JPH06290452A - Carbon substrate for magnetic disk and magnetic disk medium - Google Patents
Carbon substrate for magnetic disk and magnetic disk mediumInfo
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- JPH06290452A JPH06290452A JP5078279A JP7827993A JPH06290452A JP H06290452 A JPH06290452 A JP H06290452A JP 5078279 A JP5078279 A JP 5078279A JP 7827993 A JP7827993 A JP 7827993A JP H06290452 A JPH06290452 A JP H06290452A
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- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はテクスチャー処理が施さ
れていて、その上に磁性膜等が形成されて磁気ディスク
となる磁気ディスク用カーボン基板に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk carbon substrate which has been subjected to a texture treatment and on which a magnetic film or the like is formed to form a magnetic disk.
【0002】[0002]
【従来の技術】固定磁気ディスク装置は、停止時に、磁
気ヘッドと磁気ディスクが接触状態にあるが、起動時
に、磁気ヘッドが回転する磁気ディスク上を浮上すると
いうコンタクトスタートストップ方式(Contact Start
Stop、以下CSSと略す)が採用されている。この方式
では、固定磁気ディスク装置の停止時に、磁気ヘッドと
磁気ディスクの間に吸着が生じたり、磁気ヘッドと磁気
ディスクとの接触摩耗により摩擦力が増加し、磁気ディ
スクの回転が妨げられることがある。このような吸着や
摩擦力の増加を防止するために、磁気ディスク用基板に
は、その表面を鏡面でなく適当な表面粗さに調整する表
面加工が行われる。このような表面加工は、一般にテク
スチャリング(texturing)と呼ばれている。また、この
ように加工された表面はテクスチャーと呼ばれている。2. Description of the Related Art In a fixed magnetic disk device, a magnetic head and a magnetic disk are in contact with each other when stopped, but at the time of startup, the magnetic head floats above a rotating magnetic disk.
Stop, hereinafter abbreviated as CSS) is adopted. In this method, when the fixed magnetic disk device is stopped, adsorption may occur between the magnetic head and the magnetic disk, or frictional force may increase due to contact wear between the magnetic head and the magnetic disk, which may prevent rotation of the magnetic disk. is there. In order to prevent such an increase in adsorption and frictional force, the magnetic disk substrate is subjected to surface processing for adjusting its surface to an appropriate surface roughness instead of a mirror surface. Such surface treatment is generally called texturing. The surface processed in this way is called a texture.
【0003】従来、磁気ディスクには、アルミニウム合
金にニッケルリンめっきを施し、表面を研磨した基板が
用いられてきた。この磁気ディスク基板には、上記テク
スチャー形成の一般的な方法として、回転させた磁気デ
ィスク基板に、研磨テープを押し付け、条痕を形成する
というようにした所謂機械的なテクスチャー形成方法が
行われてきた。また、近時、ニッケルリンメッキ層にパ
ルスレーザーを照射し、表面に凹凸を形成する方法が提
案されている(ヨーロッパ特許出願 EP 447025、USP506
2021、USP5108781及び文献:J.Appl.Phys.、Vol.69、N
o.8,15、April 1991)。Conventionally, for a magnetic disk, a substrate obtained by plating an aluminum alloy with nickel phosphorus and polishing the surface has been used. As a general method for forming the texture on the magnetic disk substrate, a so-called mechanical texture forming method has been performed, in which a polishing tape is pressed against the rotated magnetic disk substrate to form striations. It was Further, recently, a method of irradiating a nickel phosphorus plating layer with a pulse laser to form irregularities on the surface has been proposed (European patent application EP 447025, USP506.
2021, USP5108781 and references: J.Appl.Phys., Vol.69, N
o.8,15, April 1991).
【0004】一方、本出願人は、先に、磁気ディスク用
カーボン基板のテクスチャー形成方法として、表面研磨
された基板を酸化性雰囲気中にて400℃〜700℃の温度で
加熱処理することにより、上記カーボン基板の表面を粗
面化するようにした方法を提案した(特願平2-83137
号)。On the other hand, the present applicant has previously mentioned that as a method for forming a texture of a carbon substrate for a magnetic disk, the surface-polished substrate is heat-treated at a temperature of 400 ° C. to 700 ° C. in an oxidizing atmosphere. A method has been proposed in which the surface of the carbon substrate is roughened (Japanese Patent Application No. 2-83137).
issue).
【0005】この方法は、カーボン基板特有の性質を利
用したものであり、このテクスチャー処理方法において
は、カーボン基板を酸化性雰囲気中で熱処理することに
よって、C+O2→CO2の酸化反応を利用してカーボン
を適度に気化して、研磨目が選択的にエッチングされる
ことを利用して磁気ディスク基板表面に微小凹凸を形成
している。This method utilizes the properties peculiar to the carbon substrate. In this texture processing method, the carbon substrate is heat-treated in an oxidizing atmosphere to utilize the oxidation reaction of C + O 2 → CO 2. The carbon is appropriately vaporized to form fine irregularities on the surface of the magnetic disk substrate by utilizing the fact that the polishing eyes are selectively etched.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気デ
ィスク装置の高密度化のためには、記録再生時の磁気ヘ
ッドと磁気ディスクとのスペーシング、即ち浮上隙間を
小さくすることが必要となる。この浮上隙間を小さくす
るには、基板の表面粗さを小さくする必要がある。However, in order to increase the density of the magnetic disk device, it is necessary to reduce the spacing between the magnetic head and the magnetic disk during recording / reproducing, that is, the floating gap. In order to reduce this floating gap, it is necessary to reduce the surface roughness of the substrate.
【0007】しかし、基板の表面粗さを小さくし過ぎる
と、基板とヘッドとの接触面積が増加し、吸着により摩
擦力が大きくなるという難点がある。特に、従来用いら
れてきたような条痕を形成する機械的なテクスチャー形
成方法を、高記録密度が要求される磁気ディスクに適用
しようとしても、条痕の密度及び深さの制御が難しく、
浮上隙間の低減に限界がある。However, if the surface roughness of the substrate is made too small, the contact area between the substrate and the head increases, and there is the drawback that the frictional force increases due to adsorption. In particular, even if an attempt is made to apply a mechanical texture forming method for forming scratches that has been conventionally used to a magnetic disk that requires high recording density, it is difficult to control the density and depth of the scratches,
There is a limit to the reduction of the floating clearance.
【0008】一方、酸化性雰囲気での加熱によりカーボ
ン基板の表面を粗面化する従来の磁気ディスク用カーボ
ン基板のテクスチャー形成方法においては、基板表面の
微小凹凸の深さを、機械的なテクスチャー形成方法にく
らべて容易に調節できる。基板表面を必要以上に粗くす
ることなく適切な表面粗さを得ることが可能である。On the other hand, in the conventional method for forming a texture of a carbon substrate for a magnetic disk in which the surface of the carbon substrate is roughened by heating in an oxidizing atmosphere, the depth of fine irregularities on the substrate surface is mechanically textured. It can be adjusted more easily than the method. It is possible to obtain an appropriate surface roughness without roughening the substrate surface more than necessary.
【0009】しかしながら、微小凹凸の密度及び微小凹
凸の分布パターンを積極的に制御し、調節するための適
当な方法が開発されていないことから、磁気ディスクの
表面における磁気ヘッドに対する摩擦係数をより小さく
して高記録密度化のための磁気ヘッドの低浮上化の要請
に応えるという点において未だ満足できるものではなか
った。However, since a suitable method for actively controlling and adjusting the density of the fine irregularities and the distribution pattern of the fine irregularities has not been developed, the friction coefficient for the magnetic head on the surface of the magnetic disk is made smaller. Then, it is not yet satisfactory in meeting the demand for lowering the flying height of the magnetic head for higher recording density.
【0010】また、ニッケルリンメッキを施したアルミ
ニウム合金基板に、パルスレーザーを照射することによ
り従来のテクスチャリングを形成する方法においては、
ニッケルリン合金膜をスポット的に加熱融解させた後、
冷えて凝固するときにクレーター状の凹凸が形成される
ことを利用している。この方法では、パルス間隔とレー
ザー強度の調節により表面粗さの制御がある程度可能で
ある。Further, in a conventional method of forming a texturing by irradiating a pulsed laser on an aluminum alloy substrate plated with nickel phosphorus,
After heating and melting the nickel-phosphorus alloy film in spots,
It utilizes the fact that crater-like irregularities are formed when it cools and solidifies. In this method, the surface roughness can be controlled to some extent by adjusting the pulse interval and the laser intensity.
【0011】しかし、ディスクの内周部にのみテクスチ
ャーを形成する、所謂ゾーンテクスチャーを形成する場
合には、テクスチャー未形成部から、テクスチャー形成
部にヘッドが移動するときに、ヘッドクラッシュが生じ
る可能性がある。即ち、図3(a)の断面図に示される
ように、ニッケルリン合金をメッキしたAl基板12
は、テクスチャー非形成部とテクスチャー形成部との境
界で基板表面の頂点高さが大きくなるため段差が生じ、
この段差にて磁気ヘッドと磁気ディスクとが接触しやす
く、ヘッドクラッシュが生じる可能性がある。また、磁
気ヘッドとの接触は、リング状に突出した部分で生じる
ので、接触面積を制御する場合、接触面積を増加させる
方向に制御するのには限界があり、磁気ディスクが磁気
ヘッドとの接触で摩耗してしまう可能性がある。However, in the case of forming a so-called zone texture in which the texture is formed only on the inner peripheral portion of the disk, a head crash may occur when the head moves from the texture-unformed portion to the texture-formed portion. There is. That is, as shown in the sectional view of FIG. 3A, an Al substrate 12 plated with a nickel-phosphorus alloy is used.
Causes a step difference because the apex height of the substrate surface increases at the boundary between the texture non-formation portion and the texture formation portion,
The magnetic head and the magnetic disk are likely to come into contact with each other at this step, which may cause a head crash. Further, since the contact with the magnetic head occurs in the ring-shaped protruding portion, when controlling the contact area, there is a limit in controlling in the direction of increasing the contact area, and the magnetic disk contacts the magnetic head. May be worn out.
【0012】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、磁気ヘッドとの接触領域で摩擦係数を十分
小さくすることができ、磁気ヘッドのより一層の低浮上
化を可能とすると共に、ヘッドクラッシュを確実に防止
することができる磁気ディスク用カーボン基板及び磁気
ディスク媒体を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to sufficiently reduce the friction coefficient in the contact area with the magnetic head, and to further reduce the flying height of the magnetic head. An object of the present invention is to provide a carbon substrate for a magnetic disk and a magnetic disk medium that can reliably prevent a head crash.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ディス
ク用カーボン基板は、表面研磨された磁気ディスク用カ
ーボン基板において、磁気ディスク装置の起動及び停止
時に磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触が生じる接触領
域及びその近辺の領域を含む領域(以下、ヘッドランデ
ィングゾーンという)内にのみ、パルスレーザーの離散
的又は連続的な照射によりカーボンを酸化気化させて複
数のくぼみを形成し、くぼみ形成領域を設けたことを特
徴とする。このくぼみ形成領域は、パルスレーザーの単
パルスで形成される一つのくぼみの面積が1乃至900
μm2以下であり、くぼみの深さが10乃至3000Å
であり、50%乃至99.9%の表面積をくぼみとした
ものである。A carbon substrate for a magnetic disk according to the present invention is a carbon substrate for a magnetic disk having a surface-polished contact that causes contact between a magnetic head and a magnetic disk when the magnetic disk device is started and stopped. Only in a region including the region and the region in the vicinity thereof (hereinafter referred to as the head landing zone), carbon is oxidized and vaporized by discrete or continuous irradiation of a pulse laser to form a plurality of recesses, and a recess forming region is provided. It is characterized by that. In this recess forming region, the area of one recess formed by a single pulse of a pulse laser is 1 to 900.
μm 2 or less and the depth of the depression is 10 to 3000 Å
The surface area of 50% to 99.9% is indented.
【0014】前記ヘッドランディングゾーンは、通常、
表面研磨された磁気ディスク用カーボン基板の内周部に
設けられる。このヘッドランディングゾーンにパルスレ
ーザーを照射し、基板の熱酸化気化によるエッチング作
用を利用して、基板を加工し、テクスチャー面を形成す
る。The head landing zone is usually
It is provided on the inner peripheral portion of the surface-polished carbon substrate for a magnetic disk. The head landing zone is irradiated with a pulsed laser, and the substrate is processed by utilizing the etching effect of thermal oxidation and vaporization of the substrate to form a textured surface.
【0015】[0015]
【作用】本発明のように、カーボン基板にパルスレーザ
ーを照射した場合に、パルスレーザーの単パルスにより
微小くぼみが形成されるが、これは、カーボン基板に特
有の現象であり、ニッケルリンメッキのアルミニウム基
板及びガラス基板などの他の基板では、基板表面が融解
してしまうのみである。このように、カーボン基板にパ
ルスレーザーで形成可能な微小くぼみを連続的に任意の
パターンで形成することにより、磁気ヘッドとの接触面
積を制御することを特徴とすることができる。When a carbon substrate is irradiated with a pulsed laser as in the present invention, a single depression of the pulsed laser forms microscopic depressions, which is a phenomenon peculiar to the carbon substrate. With other substrates such as aluminum substrates and glass substrates, the substrate surface only melts. As described above, the contact area with the magnetic head can be controlled by continuously forming the minute depressions that can be formed by the pulse laser in the carbon substrate in an arbitrary pattern.
【0016】即ち、表面研磨された磁気ディスク用カー
ボン基板の磁気ヘッドとの接触領域(ヘッドランディン
グゾーン)に、パルスレーザーが照射されると、基板の
温度が上昇し、基板を形成しているカーボンが酸化気化
し、基板がエッチングされる。この時、レーザーの光子
エネルギが基板のカーボン原子に直接に作用し、カーボ
ン原子をたたき出す現象が起こる場合もある。このよう
なパルスレーザーを基板上に走査することにより一つの
パルスに対し一つのくぼみが形成され、エッチングされ
た部分が凹部、それ以外の部分が凸部となった微小凹凸
が形成される。That is, when a pulse laser is applied to a contact area (head landing zone) of a surface-polished carbon substrate for a magnetic disk with a magnetic head, the temperature of the substrate rises, and the carbon forming the substrate is heated. Are oxidized and vaporized, and the substrate is etched. At this time, the photon energy of the laser may act directly on the carbon atoms of the substrate, causing a phenomenon of knocking out the carbon atoms. By scanning the substrate with such a pulse laser, one depression is formed for one pulse, and minute unevenness is formed in which the etched portion is a concave portion and the other portion is a convex portion.
【0017】そして、磁気ディスク用カーボン基板の表
面に形成される凹凸形状、段差、微小凹凸の密度及び微
小凹凸の分布パターンは、基板に照射するパルスレーザ
ーのビーム径、エネルギ及び照射位置を制御することに
より容易に調整できる。The uneven shape, steps, density of minute unevenness and distribution pattern of minute unevenness formed on the surface of the magnetic disk carbon substrate controls the beam diameter, energy and irradiation position of the pulse laser applied to the substrate. It can be adjusted easily.
【0018】また、図3(b)に示すように、カーボン
基板13にパルスレーザーを照射した場合には、凹凸形
成部の頂点高さと非凹凸形成部の面高さが同じであるの
で、ディスクが回転して磁気ヘッドが所定の間隙を有し
て浮上している間は、磁気ヘッドがテクスチャー非形成
部とテクスチャー形成部との間を移動しても、磁気ヘッ
ドと磁気ディスクの接触は生じない。このため、磁気デ
ィスクの損傷を防止できる。Further, as shown in FIG. 3B, when the carbon substrate 13 is irradiated with the pulse laser, the peak height of the concave-convex forming portion and the surface height of the non-concave forming portion are the same. While the magnetic head rotates and floats with a predetermined gap, even if the magnetic head moves between the texture non-formation part and the texture formation part, the magnetic head and the magnetic disk come into contact with each other. Absent. Therefore, damage to the magnetic disk can be prevented.
【0019】なお、ヘッドランディングゾーンにおける
前記孔形成領域の面積比は、50乃至99.9%である
ことが好ましい。その理由は、50%未満であると、C
SS時の磁気ヘッドと磁気ディスクの摩擦力低減効果が
小さく、99.9%を超えると、凸部での磁気ヘッドと
磁気ディスクの間の接触圧力が大きくヘッドクラッシュ
が起こりやすくなるからである。The area ratio of the hole forming region in the head landing zone is preferably 50 to 99.9%. The reason is that if it is less than 50%, C
This is because the effect of reducing the frictional force between the magnetic head and the magnetic disk during SS is small, and if it exceeds 99.9%, the contact pressure between the magnetic head and the magnetic disk at the convex portion is large and head crushing is likely to occur.
【0020】また、前記パルスレーザーの単パルスで形
成される一つのくぼみの面積は1乃至900μm2であ
ることが好ましい。その理由は、1μm2未満である
と、くぼみの形状を制御するのが難しくなり、900μ
m2を超えると、磁気ヘッドのレール幅と同程度のくぼ
みとなり、磁気ヘッドと磁気ディスクの吸着が生じ易く
なるからである。The area of one depression formed by a single pulse of the pulse laser is preferably 1 to 900 μm 2 . The reason is that if it is less than 1 μm 2 , it becomes difficult to control the shape of the depression, and 900 μm
This is because if it exceeds m 2 , the recess becomes almost the same as the rail width of the magnetic head, and the magnetic head and the magnetic disk are easily attracted to each other.
【0021】更に、前記パルスレーザーの単パルスで形
成されるくぼみの深さは10乃至3000Åであること
が好ましい。その理由は、10Å未満であると、基板の
表面粗さと同程度となり、接触面積低減の効果が小さ
く、3000Åを超えると、磁気ヘッドの浮上安定性に
影響を与えるためである。Further, the depth of the depression formed by the single pulse of the pulse laser is preferably 10 to 3000 Å. The reason is that if it is less than 10 Å, the surface roughness becomes almost the same as the surface roughness of the substrate, and the contact area reduction effect is small, and if it exceeds 3000 Å, the floating stability of the magnetic head is affected.
【0022】[0022]
【実施例】以下、本発明の実施例について添付の図面を
参照して具体的に説明する。Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the accompanying drawings.
【0023】先ず、本実施例の磁気ディスク用カーボン
基板の作製方法について説明し、これにより本実施例の
磁気ディスク用カーボン基板の構造について説明すると
共に、更に本実施例の磁気ディスク媒体について説明す
る。例えば、磁気ディスク用カーボン基板の材料とし
て、炭化焼成後にガラス質炭素となる熱硬化性樹脂であ
るフェノール・フォルムアルデヒド樹脂を選択し、この
樹脂を磁気ディスク形状にホットプレス成形した後、こ
れを例えばN2ガス雰囲気中で1500℃の温度に加熱
して予備焼成する。First, a method for manufacturing a carbon substrate for a magnetic disk according to this embodiment will be described, and the structure of the carbon substrate for a magnetic disk according to this embodiment will be described with reference to the magnetic disk medium according to this embodiment. . For example, as a material for a carbon substrate for a magnetic disk, a phenol-formaldehyde resin, which is a thermosetting resin that becomes vitreous carbon after carbonization and firing, is selected, and this resin is hot-press molded into a magnetic disk shape, and then, for example, Preheat by heating to a temperature of 1500 ° C. in an N 2 gas atmosphere.
【0024】次に、これを熱間静水圧加圧装置(HI
P)を使用して、例えば、2600℃に加熱しつつ、1
800気圧の等方的圧力を加える。こうして得られた成
形体に所定の端面加工、表面研磨を施し、例えば、外径
が65mm、内径が20mm、厚みが0.635mmの
磁気ディスク用カーボン基板を作成する。Then, this is hot isostatic press (HI)
P) is used, for example, while heating to 2600 ° C., 1
An isotropic pressure of 800 atm is applied. The molded body thus obtained is subjected to predetermined end surface processing and surface polishing to prepare, for example, a carbon substrate for a magnetic disk having an outer diameter of 65 mm, an inner diameter of 20 mm and a thickness of 0.635 mm.
【0025】次に、図1に示すように、この磁気ディス
ク用カーボン基板1をスピンドル2にクランプ3により
固定して取付け、基板1を回転させながらパルスレーザ
ーを基板1の表面に垂直に照射する。即ち、電源及び光
源8から発光した光をライトガイド7によりQスイッチ
結晶6(高出力の単パルス光に変換するための光学素
子)に導き、この結晶6からパルスレーザー9を出射さ
せる。このパルスレーザーはビームエキスパンダ5によ
り拡張された(ビーム径を大きくした)後、集光レンズ
4により集束されてカーボン基板1の表面上に照射され
る。Next, as shown in FIG. 1, this carbon substrate 1 for magnetic disk is fixedly attached to a spindle 2 by a clamp 3, and while the substrate 1 is being rotated, a pulse laser is vertically irradiated onto the surface of the substrate 1. . That is, the light emitted from the power source and the light source 8 is guided by the light guide 7 to the Q-switch crystal 6 (optical element for converting to high-output single-pulse light), and the pulse laser 9 is emitted from the crystal 6. This pulse laser is expanded by the beam expander 5 (increasing the beam diameter), then focused by the condenser lens 4 and irradiated onto the surface of the carbon substrate 1.
【0026】上述の方法では、レーザー照射系は固定
し、スピンドル2に取付られたカーボン基板1を回転さ
せつつパルスレーザーを照射するので、図2(a)及び
その一部拡大図である図2(b)に示すように、基板内
周部のリング状の領域10に微小孔11による凹凸が形
成される。In the above method, the laser irradiation system is fixed, and the pulsed laser is irradiated while rotating the carbon substrate 1 mounted on the spindle 2. Therefore, FIG. 2A and a partially enlarged view thereof are shown in FIG. As shown in (b), irregularities due to the minute holes 11 are formed in the ring-shaped region 10 on the inner peripheral portion of the substrate.
【0027】このカーボン基板表面の領域10に形成し
たくぼみ11は、領域10の拡大模式図である図4に示
すように、パルスレーザーのビーム径に対応する直径を
有する孔11が2次元的に相互に接触して配置されたも
のとなっている。このくぼみ形成領域10(テクスチャ
ー形成部)においては、図3(b)に示すように、カー
ボン基板13にパルスレーザーを照射したものであるの
で、凹凸形成部の頂点高さと非凹凸形成部の面高さが同
じであるので、磁気ディスクが回転して磁気ヘッドが所
定の間隙を有して浮上している間は、磁気ヘッドがテク
スチャー非形成部とテクスチャー形成部との間を移動し
ても、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間に接触は生じな
い。このため、磁気ディスクの損傷を防止することがで
きる。As shown in FIG. 4 which is an enlarged schematic view of the region 10, the recess 11 formed in the region 10 on the surface of the carbon substrate has a two-dimensional hole 11 having a diameter corresponding to the beam diameter of the pulse laser. They are arranged in contact with each other. In this depression forming region 10 (texture forming portion), as shown in FIG. 3B, since the carbon substrate 13 is irradiated with a pulse laser, the peak height of the unevenness forming portion and the surface of the non-unevenness forming portion. Since the height is the same, even if the magnetic head moves between the non-texture forming portion and the texture forming portion while the magnetic disk is rotating and the magnetic head is levitating with a predetermined gap. No contact occurs between the magnetic head and the magnetic disk. Therefore, damage to the magnetic disk can be prevented.
【0028】而して、実際に上記各条件で磁気ディスク
用カーボン基板を作り、波長が523nmで、パワーが
1W、パルス周期が6.4KHzのレーザーを使用して
凹凸を形成し、テクスチャリングした結果、直径が約4
μm、最大深さが0.1μmの半球状に掘れたくぼみ1
1が形成された。また、このようなくぼみ11はディス
クの中心から半径が14〜16.5mmの領域に、間隔
5μmで均一に形成された。Then, a carbon substrate for a magnetic disk was actually prepared under the above-mentioned conditions, and irregularities were formed and textured by using a laser having a wavelength of 523 nm, a power of 1 W and a pulse period of 6.4 KHz. As a result, the diameter is about 4
1 μm, maximum depth 0.1 μm hemispherical hollow 1
1 was formed. In addition, the depressions 11 were formed uniformly in the region having a radius of 14 to 16.5 mm from the center of the disc with a spacing of 5 μm.
【0029】このようにして形成した基板に、磁気記録
媒体として、スパッタリングにより下地膜としてCr膜
を0.15μm、磁性層としてCo合金層を0.03μ
m、保護膜としてカーボン膜を0.02μmを連続的に
成膜した。更に潤滑膜として、PTFE(パーフルオロ
ポリティルエーテル)をスピンコート法により20Å形
成した。第5図に形成した磁気ディスク媒体の断面図を
示す。On the substrate thus formed, as a magnetic recording medium, a Cr film as a base film was 0.15 μm and a Co alloy layer was 0.03 μm as a magnetic layer by sputtering.
m, and a carbon film of 0.02 μm was continuously formed as a protective film. Further, as a lubricating film, PTFE (perfluoropolytyl ether) was formed in a thickness of 20Å by a spin coating method. FIG. 5 shows a sectional view of the magnetic disk medium formed.
【0030】このように形成した磁気ディスクと磁気ヘ
ッドとの間の吸着の有無を調査したところ、吸着は発生
しなかった。When the presence or absence of adsorption between the magnetic disk thus formed and the magnetic head was investigated, no adsorption occurred.
【0031】また、ディスク回転中に、テクスチャー未
形成領域から形成領域にヘッドをシークさせた場合も、
また逆にテクスチャー形成領域から未形成領域にシーク
させた場合も、磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触は観
測されなかった。Also, when the head is sought from the texture-unformed area to the formation area while the disk is rotating,
On the contrary, when the seek was performed from the texture formation region to the non-formation region, contact between the magnetic head and the magnetic disk was not observed.
【0032】更に、上述の磁気ディスクは、微小孔中に
潤滑剤が保持され、潤滑膜の回転飛散による潤滑膜の減
少を防止することができた。Further, in the above-mentioned magnetic disk, the lubricant was held in the fine holes, and the reduction of the lubricating film due to the rotational scattering of the lubricating film could be prevented.
【0033】[0033]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る磁気
ディスク用カーボン基板においては、磁気ヘッドがその
起動停止時にランディングする接触領域に、パルスレー
ザーの照射によりテクスチャーを形成したので、パルス
レーザーのビーム径と出力パワー及び照射パターンを変
化させることにより、カーボン基板上の磁気ディスク媒
体と磁気ヘッドとの接触面積を制御することが可能であ
る。また、本発明の磁気ディスク用カーボン基板の表面
に、磁性膜、保護膜、潤滑膜を形成した磁気ディスク媒
体では、磁気ヘッドの吸着が発生しにくいと共に、テク
スチャー未形成領域とテクスチャー形成領域との間でヘ
ッドをシークさせても、磁気ディスクとの接触は発生し
ない。また、前記微小くぼみ中に潤滑剤が保持される結
果、潤滑膜の回転飛散による潤滑膜の減少も防止でき
る。As described above, in the carbon substrate for a magnetic disk according to the present invention, since the texture is formed by the irradiation of the pulse laser in the contact area where the magnetic head lands when the magnetic head starts and stops, the texture of the pulse laser It is possible to control the contact area between the magnetic disk medium on the carbon substrate and the magnetic head by changing the beam diameter, the output power, and the irradiation pattern. Further, in the magnetic disk medium in which the magnetic film, the protective film, and the lubricating film are formed on the surface of the carbon substrate for a magnetic disk of the present invention, adsorption of the magnetic head is less likely to occur, and a texture-unformed area and a texture-formed area are formed. Even if the head is sought in between, no contact with the magnetic disk occurs. Further, as a result of the lubricant being retained in the minute recesses, it is possible to prevent the reduction of the lubricating film due to the rotational scattering of the lubricating film.
【図1】本発明の実施例に係るに磁気ディスクカーボン
基板の製造に使用するレーザー照射装置を示す模式図で
ある。FIG. 1 is a schematic view showing a laser irradiation apparatus used for manufacturing a magnetic disk carbon substrate according to an example of the present invention.
【図2】本発明の実施例に係る磁気ディスク用カーボン
基板のくぼみ形成領域を示す図であり、(a)はその基
板全体を示す平面図、(b)はその一部拡大図である。2A and 2B are diagrams showing a depression forming region of a magnetic disk carbon substrate according to an example of the present invention, FIG. 2A is a plan view showing the entire substrate, and FIG. 2B is a partially enlarged view thereof.
【図3】テクスチャー形成部と非形成部との境界近傍を
示す断面図であり、(a)は従来の場合、(b)は本発
明の場合である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing the vicinity of a boundary between a texture forming portion and a non-forming portion, where (a) is a conventional case and (b) is the present invention.
【図4】本実施例のテクスチャー形成領域のくぼみ配置
を模式的に示す拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view schematically showing an arrangement of depressions in a texture forming area according to this embodiment.
【図5】本実施例の磁気ディスク媒体の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the magnetic disk medium of this embodiment.
1,12,13;カーボン基板 2;パルスレーザー 10;くぼみ形成領域 11;くぼみ 1, 12, 13; Carbon substrate 2; Pulse laser 10; Dimple forming region 11; Dimple
Claims (3)
基板において、磁気ディスク装置の起動及び停止時に磁
気ヘッドと磁気ディスクとの接触が生じる領域を含む領
域に選択的にパルスレーザーを照射してカーボンを酸化
気化又はスパッタリングさせることにより、パルスレー
ザーの単パルスで形成される一つのくぼみの面積が1乃
至900μm2以下であり、くぼみの深さが10乃至3
000Åであり、50%乃至99.9%の表面積をくぼ
みとしたくぼみ形成領域を設けたことを特徴とする磁気
ディスク用カーボン基板。1. A carbon substrate for a magnetic disk having a surface-polished surface is selectively irradiated with a pulse laser to a region including a region where a magnetic head and a magnetic disk come into contact with each other at the time of starting and stopping a magnetic disk device to selectively emit carbon. The area of one depression formed by a single pulse of a pulse laser by oxidization vaporization or sputtering is 1 to 900 μm 2 or less, and the depth of the depression is 10 to 3
A carbon substrate for a magnetic disk, which is 000Å and is provided with an indentation forming region having an indentation of 50% to 99.9% in surface area.
に、磁性膜と保護膜と潤滑膜とを順次形成したことを特
徴とする磁気ディスク媒体。2. A magnetic disk medium, wherein a magnetic film, a protective film, and a lubricating film are sequentially formed on the carbon disk carbon substrate according to claim 1.
膜との間に下地膜を設けたことを特徴とする請求項2に
記載の磁気ディスク媒体。3. The magnetic disk medium according to claim 2, wherein an undercoat film is provided between the magnetic disk carbon substrate and the magnetic film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5078279A JPH06290452A (en) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | Carbon substrate for magnetic disk and magnetic disk medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5078279A JPH06290452A (en) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | Carbon substrate for magnetic disk and magnetic disk medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06290452A true JPH06290452A (en) | 1994-10-18 |
Family
ID=13657532
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5078279A Pending JPH06290452A (en) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | Carbon substrate for magnetic disk and magnetic disk medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06290452A (en) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09138941A (en) * | 1995-11-13 | 1997-05-27 | Nec Corp | Magnetic disk substrate and its production |
JPH09167337A (en) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Nec Corp | Magnetic disk and its production |
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CN105728947A (en) * | 2016-04-20 | 2016-07-06 | 江苏昆仑光源材料有限公司 | Double-sided extreme ultraviolet wave laser array grinding assembly box |
-
1993
- 1993-04-05 JP JP5078279A patent/JPH06290452A/en active Pending
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