JPH10143859A - Substrate for magnetic recording medium and production of magnetic recording medium - Google Patents

Substrate for magnetic recording medium and production of magnetic recording medium

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JPH10143859A
JPH10143859A JP8295458A JP29545896A JPH10143859A JP H10143859 A JPH10143859 A JP H10143859A JP 8295458 A JP8295458 A JP 8295458A JP 29545896 A JP29545896 A JP 29545896A JP H10143859 A JPH10143859 A JP H10143859A
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JP
Japan
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laser
substrate
height
magnetic
recording medium
Prior art date
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Pending
Application number
JP8295458A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fuyuki Haniyu
冬樹 羽生
Akio Masui
暁夫 増井
Atsuyoshi Takenaka
敦義 竹中
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Asahi Komag Co Ltd
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Asahi Komag Co Ltd
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Publication date
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  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to control the height of the projecting parts of laser marks to values of a specific range by irradiating a substantially flat nonmagnetic brittle substrate with a laser beam and forming plural sets of the laser marks having the projecting parts in at least part thereof on the surface of the substrate, then subjecting the parts inclusive of the laser marks to a heat treatment. SOLUTION: The laser marks 3 having the projecting parts in at least part are formed by irradiation with the laser on the part on the side to be formed with the magnetic layer 2 of the nonmagnetic brittle substrate 1 consisting of a glass material, glass ceramic material, ceramic material, etc. The magnetic layer 2 is a ferromagnetic alloy of a Co alloy system having, for example, 50 to 500A thickness and is formed by a sputtering method, etc. After the laser marks 3 are formed, the parts of the substrate 1 inclusive of the laser marks are heat treated. The substrate is heated up, is held at the temp. and is then lowered more gently as compared with the cooling temp. arising in a laser process, by which the height of the laser marks 3 is controlled to 10 to 500A.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体用基
板および磁気記録媒体の製造方法に関する。
The present invention relates to a magnetic recording medium substrate and a method for manufacturing a magnetic recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録媒体が内部に装填されているハ
ードディスクドライブ装置は、磁気記録媒体の他に、少
なくとも磁気記録媒体に磁気記録・再生をするための磁
気記録ヘッド、磁気記録媒体の回転や磁気記録ヘッドの
駆動を司るメカトロ部、記録再生のための信号を処理す
る信号処理部より構成されている。
2. Description of the Related Art A hard disk drive in which a magnetic recording medium is loaded has a magnetic recording medium, a magnetic recording head for performing magnetic recording / reproduction on at least the magnetic recording medium, a rotation of the magnetic recording medium, and the like. It comprises a mechatronic unit for driving the magnetic recording head and a signal processing unit for processing signals for recording and reproduction.

【0003】この円盤状の磁気記録媒体(以下、ディス
クともいう)は、その機能によって磁気記録ヘッド(以
下、ヘッドともいう)が静止・接触している環状のラン
ディング領域とデータの記録再生を行う環状のデータ領
域に分けられる。ハードディスクドライブ装置における
ヘッドの操動は、一般的にはコンタクト・スタート・ス
トップ(CSS)方式が用いられている。
The disk-shaped magnetic recording medium (hereinafter, also referred to as a disk) records and reproduces data with an annular landing area where a magnetic recording head (hereinafter, also referred to as a head) is stationary and in contact with the disk by its function. It is divided into annular data areas. In general, a contact start / stop (CSS) method is used for operating a head in a hard disk drive.

【0004】CSS方式においては、磁気記録媒体が静
止状態にあるときには、ヘッドはディスク上のランディ
ング領域に静止・接触している。ディスクが回転を始め
ると、ディスクの表面と空気の粘性によって発生する空
気流がヘッドとディスクの間隙に流入し、ヘッドの浮上
が発生する。この状態では、ヘッドはディスク上を極薄
の空気層を介して滑空しているため、データ領域内の所
望の記録・再生位置に、ディスクとヘッドの望まざる物
理接触をすることなしに、滑らかかつ高速に移動させう
る。また、ヘッドはランディング領域に移動後、ディス
クの回転を減速・停止させることにより浮揚力を失い、
ディスク上に再び接触・静止する。
In the CSS system, when the magnetic recording medium is stationary, the head is stationary and in contact with the landing area on the disk. When the disk starts rotating, the air flow generated by the viscosity of the surface of the disk and the air flows into the gap between the head and the disk, causing the head to fly. In this state, since the head glide on the disk through an extremely thin air layer, the head can smoothly move to a desired recording / reproducing position in the data area without making an undesired physical contact between the disk and the head. It can be moved at high speed. Also, after moving to the landing area, the head loses buoyancy by decelerating and stopping the rotation of the disk,
Touch and rest on the disc again.

【0005】このハードディスクドライブ装置において
は、記録密度を向上させるために、ヘッドを極限までデ
ィスクに接近させる必要があり、データの記録再生が行
われるデータ領域においてはディスク表面が究極的に滑
らかであることが要求される。最近では、ヘッドのディ
スク表面からの飛翔高さは、高記録密度を達成するため
に、500Å以下、さらに望ましくは300Å以下が要
求されている。
In this hard disk drive, the head must be brought as close as possible to the disk in order to improve the recording density, and the disk surface is ultimately smooth in the data area where data is recorded and reproduced. Is required. Recently, the flying height of the head from the disk surface has been required to be 500 ° or less, more preferably 300 ° or less in order to achieve high recording density.

【0006】一方、ディスクとヘッドの間には、それら
が静止・接触している状態では、摩擦力が働いている。
ディスクの表面が滑らかに過ぎ、この静止摩擦力がモー
ターのトルクより大きくなると(スティクションと呼ば
れる)、ディスクは回転できない。また、この大きな静
止摩擦力に抗して、さらに大きなモータートルクでディ
スクを無理に回転させようとすると、ヘッドがディスク
との吸着状態から脱するときに発生する不安定な振動な
どによりディスクを破損することがある。
On the other hand, a frictional force acts between the disk and the head when they are stationary or in contact with each other.
If the surface of the disk is too smooth and this static friction is greater than the motor torque (called stiction), the disk cannot rotate. Also, if you try to forcibly rotate the disk with a larger motor torque against this large static friction force, the disk will be damaged due to unstable vibrations that occur when the head comes out of the suction state with the disk, etc. May be.

【0007】これらの問題を克服するために、少なくと
もランディング領域では、ディスク面上にテクスチャと
呼ばれる制御された粗さを積極的に付与することによっ
て、ディスクとヘッドの間の摩擦力を低減させる方法が
採られている。
[0007] In order to overcome these problems, at least in the landing area, a method of reducing the frictional force between the disk and the head by actively applying a controlled roughness called a texture on the disk surface. Is adopted.

【0008】また一方では、ディスク用の基板として、
従来はNiPに代表される合金をメッキしたアルミニウ
ム基板が用いられてきたが、優れた表面の平滑加工性、
耐衝撃性や高回転特性などからガラス材料に代表される
非磁性脆性基体が用いられてきている。
On the other hand, as a substrate for a disk,
Conventionally, an aluminum substrate plated with an alloy represented by NiP has been used.
A nonmagnetic brittle substrate represented by a glass material has been used because of its impact resistance and high rotation characteristics.

【0009】このように、当技術分野においては、飛翔
高さを下げるための表面の平滑化と耐スティクションの
ための粗面化という背反する要求がある。この背反する
2つの要求を高い次元で実現させるために、当技術分野
の専門家はテクスチャ加工における有用な技法をいくつ
か提案してきた。
As described above, there are conflicting demands in the art for smoothing the surface to reduce the flying height and roughening the surface for stiction resistance. To fulfill these two conflicting requirements on a high level, experts in the art have proposed several useful techniques in texturing.

【0010】このうちよく制御された均質なテクスチャ
を形成する方法として、レーザーによるテクスチャ(以
下、レーザーテクチャという)加工法が、特開昭63−
275029号、米国特許第5062021号、米国特
許第5108781号、特開平8−106630号によ
り提案されている。また、関連技術は“A New LaserTex
turing Technique for High Performance Magnetic Dis
k Drives ”IEEE Trans.Mag.,Vol.31,pp2946-2951,1995
に詳細に記述されている。
As a method for forming a well-controlled and homogeneous texture, a texture processing method using a laser (hereinafter referred to as a laser texture) is disclosed in
No. 275029, U.S. Pat. No. 5,620,221, U.S. Pat. No. 5,108,781 and JP-A-8-106630. The related technology is “A New LaserTex
turing Technique for High Performance Magnetic Dis
k Drives ”IEEE Trans.Mag., Vol.31, pp2946-2951,1995
Is described in detail.

【0011】これらはレーザー被加工材質として金属や
金属合金を対象としている。これらの材料に対するレー
ザー加工のメカニズムは、レーザー照射により加工領域
内に温度分布が生じ、それに対応して照射領域内に表面
張力の分布が発生し、その表面張力に対応した材料の再
配置、引き続く固化によるといわれており、これらと加
工メカニズムを異にするガラス基板、ガラスセラミック
ス基板、カーボン基板などの脆性基体の加工については
考慮されてなく、具体的な方法も提案されていない。
[0011] These are intended for metals and metal alloys as laser processing materials. The mechanism of laser processing for these materials is that the laser irradiation produces a temperature distribution in the processing area, a corresponding surface tension distribution in the irradiation area, and rearrangement of the material corresponding to the surface tension, followed by It is said to be due to solidification, and no consideration has been given to the processing of brittle substrates such as glass substrates, glass ceramic substrates, and carbon substrates, which have different processing mechanisms, and no specific method has been proposed.

【0012】また、特開平7−182655号では、熱
衝撃限界フルエンス・レベルを有する脆性材料表面に対
して固有のレーザー加工方法を、すなわち、それより上
ではヘア・ライン・クラックや材料の噴出の発生する熱
衝撃フルエンス限界よりも低くエネルギーフルエンスを
正確に制御した単一レーザーパルスを使用してガラスデ
ィスク表面に再現性の高い隆起を形成する方法を提案し
ている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-182655 discloses a laser processing method peculiar to a surface of a brittle material having a thermal shock limit fluence level, that is, a method of generating a hair line crack or a material ejection above it. We propose a method of forming a highly reproducible bump on the surface of a glass disk using a single laser pulse whose energy fluence is precisely controlled below the thermal shock fluence limit to be generated.

【0013】上記特開平7−182655号では、金属
や合金と加工メカニズムを異にする脆性材料の加工方法
について提案しているが、そこに記載されているように
脆性基板においては、照射エネルギー量の変化に対して
加工されて形成した隆起の変化が急峻であるために、レ
ーザーの出力の微弱な変動によって隆起の高さが大きく
変動し、再現性の高い隆起を形成することが難しく、と
りわけ当技術分野で要求されている微小高さの隆起を再
現性よく形成することが難しい。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-182655 proposes a method of processing a brittle material having a different processing mechanism from that of a metal or an alloy. The height of the ridge changes greatly due to the slight change in the laser output because of the sharp change in the ridge formed by the processing of the ridge, making it difficult to form a ridge with high reproducibility. It is difficult to form a micro-height ridge required in the art with good reproducibility.

【0014】最近のハードディスクドライブにおいて
は、いっそうの高密度化のためにヘッドが従来に比べい
っそう低く飛翔することが求められている。一方、ヘッ
ドの可能最低飛翔高さはテクスチャの山の最大高さによ
って決定されるがために、隆起高さを500Å以下、さ
らに望ましくは300Å以下に極微小制御することが要
求される。加えて、これらのテクスチャを構成する微小
レーザーマークは、CSSの際のディスクとヘッドの接
触・摺動に充分耐えるためには、その高さのばらつきも
厳しく制御されることが必要である。
In recent hard disk drives, it is required that the head flies lower than before in order to achieve higher density. On the other hand, since the lowest possible flying height of the head is determined by the maximum height of the texture peak, it is required to control the height of the protrusion to 500 ° or less, more preferably 300 ° or less. In addition, in order to withstand the contact / sliding of the disk and the head during CSS, the minute laser marks constituting these textures also need to be strictly controlled in height variations.

【0015】上記提案は、このレーザーマークの微小高
さの制御に関して深い考慮がされてなく、レーザーマー
クの高さを500Å以下、望ましくは300Å以下の微
小高さに精度よく制御することに関して、改善の必要が
感じられる。
[0015] The above proposal does not consider the control of the minute height of the laser mark in detail, and improves the precision of controlling the height of the laser mark to a minute height of 500 ° or less, preferably 300 ° or less. I feel the need.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ガラ
ス、ガラスセラミックス、セラミックス、またはその他
の非磁性脆性基板または該基板を用いた磁気記録媒体の
製造方法、特にレーザー光照射によるテクスチャの形成
において、テクスチャを構成するレーザーマークの高さ
を所望の微小高さに精度よく制御できる磁気記録媒体用
基板または磁気記録媒体の製造方法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a glass, glass ceramics, ceramics or other non-magnetic brittle substrate or a magnetic recording medium using the substrate, and in particular, to form a texture by irradiating a laser beam. The object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic recording medium substrate or a magnetic recording medium capable of accurately controlling the height of a laser mark constituting a texture to a desired minute height.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明は、実質的に平坦
な非磁性脆性基板の複数の箇所にレーザー光を照射する
ことにより少なくとも一部に凸状の部分をもつ複数個の
レーザーマークを該表面に形成し、かつ前記基板の少な
くとも該レーザーマークを含む部分に熱処理を施すこと
により、該レーザーマークの凸状部の高さHを10〜5
00Åの範囲に制御することを特徴とする磁気記録媒体
用基板の製造方法を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a plurality of laser marks having at least partially convex portions are formed by irradiating a plurality of portions of a substantially flat non-magnetic brittle substrate with laser light. By forming a heat treatment on at least a portion of the substrate including the laser mark on the surface, the height H of the convex portion of the laser mark is set to 10 to 5
A method for manufacturing a substrate for a magnetic recording medium, characterized in that the method is controlled to be in the range of 00 °.

【0018】また本発明は、実質的に平坦な非磁性脆性
基板の複数の箇所にレーザー光を照射することにより少
なくとも一部に凸状の部分をもつ複数個のレーザーマー
クを該表面に形成し、かつ前記基板の少なくとも該レー
ザーマークを含む部分に熱処理を施すことにより、該レ
ーザーマークの凸状部の高さHが10〜500Åの範囲
に制御されてなる磁気記録媒体用基板を得る基板製造工
程と、該基板の表面に磁性膜およびまたはその他の所要
の膜を形成する膜形成工程とからなることを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法を提供する。
Further, according to the present invention, a plurality of laser marks having at least a portion having a convex portion are formed on the substantially flat nonmagnetic brittle substrate by irradiating the plurality of portions with a laser beam. A substrate manufacturing method for obtaining a substrate for a magnetic recording medium in which a height H of a convex portion of the laser mark is controlled in a range of 10 to 500 ° by subjecting at least a portion including the laser mark of the substrate to heat treatment. And a film forming step of forming a magnetic film and / or other necessary films on the surface of the substrate.

【0019】また本発明は、非磁性脆性基板上に磁性膜
およびその他の所要の膜を有する磁気記録媒体の製造方
法において、実質的に平坦な非磁性脆性基板の表面の複
数の箇所にレーザー光を照射することにより少なくとも
一部に凸状の部分をもつ複数個のレーザーマークを該表
面に形成する工程と、該表面に磁性膜およびまたはその
他の所要の膜を形成する膜形成工程と、該膜形成工程に
おいて行う熱処理の工程とからなり、該熱処理の工程に
より前記膜形成後の最表面に保存されるレーザーマーク
の凸状部の高さHを10〜500Åの範囲に制御するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供する。
The present invention also relates to a method of manufacturing a magnetic recording medium having a magnetic film and other required films on a non-magnetic brittle substrate, wherein the laser beam is applied to a plurality of locations on the substantially flat surface of the non-magnetic brittle substrate. Forming a plurality of laser marks having a convex portion on at least a part of the surface by irradiating the surface, a film forming step of forming a magnetic film and or other required film on the surface, A heat treatment step performed in the film forming step, wherein the height H of the convex portion of the laser mark stored on the outermost surface after the film formation is controlled in the range of 10 to 500 ° by the heat treatment step. And a method for manufacturing a magnetic recording medium.

【0020】また本発明は、非磁性脆性基板上に磁性膜
およびその他の所要の膜を有する磁気記録媒体の製造方
法において、実質的に平坦な非磁性脆性基板の表面の複
数の箇所にレーザー光を照射することにより少なくとも
一部に凸状の部分をもつ複数個のレーザーマークを該表
面に形成する工程と、該表面に磁性膜およびまたはその
他の所要の膜を形成する膜形成工程と、該膜形成工程の
後に行う熱処理の工程とからなり、該熱処理の工程によ
り前記膜形成後の最表面に保存されるレーザーマークの
凸状部の高さHを10〜500Åの範囲に制御すること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供する。
The present invention also relates to a method of manufacturing a magnetic recording medium having a magnetic film and other required films on a non-magnetic brittle substrate, wherein the laser beam is applied to a plurality of locations on the substantially flat surface of the non-magnetic brittle substrate. Forming a plurality of laser marks having a convex portion on at least a part of the surface by irradiating the surface, a film forming step of forming a magnetic film and or other required film on the surface, A heat treatment step to be performed after the film formation step, wherein the heat treatment step controls the height H of the convex portion of the laser mark stored on the outermost surface after the film formation in a range of 10 to 500 °. A method for manufacturing a magnetic recording medium is provided.

【0021】上記の熱処理とは、室温から温度T1 まで
の昇温工程と、温度T1 に保持する保持工程と、温度T
1 から室温までの降温工程とを含む。
The heat treatment includes a step of raising the temperature from room temperature to a temperature T 1 , a step of maintaining the temperature at T 1 ,
A temperature lowering step from 1 to room temperature.

【0022】ここで非磁性脆性基板とは、ガラス、ガラ
スセラミック(結晶化ガラス)、またはセラミックス等
のバルク材料からなる基板、またはレーザーマークを形
成するのに充分な厚さの上記非磁性脆性材料を他の材料
基板に積層してなる基板である。
Here, the nonmagnetic brittle substrate is a substrate made of a bulk material such as glass, glass ceramic (crystallized glass) or ceramics, or the above nonmagnetic brittle material having a thickness sufficient for forming a laser mark. Is laminated on another material substrate.

【0023】本発明において、非磁性脆性基板がガラス
からなる場合には、上記熱処理は室温から該ガラスの徐
冷点を超えない温度Tまでの昇温工程と、該温度Tに保
持する保持工程と、前記温度Tから室温までの降温工程
とを含むのが好ましい。
In the present invention, when the non-magnetic brittle substrate is made of glass, the heat treatment includes a step of raising the temperature from room temperature to a temperature T which does not exceed the annealing point of the glass, and a step of holding the glass at the temperature T. And a step of lowering the temperature from the temperature T to room temperature.

【0024】ここで、実質的に平坦な非磁性脆性基体表
面上の部分にレーザー光を照射することにより該表面の
少なくとも一部に凸状の部分をもつレーザーマークを複
数個形成する工程をレーザープロセスとも呼ぶ。レーザ
ープロセスは、レーザー照射による昇温過程と、レーザ
ーの照射停止後の冷却過程を伴う。
Here, the step of irradiating a laser beam onto a substantially flat surface of the nonmagnetic brittle substrate to form a plurality of laser marks having a convex portion on at least a part of the surface is performed by a laser. Also called a process. The laser process involves a temperature raising process by laser irradiation and a cooling process after stopping laser irradiation.

【0025】前記した温度T1 またはTから室温までの
降温速度は、上記冷却過程の冷却速度より充分遅く選ぶ
ことが適切である。
It is appropriate to select the cooling rate from the temperature T 1 or T to the room temperature sufficiently lower than the cooling rate in the cooling step.

【0026】熱処理工程における加熱の方法としては、
電気炉、オーブン、赤外線放射等による方法を使用で
き、また対流型、放射型、電動型の加熱方式がいずれも
使用しうる。
As a heating method in the heat treatment step,
A method using an electric furnace, an oven, infrared radiation, or the like can be used, and any of a convection type, a radiation type, and an electric type can be used.

【0027】脆性基板の表面に形成されたレーザーマー
クの形状は、その上に設けられた下地層、磁性膜、保護
膜、潤滑膜などを通じて最表面に保存される。
The shape of the laser mark formed on the surface of the brittle substrate is preserved on the outermost surface through an underlayer, a magnetic film, a protective film, a lubricating film, etc. provided thereon.

【0028】また、本発明において、磁気記録媒体がラ
ンディング領域とデータ領域を有し、前記レーザーマー
クをランディング領域にのみ存在するよう基板または磁
気記録媒体の最表面に設けることができる。また、本発
明の基板または磁気記録媒体において、前記レーザーマ
ークの凸状部の高さHがランディング領域よりもデータ
領域において実質的に低いレーザーマークを設けること
ができる。
In the present invention, the magnetic recording medium has a landing area and a data area, and the laser mark can be provided on the outermost surface of the substrate or the magnetic recording medium so that the laser mark exists only in the landing area. In the substrate or the magnetic recording medium of the present invention, a laser mark in which the height H of the convex portion of the laser mark is substantially lower in the data area than in the landing area can be provided.

【0029】また、本発明の基板または磁気記録媒体に
おいて、レーザーマークの密度がランディング領域より
もデータ領域において実質的に低いレーザーマークを設
けることができる。なお、ランディング領域は、ドーナ
ツ状のディスク形状の磁気記録媒体の内周領域または外
周領域に所定幅をもって形成される。
Further, in the substrate or the magnetic recording medium of the present invention, a laser mark having a laser mark density substantially lower in a data area than in a landing area can be provided. The landing area is formed with a predetermined width in the inner peripheral area or the outer peripheral area of the donut-shaped disk-shaped magnetic recording medium.

【0030】本発明におけるレーザーマークは、照射エ
ネルギーの変化に応じて図3〜図5のように様々な形態
を持つが、少なくとも一部に凸状の部分をもち、熱処理
後の該凸状部の高さHが10〜500Åの範囲にある。
本発明における高さHとは、図3〜図5に示す隆起の高
さである。
The laser mark according to the present invention has various forms as shown in FIGS. 3 to 5 according to the change in irradiation energy, but has at least a part of a convex part, and the convex part after the heat treatment. Is in the range of 10 to 500 °.
The height H in the present invention is the height of the protrusion shown in FIGS.

【0031】ガラスまたはガラスセラミックスなどの非
磁性脆性基板にレーザー光が照射されると、照射領域で
の基板材料の温度が上昇し、膨張が起こる。レーザー光
の照射が停止された後の冷却過程において、当技術分野
におけるように、レーザーの照射領域が基板または磁気
記録媒体に比べて小さい場合には、周囲の冷たく大きな
熱容量の存在により照射領域の温度は急激に低下するこ
とになり、膨張により発生した隆起が、充分に緩和でき
ずに冷却後にも残留する。この膨張により発現した隆起
の高さは、レーザー照射領域の深さ、つまりレーザーの
照射エネルギーに依存する。
When a non-magnetic brittle substrate such as glass or glass ceramic is irradiated with a laser beam, the temperature of the substrate material in the irradiated area rises and expansion occurs. In the cooling process after the laser light irradiation is stopped, as in the art, when the laser irradiation area is smaller than the substrate or the magnetic recording medium, the surrounding cold and large heat capacity causes the irradiation area to have a smaller area. The temperature drops rapidly, and the bulge generated by the expansion cannot be sufficiently alleviated and remains after cooling. The height of the bulge generated by this expansion depends on the depth of the laser irradiation area, that is, the irradiation energy of the laser.

【0032】図6は、ソーダアルミノシリケートガラス
材料のレーザー照射量とレーザーマークの高さの関係で
ある。図6からレーザーの照射エネルギーの変動がレー
ザーマークの高さの変動に変換される度合がわかる。す
なわち、グラフの曲線の傾きが、レーザーの照射エネル
ギーの変動に対するレーザーマークの高さの変動を決定
する。レーザーの出力は、時間的に変動があることが一
般的に認められている。一方、当技術分野においては、
磁気記録媒体のテクスチャとしてのレーザーマーク高さ
の変動は、ヘッドの安定な低飛翔のために厳しく管理す
ることが要求されている。図6において、曲線の傾きは
400Å近傍の高さで最も小さく、100Å〜200Å
の高さで最も大きい。
FIG. 6 shows the relationship between the laser irradiation amount of the soda aluminosilicate glass material and the height of the laser mark. FIG. 6 shows the degree to which the change in the irradiation energy of the laser is converted into the change in the height of the laser mark. That is, the slope of the curve of the graph determines the variation of the height of the laser mark with respect to the variation of the irradiation energy of the laser. It is generally accepted that the output of a laser varies over time. On the other hand, in the art,
Fluctuations in the height of the laser mark as a texture of the magnetic recording medium are required to be strictly controlled for stable low flying of the head. In FIG. 6, the slope of the curve is smallest at a height near 400 °, and is 100 ° to 200 °.
The largest in height.

【0033】したがって、レーザーマークの高さのばら
つきを抑制するためには、レーザーマークの高さが40
0Å近傍となるように照射エネルギーを選択すればよい
のであるが、これはドライブの設計(ヘッドの飛翔高
さ)によって決定される所要のレーザーマークの高さに
必ずしも一致しない。したがって、高さのばらつきを極
小に制御した所要の高さのレーザーマークを得るために
照射エネルギーの他に高さの制御因子が必要となる。
Therefore, in order to suppress variations in the height of the laser mark, the height of the laser
The irradiation energy may be selected so as to be close to 0 °, but this does not always coincide with the required laser mark height determined by the drive design (head flying height). Therefore, in order to obtain a laser mark of a required height with the height variation controlled to a minimum, a height control factor is required in addition to the irradiation energy.

【0034】本発明は、レーザー光照射にあたりその照
射エネルギーの変動に対して形成されるレーザーマーク
の高さの変動が小さい照射エネルギーのレベルを選ぶこ
とによって高さのばらつきの少い複数個のレーザーマー
クを形成し、該レーザーマークの高さが所要の高さより
高い場合に、レーザーマークに前記温度T1 またはTへ
の昇温工程、温度T1 またはTでの保持工程および温度
1 またはTからの緩慢な降温工程を含む熱処理を施す
ことにより、所要の高さをもち、かつ高さのばらつきの
少ないレーザーマークを得るものである。
According to the present invention, a plurality of lasers having a small height variation are selected by selecting an irradiation energy level at which a variation in the height of a laser mark formed with respect to a variation in the irradiation energy upon laser beam irradiation is small. forming a mark, when the height of the laser marks is higher than the required height, process heating to the temperatures T 1 or T in laser marking, holding step at temperatures T 1 or T and temperatures T 1 or T By performing a heat treatment including a slow temperature lowering step, a laser mark having a required height and a small variation in height is obtained.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】図1は本発明の製造方法により製
造された磁気記録媒体の断面を示す模式図であり、1は
非磁性脆性基板である。かかる基板としては、ガラス材
料、ガラスセラミックス材料、またはセラミック材料か
らなる基板が好ましいが、これらとレーザーマーク形成
のメカニズムが同じであると考えられるカーボン基板な
ど他の非磁性脆性基板も同様に使用できる。また、上記
諸材料を他の材料の基板の上にコートしたものも使用で
きる。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross section of a magnetic recording medium manufactured by the manufacturing method of the present invention, and 1 is a non-magnetic brittle substrate. As such a substrate, a substrate made of a glass material, a glass-ceramic material, or a ceramic material is preferable, but other non-magnetic brittle substrates such as a carbon substrate whose laser mark formation mechanism is considered to be the same as these can also be used. . In addition, a material obtained by coating the above materials on a substrate of another material can also be used.

【0036】また、基板表面は、ヘッドと基板表面の望
ましくない物理接触を避けるため、またレーザーマーク
の高さのばらつき範囲を抑えるために、レーザー光の照
射に先立ってあらかじめ10Åより微小の粗さに鏡面研
磨することが望ましい。
In order to avoid undesired physical contact between the head and the surface of the substrate and to suppress the range of variation in the height of the laser mark, the surface of the substrate must have a roughness of less than 10 ° prior to the laser irradiation. It is desirable to perform mirror polishing.

【0037】図1の記録媒体の製造方法において、非磁
性脆性基板1の磁性層2が形成される側の部分に、レー
ザー照射により少なくとも一部に凸状の部分をもつレー
ザーマーク3を形成した後に、少なくともレーザーマー
クを含む前記基板の部分に熱処理を施すことにより、レ
ーザーマーク3の該凸状部の高さHを10〜500Åの
範囲に制御する。一般に基体表面上の凸状部を隆起と呼
び、凸状部の高さを隆起高さまたはレーザーマークの高
さと呼ぶこととする。高さHの下限10Åは、レーザー
マークの存在が基板表面の粗さに対して実質的に識別可
能であることによって決定され、高さHが10Å未満の
場合は、レーザーマークによるスティクションの抑止効
果が期待できない。また上限は、レーザーマークの高さ
が直接的にヘッドの最低可能飛翔高さを決定するがゆえ
に、当技術分野が要求するヘッド飛翔高さによって決定
される。
In the method for manufacturing a recording medium shown in FIG. 1, a laser mark 3 having at least a part of a convex portion was formed by laser irradiation on a portion of the nonmagnetic brittle substrate 1 on which the magnetic layer 2 was formed. Thereafter, a heat treatment is performed on at least the portion of the substrate including the laser mark, so that the height H of the convex portion of the laser mark 3 is controlled in the range of 10 to 500 °. Generally, the convex portion on the surface of the base is called a ridge, and the height of the convex portion is called the ridge height or the height of the laser mark. The lower limit 10 ° of the height H is determined by the fact that the presence of the laser mark is substantially distinguishable from the roughness of the substrate surface, and when the height H is less than 10 °, suppression of stiction by the laser mark is performed. No effect can be expected. The upper limit is also determined by the head flying height required by the art, since the height of the laser mark directly determines the minimum possible flying height of the head.

【0038】磁性層2は、一般的には厚さ50〜500
ÅのCo合金系の強磁性合金であり、スパッタ法や真空
蒸着法などにより形成される。本発明における構成は、
非磁性脆性基体上に少なくとも磁性層を有するが、非磁
性脆性基体上と磁性層の間には耐腐食のためのバリア層
や、磁性層の成長を制御するための下地層の膜を設けう
る。バリア層としては、Cr系やTi系の材質が好まし
い。また、下地層としてはNiPやCr系の材料が用い
られる。
The magnetic layer 2 generally has a thickness of 50 to 500
Co is a Co alloy-based ferromagnetic alloy and is formed by a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like. The configuration in the present invention is:
At least a magnetic layer is provided on the non-magnetic brittle substrate, but a barrier layer for corrosion resistance and an underlayer film for controlling the growth of the magnetic layer may be provided between the non-magnetic brittle substrate and the magnetic layer. . As the barrier layer, a Cr-based or Ti-based material is preferable. Further, NiP or Cr-based material is used for the underlayer.

【0039】また、この磁性層2上には保護膜を設ける
ことができる。保護膜としてはカーボン膜、水素化カー
ボン膜、窒化カーボン膜、窒素を含む水素化カーボン膜
や、TiC、SiCなどの炭化物膜、ZrO2 などの酸
化物膜が用いられる。また保護膜の上に潤滑膜として例
えばパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤が5〜50Å
の厚さで設けられる。
A protective film can be provided on the magnetic layer 2. As the protective film, a carbon film, a hydrogenated carbon film, a carbon nitride film, a hydrogenated carbon film containing nitrogen, a carbide film such as TiC and SiC, and an oxide film such as ZrO 2 are used. A lubricating film, for example, a perfluoropolyether-based lubricant is formed on the protective film by 5 to 50 °.
The thickness is provided.

【0040】レーザーマーク形成後の熱処理は、磁性層
や他の所要の膜を形成するのに先立って行うことの他
に、磁性層または他の所要の膜、例えば保護膜を形成す
るのと同時に行うこともできるし、またそれらの膜の形
成後に行うこともできる。
The heat treatment after the formation of the laser mark is performed not only before forming the magnetic layer and other necessary films, but also simultaneously with forming the magnetic layer or other necessary films, for example, a protective film. It can be performed, or can be performed after formation of those films.

【0041】脆性基板上に形成された本発明におけるレ
ーザーマークは、その上に設けられたバリア層、下地
層、磁性層、保護膜、潤滑膜などを通じて、最表面に保
存され、ヘッドとディスクの間の摩擦力の低減に寄与す
る。
The laser mark of the present invention formed on a brittle substrate is stored on the outermost surface through a barrier layer, an underlayer, a magnetic layer, a protective film, a lubricating film, etc. provided thereon, and the head and the disk are This contributes to a reduction in the frictional force between them.

【0042】図2は、非磁性脆性基板にレーザー照射を
行い、表面にレーザーマークを形成するための装置の構
成の一例であるが、本発明は必ずしもこれに限定されな
い。4は、YAG・Qスイッチパルスレーザーである
が、共振器内部に非線形素子を配置することによって、
YAGの基本波(波長1. 064μm)の2次高調波で
ある波長532nmの放射エネルギーが出力として得ら
れる。
FIG. 2 shows an example of the configuration of an apparatus for irradiating a nonmagnetic brittle substrate with a laser to form a laser mark on the surface, but the present invention is not necessarily limited to this. Reference numeral 4 denotes a YAG / Q-switched pulse laser. By arranging a nonlinear element inside the resonator,
Radiation energy having a wavelength of 532 nm, which is the second harmonic of the fundamental wave of YAG (wavelength 1.064 μm), is obtained as an output.

【0043】使用するレーザー出力は、折り返しミラー
5により非線形素子6に導かれ、波長変換により4次高
調波(波長266nm)のレーザーエネルギーを得る。
The laser output to be used is guided to the nonlinear element 6 by the folding mirror 5, and the laser energy of the fourth harmonic (wavelength 266 nm) is obtained by wavelength conversion.

【0044】レーザーとしては、YAGレーザーの他
に、被加工材料の吸収域に波長をもつレーザーであれば
よく、YLFやYVO4 などの固体レーザー、エキシマ
レーザーや炭酸ガスレーザー、アルゴンレーザーなどが
広範囲に使用できるが、非磁性脆性基体がガラスからな
る場合には、ガラス材料が波長3μm以上の赤外領域と
300nm以下の紫外領域に強い吸収をもつために、こ
れらの領域に発振エネルギーを有するYAGレーザー、
YLFレーザー、YVO4 レーザーなどの4次高調波、
またはエキシマレーザー、またはアルゴンレーザーの可
視域の2次高調波や紫外域、または炭酸ガスレーザーを
用いることが好ましい。
[0044] As a laser, in addition to the YAG laser may be a laser having a wavelength in the absorption range of the material to be processed, a solid laser such as YLF or YVO 4, an excimer laser or a carbon dioxide laser, such as argon laser extensive When the non-magnetic brittle substrate is made of glass, the glass material has strong absorption in the infrared region having a wavelength of 3 μm or more and the ultraviolet region having a wavelength of 300 nm or less. laser,
4th harmonics such as YLF laser and YVO 4 laser,
Alternatively, it is preferable to use an excimer laser, a second harmonic or ultraviolet region of a visible region of an argon laser, or a carbon dioxide laser.

【0045】また、離散型のレーザーマークを得るため
には、Qスイッチパルスレーザーの他に、連続発振(C
W)レーザーをEOMやAOMで変調してパルス化する
ことや、マスクを介して一括露光することもできる。
In order to obtain a discrete laser mark, in addition to the Q-switch pulse laser, a continuous wave (C
W) The laser can be modulated by EOM or AOM to form a pulse, or collective exposure can be performed through a mask.

【0046】レーザー光は、照射エネルギーを制御する
ためのアッテネータ7、折り返しミラー8を経て、レー
ザービームを所望の形に整形するための開口9へ、さら
に記録面でのエネルギーの強度分布を制御するためのエ
キスパンダ10へと導かれる。レーザー光は、X軸ガル
バノミラー11、Y軸ガルバノミラー12、対物レンズ
13を経て脆性基板14の表面へと導かれる。基板上に
複数個のレーザーマークが、同心円状、スパイラル状、
その他任意のパターンで、パルスレーザーの繰り返し周
波数との間で制御されたX、Y2軸のガルバノミラーの
駆動により形成される。
The laser beam passes through an attenuator 7 for controlling the irradiation energy and a folding mirror 8 to an opening 9 for shaping the laser beam into a desired shape, and further controls the intensity distribution of the energy on the recording surface. To the expander 10. The laser light is guided to the surface of the brittle substrate 14 via the X-axis galvanometer mirror 11, the Y-axis galvanometer mirror 12, and the objective lens 13. Multiple laser marks on the substrate, concentric, spiral,
Other arbitrary patterns are formed by driving the X and Y two-axis galvanomirrors controlled between the pulse laser and the repetition frequency.

【0047】複数個のレーザーマークの形成は、上述の
X軸ガルバノミラー11とY軸ガルバノミラー12の駆
動によりレーザービームを偏向させる方法による他に、
位置の固定されたレーザービーム下で、脆性基板を装着
したスピンドルを回転し、その回転との間に制御された
半径方向へのスピンドルの移動により、スパイラル状、
または同心円状のレーザーマーク列を形成することもで
きる。また、上記において、スピンドルの移動に代え
て、レーザービームを半径方向に移動させることで置き
換えることもできる。
The plurality of laser marks are formed by a method of deflecting a laser beam by driving the X-axis galvanometer mirror 11 and the Y-axis galvanometer mirror 12 described above.
Under a laser beam whose position is fixed, a spindle with a brittle substrate is rotated, and during the rotation, the spindle moves in a controlled radial direction to form a spiral,
Alternatively, concentric laser mark rows can be formed. In the above, instead of moving the spindle, the laser beam may be moved in the radial direction to be replaced.

【0048】[0048]

【作用】非磁性脆性基板のレーザー加工によって発生す
る隆起の形成機構について、本発明者は Dimensional C
hanges Caused in Glass by Heating Cycles(A.Q.Tool,
D.B.Lioyd and G.E.Merritt:J.Res.Nat.Bur.Stand.,5,6
27,1930)のFig.1 を引用する。すなわち、ガラス材料が
レーザーエネルギーの照射により高温に熱せられ体積が
膨張(密度の低下)した後の引き続く冷却によって体積
が収縮(密度の増加)・復帰する過程において、冷却の
速度が早い場合には材料が元の密度に完全に復帰しない
ことことが知られている。
According to the present invention, regarding the formation mechanism of a ridge generated by laser processing of a non-magnetic brittle substrate, the present inventor described Dimensional C
hanges Caused in Glass by Heating Cycles (AQTool,
DBLioyd and GEMerritt: J.Res.Nat.Bur.Stand., 5,6
27, 1930). In other words, when the glass material is heated to a high temperature by the irradiation of laser energy and the volume expands (density decreases), and subsequently cooled, the volume contracts (increases density) and returns in the process of cooling. It is known that the material does not completely return to its original density.

【0049】レーザー照射により加熱され昇温、膨張の
結果ガラス基板上に形成された隆起(レーザーマーク)
は、レーザー照射の停止後、その周囲に存在するレーザ
ー非照射領域の大きな熱容量の存在のために、ガラス材
料の熱平衡を保持できない早さで急冷されることにな
り、その結果として、冷却後においても隆起が充分に緩
和されずに、隆起が残存すると推測している。そして、
基板表面より外側に向く隆起部分は、レーザーにより加
熱・昇温した深さ領域(レーザーによる変質領域と呼
ぶ)の体積増加量の総和として発生していると考えられ
る。
A bulge (laser mark) formed on a glass substrate as a result of being heated by laser irradiation, raised in temperature, and expanded.
After the laser irradiation is stopped, the glass material is rapidly cooled due to the large heat capacity of the non-laser-irradiated area around it, so that the thermal equilibrium of the glass material cannot be maintained. Also estimates that the ridges are not sufficiently mitigated and the ridges remain. And
It is considered that the protruding portion facing outward from the substrate surface is generated as the sum of the volume increase in the depth region heated and heated by the laser (referred to as the altered region by the laser).

【0050】一方、さらに照射エネルギーを増加してい
くと照射領域の温度の高い部分が材料の蒸発温度を超え
材料の蒸発が始まる。この段階では、体積増加による隆
起形成のメカニズムと照射部の温度の高い部分(集光さ
れたレーザーエネルギーの場合は、中央部分)の材料の
蒸発メカニズムが同時に進行しており、周辺に隆起、中
央にくびれを持つ火口型のレーザーマークが得られる。
On the other hand, when the irradiation energy is further increased, the high temperature portion of the irradiation region exceeds the material evaporation temperature, and the material starts to evaporate. At this stage, the mechanism of the ridge formation due to the volume increase and the evaporation mechanism of the material in the high temperature part of the irradiated part (in the case of the focused laser energy, the central part) are simultaneously progressing, A crater-shaped laser mark with constriction is obtained.

【0051】ガラスやガラスセラミックスの隆起形成の
機構は、レーザーのエネルギーに対するレスポンスの結
果として生じる変質領域が昇温・膨張(低密度化)した
後に、非平衡的な急冷過程を経たことによる低密度の保
存であり、低密度状態(隆起)の保存の程度は、冷却過
程の速度に関係していると考えている。
The mechanism of the bulge formation of glass and glass ceramics is that the denatured region generated as a result of the response to the energy of the laser rises in temperature and expands (density reduction) and then undergoes a non-equilibrium quenching process. The degree of preservation of the low-density state (uplift) is considered to be related to the speed of the cooling process.

【0052】本発明における熱処理の保持温度Tまたは
1 、保持時間および降温工程における降温速度は、熱
処理により上記の基板上に残存した隆起が緩和され、所
要の高さになるように選ばれる。非磁性脆性基板がガラ
スからなる場合には、本発明における熱処理は、レーザ
ープロセスにより発生し基板上に残存した隆起(レーザ
ーマーク)を再加熱してガラスの徐冷点を超えない温度
Tに昇温させ(昇温工程)、温度Tに保持し(保持工
程)、次いでレーザープロセスにおいて生じる冷却速度
に比べ緩慢に降温させる(降温工程)ことにより、隆起
を緩和させるように作用し、結果としてレーザープロセ
スにより形成されたレーザーマークの高さを当該技術分
野で要求される高さに制御することが可能となる。
The holding temperature T or T 1 of the heat treatment in the present invention, the holding time, and the cooling rate in the cooling step are selected so that the protrusions remaining on the substrate by the heat treatment are alleviated and the required height is obtained. When the non-magnetic brittle substrate is made of glass, the heat treatment in the present invention raises the temperature (T) which does not exceed the annealing point of the glass by reheating the ridge (laser mark) generated by the laser process and remaining on the substrate. By raising the temperature (heating step), maintaining the temperature at T (holding step), and then slowly lowering the temperature (cooling step) as compared with the cooling rate generated in the laser process, it acts to alleviate the uplift, and as a result, the laser The height of the laser mark formed by the process can be controlled to the height required in the art.

【0053】[0053]

【実施例】次に実施例により本発明をさらに具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されな
い。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

【0054】ガラス基板上に、図2に示すレーザーテク
スチャ加工装置を用いて、レーザーマークを形成した。
用いたガラス基板は、図6で用いたソーダアルミノシリ
ケートガラスと同じものである。レーザーマークの形状
は、図3に示すような単純凸状であり、突起の高さは
(レーザーマークの高さ)420Åであった。高さの測
定はAFM(原子間力顕微鏡)による(以下同様)。レ
ーザー加工時のプロセスパラメーターは以下の通りであ
る。
A laser mark was formed on a glass substrate using a laser texture processing apparatus shown in FIG.
The glass substrate used was the same as the soda aluminosilicate glass used in FIG. The shape of the laser mark was a simple convex shape as shown in FIG. 3, and the height of the protrusion was (the height of the laser mark) 420 °. The height is measured by AFM (atomic force microscope) (the same applies hereinafter). The process parameters at the time of laser processing are as follows.

【0055】 レーザー波長λ =266nm、 パルス繰り返し周波数 =5kHz、 パルス当たりのレーザー照射エネルギー=1.3μJ レーザーパルス幅 =65nse
c、 対物レンズ焦点距離 =150mm、 ビームウエスト直径 =15μm。
Laser wavelength λ = 266 nm, pulse repetition frequency = 5 kHz, laser irradiation energy per pulse = 1.3 μJ laser pulse width = 65 ns
c, focal length of the objective lens = 150 mm, beam waist diameter = 15 μm.

【0056】上記の条件で作成したレーザーマークを表
面に有するガラス基板(下記表1における熱処理なしの
試料)を電気炉に挿入し、所定の保持温度で所定の保持
時間保った後に室温まで降温させた(実施例1〜5)。
保持温度から室温までの降温に要した時間は約10分で
ある。10分という時間は、レーザー光照射停止から室
温に復帰する冷却時間(数百nsecの程度といわれて
いる。)に比べて充分に長い時間であって、降温速度は
レーザー光照射停止から室温に復帰する際の冷却速度に
比べて充分遅い。比較例1は、熱処理を行うことなく、
図2のレーザーテクスチャ加工装置を用いて、高さが3
40Åのレーザーマークを得たものである。表1の突起
高さは平均値であり、σ/突起高さは、突起高さのばら
つきを標準偏差σで表わしたとき、上記平均値に対する
σの比(%)である。
A glass substrate (sample without heat treatment in Table 1 below) having a laser mark formed on the surface under the above-described conditions is inserted into an electric furnace, and the temperature is lowered to room temperature after being maintained at a predetermined holding temperature for a predetermined holding time. (Examples 1 to 5).
The time required to lower the temperature from the holding temperature to room temperature is about 10 minutes. The time of 10 minutes is a sufficiently long time as compared with the cooling time for returning to the room temperature from the stop of the laser beam irradiation (it is said to be about several hundred nsec). It is much slower than the cooling rate when returning. Comparative Example 1 was performed without heat treatment.
Using the laser texture processing device of FIG.
A laser mark of 40 ° was obtained. The projection height in Table 1 is an average value, and σ / projection height is the ratio (%) of σ to the average value when the variation in projection height is represented by a standard deviation σ.

【0057】熱処理なしで突起高さ340Åを直接狙っ
た比較例1に比べ、照射エネルギーの変動に対して形成
されるレーザーマークの高さの変動が小さいレベルの照
射エネルギーを用いて420Åの突起高さを形成し、そ
れを熱処理することによって得られた約340Åの突起
高さ(実施例1および2)のばらつきが小さいことがわ
かる。
Compared to Comparative Example 1 in which the height of the protrusion was 340 ° without heat treatment, the height of the protrusion was 420 ° using the irradiation energy at a level where the fluctuation of the height of the laser mark formed with respect to the fluctuation of the irradiation energy was small. It can be seen that the variation in the protrusion height of about 340 ° (Examples 1 and 2) obtained by forming the heat treatment and heat-treating it is small.

【0058】[0058]

【表1】 [Table 1]

【0059】本実施例で用いたガラス基板の歪点温度は
約455℃、徐冷点は約520℃である。保持温度が歪
点温度の455℃を超えた温度では急速な突起高さの低
下が観察された。また、突起高さ低減の効果は、保持時
間が長くなるにしたがい、また保持時間が歪み点温度に
近づくに伴い大きくなる。保持温度・保持時間の選択
は、熱処理前のレーザーマークの高さと、熱処理後の所
要のレーザーマークの高さの差によって適切に選択され
る。
The glass substrate used in this example has a strain point temperature of about 455 ° C. and an annealing point of about 520 ° C. At a temperature at which the holding temperature exceeded the strain point temperature of 455 ° C., a rapid decrease in the projection height was observed. In addition, the effect of reducing the height of the protrusions increases as the holding time increases, and increases as the holding time approaches the strain point temperature. The selection of the holding temperature and the holding time is appropriately selected depending on the difference between the height of the laser mark before the heat treatment and the required height of the laser mark after the heat treatment.

【0060】[0060]

【発明の効果】本発明は次のような優れた効果を有す
る。(1)テクスチャとしてのレーザーマークの高さを
微小領域(500Å以下、さらに300Å以下)で精度
高く形成でき、ヘッドの飛翔を容易とする。(2)テク
スチャとしてのレーザーマークの高さのばらつきが小さ
く抑えられることにより、ヘッドの低飛翔とCSS耐久
性の両立により、記録容量の向上が可能となる。
The present invention has the following excellent effects. (1) The height of a laser mark as a texture can be formed with high precision in a very small area (500 ° or less, more preferably 300 ° or less), and the flying of the head is facilitated. (2) Since the variation in the height of the laser mark as the texture is suppressed to be small, the recording capacity can be improved by achieving both low flying of the head and CSS durability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による磁気記録媒体の一実施例の断面摸
式図
FIG. 1 is a schematic sectional view of an embodiment of a magnetic recording medium according to the present invention.

【図2】本発明の方法に用いうるレーザーテクスチャ加
工装置のブロック図
FIG. 2 is a block diagram of a laser texture processing apparatus that can be used in the method of the present invention.

【図3】比較的低い照射エネルギーで形成されたレーザ
ーマークの断面摸式図
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a laser mark formed with a relatively low irradiation energy.

【図4】中程度の照射エネルギーで形成されたレーザー
マークの断面摸式図
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a laser mark formed with moderate irradiation energy.

【図5】比較的高い照射エネルギーで形成されたレーザ
ーマークの断面摸式図
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a laser mark formed with a relatively high irradiation energy.

【図6】ソーダアルミノシリケート系ガラス基板のレー
ザー加工特性を示す実施例のグラフ
FIG. 6 is a graph of an example showing laser processing characteristics of a soda aluminosilicate glass substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:非磁性脆性基板 2:磁性層 3:レーザーマーク 4:YAG−Qスイッチパルスレーザー2次高調波出力 5:折り返しミラー 6:非線形素子 7:アッテネータ 8:折り返しミラー 9:開口 10:エキスパンダ 11:X軸ガルバノミラー 12:Y軸ガルバノミラー 13:対物レンズ 14:非磁性脆性基板 1: non-magnetic brittle substrate 2: magnetic layer 3: laser mark 4: YAG-Q switch pulse laser second harmonic output 5: folding mirror 6: nonlinear element 7: attenuator 8: folding mirror 9: aperture 10: expander 11 : X-axis galvanometer mirror 12: Y-axis galvanometer mirror 13: Objective lens 14: Non-magnetic brittle substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹中 敦義 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Atsushi Takenaka 1150 Hazawa-cho, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Asahi Glass Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】実質的に平坦な非磁性脆性基板の複数の箇
所にレーザー光を照射することにより少なくとも一部に
凸状の部分をもつ複数個のレーザーマークを該表面に形
成し、かつ前記基板の少なくとも該レーザーマークを含
む部分に熱処理を施すことにより、該レーザーマークの
凸状部の高さHを10〜500Åの範囲に制御すること
を特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
A plurality of laser marks having at least a part of which are convex by irradiating a plurality of portions of the substantially flat non-magnetic brittle substrate with a laser beam; A method for manufacturing a substrate for a magnetic recording medium, wherein a height H of a convex portion of the laser mark is controlled in a range of 10 to 500 ° by performing a heat treatment on at least a portion including the laser mark of the substrate.
【請求項2】実質的に平坦な非磁性脆性基板の複数の箇
所にレーザー光を照射することにより少なくとも一部に
凸状の部分をもつ複数個のレーザーマークを該表面に形
成し、かつ前記基板の少なくとも該レーザーマークを含
む部分に熱処理を施すことにより、該レーザーマークの
凸状部の高さHが10〜500Åの範囲に制御されてな
る磁気記録媒体用基板を得る基板製造工程と、該基板の
表面に磁性膜およびまたはその他の所要の膜を形成する
膜形成工程とからなることを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。
2. A plurality of laser marks having a convex portion at least in part by irradiating a plurality of portions of a substantially flat non-magnetic brittle substrate with a laser beam; Performing a heat treatment on at least a portion of the substrate including the laser mark to obtain a magnetic recording medium substrate in which the height H of the convex portion of the laser mark is controlled in a range of 10 to 500 °; Forming a magnetic film and / or other necessary films on the surface of the substrate.
【請求項3】非磁性脆性基板上に磁性膜およびその他の
所要の膜を有する磁気記録媒体の製造方法において、実
質的に平坦な非磁性脆性基板の表面の複数の箇所にレー
ザー光を照射することにより少なくとも一部に凸状の部
分をもつ複数個のレーザーマークを該表面に形成する工
程と、該表面に磁性膜およびまたはその他の所要の膜を
形成する膜形成工程と、該膜形成工程において行う熱処
理の工程とからなり、該熱処理の工程により前記膜形成
後の最表面に保存されるレーザーマークの凸状部の高さ
Hを10〜500Åの範囲に制御することを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。
3. A method of manufacturing a magnetic recording medium having a magnetic film and other required films on a non-magnetic brittle substrate, wherein a plurality of portions of the surface of the substantially flat non-magnetic brittle substrate are irradiated with laser light. Forming a plurality of laser marks having a convex portion on at least a part of the surface, forming a magnetic film and / or other necessary films on the surface, and forming the film on the surface. Wherein the height H of the convex portion of the laser mark stored on the outermost surface after the film formation is controlled in the range of 10 to 500 ° by the heat treatment step. Manufacturing method of recording medium.
【請求項4】非磁性脆性基板上に磁性膜およびその他の
所要の膜を有する磁気記録媒体の製造方法において、実
質的に平坦な非磁性脆性基板の表面の複数の箇所にレー
ザー光を照射することにより少なくとも一部に凸状の部
分をもつ複数個のレーザーマークを該表面に形成する工
程と、該表面に磁性膜およびまたはその他の所要の膜を
形成する膜形成工程と、該膜形成工程の後に行う熱処理
の工程とからなり、該熱処理の工程により前記膜形成後
の最表面に保存されるレーザーマークの凸状部の高さH
を10〜500Åの範囲に制御することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。
4. A method for manufacturing a magnetic recording medium having a magnetic film and other necessary films on a non-magnetic brittle substrate, wherein a plurality of portions of the surface of the substantially flat non-magnetic brittle substrate are irradiated with laser light. Forming a plurality of laser marks having a convex portion on at least a part of the surface, forming a magnetic film and / or other necessary films on the surface, and forming the film on the surface. And the height H of the convex portion of the laser mark stored on the outermost surface after the film formation by the heat treatment step.
Is controlled in the range of 10 to 500 °.
【請求項5】非磁性脆性基板がガラスからなり、熱処理
が室温から該ガラスの徐冷点を超えない温度Tまでの昇
温工程と、該温度Tに保持する保持工程と、前記温度T
から室温までの降温工程とを含むことを特徴とする請求
項1、2、3または4記載の製造方法。
5. A non-magnetic brittle substrate made of glass, wherein a heat treatment step is performed from room temperature to a temperature T which does not exceed the annealing point of the glass; a holding step of holding the temperature T;
5. The method according to claim 1, further comprising a step of lowering the temperature from room temperature to room temperature.
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