JPH10144579A - Producing method of semiconductor device, identification code assignment method which is used in the method, and equipment - Google Patents

Producing method of semiconductor device, identification code assignment method which is used in the method, and equipment

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JPH10144579A
JPH10144579A JP31553596A JP31553596A JPH10144579A JP H10144579 A JPH10144579 A JP H10144579A JP 31553596 A JP31553596 A JP 31553596A JP 31553596 A JP31553596 A JP 31553596A JP H10144579 A JPH10144579 A JP H10144579A
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JP
Japan
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identification code
wafer
liquid crystal
pellet
crystal mask
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Application number
JP31553596A
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Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Fujita
孝博 藤田
Kiwamu Takehisa
究 武久
Hiroshi Sadohara
寛 佐土原
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To assign different identification codes to each wafer and further to each pellet parts. SOLUTION: An identification code assignment equipment 10 consists of the following; a liquid crystal mask 13 capable of changing a pattern 25 transmitting a light, a controller 14 which changes and controls the pattern 25 of the mask 13 to a desired pattern, and an irradiating equipment 11 which casts a light on a wafer 1 by penetrating the liquid crystal mask 13. After the liquid crystal mask 13 is made to optically face pellet parts 4 of a wafer 1, a light is casted penetrating the liquid crystal mask 13, and identification codes 5 are assigned. After that, the identification codes 5 are read with an identification code reader, and processing data and inspection data are stored in a storage device, corresponding to the identification codes 5. The stored data can be retrieved with the identification codes 5 when failure analysis or the like is necessary. Thereby desired identification codes can be assigned to each pellet part of a wafer by changing the pattern of the liquid crystal mask, so that failure analysis precision or the like can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の生産
技術、特に、半導体装置の製造工程において、半導体ウ
エハ(以下、ウエハという。)に半導体装置を作り込む
所謂前工程に利用して有効なものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device production technique, and more particularly, to a semiconductor device manufacturing process, which is effective when used in a so-called pre-process for manufacturing a semiconductor device on a semiconductor wafer (hereinafter, referred to as a wafer). About things.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置の製造工程における所謂前工
程においては、ウエハ毎に個々のウエハを識別するため
の識別コードとしてロットコードおよびウエハコードを
予め付しておき、各ロットコードおよびウエハコードに
対応させてウエハの生産管理データや電気的特性に関す
る測定値等のデータを管理することにより、生産管理や
製品の特性解析、不良解析および異物解析や歩留り等を
向上させる半導体装置の生産方法が採用されている。
2. Description of the Related Art In a so-called pre-process in a manufacturing process of a semiconductor device, a lot code and a wafer code are attached in advance as identification codes for identifying individual wafers for each wafer, and each lot code and wafer code are assigned to each lot code and wafer code. Adopting a semiconductor device production method that improves production management, product characteristic analysis, failure analysis, foreign matter analysis, yield, etc. by managing wafer production management data and data such as measured values related to electrical characteristics in response Have been.

【0003】従来のこの種の半導体装置の生産方法にお
いて、ウエハの識別コードであるロットコードおよびウ
エハコードはウエハに半導体装置を転写するためのホト
マスクを使用されて半導体装置の転写と同時に各ウエハ
に付されている。
In a conventional method of manufacturing a semiconductor device of this type, a lot code and a wafer code, which are identification codes of a wafer, are transferred to each wafer simultaneously with the transfer of the semiconductor device by using a photomask for transferring the semiconductor device to the wafer. Is attached.

【0004】なお、識別コードをウエハに付する技術を
述べてある例としては、特開平6−29167号公報が
ある。
[0004] Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-29167 discloses an example of a technique for attaching an identification code to a wafer.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体装置の生産方法においては、ウエハ毎に異なるウ
エハコードを付するにはウエハ枚数分のホトマスクが必
要になるため、生産コストが大幅に高くなるという問題
点がある。また、一枚のウエハ内の異なるペレット部を
識別するためのペレット識別コード(以下、ペレットコ
ードという。)を付することは、同じ理由により実用的
には殆ど困難であるという問題点がある。
However, in the conventional method of manufacturing a semiconductor device, a photomask corresponding to the number of wafers is required to attach different wafer codes to each wafer, so that the production cost is greatly increased. There is a problem. Also, there is a problem that it is practically difficult to attach a pellet identification code (hereinafter referred to as a pellet code) for identifying different pellet portions in one wafer for the same reason.

【0006】本発明の目的は、各ウエハ毎さらにはウエ
ハ内であっても異なる識別コードを付することができる
識別コード付け技術を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an identification code attaching technique capable of attaching a different identification code to each wafer or even within a wafer.

【0007】本発明の他の目的は、その識別コード付け
技術を使用した半導体装置の生産技術を提供することに
ある。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor device production technique using the identification coding technique.

【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
The outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application is as follows.

【0010】すなわち、光を透過させるパターンを制御
可能な液晶マスクが半導体ウエハの表面における被識別
コード付け部に光学的に対向された後に、この被識別コ
ード付け部に光が液晶マスクを透過されて照射されて識
別コードが付されることを特徴とする。
That is, after a liquid crystal mask capable of controlling a pattern for transmitting light is optically opposed to a portion to be identified on the surface of the semiconductor wafer, light is transmitted through the liquid crystal mask to the portion to be identified. And is provided with an identification code.

【0011】前記した手段によれば、液晶マスクのパタ
ーンを変更することにより、所望の識別コードを半導体
ウエハの被識別コード付け部にそれぞれ付することがで
きる。したがって、各識別コードに対応させて半導体ウ
エハ毎の生産管理データや電気的特性に関する測定値等
のデータを管理することができるため、生産管理や製品
の特性解析、不良解析および異物解析や歩留り等を大幅
に向上させることができる。
According to the above-described means, a desired identification code can be attached to each of the identification code attaching portions of the semiconductor wafer by changing the pattern of the liquid crystal mask. Therefore, it is possible to manage data such as production management data for each semiconductor wafer and data such as measured values relating to electrical characteristics in accordance with each identification code, so that production management, product characteristic analysis, failure analysis, foreign substance analysis, yield, etc. Can be greatly improved.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施形態である
識別コード付け装置を示す斜視図である。図2は識別コ
ード付け方法を示す各拡大部分断面図であり、図3は同
じく(a)はウエハの平面図、(b)は識別コードパタ
ーンの平面図である。図4は本発明の一実施形態である
半導体装置の生産方法を示す模式図であり、図5は本発
明の一実施形態である半導体装置の生産方法を示す工程
図である。図6は本発明の一実施形態である半導体装置
の生産方法で使用される識別コード読取装置を示す模式
図である。図7は処理装置の一実施形態である異物検査
装置を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an identification code attaching apparatus according to an embodiment of the present invention. FIGS. 2A and 2B are enlarged partial sectional views showing an identification code attaching method. FIGS. 3A and 3B are plan views of a wafer, and FIG. 3B is a plan view of an identification code pattern. FIG. 4 is a schematic view showing a method for producing a semiconductor device according to one embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a process chart showing a method for producing a semiconductor device according to one embodiment of the present invention. FIG. 6 is a schematic diagram showing an identification code reading device used in the method of manufacturing a semiconductor device according to one embodiment of the present invention. FIG. 7 is a perspective view showing a foreign matter inspection apparatus as one embodiment of the processing apparatus.

【0013】本実施の形態に係る半導体装置の生産方法
において、図3(a)に示されているように、ワークで
あるウエハ1の第1主面2にオリエンテーションフラッ
ト3に対応して規則的に形成された各ペレット部4に
は、英文字および数字の組合せによりコード化された識
別コード5がそれぞれ付される。識別コード5はウエハ
1のロット番号を表示するロット識別コード(以下、ロ
ットコードという。)6と、当該ロット内の個々のウエ
ハ番号を表示するウエハ識別コード(以下、ウエハコー
ド)7と、当該ウエハ内の個々のペレット部の番号を表
示するペレット識別コード(以下、ペレットコードとい
う。)8とにより構成されている。識別コード5は後述
する識別コード付け装置が使用されて凹凸構造を持った
英文字および数字により描画されて形成されており、後
述する識別コード読取装置によって光学的に読み取るこ
とができるようになっている。
In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present embodiment, as shown in FIG. 3A, a first main surface 2 of a wafer 1 as a work is regularly arranged corresponding to an orientation flat 3. Each of the pellet parts 4 formed in the above is provided with an identification code 5 encoded by a combination of English characters and numerals. The identification code 5 includes a lot identification code (hereinafter, referred to as a lot code) 6 indicating the lot number of the wafer 1, a wafer identification code (hereinafter, referred to as a wafer code) 7 indicating each wafer number in the lot. A pellet identification code (hereinafter, referred to as a pellet code) 8 indicating the number of each pellet portion in the wafer. The identification code 5 is formed by drawing an alphanumeric character and a number having an uneven structure using an identification code attaching device described later, and can be optically read by an identification code reading device described later. I have.

【0014】ここで、各ペレット部4は半導体装置の製
造工程における所謂前工程において、ウエハ1の第1主
面2に製品としての半導体装置が複数個、縦横に規則的
に区画されて作り込まれた部分であり、ワークとしての
ウエハ1において、ワークの各製品部をそれぞれ実質的
に形成している。したがって、ペレットコード8は製品
識別コードとしての役割を果たすことができる。
Here, in the so-called pre-process in the manufacturing process of the semiconductor device, each of the pellet portions 4 is manufactured by dividing a plurality of semiconductor devices as products into the first main surface 2 of the wafer 1 regularly and horizontally. In the wafer 1 as a work, each product part of the work is substantially formed. Therefore, the pellet code 8 can serve as a product identification code.

【0015】図1に示されている識別コード付け装置1
0はホトレジストを感光させることができる光線を照射
する照射装置11を備えており、照射装置11の照射方
向にはミラーや各種のレンズから構成された光学系12
を介して液晶マスク13が配置されている。液晶マスク
13は液晶パネルが使用されて構成されており、光を透
過させるパターンを電気的に制御して変更し得るように
構成されている。液晶マスク13にはコントローラ14
が電気的に接続されており、コントローラ14は液晶に
印加させる電圧を制御することにより光を透過させるパ
ターンを変更させるように構成されている。
The identification code attaching device 1 shown in FIG.
Reference numeral 0 denotes an irradiation device 11 for irradiating a light beam capable of exposing the photoresist, and an irradiation direction of the irradiation device 11 is an optical system 12 including a mirror and various lenses.
The liquid crystal mask 13 is arranged via the. The liquid crystal mask 13 is configured using a liquid crystal panel, and is configured to be able to electrically control and change the pattern through which light is transmitted. The liquid crystal mask 13 has a controller 14
Are electrically connected, and the controller 14 is configured to change a pattern through which light is transmitted by controlling a voltage applied to the liquid crystal.

【0016】液晶マスク13の光学的に照射装置11と
反対側にはハーフミラー15が配置されている。ハーフ
ミラー15の反射側にはスクリーン16が配置されてお
り、スクリーン16は液晶マスク13のパターンを観察
し得るように構成されている。ハーフミラー15の透過
側にはミラー17を介して縮小レンズ18が配置されて
おり、縮小レンズ18は液晶マスク13のパターンを縮
小してウエハ1の表面に投影させるように構成されてい
る。図示しないが、識別コード付け装置10は縮小レン
ズ18のウエハ1に対する投影位置を順次変更して行け
るように構成されている。
A half mirror 15 is disposed on the optically opposite side of the liquid crystal mask 13 from the irradiation device 11. A screen 16 is arranged on the reflection side of the half mirror 15, and the screen 16 is configured so that the pattern of the liquid crystal mask 13 can be observed. A reduction lens 18 is disposed on the transmission side of the half mirror 15 via a mirror 17. The reduction lens 18 is configured to reduce the pattern of the liquid crystal mask 13 and project the pattern on the surface of the wafer 1. Although not shown, the identification code attaching device 10 is configured so that the projection position of the reduction lens 18 on the wafer 1 can be sequentially changed.

【0017】以上の構成に係る識別コード付け装置10
による本発明の一実施形態である識別コード付け方法を
図1、図2および図3を参照して説明する。
The identification code attaching device 10 according to the above configuration
An identification code attaching method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1, 2 and 3. FIG.

【0018】図1に示されている識別コード付け装置1
0によって識別コード5が付されるウエハ1には、図2
(a)に示されているように、配線金属膜21の上にホ
トレジスト22が被着されている。ホトレジスト22に
は配線パターン露光工程において感光された配線パター
ン感光部23が形成されており、この配線パターン感光
部23に基づいて後述するように金属配線24が形成さ
れる。
The identification code attaching device 1 shown in FIG.
FIG. 2 shows the wafer 1 to which the identification code 5 is assigned by “0”.
As shown in (a), a photoresist 22 is applied on the wiring metal film 21. A wiring pattern exposure portion 23 exposed in the wiring pattern exposure step is formed on the photoresist 22, and a metal wiring 24 is formed based on the wiring pattern exposure portion 23 as described later.

【0019】図1に示されているように、ウエハ1の所
定のペレット部4が縮小レンズ18の投影位置に対向さ
れると、照射装置11からの光が液晶マスク13を透過
されて図2(b)に示されているように照射されること
により、液晶マスク13に形成された識別コードパター
ン25がホトレジスト22に転写される。識別コードパ
ターン25は光を透過させる透過部25aと光を遮る遮
光部25bとから構成されており、透過部25aを透過
した光によってホトレジスト22には識別コードパター
ン感光部29が形成される。便宜上、図2(b)におい
て、液晶マスク13の識別コードパターン25は識別コ
ードパターン感光部29と等倍に示されているが、実際
には縮小レンズ18によって縮小投影されるため、識別
コードパターン感光部29よりも大きい。
As shown in FIG. 1, when a predetermined pellet portion 4 of the wafer 1 is opposed to the projection position of the reduction lens 18, light from the irradiation device 11 is transmitted through the liquid crystal mask 13 and By being irradiated as shown in (b), the identification code pattern 25 formed on the liquid crystal mask 13 is transferred to the photoresist 22. The identification code pattern 25 includes a transmission part 25a for transmitting light and a light shielding part 25b for shielding light. The light transmitted through the transmission part 25a forms an identification code pattern photosensitive part 29 in the photoresist 22. For the sake of convenience, in FIG. 2B, the identification code pattern 25 of the liquid crystal mask 13 is shown at the same magnification as the identification code pattern photosensitive portion 29. It is larger than the photosensitive section 29.

【0020】光が照射される以前に、液晶マスク13に
はこれから光を照射しようとするペレット部4に付すべ
き識別コード5に対応した識別コードパターン25がコ
ントローラ14によって、例えば図3(b)に示されて
いるように形成されている。図3(b)に示されている
識別コードパターン25は図3(a)に示されている識
別コード5に対応するロットコードパターン26、ウエ
ハコードパターン27およびペレットコードパターン2
8を備えている。例えば、識別コードパターン25のペ
レットコードパターン28はペレット部4毎にコントロ
ーラ14の制御によって順番に変更されて行く。
Before the light is irradiated, an identification code pattern 25 corresponding to the identification code 5 to be attached to the pellet portion 4 to be irradiated with the light is applied to the liquid crystal mask 13 by the controller 14, for example, as shown in FIG. It is formed as shown in FIG. The identification code pattern 25 shown in FIG. 3B corresponds to the lot code pattern 26, the wafer code pattern 27, and the pellet code pattern 2 corresponding to the identification code 5 shown in FIG.
8 is provided. For example, the pellet code pattern 28 of the identification code pattern 25 is sequentially changed for each pellet part 4 under the control of the controller 14.

【0021】必要な全てのペレット部4に識別コードパ
ターン25による識別コードパターン感光部29が形成
された後に、ウエハ1は現像処理およびエッチング処理
を施される。現像処理およびエッチング処理を施される
と、図2(c)に示されているように、ウエハ1には金
属配線24および識別コード5が配線金属膜21によっ
て形成された状態になる。
After the identification code pattern photosensitive portion 29 with the identification code pattern 25 is formed on all necessary pellet portions 4, the wafer 1 is subjected to a developing process and an etching process. After the development process and the etching process, the metal wiring 24 and the identification code 5 are formed on the wafer 1 by the wiring metal film 21 as shown in FIG.

【0022】次に、以上の識別コード付け方法によって
識別コードが付されたウエハを使用した本発明の一実施
の形態である半導体装置の生産方法を説明する。
Next, a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention using a wafer to which an identification code is attached by the above-described identification code attaching method will be described.

【0023】本実施形態においては、図6に示されてい
る識別コード読取装置が使用される。識別コード読取装
置は各処理装置毎にそれぞれ付設される。図7には識別
コード読取装置が付設された処理装置の一例としての異
物検査装置が示されている。ここで、図6に示されてい
る識別コード読取装置および図7に示されている異物検
査装置について説明する。
In this embodiment, the identification code reader shown in FIG. 6 is used. An identification code reader is provided for each processing device. FIG. 7 shows a foreign matter inspection device as an example of a processing device provided with an identification code reading device. Here, the identification code reading device shown in FIG. 6 and the foreign matter inspection device shown in FIG. 7 will be described.

【0024】異物検査装置51は機枠52およびコント
ローラ56を備えている。機枠52の上にはローディン
グステーション53およびアンローディングステーショ
ン54と、搬送装置としてのロボット(図示せず)と、
識別コード読取装置30とがそれぞれ設備されている。
ローディングステーション53は機枠52上の中央部分
における片側位置に配設されている。アンローディング
ステーション54は機枠52上の片側位置にローディン
グステーション53と横並びに配設されている。識別コ
ードを付されたウエハ1はカセット57に収納された状
態で異物検査装置51に供給される。ちなみに、各カセ
ット57には多数条の保持溝(スロット)が、多数段
(通例、25段)列設されており、保持溝内にウエハ1
がそれぞれ挿入されることにより、複数枚(通例、1ロ
ット分)のウエハ1が規則的に整列された状態で収納さ
れるようになっている。
The foreign substance inspection device 51 includes a machine frame 52 and a controller 56. On the machine frame 52, a loading station 53 and an unloading station 54, a robot (not shown) as a transfer device,
An identification code reader 30 is provided.
The loading station 53 is disposed at a position on one side of a central portion on the machine frame 52. The unloading station 54 is arranged on one side of the machine frame 52 side by side with the loading station 53. The wafer 1 provided with the identification code is supplied to the foreign matter inspection device 51 in a state of being stored in the cassette 57. Incidentally, each cassette 57 has a large number of holding grooves (slots) arranged in many stages (usually 25 stages), and wafers 1 are stored in the holding grooves.
Are inserted, a plurality of (typically, one lot) wafers 1 are stored in a regularly aligned state.

【0025】ロボットはコントローラ56により制御さ
れるアームの操作により、グリップによってローディン
グステーション53における実カセット57からウエハ
1を1枚宛取り出して識別コード読取装置30に搬送
し、さらに、ウエハ1を識別コード読取装置30から異
物検査装置51の処理室55や、アンローディングステ
ーション54へ搬送するように構成されている。
The robot operates the arm controlled by the controller 56 to take out one wafer 1 from the actual cassette 57 in the loading station 53 by a grip and transport it to the identification code reading device 30. It is configured to be transported from the reading device 30 to the processing chamber 55 of the foreign matter inspection device 51 and the unloading station 54.

【0026】識別コード読取装置30は機枠52上の後
側部分における略中央位置に配設されている。識別コー
ド読取装置30には認識ステージ31が設備されてい
る。認識ステージ31の真上には鏡筒32および画像取
り込み装置としてのテレビカメラ35がスタンド(図示
せず)によって支持されている。鏡筒32には光源34
が光ファイバ33を介して光学的に接続されており、鏡
筒32により光源34からの光が光ファイバ33を通し
て認識ステージ31に向けて調光されて照射されるよう
になっている。テレビカメラ35は認識ステージ31の
上において照明されたウエハ1の各識別コード5を順次
撮映するように構成されている。
The identification code reading device 30 is disposed at a substantially central position in a rear portion on the machine frame 52. The identification code reader 30 is provided with a recognition stage 31. Above the recognition stage 31, a lens barrel 32 and a television camera 35 as an image capturing device are supported by a stand (not shown). A light source 34 is provided in the lens barrel 32.
Are optically connected via an optical fiber 33, and light from a light source 34 is adjusted by a lens barrel 32 through the optical fiber 33 toward the recognition stage 31 so as to be irradiated. The television camera 35 is configured to sequentially capture each identification code 5 of the illuminated wafer 1 on the recognition stage 31.

【0027】テレビカメラ35には識別コード認識装置
36がケーブル36aを介して電気的に接続されてい
る。識別コード認識装置36は画像処理装置等から構成
されており、テレビカメラ35からの撮像信号に基づい
てウエハ1に付された識別コード5を認識し得るように
なっている。識別コード認識装置36にはモニタ37が
接続されており、モニタ37によりテレビカメラ35の
撮映状況がモニタリングされるようになっている。識別
コード認識装置36にはコンピュータ等から構築されて
いるデータ処理装置40が通信工学的に接続されてお
り、データ処理装置40によって後述するデータ処理が
実行されるようになっている。
An identification code recognition device 36 is electrically connected to the television camera 35 via a cable 36a. The identification code recognition device 36 is composed of an image processing device or the like, and is capable of recognizing the identification code 5 attached to the wafer 1 based on an imaging signal from the television camera 35. A monitor 37 is connected to the identification code recognizing device 36 so that the monitor 37 monitors the shooting situation of the television camera 35. A data processing device 40 constructed from a computer or the like is connected to the identification code recognizing device 36 by communication engineering, and the data processing device 40 executes data processing described later.

【0028】データ処理装置40にはメモリー41が通
信工学的に接続されている。メモリー41にはウエハに
対する処理条件に関するデータや処理結果のデータが、
ウエハ1に所定の処理を施す処理装置毎にペレットコー
ド8に対応されて記憶されるようになっており、各種の
処理条件データおよび各種の処理結果データに基づいて
ペレットコード8に対応した履歴データファイルが作成
されるようになっている。メモリー41に記憶される履
歴データファイルを異物検査装置51について例示する
と、次の表1のようになる。ここで、表1にはペレット
コード8と処理(検査)条件データおよび処理(検査)
結果データとが対応されている。
A memory 41 is connected to the data processing device 40 by communication engineering. The memory 41 stores data relating to processing conditions for the wafer and data of processing results.
History data corresponding to the pellet code 8 is stored based on various processing condition data and various processing result data for each processing apparatus that performs a predetermined processing on the wafer 1. A file is created. An example of the history data file stored in the memory 41 for the foreign substance inspection device 51 is as shown in Table 1 below. Here, Table 1 shows the pellet code 8, processing (inspection) condition data and processing (inspection).
And the result data.

【0029】 [0029]

【0030】前述したように識別コード5が付されたウ
エハ1は、複数枚がカセット57に収納された状態で、
異物検査装置51のローディングステーション53に供
給される。ローディングステーション53に供給された
ウエハ1はカセット57から1枚宛払い出されて、識別
コード読取装置30の認識ステージ31上にセットされ
る。認識ステージ31上にセットされたウエハ1は、識
別コード読取装置30によって識別コード5を読み取ら
れる。ここで、識別コード読取装置30の識別コード読
取作用を説明する。
As described above, a plurality of wafers 1 to which the identification code 5 has been attached are stored in the cassette 57.
It is supplied to the loading station 53 of the foreign substance inspection device 51. One wafer 1 supplied to the loading station 53 is paid out from the cassette 57 and set on the recognition stage 31 of the identification code reader 30. The identification code 5 of the wafer 1 set on the recognition stage 31 is read by the identification code reading device 30. Here, the identification code reading operation of the identification code reading device 30 will be described.

【0031】認識ステージ31において、図6に示され
ているように、ウエハ1は水平に支持されるとともに、
識別コード読取装置30の鏡筒32およびテレビカメラ
35に正対される。ウエハ1がテレビカメラ35に正対
されると、識別コード認識装置36において識別コード
5の読取作業が実行される。読み取られた識別コード5
は識別コード認識装置36に接続されているデータ処理
装置40に送信され、各ペレットコード8毎に処理条件
コードが照合される。
In the recognition stage 31, the wafer 1 is supported horizontally, as shown in FIG.
It faces the lens barrel 32 and the television camera 35 of the identification code reader 30. When the wafer 1 is directly opposed to the television camera 35, the identification code recognition device 36 performs the operation of reading the identification code 5. The read identification code 5
Is transmitted to the data processing device 40 connected to the identification code recognition device 36, and the processing condition code is collated for each pellet code 8.

【0032】識別コード5が読み取られた後、ワークで
あるウエハ1は処理室55にロボットにより搬送され
て、検査ステージであるXYテーブル(図示せず)上に
セットされる。続いて、異物検査装置51は設定された
処理条件に従って異物検査処理を実施する。異物検査装
置51の検査結果はメモリー41に送信されて、各識別
コード5におけるペレットコード8に対応されて記憶さ
れ、前記した表1に示されている履歴データファイルが
作成される。
After the identification code 5 is read, the wafer 1 as a work is transferred to a processing chamber 55 by a robot and set on an XY table (not shown) as an inspection stage. Subsequently, the foreign substance inspection device 51 performs the foreign substance inspection processing according to the set processing conditions. The inspection result of the foreign substance inspection device 51 is transmitted to the memory 41, stored corresponding to the pellet code 8 in each identification code 5, and the history data file shown in Table 1 is created.

【0033】異物検査装置51の処理室55に搬入され
たウエハ1について所定の異物検査が完了すると、ウエ
ハ1は処理室55から搬出されてアンローディングステ
ーション54の空カセット57に収納される。異物検査
装置51の処理室55には、識別コード読取装置30に
よって識別コード5が読み取られた次のウエハ1が搬入
される。ちなみに、次のウエハ1についての識別コード
読取作業は、前のウエハ1についての異物検査作業中に
同時進行させることができる。
When a predetermined foreign substance inspection is completed for the wafer 1 carried into the processing chamber 55 of the foreign substance inspection apparatus 51, the wafer 1 is carried out of the processing chamber 55 and stored in the empty cassette 57 of the unloading station 54. The next wafer 1 whose identification code 5 has been read by the identification code reading device 30 is carried into the processing chamber 55 of the foreign matter inspection device 51. Incidentally, the identification code reading operation for the next wafer 1 can be simultaneously performed during the foreign substance inspection operation for the previous wafer 1.

【0034】以上の作動が繰り返されることにより、異
物検査装置51において半導体装置の生産処理の一例で
ある異物検査がワークである各ウエハ1について順次実
施されて行く。
By repeating the above operations, the foreign substance inspection apparatus 51 sequentially performs the foreign substance inspection, which is an example of the semiconductor device production processing, on each wafer 1 as a work.

【0035】便宜上、説明は省略するが、以上の異物検
査装置51における作用と同様にして、各工程の処理装
置においても同一のペレットコードに照合されて前記し
た表1に示されている履歴データファイルが順次作成さ
れる。
For the sake of convenience, the description is omitted, but in the same manner as in the above-described operation of the foreign matter inspection device 51, the history data shown in Table 1 above is collated with the same pellet code in the processing device of each process. Files are created sequentially.

【0036】以上のようにして作成された履歴データフ
ァイルは、ウエハ1におけるペレット部4の特性解析、
不良解析および異物解析等に適宜利用される。この場
合、履歴データファイルには各ウエハ1毎の各ペレット
部4毎に履歴データが整理されているため、各ペレット
部4毎の解析が可能になり、解析の精度はきわめて高め
られることになる。
The history data file created as described above is used for analyzing the characteristics of the pellet portion 4 of the wafer 1,
It is used as appropriate for failure analysis and foreign matter analysis. In this case, since the history data is organized in the history data file for each of the pellets 4 of each of the wafers 1, the analysis of each of the pellets 4 becomes possible, and the accuracy of the analysis is extremely enhanced. .

【0037】また、データ処理装置40は各ウエハ1が
各工程を通過する時に、各識別コード読取装置から送信
されて来るデータに基づいて、工程進度、工程完了予測
日時、生産計画変更に関するデータフアイル(図示せ
ず)を作成する。この場合、このデータファイルには各
ウエハ1毎の各ペレット部4にデータが整理されている
ため、ウエハ1のペレット部4毎の生産管理が可能にな
り、管理の精度はきわめて高められることになる。
Further, the data processing unit 40, based on the data transmitted from each identification code reading device when each wafer 1 passes through each process, processes the progress of the process, the date and time of completion of the process, and the data file relating to the change of the production plan. (Not shown). In this case, since the data is organized in each pellet section 4 of each wafer 1 in this data file, production control of each pellet section 4 of the wafer 1 becomes possible, and the precision of the management is extremely enhanced. Become.

【0038】その後、半導体装置の生産工程における所
謂後工程において、ウエハ1は各ペレット部4毎にダイ
シングされた後に、各ペレット毎に組み立てられパッケ
ージングされて電気的特性検査を実施され、良品だけが
市場に出荷される。
Thereafter, in a so-called post-process in the production process of the semiconductor device, the wafer 1 is diced for each of the pellet portions 4 and then assembled and packaged for each of the pellets, and an electrical characteristic test is performed. Will be shipped to the market.

【0039】万一、パッケージング後にペレットに故障
が発見された場合には、故障のペレットに付された識別
コード5が識別コード読取装置によって読み取られ、ペ
レットの故障原因等の解析が実施される。この場合、メ
モリー41の履歴データファイルには各ウエハ1毎でか
つ各ペレット部4毎に履歴データが整理されているた
め、各ペレット毎の故障解析が可能になり、故障原因の
解析の精度はきわめて高められることになる。
If a failure is found in the pellet after packaging, the identification code 5 attached to the failed pellet is read by the identification code reader, and the cause of the failure of the pellet is analyzed. . In this case, since the history data is stored in the history data file of the memory 41 for each wafer 1 and for each pellet portion 4, it is possible to perform failure analysis for each pellet, and the accuracy of failure cause analysis is high. It will be greatly enhanced.

【0040】前記実施例によれば次の効果が得られる。 光を透過させるパターンを制御可能な液晶マスクを
使用して識別コードをウエハに付するように構成するこ
とにより、液晶マスクのパターンを変更することによっ
て識別コードの内容を順次変更して行くことができるた
め、各ペレット部毎に異なるペレットコードを付するこ
とができる。
According to the above embodiment, the following effects can be obtained. By using a liquid crystal mask capable of controlling a pattern for transmitting light, the identification code is attached to the wafer, so that the contents of the identification code can be sequentially changed by changing the pattern of the liquid crystal mask. Therefore, a different pellet code can be assigned to each pellet portion.

【0041】 前記により、同一のウエハ内の各ペ
レットコードに対応させてウエハの生産管理データや処
理条件データおよび検査結果データ等の履歴データファ
イルを作成することができるため、半導体装置の生産方
法における生産管理や特性解析、不良解析および異物解
析の精度を大幅に向上させることができ、ひいては半導
体装置の生産方法の歩留りや生産効率等を大幅に向上さ
せることができる。
As described above, a history data file such as wafer production management data, processing condition data, and inspection result data can be created corresponding to each pellet code in the same wafer. The accuracy of production management, characteristic analysis, failure analysis, and foreign substance analysis can be greatly improved, and the yield and production efficiency of the semiconductor device production method can be greatly improved.

【0042】 万一、パッケージング後にペレットに
故障が発見された場合には、故障のペレットに付された
識別コードを読み取ることにより、ペレットの故障原因
等の解析を実施することができ、しかも、履歴データフ
ァイルには各ウエハ毎でかつ各ペレット部毎に履歴デー
タが整理されているため、各ペレット毎の故障解析が可
能になり、高い解析精度を達成することができる。
If a failure is found in the pellet after packaging, by reading the identification code attached to the failed pellet, it is possible to analyze the cause of the failure of the pellet and the like. Since history data is organized in the history data file for each wafer and for each pellet, failure analysis can be performed for each pellet, and high analysis accuracy can be achieved.

【0043】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment, the invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say.

【0044】例えば、識別コードは英字や数字等を使用
して構成するに限らず、バーコードやペリコード等を使
用して構成してもよい。
For example, the identification code is not limited to the configuration using alphabetic characters or numbers, but may be configured using a barcode, a pericode, or the like.

【0045】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野である異物検
査技術に適用した場合について説明したが、それに限定
されるものではなく、半導体装置の生産工程全般に適用
することができる。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the foreign matter inspection technology which is the background of the application has been described. However, the present invention is not limited to this. Can be applied generally.

【0046】[0046]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
The effects obtained by typical aspects of the invention disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0047】光を透過させるパターンを制御可能な液晶
マスクを使用して識別コードをウエハに付するように構
成することにより、液晶マスクのパターンを変更するこ
とによって識別コードの内容を順次変更して行くことが
できるため、各ペレット部毎に異なるペレットコードを
付することができる。
The identification code is attached to the wafer by using a liquid crystal mask capable of controlling a pattern through which light is transmitted. By changing the pattern of the liquid crystal mask, the contents of the identification code are sequentially changed. Since it is possible to go, a different pellet code can be assigned to each pellet portion.

【0048】同一のウエハ内の各ペレットコードに対応
させてウエハの生産管理データや処理条件データおよび
検査結果データ等のデータファイルを作成することがで
きるため、半導体装置の生産方法における生産管理や特
性解析、不良解析および異物解析の精度を大幅に向上さ
せることができ、ひいては半導体装置の生産方法の歩留
りや生産効率等を大幅に向上させることができる。
Since a data file such as wafer production management data, processing condition data, and inspection result data can be created corresponding to each pellet code in the same wafer, production management and characteristics in a semiconductor device production method can be achieved. The accuracy of analysis, failure analysis, and foreign matter analysis can be greatly improved, and the yield, production efficiency, and the like of a semiconductor device production method can be greatly improved.

【0049】万一、パッケージング後にペレットに故障
が発見された場合には、故障のペレットに付された識別
コードを読み取ることにより、ペレットの故障原因等の
解析を実施することができ、しかも、データファイルに
は各ウエハ毎でかつ各ペレット部毎に履歴データが整理
されているため、各ペレット毎の故障解析が可能にな
り、高い解析精度を達成することができる。
If a failure is found in the pellet after packaging, by reading the identification code attached to the failed pellet, it is possible to analyze the cause of the failure of the pellet, etc. Since the history data is arranged in the data file for each wafer and for each pellet portion, failure analysis for each pellet can be performed, and high analysis accuracy can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態である識別コード付け装置
を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an identification code attaching device according to an embodiment of the present invention.

【図2】識別コード付け方法を示しており、(a)は識
別コードが付される前の拡大断面図、(b)は識別コー
ドが付される途中の拡大断面図、(c)は識別コードが
付された後の拡大断面図である。
FIGS. 2A and 2B show an identification code attaching method, wherein FIG. 2A is an enlarged sectional view before an identification code is attached, FIG. It is an expanded sectional view after a code is attached.

【図3】同じく識別コード付け方法を示しており、
(a)はウエハを示す平面図、(b)は識別コードパタ
ーンの平面図である。
FIG. 3 also shows an identification code attaching method,
(A) is a plan view showing a wafer, and (b) is a plan view of an identification code pattern.

【図4】本発明の一実施形態である半導体装置の生産方
法を示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic view illustrating a method for producing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図5】同じく工程図である。FIG. 5 is a process drawing similarly.

【図6】本発明の一実施形態である半導体装置の生産方
法に使用されるコード読取装置を示す模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a code reader used in a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図7】処理装置の一実施形態である異物検査装置を示
す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a foreign matter inspection apparatus as one embodiment of the processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ウエハ、2…第1主面、3…オリエンテーションフ
ラット、4…ペレット部、5…識別コード、6…ロット
番号を表示するロット識別コード(ロットコード)、7
…ウエハ番号を表示するウエハ識別コード(ウエハコー
ド)、8…ペレット番号を表示するペレット識別コード
(ペレットコード)、10…識別コード付け装置、11
…照射装置、12…光学系、13…液晶マスク、14…
コントローラ、15…ハーフミラー、16…スクリー
ン、17…ミラー、18…縮小レンズ、21…配線金属
膜、22…ホトレジスト、23…配線パターン感光部、
24…金属配線、25…識別コードパターン、25a…
透過部、25b…遮光部、26…ロットコードパター
ン、27…ウエハコードパターン、28…ペレットコー
ドパターン、29…識別コードパターン感光部、30…
識別コード読取装置、31…認識ステージ、32…鏡
筒、33…光ファイバ、34…光源、35…テレビカメ
ラ、36…識別コード認識装置、36a…ケーブル、3
7…モニタ、40…データ処理装置、41…メモリー、
51…異物検査装置、52…機枠、53…ローディング
ステーション、54…アンローディングステーション、
55…処理室、56…コントローラ、57…カセット。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Wafer, 2 ... 1st main surface, 3 ... Orientation flat, 4 ... Pellet part, 5 ... Identification code, 6 ... Lot identification code (lot code) which displays a lot number, 7
... Wafer identification code (wafer code) for displaying wafer number, 8 ... Pellet identification code (pellet code) for displaying pellet number, 10 ... Identification code attaching device, 11
... irradiation device, 12 ... optical system, 13 ... liquid crystal mask, 14 ...
Controller, 15: half mirror, 16: screen, 17: mirror, 18: reduction lens, 21: wiring metal film, 22: photoresist, 23: wiring pattern photosensitive part,
24 ... metal wiring, 25 ... identification code pattern, 25a ...
Transmissive part, 25b ... light shielding part, 26 ... lot code pattern, 27 ... wafer code pattern, 28 ... pellet code pattern, 29 ... identification code pattern photosensitive part, 30 ...
Identification code reader, 31: recognition stage, 32: lens barrel, 33: optical fiber, 34: light source, 35: television camera, 36: identification code recognition device, 36a: cable, 3
7 monitor, 40 data processing device, 41 memory
51: foreign matter inspection device, 52: machine frame, 53: loading station, 54: unloading station,
55: processing chamber, 56: controller, 57: cassette.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武久 究 茨城県日立市幸町三丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 佐土原 寛 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kaoru Takehisa 3-1-1, Sachimachi, Hitachi-City, Ibaraki Prefecture Inside the Hitachi Works, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Hiroshi Sadohara 5-Chome, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo No. 20 No. 1 Semiconductor Division, Hitachi, Ltd.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体装置が作り込まれる半導体ウエハ
の表面に半導体ウエハを識別するための識別コードが、
光を透過させるパターンを制御可能な液晶マスクによっ
て付される識別コード付け工程と、 前記識別コードが読み取られる識別コード読取工程と、 を備えていることを特徴とする半導体装置の生産方法。
An identification code for identifying a semiconductor wafer is provided on a surface of a semiconductor wafer on which a semiconductor device is formed,
A method for producing a semiconductor device, comprising: an identification code attaching step provided by a liquid crystal mask capable of controlling a light transmitting pattern; and an identification code reading step for reading the identification code.
【請求項2】 前記識別コードが、前記半導体ウエハに
複数個宛作り込まれる各半導体装置毎に対応するペレッ
ト部にそれぞれ形成されるペレット識別コードを備えて
いることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の生
産方法。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the identification code includes a pellet identification code formed on a pellet portion corresponding to each semiconductor device to be formed on the semiconductor wafer. The production method of the semiconductor device according to the above.
【請求項3】 前記識別コードが付された半導体ウエハ
に関する履歴が前記識別コードに対応されて記憶される
ことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置
の生産方法。
3. The method according to claim 1, wherein a history of the semiconductor wafer to which the identification code is attached is stored in correspondence with the identification code.
【請求項4】 前記半導体ウエハが各ペレット部毎に分
断された後に前記ペレット識別コードが読み取られて、
ペレット識別コードに対応する前記履歴が検索されるこ
とを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の生産方
法。
4. The pellet identification code is read after the semiconductor wafer is divided into each pellet portion,
4. The method according to claim 3, wherein the history corresponding to the pellet identification code is searched.
【請求項5】 前記識別コードが前記半導体ウエハの表
面に前記液晶マスクによって焼き付けされてリソグラフ
ィー処理によって付され、かつまた、光学的手段によっ
て読み取られるように構成されていることを特徴とする
請求項1、2、3または4に記載の半導体装置の生産方
法。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein the identification code is printed on the surface of the semiconductor wafer by the liquid crystal mask, applied by a lithography process, and read by optical means. 5. The method for producing a semiconductor device according to 1, 2, 3, or 4.
【請求項6】 請求項1に記載の半導体装置の生産方法
に使用される識別コード付け方法であって、 前記半導体ウエハの表面における被識別コード付け部に
前記液晶マスクが光学的に対向された後に、この被識別
コード付け部に光が液晶マスクを透過されて照射されて
識別コードが付されることを特徴とする識別コード付け
方法。
6. An identification code attaching method used in the method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the liquid crystal mask is optically opposed to the identification attached portion on the surface of the semiconductor wafer. Thereafter, light is transmitted through the liquid crystal mask and illuminated to the identification code attaching portion, and an identification code is attached thereto.
【請求項7】 前記被識別コード付け部毎に前記液晶マ
スクのパターンが所望のパターンにそれぞれ変更される
ことを特徴とする請求項6に記載の識別コード付け方
法。
7. The identification code attaching method according to claim 6, wherein a pattern of the liquid crystal mask is changed to a desired pattern for each of the identification code attaching portions.
【請求項8】 請求項1に記載の半導体装置の生産方法
に使用される識別コード付け装置であって、 前記半導体ウエハの表面における被識別コード付け部に
前記液晶マスクが光学的に対向された後に、この被識別
コード付け部に光が液晶マスクを透過されて照射されて
識別コードが付されることを特徴とする識別コード付け
装置。
8. An identification code attaching device used in the method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the liquid crystal mask is optically opposed to an identification target attaching portion on a surface of the semiconductor wafer. An identification code attaching apparatus, characterized in that light is transmitted through the liquid crystal mask and illuminated on the identified code attaching section, so that an identification code is attached.
【請求項9】 光を透過させるパターンを変更可能な液
晶マスクと、この液晶マスクのパターンを所望のパター
ンに変更制御するコントローラと、光を前記液晶マスク
を透過させて前記半導体ウエハに照射する照射装置とを
備えていることを特徴とする請求項8に記載の識別コー
ド付け装置。
9. A liquid crystal mask capable of changing a pattern for transmitting light, a controller for changing and controlling a pattern of the liquid crystal mask to a desired pattern, and an irradiation for transmitting light to the semiconductor wafer through the liquid crystal mask. 9. The identification code attaching device according to claim 8, comprising a device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013120881A (en) * 2011-12-08 2013-06-17 Nichia Chem Ind Ltd Substrate manufacturing method

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