JPH10152223A - 搬送装置 - Google Patents

搬送装置

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Publication number
JPH10152223A
JPH10152223A JP8311519A JP31151996A JPH10152223A JP H10152223 A JPH10152223 A JP H10152223A JP 8311519 A JP8311519 A JP 8311519A JP 31151996 A JP31151996 A JP 31151996A JP H10152223 A JPH10152223 A JP H10152223A
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JP
Japan
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chamber
exhaust
reticle
storage
dust
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Withdrawn
Application number
JP8311519A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Hirakawa
伸一 平川
Kanefumi Nakahara
兼文 中原
Yutaka Endo
豊 遠藤
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Publication of JPH10152223A publication Critical patent/JPH10152223A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box

Abstract

(57)【要約】 【課題】 チャンバー内の塵、ほこりの除去を効率良く
行うことができるような搬送装置を得る。 【解決手段】 レチクルを収納する収納分離ユニット2
3(および収納容器21,22)とレチクルを用いてウ
エハWへの露光処理を施す露光装置40との間でレチク
ルを搬送する搬送系30とを有して露光装置が構成され
る。この装置には、収納分離ユニット23等を包囲する
チャンバー10が設けられ、収納分離ユニット23の近
傍に設けられてチャンバー10内における少なくとも収
納分離ユニット23の周辺部を排気する第1排気装置1
8a〜18cと、露光装置40の近傍に配設されて少な
くともその周辺部を排気する第2排気装置19とを有す
る。ここで摺動部を有して塵、ほこりのでやすい収納分
離ユニット23の周囲を第1排気装置18a〜18cに
より排気してチャンバー内をクリーンに保つことができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、処理装置と原板収
納手段との間で原板の搬送を行う搬送装置に関し、さら
に詳しくは、この搬送装置を構成するチャンバー内の排
気を行う手段を有した搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】いわゆるステッパーと称される逐次露光
型の露光装置は、例えば、密閉可能なチャンバー内に、
レチクル(原板)を収納する原板収納手段、レチクルを
用いて露光処理を行う露光系、これら原板収納手段と露
光系との間でのレチクルの搬送を行うレチクル搬送系、
露光系にウエハを搬送するウエハ搬送系等を、配設して
構成される。
【0003】このような露光装置においては、チャンバ
ー内に極く小さな塵、ほこりでも存在すると、これがレ
チクル、ウエハ等に付着して製品不良に繋がるという問
題がある。このため、従来から、チャンバー内の塵、ほ
こりを除去する排気装置(除塵装置)が設けられてい
る。従来の排気装置は一般に、チャンバー内の互いに対
向する側面の一方にクリーンエアーを供給するエア供給
部を設け、他方にはチャンバー内のエアを排出するエア
排出部を設けて構成されていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、IC等の半
導体は大集積化が進んでおり、これに応じて半導体製造
工程も複雑化し、半導体製造に使用されるレチクルの数
も増大しつつある。このような多数のレチクルをチャン
バー内の原板収納手段に予め収容させておくために、複
数のレチクルを収納保持可能な原板収納手段が使用され
たり、さらには複数の原板収納手段が設けられるように
なってきており、これに応じてレチクル搬送手段も複数
設けられるようになってきている。このようにチャンバ
ー内に複数の収納保持手段およびレチクル搬送手段が設
けられた場合、エア供給部からエア排出部に至るエアの
流れがこれら収納保持手段、レチクル搬送手段等により
妨げられ、塵、ほこりの除去が不完全になりやすいとい
う問題がある。
【0005】とくに、原板収納手段には、その内部にお
いてレチクル収納棚を上下に移動させる手段が設けられ
ることも多く、この移動手段における摺動部から塵、ほ
こりが発生する場合があり、また、各原板収納手段に対
応してレチクル搬送手段が配設されるのであるが、この
搬送手段の摺動部からも塵、ほこりが発生する場合があ
る。ところが、これら原板収納手段や、搬送手段はチャ
ンバー内においてエアの流れを妨げる要因となるもので
あり、その周囲のエアの流れが妨げられ、これらの摺動
部から発生する塵、ほこりが除去されずに残され、これ
らがレチクル、ウエハ等に付着して製品不良に繋がるお
それがある。
【0006】本発明はこのような問題に鑑みたもので、
チャンバー内の塵、ほこりの除去を効率良く行うことが
できるような搬送装置を提供することを目的とする。本
発明は特に、チャンバー内に配設される原板収納手段の
周囲における塵、ほこり等も効率良く除去できるような
構成の搬送装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段および作用】本発明に係る
搬送装置は、実施例を表す図1〜図2に対応付けて説明
すると、原板を収納する原板収納手段(20)と原板を
用いて所定の処理を施す処理装置(40)との間で原板
を搬送する装置であり、少なくとも原板収納手段を包囲
するチャンバー(10)と、原板収納手段の近傍に設け
られてチャンバー内における少なくとも原板収納手段の
周辺部を排気する第1排気装置(18a,18b,18
c)とを有する。前述のように、原板収納手段の摺動部
から塵、ほこりが発生する場合があるが、第1排気装置
は原板収納手段の周囲を局所排気するため、これら塵、
ほこりを排出してチャンバー内をクリーンに保つことが
できる。
【0008】原板収納手段がチャンバー内に複数並んで
配置される場合には、第1排気装置は、原板収納手段の
配置方向に対して交差する方向の排気を行うようにする
のが望ましい。これにより、並んで配設された原板収納
手段の間のエアを効率良く排気することができ、原板収
納手段の間に残りやすい塵、ほこり等を確実に排出でき
る。この場合、第1排気装置は、複数の原板収納手段の
それぞれに対応して複数設けられるのが望ましい。
【0009】また、原板は表面に所定パターンが形成さ
れたレチクルであり、処理装置は、レチクルのパターン
の像を基板に露光する露光装置である。この場合、露光
装置もチャンバー内に配設し、チャンバー内において少
なくとも露光装置の周辺部を排気する第2排気装置を設
け、第1排気装置の作動と第2排気装置の作動とを制御
する制御装置を備えるのが望ましい。これにより露光装
置の周辺の塵、ほこり等も効率良く排気除去して、レチ
クル、ウエハ等への塵、ほこり等の付着問題の発生を抑
えることができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
ましい実施形態について説明する。本実施形態は、露光
装置のレチクル搬送系に本発明を適用したものであり、
図1に示すように、密閉可能なチャンバー10内に、レ
チクル収納系20、レチクル搬送系30および露光装置
40を配設して構成される。なお、チャンバー10の床
面は防振台からなり、その上にレチクル収納系20、レ
チクル搬送系30等が取り付けられるベース1を有して
いる。なお、この図において矢印X,Y,Zで示す方向
を、それぞれX方向、Y方向、Z方向として説明する。
【0011】レチクル収納系20は、ベース1の上にX
方向に所定間隔を有して並んで配設された3個の収納分
離ユニット23と、このユニット23の上にそれぞれ着
脱自在に取り付けられた収納容器21,22とを有す
る。なお、図において最も手前側の収納分離ユニット2
3は、レチクル上の異物を検査する異物検査装置24の
上に配設されている。
【0012】収納容器21,22は、表面に所定パター
ンが形成された透明ガラス板からなるレチクルを一枚も
しくは複数枚収容可能な容器であり、本例では、6枚の
レチクルを収容可能な収納容器21と、1枚のレチクル
を収容可能な収納容器22との2種類の収納容器が用い
られる。なお、収納容器21,22は、レチクルを一枚
ずつ密封収納するケース(いわゆるレチクルケース)を
介在させることなく、レチクルをそのまま収納するもの
である。また、いずれの収容容器21,22も収納分離
ユニット23に対して着脱自在である。なお、これら収
納容器21,22は、底板の上に配設された保持棚を覆
って着脱自在にカバーが取り付けられて構成され、保持
棚にレチクルを挿入保持可能となっている。
【0013】収納分離ユニット23の上面取付部には収
納容器の底板および保持棚を内部に受容するための開口
が設けられており、且つ収納分離ユニット23の内部に
はこの開口を介して収納容器の底板と保持棚とを支持し
て収納分離ユニット23内に移動(下動)させる上下移
動機構が設けられている。上下移動機構により底板およ
び保持棚が収納分離ユニット23内に移動される。な
お、この上下移動機構には摺動部があるため、この摺動
部から塵、ほこりが発生する場合がある。また、収納分
離ユニット23は、後述のレチクル搬送アーム31に対
向する面23A,23Bが開放されている(開口を有し
ている)。
【0014】レチクル搬送系30は、レチクル搬送アー
ム31を有した第1搬送系と、レチクル搬送ユニット3
3を有した第2搬送系と、ロードアーム34およびアン
ロードアーム35を有した第3搬送系とを有して構成さ
れる。
【0015】第1搬送系は、各収納分離ユニット23に
対応して合計3組配設されており、それぞれレチクル搬
送アーム31を矢印Aで示すようにY方向(前後)に移
動させるとともに矢印Bで示すようにZ方向(上下)に
移動させて、レチクルの搬送を行う。なお、このような
移動経路の途中に、レチクル位置補正ユニット32が設
けられている。
【0016】第2搬送系はレチクル搬送ユニット33に
より第1搬送系により搬送されたレチクルを受けとると
ともにこれを吸着保持し、レチクル搬送ユニット33を
チャンバー10内上部において矢印Cで示すようにX方
向(左右方向)に移動させ、この方向のレチクル搬送を
行う。
【0017】第3搬送系は、上下に重なるように位置す
るロードアーム34およびアンロードアーム35をそれ
ぞれ独立して、矢印Dで示すようにZ方向に移動させ、
矢印Eで示すようにY方向に移動させ、さらに矢印Fで
示すようにZ方向に移動させる。これにより、第2搬送
系からレチクルを受け取り、これを露光装置40のレチ
クルステージ41に搬送したり、レチクルステージ41
からレチクルを取り出して搬送したりする。
【0018】露光装置40は、図示しない照明系と、レ
チクルを載置するレチクルステージ41と、投影レンズ
系42と、ウエハWを載置するウエハステージとを有し
て構成される。ここでは、レチクルステージ41に位置
決めされて載置されたレチクルに照明系からの光を照射
し、レチクルのパターンを投影レンズ系42を介して縮
小してウエハWの所定位置に照射する。なお、この露光
装置40の作動は本願発明とは直接関連しないので、詳
細説明は省略する。
【0019】以上のような構成において、チャンバー1
0内のエアを排気してチャンバー内をクリーンに保つ除
塵装置が設けられている。図2に示すように、チャンバ
ー10を構成する4側面をそれぞれ、前面11、後面1
4、右側面12、左側面13と称すると、この除塵装置
は、右側面12に設けられたエアフィルターを有した清
浄エア供給装置16と、前面に設けられた3組の第1排
気装置18a,18b,18cと、左側面に設けられた
第2排気装置19とを備えて構成される。
【0020】清浄エア供給装置16は吸気ダクト16a
を介して矢印Q1のように外気を導入し、これをフィル
ターにより清浄化するとともに所定の温度に調節してチ
ャンバー10内に送り込む。第1排気装置18a〜18
cおよび第2排気装置19はそれぞれ、図示のように、
排気ダクト52,56を介して排気ファン58を有した
出口ダクト57に繋がり、排気ファン58の駆動によ
り、これら各排気装置からチャンバー10内のエアを外
部に排出する。
【0021】ここで、チャンバー11内における互いに
対向する左右側面12,13の一方(右側面12)に清
浄エア供給装置16が配設され、他方(左側面13)に
第2排気装置19が配設されているため、排気ファン5
8が駆動されると、チャンバー10内には矢印q1で示
すように直線状に流れるエアフローが生じる。このとき
同時に、第1排気装置18a〜18cによってもチャン
バー10内の排気作用がなされるため、矢印q2で示す
エアフローも発生する。
【0022】エアフローq1は、横方向に並んだ3組の
収納分離ユニット23(およびその上に取り付けられた
収納容器21,22)の列や、同じく横方向に並んだ3
組のレチクル位置補正ユニット32の列に沿って生じ、
これら列の間のエアおよびそのエアに含まれる塵、ほこ
りを第2排気装置19を通って排出する。この排気によ
りチャンバー10内をクリーンに保つのであるが、第2
排気装置19は露光装置40に近接して位置しており、
露光装置40の周辺を囲むようなエアフローq3を発生
させて、この部分をクリーンに保つ。このため、露光装
置40に取り付けられるレチクル、ウエハWに塵、ほこ
りが付着するのを効果的に防止できる。
【0023】一方、第1排気装置18a〜18cは、3
組の収納分離ユニット23のそれぞれに対応して近接配
置されており、各収納分離ユニット23の周囲を流れる
エアフローq2を発生させて、この部分をクリーンに保
つ。上述のエアフローq1のみでは、収納分離ユニット
23の間にエアフローの淀みができてこの部分の排気が
不完全になりやすいのであるが、エアフローq2により
この部分を効率良く排気できる。収納分離ユニット23
には上下移動機構の摺動部から塵、ほこりが発生した場
合でも、収納分離ユニット23の開口面23a,23b
を介して、このような塵、ほこりをエアフローq2によ
り外部に排気して、チャンバー10をクリーンに保つこ
とができる。
【0024】この例の装置では、第1排気装置18a〜
18cおよび第2排気装置19からの排気を一つの排気
ファン58により排気するように構成したが、本発明は
このような構成に限られるものではない。例えば、第1
排気装置18a〜18cの専用の排気ファンと、第2排
気装置19の専用の排気ファンとを別個に設け、不図示
の制御装置によりそれぞれ独立して駆動制御することも
できる。このような構成の場合には、収納分離ユニット
23の上下移動機構や搬送系を作動させるときにのみ第
1排気装置の排気ファンを駆動させ、排気ファン駆動動
力をセーブし、省エネルギー化を図ることが可能であ
る。
【0025】さらに、第1排気装置18a〜18cの各
排気ダクト51a〜51cをそれぞれ分離するとともに
それぞれに排気ファンを設けても良い。このようにすれ
ば、各収納分離ユニットの作動に応じて各排気ファンを
独立して制御し、効率の良い且つ省エネルギーな作動制
御が可能であり、さらに、各排気ファンを小型化でき
る。
【0026】また、本実施の形態においては、右側面1
2に清浄エア供給装置16を設ける、いわゆるサイドフ
ロー方式を用いたが、清浄エア供給装置16をチャンバ
ー10の天井(上面)に設ける、いわゆるダウンフロー
方式にも適用できることは言うまでもない。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る搬送
装置によれば、原板収納手段の近傍に設けられてチャン
バー内における少なくとも原板収納手段の周辺部を排気
する第1排気装置を有しているので、原板収納手段の摺
動部から発生する塵、ほこりを第1排気装置により局所
排気してこれら塵、ほこりを効率良く排出してチャンバ
ー内をクリーンに保つことができる。
【0028】なお、原板収納手段がチャンバー内に複数
並んで配置される場合には、第1排気装置を、原板収納
手段の配置方向に対して交差する方向の排気を行うよう
にするのが望ましく、これにより、並んで配設された原
板収納手段の間のエアを効率良く排気することができ、
原板収納手段の間に残りやすい塵、ほこり等を確実に排
出できる。この場合、第1排気装置は、複数の原板収納
手段のそれぞれに対応して複数設けられるのが望まし
い。
【0029】また、チャンバー内において少なくとも露
光装置の周辺部を排気する第2排気装置を設け、第1排
気装置の作動と第2排気装置の作動とを制御する制御装
置を備えるのが望ましい。これにより露光装置の周辺の
塵、ほこり等も効率良く排気除去して、レチクル、ウエ
ハ等への塵、ほこり等の付着問題の発生を抑えることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る搬送装置を有した露光装置のチャ
ンバー内概略構成を示す斜視図である。
【図2】このチャンバー内構成およびチャンバー内を排
気除塵する排気装置を示す平面断面図である。
【符号の説明】 10 チャンバー 16 清浄エア供給装置 18a,18b,18c 第1排気装置 19 第2排気装置 20 レチクル収納系 23 収納分離ユニット 30 レチクル搬送系 40 露光装置 41 レチクルステージ 42 投影レンズ 52,56 排気ダクト 58 排気ファン

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原板を収納する原板収納手段と前記原板
    を用いて所定の処理を施す処理装置との間で前記原板を
    搬送する搬送装置において、 少なくとも前記原板収納手段を包囲するチャンバーと、 前記原板収納手段の近傍に設けられ、前記チャンバー内
    において少なくとも前記原板収納手段の周辺部を排気す
    る第1排気装置とを設けたことを特徴とする搬送装置。
  2. 【請求項2】 前記原板収納手段は、前記チャンバー内
    に複数並んで配置されており、 前記第1排気装置は、前記原板収納手段の配置方向に対
    して交差する方向の排気を行うことを特徴とする請求項
    1に記載の搬送装置。
  3. 【請求項3】 前記第1排気装置は、前記複数の原板収
    納手段のそれぞれに対応して複数設けられていることを
    特徴とする請求項2に記載の搬送装置。
  4. 【請求項4】 前記原板はパターンが形成されたレチク
    ルであり、 前記処理装置は、前記レチクルのパターンの像を基板に
    露光する露光装置であることを特徴とする請求項1〜3
    に記載の搬送装置。
  5. 【請求項5】 前記露光装置は前記チャンバー内に配設
    されており、 前記チャンバー内における少なくとも前記露光装置の周
    辺部を排気する第2排気装置と、 前記第1排気装置の作動と前記第2排気装置の作動とを
    制御する制御装置とを備えたことを特徴とする請求項4
    に記載の搬送装置。
JP8311519A 1996-11-22 1996-11-22 搬送装置 Withdrawn JPH10152223A (ja)

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JP8311519A JPH10152223A (ja) 1996-11-22 1996-11-22 搬送装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101283312B1 (ko) * 2011-12-29 2013-07-09 로체 시스템즈(주) Fosb 오토 로딩 시스템

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