JPH10141927A - 実時間表面形状計測方法及び装置 - Google Patents
実時間表面形状計測方法及び装置Info
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- JPH10141927A JPH10141927A JP8302896A JP30289696A JPH10141927A JP H10141927 A JPH10141927 A JP H10141927A JP 8302896 A JP8302896 A JP 8302896A JP 30289696 A JP30289696 A JP 30289696A JP H10141927 A JPH10141927 A JP H10141927A
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Abstract
つ高精度で計測する。 【解決手段】 被検体表面18からの反射光と参照鏡1
7からの反射光を2次元光検出器アレイ20上で干渉さ
せる計測用干渉計MIと、参照用干渉計RIに波長可変
レーザ11からのレーザ光12を入射させ、波長可変レ
ーザ11の発振波長を走査する。信号処理部30では、
2次元光検出器アレイの各ピクセル20nの出力から物
体干渉信号の位相シフト量を、検出器25の出力からレ
ーザ光12の波数シフト量を求め、その比から各ピクセ
ルに対応する被検体表面18の高さ分布h(x,y)を演
算し、実時間で並列的に出力する。
Description
形状を実時間で精密に計測するための方法及び装置に関
するものである。
法としては触針を用いた方法が古くから知られている
が、近年では高精度・非接触・高速性などの利点を有す
る光学的な方法が多く用いられるようになっている。更
に最近は、実時間で表面形状を計測できるシステムに対
する関心が高まっている。実時間表面形状計測システム
としては、例えば電子的モアレ法を用いたものが開発さ
れている。モアレ法では、格子状パターンを被検体表面
に投影することによって得られる変形格子像と参照格子
との積から被検体表面の等高線図を得る。しかし、モア
レ法は周期的パターンを用いるため、不連続な高さ分布
を有する段差の計測はできない。また、格子の投影方向
が観測視線方向と異なることによって、穴やスロットな
どの深さ情報が欠落するなどの問題点があった。さら
に、幾何光学的方法による計測精度の限界もある。
度で距離や寸法の計測を行うことができる。レーザ等の
単色光源を用いた干渉計によると極めて高精度の計測が
可能であるが、波長の整数倍のあいまいさがあるため段
差の計測は困難である。また、単色光源を用いる方法は
鏡面にのみ適用可能である。
法を表面形状計測に適用する手法が提案された。コヒー
レンスレーダは、低コヒーレンス光源を用いた干渉法を
表面形状計測に適用したものである。また、レーザダイ
オード等の半導体レーザの波長変調を用いた干渉計測に
より表面形状を計測する方法(Fourier Transform Spec
kle Profilometry, FTSP)も提案されている。この
2つの方法は、被検体表面の各点までの絶対距離を独立
に計測するものであるため、モアレ法や単色光源を用い
た干渉法のような計測のあいまいさがなく、段差の計測
も可能である。また、粗面にも適用可能である。さら
に、干渉計の光学配置を用いることから、観測視線方向
とビームの入射方向を一致させることができ、穴やスロ
ットの計測も可能である。
レンスレーダ法及びFTSP法は、モアレ法の欠点を克
服したといえるが、被検体表面の形状を実時間で計測す
るのに適当な方法とはいえない。まず、コヒーレンスレ
ーダ法は、被検体表面の各点に対する等光路長位置を求
めるために、干渉計の参照鏡あるいは被検体自体を機械
的に精度よく移動させなければならないため、実時間計
測には適しない。
変調によって生ずる干渉信号を被検体表面の各点に関し
て検出し、それらの信号をフーリエ変換を用いて解析す
ることによって、被検体表面各点の絶対高さを求める。
従って、干渉計の参照鏡や被検体自体を機械的に移動す
る必要はない。しかし、フーリエ変換を行なう必要か
ら、信号処理は本質的に波長変調によって得られる信号
全体をメモリに保持してから処理するオフライン処理と
なり、実時間処理を行うことはできない。また、計測精
度は光源の波長変調幅によって決まるが、半導体レーザ
を使った場合、モードホップ現象のため連続的に変調で
きる波長幅は0.2nm程度と限界があるため、計測精
度も0.4mm程度と比較的低い。
に基づく表面形状計測法で、実時間計測を前提とした方
法は今まで見当たらない。本発明は、このような表面形
状計測の現状に鑑みてなされたもので、段差や穴を有す
る被検体に対してもその表面形状を実時間で高精度に計
測することのできる方法及び装置を提供することを目的
とする。
査レーザを用い、レーザ光の波長走査に伴って発生する
干渉信号をフリンジ計数法によって解析することによ
り、機械的移動やオフラインのフーリエ変換処理を伴う
ことなく、段差や穴を有することのある3次元物体の表
面形状を実時間で精密に計測することを可能にする。
測方法は、レーザ光を被検体表面に照射するステップ
と、被検体表面で反射又は散乱されたレーザ光と前記レ
ーザ光から形成された参照平面波とを被検体表面の結像
位置に配置された光検出器アレイ上で干渉させるステッ
プと、レーザ光の波長を単調変化させるステップと、光
検出器アレイの各検出器から得られる物体干渉信号の位
相シフト量とレーザ光の波数シフト量との比を用いて被
検体表面の形状を計測するステップとを含むことを特徴
とする。
定の光路差を持たせて干渉させることで得られる参照干
渉信号を用いて求めることができる。この参照干渉信号
を得るための干渉計の光路差を十分大きく設定すること
により、高精度な計測が可能となる。
微分した物体干渉信号の零交差数を計数することによっ
て求めることができ、波数シフト量は零平均化あるいは
微分した参照干渉信号の零交差数を計数することによっ
て求めることができる。
置は、波長可変レーザと、波長可変レーザの発振波長を
制御するレーザ制御手段と、被検体表面の像を検出面に
結像させる結像光学系と、検出面に配置された光検出器
アレイと、波長可変レーザからのレーザ光が入射され、
参照鏡で反射されたレーザ光と被検体表面で反射又は散
乱されたレーザ光とを検出面で干渉させる計測用干渉計
と、光検出器アレイの各検出器から発生される干渉信号
を個別に処理する信号処理系とを含み、信号処理系はレ
ーザ制御手段により波長可変レーザの発振波長を単調に
変化させたとき各検出器から発生される干渉信号の位相
シフト量とレーザ光の波数シフト量との比を用いて被検
体表面の形状を計測することを特徴とする。
ザの波長を制御する手段の制御指令とその制御下で発振
するレーザ波長との関係を予め校正しておくことによ
り、波長可変レーザの波長を制御する手段の制御指令か
ら求めることができるが、波長可変レーザからのレーザ
光が入射され、レーザ光を所定の光路差を持たせて干渉
させる参照用干渉計から出力される参照干渉信号を用い
て求める方がより信頼性の高い計測ができる。
から発生された物体干渉信号の零交差数を計数する第1
の計数手段と、参照用干渉計から出力された参照干渉信
号の零交差数を計数する第2の計数手段とを含むことが
できる。
と参照平面波とを干渉させる計測用干渉計としては、例
えばマイケルソン型干渉計を用いることができる。計測
用干渉計の一方の光路に参照鏡を置き、もう一方の光路
には被検体を設置する。被検体表面の像は、結像光学系
によって、例えばCCDを用いた2次元光検出器アレイ
上に結像される。2次元光検出器アレイの各ピクセル
は、被検体表面の各点に対応する。波長可変レーザを波
長走査するとき、被検体表面の各点と参照鏡との絶対光
路差に応じた物体干渉信号が検出器アレイの各ピクセル
で検出される。このとき、絶対光路差を被検体表面の高
さと定義すると、物体干渉信号の位相シフト量とレーザ
光の波数シフト量の比(位相勾配)は被検体表面の高さ
に比例する。これを波長可変レーザの発振波長を波数の
掃引速度が一定となるように走査する場合について言い
換えると、物体干渉信号の周波数もしくは周期の逆数
は、被検体表面の高さに比例する。
段を講ずるのが好ましい。第1に、2次元光検出器アレ
イの各ピクセルから得られる干渉信号をオンラインで処
理する。すなわち、微分されたまたはバイアスを差し引
いて零平均化された干渉信号の零交差の回数及び零交差
時のレーザ波長(波数)をモニターし、それらから得ら
れる位相シフト量と波数シフト量の比(位相勾配)を実
時間で出力する。
知である参照用干渉計を設けることによって、波長可変
レーザの波数シフト量を実時間で精度よく校正する。す
なわち、参照用干渉計の光路差を十分大きく取るとき、
そこから出力される干渉信号は、波数のシフト量を計数
するための精密なクロックとなる。これによってレーザ
の波長走査特性を予め校正する必要はなくなり、またこ
れに伴う計測誤差を防ぐことができる。
出器アレイの全てのピクセルに渡って同時(並列)に行
なう。すなわち、各ピクセル毎に信号処理用の電子回路
を個別に接続し、出力も各ピクセル毎で独立に行なう。
こうすることによって、被検体表面の高さ分布が常に出
力されている状態となり、実時間計測が実現される。本
発明では更に、計測精度を向上させるために、波長可変
レーザの波長走査幅を拡大する。FTSP法では、波長
変調幅の狭い半導体レーザを使うことによる計測精度の
限界があったが、本発明ではTi:sapphireレーザや色
素レーザなどに代表される波長走査幅の広い波長可変レ
ーザを導入することによって、計測精度を1μm程度ま
で向上させることができる。
レイとして2次元光検出器アレイを用いることは必ずし
も必要ではない。例えば、被検体表面形状のプロファイ
ルを求める場合には、1次元光検出器アレイを用いるこ
ともできる。
施の形態を説明する。図1は、本発明による実時間表面
形状計測装置の一例の概略構成図である。波長可変レー
ザ11からのレーザビーム12は、反射鏡13で反射さ
れ、ビームスプリッタ14により2分割され、一方は参
照用干渉計RIに、もう一方は計測用干渉計MIに導か
れる。計測用干渉計MIに導入されるレーザビームは、
ビームエキスパンダ15を通過して適当な直径の平行ビ
ームとされる。計測用干渉計MIに導かれた平行ビーム
は、ハーフミラー16によって二分割され、一方は参照
平面鏡17に入射し、もう一方は被検体表面18を照射
する。
光は、ハーフミラー16及び結像光学系19を通過し
て、同様に参照鏡17から反射してきた平面波と干渉さ
せられる。結像光学系19は、被検体表面18を2次元
光検出器アレイ20上に結像する。結像光学系19の焦
点面に置かれた開口板21は、結像光学系19の焦点深
度を調整するためと結像系全体をテレセントリック系と
するためのものである。この結像系によって、被検体表
面18の各点の高さh(x,y)に応じた干渉信号(物体
干渉信号)が、被検体表面18のxy座標(x,y)と
一対一対応する2次元光検出器アレイ20上の各ピクセ
ル201 ,202 ,203 ,…によって検出される。こ
こで、被検体表面18の各点の高さh(x,y)は、参照
平面鏡17のハーフミラー16に関する鏡像17Mから
測るものとする。
差lr を有する。図1では、参照用干渉計RIは互いに
平行に配置されたハーフミラー23と全反射平面鏡24
から成っているが、マイケルソン型の干渉計でもよい。
参照用干渉計RIの検出器25からは、波長可変レーザ
11から発生されたレーザ光12の波数を校正するため
の干渉信号(参照干渉信号)が出力される。検出器25
から出力される参照干渉信号には、ハーフミラー23と
平面鏡24の間での多重反射により光路長差lr で決ま
る基本周波数の整数倍の周波数成分も含まれるので、帯
域フィルタ(BPF)26によって、基本周波数以外の
周波数成分を除去する。
20の各ピクセル201 ,202 ,203 ,…の検出出
力及び、帯域フィルタ26によって基本周波数以外の周
波数成分が除去された参照用干渉計RIの検出器25の
出力は信号処理部30に入力されて後述のように処理さ
れる。信号処理部30は、2次元光検出器アレイ20の
各ピクセル201 ,202 ,203 ,…に対応する出力
311 ,312 ,313 ,…を並列的に出力する。な
お、レーザ制御装置11a及び信号処理部30は主制御
装置10によって統括的に制御されている。
の原理について簡単に説明する。レーザ制御手段11a
により波長可変レーザ11の発振レーザ波長を連続的に
走査したとき、2次元光検出器アレイ20の各ピクセル
で検出される物体干渉信号の位相φ(x,y)は、次の
〔数1〕で与えられる。
数、Δkは波数シフト量である。従って、波数シフト量
Δkに対する干渉信号の位相シフト量Δφは、Δφ=2
h(x,y)Δkで与えられるから、表面高さh(x,y)は
物体干渉信号の位相シフト量Δφと波数シフト量Δkの
比を用いて次の〔数2〕で与えられる。
信号または零平均化信号の零交差を計数することによっ
て、また波数シフト量Δkは参照干渉信号の微分信号ま
たは零平均化信号の零交差数を計数することによって、
それぞれ実時間で求められる。すなわち、波長走査開始
点から現時点までの物体干渉信号の零交差計数値をN
(x,y)とし、物体干渉信号の最初の零交差に対応する
波数をk1 、最後(第N番目)の零交差に対応する波数
をkN とすると、位相シフト量Δφ=π(N−1)、波
数シフト量Δk=kN−k1となり、被検体表面の高さh
(x,y)はそれらの比から次の〔数3〕のように求めら
れる。
(kN−k1)
で変化する間に計数される参照干渉信号の零交差数をN
r とすると、波数シフト量(kN−k1)はNr を使って
次の〔数4〕のように近似的に表される。
求められる波数シフト量はπ/2lr だけの不確定さを
持つ。従って、波数シフト量を正確に求めるためには、
参照用干渉計の光路差lr を十分長く取って、十分細か
い参照干渉信号を発生させる必要がある。
の表式を、Nr 及びlr を使って書き直すと次の〔数
5〕が得られる。〔数5〕は、波数シフト量Δkを陽に
含まない式であり、これによって波数値は自動的に校正
されたことになる。
20の各ピクセル毎に行なわれる。各ピクセル201 ,
202 ,203 ,…には上記の信号処理を行なう電子回
路301 ,302 ,303 ,…が接続され、被検体表面
18の高さに比例した出力311 ,312 ,313 ,…
を与える。すなわち、被検体表面18の高さ分布h(x,
y)は実時間で常時出力されている。
用干渉計MIの出力(物体干渉信号)と参照用干渉計R
Iの出力(参照干渉信号)を示す説明図である。図2
(a)は2次元光検出器20の1つのピクセル20n か
ら得られた物体干渉信号I(k)を模式的に示し、図2
(b)は帯域フィルタ26を通した参照用干渉計RIの
検出器25から得られた参照干渉信号Ir(k)を模式的
に示している。縦軸は信号出力、横軸は波数である。信
号処理部30では、いずれのピクセルの出力に対しても
零平均化されるようにバイアスを設定し、零交差の数を
カウントする。または、各ピクセルの出力信号を微分し
て、その零交差を計数しても同じである。
aによって波長が長くなる方向あるいは短くなる方向に
単調に波長走査されており、計測を開始して最初に物体
干渉信号が零交差したときのレーザ光の波数はk1 、現
在のレーザ光の波数はkである。その間に、物体干渉信
号はN回の零交差を生じ、最後(N番目)の零交差時の
波数はkN である。物体干渉信号の最初の零交差から最
後(N番目)の零交差の間に、参照干渉信号はNr 回の
零交差を生じている。参照用干渉計RIは、物体干渉信
号I(k)の零交差の発生頻度より十分大きな頻度で参照
干渉信号Ir(k)の零交差が発生するように、十分長い
光路差Ir が設定されている。
0の動作について説明する。図3は、信号処理部30の
1ピクセル分の要素回路30n の構成を示すブロック図
である。また、図4は信号処理部の要素回路に入力され
る各種信号及び物体干渉信号I(k)から得られる零交差
信号を説明するタイミングチャート、図5は参照干渉信
号Ir(k)を説明するタイミングチャートである。
で用いる零交差計数器ZCCの説明図である。零交差計
数器ZCCは、信号入力端子、計数開始トリガ入力端
子、及び計数終了トリガ入力端子からなる3つの入力端
子と、零交差の数を出力する零交差計数値出力端子、及
び零交差が計数される毎にパルスが発生する零交差発生
パルス出力端子からなる2つの出力端子を備える。
202 ,203 ,…に接続される各要素回路は、図3
(b)に示すように2個の零交差計数器33,34を用
いて構成されている。物体干渉信号I(k)及び参照干渉
信号Ir(k)は、ともに直流バイアスフィルタ(コンデ
ンサ)35,36を通して零平均化される。零平均化さ
れた物体干渉信号は第1の零交差計数器33に入力さ
れ、零平均化された参照干渉信号は第2の零交差計数器
34に入力される。なお、直流バイアスフィルタ35,
36の代わりに微分回路を用いてもよい。
制御装置10aに発せられるレーザの波長走査ゲート信
号aを表し、この波長走査ゲート信号aに基づいて発生
されるレーザ波長走査開始トリガ信号bの入力により、
第1の零交差計数器33は物体干渉信号dの零交差計数
を開始する。図4の横軸に示したk0 ,k1 ,k2 ,…
は、各タイミングにおける波長可変レーザの発振波数を
表す。第1の零交差計数器33の零交差発生パルス出力
端子からは、図4(e)に示すように、零交差が発生す
る度にパルスeが出力される。また、第1の零交差計数
器33の零交差計数値出力端子からは、図4(f)に示
すように、零交差の計数値Nを表す信号fが実時間で出
力される。
照干渉信号gは第2の零交差計数器34に入力される。
この第2の零交差計数器34は、前記〔数3〕による
と、物体干渉信号dの第1零交差k1 の時点で計数を開
始しなければならない。従って、参照干渉信号用の第2
の零交差計数器34の開始トリガの入力端子には、物体
干渉信号の零交差を計数する第1の零交差計数器33か
ら出力される零交差発生パルスeが入力される。
の零交差計数値Nr は、物体干渉信号dの零交差k0 ,
k1 ,k2 ,…が発生する度に出力される。これは、物
体干渉信号dの零交差の計数タイミングとの同期をとる
ためである。そのために、参照干渉信号gの計数値を表
す出力iはゲート37を通される。このゲート37は物
体干渉信号dの零交差発生パルスeによって開かれ、計
数値の更新が行われる。新しい計数値は、次の更新が生
じるまでホルダ38に保持される。物体干渉信号dの零
交差の計数値Nと参照干渉信号gの零交差の計数値Nr
の比はアナログ演算器やデジタル演算器等の演算手段3
9を用いて得ることができ、演算処理部30の各要素回
路301 ,302 ,303 ,…からは、前記〔数5〕の
関係を用いて演算された被検体表面18の高さに比例し
た出力311 ,312 ,313 ,…が得られる。
第2の零交差計数器33,34に同時に入力され、これ
によって零交差の計数が中止される。次に、本発明によ
る表面形状計測の計測精度及び計測範囲について見積も
る。前記〔数3〕より、高さの計測精度δhは次の〔数
6〕で表される。
信号の零交差の計数エラーδNは無視した。高さの計測
精度δhは、波数の計測精度δkが高くなるほど高くな
る。また、波数シフト(kN−k1)が大きくなるほど高
さの計測精度δh高くなる。したがって、信号処理部3
0からは常に被検体表面18の高さ分布h(x,y)の計
測結果が出力されているが、波長走査が進行するにつれ
て出力される高さ分布の精度は次第に高くなっていく。
は、第1にレーザのコヒーレンス長によって制限され
る。次に、参照用干渉計の光路差lr によって制限さ
れ、更に、結像系の焦点深度によって制限される。
体表面の形状を計測した例について説明する。被検体表
面としては、段差を有する光拡散表面(粗面)を用い
た。図6は、被検体の断面模式図である。スライドガラ
ス40上に光拡散性の表面を有する鋼板41を張り付
け、さらにその上に光拡散性の表面を有するもう一枚の
鋼板を位置をずらして重ねたものである。2枚の鋼板4
1,42による段差H1はマイクロメータによる鋼板の
厚さ測定から0.25mmである。表面形状計測装置と
しては図1に示した構成の装置を用い、計測用干渉計M
Iの被検体表面18の位置に図6に示した被検体を、鋼
板41,42の面にレーザ光が当たるようにして配置し
た。波長可変レーザとしてはローダミン6Gの色素レー
ザを用い、566nm〜591nmの範囲で波長走査を
行った。
横軸はレーザ光の波長、縦軸は物体干渉信号の強度を表
す。図7(a)は鋼板41からの散乱レーザ光と参照光
との干渉による物体干渉信号の一例であり、図7(b)
は鋼板42からの散乱レーザ光と参照光との干渉による
物体干渉信号の一例である。
分布h(x,y)のデータをもとに、被検体の表面形状を
3次元的に表示したものである。表面形状計測時に波長
可変レーザ11によって走査された全波数走査幅をΔK
とするとき、図8(a)は全走査幅ΔKの4%に相当す
る波数走査が終わった時点で得られた計測結果を表す。
同様に、図8(b)は全走査幅ΔKの37%の波数走査
が終わった時点で得られた計測結果を表し、図8(c)
は全走査幅ΔKの70%の波数走査が終わった時点で得
られた計測結果を表す。図8(d)は波長可変レーザ1
1による予定の波長走査が完了した時点で得られた計測
結果を表す。
差の計測が可能である。また、計測実行中は常に実時間
で被検体の表面形状についての情報を得ることができ、
その計測精度は計測時間の経過とともに次第に向上す
る。したがって、波長可変レーザ11の波長(波数)走
査範囲を任意に選択することにより、所望の計測精度で
表面形状を計測することができる。換言すると、計測中
は実時間で表面形状データが得られ、その精度は時間と
ともに上がっていくのであるから、所望の計測精度で表
面形状のデータが得られた時点で計測を終了すればよい
ことになる。
面プロフィールを示す図である。横軸は2次元光検出器
20のピクセル番号であり、縦軸は高さである。図9か
ら明らかなように、段差が明瞭に現れており、その高さ
は上記のマイクロメータで計測した数値とよく一致して
いる。断面プロフィールにおける計測された表面高さ分
布の小さな揺らぎは計測精度によるものと考えられ、そ
の標準偏差は計測精度を与える。
計測精度の関係を表す図である。横軸は波数シフト、縦
軸は再生された高さの2次元分布をフィッティングする
ことによって求めた平均的高さ分布からの高さ計測値の
標準偏差である。図中、aは図6の表面41に対する
〔数6〕に基づく理論計算値、bは表面42に対する
〔数6〕に基づく理論計算値の曲線、□及び×は実測値
である。また、破線で示した直線cは表面41から反射
又は散乱されたレーザ光と参照光との干渉光について計
測されるフリンジ数、直線dは表面42から反射又は散
乱されたレーザ光と参照光との干渉光について計測され
るフリンジ数である。
するにつれて、測定精度が向上することを定量的に示し
ている。すなわち、レーザ光の波長を時間とともに走査
したとき、計測時間の経過とともに計測精度が向上して
いくことを実証している。計測精度は表面高さに依存す
るが、この例の場合、測定精度は4μmが限界で、表面
粗さがこの限界を与える。また、図10から、最初の1
0カウント程度で計測精度が急速に向上することが分か
る。
を用いて同様の計測を行った。図11は、被検体の断面
模式図である。この被検体は、スライドガラス45上
に、表面にアルミニウム(Al)をコーティングして鏡
面とした顕微鏡用のカバーガラス46を張り付け、さら
にその上に同様に表面にAlをコーティングして鏡面と
した顕微鏡用のカバーガラス47を位置をずらして重ね
たものである。2枚のカバーガラス46,47による段
差H2はマイクロメータによるカバーガラスの厚さ測定
から0.15mmである。表面形状計測装置としては図
1に示した構成の装置を用い、計測用干渉計MIの被検
体表面18の位置に図11に示した被検体を、カバーガ
ラス46,47の表面にレーザ光が当たるようにして配
置した。波長可変レーザとしてはローダミン6Gの色素
レーザを用い、566nm〜591nmの範囲で波長走
査を行った。
さ分布h(x,y)のデータをもとに、被検体の表面形状
を3次元的に表示したものである。表面形状計測時に波
長可変レーザ11によって走査された全波数走査幅をΔ
Kとするとき、図12(a)は全走査幅ΔKの4%に相
当する波数走査が終わった時点で得られた計測結果を、
図12(b)は全走査幅ΔKの37%の波数走査が終わ
った時点で得られた計測結果を、図12(c)は全走査
幅ΔKの70%の波数走査が終わった時点で得られた計
測結果を、図12(d)は波長可変レーザ11による予
定の波長走査が完了した時点で得られた計測結果をそれ
ぞれ表す。
状の断面プロフィールを示す図である。横軸は2次元光
検出器20のピクセル番号であり、縦軸は高さである。
図12は図8と同様、計測精度が計測時間とともに向上
していくことを示している。図8の粗面の段差の高さ分
布と、図12の鏡面の段差の高さ分布を比べると、表面
粗さの違いが明瞭に現れていることが分かる。図13よ
り、計測された段差が、上記のマイクロメータで計測し
た値とよく一致していることが分かる。
計測精度の関係を表す図である。横軸は波数シフト、縦
軸は平均的高さ分布からの高さ計測値の標準偏差であ
る。図中、aは図11の表面46に対する〔数6〕に基
づく理論計算値、bは表面47に対する〔数6〕に基づ
く理論計算値の曲線、□及び×は実測値である。また、
破線で示した直線cは表面46から反射されたレーザ光
と参照光との干渉光について計測されるフリンジ数、直
線dは表面47から反射されたレーザ光と参照光との干
渉光について計測されるフリンジ数である。
とともに計測精度が向上していくことを定量的に示して
いる。この例の場合、計測精度は1μmが限界である。
計測精度の限界が図10と図14とで異なるのは、表面
粗さの相違によるものである。また図14から、最初の
10カウント程度で計測精度が急速に向上することが分
かる。
測装置の他の例の概略構成図である。この例では参照干
渉計を用いない。レーザ制御装置51aによって波長制
御される波長可変レーザ51からのレーザビームは、ビ
ームエキスパンダ55を通過して適当な直径の平行ビー
ムとなって計測用干渉計MIに導かれる。計測用干渉計
MIに導かれた平行ビームは、ハーフミラー56によっ
て二分割され、一方は参照平面鏡57に入射し、もう一
方は被検体表面58を照射する。
光は、ハーフミラー56で反射され、結像光学系59に
よって2次元光検出器アレイ70上で結像される。結像
光学系59の焦点面に置かれた開口板61は、結像光学
系59の焦点深度を調整するためと結像系全体をテレセ
ントリック系とするためのものである。参照鏡57で反
射されたレーザ光はハーフミラー56及び結像光学系5
9を通過し、被検体表面58で反射又は散乱したレーザ
光と2次元検出器アレイ70上で干渉する。被検体表面
58のxy座標(x,y)と一対一対応する2次元光検
出器アレイ70の各ピクセル701 ,702 ,703 ,
…からは、被検体表面58の各点の高さh(x,y)に応
じた干渉信号(物体干渉信号)が出力される。2次元光
検出器アレイ70の各ピクセル701 ,702 ,7
03 ,…からの出力信号は、信号処理部71に入力され
て並列的に処理される。
ザ制御装置51aは、主制御装置50からの指令によっ
て制御され、主制御装置50は、その波長制御指令によ
って波長可変レーザ51から発振されるレーザ光の波長
(波数)情報を信号処理部71に供給する。この主制御
装置50による波長制御指令と、波長可変レーザ51か
ら発振されるレーザ光の波長(波数)の関係は、予め実
験等によって校正されている。
次元光検出器アレイ70の各ピクセル701 ,702 ,
703 ,…の検出出力及び、主制御装置50から供給さ
れるレーザ光の波数情報を用いて前述と同様の処理を行
い、2次元検出器アレイ70の各ピクセル701 ,70
2 ,703 ,…に対応する被検体表面58の高さh(x,
y)を表示装置等の出力装置72に並列的に出力する。
体表面58の表面形状を実時間で計測することができ
る。ただし、この場合には、波長可変レーザ51の発振
波長を高い精度で校正しておく必要がある。
形状を実時間で高精度に計測することができる。
概略構成図。
照用干渉計から得られた参照干渉信号を模式的に示す
図。
示すブロック図。
び物体干渉信号から得られる零交差信号を説明するタイ
ミングチャート。
した図。
ルを示す図。
係を表す図。
示した図。
ールを示す図。
係を表す図。
例の概略構成図。
ーザ制御装置、12…レーザビーム、13…反射鏡、1
4…ビームスプリッタ、15…ビームエキスパンダ、1
6…ハーフミラー、17…参照鏡、18…被検体表面、
19…結像光学系、20…2次元光検出器アレイ、21
…開口板、23…ハーフミラー、24…全反射平面鏡、
25…検出器、26…帯域フィルタ、30…信号処理
部、33,34…零交差計数器、35,36…直流バイ
アスフィルタ、37…ゲート、38…ホルダ、39…演
算手段、40…スライドガラス、41,42…鋼板、4
5…スライドガラス、46,47…カバーガラス、50
…主制御装置、51…波長可変レーザ、51a…レーザ
制御装置、55…ビームエキスパンダ、61…開口板、
56…ハーフミラー、57…参照平面鏡、58…被検体
表面、59…結像光学系、70…2次元光検出器アレ
イ、71…信号処理部、72…出力装置、MI…計測用
干渉計、RI…参照用干渉計
Claims (6)
- 【請求項1】 レーザ光を被検体表面に照射するステッ
プと、 前記被検体表面で反射又は散乱されたレーザ光と前記レ
ーザ光から形成された参照平面波とを前記被検体表面の
結像位置に配置された光検出器アレイ上で干渉させるス
テップと、 前記レーザ光の波長を単調変化させるステップと、 前記光検出器アレイの各検出器から得られる物体干渉信
号の位相シフト量と前記レーザ光の波数シフト量との比
を用いて前記被検体表面の形状を計測するステップとを
含むことを特徴とする実時間表面形状計測方法。 - 【請求項2】 前記レーザ光の波数シフト量は、前記レ
ーザ光を所定の光路差を持たせて干渉させた参照干渉信
号を用いて求めることを特徴とする請求項1記載の実時
間表面形状計測方法。 - 【請求項3】 前記位相シフト量は前記物体干渉信号の
零交差数を計数することによって求め、前記波数シフト
量は前記参照干渉信号の零交差数を計数することによっ
て求めることを特徴とする請求項2記載の実時間表面形
状計測方法。 - 【請求項4】 波長可変レーザと、 前記波長可変レーザの発振波長を制御するレーザ制御手
段と、 被検体表面の像を検出面に結像させる結像光学系と、 前記検出面に配置された光検出器アレイと、 前記波長可変レーザからのレーザ光が入射され、参照鏡
で反射されたレーザ光と前記被検体表面で反射又は散乱
されたレーザ光とを前記検出面で干渉させる計測用干渉
計と、 前記光検出器アレイの各検出器から発生される物体干渉
信号を個別に処理する信号処理系とを含み、 前記信号処理系は前記レーザ制御手段により前記波長可
変レーザの発振波長を単調に変化させたとき前記各検出
器から発生される物体干渉信号の位相シフト量と前記レ
ーザ光の波数シフト量との比を用いて前記被検体表面の
形状を計測することを特徴とする実時間表面形状計測装
置。 - 【請求項5】 前記波長可変レーザからのレーザ光が入
射され、前記レーザ光を所定の光路差を持たせて干渉さ
せる参照用干渉計を備え、前記参照用干渉計から出力さ
れる参照干渉信号を用いて前記レーザ光の波数シフト量
を求めることを特徴とする請求項4記載の実時間表面形
状計測装置。 - 【請求項6】 前記信号処理系は、前記光検出器アレイ
の各検出器から発生された物体干渉信号の零交差数を計
数する第1の計数手段と、前記参照用干渉計から出力さ
れた参照干渉信号の零交差数を計数する第2の計数手段
とを含むことを特徴とする請求項5記載の実時間表面形
状計測装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30289696A JP3564569B2 (ja) | 1996-11-14 | 1996-11-14 | 実時間表面形状計測方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10141927A true JPH10141927A (ja) | 1998-05-29 |
JP3564569B2 JP3564569B2 (ja) | 2004-09-15 |
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ID=17914419
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3564569B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005062183A (ja) * | 2003-08-08 | 2005-03-10 | Mitsutoyo Corp | オフセット補正決定用信号提供方法および干渉計システム |
JP2011215134A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-10-27 | Nidek Co Ltd | 光断層像撮影装置 |
JP5286524B2 (ja) * | 2006-03-22 | 2013-09-11 | 国立大学法人群馬大学 | 周波数測定装置及び周波数測定方法 |
WO2013134966A1 (zh) * | 2012-03-15 | 2013-09-19 | 浙江大学 | 用于非球面测量的波长扫描干涉仪及其应用方法 |
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CN118258328A (zh) * | 2024-05-30 | 2024-06-28 | 福建省计量科学研究院(福建省眼镜质量检验站) | 一种兼具线纹测量与直线度测量功能的仪器 |
-
1996
- 1996-11-14 JP JP30289696A patent/JP3564569B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP3564569B2 (ja) | 2004-09-15 |
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