JPH10150117A - Tape type ball grid array semiconductor device - Google Patents

Tape type ball grid array semiconductor device

Info

Publication number
JPH10150117A
JPH10150117A JP30956596A JP30956596A JPH10150117A JP H10150117 A JPH10150117 A JP H10150117A JP 30956596 A JP30956596 A JP 30956596A JP 30956596 A JP30956596 A JP 30956596A JP H10150117 A JPH10150117 A JP H10150117A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tape
type
frame
semiconductor device
wiring board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP30956596A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Terasaki
健 寺崎
Makoto Kitano
誠 北野
Akihiro Yaguchi
昭弘 矢口
Tadayoshi Tanaka
直敬 田中
Ichiro Anjo
一郎 安生
Akira Haruta
亮 春田
Asao Nishimura
朝雄 西村
Junichi Saeki
準一 佐伯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP30956596A priority Critical patent/JPH10150117A/en
Publication of JPH10150117A publication Critical patent/JPH10150117A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tape type ball grid array semiconductor device with which the reliability of connection by solder balls can be improved and the distortion generated on the solder balls can be reduced by a method wherein the difference in thermal expansion between a tape type wiring substrate and an external substrate when a semiconductor package is heated up is decreased and the generation of warpage of the tape type wiring substrate is suppressed. SOLUTION: A frame 5 is bonded to a tape type wiring substrate 2 on which a semiconductor chip 1 is mounted. A notch 8 is provided at least on the outer circumferential part of a part of the tape type wiring substrate 2 and the frame 5. A notch is provided on the corner part on the outer circumferential side of the frame 5 and a plurality of notches are provided on the outer circumferential part of the frame 5. Besides, the circumferential surface of the frame 5 may be integrally sealed together with the semiconductor chip 1 and the tape type wiring substrate 2 by sealing resin 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、テープ式の配線基
板を用いたボールグリッドアレイ型半導体装置に係わ
り、特に、外部基板に対する接続信頼性を向上するのに
好適なテープ式ボールグリッドアレイ型半導体装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a ball grid array type semiconductor device using a tape type wiring substrate, and more particularly to a tape type ball grid array type semiconductor device suitable for improving the reliability of connection to an external substrate. Related to the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】テープ式の配線基板を用いた構造を有す
る半導体装置の一例として、例えば特開平5−2515
02号公報に開示されているように、テープ式の配線基
板を用いたTape Carrier Package(以下、TCPと略
す)がある。これは、外部基板との電気的接続をリード
を用いて行っており、実装後の半導体パッケージと外部
基板の熱膨張差をテープ式配線基板および外部リードの
変形で吸収する構造になっている。また、半導体チップ
とテープ式配線基板とを電気的に接続しているインナー
リード部に、外部基板との熱膨張差が加わらないように
するため、高弾性かつ低熱膨張率で耐湿性も有するフィ
ラー入りのエポキシ系封止材でインナーリード部周囲お
よびチップの回路面を封止している。また、外部基板へ
の実装時に加熱によってテープ式配線基板に反りが発生
するが、上記従来技術においてはその反りに対する対策
が明記されている。但し、この従来技術におけるTCP
では、半導体パッケージ自身が柔構造であるため、外部
リード等が変形することで、テープ式配線基板の反りに
よるリードの位置ずれを補正して実装することが可能で
あり、上記反りの許容値は比較的大きいと考えられる。
2. Description of the Related Art An example of a semiconductor device having a structure using a tape-type wiring board is disclosed in, for example, JP-A-5-2515.
As disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 02-102, there is a Tape Carrier Package (hereinafter abbreviated as TCP) using a tape-type wiring substrate. In this method, electrical connection with an external substrate is performed using leads, and a structure in which a thermal expansion difference between the mounted semiconductor package and the external substrate is absorbed by deformation of the tape-type wiring substrate and the external leads. In addition, a filler having high elasticity, a low coefficient of thermal expansion, and moisture resistance is added to the inner lead portion that electrically connects the semiconductor chip and the tape-type wiring substrate so that a difference in thermal expansion from the external substrate is not added. An epoxy-based encapsulant is used to seal around the inner leads and the circuit surface of the chip. Further, the tape-type wiring board is warped due to heating when mounted on an external board. In the above-mentioned prior art, a countermeasure against the warp is specified. However, TCP in this prior art
Then, since the semiconductor package itself has a flexible structure, it is possible to correct the position shift of the lead due to the warpage of the tape-type wiring board by mounting the external lead or the like by deforming, and the allowable value of the warpage is as follows. It is considered relatively large.

【0003】上記TCPに対してテープ式ボールグリッ
ドアレイ(Ball Grid Array、以下BGAと略す)が開
発されている。これは、図9に断面図で示すように、T
CPのテープ式配線基板の下面にはんだボールが配置さ
れており、このはんだボールを用いて外部基板に実装す
るものである。即ち、配線パターンおよびその配線パタ
ーンに連なるはんだパッドを有するテープ式配線基板1
2内部に半導体チップ11が装填され、半導体チップ1
1の電極とテープ式配線基板上12の配線パターンとが
インナーリード13で電気的に接続され、半導体チップ
11の回路面とインナーリード13の周囲が封止樹脂1
4で封止され、外部基板18との電気的導通を取るため
のはんだボール16が二次元配置されている。また、テ
ープ式配線基板12上の配線パターンおよびはんだパッ
ドの各々の間はソルダーレジスト17によって電気的に
絶縁されている。
[0003] A tape-type ball grid array (hereinafter, abbreviated as BGA) has been developed for the TCP. This is because, as shown in cross section in FIG.
Solder balls are arranged on the lower surface of the tape-type wiring board of the CP, and are mounted on an external substrate using the solder balls. That is, a tape-type wiring board 1 having a wiring pattern and solder pads connected to the wiring pattern
2, a semiconductor chip 11 is loaded inside the semiconductor chip 1.
The electrode 1 and the wiring pattern on the tape-type wiring substrate 12 are electrically connected by the inner leads 13, and the circuit surface of the semiconductor chip 11 and the periphery of the inner leads 13 are formed of the sealing resin 1.
4 and two-dimensionally arranged solder balls 16 for establishing electrical continuity with the external substrate 18. The wiring pattern on the tape-type wiring board 12 and each of the solder pads are electrically insulated by the solder resist 17.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】図9に示すようなBG
A型の半導体装置は、テープ式配線基板12の下面に二
次元配置されたはんだボール16によって外部基板18
に実装されるため、半導体パッケージと外部基板18と
の熱膨張差をはんだボール16が直接負担することとな
る。テープ式配線基板12の基材として一般に用いられ
るポリイミドテープの熱膨張係数は、実装基板18に近
いものから、かなり小さいものまで多種があるが、特に
半導体チップ11に一番近いはんだボール16の接続部
ではテープ式配線基板12の熱変形が半導体チップ11
に拘束される。このため、テープ式配線基板12と外部
基板18との熱膨張差が大きくなり、はんだボール16
による接続部の疲労強度を含めた接続信頼性の低下が問
題となる。しかも最近では半導体装置のピン数(リード
数)は益々増加する傾向にあり、そのピン数の増加に伴
って半導体チップ11のサイズも大きくなり、さらに半
導体チップ11の外周端部からはんだボール16の接続
部までの距離が短くなるので、はんだボール16による
接続部への負担が一層増加することになる。
A BG as shown in FIG.
The A-type semiconductor device has an external substrate 18 formed by solder balls 16 two-dimensionally arranged on the lower surface of the tape-type wiring substrate 12.
Therefore, the solder balls 16 directly bear the difference in thermal expansion between the semiconductor package and the external substrate 18. The thermal expansion coefficient of a polyimide tape generally used as a base material of the tape-type wiring substrate 12 has a variety of types, from those close to the mounting substrate 18 to those having a considerably small value. In the part, the thermal deformation of the tape type wiring board 12 is
Be bound by. For this reason, the difference in thermal expansion between the tape type wiring board 12 and the external board 18 increases, and the solder balls 16
Therefore, there is a problem in that the connection reliability including the fatigue strength of the connection portion is reduced due to the above. Moreover, recently, the number of pins (the number of leads) of the semiconductor device has been increasing more and more, and the size of the semiconductor chip 11 has increased as the number of pins has increased. Since the distance to the connection part is shortened, the load on the connection part by the solder ball 16 is further increased.

【0005】この際、インナーリード13および半導体
チップ11の回路面を封止している封止樹脂14を、T
CPで用いているものよりも低弾性で高熱膨張のものに
変更すれば、半導体チップ11によるテープ式配線基板
12の熱変形の拘束が緩和されるため、はんだボール1
6に対する負担が軽減される。しかしながら、封止樹脂
14を低弾性にすることは、その材質中のフィラー含有
量を減少させることを意味するので、半導体チップ11
の回路面を保護するために重要な耐湿性が劣化する。従
って、封止樹脂のフィラー含有量を減少し弾性を低下さ
せ熱膨張率を増加させることは好ましくない。
At this time, the sealing resin 14 for sealing the inner leads 13 and the circuit surface of the semiconductor chip 11 is
If the material is changed to a material having a lower elasticity and a higher thermal expansion than that used in the CP, the restraint of the thermal deformation of the tape-type wiring substrate 12 by the semiconductor chip 11 is eased.
6 is reduced. However, making the sealing resin 14 low in elasticity means reducing the filler content in the material, so that the semiconductor chip 11
The moisture resistance, which is important for protecting the circuit surface, deteriorates. Therefore, it is not preferable to decrease the filler content of the sealing resin to lower the elasticity and increase the coefficient of thermal expansion.

【0006】また、例えば半導体チップ11の動作時な
どにおける加熱時には、テープ式配線基板12に反りが
発生するが、前述のTCPでは、この反りが接続信頼性
上の問題とはならななかった。しかし、BGAの場合に
はテープ式配線基板12の反りの発生が問題となる。な
ぜならば、外部基板18に実装する際の加熱によってテ
ープ式配線基板12に反りが発生すると、はんだボール
16の高さが場所によって変化することとなり、その変
化量が大きくなると外部基板18への実装時にはんだボ
ール16と外部基板18とが未接触状態となる可能性が
あるからである。しかも、最近の半導体装置におけるピ
ン数の増加に伴ってテープ式配線基板の面積は大きくな
り、かつはんだボール径も小さくなるため、テープ式配
線基板の反りの許容値は益々小さくなる。従って、半導
体パッケージが加熱された時のテープ式配線基板の反り
の発生を抑える構造を実現することが、接続信頼性の向
上には必要不可欠である。
Also, for example, when the semiconductor chip 11 is heated during operation or the like, the tape-type wiring board 12 is warped. However, in the above-described TCP, the warp does not cause a problem in connection reliability. However, in the case of the BGA, the occurrence of warpage of the tape-type wiring board 12 becomes a problem. This is because, when the tape-type wiring board 12 is warped due to heating at the time of mounting on the external board 18, the height of the solder ball 16 changes depending on the location. This is because the solder ball 16 and the external substrate 18 may sometimes be in a non-contact state. Moreover, as the number of pins increases in recent semiconductor devices, the area of the tape-type wiring board increases and the solder ball diameter also decreases, so that the allowable value of the warpage of the tape-type wiring board becomes smaller. Therefore, realizing a structure that suppresses the warpage of the tape-type wiring board when the semiconductor package is heated is indispensable for improving the connection reliability.

【0007】本発明の目的は、半導体パッケージが加熱
された時のテープ式配線基板と外部基板との熱膨張差を
低減し、かつテープ式配線基板の反りの発生を抑えるこ
とにより、はんだボールによる接続の信頼性を向上で
き、はんだボールに生じるひずみを低減できるテープ式
ボールグリッドアレイ型半導体装置を提供することであ
る。
An object of the present invention is to reduce the difference in thermal expansion between a tape-type wiring substrate and an external substrate when a semiconductor package is heated and to suppress the occurrence of warpage of the tape-type wiring substrate. An object of the present invention is to provide a tape-type ball grid array type semiconductor device capable of improving connection reliability and reducing a distortion generated in a solder ball.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、半導体チップと、配線パターンお
よびその配線パターンに連なるはんだパッドを有するテ
ープ式配線基板と、そのテープ式配線基板上の配線パタ
ーンおよびはんだパッドの各々の間を電気的に絶縁する
ソルダーレジストと、前記半導体チップの電極と前記テ
ープ式配線基板上の配線パターンとを電気的に接続する
インナーリードと、前記半導体チップの回路面とインナ
ーリードとを封止する封止材と、前記テープ式配線基板
の下面に配置され外部基板とはんだパッドとの電気的導
通を取るためのはんだボールとを有するテープ式ボール
グリッドアレイ型半導体装置において、前記テープ式配
線基板上面にそのテープ式配線基板を補強する枠を接着
し、かつ接着された枠における外周部の少なくとも一部
に切り欠きを設けたことを特徴とするテープ式ボールグ
リッドアレイ型半導体装置が提供される。
According to the present invention, there is provided a tape type wiring board having a semiconductor chip, a wiring pattern and a solder pad connected to the wiring pattern, and a tape type wiring board on the tape type wiring board. A solder resist that electrically insulates between each of the wiring patterns and the solder pads; an inner lead that electrically connects an electrode of the semiconductor chip to a wiring pattern on the tape-type wiring board; Tape-type ball grid array type having a sealing material for sealing a circuit surface and inner leads, and a solder ball disposed on a lower surface of the tape-type wiring board for establishing electrical continuity between an external substrate and a solder pad. In the semiconductor device, a frame for reinforcing the tape-type wiring board is bonded to the upper surface of the tape-type wiring board, and is bonded. Tape-type Ball Grid Array semiconductor device characterized by providing a notch on at least a portion of the outer peripheral portion in are provided.

【0009】ここで、上記切り欠きは、前記枠の外周側
角部に設けられていてもよいし、前記枠の外周部に複数
設けられていてもよい。
Here, the notch may be provided at the outer peripheral corner of the frame, or a plurality of the notches may be provided at the outer peripheral portion of the frame.

【0010】また、前記枠に加え、前記テープ式配線基
板の外周部の少なくとも一部に切り欠きを設けてもよい
し、さらに上記テープ式配線基板の外周部の切り欠きを
前記枠の切り欠きと同位置に設けてもよい。
Further, in addition to the frame, a notch may be provided in at least a part of an outer peripheral portion of the tape-type wiring board. And may be provided at the same position as.

【0011】ところで、半導体パッケージが加熱される
とテープ式配線基板の外周部はテープ自身の熱膨張係数
に従って熱変形が進行するのに対し、テープ式配線基板
の内周部は、その内周部を封止している封止材が高剛性
であるために、半導体チップに拘束されつつ熱変形し、
外周部と内周部とで熱変形差が生じることになる。これ
により、テープ式配線基板の外周部の方が変形が大きく
なり、上下方向に反りが発生する。この反りは特にその
外周側角部で大きくなり、また銅箔の配線パターンやソ
ルダーレジスト、或いは接着剤とテープ式配線基板との
バイメタル効果によって一層反り量が増長される。これ
に対しては、テープ式配線基板上面のほぼ全面に枠を接
着することにより、はんだボール部の剛性を確保するこ
とが可能となるが、その場合でも、テープ式配線基板の
熱変形が枠の熱変形に追随するため、枠の内周部と外周
部の熱変形差により反りが発生する。
By the way, when the semiconductor package is heated, the outer peripheral portion of the tape-type wiring substrate undergoes thermal deformation according to the thermal expansion coefficient of the tape itself, whereas the inner peripheral portion of the tape-type wiring substrate has its inner peripheral portion. Due to the high rigidity of the encapsulating material sealing, the semiconductor material is thermally deformed while being restrained by the semiconductor chip,
A difference in thermal deformation occurs between the outer peripheral portion and the inner peripheral portion. As a result, the outer peripheral portion of the tape-type wiring board is more deformed, and warpage occurs in the vertical direction. This warpage is particularly large at the outer corner, and the amount of warpage is further increased by the bimetal effect between the wiring pattern of the copper foil, the solder resist, or the adhesive and the tape-type wiring board. On the other hand, by bonding the frame to almost the entire upper surface of the tape-type wiring board, it is possible to secure the rigidity of the solder ball portion. Warpage occurs due to the difference in thermal deformation between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the frame.

【0012】本発明では、接着された枠における外周部
の少なくとも一部に切り欠きを設けることにより、テー
プ式配線基板の内周側と外周側の熱変形量の差、及び反
りの発生が低減できる。テープ式配線基板上面の全面に
枠を接着すれば、枠がない場合に比べて反り量は概ね半
減するが、テープ式配線基板外周部の少なくとも一部に
切り欠きを設ける(例えば枠の外周側角部に設けたり、
枠の外周部に複数設ける)ことにより、或いはテープ式
配線基板および枠の両方の外周部の少なくとも一部に切
り欠きを設けることにより、はんだボール部の剛性を確
保したまま、反りを低減できる(図4参照)。このよう
に半導体パッケージが加熱された時のテープ式配線基板
と外部基板との熱膨張差を低減し、かつテープ式配線基
板の反りの発生を抑えることにより、はんだボールによ
る接続の信頼性を向上することが可能となる。また、枠
の熱変形によって特に半導体チップに近い位置のはんだ
ボール接続部に生じるひずみを大幅に低減することがで
きる。
In the present invention, the difference in the amount of thermal deformation between the inner peripheral side and the outer peripheral side of the tape-type wiring board and the occurrence of warpage are reduced by providing notches in at least a part of the outer peripheral portion of the bonded frame. it can. If a frame is adhered to the entire upper surface of the tape-type wiring board, the amount of warpage is substantially reduced by half as compared with the case where no frame is provided. Or at the corners,
By providing notches on at least a part of the outer peripheral portions of both the tape-type wiring board and the frame, warpage can be reduced while securing the rigidity of the solder ball portion (by providing a plurality of notches on the outer peripheral portion of the frame) ( (See FIG. 4). In this way, the thermal expansion difference between the tape-type wiring board and the external board when the semiconductor package is heated is reduced, and the occurrence of warpage of the tape-type wiring board is suppressed, thereby improving the reliability of connection by solder balls. It is possible to do. In addition, it is possible to greatly reduce the distortion caused by the thermal deformation of the frame, particularly at the solder ball connection portion near the semiconductor chip.

【0013】また、本発明によれば、半導体チップと、
配線パターンおよびその配線パターンに連なるはんだパ
ッドを有するテープ式配線基板と、そのテープ式配線基
板上の配線パターンおよびはんだパッドの各々の間を電
気的に絶縁するソルダーレジストと、前記半導体チップ
の電極と前記テープ式配線基板上の配線パターンとを電
気的に接続するインナーリードと、前記半導体チップの
回路面とインナーリードとを封止する封止材と、前記テ
ープ式配線基板の下面に配置され外部基板とはんだパッ
ドとの電気的導通を取るためのはんだボールとを有する
テープ式ボールグリッドアレイ型半導体装置において、
前記テープ式配線基板上面にそのテープ式配線基板を補
強する枠を接着し、かつその枠の内周側面を前記半導体
チップおよびテープ式配線基板と共に前記封止材により
一体封止したことを特徴とするテープ式ボールグリッド
アレイ型半導体装置が提供される。
Further, according to the present invention, a semiconductor chip,
A tape-type wiring substrate having a wiring pattern and a solder pad connected to the wiring pattern, a solder resist for electrically insulating between the wiring pattern and the solder pad on the tape-type wiring substrate, and an electrode of the semiconductor chip. An inner lead for electrically connecting a wiring pattern on the tape-type wiring board; a sealing material for sealing a circuit surface of the semiconductor chip and the inner lead; In a tape type ball grid array type semiconductor device having a solder ball for taking electrical conduction between a substrate and a solder pad,
A frame for reinforcing the tape-type wiring board is bonded to the upper surface of the tape-type wiring board, and an inner peripheral side surface of the frame is integrally sealed with the semiconductor chip and the tape-type wiring board by the sealing material. And a tape-type ball grid array type semiconductor device.

【0014】ここで、上記枠における外周部の少なくと
も一部に切り欠きを設けてもよいし、さらにそれに加え
て、前記テープ式配線基板の外周部の少なくとも一部に
切り欠きを設けてもたよい。
Here, a notch may be provided in at least a part of an outer peripheral portion of the frame, and in addition, a notch may be provided in at least a part of an outer peripheral portion of the tape-type wiring board. Good.

【0015】上記のように、枠の内周側面が半導体チッ
プおよびテープ式配線基板と共に封止材により一体封止
されることにより、テープ式配線基板上面のほぼ全面に
枠を接着するか、外周部の少なくとも一部に切り欠きを
設けるかに拘らず、封止材の剛性を大きくしてテープ式
配線基板の反りを防止することが可能となる。
As described above, the inner peripheral side surface of the frame is integrally sealed with the semiconductor chip and the tape-type wiring board by the sealing material, so that the frame is adhered to almost the entire upper surface of the tape-type wiring board, or Irrespective of whether a notch is provided in at least a part of the portion, it is possible to increase the rigidity of the sealing material and prevent the tape-type wiring board from warping.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明の第1の実施形態につい
て、図1から図4を参照しながら説明する。図1は本実
施形態による半導体装置の斜視図、図2は本実施形態に
よる半導体装置の断面図である。但し、図1では、一部
を断面図で表した。図1および図2に示すように、配線
パターンおよびはんだパッドが下面に設けられた枠状の
テープ式配線基板2の内周部に半導体チップ1が装填さ
れており、半導体チップ1周辺部に設けられた電極と配
線パターンとがインナーリード3で接続されている。そ
して、封止樹脂4により半導体チップ1の回路面および
インナーリード周囲のウインドウ部が封止され、はんだ
パッドに外部基板との電気的導通を取るためのはんだボ
ール6が設けられている。さらに、テープ式配線基板2
の上面には枠5が接着され、かつテープ式配線基板2お
よび枠5の外周側角部に切り欠き8が設けられている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a perspective view of the semiconductor device according to the present embodiment, and FIG. 2 is a sectional view of the semiconductor device according to the present embodiment. However, in FIG. 1, a part is shown in a sectional view. As shown in FIGS. 1 and 2, a semiconductor chip 1 is mounted on an inner peripheral portion of a frame-shaped tape-type wiring substrate 2 provided with a wiring pattern and a solder pad on a lower surface, and provided on a peripheral portion of the semiconductor chip 1. The electrode and the wiring pattern are connected by the inner lead 3. The circuit surface of the semiconductor chip 1 and the window around the inner leads are sealed by the sealing resin 4, and the solder pads are provided with solder balls 6 for establishing electrical continuity with the external substrate. Further, the tape type wiring board 2
A frame 5 is adhered to the upper surface of the tape type wiring board 2, and a notch 8 is provided at a corner on the outer peripheral side of the tape-type wiring board 2 and the frame 5.

【0017】上記半導体装置の製造手順の概略を説明す
る。テープ式配線基板2は、基材にポリイミドテープを
用いたものであり、枠状に切断加工されかつ外周側角部
に切り欠き8を設けている。テープ式配線基板2として
は、線膨張係数が半導体チップ1の線膨張係数より大き
いものを用いることが好ましい。このポリイミドテープ
の基材には銅箔が接着剤により接着され、配線パターン
形状およびはんだパッドの形状に従ってエッチング加工
が施され、これによって配線パターンおよびインナーリ
ード部が形成される。また、基材に形成された配線パタ
ーン間のリーク(短絡)を防止するため、はんだパッド
面を除いた配線パターン間にソルダーレジスト7を塗布
して電気的絶縁を行っている。まず、半導体チップ1
を、その回路面とは反対側の面を吸着等によって固定し
ておき、半導体チップ1の外周部と枠状のテープ式配線
基板2の内周部とを合わせて装填する。次に半導体チッ
プ1周辺部の電極に形成された金ボール上に、TAB
(Tape Automated Bonding)方式でインナーリード3を
ボンディングする。あるいは、半導体チップ1のアルミ
電極上に、銅箔にNiまたはAuめっきを施したインナ
ーリード3を一本ずつ、シングルポイントでボンディン
グしてもよい。
An outline of a procedure for manufacturing the semiconductor device will be described. The tape-type wiring board 2 uses a polyimide tape as a base material, is cut into a frame shape, and has a notch 8 at a corner on the outer peripheral side. It is preferable to use a tape-type wiring board 2 having a coefficient of linear expansion larger than that of the semiconductor chip 1. A copper foil is adhered to the base material of the polyimide tape by an adhesive, and an etching process is performed according to a wiring pattern shape and a solder pad shape, thereby forming a wiring pattern and an inner lead portion. Further, in order to prevent a leak (short circuit) between the wiring patterns formed on the base material, a solder resist 7 is applied between the wiring patterns excluding the solder pad surface to perform electrical insulation. First, the semiconductor chip 1
The surface opposite to the circuit surface is fixed by suction or the like, and the outer peripheral portion of the semiconductor chip 1 and the inner peripheral portion of the frame-shaped tape-type wiring board 2 are loaded together. Next, TAB is placed on the gold ball formed on the electrode in the peripheral portion of the semiconductor chip 1.
The inner leads 3 are bonded by a (Tape Automated Bonding) method. Alternatively, the inner leads 3 obtained by plating a copper foil with Ni or Au may be bonded one by one on the aluminum electrodes of the semiconductor chip 1.

【0018】次に、半導体装置(半導体パッケージ)の
耐湿性およびインナーリードの接続信頼性を保持するた
め、エポキシ系の封止樹脂4で半導体チップ1の回路面
およびインナーリード3周囲のウインドウ部を封止す
る。この場合、封止樹脂4としては、フィラー含有量が
多い方が耐湿性に優れているので、少なくともフィラー
入りの液状樹脂を用いた方がよい。
Next, in order to maintain the moisture resistance of the semiconductor device (semiconductor package) and the connection reliability of the inner leads, the circuit surface of the semiconductor chip 1 and the window around the inner leads 3 are sealed with an epoxy-based sealing resin 4. Seal. In this case, as the sealing resin 4, the one having a larger filler content is more excellent in moisture resistance, so it is better to use at least a liquid resin containing a filler.

【0019】枠5としては、例えばリードフレームに用
いられる材料と同様の薄板材を用い、打ち抜きまたはエ
ッチング加工などによって外周側角部に切り欠き8を設
ける。そして、接着剤を介して枠5をテープ式配線基板
2に固定する。あるいは、配線パターンを形成するのと
同一工程において、配線パターンと同じ材質の銅箔を用
いて枠5を形成してもよい。枠5の大きさは、その内周
側が半導体チップ1の外形寄りも大きくすることは勿
論、外周側はテープ式配線基板2の外周より若干小さく
するのが好ましく、枠5の厚さは、0.1〜0.3mm
程度の範囲に設定するのが好ましい。また、枠5の材質
としては、線膨張係数がテープ式配線基板2の基材(ポ
リイミドテープ)の線膨張係数と同等かそれ以上であっ
て、外部基板(一般的にはガラスエポキシ)の線膨張係
数に近い方が良いので、銅系またはアルミ系の材料を用
いるのが好ましいが、樹脂などの有機材料を用いる場合
にも、高剛性でかつ前述の線膨張係数の条件に合うもの
を選択することとする。
As the frame 5, for example, a thin plate material similar to the material used for a lead frame is used, and a notch 8 is provided at a corner on the outer peripheral side by punching or etching. Then, the frame 5 is fixed to the tape-type wiring board 2 via an adhesive. Alternatively, in the same step as forming the wiring pattern, the frame 5 may be formed using a copper foil of the same material as the wiring pattern. The size of the frame 5 is preferably made slightly smaller on the inner peripheral side than on the outer periphery of the tape-type wiring board 2, as well as on the outer peripheral side of the semiconductor chip 1. .1 to 0.3 mm
It is preferable to set the value within the range. The material of the frame 5 is such that the coefficient of linear expansion is equal to or greater than the coefficient of linear expansion of the base material (polyimide tape) of the tape-type wiring board 2 and the linear expansion coefficient of the external board (generally, glass epoxy) It is preferable to use copper-based or aluminum-based material because it is better to be close to the coefficient of expansion.However, when using an organic material such as resin, select a material that has high rigidity and meets the above-described conditions of the linear expansion coefficient. I decided to.

【0020】はんだボール6については、製作済のはん
だボールをマスクを用いて所定の位置に転写し高温加熱
により形成するか、はんだペーストをマスクを用いてテ
ープ式配線基板2上のはんだパッドに印刷して高温加熱
により形成する。
The solder balls 6 are formed by transferring the manufactured solder balls to predetermined positions using a mask and heating them at a high temperature, or printing solder paste on solder pads on the tape-type wiring board 2 using a mask. And formed by high-temperature heating.

【0021】次に、本実施形態の作用効果を説明する。
まず、上記のような枠5を接着しない場合において、半
導体パッケージが加熱された時のテープ式配線基板の反
り発生メカニズムを、図3により説明する。但し、図3
は半導体装置の一部をもし汽笛に示す図であって、ハン
ダボール等は省略している。半導体パッケージを加熱さ
れるとテープ式配線基板12の外周部はテープ自身の熱
膨張係数に従って熱変形が進行するのに対し、テープ式
配線基板12の内周部は、その内周部を封止している封
止樹脂14が高剛性であるために、半導体チップ11に
拘束されつつ熱変形し、外周部と内周部とで熱変形差が
生じることになる。これにより、テープ式配線基板12
の外周部の方が変形が大きくなり、上下方向に反りが発
生する。この反りは特にその外周側角部で大きくなり、
また銅箔の配線パターンやソルダーレジスト、或いは接
着剤とテープ式配線基板とのバイメタル効果によって一
層反り量が増長される。
Next, the operation and effect of this embodiment will be described.
First, a description will be given of a warping mechanism of the tape-type wiring board when the semiconductor package is heated when the frame 5 is not bonded as described above with reference to FIG. However, FIG.
Is a diagram showing a part of a semiconductor device as a whistle, with solder balls and the like omitted. When the semiconductor package is heated, the outer peripheral portion of the tape-type wiring substrate 12 undergoes thermal deformation according to the thermal expansion coefficient of the tape itself, whereas the inner peripheral portion of the tape-type wiring substrate 12 seals the inner peripheral portion. Since the sealing resin 14 has high rigidity, it is thermally deformed while being restrained by the semiconductor chip 11, and a difference in thermal deformation occurs between the outer peripheral portion and the inner peripheral portion. Thereby, the tape type wiring board 12
The outer peripheral portion is more deformed and warps vertically. This warp is particularly large at the outer peripheral corner,
Further, the amount of warpage is further increased by the bimetal effect between the wiring pattern of the copper foil, the solder resist, or the adhesive and the tape-type wiring substrate.

【0022】これに対し、テープ式配線基板12上面の
ほぼ全面に枠を接着することによれば、はんだボールの
剛性を確保することが可能となるが、その場合でも、テ
ープ式配線基板12の熱変形が枠の熱変形に追随するた
め、枠の内周部と外周部の熱変形差により反りが発生す
ることは避けられない。
On the other hand, by bonding the frame to almost the entire upper surface of the tape-type wiring board 12, it is possible to secure the rigidity of the solder balls. Since the thermal deformation follows the thermal deformation of the frame, it is inevitable that warpage occurs due to the difference in thermal deformation between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the frame.

【0023】ところが、本実施形態では、接着された枠
5における外周部の少なくとも一部、具体的には外周側
角部、およびテープ式配線基板2の外周側角部に切り欠
き8を設けることにより、テープ式配線基板2の内周側
と外周側の熱変形量の差、及び反りの発生が低減でき
る。
However, in this embodiment, the notch 8 is provided in at least a part of the outer peripheral portion of the bonded frame 5, specifically, the outer peripheral corner and the outer peripheral corner of the tape-type wiring board 2. Thereby, the difference in the amount of thermal deformation between the inner peripheral side and the outer peripheral side of the tape type wiring board 2 and the occurrence of warpage can be reduced.

【0024】図4に、温度変化(加熱)によるテープ式
配線基板の反り量の相対値を示す。ここでは、(A)全
面枠の場合(テープ式配線基板の全面に枠を設けた場
合)、(B)外周側角部切り欠きの場合(テープ式配線
基板および枠の外周側角部に枠を設けた場合)、(C)
枠のみの外周側角部に切り欠きを設けた場合(第2の実
施形態で後述する)、(D)枠外周側に複数の切り欠き
を設けた場合(第3の実施形態で後述する)、(E)枠
無しの場合のそれぞれを比較した。全面枠を設ける場合
(A)では、枠無しの場合(E)に比べて反り量は半減
するが、テープ式配線基板および枠の外周側角部に枠を
設ける場合(B)や、枠のみの外周側角部に切り欠きを
設けた場合(C)や、枠外周側に複数の切り欠きを設け
た場合(D)では、一層反り量が減少する。
FIG. 4 shows the relative value of the amount of warpage of the tape-type wiring board due to temperature change (heating). Here, (A) the case of the entire frame (the case where the frame is provided on the entire surface of the tape-type wiring board), (B) the case of the outer peripheral corner notch (the frame at the outer peripheral corner of the tape-type wiring board and the frame) ), (C)
(D) When notches are provided on the outer peripheral corners of only the frame (described later in the second embodiment), (D) When a plurality of notches are provided on the outer peripheral side of the frame (described later in the third embodiment) , (E) were compared without the frame. In the case where the entire frame is provided (A), the amount of warpage is halved compared to the case without the frame (E). However, in the case where the frame is provided at the outer peripheral corner of the tape-type wiring board and the frame (B), or only the frame is provided. In the case where a notch is provided in the outer peripheral side corner (C) or in the case where a plurality of notches are provided on the outer peripheral side of the frame (D), the amount of warpage is further reduced.

【0025】以上のような本実施形態によれば、枠5お
よびテープ式配線基板2の外周側角部に切り欠き8を設
けたので、テープ式配線基板2の内周側と外周側の熱変
形量の差、及び反りの発生が低減できる。その結果、は
んだボール6による接続の信頼性を向上することがで
き、はんだボール6に生じるひずみを大幅に低減するこ
とができる。
According to the present embodiment as described above, the notch 8 is provided at the outer peripheral corner of the frame 5 and the tape-type wiring board 2, so that the heat on the inner peripheral side and the outer peripheral side of the tape-type wiring board 2 can be improved. The difference in the amount of deformation and the occurrence of warpage can be reduced. As a result, the reliability of the connection by the solder ball 6 can be improved, and the distortion generated in the solder ball 6 can be greatly reduced.

【0026】次に、本発明の第2および第3の実施形態
について、それぞれ図5および図6を参照しながら説明
する。図5および図6はそれぞれ第2および第3の実施
形態による半導体装置の斜視図であって、これら図5、
図6においては図1と同等の部材に同じ符号を付してあ
る。第2の実施形態では枠5のみの外周側角部に切り欠
き8aを設け、第3の実施形態では枠5のみの外周側に
複数の切り欠き8bを設ける。このうち図5は図4の
(C)に該当し、図6は図4の(D)に該当する。これ
らの本実施形態によっても、第1の実施形態とほぼ同様
の効果が得られる。なお、第3の実施形態の場合に、テ
ープ式配線基板2の外周部に複数の切り欠きを設けても
よい。
Next, second and third embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 and 6, respectively. FIGS. 5 and 6 are perspective views of the semiconductor device according to the second and third embodiments, respectively.
In FIG. 6, the same members as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. In the second embodiment, a notch 8a is provided on the outer peripheral corner of only the frame 5, and in the third embodiment, a plurality of notches 8b are provided on the outer peripheral side of only the frame 5. 5 corresponds to FIG. 4C, and FIG. 6 corresponds to FIG. 4D. According to these embodiments, substantially the same effects as those of the first embodiment can be obtained. In the case of the third embodiment, a plurality of notches may be provided on the outer peripheral portion of the tape-type wiring board 2.

【0027】次に、本発明の第4の実施形態について、
図7を参照しながら説明する。図7は本実施形態による
半導体装置の断面図であって、図2と同等の部材には同
じ符号を付してある。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.
This will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a sectional view of the semiconductor device according to the present embodiment, and the same reference numerals are given to members equivalent to those in FIG.

【0028】本実施形態では製造手順が第1実施形態と
は若干異なり、テープ式配線基板2に形成されたインナ
ーリード3を半導体チップ1上の電極にボンディングす
る前に、前もって枠5をテープ式配線基板2に接着剤を
介して固定する。この時の枠5の内周は半導体チップ1
の外周より大きい。そして、半導体チップ1の回路面お
よびインナーリード3周囲のウインドウ部をエポキシ系
の封止樹脂4で封止する際に、枠5の内周側面も含めて
テープ式配線基板2と共に一体に封止する。
In this embodiment, the manufacturing procedure is slightly different from that of the first embodiment. Before bonding the inner leads 3 formed on the tape-type wiring substrate 2 to the electrodes on the semiconductor chip 1, the frame 5 is previously tape-type. It is fixed to the wiring board 2 via an adhesive. The inner periphery of the frame 5 at this time is the semiconductor chip 1
Larger than the outer circumference of. When the circuit surface of the semiconductor chip 1 and the window around the inner leads 3 are sealed with the epoxy-based sealing resin 4, the inner surface of the frame 5 and the tape-type wiring board 2 are integrally sealed together. I do.

【0029】このように、枠5の内周側面が半導体チッ
プ1およびテープ式配線基板2と共に封止樹脂4により
一体封止されることにより、テープ式配線基板2上面の
ほぼ全面に枠5を接着するか、枠5の外周部の少なくと
も一部に切り欠きを設けるかに拘らず、封止樹脂4の剛
性を大きくしてテープ式配線基板4の反りを防止するこ
とができる。その結果、はんだボールによる接続の信頼
性を向上することができ、はんだボールに生じるひずみ
が大幅に低減する。
As described above, the inner peripheral side surface of the frame 5 is integrally sealed together with the semiconductor chip 1 and the tape-type wiring board 2 by the sealing resin 4, so that the frame 5 covers almost the entire upper surface of the tape-type wiring board 2. The rigidity of the sealing resin 4 can be increased to prevent the tape-type wiring board 4 from warping, regardless of whether the bonding is performed or a notch is provided in at least a part of the outer peripheral portion of the frame 5. As a result, the reliability of the connection by the solder ball can be improved, and the distortion generated in the solder ball is greatly reduced.

【0030】次に、本発明の第5の実施形態について、
図8を参照しながら説明する。図8は本実施形態による
半導体装置の斜視図であって、図1と同等の部材には同
じ符号を付してある。本実施形態では、第4の実施形態
と同様に枠5の内周側面を、半導体チップ1およびテー
プ式配線基板2と共に封止樹脂4により一体封止してお
り、さらに第1の実施形態と同様に枠5およびテープ式
配線基板2の外周側角部に切り欠き8を設ける。このよ
うな本実施形態によれば、第1の実施形態および第4の
実施形態の両方の効果が得られ、はんだボール6による
接続の信頼性を一層向上することができる。なお、本実
施形態の場合も、第2または第3の実施形態のように、
枠のみの外周側角部に切り欠きを設けたり、枠の外周側
に複数の切り欠きを設けてもよい。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described.
This will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a perspective view of the semiconductor device according to the present embodiment, and the same members as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. In the present embodiment, similarly to the fourth embodiment, the inner peripheral side surface of the frame 5 is integrally sealed together with the semiconductor chip 1 and the tape-type wiring board 2 by the sealing resin 4. Similarly, a notch 8 is provided in the outer peripheral corner of the frame 5 and the tape-type wiring board 2. According to this embodiment, the effects of both the first embodiment and the fourth embodiment can be obtained, and the reliability of connection by the solder balls 6 can be further improved. In this embodiment, as in the second or third embodiment,
A notch may be provided on the outer peripheral side corner of only the frame, or a plurality of notches may be provided on the outer peripheral side of the frame.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明によれば、接着された枠における
外周部の少なくとも一部に切り欠きを設ける(例えば枠
の外周側角部に設けたり、枠の外周部に複数設ける)こ
とにより、或いはテープ式配線基板および枠の両方の外
周部の少なくとも一部に切り欠きを設けることにより、
テープ式配線基板の内周側と外周側の熱変形量の差、及
び反りの発生が低減できる。その結果、はんだボールに
よる接続の信頼性を向上することができ、はんだボール
に生じるひずみを大幅に低減することができる。
According to the present invention, a notch is provided in at least a part of the outer peripheral portion of the bonded frame (for example, a notch is provided at an outer peripheral corner of the frame, or a plurality of notches are provided at the outer peripheral portion of the frame). Alternatively, by providing a notch in at least a part of the outer peripheral portion of both the tape-type wiring board and the frame,
The difference in the amount of thermal deformation between the inner peripheral side and the outer peripheral side of the tape-type wiring board and the occurrence of warpage can be reduced. As a result, the reliability of the connection by the solder ball can be improved, and the distortion generated in the solder ball can be greatly reduced.

【0032】また、枠の内周側面を半導体チップおよび
テープ式配線基板と共に一体封止するので、テープ式配
線基板上面のほぼ全面に枠を接着するか、外周部の少な
くとも一部に切り欠きを設けるかに拘らず、封止材の剛
性を大きくしてテープ式配線基板の反りを防止すること
ができる。
Further, since the inner peripheral side surface of the frame is integrally sealed together with the semiconductor chip and the tape-type wiring substrate, the frame is adhered to almost the entire upper surface of the tape-type wiring substrate, or a notch is formed in at least a part of the outer peripheral portion. Regardless of the provision, the rigidity of the sealing material can be increased to prevent the tape-type wiring board from warping.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態による半導体装置の斜視
図であって、一部断面を表す図である。
FIG. 1 is a perspective view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, showing a partial cross section.

【図2】図1に示した半導体装置の断面図である。FIG. 2 is a sectional view of the semiconductor device shown in FIG. 1;

【図3】半導体パッケージが加熱された時のテープ式配
線基板の反り発生メカニズムを説明する図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a warp generation mechanism of the tape-type wiring board when the semiconductor package is heated.

【図4】温度変化(加熱)によるテープ式配線基板の反
り量の相対値を比較した図である。
FIG. 4 is a diagram comparing the relative values of the amount of warpage of the tape-type wiring board due to a temperature change (heating).

【図5】本発明の第2実施形態による半導体装置の斜視
図であって、一部断面を表す図である。
FIG. 5 is a perspective view of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention, showing a partial cross section.

【図6】本発明の第3実施形態による半導体装置の斜視
図であって、一部断面を表す図である。
FIG. 6 is a perspective view of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention, showing a partial cross section.

【図7】本発明の第4の実施形態による半導体装置の断
面図である。
FIG. 7 is a sectional view of a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第5の実施形態による半導体装置の斜
視図であって、一部断面を表す図である。
FIG. 8 is a perspective view of a semiconductor device according to a fifth embodiment of the present invention, showing a partial cross section.

【図9】従来の一般的なテープ式ボールグリッドアレイ
(BGA)の断面図である。
FIG. 9 is a sectional view of a conventional general tape-type ball grid array (BGA).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 テープ式配線基板 3 インナーリード 4 封止樹脂 5 枠 6 はんだボール 7 ソルダーレジスト 8,8a,8b 切り欠き DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor chip 2 Tape-type wiring board 3 Inner lead 4 Sealing resin 5 Frame 6 Solder ball 7 Solder resist 8, 8a, 8b Notch

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 直敬 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社日 立製作所機械研究所内 (72)発明者 安生 一郎 東京都小平市上水本町五丁目20番地1号 株式会社日立製作所半導体事業部内 (72)発明者 春田 亮 東京都小平市上水本町五丁目20番地1号 株式会社日立製作所半導体事業部内 (72)発明者 西村 朝雄 東京都小平市上水本町五丁目20番地1号 株式会社日立製作所半導体事業部内 (72)発明者 佐伯 準一 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Naotaka Tanaka 502 Kandate-cho, Tsuchiura-shi, Ibaraki Pref. Machinery Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Ichiro Yasui 5--20-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo Hitachi Semiconductor Co., Ltd. (72) Ryo Haruta, Inventor 5--20-1, Kamimizu Honcho, Kodaira-shi, Tokyo Hitachi Semiconductor Co., Ltd. (72) Inventor Asao Nishimura 5-Chome, Josui-Honcho, Kodaira-shi, Tokyo No. 20 No. 1 Hitachi Semiconductor Co., Ltd. (72) Inventor Junichi Saeki 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama, Kanagawa

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップと、配線パターンおよびそ
の配線パターンに連なるはんだパッドを有するテープ式
配線基板と、前記テープ式配線基板上の配線パターンお
よびはんだパッドの各々の間を電気的に絶縁するソルダ
ーレジストと、前記半導体チップの電極と前記テープ式
配線基板上の前記配線パターンとを電気的に接続するイ
ンナーリードと、前記半導体チップの回路面と前記イン
ナーリードとを封止する封止材と、前記テープ式配線基
板下面に配置され前記はんだパッドと外部基板との電気
的導通を取るためのはんだボールとを有するテープ式ボ
ールグリッドアレイ型半導体装置において、 前記テープ式配線基板上面にそのテープ式配線基板を補
強する枠を接着し、かつ接着された前記枠における外周
部の少なくとも一部に切り欠きを設けたことを特徴とす
るテープ式ボールグリッドアレイ型半導体装置。
1. A tape type wiring board having a semiconductor chip, a wiring pattern and a solder pad connected to the wiring pattern, and a solder for electrically insulating each of the wiring pattern and the solder pad on the tape type wiring board. A resist, an inner lead that electrically connects the electrode of the semiconductor chip and the wiring pattern on the tape-type wiring board, a sealing material that seals the circuit surface of the semiconductor chip and the inner lead, In a tape-type ball grid array type semiconductor device having a solder ball disposed on a lower surface of the tape-type wiring substrate and for establishing electrical continuity between the solder pad and an external substrate, the tape-type wiring is provided on an upper surface of the tape-type wiring substrate. A frame for reinforcing the substrate is bonded, and at least a part of an outer peripheral portion of the bonded frame is cut out. Tape-type Ball Grid Array type semiconductor device, wherein a is provided.
【請求項2】 請求項1記載のテープ式ボールグリッド
アレイ型半導体装置において、前記切り欠きは前記枠の
外周側角部に設けられていることを特徴とするテープ式
ボールグリッドアレイ型半導体装置。
2. The tape-type ball grid array type semiconductor device according to claim 1, wherein the notch is provided at an outer peripheral side corner of the frame.
【請求項3】 請求項1または2記載のテープ式ボール
グリッドアレイ型半導体装置において、前記切り欠きは
前記枠の外周部に複数設けられていることを特徴とする
テープ式ボールグリッドアレイ型半導体装置。
3. The tape-type ball grid array type semiconductor device according to claim 1, wherein a plurality of the notches are provided on an outer peripheral portion of the frame. .
【請求項4】 請求項1から3のうちいずれか1項記載
のテープ式ボールグリッドアレイ型半導体装置におい
て、さらに前記テープ式配線基板の外周部の少なくとも
一部にも切り欠きを設けたことを特徴とするテープ式ボ
ールグリッドアレイ型半導体装置。
4. The tape-type ball grid array type semiconductor device according to claim 1, further comprising a notch provided in at least a part of an outer peripheral portion of said tape-type wiring substrate. Characteristic tape type ball grid array type semiconductor device.
【請求項5】 請求項4記載のテープ式ボールグリッド
アレイ型半導体装置において、前記テープ式配線基板の
外周部の切り欠きは前記枠の切り欠きと同位置に設けら
れていることを特徴とするテープ式ボールグリッドアレ
イ型半導体装置。
5. The tape-type ball grid array type semiconductor device according to claim 4, wherein a notch in an outer peripheral portion of the tape-type wiring board is provided at the same position as a notch in the frame. Tape type ball grid array type semiconductor device.
【請求項6】 半導体チップと、配線パターンおよびそ
の配線パターンに連なるはんだパッドを有するテープ式
配線基板と、前記テープ式配線基板上の配線パターンお
よびはんだパッドの各々の間を電気的に絶縁するソルダ
ーレジストと、前記半導体チップの電極と前記テープ式
配線基板上の前記配線パターンとを電気的に接続するイ
ンナーリードと、前記半導体チップの回路面と前記イン
ナーリードとを封止する封止材と、前記テープ式配線基
板の下面に配置され前記はんだパッドと外部基板との電
気的導通を取るためのはんだボールとを有するテープ式
ボールグリッドアレイ型半導体装置において、 前記テープ式配線基板上面にそのテープ式配線基板を補
強する枠を接着し、かつ前記枠の内周側面を前記半導体
チップおよび前記テープ式配線基板と共に前記封止材に
より一体封止したことを特徴とするテープ式ボールグリ
ッドアレイ型半導体装置。
6. A tape type wiring board having a semiconductor chip, a wiring pattern and a solder pad connected to the wiring pattern, and a solder for electrically insulating each of the wiring pattern and the solder pad on the tape type wiring board. A resist, an inner lead that electrically connects the electrode of the semiconductor chip and the wiring pattern on the tape-type wiring board, a sealing material that seals the circuit surface of the semiconductor chip and the inner lead, In a tape-type ball grid array type semiconductor device having a solder ball disposed on a lower surface of the tape-type wiring substrate and a solder ball for establishing electrical conduction between the solder pad and an external substrate, A frame for reinforcing a wiring board is bonded, and the inner peripheral side surface of the frame is formed by the semiconductor chip and the tape type. Tape-type Ball Grid Array type semiconductor device which is characterized in that sealed integrally sealed by the sealing material together with the line board.
【請求項7】 請求項6記載のテープ式ボールグリッド
アレイ型半導体装置において、前記枠における外周部の
少なくとも一部に切り欠きを設けたことを特徴とするテ
ープ式ボールグリッドアレイ型半導体装置。半導体装
置。
7. The tape type ball grid array type semiconductor device according to claim 6, wherein a notch is provided in at least a part of an outer peripheral portion of the frame. Semiconductor device.
【請求項8】 請求項7載のテープ式ボールグリッドア
レイ型半導体装置において、さらに前記テープ式配線基
板の外周部の少なくとも一部にも切り欠きを設けたこと
を特徴とするテープ式ボールグリッドアレイ型半導体装
置。
8. The tape-type ball grid array semiconductor device according to claim 7, further comprising a notch provided in at least a part of an outer peripheral portion of said tape-type wiring board. Type semiconductor device.
JP30956596A 1996-11-20 1996-11-20 Tape type ball grid array semiconductor device Withdrawn JPH10150117A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30956596A JPH10150117A (en) 1996-11-20 1996-11-20 Tape type ball grid array semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30956596A JPH10150117A (en) 1996-11-20 1996-11-20 Tape type ball grid array semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10150117A true JPH10150117A (en) 1998-06-02

Family

ID=17994561

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30956596A Withdrawn JPH10150117A (en) 1996-11-20 1996-11-20 Tape type ball grid array semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10150117A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010046361A (en) * 1999-11-12 2001-06-15 박종섭 A tape for adhesive solder ball and a semiconductor package which use a tape for adhesive solder ball
EP2395820A1 (en) 2010-06-10 2011-12-14 Fujitsu Limited Board reinforcing structure, board assembly, and electronic device
JP2012109331A (en) * 2010-11-16 2012-06-07 Nec Network Products Ltd Interposer
JP2013102216A (en) * 2013-01-31 2013-05-23 Shinko Electric Ind Co Ltd Wiring board
JPWO2012086107A1 (en) * 2010-12-24 2014-05-22 パナソニック株式会社 Electronic component mounting structure intermediate, electronic component mounting structure, and method of manufacturing electronic component mounting structure
CN107978570A (en) * 2016-10-21 2018-05-01 力成科技股份有限公司 Chip-packaging structure and its manufacture method

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010046361A (en) * 1999-11-12 2001-06-15 박종섭 A tape for adhesive solder ball and a semiconductor package which use a tape for adhesive solder ball
EP2395820A1 (en) 2010-06-10 2011-12-14 Fujitsu Limited Board reinforcing structure, board assembly, and electronic device
US8604347B2 (en) 2010-06-10 2013-12-10 Fujitsu Limited Board reinforcing structure, board assembly, and electronic device
JP2012109331A (en) * 2010-11-16 2012-06-07 Nec Network Products Ltd Interposer
JPWO2012086107A1 (en) * 2010-12-24 2014-05-22 パナソニック株式会社 Electronic component mounting structure intermediate, electronic component mounting structure, and method of manufacturing electronic component mounting structure
US9041221B2 (en) 2010-12-24 2015-05-26 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Electronic component implementing structure intermediate body, electronic component implementing structure body and manufacturing method of electronic component implementing structure body
JP2013102216A (en) * 2013-01-31 2013-05-23 Shinko Electric Ind Co Ltd Wiring board
CN107978570A (en) * 2016-10-21 2018-05-01 力成科技股份有限公司 Chip-packaging structure and its manufacture method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7795743B2 (en) Wiring substrate having variously sized ball pads, semiconductor package having the wiring substrate, and stack package using the semiconductor package
JP3063032B2 (en) Ball grid array type semiconductor package and method of manufacturing the same
US5293301A (en) Semiconductor device and lead frame used therein
KR100240524B1 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
US20020140085A1 (en) Semiconductor package including passive elements and method of manufacture
US20040051170A1 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2000077563A (en) Semiconductor device and its manufacture
US20030173679A1 (en) Stacked dice standoffs
US6396142B1 (en) Semiconductor device
KR100825784B1 (en) Semiconductor package suppressing a warpage and wire open defects and manufacturing method thereof
KR20030018642A (en) Stack chip module
JP3376356B2 (en) Thin photosensitive semiconductor device
US5168345A (en) Semiconductor device having a universal die size inner lead layout
US20020079570A1 (en) Semiconductor package with heat dissipating element
JP2001085603A (en) Semiconductor device
JPH10150117A (en) Tape type ball grid array semiconductor device
JPH1065042A (en) Semiconductor device
JPH11176993A (en) Semiconductor device, manufacture thereof, circuit board, and electronic apparatus
JP2000223649A (en) Chip scale ic package for multichip
JP4038021B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JPS63190363A (en) Power package
JPH10116936A (en) Semiconductor package
JP2885786B1 (en) Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device
JP3013810B2 (en) Method for manufacturing semiconductor device
JP4677152B2 (en) Semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050601

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060516

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20060622