H10162145 A JPH10162145 A JP H10162145A JP 33449096 A JP33449096 A JP 33449096A JP 33449096 A JP33449096 A JP 33449096A JP H10162145 A JPH10162145 A JP H10162145A
Authority
JP
Japan
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pattern
registered
data
coordinate data
center coordinate
Prior art date
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Application number
JP33449096A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Okuyama
隆志 奥山
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Pentax Corp
Original Assignee
Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd filed Critical Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
Priority to JP33449096A priority Critical patent/JPH10162145A/en
Publication of JPH10162145A publication Critical patent/JPH10162145A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately and easily obtain center coordinate data of a registered pattern in a pattern matching method by finding the center coordinate data of the registered pattern by an image processing circuit. SOLUTION: A specific pattern, which is similar to a positioning mark, is selected by using a mouse 108 to generate a registered pattern. Then, the positioning mark on a substrate is photographed by a CCD camera 78 and its image-processed positioning mark pattern is matched against the registered pattern to find tentative center coordinate data of the registered pattern. Then the registered pattern is rotated by a half round, 180 deg., around a registration window and registered as a registered half-turn pattern, and pattern matching is carried out to find tentative center coordinate data of the registered half-turn pattern. On the basis of the tentative center coordinate data of the registered pattern and registered half-turn pattern, data on the quantity of deviation of the registered pattern from the center of the registration window is found.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はパターンマッチング
法における登録パターンの中心座標データの補正データ
を演算する演算装置及びそれを用いるレーザ描画装置に
関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an arithmetic unit for calculating correction data of center coordinate data of a registered pattern in a pattern matching method, and a laser writing apparatus using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】上述したようなレーザ描画装置は被描画
体に対してレーザビームを主走査方向に偏向させつつ該
被描画体を副走査方向に移動させて描画作動を行うもの
であって、一般的には適当な被描画体の表面に微細なパ
ターンをレーザビームでもって描画するために使用され
るものである。代表的な使用例としては、フォトリソグ
ラフの手法を用いてプリント回路基板を製造する際の回
路パターンの描画が挙げられ、このとき被描画体は例え
ばフォトマスク用感光フィルムあるいは基板上のフォト
レジスト層であったりする。
2. Description of the Related Art A laser drawing apparatus as described above performs a drawing operation by moving a drawing object in a sub-scanning direction while deflecting a laser beam in a main scanning direction with respect to the drawing object. Generally, it is used for drawing a fine pattern on the surface of an appropriate object by using a laser beam. A typical example of the use is to draw a circuit pattern when manufacturing a printed circuit board using a photolithographic technique, and the object to be drawn is, for example, a photosensitive film for a photomask or a photoresist layer on the substrate. And so on.

【0003】近年、回路パターンの設計プロセスからそ
の描画プロセスに至るまでの一連のプロセスが統合化さ
れ、レーザ描画装置はそのような統合システムの一翼を
担っている。また、かかる統合システムには、レーザ描
画装置の他に、回路パターンの設計を行うCAD(Compu
ter Aided Design) ステーション、このCADステーシ
ョンで得られた回路パターンデータ即ちベクタデータに
編集処理を施すCAM(Computer Aided Manufacturing)
ステーション等が設けられる。
In recent years, a series of processes from the process of designing a circuit pattern to the process of drawing the circuit pattern have been integrated, and the laser writing apparatus plays a part in such an integrated system. In addition, such an integrated system includes a CAD (Compu
ter Aided Design) station, a CAM (Computer Aided Manufacturing) that edits the circuit pattern data obtained by the CAD station, that is, vector data.
Stations and the like are provided.

【0004】CADステーションで作成されたベクタデ
ータあるいはCAMステーションで編集されたベクタデ
ータはレーザ描画装置に転送され、そこでベクタデータ
はラスタデータに変換される。レーザ描画装置では、フ
ォトマスク用感光フィルムあるいは基板上のフォトレジ
スト層等の被描画体がレーザビームでもって走査させら
れると共に副走査方向に順次移動させられ、該レーザビ
ームの変調を上述のラスタデータに基づいて所定の周波
数のクロックパルスに従って制御することにより、該被
描画体上には所定のパターンが描かれる。
[0004] Vector data created by a CAD station or vector data edited by a CAM station is transferred to a laser drawing apparatus, where the vector data is converted into raster data. In a laser writing apparatus, an object to be drawn such as a photosensitive film for a photomask or a photoresist layer on a substrate is scanned by a laser beam and sequentially moved in a sub-scanning direction. , A predetermined pattern is drawn on the object to be drawn by controlling according to a clock pulse of a predetermined frequency.

【0005】ところで、かかるレーザ描画装置において
は、複数の同一規格の被描画体、例えばフォトレジスト
層を持つ基板の各々に対して回路パターンを常に同じ位
置で描画することが要求される。この場合、個々の被描
画体はレーザ描画装置の描画テーブルに対して常に同じ
位置に正確に位置決めされなければならないことになる
が、しかし実際にはレーザ描画装置の描画テーブルに対
して同一規格の被描画体の各々を同じ位置に正確に位置
決めすることは行われない。というのは、かかるレーザ
描画装置の描画精度はミクロンオーダであり、このため
描画テーブルに対して被描画体をミクロンオーダの精度
で位置決めする位置決め機構は非常に高価なものとなる
からである。更に、かかる位置決め機構は種々の規格の
被描画体に対応することが必要であり、これは位置決め
機構を一層高価なものとする。
In such a laser drawing apparatus, it is required that a circuit pattern is always drawn at the same position on each of a plurality of objects to be drawn of the same standard, for example, a substrate having a photoresist layer. In this case, each object to be drawn must always be accurately positioned at the same position with respect to the drawing table of the laser drawing apparatus, but actually, the drawing table of the laser drawing apparatus has the same standard. There is no precise positioning of each of the objects to be drawn at the same position. The reason is that the drawing accuracy of such a laser drawing apparatus is on the order of microns, and therefore, a positioning mechanism for positioning the object to be drawn on the drawing table with an accuracy on the order of microns is very expensive. Further, such a positioning mechanism needs to be compatible with objects to be drawn of various standards, which makes the positioning mechanism more expensive.

【0006】そこで、従来では、被描画体の四隅に設け
た位置決めマークを固体撮像素子例えばCCD(charge-
coupled device) 等からなる撮像手段でもって撮影し、
その位置決めマークの映像の中心座標データをパターン
マッチング法で求め、この中心座標データに基づいて描
画テーブルに対する被描画体の相対位置データを演算
し、この相対位置データに基づいて、主走査方向に沿う
レーザビームによる描画開始位置及び副走査方向に沿う
レーザビームによる描画開始位置を制御し、これにより
複数の同一規格の被描画体の各々に対して描画パターン
を常に同じ位置に位置決めするようにしている。
Therefore, conventionally, positioning marks provided at the four corners of the object to be drawn are solid-state image pickup devices such as CCDs (charge-charged).
coupled device) etc.
The center coordinate data of the image of the positioning mark is obtained by the pattern matching method, the relative position data of the object to be drawn with respect to the drawing table is calculated based on the center coordinate data, and the position along the main scanning direction is calculated based on the relative position data. The drawing start position by the laser beam and the drawing start position by the laser beam along the sub-scanning direction are controlled, so that the drawing pattern is always positioned at the same position for each of a plurality of objects to be drawn of the same standard. .

【0007】周知のように、パターンマッチング法はプ
リント配線板等上に描かれた文字やマーク等を識別する
ために開発された画像処理ソフトウエアであるが、上述
したように位置決めマークの中心座標データを求めるた
めの演算法としても利用されている。この場合、位置決
めマークの中心座標データを求めるためには、登録ウィ
ンドウを用いてかかる位置決めマークと相似形のパター
ンを予め登録パターンとしてメモリに登録しておくこと
が必要であり、このような登録作業についてはCRT表
示装置等の表示画面を見ながらキーボードやマウス等の
入力手段を介して行われる。
As is well known, the pattern matching method is image processing software developed for identifying characters, marks, and the like drawn on a printed wiring board or the like. It is also used as an arithmetic method for obtaining data. In this case, in order to obtain the center coordinate data of the positioning mark, it is necessary to previously register a pattern similar to the positioning mark in the memory as a registration pattern using a registration window. Is performed through input means such as a keyboard and a mouse while viewing a display screen of a CRT display device or the like.

【0008】位置決めマークと相似形のパターンが登録
ウィンドウを用いて登録パターンとしてメモリに登録さ
れるとき、かかるパターンの中心を登録ウィンドウの中
心に正確に一致させなければならい。というのは、位置
決めマークに対してかかる登録パターンを用いてパター
ンマッチングを実行することによって該位置決めマーク
の中心座標データを演算するとき、その演算は登録パタ
ーンの中心座標データではなく登録ウィンドウの中心座
標データに基づいて行われるからである。即ち、もし上
述したようなパターンの登録時に該パターンの中心が登
録ウィンドウの中心からずれている場合には、そのずれ
が位置決めマークの中心座標データの演算時に誤差とし
て取り込まれることになるからである。
When a pattern similar to the positioning mark is registered in the memory as a registration pattern using the registration window, the center of the pattern must exactly match the center of the registration window. That is, when calculating the center coordinate data of the positioning mark by performing pattern matching on the positioning mark using the registration pattern, the calculation is performed not on the center coordinate data of the registration pattern but on the center coordinate of the registration window. This is because it is performed based on data. That is, if the center of the pattern is shifted from the center of the registration window when the pattern is registered as described above, the shift will be taken in as an error when calculating the center coordinate data of the positioning mark. .

【0009】しかしながら、CRT表示装置等の表示画
面の解像度はミクロンオーダの精度には遠く及ばないの
で、パターンの中心を登録ウィンドウの中心に正確に一
致させて該パターンの登録を行うことは事実上不可能で
ある。即ち、パターンの登録時、登録ウィンドウの中心
に対する該パターンの中心のずれは不可避的に伴うとい
うことになる。
However, since the resolution of a display screen of a CRT display device or the like does not reach a precision on the order of microns, it is practically necessary to register the pattern by making the center of the pattern exactly coincide with the center of the registration window. Impossible. That is, when a pattern is registered, a shift of the center of the pattern from the center of the registration window is inevitably accompanied.

【0010】そこで、従来では、位置決めマークと相似
形のパターンが登録ウィンドウを用いて登録パターンと
してメモリに登録された後に該登録パターンを基にパタ
ーンマッチング及び描画作動が試験的に行われ、そのと
き得られた描画パターンと被描画体の位置決めマークと
の位置ずれを実測し、その測定値に基づいて登録ウィン
ドウの中心座標を補正して登録パターンの中心座標デー
タとしている。要するに、かかる補正データを不揮発性
メモリ等に格納し、実際の描画作動時には、パターンマ
ッチング法による位置決めマークの中心座標データの演
算がかかる補正データを考慮して行われ、これによりレ
ーザ描画装置の描画テーブルに対する被描画体の適正で
かつ正確な相対位置データが得られるようになってい
る。
Therefore, conventionally, after a pattern similar to a positioning mark is registered in a memory as a registered pattern using a registration window, pattern matching and drawing operations are performed on a trial basis based on the registered pattern. The positional deviation between the obtained drawing pattern and the positioning mark of the object to be drawn is actually measured, and the center coordinates of the registration window are corrected based on the measured value to obtain the center coordinates data of the registration pattern. In short, the correction data is stored in a non-volatile memory or the like, and at the time of an actual drawing operation, the calculation of the center coordinate data of the positioning mark by the pattern matching method is performed in consideration of the correction data. Appropriate and accurate relative position data of the object to be drawn with respect to the table can be obtained.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
問題点として、登録パターンの中心と登録ウィンドウの
中心とのずれを求めるために、該登録パターンの作成後
に描画作動を試験的に行わなくてはならず、これが非常
に煩雑でしかも面倒であることが挙げられる。というの
は、かかる試験的な描画作動を行う際には、被描画体と
して板ガラス上に写真乳剤を塗布したものを用意し、そ
の写真乳剤表面に描画パターンとして例えばテストパタ
ーンを描画し、そのテストパターンを現像した後に該テ
ストパターンと位置決めマークとの位置ずれを実測しな
ければならないからであり、しかもそのような作業は被
描画体の位置決めマークのパターン形状の種類の応じて
行わなければならないからである。
However, as a conventional problem, in order to find a deviation between the center of the registered pattern and the center of the registered window, a drawing operation must be performed on a trial basis after the registered pattern is created. However, this is very complicated and troublesome. This is because, when performing such a test drawing operation, an object to be drawn is prepared by applying a photographic emulsion on a glass plate, and a test pattern, for example, is drawn as a drawing pattern on the surface of the photographic emulsion. This is because the position deviation between the test pattern and the positioning mark must be measured after the pattern is developed, and such work must be performed according to the type of the pattern shape of the positioning mark on the object to be drawn. It is.

【0012】従って、本発明の第1の目的はパターンマ
ッチング法における登録パターンの中心と登録ウィンド
ウの中心とのずれを容易にしかも的確に求めて該登録パ
ターンの中心座標データを正確に演算し得るように構成
された演算装置を提供することである。
Accordingly, a first object of the present invention is to easily and accurately find the deviation between the center of a registered pattern and the center of a registered window in the pattern matching method, and to accurately calculate the center coordinate data of the registered pattern. An object of the present invention is to provide an arithmetic device configured as described above.

【0013】本発明の第2の目的は上述したような演算
装置を用いるレーザ描画装置であって、登録パターンの
中心と登録ウィンドウの中心とのずれを求めるために該
登録パターンの作成後に描画作動を試験的に行う必要の
ないレーザ描画装置を提供することである。
[0013] A second object of the present invention is a laser writing apparatus using the above-described arithmetic unit, which performs a writing operation after the registration pattern is created in order to determine a deviation between the center of the registration pattern and the center of the registration window. It is an object of the present invention to provide a laser writing apparatus which does not need to perform the test on a trial basis.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明による演算装置は
パターンマッチング法における登録パターンの中心座標
データの補正データを演算するためのものであって、登
録ウィンドウを用いて点対称なパターンを登録パターン
としてメモリに登録する登録パターン作成手段と、点対
称なパターンと相似形でかつ任意の座標系に位置したパ
ターンに対して登録パターンを用いてパターンマッチン
グを実行することによって該登録パターンの仮の中心座
標データを求める第1の演算手段と、登録パターンを登
録ウィンドウの中心回りに180 度半回転させて登録半回
転パターンとしてメモリに登録する登録半回転パターン
作成手段と、点対称なパターンと相似形でかつ任意の座
標系に位置したパターンに対して登録半回転パターンを
用いてパターンマッチングを実行することによって該登
録半回転パターンの仮の中心座標データを求める第2の
演算手段と、第1の演算手段で得られた登録パターンの
仮の中心座標データと第2の演算手段で得られた登録半
回転パターンの仮の中心座標データとに基づいて登録ウ
ィンドウの中心に対する登録パターンの中心のずれ量デ
ータを求める第3の演算手段とを具備して成るものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An arithmetic unit according to the present invention is for calculating correction data of center coordinate data of a registered pattern in a pattern matching method. Registration pattern creating means for registering in the memory as a pattern, and performing pattern matching using a registration pattern for a pattern similar to a point-symmetric pattern and located in an arbitrary coordinate system, thereby providing a temporary center of the registration pattern. First calculating means for obtaining coordinate data, registered half-rotation pattern creating means for rotating the registered pattern by 180 degrees around the center of the registration window and registering it in the memory as a registered half-rotated pattern; Pattern using the registered half-rotation pattern for a pattern that is located in an arbitrary coordinate system. A second calculating means for obtaining temporary center coordinate data of the registered half-rotation pattern by executing the ringing, and a temporary calculating means for obtaining the temporary center coordinate data of the registered pattern obtained by the first calculating means. And a third calculating means for obtaining deviation data of the center of the registration pattern with respect to the center of the registration window based on the obtained temporary center coordinate data of the registered half-rotation pattern.

【0015】本発明によるレーザ描画装置は被描画体に
対してレーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描
画体を副走査方向に移動させて描画作動を行うものであ
って、被描画体の位置決めマークを撮影すべく所定位置
に設置された撮像手段と、この撮像手段で撮像された位
置決めマークの中心座標データをパターンマッチング法
でもって求める座標演算手段とを具備し、この座標演算
手段によって求められた位置決めマークの中心座標デー
タに基づいて、主査方向に沿うレーザビームによる描画
開始位置及び副走査方向に沿うレーザビームによる描画
開始位置が制御されるようになっている。本発明によれ
ば、そのようなレーザ描画装置において、上述の演算装
置で演算された補正データを格納するための格納手段
と、座標演算手段が該格納手段に格納された補正データ
に基づいて被描画体の位置決めマークの中心座標データ
を補正処理するための補正処理手段とが設けられること
が特徴とされる。
A laser drawing apparatus according to the present invention performs a drawing operation by moving a drawing object in a sub-scanning direction while deflecting a laser beam in a main scanning direction with respect to the drawing object. Image pickup means provided at a predetermined position for photographing the positioning mark, and coordinate calculating means for obtaining center coordinate data of the positioning mark picked up by the image pickup means by a pattern matching method. Based on the obtained center coordinate data of the positioning mark, the drawing start position by the laser beam along the main scanning direction and the drawing start position by the laser beam along the sub-scanning direction are controlled. According to the present invention, in such a laser writing apparatus, the storage means for storing the correction data calculated by the above-described processing apparatus, and the coordinate calculation means are controlled based on the correction data stored in the storage means. A correction processing unit for correcting the center coordinate data of the positioning mark of the drawing body is provided.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して、本発
明による演算装置及びその演算装置を用いるレーザ描画
装置のそれぞれの実施形態について具体的に説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of an arithmetic unit according to the present invention and a laser drawing apparatus using the arithmetic unit.

【0017】図1には、本発明による演算装置を組み込
んだレーザ描画装置が斜視図として概略的に示され、こ
のレーザ描画装置はプリント回路基板を製造するための
基板上のフォトレジスト層に回路パターンを直接描画し
得るように構成されているものである。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a laser writing apparatus incorporating an arithmetic unit according to the present invention. The laser writing apparatus includes a circuit on a photoresist layer on a substrate for manufacturing a printed circuit board. It is configured so that a pattern can be directly drawn.

【0018】レーザ描画装置は床面上に据え付けられた
基台10を具備し、この基台10の上面には一対のレー
ル12が平行に設置される。一対のレール12上にはX
テーブル14が搭載され、このXテーブル14は図1で
は図示されない適当な駆動モータ例えばサーボモータあ
るいはステッピングモータ等でもって一対のレール12
に沿って副走査方向(X軸)に沿って移動し得るように
なっている。
The laser drawing apparatus includes a base 10 mounted on a floor, and a pair of rails 12 are installed on the upper surface of the base 10 in parallel. X on a pair of rails 12
The X table 14 is mounted on a pair of rails 12 by a suitable drive motor not shown in FIG. 1, such as a servo motor or a stepping motor.
Along the sub-scanning direction (X-axis).

【0019】Xテーブル14上にはθテーブル16を介
して描画テーブル18が設置され、その間には微調整駆
動器20が互いに対向する側辺のそれぞれに2つずつ設
けられ、これにより描画テーブル18の水平面内での回
転位置が微調整されるようになっている。なお、図1で
は、図示の複雑化を避けるために一方の側辺に設けられ
た2つの微調整駆動器20だけが示されている。Xテー
ブル14が副走査方向(X軸)に沿って移動させられる
と、描画テーブル18もθテーブル16と共に副走査方
向に移動させられる。
A drawing table 18 is provided on the X table 14 via a θ table 16, and two fine adjustment drivers 20 are provided on each of the sides facing each other between the X tables 14. The rotation position in the horizontal plane is finely adjusted. Note that FIG. 1 shows only two fine adjustment drivers 20 provided on one side to avoid complication of the drawing. When the X table 14 is moved in the sub scanning direction (X axis), the drawing table 18 is also moved in the sub scanning direction together with the θ table 16.

【0020】描画テーブル18上にはフォトレジスト層
を持つ基板が被描画体として適当な搬送手段例えばベル
トコンベヤ等で搬送されて載置され、その基板は描画テ
ーブル18上で適当なクランプ手段によって固定され
る。なお、図1では、そのクランプ手段の一部を成すク
ランプ部材22が示される。
On the drawing table 18, a substrate having a photoresist layer is conveyed and placed as an object to be drawn by a suitable conveying means such as a belt conveyor, and the substrate is fixed on the drawing table 18 by a suitable clamping means. Is done. FIG. 1 shows a clamp member 22 which forms a part of the clamp means.

【0021】基台10の一方の側にはレーザ光源として
アルゴンレーザ発生器24が設置され、このアルゴンレ
ーザ発生器24から射出されたレーザビームLBはビー
ムベンダ26によって上方に偏向される。一方、描画テ
ーブル18の上方側には、図示されない適当な支持構造
体によって支持された固定テーブル28が配置され、こ
の固定テーブル28上にはビームベンダ26によって偏
向されたレーザビームLBを処理するための種々光学要
素が設置される。なお、本実施形態では、アルゴンレー
ザ発生器24は水冷式とされ、例えば、その出力は1.8W
であり、そのレーザの波長は 488nmである。
An argon laser generator 24 as a laser light source is installed on one side of the base 10, and a laser beam LB emitted from the argon laser generator 24 is deflected upward by a beam bender 26. On the other hand, a fixed table 28 supported by a suitable support structure (not shown) is disposed above the drawing table 18. The fixed table 28 is used to process the laser beam LB deflected by the beam bender 26. Are installed. In the present embodiment, the argon laser generator 24 is of a water-cooled type, and its output is, for example, 1.8 W.
And the wavelength of the laser is 488 nm.

【0022】固定テーブル28にはビームベンダ30が
設けられ、このビームベンダ30はビームベンダ26か
らのレーザビームLBを受け取ってビームスプリッタ3
2に向けられる。ビームスプリッタ32はレーザビーム
LBを2つのレーザビームLB1及びLB2に分割す
る。レーザビームLB1はビームベンダ34及び36を
介してビームセパレータ38に向けられ、またレーザビ
ームLB2はビームベンダ40、42及び44を介して
ビームセパレータ46に向けられる。
The fixed table 28 is provided with a beam bender 30. The beam bender 30 receives the laser beam LB from the beam bender 26 and
Pointed to 2. The beam splitter 32 splits the laser beam LB into two laser beams LB1 and LB2. Laser beam LB1 is directed to beam separator 38 via beam benders 34 and 36, and laser beam LB2 is directed to beam separator 46 via beam benders 40, 42 and 44.

【0023】ビームセパレータ38はレーザビームLB
1を例えば8本の平行レーザビームに分割し、同様にビ
ームセパレータ46はレーザビームLB2を8本の平行
レーザビームに分割する。ビームセパレータ38からの
平行レーザビームはビームベンダ48及び50によって
電子シャッタ52に導かれ、またビームセパレータ46
からの平行レーザビームはビームベンダ54及び56に
よって電子シャッタ58に導かれる。
The beam separator 38 is a laser beam LB
1 is divided into, for example, eight parallel laser beams, and the beam separator 46 similarly divides the laser beam LB2 into eight parallel laser beams. The parallel laser beam from the beam separator 38 is guided to the electronic shutter 52 by beam benders 48 and 50, and
Are guided to an electronic shutter 58 by beam benders 54 and 56.

【0024】電子シャッタ52及び58の各々は8つの
音響光学素子を含み、各音響光学素子には8本のレーザ
ビームのうちの該当レーザビームが割り当てられる。電
子シャッタ52を経た8本のレーザは光合成器60に入
射させられ、一方電子シャッタ58を経た8本のレーザ
ビームはビームベンダ62を介して光合成器60に入射
させられる。光合成器60は例えば偏光ビームスプリッ
タとして構成され、電子シャッタ52及び58のそれぞ
れを経た8本のレーザビームは光合成器(偏光ビームス
プリッタ)60によって16本のレーザビームに纏められ
る。16本のレーザビームはビームベンダ64、66及び
68を介してポリゴンミラー70に入射させられ、その
各回転反射面によって主走査方向(Y軸)に沿って偏向
させられる。
Each of the electronic shutters 52 and 58 includes eight acousto-optic devices, and each acousto-optic device is assigned a corresponding one of the eight laser beams. The eight laser beams passing through the electronic shutter 52 are incident on the photosynthesizer 60, while the eight laser beams passing through the electronic shutter 58 are incident on the photosynthesizer 60 via the beam bender 62. The light combiner 60 is configured as, for example, a polarization beam splitter, and the eight laser beams that have passed through the electronic shutters 52 and 58 are combined into 16 laser beams by the light combiner (polarization beam splitter) 60. The 16 laser beams are made incident on the polygon mirror 70 via the beam benders 64, 66 and 68, and are deflected along the main scanning direction (Y axis) by their respective rotating reflection surfaces.

【0025】ポリゴンミラー70の各回転反射面によっ
て主走査方向に沿って偏向させられる16本のレーザビー
ムは先ずfθレンズ72を通過させられ、次いでターニ
ングミラー74によって描画テーブル18側に向けられ
た後にコンデンサレンズ76を経て描画テーブル18上
に到達させられる。要するに、描画テーブル18上に設
置された被描画体はポリゴンミラー70の各回転反射面
によって主走査方向に偏向させられる16本のレーザビー
ムでもって走査される。
The 16 laser beams deflected along the main scanning direction by the respective rotating reflection surfaces of the polygon mirror 70 are first passed through the fθ lens 72 and then directed by the turning mirror 74 to the drawing table 18 side. The light is made to reach the drawing table 18 via the condenser lens 76. In short, the object to be drawn set on the drawing table 18 is scanned by the sixteen laser beams deflected in the main scanning direction by the respective rotating reflection surfaces of the polygon mirror 70.

【0026】従って、被描画体として、フォトレジスト
層を持つ基板が先に述べたように描画テーブル18上に
設置され、その基板上のフォトレジスト層表面がポリゴ
ンミラー70の各回転反射面によって偏向される16本の
レーザビームでもって一度に走査(主走査方向)される
とき、各電子シャッタ52、58の8つの音響光学素子
がラスタデータに基づいて所定の周波数のクロックパル
スに従って作動させられて、16本のレーザビームが変調
されると、該フォトレジスト層表面にはかかるラスタデ
ータに基づく所定の回路パターンが描画される。
Accordingly, a substrate having a photoresist layer as an object to be drawn is placed on the drawing table 18 as described above, and the surface of the photoresist layer on the substrate is deflected by the rotating reflection surfaces of the polygon mirror 70. When scanning is performed at once (main scanning direction) with the 16 laser beams, the eight acousto-optic elements of each of the electronic shutters 52 and 58 are operated according to a clock pulse of a predetermined frequency based on raster data. When the 16 laser beams are modulated, a predetermined circuit pattern based on the raster data is drawn on the surface of the photoresist layer.

【0027】16本のレーザビームが主走査方向に沿って
偏向されている間、描画テーブル18はXテーブル14
によって副走査方向(X軸)に沿って順次移動させら
れ、16本のレーザビームによる主走査方向に沿う偏向が
終了したとき、描画テーブル18の移動距離はかかる16
本のレーザビームの副走査方向の幅に相当した距離とな
る。かくして、16本のレーザビームによる主走査方向に
沿う偏向が繰り返されると、基板上のフォトレジスト層
表面上には所定の回路パターンが順次描画されることに
なる。
While the 16 laser beams are deflected along the main scanning direction, the drawing table 18
Are sequentially moved along the sub-scanning direction (X-axis), and when the deflection along the main scanning direction by the 16 laser beams is completed, the moving distance of the drawing table 18 is long.
The distance corresponds to the width of the book laser beam in the sub-scanning direction. Thus, when the deflection along the main scanning direction by the 16 laser beams is repeated, a predetermined circuit pattern is sequentially drawn on the surface of the photoresist layer on the substrate.

【0028】主走査方向と副走査方向とが互いに直角で
あるとすると、16本のレーザビームによる主走査方向に
沿う描画ラインは副走査方向(X軸)に対して傾斜した
ものとなる。というのは、上述したように、16本のレー
ザビームが主走査方向に沿って偏向されている間、描画
テーブル18はXテーブル14によってX軸方向即ち副
走査方向に沿って所定の速度で順次移動させられている
からである。しかしながら、実際には、主走査方向はX
軸方向に対して予め所定角度だけ傾斜させられ、このた
め16本のレーザビームによる主走査方向に沿う描画ライ
ンは副走査方向に対して直角となるようになっている。
Assuming that the main scanning direction and the sub-scanning direction are perpendicular to each other, the drawing line of the 16 laser beams along the main scanning direction is inclined with respect to the sub-scanning direction (X axis). That is, as described above, while the 16 laser beams are deflected along the main scanning direction, the drawing table 18 is sequentially moved by the X table 14 at a predetermined speed along the X axis direction, that is, the sub scanning direction. This is because they have been moved. However, in practice, the main scanning direction is X
The laser beam is tilted by a predetermined angle with respect to the axial direction in advance, so that the drawing line along the main scanning direction by 16 laser beams is perpendicular to the sub-scanning direction.

【0029】図1に示すように、コンデンサレンズ76
の両端の上方側のそれぞれには小型撮像手段例えばCC
Dカメラ78が設けられ、これらCCDカメラ78は被
描画体がレーザ描画装置の描画テーブル18上に載置さ
れた際に該描画テーブル18に対する被描画体の相対位
置を正確に検出するために使用される。
As shown in FIG.
The small imaging means, for example, CC
D cameras 78 are provided, and these CCD cameras 78 are used to accurately detect the relative position of the object to be drawn with respect to the drawing table 18 when the object to be drawn is placed on the drawing table 18 of the laser drawing apparatus. Is done.

【0030】図2を参照すると、描画テーブル18上に
載置されるべき被描画体の一例として、フォトレジスト
層を持つ基板SBが示され、この基板SBの四隅には十
字形の位置決めマークPMが付される。CCDカメラ7
8によって基板上の四隅に設けられた位置決めマークP
Mが撮影されると、その映像信号に基づいて該位置決め
マークの中心座標データを求められる。CCDカメラ7
8自体はレーザ描画装置の機枠(図示されない)に対し
て所定位置に固定支持されているので、基板上の位置決
めマークの中心位置座標データを求めることにより描画
テーブル18に対する該基板SBの相対位置を特定する
ことが可能である。
Referring to FIG. 2, a substrate SB having a photoresist layer is shown as an example of an object to be placed on the drawing table 18, and cross-shaped positioning marks PM are provided at four corners of the substrate SB. Is appended. CCD camera 7
8, positioning marks P provided at the four corners on the substrate
When M is photographed, center coordinate data of the positioning mark is obtained based on the video signal. CCD camera 7
8 itself is fixedly supported at a predetermined position with respect to a machine frame (not shown) of the laser drawing apparatus, and thus, the relative position of the substrate SB with respect to the drawing table 18 is obtained by obtaining the center position coordinate data of the positioning mark on the substrate. Can be specified.

【0031】図3を参照すると、本発明によるレーザ描
画装置のブロック図が示され、同ブロック図において、
参照符号80はシステムコントロール回路を示し、この
システムコントロール回路80は例えば中央演算装置
(CPU)等のマイクロプロセッサ及びメモリ(RO
M、RAM)等からなるマイクロコンピュータとして構
成され得る。
Referring to FIG. 3, there is shown a block diagram of a laser writing apparatus according to the present invention.
Reference numeral 80 indicates a system control circuit. The system control circuit 80 includes, for example, a microprocessor such as a central processing unit (CPU) and a memory (RO).
M, RAM) and the like.

【0032】システムコントロール回路80には図1に
示した2つのCCDカメラ78が画像処理回路82を介
して接続される。CCDカメラ78はフォトレジスト層
を持つ基板の四隅のそれぞれに設けられた位置決めマー
クを映像信号として読み取り、その映像信号は画像処理
回路82で所定の画像処理を受けた後に更にパターンマ
ッチング法によって処理され、これにより位置決めマー
クの中心座標データが求められる。
The two CCD cameras 78 shown in FIG. 1 are connected to the system control circuit 80 via an image processing circuit 82. The CCD camera 78 reads the positioning marks provided at each of the four corners of the substrate having the photoresist layer as a video signal, and the video signal is subjected to predetermined image processing by the image processing circuit 82 and further processed by the pattern matching method. Thus, the center coordinate data of the positioning mark is obtained.

【0033】また、図3から明らかなように、システム
コントロール回路80は主走査制御回路84の作動を制
御し、この主走査制御回路84には上述した電子シャッ
タ52及び58の作動を制御するためのビーム位置制御
回路86が設けられる。図4に示すように、ビーム位置
制御回路86にはバッファメモリ86A及び同期回路8
6Bが含まれる。描画作動時、バッファメモリ86Aに
はラスタ変換回路88(図3)から出力されるラスタデ
ータが順次書き込まれて一時的に保持されると共に該バ
ッファメモリ86Aからはラスタデータが順次読み出さ
れて同期回路86Bに対して出力される。バッファメモ
リ86Aへのラスタデータの書込みはシステムコントロ
ール回路80から該バッファメモリ86Aに出力される
書込みクロックパルスに基づいて行われ、またバッファ
メモリ86Aからのラスタデータの読出しはシステムコ
ントロール回路80から該バッファメモリ86Aに出力
される読出しクロックパルスに基づいて行われる。
As apparent from FIG. 3, the system control circuit 80 controls the operation of the main scanning control circuit 84. The main scanning control circuit 84 controls the operation of the above-described electronic shutters 52 and 58. Is provided. As shown in FIG. 4, the beam position control circuit 86 includes a buffer memory 86A and a synchronous circuit 8A.
6B. At the time of the drawing operation, the raster data output from the raster conversion circuit 88 (FIG. 3) is sequentially written and temporarily stored in the buffer memory 86A, and the raster data is sequentially read from the buffer memory 86A and synchronized. Output to the circuit 86B. Writing of raster data to the buffer memory 86A is performed based on a write clock pulse output from the system control circuit 80 to the buffer memory 86A, and reading of raster data from the buffer memory 86A is performed by the system control circuit 80. This is performed based on the read clock pulse output to the memory 86A.

【0034】なお、レーザ描画装置の制御部にはシステ
ムコントロール回路80によって制御されるデータ格納
手段例えばハードディスク装置(図示されない)が設け
られ、このハードディスク装置にはCADステーション
やCAMステーションで作成処理された回路パターンデ
ータ(ベクタデータ)が必要に応じて転送され、描画作
動時、かかるハードディスク装置から該当回路パターン
データが読み出されてラスタ変換回路88によってラス
タデータに変換される。また、本実施形態では、描画作
動時に16本のレーザビームによる描画が同時に行われる
ので、バッファメモリ86Aは少なくとも16本の主走査
方向ライン分のラスタデータを格納し得るような容量を
持つものとされる。
A data storage means controlled by the system control circuit 80, for example, a hard disk drive (not shown) is provided in the control section of the laser drawing apparatus. This hard disk drive is prepared and processed by a CAD station or a CAM station. The circuit pattern data (vector data) is transferred as necessary, and at the time of drawing operation, the corresponding circuit pattern data is read from the hard disk device and converted into raster data by the raster conversion circuit 88. Further, in the present embodiment, since the drawing by the 16 laser beams is performed simultaneously during the drawing operation, the buffer memory 86A has a capacity capable of storing at least 16 lines of raster data in the main scanning direction. Is done.

【0035】また、描画作動時、ビーム位置制御回路8
6の同期回路86Bにはバッファメモリ86Aから読み
出された16本の主走査方向ライン分のラスタデータが順
次入力されると共にシステムコントロール回路80から
出力された所定周波数のクロックパルスも入力され、こ
れにより同期回路86Bからは各電子シャッタ52、5
8に含まれる音響光学素子のそれぞれに対して制御電圧
信号が該当ラスタデータに基づいて出力される。
During the drawing operation, the beam position control circuit 8
Raster data of 16 lines in the main scanning direction read out from the buffer memory 86A are sequentially input to the synchronization circuit 86B of No. 6, and a clock pulse of a predetermined frequency output from the system control circuit 80 is also input. The electronic shutters 52, 5
A control voltage signal is output to each of the acousto-optic elements included in 8 based on the corresponding raster data.

【0036】詳述すると、同期回路86Bから出力され
る制御電圧信号のそれぞれが電子シャッタ52に含まれ
る音響光学素子駆動回路のそれぞれに入力されたとき、
各音響光学素子駆動回路からは高周波駆動電圧が該当音
響光学素子に対して出力されて印加される。各音響光学
素子駆動回路に対して出力される制御電圧信号の電圧レ
ベルはその該当ラスタデータに基づいて変化させられ、
これに伴って各音響光学素子駆動回路から該当音響光学
素子に対して出力される高周波駆動電圧のレベルも変化
させられ、これにより各音響光学素子を通過するレーザ
ビームの回折方向が変えられる。即ち、ラスタデータの
画素が発色画素(即ち、デジタル画素データとして
“1”)であるとき、レーザビームは光合成器60に向
かうように回折させられ、またラスタデータの画素が無
発色画素(即ち、デジタル画素データとして“0”)で
あるとき、レーザビームは光合成器60から外れるよう
に回折させられる。
More specifically, when each of the control voltage signals output from the synchronization circuit 86B is input to each of the acousto-optic element driving circuits included in the electronic shutter 52,
A high-frequency drive voltage is output from each acousto-optic element drive circuit to the corresponding acousto-optic element and applied. The voltage level of the control voltage signal output to each acousto-optic element drive circuit is changed based on the corresponding raster data,
Accordingly, the level of the high-frequency drive voltage output from each acousto-optic element driving circuit to the corresponding acousto-optic element is also changed, whereby the diffraction direction of the laser beam passing through each acousto-optic element is changed. That is, when the pixel of the raster data is a color pixel (ie, “1” as digital pixel data), the laser beam is diffracted toward the light combiner 60, and the pixel of the raster data is a non-color pixel (ie, When the digital pixel data is “0”), the laser beam is diffracted so as to be out of the light combiner 60.

【0037】同様に、電子シャッタ58に含まれる音響
光学素子駆動回路のそれぞれにも同期回路86Bから出
力される制御電圧信号が入力され、このとき各音響光学
素子駆動回路からは高周波駆動電圧が該当音響光学素子
に対して出力されて印加されて、該高周波駆動電圧のレ
ベルはその該当ラスタデータに基づいて変化させられ
る。電子シャッタ58の場合には、ラスタデータの画素
が発色画素(即ち、デジタル画素データとして“1”)
であるとき、レーザビームはビームベンダ62に向かう
ように回折させられ、またラスタデータの画素が無発色
画素(即ち、デジタル画素データとして“0”)である
とき、レーザビームはビームベンダ62から外れるよう
に回折させられる。
Similarly, a control voltage signal output from the synchronizing circuit 86B is also input to each of the acousto-optical element driving circuits included in the electronic shutter 58. At this time, a high-frequency driving voltage is applied from each acousto-optical element driving circuit. The high-frequency driving voltage is output and applied to the acousto-optic element, and the level of the high-frequency driving voltage is changed based on the corresponding raster data. In the case of the electronic shutter 58, the pixels of the raster data are colored pixels (that is, "1" as digital pixel data).
, The laser beam is diffracted toward the beam bender 62, and when the pixel of the raster data is a non-colored pixel (ie, “0” as digital pixel data), the laser beam deviates from the beam bender 62. Is diffracted.

【0038】要するに、ラスタデータの画素が発色画素
であるときだけ、その該当レーザビームはポリゴンミラ
ー70に向かわされて、描画テーブル18上の被描画体
上には発色画素としてドットが記録される。従って、各
レーザビームをその該当ラスタデータに基づいて各電子
シャッタ52、58でもって上述したように変調させる
ことにより、描画テーブル18上の被描画体にはラスタ
データ基づく回路パターンが描画されることになる。
In short, only when the pixel of the raster data is a coloring pixel, the corresponding laser beam is directed to the polygon mirror 70, and a dot is recorded as a coloring pixel on the drawing object on the drawing table 18. Therefore, by modulating each laser beam with the electronic shutters 52 and 58 based on the corresponding raster data as described above, a circuit pattern based on the raster data is drawn on the drawing target on the drawing table 18. become.

【0039】図3に示すように、主走査制御回路84に
は更にYスケールセンサ90及び信号処理回路92が設
けられる。Yスケールセンサ90はYリニアスケール
(図示されない)からの光信号を検出してレーザビーム
の主走査方向に沿うその偏向距離を計測するものであ
り、それ自体は周知ものである。Yスケールセンサ90
からの出力信号は信号処理回路92によって適宜処理さ
れた後にシステムコントロール回路80に取り込まれ、
該出力信号に基づいて同期回路86Bへのクロックパル
スが作成される。
As shown in FIG. 3, the main scanning control circuit 84 is further provided with a Y scale sensor 90 and a signal processing circuit 92. The Y scale sensor 90 detects an optical signal from a Y linear scale (not shown) to measure the deflection distance of the laser beam along the main scanning direction, and is well known in itself. Y scale sensor 90
The output signal from is appropriately processed by the signal processing circuit 92 and is taken into the system control circuit 80.
A clock pulse to the synchronization circuit 86B is created based on the output signal.

【0040】図3から明らかなように、システムコント
ロール回路80は更に副走査制御回路94の作動を制御
し、この副走査制御回路94にはサーボモータ駆動回路
96が設けられ、このサーボモータ駆動回路96により
サーボモータ98の駆動が制御される。サーボモータ9
8はXテーブル14をX軸方向即ち副走査方向に所定の
速度で移動させるためのものであり、これにより描画テ
ーブル18上の被描画体が副走査方向に移動させられ
る。描画作動時、システムコントロール回路80からは
所定の周波数のクロックパルスがサーボモータ駆動回路
96に出力され、このクロックパルスに基づいてサーボ
モータ駆動回路96からは駆動パルスがサーボモータ9
8に対して出力される。
As is clear from FIG. 3, the system control circuit 80 further controls the operation of the sub-scanning control circuit 94. The sub-scanning control circuit 94 is provided with a servo motor driving circuit 96, The drive of the servo motor 98 is controlled by 96. Servo motor 9
Numeral 8 is for moving the X table 14 at a predetermined speed in the X-axis direction, that is, in the sub-scanning direction, whereby the object to be drawn on the drawing table 18 is moved in the sub-scanning direction. At the time of drawing operation, a clock pulse of a predetermined frequency is output from the system control circuit 80 to the servo motor driving circuit 96, and the driving pulse is output from the servo motor driving circuit 96 based on the clock pulse.
8 is output.

【0041】図3に示すように、副走査制御回路94に
は更にXスケールセンサ100及び信号処理回路102
が設けられる。Xスケールセンサ100はXリニアスケ
ール(図示されない)からの光信号を検出して描画テー
ブル18(即ち、その上の被描画体)の主走査方向に沿
うその移動距離を計測するものであり、それ自体は周知
ものである。Xスケールセンサ100からの出力信号は
信号処理回路102によって適宜処理された後にシステ
ムコントロール回路80に取り込まれ、該出力真に基づ
いてサーボモータ駆動回路96へのクロックパルスが作
成される。
As shown in FIG. 3, the sub-scanning control circuit 94 further includes an X scale sensor 100 and a signal processing circuit 102.
Is provided. The X scale sensor 100 detects an optical signal from an X linear scale (not shown) and measures the moving distance of the drawing table 18 (that is, the object to be drawn) along the main scanning direction. Itself is well known. The output signal from the X-scale sensor 100 is appropriately processed by the signal processing circuit 102 and then taken into the system control circuit 80, and a clock pulse to the servo motor drive circuit 96 is created based on the output signal.

【0042】図3に示すように、画像処理回路82には
表示装置として例えばCRT表示装置104が接続さ
れ、また入力手段としてキーボード106及びマウス1
08が接続される。本実施形態では、画像処理回路82
自体はシステムコントロール回路80と同様に中央演算
装置(CPU)等のマイクロプロセッサ及びメモリ(R
OM、RAM)等からなるマイクロコンピュータとして
構成されるものであって、例えば市販のパーソナルコン
ピュータであってよい。
As shown in FIG. 3, a CRT display device 104 is connected to the image processing circuit 82 as a display device, and a keyboard 106 and a mouse 1 are used as input means.
08 is connected. In the present embodiment, the image processing circuit 82
The microprocessor itself and the memory (R) such as a central processing unit (CPU) are similar to the system control circuit 80 itself.
OM, RAM) and the like, and may be, for example, a commercially available personal computer.

【0043】既に述べたように、描画テーブル18に対
する被描画体の相対位置を正確に特定するためには被描
画体の位置決めマークをCCDカメラ78で撮影して該
位置決めマークの中心座標データを求めることが必要で
ある。本発明によれば、かかる位置決めマークの中心座
標データを求めるために、パターンマッチング法が採用
されるが、このとき登録ウィンドウを用いて位置決めマ
ークと相似形のパターンを登録パターンとしてメモリに
登録すると共にその登録パターンの中心座標データを前
以って知る必要がある。
As described above, in order to accurately specify the relative position of the object to be drawn with respect to the drawing table 18, the positioning mark of the object to be drawn is photographed by the CCD camera 78 and the center coordinate data of the positioning mark is obtained. It is necessary. According to the present invention, a pattern matching method is employed to obtain the center coordinate data of the positioning mark. At this time, a pattern similar to the positioning mark is registered in a memory as a registration pattern by using a registration window. It is necessary to know the center coordinate data of the registered pattern in advance.

【0044】上述したように、従来では、登録ウィンド
ウを用いて位置決めマークと相似形のパターンを登録パ
ターンとしてメモリに登録した後に該登録パターンを基
にパターンマッチング法及び描画作動を試験的に行い、
そのとき得られた描画パターンと被描画体の位置決めマ
ークとの位置ずれを実測し、その測定値に基づいて登録
ウィンドウの中心座標を補正して登録パターンの中心座
標データとしていたが、本発明によれば、試験的な描画
作動をせずに登録パターンの中心座標データを容易に得
ることが可能である。即ち、本発明にあっては、登録パ
ターンの中心座標データは画像処理回路82で求めら
れ、その演算については、CRT表示装置104の表示
画面を見ながら、キーボード106及びマウス108を
操作することにより実行される。
As described above, conventionally, a pattern similar to the positioning mark is registered in the memory as a registered pattern using a registration window, and then a pattern matching method and a drawing operation are experimentally performed based on the registered pattern.
The positional deviation between the drawing pattern obtained at that time and the positioning mark of the object to be drawn was actually measured, and the center coordinates of the registration window were corrected based on the measured value as the center coordinate data of the registration pattern. According to this, it is possible to easily obtain the center coordinate data of the registered pattern without performing a trial drawing operation. That is, in the present invention, the center coordinate data of the registered pattern is obtained by the image processing circuit 82, and the calculation is performed by operating the keyboard 106 and the mouse 108 while viewing the display screen of the CRT display device 104. Be executed.

【0045】図5を参照すると、パターンマッチング法
における登録パターンの中心座標データを求めるための
演算ルーチンのフローチャートが示され、また図6ない
し図10には、かかるフローチャートの主要なステップ
が模式的に示されている。
Referring to FIG. 5, there is shown a flowchart of a calculation routine for obtaining the center coordinate data of the registered pattern in the pattern matching method. FIGS. 6 to 10 schematically show the main steps of the flowchart. It is shown.

【0046】演算ルーチンの実行開始指令がキーボード
106を介して入力されると、CRT表示装置104の
表示画面には種々パターンが表示され、更にその種々の
パターンのうちから所定のパターンを選択して登録ウィ
ンドウを用いてメモリに登録することを促す旨のメッセ
ージも表示される(ステップ501)。そこで、操作者
は被描画体即ち基板に用いられる位置決めマークと相似
形のパターンを選択し、そのパターンを登録ウィンドウ
で囲む操作を行う。このような操作が完了すると、操作
者により、登録実行指令がキーボード106を介して入
力されたか否かが判断される(ステップ502)。登録
実行指令が入力されると、登録ウィンドウで囲まれた所
定パターンは登録パターンとしてメモリに登録される
(ステップ503)。
When a command to start execution of the arithmetic routine is input through the keyboard 106, various patterns are displayed on the display screen of the CRT display device 104, and a predetermined pattern is selected from the various patterns. A message prompting registration in the memory using the registration window is also displayed (step 501). Therefore, the operator selects a pattern similar in shape to the positioning mark used for the object to be drawn, that is, the substrate, and performs an operation of surrounding the pattern with a registration window. When such an operation is completed, it is determined whether or not a registration execution command has been input by the operator via the keyboard 106 (step 502). When a registration execution command is input, a predetermined pattern surrounded by a registration window is registered in the memory as a registration pattern (step 503).

【0047】具体的に述べると、例えば、マウス108
を用いて種々のパターンから所定のパターン(位置決め
マークと相似形のもの)を選択し、そのパターンを登録
ウィンドウで囲む操作を行う。図6には、かかる所定の
パターンPを登録ウィンドウRWで囲んだ状態が示さ
れ、登録ウィンドウRWの中央に描かれた十字線は該登
録ウィンドウの中心を示している。なお、図2に示した
基板SBの四隅の位置決めマークPMの形状はパターン
Pと相似形となっている。
More specifically, for example, the mouse 108
, A predetermined pattern (similar to the positioning mark) is selected from various patterns, and the operation of surrounding the pattern with the registration window is performed. FIG. 6 shows a state in which such a predetermined pattern P is surrounded by a registration window RW, and a cross line drawn in the center of the registration window RW indicates the center of the registration window. The shape of the positioning marks PM at the four corners of the substrate SB shown in FIG. 2 is similar to the pattern P.

【0048】もし図6に示す状態でパターンPが登録ウ
ィンドウRWに対して登録されたとき、同図から明らか
なように、その登録パターンPの中心は登録ウィンドウ
RWの中心からずれた侭となる。なお、図6では、登録
パターンPの中心と登録ウィンドウRWの中心との間の
ずれ量を誇張して示しているが、しかし先に述べた理由
により双方の中心を正確に一致させることは事実上不可
能である。
If the pattern P is registered in the registration window RW in the state shown in FIG. 6, the center of the registration pattern P remains shifted from the center of the registration window RW, as is apparent from FIG. . In FIG. 6, the amount of deviation between the center of the registration pattern P and the center of the registration window RW is exaggerated. However, it is a fact that the centers of the two coincide exactly for the reason described above. It is impossible.

【0049】登録パターンの作成後、基板SB上の位置
決めマークPMをCCDカメラ78で撮って画像処理し
た位置決めマークパターンPM’に対して登録パターン
Pを用いてパターンマッチングが実行され(ステップ5
04)、このとき図7に示すように基板SB上の位置決
めマークPM(パターンPM’)の中心座標として登録
ウィンドウRWの中心座標データ(Xa,Ya)が仮の
データとして得られる(ステップ505)。もちろん、
かかる仮のデータには登録パターンPの中心と登録ウィ
ンドウRWの中心との間のずれ量に相当した誤差が含ま
れる。なお、描画テーブル18上に対してXY座標系が
設定され、該描画テーブル18に設置された基板SB上
の位置決めマークPMはかかるXY座標系内に位置付け
されることによって、その座標データが得られる。
After the registration pattern is created, the positioning mark PM on the substrate SB is captured by the CCD camera 78 and image-processed, and the pattern matching is performed using the registration pattern P on the positioning mark pattern PM '(step 5).
04) At this time, as shown in FIG. 7, the center coordinate data (Xa, Ya) of the registration window RW is obtained as temporary data as the center coordinates of the positioning mark PM (pattern PM ') on the substrate SB (step 505). . of course,
Such provisional data includes an error corresponding to a shift amount between the center of the registration pattern P and the center of the registration window RW. An XY coordinate system is set on the drawing table 18, and the positioning mark PM on the substrate SB set on the drawing table 18 is positioned in the XY coordinate system, thereby obtaining the coordinate data. .

【0050】次いで、登録パターンPを登録ウィンドウ
RWの中心回りで180 度半回転させる画像処理が実行さ
れ、その半回転パターンを登録半回転パターンとしてメ
モリに登録する(ステップ506)、このとき図8に示
すような登録半回転パターンP’が作成される。続い
て、位置決めマークパターンPM’に対して登録半回転
パターンP’を用いてを用いてパターンマッチングが実
行される(ステップ507)。
Next, image processing for rotating the registered pattern P by half a 180 degree around the center of the registration window RW is executed, and the half-rotated pattern is registered in the memory as a registered half-rotated pattern (step 506). Is created as shown in FIG. Subsequently, pattern matching is performed on the positioning mark pattern PM ′ using the registered half-rotation pattern P ′ (step 507).

【0051】このとき図9に示すように基板SB上の位
置決めマークPM(パターンPM’)の中心座標として
登録ウィンドウRWの中心座標データ(Xb,Yb)が
仮のデータとして得られる(ステップ508)。もちろ
ん、かかる仮のデータにも登録半回転パターンP’の中
心と登録ウィンドウRWの中心との間のずれ量に相当し
た誤差が含まれる。
At this time, as shown in FIG. 9, the center coordinate data (Xb, Yb) of the registration window RW is obtained as temporary data as the center coordinates of the positioning mark PM (pattern PM ') on the substrate SB (step 508). . Of course, such provisional data also includes an error corresponding to the amount of deviation between the center of the registered half-rotation pattern P ′ and the center of the registered window RW.

【0052】次いで、以下のような演算が実行される
(ステップ509)。 Xe ← (Xb−Xa)/2 Ye ← (Yb−Ya)/2 図10から明らかなように、演算結果(Xe,Ye)は
登録ウィンドウRWの中心座標に対する登録パターンP
の中心座標のずれ量を示すものである。
Next, the following operation is performed (step 509). Xe ← (Xb−Xa) / 2 Ye ← (Yb−Ya) / 2 As is clear from FIG. 10, the calculation result (Xe, Ye) is the registration pattern P with respect to the center coordinates of the registration window RW.
Indicates the amount of deviation of the center coordinates of the image.

【0053】このような演算結果、即ち登録パターンP
の中心座標データ(Xe,Ye)は画像処理回路82内
に設けられた不揮発性メモリ例えばEAROM、EEP
ROMあるいはバックアップ電源を持つSRAM等に補
正データとして格納され(ステップ510)、次いで登
録パターンPの中心座標データの演算が完了した旨のメ
ッセージがCRT表示装置の表示画面に表示され(ステ
ップ512)、その後演算ルーチンは終了する。
The result of such an operation, that is, the registered pattern P
The center coordinate data (Xe, Ye) of a non-volatile memory provided in the image processing circuit 82, for example, EAROM, EEP
The correction data is stored as a correction data in a ROM or an SRAM having a backup power supply (step 510), and a message indicating that the calculation of the center coordinate data of the registration pattern P is completed is displayed on the display screen of the CRT display device (step 512). Thereafter, the calculation routine ends.

【0054】以上の記載から明らかなように、本発明に
よれば、従来必要とされていた試験的な描画作動を行う
ことなく登録パターンの中心座標データを容易に求める
ことができる。実際の描画作動において、被描画体の位
置決めマークに対して登録パターンPを用いてパターン
マッチングを実行したとき、実際の基板SB上にある位
置決めマークPMの座標値を読み取った際の読取り値が
(Xc,Yc)であるとすると、登録パターンのずれが
補正された補正座標値(Xp,Yp)については以下の
演算により求まる。 Xp ← Xc+Xe Yp ← Yc+Ye
As is apparent from the above description, according to the present invention, the center coordinate data of the registered pattern can be easily obtained without performing a test drawing operation which is conventionally required. In the actual drawing operation, when pattern matching is performed on the positioning mark of the object to be drawn using the registered pattern P, the read value obtained by reading the coordinate value of the positioning mark PM on the actual substrate SB is ( Xc, Yc), the corrected coordinate value (Xp, Yp) in which the displacement of the registered pattern has been corrected is obtained by the following calculation. Xp ← Xc + Xe Yp ← Yc + Ye

【0055】上述の実施形態では、位置決めマークの形
状として、十字形パターンが使用されているけれども、
その他の任意のパターンを位置決めマークの形状として
使用することも可能であるが、しかし本発明にあって
は、かかるパターンを180 度半回転処理することが必要
となるので、かかるパターンは登録ウィンドウの中心に
対して点対称であることが必要である。
In the above-described embodiment, a cross pattern is used as the shape of the positioning mark.
It is possible to use any other pattern as the shape of the positioning mark. However, in the present invention, such a pattern needs to be processed by half a 180-degree rotation. It needs to be point symmetric about the center.

【0056】本発明によるレーザ描画装置は画像処理回
路82内の不揮発性メモリに格納された補正データ(X
e,Ye)を利用して描画作動を実行する。図11に
は、本発明によるレーザ描画装置によって実行される描
画作動ルーチンのフローチャートが示されており、これ
を参照して本発明によるレーザ描画装置の作動について
以下に説明する。
The laser writing apparatus according to the present invention uses the correction data (X) stored in the nonvolatile memory in the image processing circuit 82.
e, Ye) to perform the drawing operation. FIG. 11 shows a flowchart of a drawing operation routine executed by the laser drawing apparatus according to the present invention, and the operation of the laser drawing apparatus according to the present invention will be described below with reference to this flowchart.

【0057】先ず、ステップ1101では、サーボモー
タ駆動回路96が作動させられ、これにより描画テーブ
ル18が原点位置から移動させられる。描画テーブル1
8上の被描画体(即ち、フォトレジスト層を持つ基板)
の主走査方向(Y軸方向)の一方の側辺に沿う一対の位
置決めマークが2つのCCDカメラ78、78の撮影視
野に捉えられる位置で描画テーブル18は一旦停止させ
られる。次いで、ステップ1102では、CCDカメラ
78、78で撮られた位置決めマークに対して登録パタ
ーンPを用いてパターンマッチングを実行して、位置決
めマークの中心座標データを演算して、システムコント
ロール回路80のメモリ例えばRAMに格納される。
First, in step 1101, the servo motor drive circuit 96 is operated, whereby the drawing table 18 is moved from the origin position. Drawing table 1
8 (ie, a substrate having a photoresist layer)
The drawing table 18 is temporarily stopped at a position where a pair of positioning marks along one side in the main scanning direction (Y-axis direction) can be captured in the field of view of the two CCD cameras 78, 78. Next, in step 1102, pattern matching is performed on the positioning marks taken by the CCD cameras 78, 78 using the registered pattern P, the center coordinate data of the positioning marks is calculated, and the data is stored in the memory of the system control circuit 80. For example, it is stored in a RAM.

【0058】ステップ1103では、サーボモータ駆動
回路96が再び作動させられ、これにより描画テーブル
18が更に移動させられる。描画テーブル18上の被描
画体の主走査方向の他方の側辺に沿う一対の位置決めマ
ークが2つのCCDカメラ78、78の撮影視野に捉え
られる位置で描画テーブル18は再び停止させられる。
次いで、ステップ1104では、CCDカメラ78、7
8で捉えられた位置決めマークに対して登録パターンP
を用いてパターンマッチングを実行して、位置決めマー
クの中心座標データを演算して、システムコントロール
回路80のメモリ例えばRAMに格納される。
In step 1103, the servo motor drive circuit 96 is operated again, whereby the drawing table 18 is further moved. The drawing table 18 is stopped again at a position where a pair of positioning marks on the drawing table 18 along the other side in the main scanning direction of the object to be drawn are captured in the field of view of the two CCD cameras 78, 78.
Next, in step 1104, the CCD cameras 78, 7
Registration pattern P with respect to the positioning mark
Is used to calculate the center coordinate data of the positioning mark, and is stored in the memory of the system control circuit 80, for example, RAM.

【0059】ステップ1105では、位置決めマークの
中心座標データにより形成された描画テーブル18に対
する被描画体の相対位置データに基づいて、副走査方向
に沿う描画開始位置データ即ちX軸方向描画開始位置デ
ータ及びレーザビームによる主走査方向に沿う描画開始
位置データ即ちY軸方向描画開始位置データが演算され
る。
In step 1105, drawing start position data in the sub-scanning direction, that is, X-axis drawing start position data, based on the relative position data of the object to be drawn with respect to the drawing table 18 formed by the center coordinate data of the positioning marks. Drawing start position data along the main scanning direction by the laser beam, that is, Y-axis direction drawing start position data is calculated.

【0060】ステップ1106では、描画テーブル18
が移動させられて、ステップ1105で得られたX軸方
向描画開始位置データに基づく描画開始位置で停止され
る。次いで、ステップ1107では、描画作動が実行さ
れ、このときレーザビームによる主走査方向に沿う描画
開始位置はステップ1106で得られたY軸方向描画開
始位置データに基づいて決められる。
In step 1106, the drawing table 18
Is moved and stopped at the drawing start position based on the X-axis drawing start position data obtained in step 1105. Next, at step 1107, a drawing operation is performed. At this time, the drawing start position along the main scanning direction by the laser beam is determined based on the Y-axis drawing start position data obtained at step 1106.

【0061】ステップ1108では、描画作動が終了し
たか否が判断され、描画作動の終了が確認されると、ス
テップ1108からステップ1109に進み、そこで描
画テーブル18は原点位置に復帰させられる。その後、
この描画作動ルーチンは終了する。
In step 1108, it is determined whether or not the drawing operation has been completed. When the completion of the drawing operation is confirmed, the process proceeds from step 1108 to step 1109, where the drawing table 18 is returned to the origin position. afterwards,
This drawing operation routine ends.

【0062】上述の実施形態では、CCDカメラ78は
レーザ描画装置の機枠に対して所定位置に固定支持さ
れ、基板SB上の位置決めマークPMをCCDカメラ7
8の視野に捉えるために描画テーブル18を移動するよ
うにしているが、CCDカメラ78を移動自在としかつ
その移動量を計測し得るようにすれば、CCDカメラ7
8を移動させてその視野に基板SB上の位置決めマーク
PMを捉えるようにすることもできる。
In the above embodiment, the CCD camera 78 is fixedly supported at a predetermined position with respect to the machine frame of the laser drawing apparatus, and the positioning mark PM on the substrate SB is
Although the drawing table 18 is moved to capture the field of view 8, if the CCD camera 78 is made movable and the amount of movement can be measured, the CCD camera 7 is moved.
8, the positioning mark PM on the substrate SB can be captured in the field of view.

【0063】[0063]

【発明の効果】以上の記載から明らかように、本発明に
よれば、パターンマッチング法における登録パターンの
中心座標データを正確にしかも簡単に得られるので、パ
ターンマッチング法による位置決めを容易に実施化し得
るだけでなく、その普及にも寄与し得る。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the center coordinate data of the registered pattern in the pattern matching method can be obtained accurately and easily, so that the positioning by the pattern matching method can be easily implemented. In addition, it can contribute to its spread.

【0064】また、本発明によれば、従来のパターンマ
ッチング法を用いるレーザ描画装置に伴う精度上の問題
に起因する欠点が排除されるので、即ち登録パターンの
中心と登録ウィンドウの中心とのずれを求めるために該
登録パターンの作成後に描画作動を試験的に行うことが
必要とされないので、レーザ描画装置の描画作動効率の
向上に寄与し得る。
Further, according to the present invention, the drawback caused by the accuracy problem associated with the laser writing apparatus using the conventional pattern matching method is eliminated, that is, the deviation between the center of the registration pattern and the center of the registration window. Since it is not necessary to perform a drawing operation on a trial basis after the creation of the registered pattern in order to obtain the value, it can contribute to an improvement in the drawing operation efficiency of the laser drawing apparatus.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるレーザ描画装置を示す概略斜視図
である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a laser drawing apparatus according to the present invention.

【図2】図1に示したレーザ描画装置の描画テーブル上
に載置される被描画体の平面図である。
FIG. 2 is a plan view of an object to be drawn placed on a drawing table of the laser drawing apparatus shown in FIG.

【図3】図1に示したレーザ描画装置及びそこで用いら
れる演算装置のブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram of the laser drawing apparatus shown in FIG. 1 and an arithmetic unit used therein.

【図4】図3に示したビーム位置制御回路の詳細ブロッ
ク図である。
FIG. 4 is a detailed block diagram of a beam position control circuit shown in FIG.

【図5】本発明による演算装置で実行される登録パター
ン中心座標データ演算ルーチンを示すフローチャートで
ある。
FIG. 5 is a flowchart showing a registration pattern center coordinate data calculation routine executed by the calculation device according to the present invention.

【図6】図5に示したフローチャートの主要なステップ
の一つを模式的に示す模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram schematically showing one of the main steps of the flowchart shown in FIG. 5;

【図7】図5に示したフローチャートの主要なステップ
の一つを模式的に示す模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram schematically showing one of the main steps of the flowchart shown in FIG. 5;

【図8】図5に示したフローチャートの主要なステップ
の一つを模式的に示す模式図である。
FIG. 8 is a schematic diagram schematically showing one of the main steps of the flowchart shown in FIG. 5;

【図9】図5に示したフローチャートの主要なステップ
の一つを模式的に示す模式図である。
FIG. 9 is a schematic diagram schematically showing one of the main steps of the flowchart shown in FIG. 5;

【図10】図5に示したフローチャートの主要なステッ
プの一つを模式的に示す模式図である。
FIG. 10 is a schematic diagram schematically showing one of the main steps of the flowchart shown in FIG. 5;

【図11】本発明によるレーザ描画装置で実行される描
画作動ルーチンを示すフローチャートである。
FIG. 11 is a flowchart showing a drawing operation routine executed by the laser drawing apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

14 Xテーブル 18 描画テーブル 24 アルゴンレーザ発生器 52・58 電子シャッタ 70 ポリゴンミラー 78 CCDカメラ 80 システムコントロール回路 82 画像処理回路 84 主走査制御回路 86 ビーム位置制御回路 88 ラスタ変換回路 90 Yスケールセンサ 92 信号処理回路 94 副走査制御回路 96 サーボモータ駆動回路 98 サーボモータ 100 Xスケールセンサ 102 信号処理回路 104 CRT表示装置 106 キーボード 108 マウス 14 X table 18 Drawing table 24 Argon laser generator 52/58 Electronic shutter 70 Polygon mirror 78 CCD camera 80 System control circuit 82 Image processing circuit 84 Main scanning control circuit 86 Beam position control circuit 88 Raster conversion circuit 90 Y scale sensor 92 Signal Processing circuit 94 Sub-scanning control circuit 96 Servo motor drive circuit 98 Servo motor 100 X scale sensor 102 Signal processing circuit 104 CRT display device 106 Keyboard 108 Mouse

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 パターンマッチング法における登録パタ
ーンの中心座標データの補正データを演算する演算装置
であって、 登録ウィンドウを用いて点対称なパターンを登録パター
ンとしてメモリに登録する登録パターン作成手段と、 前記点対称なパターンと相似形でかつ任意の座標系に位
置したパターンに対して前記登録パターンを用いてパタ
ーンマッチング法を実行することによって該登録パター
ンの仮の中心座標データを求める第1の演算手段と、 前記登録パターンを前記登録ウィンドウの中心回りで18
0 度半回転させて登録半回転パターンとしてメモリに登
録する登録半回転パターン作成手段と、 前記点対称なパターンと相似形でかつ任意の座標系に位
置したパターンに対して前記登録半回転パターンを用い
てパターンマッチング法を実行することによって該登録
半回転パターンの仮の中心座標データを求める第2の演
算手段と、 前記第1の演算手段で得られた前記登録パターンの仮の
中心座標データと前記第2の演算手段で得られた前記登
録半回転パターンの仮の中心座標データとに基づいて前
記登録ウィンドウの中心に対する前記登録パターンの中
心のずれ量データを求める第3の演算手段とを具備して
成る演算装置。
1. An arithmetic unit for calculating correction data of center coordinate data of a registered pattern in a pattern matching method, comprising: a registered pattern creating means for registering a point-symmetric pattern as a registered pattern in a memory using a registration window; A first calculation for obtaining temporary center coordinate data of the registered pattern by executing a pattern matching method using the registered pattern on a pattern similar to the point symmetric pattern and located in an arbitrary coordinate system; Means for registering the registration pattern around the center of the registration window;
A registered half-rotation pattern creating means for rotating the half-rotation by 0 degree and registering it in a memory as a registered half-rotation pattern; and A second calculating means for obtaining temporary center coordinate data of the registered half-rotation pattern by executing a pattern matching method by using the temporary center coordinate data of the registered pattern obtained by the first calculating means. A third calculating means for obtaining deviation data of the center of the registration pattern with respect to the center of the registration window based on the temporary center coordinate data of the registered half-rotation pattern obtained by the second calculating means. Arithmetic unit consisting of
【請求項2】 被描画体に対してレーザビームを主走査
方向に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させ
て描画作動を行うレーザ描画装置であって、前記被描画
体の位置決めマークを撮影すべく所定位置に設置された
撮像手段と、前記撮像手段で撮像された位置決めマーク
の中心座標データをパターンマッチング法でもって求め
る座標演算手段とを具備し、この座標演算手段によって
求められた前記位置決めマークの中心座標データに基づ
いて、前記主走査方向に沿う前記レーザビームによる描
画開始位置及び前記副走査方向に沿う前記レーザビーム
による描画開始位置が制御されるレーザ描画装置におい
て、 請求項1に記載された演算装置で演算された補正データ
を格納するための格納手段と、前記座標演算手段が前記
格納手段に格納された補正データに基づいて前記被描画
体の位置決めマークの中心座標データを補正処理するた
めの補正処理手段とが設けられることを特徴とするレー
ザ描画装置。
2. A laser writing apparatus which performs a writing operation by moving a drawing object in a sub-scanning direction while deflecting a laser beam in a main scanning direction with respect to the drawing object, and positioning the drawing object. An image pickup means provided at a predetermined position for photographing a mark; and coordinate calculating means for obtaining center coordinate data of the positioning mark picked up by the image pickup means by a pattern matching method. A laser drawing apparatus, wherein a drawing start position by the laser beam along the main scanning direction and a drawing start position by the laser beam along the sub-scanning direction are controlled based on the center coordinate data of the positioning mark. Storage means for storing the correction data calculated by the calculation device described in 1, and the coordinate calculation means stores the correction data in the storage means. The laser drawing apparatus, characterized in that the and the correction processing means for correcting processing center coordinate data of the positioning mark of the drawing member is provided based on the correction data.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001358068A (en) * 2000-04-20 2001-12-26 Svg Lithography Systems Inc Alignment sensor, alignment sensor system, image rotary interferometer and method for detecting alignment mark
KR101252354B1 (en) * 2009-11-20 2013-04-08 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 Charged particle beam writing apparatus and charging effect correcting method thereof

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