JPH10134565A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH10134565A
JPH10134565A JP8285063A JP28506396A JPH10134565A JP H10134565 A JPH10134565 A JP H10134565A JP 8285063 A JP8285063 A JP 8285063A JP 28506396 A JP28506396 A JP 28506396A JP H10134565 A JPH10134565 A JP H10134565A
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JP
Japan
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write
data
column
signal
memory cells
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Application number
JP8285063A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Segawa
裕一 瀬川
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JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To protect data in the memory cells of columns other than a writing object from breakdown at the time of writing by a method wherein writing word signals are supplied only to 3-transistor memory cells belonging to a column selected by a column selection signal. SOLUTION: Writing word signals are not supplied to all memory cells 40 but supplied only to memory cells 40 belonging to a selected column. That is, a double-word signal is generated by the logical product of the writing word signal and a column selection signal. Therefore, data are written only in the memory cells 40 belonging to the column which is the object of data writing and the writing word signals are not supplied to the memory cells 40 belonging to the other columns. As a result, data in the memory cells belonging to the columns other than the writing object are protected from breakdown.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関する。特に、3トランジスタ型メモリセルを用いた半
導体記憶装置に関する。
[0001] The present invention relates to a semiconductor memory device. In particular, it relates to a semiconductor memory device using a three-transistor memory cell.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置には、種々のメモリセル
が用いられている。例えば、6個のトランジスタを用い
たスタティックラム(以下、SRAMと呼ぶ)や、1個
のトランジスタと1つのキャパシタで1つのメモリセル
を構成するダイナミックラム(以下、DRAMと呼ぶ)
などが利用されている。DRAMは、SRAMと比べて
構成するトランジスタの個数が少ないため、大きな容量
の半導体記憶装置を構成するのに広く用いられている
が、記憶内容を保持するためのリフレッシュ動作が必要
となる。
2. Description of the Related Art Various memory cells are used in semiconductor memory devices. For example, a static ram (hereinafter, referred to as SRAM) using six transistors, or a dynamic ram (hereinafter, referred to as DRAM) that forms one memory cell with one transistor and one capacitor.
Etc. are used. A DRAM has a smaller number of transistors than an SRAM, and thus is widely used for forming a large-capacity semiconductor memory device. However, a refresh operation for retaining stored contents is required.

【0003】近年、ゲートアレイなどによるASICが
広く用いられているが、ASICは消費電力などの観点
からCMOSプロセスにより構成される場合が多い。こ
のASICは、特定の用途向けの回路が自由に構成で
き、例えば内部にCPUコアやメモリを内蔵することも
広く行われている。このASICに内蔵されているメモ
リとしては、いわゆる3トランジスタ型のメモリセルが
用いられる場合が多い。上述したSRAMによればリフ
レッシュ動作は不要となるが一つのメモリセルに6個も
のトランジスタが必要である。一方、DRAMを搭載す
る場合には、特別のDRAMプロセスが必要となり、一
般のCMOSプロセスで形成されているASICには使
用しにくいという問題がある。
In recent years, an ASIC using a gate array or the like has been widely used, but the ASIC is often formed by a CMOS process from the viewpoint of power consumption and the like. In the ASIC, a circuit for a specific application can be freely configured, and, for example, a CPU core and a memory are often built therein. As a memory built in the ASIC, a so-called three-transistor type memory cell is often used. According to the SRAM described above, the refresh operation is unnecessary, but one memory cell requires as many as six transistors. On the other hand, when a DRAM is mounted, a special DRAM process is required, and there is a problem that it is difficult to use an ASIC formed by a general CMOS process.

【0004】そのため、通常のCMOSプロセスにより
形成されるASICにおいてはいわゆる3トランジスタ
型のメモリセルが用いられる。この3トランジスタ型の
メモリセルの回路図が図2に示されている。
For this reason, an ASIC formed by a normal CMOS process uses a so-called three-transistor type memory cell. FIG. 2 shows a circuit diagram of the three-transistor type memory cell.

【0005】図2に示されているように、この3トラン
ジスタ型のメモリセルは、書き込みトランジスタ10
と、記憶トランジスタ12と、読み出しトランジスタ1
4と、から構成されている。
As shown in FIG. 2, this three-transistor type memory cell has a write transistor 10
, Storage transistor 12 and read transistor 1
4.

【0006】まず、この3トランジスタ型メモリセルに
データを書き込む場合は、ライトビット線(WBL)に
書き込むべきデータを印可する。次に、ライトワード線
(WWL)を「H」レベルにし、書き込みトランジスタ
10を導通状態とする。すると、ライトビット線(WB
L)に現れているデータの内容が記憶トランジスタ12
のゲートに印可される。この状態から、ライトワード線
(WWL)を「L」にする事により、書き込みトランジ
スタ10が非導通状態になる。すると、ライトビット線
(WBL)上のデータが記憶トランジスタ12のゲート
端子に電荷として記憶される。
First, when writing data to the three-transistor type memory cell, data to be written is applied to a write bit line (WBL). Next, the write word line (WWL) is set to “H” level, and the write transistor 10 is turned on. Then, the write bit line (WB
L) is the content of the data appearing in the storage transistor 12.
Is applied to the gate. In this state, the write transistor 10 is turned off by setting the write word line (WWL) to “L”. Then, data on the write bit line (WBL) is stored as a charge in the gate terminal of the storage transistor 12.

【0007】記憶トランジスタ12のゲート端子に電荷
として蓄えられたデータは、この記憶トランジスタが導
通状態か又は非道通状態であるかによって、読み出すこ
とが可能である。従って、記憶トランジスタ12と接続
されている読み出しトランジスタ14を介してリードビ
ット線(RBL)に読み出される。データをリードビッ
ト線(RBL)に読み出すためには、リードワード線
(RWL)を「H」にする。すると、読み出しトランジ
スタ14が導通状態になり、記憶トランジスタ12のゲ
ート端子に蓄えられている電荷に応じたデータが読み出
されるのである。
[0007] Data stored in the gate terminal of the storage transistor 12 as electric charge can be read depending on whether the storage transistor is in a conductive state or a non-conductive state. Therefore, the data is read to the read bit line (RBL) via the read transistor 14 connected to the storage transistor 12. To read data to the read bit line (RBL), the read word line (RWL) is set to “H”. Then, the read transistor 14 becomes conductive, and data corresponding to the charge stored in the gate terminal of the storage transistor 12 is read.

【0008】具体的には、記憶トランジスタ12のゲー
ト端子に「H」が印可されている場合には所定の電荷が
ゲート端子にチャージされており、記憶トランジスタ1
2は導通状態である。従って、読み出しトランジスタ1
4を介してリードビット線(RBL)に読み出されるデ
ータは、「L」となる。一方、記憶トランジスタ12の
ゲート端子に「L」の電位が印可されている場合には、
記憶トランジスタ12は非導通状態であり、リードビッ
ト線(RBL)には「H」の値が読み出される。従っ
て、ゲート端子に印可されている電荷とは逆極性のデー
タが読み出されるのである。
Specifically, when "H" is applied to the gate terminal of the storage transistor 12, a predetermined charge is charged to the gate terminal, and the storage transistor 1
2 is a conduction state. Therefore, the read transistor 1
4, the data read out to the read bit line (RBL) becomes “L”. On the other hand, when a potential of “L” is applied to the gate terminal of the storage transistor 12,
The storage transistor 12 is off, and a value of “H” is read to the read bit line (RBL). Therefore, data having the opposite polarity to the charge applied to the gate terminal is read.

【0009】図2において説明したような3トランジス
タ型メモリセルを用いた半導体記憶装置の構成ブロック
図が図3に示されている。この図3に示されている半導
体記憶装置は、FIFOメモリーなどに用いられるもの
である。
FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of a semiconductor memory device using a three-transistor type memory cell as described in FIG. The semiconductor memory device shown in FIG. 3 is used for a FIFO memory or the like.

【0010】この半導体記憶装置に供給されるアドレス
はライトカラムデコーダ20や、リードカラムデコーダ
26に供給される。この2種類のカラムデコーダに供給
されているのはアドレスの上位ビットである。またアド
レスの下位ビットは、ライトワードデコーダ22と、リ
ードワードデコーダ24にそれぞれ供給されている。
The address supplied to the semiconductor memory device is supplied to a write column decoder 20 and a read column decoder 26. The upper bits of the address are supplied to these two types of column decoders. The lower bits of the address are supplied to the write word decoder 22 and the read word decoder 24, respectively.

【0011】ライトカラムデコーダ20は、入力された
アドレスに基づき所定のカラムセレクト信号を出力す
る。そして、ライトカラムセレクタ0〜ライトカラムセ
レクタn−1のいずれか1個のライトカラムセレクタを
動作状態にする。このライトカラムデコーダ20は上位
のアドレス信号とライト制御信号を受信しており、この
半導体記憶装置に対するデータの書き込みが行われる場
合にカラムセレクタ0〜カラムセレクタn−1のいずれ
かを選択して動作状態にするのである。
The write column decoder 20 outputs a predetermined column select signal based on the input address. Then, one of the light column selectors 0 to n-1 is set to the operation state. The write column decoder 20 receives an upper address signal and a write control signal, and operates by selecting one of the column selectors 0 to n-1 when data is written to the semiconductor memory device. State it.

【0012】上述したように、データのライトの際には
ライトカラムセレクタ0〜ライトカラムセレクタn−1
のいずれかが動作状態になるとともに、上位アドレスと
ライト制御信号に基づきライトワードデコーダ22が、
ライトワード線にライトワード信号を出力する。書き込
まれるデータは、入力端子から入力回路30を介してラ
イトドライバ32に供給される。
As described above, when data is written, the write column selector 0 to the write column selector n-1 are used.
Is in the operating state, and the write word decoder 22 operates based on the upper address and the write control signal.
A write word signal is output to the write word line. The data to be written is supplied from the input terminal to the write driver 32 via the input circuit 30.

【0013】本半導体記憶装置のデータ幅はmビットで
あり、入力回路30及びライトドライバ32もmビット
で構成されている。ライトドライバ32から出力される
mビットのデータはライトデータバス(WDB)<0:
m−1>を通じて各ライトカラムセレクタ0〜ライトカ
ラムセレクタn−1にそれぞれ供給される。ライトカラ
ムデコーダ20によって選択されたライトカラムセレク
タを介して書き込むべきデータがライトビット線(WB
L<0:m−1>)に出力される。
The data width of the semiconductor memory device is m bits, and the input circuit 30 and the write driver 32 are also composed of m bits. The m-bit data output from the write driver 32 has a write data bus (WDB) <0:
m-1> to the respective light column selectors 0 to n-1. The data to be written via the write column selector selected by the write column decoder 20 is the write bit line (WB
L <0: m-1>).

【0014】次に、ライトワードデコーダ22によって
生成されたライトワード信号が「H」になると、対応す
るメモリセル40に所定のデータが書き込まれるのであ
る。
Next, when the write word signal generated by the write word decoder 22 becomes "H", predetermined data is written to the corresponding memory cell 40.

【0015】一方、データが読み出される場合には、ラ
イトカラムデコーダ20の代わりに、リードカラムデコ
ーダ26が動作する。このリードカラムデコーダは、所
定のカラムセレクト信号(RY0〜RYn−1)を出力
し、何れか1つのリードカラムセレクタ0〜リードカラ
ムセレクタn−1を選択する。
On the other hand, when data is read, the read column decoder 26 operates instead of the write column decoder 20. This read column decoder outputs predetermined column select signals (RY0 to RYn-1) and selects one of the read column selectors 0 to n-1.

【0016】データの読み出しの際にはリードワードデ
コーダ24がリードワード信号をリードワード線(RW
L)に出力する。すると、対応する位置のメモリセル4
0に書き込まれている内容がリードビット線(RBL)
に読み出されるのである。読み出されたデータはセンス
アンプ42によって受信され、リードカラムセレクタ0
〜リードカラムセレクタn−1のいずれかのリードカラ
ムセレクタを介してセンスアンプ44に供給される。こ
れらのリードカラムセレクタ0〜リードカラムセレクタ
n−1はリードデータバス(RDB)<0:m−1>を
介してセンスアンプ44に接続されている。このセンス
アンプ44も、上記入力回路30やライトドライバ32
と同様にmビットのセンスアンプであり、センスアンプ
44が読み出したデータは出力回路46を介してデータ
出力端子に出力されるのである。
When reading data, the read word decoder 24 outputs a read word signal to a read word line (RW
L). Then, the memory cell 4 at the corresponding position
The content written to 0 is the read bit line (RBL)
Is read out. The read data is received by the sense amplifier 42, and the read column selector 0
To the sense amplifier 44 via any one of the read column selectors n-1. These read column selectors 0 to n-1 are connected to the sense amplifier 44 via a read data bus (RDB) <0: m-1>. This sense amplifier 44 is also connected to the input circuit 30 and the write driver 32.
The data read out by the sense amplifier 44 is output to the data output terminal via the output circuit 46 in the same manner as described above.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】図3に示されているよ
うな従来の3トランジスタ型メモリセルを用いた半導体
記憶装置は以上のようにデータ書き込みやデータ読み出
しを行う。そのため、データの書き込みを行う場合に
は、ライトワード信号が「H」であるライトワード線
(WWL)に接続しているすべてのセルが活性化即ちデ
ータの書き込み状態となる。しかし、書き込むべきデー
タはいずれか一つのライトカラムセレクタ(0〜n−1
の何れか1つ)からのみ出力されているため、そのほか
のライトカラムセレクタに接続されているメモリセルに
は所定のデータは印可されていない。そのため、書き込
み動作の対象外のメモリセルのデータが破壊されてしま
う。
A conventional semiconductor memory device using a three-transistor type memory cell as shown in FIG. 3 performs data writing and data reading as described above. Therefore, when writing data, all the cells connected to the write word line (WWL) whose write word signal is “H” are activated, that is, the data is written. However, the data to be written is one of the write column selectors (0 to n-1).
), No predetermined data is applied to the memory cells connected to the other write column selectors. As a result, data in memory cells not subjected to the write operation is destroyed.

【0018】従って、図3に示されているような従来の
3トランジスタ型メモリセルを用いた半導体記憶装置に
おいては、データの書き込みを行おうとする場合には、
まず、一つのライトワード線(WWL)に接続されてい
るすべてのメモリセルの内容を全て読み出して外部のバ
ッファに格納しておく必要がある。
Therefore, in a conventional semiconductor memory device using a three-transistor type memory cell as shown in FIG. 3, when data is to be written,
First, it is necessary to read out all the contents of all the memory cells connected to one write word line (WWL) and store them in an external buffer.

【0019】図4にはこのような従来の半導体記憶装置
においてデータの読み出しと書き込みを行う場合の動作
を表すタイミングチャートが示されている。このタイミ
ングチャートに示されているように、データの書き込み
動作時には一旦データをバッファに書き込んでおく必要
があり、データの読み出し時間に比べてデータの書き込
み時間が大幅に増大している。
FIG. 4 is a timing chart showing the operation when reading and writing data in such a conventional semiconductor memory device. As shown in the timing chart, it is necessary to temporarily write data to the buffer during the data write operation, and the data write time is significantly longer than the data read time.

【0020】このように、従来の3トランジスタ型メモ
リセルを用いた半導体記憶装置においてはデータの書き
込みの際複雑な制御が必要であり、またアクセス速度も
遅いものであった。
As described above, in a conventional semiconductor memory device using a three-transistor type memory cell, complicated control is required at the time of writing data, and the access speed is slow.

【0021】本発明は、係る課題に鑑みなされたもので
あり、その目的は3トランジスタ型メモリセルを用いた
半導体記憶装置において、データ書き込みの際に、書き
込み対象以外のメモリセルのデータを破壊しない半導体
記憶装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to prevent data in a memory cell other than a write target from being destroyed at the time of data writing in a semiconductor memory device using three-transistor memory cells. An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、3トランジスタ型メモリセルを用いた半
導体記憶装置において、アドレスをデコードし、カラム
セレクタ信号を生成するカラムアドレスデコーダと、ア
ドレス及びライト制御信号をデコードし、ライトワード
信号を生成するライトワードデコーダと、前記ライトワ
ード信号と、前記カラムセレクタ信号との論理積をと
り、2重ワード信号を生成し、この2重ワード信号を前
記3トランジスタ型メモリセルに供給するANDゲート
と、を含み、前記カラムセレクタ信号によって選択され
たカラムに属する前記3トランジスタ型メモリセルにの
み、前記ライトワード信号が供給されることを特徴とす
る半導体記憶装置である。
According to the present invention, there is provided a semiconductor memory device using three-transistor type memory cells, which decodes an address and generates a column selector signal. A write word decoder that decodes an address and a write control signal to generate a write word signal; and a logical product of the write word signal and the column selector signal to generate a double word signal; And an AND gate for supplying the write word signal to only the three-transistor memory cells belonging to a column selected by the column selector signal. It is a semiconductor storage device.

【0023】書き込み対象となるカラムのメモリセルに
のみデータが書き込まれるため、書き込み対象となって
いない他のメモリセルのデータを破壊してしまうことは
ない。
Since data is written only to the memory cells in the column to be written, data in other memory cells not to be written is not destroyed.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を図面に基づいて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0025】図1には、本発明の好適な実施の形態であ
る半導体記憶装置の構成ブロック図が示されている。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a preferred embodiment of the present invention.

【0026】図1に示されている半導体記憶装置の構成
は、図3に示されている従来の半導体記憶装置とほぼ同
様の構成をしている。図1に示されている構成におい
て、図3と異なる点は、ANDゲート50が各カラム毎
に設けられていることである。そして、各カラム(0〜
n−1)に属するメモリセル40は、それぞれ対応する
カラム毎に設けられているANDゲート50の出力信号
をワードライト信号(これを、2重ワード信号と呼ぶ)
として受信するのである。このANDゲート50は、ラ
イトワードデコーダ22の出力信号であるライトワード
信号(ライトワード線(WWL)上に表れる)と、その
属するカラムを選択する信号であるカラムセレクト信号
WY(0〜n−1)との論理積を取って、2重ワード信
号として出力するのである。
The configuration of the semiconductor memory device shown in FIG. 1 is almost the same as that of the conventional semiconductor memory device shown in FIG. The configuration shown in FIG. 1 differs from FIG. 3 in that an AND gate 50 is provided for each column. And each column (0
The memory cells 40 belonging to n-1) output the output signal of the AND gate 50 provided for each corresponding column to a word write signal (this is called a double word signal).
It is received as. The AND gate 50 outputs a write word signal (appearing on the write word line (WWL)) which is an output signal of the write word decoder 22 and a column select signal WY (0 to n-1) which is a signal for selecting a column to which the write word signal belongs. ) And outputs it as a double word signal.

【0027】本実施の形態において特徴的なことは、ラ
イトワード信号が直接すべてのメモリセル40に供給さ
れているのではなく、ライトワード信号が、カラムセレ
クト信号WY0〜WYn−1との論理積がとられてか
ら、(2重ワード信号として)それぞれのメモリセル4
0に供給されているのである。
A feature of this embodiment is that the write word signal is not directly supplied to all the memory cells 40, but the write word signal is logically ANDed with the column select signals WY0 to WYn-1. Is taken, each memory cell 4 (as a double word signal)
It is supplied to zero.

【0028】このように、本実施の形態においてはライ
トワード信号がすべてのメモリセル40に供給されるの
ではなく、選択されたカラムに属するメモリセル40に
のみ供給されるように構成した。従って、データの書き
込みの対象となっているカラムのメモリセル40にのみ
データが書き込まれ、そのほかのカラムに属するメモリ
セル40に対してはライトワード信号が与えられず、書
き込み動作は行われない。その結果、書き込みの対象と
なっているカラムのメモリセル以外のメモリセルのデー
タを破壊してしまうことがない。
As described above, in this embodiment, the write word signal is not supplied to all the memory cells 40 but is supplied only to the memory cells 40 belonging to the selected column. Therefore, data is written only to the memory cells 40 of the column to which data is to be written, and no write word signal is given to the memory cells 40 belonging to the other columns, and no write operation is performed. As a result, data in memory cells other than the memory cell in the column to be written is not destroyed.

【0029】従って、本実施の形態によればデータを書
き込む際にあらかじめデータの破壊を防ぐためのデータ
の読み出しを行っておくなどの複雑な制御が不要とな
る。尚、データのリードの動作については図1に示され
ている半導体記憶装置は図3に示されている半導体記憶
装置と同様の動作を行う。
Therefore, according to the present embodiment, there is no need to perform complicated control such as reading out data in advance to prevent data destruction when writing data. Note that the semiconductor memory device shown in FIG. 1 performs the same operation as the semiconductor memory device shown in FIG.

【0030】本実施の形態に係る半導体記憶装置におい
てデータの読み出しと書き込みを行う場合の動作を表す
タイミングチャートが図5に示されている。このタイミ
ングチャートに示されているように、データの書き込み
動作時には、図4に示されている動作と異なり、データ
を一旦バッファに書き込んでおく必要がない。そのた
め、データの書き込み時間を読み込み時間と同様の時間
とすることが可能である。
FIG. 5 is a timing chart showing the operation when reading and writing data in the semiconductor memory device according to the present embodiment. As shown in this timing chart, at the time of the data write operation, unlike the operation shown in FIG. 4, it is not necessary to write the data into the buffer once. Therefore, the data writing time can be set to be the same as the reading time.

【0031】このように、本実施の形態においてはワー
ドライト線(WWL)と各メモリセル40との間にAN
Dゲート50を設けたため、ライトワード信号が実際の
メモリセル40に到達するまでの時間がゲート1段分だ
け長くなってしまうようにも考えられる。しかしなが
ら、従来の図3に示されている構成では、ワードライト
線(WWL)は、全てのカラムのメモリセル40に接続
されていたため、ライトワードデコーダ22の負荷はか
なり大きいものであった。これと比較して、図1に示さ
れている構成ではわずかn個のANDゲート50のみを
ライトワードデコーダ22は駆動すればいいため、ライ
トワードコーダ22の負荷は大幅に低減している。その
ため、ワードライト線(WWL)におけるライトワード
信号の立ち上がりは図3に比べて図1に示されている構
成の方がかなり早くなることが期待される。そのため、
ANDゲート50によるゲート1段分の遅延が生じて
も、図1に示されている回路構成は図3に示されている
回路構成に比べて著しく不利となることはないと考えら
れる。
As described above, in the present embodiment, AN is connected between the word write line (WWL) and each memory cell 40.
Since the D gate 50 is provided, the time required for the write word signal to reach the actual memory cell 40 may be increased by one gate. However, in the conventional configuration shown in FIG. 3, the load of the write word decoder 22 is considerably large because the word write line (WWL) is connected to the memory cells 40 of all the columns. By contrast, in the configuration shown in FIG. 1, the load of the write word coder 22 is greatly reduced because the write word decoder 22 only needs to drive only n AND gates 50. Therefore, it is expected that the rise of the write word signal in the word write line (WWL) is considerably faster in the configuration shown in FIG. 1 than in FIG. for that reason,
Even if a delay of one stage occurs due to the AND gate 50, the circuit configuration shown in FIG. 1 is not considered to be significantly disadvantageous as compared with the circuit configuration shown in FIG.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によればライ
トワード信号は、カラムセレクト信号と論理積を取るこ
とにより2重ワード信号を生成している。そして、2重
ワード信号をメモリセルである3トランジスタ型メモリ
セルに供給しているのである。従って、データの書き込
み対象以外のカラムに属するメモリセルのデータを破壊
することがないため、データの書き込みの際の制御が簡
易な半導体記憶装置を提供可能である。
As described above, according to the present invention, the write word signal is ANDed with the column select signal to generate a double word signal. Then, a double word signal is supplied to a three-transistor memory cell which is a memory cell. Therefore, since the data of the memory cells belonging to the columns other than the data write target are not destroyed, it is possible to provide a semiconductor memory device in which control at the time of data write is simple.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の好適な実施の形態に係る半導体記憶
装置の構成ブロック図である。
FIG. 1 is a configuration block diagram of a semiconductor memory device according to a preferred embodiment of the present invention.

【図2】 3トランジスタ型メモリセルの回路図であ
る。
FIG. 2 is a circuit diagram of a three-transistor type memory cell.

【図3】 従来の半導体記憶装置の構成ブロック図であ
る。
FIG. 3 is a configuration block diagram of a conventional semiconductor memory device.

【図4】 従来の半導体記憶装置のデータの読み出し及
び書き込みの動作を表すタイミングチャートである。
FIG. 4 is a timing chart showing data read and write operations of a conventional semiconductor memory device.

【図5】 本実施の形態に係る半導体記憶装置のデータ
の読み出し及び書き込みの動作を表すタイミングチャー
トである。
FIG. 5 is a timing chart illustrating data read and write operations of the semiconductor memory device according to the present embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 ライトカラムデコーダ、22 ライトワードデコ
ーダ、24 リードワードデコーダ、26 リードカラ
ムデコーダ、30 入力回路、32 ライトドライバ、
40 メモリセル、42 センスアンプ、44 センス
アンプ、46出力回路、50 ANDゲート。
20 write column decoders, 22 write word decoders, 24 read word decoders, 26 read column decoders, 30 input circuits, 32 write drivers,
40 memory cells, 42 sense amplifiers, 44 sense amplifiers, 46 output circuits, 50 AND gates.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】3トランジスタ型メモリセルを用いた半導
体記憶装置において、 アドレスをデコードし、カラムセレクタ信号を生成する
カラムアドレスデコーダと、 アドレス及びライト制御信号をデコードし、ライトワー
ド信号を生成するライトワードデコーダと、 前記ライトワード信号と、前記カラムセレクタ信号との
論理積をとり、2重ワード信号を生成し、この2重ワー
ド信号を前記3トランジスタ型メモリセルに供給するA
NDゲートと、 を含み、前記カラムセレクタ信号によって選択されたカ
ラムに属する前記3トランジスタ型メモリセルにのみ、
前記ライトワード信号が供給されることを特徴とする半
導体記憶装置。
In a semiconductor memory device using three-transistor memory cells, a column address decoder for decoding an address and generating a column selector signal and a write for decoding an address and a write control signal and generating a write word signal are provided. A logical product of a word decoder, the write word signal, and the column selector signal is generated to generate a double word signal, and the double word signal is supplied to the three-transistor memory cell.
An ND gate, and only the three-transistor type memory cells belonging to the column selected by the column selector signal,
A semiconductor memory device to which the write word signal is supplied.
JP8285063A 1996-10-28 1996-10-28 Semiconductor memory device Pending JPH10134565A (en)

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