JPH10154794A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH10154794A
JPH10154794A JP8314740A JP31474096A JPH10154794A JP H10154794 A JPH10154794 A JP H10154794A JP 8314740 A JP8314740 A JP 8314740A JP 31474096 A JP31474096 A JP 31474096A JP H10154794 A JPH10154794 A JP H10154794A
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JP
Japan
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circuit
characteristic
pad
adjustment
semiconductor integrated
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Application number
JP8314740A
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Japanese (ja)
Inventor
Takuji Inao
琢二 稲尾
Hisanobu Tsukasaki
久暢 塚崎
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH10154794A publication Critical patent/JPH10154794A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to alter the characteristics of a circuit element and to make it possible to evaluate the characteristics of an intrinsic circuit operation without performing a fuse blow treatment by a method wherein the semiconductor integrated circuit device is provided with a single characteristic evaluation adjusting pad, which is used for an evaluation of the characteristics of the circuit element and an adjustment of the characteristics of the intrinsic circuit operation. SOLUTION: The main part of a semiconductor integrated circuit device is constituted of a characteristic evaluation adjusting pad (special pad) 1, inner-element pads 2 and 3, N-MOS and P-MOS transistors 4 and 5 which are elements for characteristics evaluation use, a control circuit 6 and a potential fixing circuit 7. In the state of the normal use of the circuit element, a potential in the pad 1 is fixed on a supply voltage by the circuit 7. When the potential in the pad 1 is fixed on a ground potential, an adjustment of an increase in the pulse width of a reference clock signal at the time when an access operation and a write operation are executed is made possible without cutting a fuse circuit. Moreover, when the potential in the pad 1 is fixed to the ground potential and potentials in the inner-element pads 2 and 3 are fixed to the power potential, the evaluation of the characteristics of the transistor 4 or the like can be made.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、チップに構成され
た回路素子の特性評価および回路動作の特性調整をウエ
ーハ状態で容易に行うことを可能にする半導体集積回路
素子に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device capable of easily evaluating the characteristics of circuit elements formed on a chip and adjusting the characteristics of circuit operation in a wafer state.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体集積回路素子において素子
の特性変更や特性評価を行うには、ヒューズブローやF
IB(Forced Ion Beam)加工処理が必
要であった。また、回路素子の制御や素子の特性評価を
行うためのパッドが設けられているものにあっては、こ
のような前記パッドを複数設ける必要があった。図5
は、従来の半導体集積回路素子の要部を示すブロック図
である。この半導体集積回路素子は、NMOSトランジ
スタである特性評価用素子51の特性評価を行うための
特殊パッド52、コントロール回路53へ情報を供給す
るための特殊パッド54、PMOSトランジスタである
特性評価用素子55を特性評価するための特殊パッド5
6などの各特殊パッドが複数設けられている。素子内パ
ッド50は、特殊パッド52により特性評価用素子51
を特性評価する際に用いられるパッド、素子内パッド5
7は、特殊パッド56により特性評価用素子55を特性
評価する際に用いられるパッドである。また、コントロ
ール回路53からは、特殊パッド54から供給された情
報に応じてイコライズ信号やライト信号などが出力され
る。なお、このような従来の半導体集積回路素子では、
前記特殊パッドが一部のみ存在しているもの、または全
く存在しないものもある。
2. Description of the Related Art In a conventional semiconductor integrated circuit device, it is necessary to perform a fuse blow or an F
IB (Forced Ion Beam) processing was required. In the case where a pad for controlling a circuit element or for evaluating the characteristics of the element is provided, it is necessary to provide a plurality of such pads. FIG.
FIG. 1 is a block diagram showing a main part of a conventional semiconductor integrated circuit device. This semiconductor integrated circuit device includes a special pad 52 for evaluating characteristics of a characteristic evaluation element 51 which is an NMOS transistor, a special pad 54 for supplying information to a control circuit 53, and a characteristic evaluation element 55 which is a PMOS transistor. Special pad 5 for evaluating the characteristics of
A plurality of special pads such as 6 are provided. The element pad 50 is connected to the characteristic evaluation element 51 by the special pad 52.
Used in evaluating the characteristics of the device, pad 5 in the element
Reference numeral 7 denotes a pad used when the characteristic of the characteristic evaluation element 55 is evaluated by the special pad 56. Further, the control circuit 53 outputs an equalize signal, a write signal, and the like according to the information supplied from the special pad 54. In such a conventional semiconductor integrated circuit device,
Some of the special pads may be present only partially or not at all.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体集積回路
素子は以上のように構成されていたので、回路素子の制
御や素子の特性評価を行うための特殊パッドが複数設け
られている半導体集積回路素子においては、半導体集積
回路素子自体の面積が増大する原因となる課題があっ
た。また、素子の特性変更や特性評価を行うためのヒュ
ーズブロー処理では、一度ヒューズを切断すると元の状
態に戻す再現処理が困難であり、前記特性変更や前記特
性評価を行う際に特性変更や特性評価のやり直しが不可
能である課題があった。
Since the conventional semiconductor integrated circuit device is configured as described above, the semiconductor integrated circuit device is provided with a plurality of special pads for controlling the circuit device and evaluating the characteristics of the device. In the device, there is a problem that the area of the semiconductor integrated circuit device itself increases. Further, in the fuse blow processing for changing the characteristics of the element or performing the characteristic evaluation, it is difficult to perform a reproduction process for returning the original state once the fuse is cut. There was a problem that the evaluation could not be redone.

【0004】そこで本発明の目的は、素子の特性変更や
特性評価を行うためのパッドを1つ追加するのみで、ヒ
ューズブローやFIB加工処理による素子の特性変更、
特性評価と同等な前記特性変更、特性評価を容易に実現
し、前記パッドの追加による半導体集積回路素子自体の
面積の増大を最小限に抑制できる半導体集積回路素子を
提供することにある。さらに本発明の目的は、前記特性
変更、特性評価を行う際のやり直しを可能にする半導体
集積回路素子を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to change the characteristics of an element by fuse blowing or FIB processing only by adding one pad for changing or evaluating the characteristics of the element.
It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit device that can easily realize the above-described characteristic change and characteristic evaluation equivalent to the characteristic evaluation and can minimize an increase in the area of the semiconductor integrated circuit device itself due to the addition of the pad. It is a further object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit device which enables the characteristic change and the characteristic evaluation to be performed again.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、回路素子の特性評価および本来の回路動作の
特性調整のために使用する単一の特性評価調整パッドを
備えていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention has a single characteristic evaluation adjustment pad used for evaluating the characteristics of circuit elements and adjusting the characteristics of the original circuit operation. Features.

【0006】本発明の半導体集積回路素子は、回路素子
の特性評価および本来の回路動作の特性調整のための単
一の特性評価調整パッドが追加されているだけであるか
ら、複数の特性評価調整パッドが追加される構成に比べ
て半導体集積回路素子自体の面積は増大しない。特に特
性評価用素子が通常パッドから供給される信号により制
御されて、前記特性評価用素子の特性が前記特性評価調
整パッドを介して評価され、さらに特性調整回路でヒュ
ーズブローやFIB加工処理により行われる本来の回路
動作の特性変更や特性調整を、ヒューズブローやFIB
加工処理によらず前記特性評価調整パッドを介して等価
特性調整回路が実現するため、ヒューズブローやFIB
加工処理は前記特性変更や前記特性調整の確認後に最終
的に行えばよく、前記特性変更や前記特性調整のやり直
しが可能になる。
In the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, since only a single characteristic evaluation adjustment pad for evaluating the characteristics of the circuit device and adjusting the characteristics of the original circuit operation is added, a plurality of characteristic evaluation adjustments are performed. The area of the semiconductor integrated circuit element itself does not increase as compared with the configuration in which the pad is added. In particular, the characteristic evaluation element is controlled by a signal supplied from a normal pad, the characteristic of the characteristic evaluation element is evaluated through the characteristic evaluation adjustment pad, and further evaluated by a fuse blow or FIB processing in a characteristic adjustment circuit. The characteristic change and characteristic adjustment of the original circuit operation,
Since the equivalent characteristic adjustment circuit is realized via the characteristic evaluation adjustment pad regardless of the processing, the fuse blow or FIB
The processing may be finally performed after the confirmation of the characteristic change and the characteristic adjustment, and the characteristic change and the characteristic adjustment can be performed again.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】次に本発明による半導体集積回路
素子の実施の形態例について説明する。図1は本発明に
よる半導体集積回路素子の要部を示すブロック図であ
る。この半導体集積回路素子は、ワイヤーボンディング
されない通常使用時には用いられない特性評価調整パッ
ド(以下、特殊パッドという)1、通常使用時に信号の
入出力に用いられる素子内パッド(通常パッド)2およ
び素子内パッド(通常パッド)3、特性評価用素子であ
るNMOSトランジスタ4およびPMOSトランジスタ
5、コントロール回路(特性調整回路)6、特殊パッド
1の電位をVcc電位やグランド電位を含む任意の電位
に固定可能な電位固定回路(バイアス回路)7を備えて
いる。これら特性評価用素子であるNMOSトランジス
タ4およびPMOSトランジスタ5は、任意のトランジ
スタを任意の組み合わせで任意に配線される素子であ
る。また、コントロール回路6は、本来の回路動作の特
性調整を前記特殊パッド1を介して供給される情報によ
っても行うことが可能なようにした回路であり、例えば
チップに構成された回路または回路素子の動作タイミン
グを制御する回路であり、特殊パッド1から供給される
情報によっても機能するように等価特性調整回路6aが
備えられている。この等価特性調整回路6aは、特殊パ
ッド1に与えられた情報をもとにコントロール回路6を
介して前記回路または回路素子の動作タイミングを制御
し、所望のタイミングで前記回路または回路素子の特性
評価を可能にする。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention will be described. FIG. 1 is a block diagram showing a main part of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. This semiconductor integrated circuit device includes a characteristic evaluation adjustment pad (hereinafter, referred to as a special pad) 1 that is not wire-bonded and is not used in normal use, a device pad (normal pad) 2 used for signal input / output in normal use, and a device internal pad. The potential of the pad (normal pad) 3, the NMOS transistor 4 and the PMOS transistor 5, which are the elements for evaluating characteristics, the control circuit (characteristic adjusting circuit) 6, and the potential of the special pad 1 can be fixed to any potential including the Vcc potential and the ground potential. A potential fixing circuit (bias circuit) 7 is provided. The NMOS transistor 4 and the PMOS transistor 5, which are the characteristic evaluation elements, are elements in which arbitrary transistors are arbitrarily wired in any combination. Further, the control circuit 6 is a circuit capable of adjusting the characteristic of the original circuit operation by using information supplied through the special pad 1. For example, a circuit or a circuit element configured on a chip The equivalent characteristic adjusting circuit 6a is provided so as to function also according to the information supplied from the special pad 1. The equivalent characteristic adjusting circuit 6a controls the operation timing of the circuit or the circuit element via the control circuit 6 based on the information given to the special pad 1, and evaluates the characteristic of the circuit or the circuit element at a desired timing. Enable.

【0008】図2は、図1に示した半導体集積回路素子
の具体的な回路構成を示す回路図である。図2において
図1と同一または相当の部分には同一の符号を付してそ
の説明を省略する。図2に示すように特性評価用素子で
あるNMOSトランジスタ4およびPMOSトランジス
タ5のドレーンはVcc電源へ接続され、またソースは
特殊パッド1へ接続されている。また、NMOSトラン
ジスタ4のゲートは素子内パッド2と、素子内パッド2
を介して信号の入出力を行う通常回路21へ接続され
る。また、PMOSトランジスタ5のゲートは素子内パ
ッド3と、素子内パッド3を介して信号の入出力を行う
通常回路22へ接続される。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific circuit configuration of the semiconductor integrated circuit device shown in FIG. 2, the same or corresponding parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. As shown in FIG. 2, the drains of the NMOS transistor 4 and the PMOS transistor 5, which are the elements for evaluating characteristics, are connected to the Vcc power supply, and the sources are connected to the special pad 1. The gate of the NMOS transistor 4 is connected to the pad 2 in the element and the pad 2 in the element.
Is connected to a normal circuit 21 for inputting and outputting signals. Further, the gate of the PMOS transistor 5 is connected to the in-element pad 3 and the normal circuit 22 for inputting and outputting signals via the in-element pad 3.

【0009】等価特性調整回路6aは、特殊パッド1の
2値信号レベルを反転するインバータ回路26と、イン
バータ回路26の出力が一方の入力端子へ供給されるN
OR回路27を有している。コントロール回路6は、一
端がVcc電源へ接続されたヒューズ回路31と、ヒュ
ーズ回路31の他方の端子が接続されたドレーンおよび
グランドへ接続されたソースを有し、互いに並列接続さ
れたPMOSトランジスタ32およびNMOSトランジ
スタ33と、ヒューズ回路31の前記他方の端子の2値
信号レベルを反転してNMOSトランジスタ33のゲー
トへ供給するとともに、NOR回路27の他方の入力端
子へ供給するインバータ回路34と、NOR回路27の
出力を反転するインバータ回路35と、パルスAを遅延
させるとともに反転するインバータ回路36と、インバ
ータ回路36の出力とインバータ回路35の出力との論
理積演算を行いその演算結果を反転して出力するNAN
D回路37と、NAND回路37の出力とパルスAとの
論理積演算を行いその演算結果を反転して出力するNA
ND回路38を有している。
The equivalent characteristic adjusting circuit 6a includes an inverter circuit 26 for inverting the binary signal level of the special pad 1, and an output terminal N for supplying the output of the inverter circuit 26 to one input terminal.
An OR circuit 27 is provided. The control circuit 6 includes a fuse circuit 31 having one end connected to the Vcc power supply, a drain connected to the other terminal of the fuse circuit 31, and a source connected to the ground. An NMOS transistor 33; an inverter circuit 34 for inverting the binary signal level of the other terminal of the fuse circuit 31 and supplying the inverted signal level to the gate of the NMOS transistor 33 and supplying the inverted signal level to the other input terminal of the NOR circuit 27; 27, an inverter circuit 36 for delaying and inverting the pulse A, and an AND operation of the output of the inverter circuit 36 and the output of the inverter circuit 35, and inverting the operation result and outputting the result. NAN to do
NA for performing a logical AND operation of the output of the D circuit 37 and the NAND circuit 37 and the pulse A, inverting the operation result, and outputting the inverted result
The ND circuit 38 is provided.

【0010】電位固定回路7は、互に並列に接続される
とともにドレーン側がVcc電源へ接続され、ソース側
が特殊パッド1へ接続されたPMOSトランジスタ7
a,7bと、PMOSトランジスタ7a,7bのソース
側の2値信号レベルを反転してPMOSトランジスタ7
aのゲートへ供給するインバータ回路7cと、パワーオ
ンリセットパルスを反転してPMOSトランジスタ7b
のゲートへ供給するインバータ回路7dを有している。
この場合、PMOSトランジスタ7a,7bは電流能力
が小さいものであり等価的に負荷抵抗として使用され
る。そして、この電位固定回路7により、ウエハー状態
からモールド状態に組み上げる際に特殊パッド1をフロ
ーティング状態にしておいても、特殊パッド1のノード
は必ずVcc電位に固定され、通常使用時においては特
性評価用素子であるNMOSトランジスタ4およびPM
OSトランジスタ5、さらにコンロール回路6へは全く
影響を及ぼさないような構成となっている。
The potential fixing circuits 7 are connected in parallel with each other, have a drain connected to the Vcc power supply, and have a source connected to the special pad 1.
a, 7b and the source-side binary signal levels of the PMOS transistors 7a, 7b,
and an inverter circuit 7c for supplying a gate to the gate of the PMOS transistor 7b.
And an inverter circuit 7d for supplying the gate to the gate.
In this case, the PMOS transistors 7a and 7b have small current capabilities and are equivalently used as load resistors. Even when the special pad 1 is kept in a floating state when assembling from the wafer state to the molded state, the potential fixing circuit 7 always fixes the node of the special pad 1 to the Vcc potential. NMOS transistor 4 and PM
The configuration is such that the OS transistor 5 and the control circuit 6 are not affected at all.

【0011】次に動作について説明する。先ず、特殊パ
ッド1によるNMOSトランジスタ4およびPMOSト
ランジスタ5の電流Idsや閾値電圧Vthの特性評価
について説明する。特殊パッド1によるNMOSトラン
ジスタ4の特性評価では、例えば特殊パッド1をIds
やVthの測定装置を介してグランドへ接続する。そし
て、Idsの特性評価では、素子内パッド2からNMO
Sトランジスタ4のゲートへVcc電圧を印加し、この
ときのドレーンからソースへ流れる電流Idsを前記測
定装置により測定することが可能である。また、Vth
の特性評価では、素子内パッド2からNMOSトランジ
スタ4のゲートへVcc電圧を印加し、前記測定装置に
よりこのときのVthを測定することが可能である。ま
た、特殊パッド1によるPMOSトランジスタ5の特性
評価では、例えば特殊パッド1をIdsやVthの測定
装置を介してグランドへ接続する。そして、Idsの特
性評価では、素子内パッド2をグランド電位にしてPM
OSトランジスタ5のゲートへグランド電圧を印加し、
このときドレーンからソースへ流れる電流Idsを前記
測定装置により測定することが可能である。また、Vt
hの特性評価では、素子内パッド2をグランド電位にし
てPMOSトランジスタ5のゲートへグランド電圧を印
加し、前記測定装置によりこのときのVthを測定する
ことが可能である。
Next, the operation will be described. First, the characteristic evaluation of the current Ids and the threshold voltage Vth of the NMOS transistor 4 and the PMOS transistor 5 by the special pad 1 will be described. In the characteristic evaluation of the NMOS transistor 4 using the special pad 1, for example, the special pad 1
And to the ground via a Vth measuring device. In the evaluation of the characteristics of Ids, the NMO
The Vcc voltage is applied to the gate of the S transistor 4, and the current Ids flowing from the drain to the source at this time can be measured by the measuring device. Also, Vth
In the characteristic evaluation, the Vcc voltage can be applied from the in-element pad 2 to the gate of the NMOS transistor 4, and Vth at this time can be measured by the measuring device. In the characteristic evaluation of the PMOS transistor 5 by the special pad 1, for example, the special pad 1 is connected to the ground via a measuring device for Ids or Vth. In the evaluation of the characteristics of Ids, the pad 2 in the element was set to the ground potential and the PM
Apply a ground voltage to the gate of the OS transistor 5,
At this time, the current Ids flowing from the drain to the source can be measured by the measuring device. Vt
In the characteristic evaluation of h, it is possible to apply the ground voltage to the gate of the PMOS transistor 5 by setting the in-element pad 2 to the ground potential, and measure the Vth at this time by the measuring device.

【0012】次に特殊パッド1を用いて例えばアクセス
動作、ライト動作などが実行される際の基準クロック信
号のパルス幅を調整し、前記アクセスタイムや前記ライ
トパラメータなどの本来の回路動作の特性調整を行う動
作について、図3を参照して説明する。本来の回路動作
の特性調整はヒューズ回路31を切断して行うものであ
り、特性変更や前記特性評価を行う際に特性変更や特性
評価のやり直しが困難であるが、この半導体集積回路素
子ではヒューズ回路31を切断することなく、特殊パッ
ド1へ印加する電圧レベルにより行うことが可能であ
り、特性変更や前記特性評価を行う際に特性変更や特性
評価のやり直しが可能である。この特性調整では特殊パ
ッド1をグランドへ接続すると、等価特性調整回路6a
のインバータ回路26の出力はハイレベルとなる。この
結果、NOR回路27の出力はローレベル、インバータ
回路35の出力はハイレベルとなり、このハイレベルの
信号はNAND回路37の一方の入力端子に供給され
る。このときNAND回路37の他方の入力端子には、
インバータ回路36を構成する各インバータ回路素子で
の遅延時間が付与されたパルスAを反転したハイレベル
の信号が供給される。この結果、NAND回路37から
は前記ハイレベルの信号を反転したローレベルの信号が
出力され、NAND回路38の一方の入力端子へ供給さ
れる。NAND回路38の他方の入力端子へはこのとき
パルスAが供給されているため、前記遅延時間が付与さ
れていないパルスAのパルス幅が前記遅延時間だけ延長
されてハイレベルのパルスBとしてNAND回路38か
ら出力される。
Next, the pulse width of the reference clock signal when an access operation, a write operation, or the like is performed, for example, is adjusted using the special pad 1 to adjust the characteristics of the original circuit operation such as the access time and the write parameters. Will be described with reference to FIG. The characteristic adjustment of the original circuit operation is performed by cutting the fuse circuit 31, and it is difficult to change the characteristic or perform the characteristic evaluation again when performing the characteristic change or the characteristic evaluation. The operation can be performed by the voltage level applied to the special pad 1 without disconnecting the circuit 31, and when the characteristics are changed or the characteristics are evaluated, the characteristics can be changed or the characteristics can be evaluated again. In this characteristic adjustment, when the special pad 1 is connected to the ground, the equivalent characteristic adjustment circuit 6a
Of the inverter circuit 26 attains a high level. As a result, the output of the NOR circuit 27 becomes low level and the output of the inverter circuit 35 becomes high level, and this high level signal is supplied to one input terminal of the NAND circuit 37. At this time, the other input terminal of the NAND circuit 37 is
A high-level signal obtained by inverting the pulse A to which the delay time has been given in each inverter circuit element constituting the inverter circuit 36 is supplied. As a result, a low-level signal obtained by inverting the high-level signal is output from the NAND circuit 37 and supplied to one input terminal of the NAND circuit 38. Since the pulse A is supplied to the other input terminal of the NAND circuit 38 at this time, the pulse width of the pulse A to which the delay time is not given is extended by the delay time, and the pulse A is changed to the high-level pulse B. 38.

【0013】つまり、従来ではヒューズ回路31を切断
することでインバータ回路34の出力をハイレベルにし
て実現していた前記アクセス動作、ライト動作などが実
行される際の基準クロック信号のパルス幅を増長させる
調整を、ヒューズ回路31を切断することなく、特殊パ
ッド1にグランド電位を与えることで実現する。従っ
て、基準クロック信号のパルス幅を変更して前記アクセ
ス動作、ライト動作などが実行される際の半導体集積回
路素子の特性を変更する操作やIdsやVthについて
の特性評価を特殊パッド1へ任意の電位を与えるだけで
簡単に行うことが可能になる。また、複数の特殊パッド
を用いて前記特性の変更や特性評価を行っていた従来の
半導体集積回路素子に比べて素子面積の増大を最小限に
抑制できる。
In other words, the pulse width of the reference clock signal at the time of executing the access operation, the write operation, etc., which is conventionally realized by cutting the fuse circuit 31 to make the output of the inverter circuit 34 high, is increased. This adjustment is realized by applying a ground potential to the special pad 1 without cutting the fuse circuit 31. Therefore, the operation of changing the pulse width of the reference clock signal to change the characteristics of the semiconductor integrated circuit element when the access operation, the write operation, or the like is performed, and the evaluation of the characteristics of Ids and Vth to the special pad 1 are performed on the special pad 1. It can be easily performed simply by applying a potential. Further, an increase in the element area can be suppressed to a minimum as compared with a conventional semiconductor integrated circuit element in which the above-mentioned characteristics are changed or characteristics are evaluated using a plurality of special pads.

【0014】図4は、特殊パッド1、素子内パッド2,
3の電位状態と、これにより実現される特性変更や特性
評価の内容を示す説明図である。これによれば、特殊パ
ッド1をフローティング状態にする通常使用状態では、
電位固定回路7により特殊パッド1の電位はVccに固
定される。また、特殊パッド1をグランド電位に固定す
ると、前述の説明のようにパルス幅の増長されたパルス
Aがコントロール回路6からパルスBとして出力され
る。また、特殊パッド1をグランド電位に固定して素子
内パッド2,3をVcc電位に固定すると、特性評価用
素子であるNMOSトランジスタ4のIdsやVthの
測定が可能となり特性評価を行うことが可能となる。ま
た、特殊パッド1をグランド電位に固定して素子内パッ
ド2,3をグランド電位に固定すると、特性評価用素子
であるPMOSトランジスタ5のIdsやVthの測定
が可能となり特性評価を行うことが可能となる。
FIG. 4 shows a special pad 1, an element pad 2,
FIG. 6 is an explanatory diagram showing the potential state of No. 3 and the contents of a property change and a property evaluation realized thereby. According to this, in the normal use state where the special pad 1 is set to the floating state,
The potential of the special pad 1 is fixed to Vcc by the potential fixing circuit 7. When the special pad 1 is fixed to the ground potential, the pulse A whose pulse width is increased as described above is output from the control circuit 6 as the pulse B. When the special pad 1 is fixed to the ground potential and the pads 2 and 3 in the device are fixed to the Vcc potential, the Ids and Vth of the NMOS transistor 4 serving as a device for evaluating characteristics can be measured, and the characteristics can be evaluated. Becomes Further, when the special pad 1 is fixed to the ground potential and the pads 2 and 3 in the device are fixed to the ground potential, the Ids and Vth of the PMOS transistor 5, which is a device for evaluating characteristics, can be measured, and the characteristics can be evaluated. Becomes

【0015】なお、以上の実施の形態では、半導体集積
回路素子の特性変更や特性評価を特殊パッド1をグラン
ド電位に固定することで行うものとして説明し、また、
特性評価の内容はNMOSトランジスタ4、PMOSト
ランジスタ5のIdsやVthの測定であり、特性変更
の内容は基準クロック信号のパルス幅を変更して前記ア
クセス動作、ライト動作などが実行される際の半導体集
積回路素子の特性を変更するものとして説明したが、前
記特性変更や特性評価の内容はこれらに限定されるもの
ではなく必要に応じた内容の特性変更や特性評価であっ
てもよい。また、特殊パッド1の固定電位もグランド電
位に限定されものではなく、また素子内パッド2,3の
固定電位も必要に応じた任意の電位であってもよい。ま
た、通常使用状態では特殊パッド1が電位固定回路7に
よりVcc電位に固定されるものとして説明したがNM
OSトランジスタ4、PMOSトランジスタ5の接続構
成やコントロール回路6の回路構成によっては特殊パッ
ド1が電位固定回路7によりグランド電位に固定される
構成であってもよい。
In the above embodiment, the description is made on the assumption that the characteristic change and the characteristic evaluation of the semiconductor integrated circuit element are performed by fixing the special pad 1 to the ground potential.
The content of the characteristic evaluation is the measurement of Ids and Vth of the NMOS transistor 4 and the PMOS transistor 5, and the content of the characteristic change is a semiconductor used when the access operation and the write operation are performed by changing the pulse width of the reference clock signal. Although the description has been made on the assumption that the characteristics of the integrated circuit element are changed, the contents of the characteristics change and the characteristics evaluation are not limited thereto, and may be the characteristics changes and the characteristics evaluation as required. Further, the fixed potential of the special pad 1 is not limited to the ground potential, and the fixed potential of the in-element pads 2 and 3 may be an arbitrary potential as needed. In the normal use state, it has been described that the special pad 1 is fixed to the Vcc potential by the potential fixing circuit 7;
Depending on the connection configuration of the OS transistor 4 and the PMOS transistor 5 and the circuit configuration of the control circuit 6, the special pad 1 may be fixed to the ground potential by the potential fixing circuit 7.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路素子は回路素子の特性評価および本来の回路動作
の特性調整のために使用する単一の特性評価調整パッド
を備えた構成であるから、半導体集積回路素子自体の面
積の増大を最小限に抑制できる効果がある。また、本発
明の半導体集積回路素子は、特性評価調整パッドをバイ
アスするバイアス回路と、前記特性評価調整パッドおよ
び本来の回路動作に使用される通常パッドに接続され、
前記特性評価調整パッドを介して特性評価される特性評
価用素子と、前記本来の回路動作の特性調整のための特
性調整回路と、該特性調整回路で行う特性調整を前記特
性評価調整パッドを介して実現する等価特性調整回路と
を備えた構成であるから、前記特性評価用素子の特性評
価と前記本来の回路動作の特性調整とを前記特性評価調
整パッドを共用して行うことができ、前記特性評価調整
パッドの増設を不要にして半導体集積回路素子自体の面
積の増大を最小限に抑制できる効果がある。また、本発
明の半導体集積回路素子は、電源投入時に生成されるパ
ルス信号をもとに特性評価調整パッドを高電位側の電源
に接続し、前記特性評価調整パッドが前記高電位側の電
源電圧にバイアスされた状態を保持するバイアス回路を
備えるように構成したので、電源投入と同時に前記特性
評価調整パッドが前記高電位側の電源電圧にバイアスさ
れた状態になり、前記特性評価調整パッドを前記高電位
側の電源電圧と異なる電位レベルへ接続することで、前
記特性評価調整パッドを介した特性評価用素子の特性評
価や本来の回路動作の特性調整が可能になる効果があ
る。
As described above, the semiconductor integrated circuit device according to the present invention has a single characteristic evaluation adjustment pad used for evaluating the characteristics of the circuit device and adjusting the characteristics of the original circuit operation. Therefore, there is an effect that the increase in the area of the semiconductor integrated circuit element itself can be suppressed to a minimum. Also, the semiconductor integrated circuit device of the present invention is connected to a bias circuit for biasing the characteristic evaluation adjustment pad, and to the characteristic evaluation adjustment pad and a normal pad used for the original circuit operation,
A characteristic evaluation element whose characteristic is evaluated via the characteristic evaluation adjustment pad, a characteristic adjustment circuit for adjusting the characteristic of the original circuit operation, and a characteristic adjustment performed by the characteristic adjustment circuit via the characteristic evaluation adjustment pad. Since the configuration is provided with an equivalent characteristic adjustment circuit realized by performing, the characteristic evaluation of the element for characteristic evaluation and the characteristic adjustment of the original circuit operation can be performed by sharing the characteristic evaluation adjustment pad, There is an effect that the increase in the area of the semiconductor integrated circuit element itself can be suppressed to a minimum by eliminating the need for additional characteristic evaluation adjustment pads. In the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the characteristic evaluation adjustment pad is connected to a high-potential-side power supply based on a pulse signal generated at power-on, and the characteristic evaluation adjustment pad is connected to the high-potential-side power supply voltage. Is configured to include a bias circuit that maintains a biased state, so that the characteristic evaluation adjustment pad is biased to the power supply voltage on the high potential side at the same time as power is turned on. By connecting to a potential level different from the power supply voltage on the high potential side, there is an effect that the characteristic evaluation of the characteristic evaluation element and the characteristic adjustment of the original circuit operation can be performed via the characteristic evaluation adjustment pad.

【0017】また、本発明の半導体集積回路素子は、前
記高電位側の電源と特性評価調整パッドとの間に接続さ
れ、基準電位側へ接続される前記特性評価調整パッドと
前記通常パッドから供給される信号により特性が制御さ
れて、電流容量や閾値電圧についての特性評価が行われ
るトランジスタを特性評価用素子として備えたので、前
記通常パッドから供給される信号を前記高電位側へ固定
するか、または前記基準電位側へ固定するかに応じて異
なる構成を有した前記トランジスタの特性評価が可能に
なる効果がある。また、本発明の半導体集積回路素子
は、回路間を接続した切断可能なヒューズを有し、該ヒ
ューズを切断することで本来の回路動作の特性調整を行
う特性調整回路と、該特性調整回路で行う特性調整を特
性評価調整パッドを介して実現する等価特性調整回路と
を備えたので、前記等価特性調整回路により前記ヒュー
ズを切断することなく本来の回路動作の特性調整を行う
ことができ、前記特性調整のやり直しが可能になる効果
がある。また、本発明の半導体集積回路素子は、アクセ
スタイムやライトパラメータなどの本来の回路動作の特
性調整を行う特性調整回路を備えるように構成したの
で、ヒューズを切断することなくアクセスタイムやライ
トパラメータなどの前記本来の回路動作の特性調整を行
うことが出来、前記特性調整のやり直しが可能になる効
果がある。また、本発明の半導体集積回路素子は、アク
セス動作、ライト動作などが実行される際の基準クロッ
ク信号のパルス幅を調整することにより、前記アクセス
タイムや前記ライトパラメータなどの本来の回路動作の
特性調整を行う特性調整回路を備えたので、ヒューズを
切断することなく前記基準クロック信号のパルス幅を調
整でき、前記アクセスタイムや前記ライトパラメータな
どの前記本来の回路動作の特性調整を行うことができ、
前記特性調整のやり直しが可能になる効果がある。ま
た、本発明の半導体集積回路素子は、特性調整回路のヒ
ューズを遮断することで行う本来の回路動作の特性調整
と等価な特性調整を、特性評価調整パッドを低電位側の
電源へ接続することで前記特性調整回路により実現する
等価特性調整回路を備えたので、前記ヒューズを切断す
ることなく前記低電位側の電源へ接続した特性評価調整
パッドにより前記本来の回路動作の特性調整を行うこと
ができ、前記特性調整のやり直しが可能になる効果があ
る。
Further, the semiconductor integrated circuit device of the present invention is connected between the power supply on the high potential side and the characteristic evaluation adjustment pad, and supplied from the characteristic evaluation adjustment pad connected to the reference potential side and the normal pad. A transistor whose characteristics are controlled by a signal to be performed and characteristics of which are evaluated with respect to a current capacity and a threshold voltage is provided as a characteristic evaluation element, so that a signal supplied from the normal pad is fixed to the high potential side. Alternatively, it is possible to evaluate characteristics of the transistor having a different configuration depending on whether the transistor is fixed to the reference potential side. Further, a semiconductor integrated circuit element of the present invention has a cuttable fuse connected between circuits, and a characteristic adjustment circuit for adjusting characteristics of an original circuit operation by cutting the fuse. And an equivalent characteristic adjustment circuit that realizes the characteristic adjustment to be performed through a characteristic evaluation adjustment pad.Thus, the characteristic adjustment of the original circuit operation can be performed without cutting the fuse by the equivalent characteristic adjustment circuit. There is an effect that the characteristic adjustment can be performed again. In addition, the semiconductor integrated circuit device of the present invention is configured to include a characteristic adjustment circuit that adjusts the characteristics of the original circuit operation such as the access time and the write parameter, so that the access time and the write parameter can be set without cutting the fuse. The characteristic adjustment of the original circuit operation can be performed, and the effect of the characteristic adjustment can be redone. Also, the semiconductor integrated circuit device of the present invention adjusts the pulse width of the reference clock signal when an access operation, a write operation, or the like is performed, thereby achieving the characteristics of the original circuit operation such as the access time and the write parameter. Since the characteristic adjustment circuit for performing the adjustment is provided, the pulse width of the reference clock signal can be adjusted without cutting the fuse, and the characteristic adjustment of the original circuit operation such as the access time and the write parameter can be performed. ,
There is an effect that the characteristic adjustment can be performed again. Further, in the semiconductor integrated circuit device of the present invention, the characteristic adjustment equivalent to the characteristic adjustment of the original circuit operation performed by cutting the fuse of the characteristic adjustment circuit is performed by connecting the characteristic evaluation adjustment pad to a power supply on the low potential side. Since the equivalent characteristic adjustment circuit realized by the characteristic adjustment circuit is provided, the characteristic adjustment of the original circuit operation can be performed by the characteristic evaluation adjustment pad connected to the power supply on the low potential side without cutting the fuse. Thus, there is an effect that the characteristic adjustment can be performed again.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体集積回路素子の一例を示すブロ
ック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【図2】本発明の半導体集積回路素子の一例の具体的な
構成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration of an example of a semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【図3】本発明の半導体集積回路素子の一例の動作を示
すタイミングチャートである。
FIG. 3 is a timing chart showing the operation of one example of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【図4】本発明の半導体集積回路素子の一例における特
殊パッド、素子内パッドの電位状態と、これにより実現
される特性変更や特性評価の内容を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing potential states of special pads and pads in the device in one example of the semiconductor integrated circuit device of the present invention, and the contents of characteristic changes and characteristic evaluations realized thereby.

【図5】従来の半導体集積回路素子の構成を示すブロッ
ク図である。
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a conventional semiconductor integrated circuit device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……特殊パッド(特性評価調整パッド)、2,3素子
内パッド(通常パッド)、4,5……特性評価用素子
(トランジスタ)、6……コントロール回路(特性調整
回路)、6a……等価特性調整回路、7……電位固定回
路(バイアス回路)。
1 ... Special pad (characteristic evaluation adjustment pad), 2,3 element pad (normal pad), 4,5 ... Characteristic evaluation element (transistor), 6 ... Control circuit (characteristic adjustment circuit), 6a ... Equivalent characteristic adjustment circuit, 7... Potential fixing circuit (bias circuit).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 21/66 H01L 27/04 E ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 21/66 H01L 27/04 E

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回路素子の特性評価および本来の回路動
作の特性調整のために使用する単一の特性評価調整パッ
ドを備えたことを特徴とする半導体集積回路素子。
1. A semiconductor integrated circuit device comprising a single characteristic evaluation adjustment pad used for evaluating characteristics of a circuit element and adjusting characteristics of an original circuit operation.
【請求項2】 前記特性評価調整パッドをバイアスする
バイアス回路と、前記特性評価調整パッドおよび前記本
来の回路動作に使用される通常パッドに接続され、前記
特性評価調整パッドを介して前記特性評価される特性評
価用素子と、前記本来の回路動作の特性調整のための特
性調整回路と、該特性調整回路で行う特性調整を前記特
性評価調整パッドを介して実現する等価特性調整回路と
を備えたことを特徴とする請求項1記載の半導体集積回
路素子。
2. A bias circuit for biasing the characteristic evaluation adjustment pad, and a bias circuit connected to the characteristic evaluation adjustment pad and a normal pad used for the original circuit operation, wherein the characteristic evaluation is performed via the characteristic evaluation adjustment pad. A characteristic evaluation element, a characteristic adjustment circuit for adjusting the characteristic of the original circuit operation, and an equivalent characteristic adjustment circuit for realizing the characteristic adjustment performed by the characteristic adjustment circuit through the characteristic evaluation adjustment pad. 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記バイアス回路は、電源投入時に生成
されるパルス信号をもとに前記特性評価調整パッドを高
電位側の電源に接続し、前記特性評価調整パッドが前記
高電位側の電源電圧にバイアスされた状態を保持するこ
とを特徴とする請求項2記載の半導体集積回路素子。
3. The bias circuit connects the characteristic evaluation adjustment pad to a high-potential-side power supply based on a pulse signal generated when power is turned on, and the characteristic evaluation adjustment pad is connected to the high-potential-side power supply voltage. 3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 2, wherein a biased state is maintained.
【請求項4】 前記特性評価用素子は、前記高電位側の
電源と前記特性評価調整パッドとの間に接続され、基準
電位側へ接続される前記特性評価調整パッドと前記通常
パッドから供給される信号により特性が制御されて、電
流容量や閾値電圧についての特性評価が行われるトラン
ジスタであることを特徴とする請求項3記載の半導体集
積回路素子。
4. The characteristic evaluation element is connected between the power supply on the high potential side and the characteristic evaluation adjustment pad, and supplied from the characteristic evaluation adjustment pad and the normal pad connected to a reference potential side. 4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 3, wherein the transistor is a transistor whose characteristics are controlled with respect to a current capacity and a threshold voltage, the characteristics of which are controlled by a signal.
【請求項5】 前記特性調整回路は、回路間を接続した
切断可能なヒューズを有し、該ヒューズを切断すること
で前記本来の回路動作の特性調整を行うことを特徴とす
る請求項2記載の半導体集積回路素子。
5. The characteristic adjustment circuit according to claim 2, wherein the characteristic adjustment circuit has a cuttable fuse connected between the circuits, and adjusts the characteristic of the original circuit operation by cutting the fuse. Semiconductor integrated circuit device.
【請求項6】 前記特性調整回路は、アクセスタイムや
ライトパラメータなどの前記本来の回路動作の特性調整
を行うことを特徴とする請求項5記載の半導体集積回路
素子。
6. The semiconductor integrated circuit device according to claim 5, wherein the characteristic adjustment circuit adjusts characteristics of the original circuit operation such as an access time and a write parameter.
【請求項7】 前記特性調整回路は、アクセス動作、ラ
イト動作などが実行される際の基準クロック信号のパル
ス幅を調整することで、前記アクセスタイムや前記ライ
トパラメータなどの前記本来の回路動作の特性調整を行
うことを特徴とする請求項6記載の半導体集積回路素
子。
7. The characteristic adjustment circuit adjusts a pulse width of a reference clock signal when an access operation, a write operation, or the like is performed, so that the original circuit operation such as the access time or the write parameter is adjusted. 7. The semiconductor integrated circuit device according to claim 6, wherein characteristic adjustment is performed.
【請求項8】 前記等価特性調整回路は、前記特性調整
回路のヒューズを遮断することで行う前記本来の回路動
作の特性調整と等価な特性調整を、前記特性評価調整パ
ッドを低電位側の電源へ接続することで前記特性調整回
路により実現することを特徴とする請求項5記載の半導
体集積回路素子。
8. The equivalent characteristic adjustment circuit performs a characteristic adjustment equivalent to the characteristic adjustment of the original circuit operation performed by cutting a fuse of the characteristic adjustment circuit. 6. The semiconductor integrated circuit device according to claim 5, wherein the characteristic adjustment circuit is realized by connecting to the semiconductor integrated circuit device.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US11724286B2 (en) 2013-11-01 2023-08-15 Tomra Sorting Nv Method and apparatus for detecting matter

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