JPH10125760A - 基板自動供給回収装置及び半導体製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板自動供給回収装置及び半導体製造装置に
関し、半導体の基板が汚染されにくく、且つ待ち時間を
最小限にするようにすることを目的とする。 【解決手段】 半導体の基板２４を収納したカセット２
６を収納可能な保管容器２８を配置した複数のステージ
２２と、各ステージ内で保管容器を開閉するための開閉
装置３０と、ステージ内の各保管容器に清浄用ガスを供
給するためのガス供給装置３２と、基板用搬送手段２０
とを備え、基板を収納したカセットをステージ内におい
てガスを充満した状態で保管容器に保管し、選択された
カセットを該保管容器から基板処理部１８に供給し又は
カセットを該基板処理部から回収してステージ内におい
てガスを充満した状態で保管容器に保管する構成とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は基板自動供給回収装
置及び半導体製造装置に関する。より詳細には、本発明
は半導体の基板をエッチングやＣＶＤ等の基板処理部へ
供給し且つ該基板処理部から回収するための基板自動供
給回収装置並びにそのような基板自動供給回収装置を備
えた半導体製造装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造装置においては、半導体の基
板（ウエハ）はクリーンルーム内においてエッチングや
ＣＶＤ等の処理を受け、あるいは検査される。処理や検
査を行う基板は基板自動供給回収装置に保管され、必要
に応じてエッチングやＣＶＤ及び検査を行うチャンバ
（基板処理部）に供給され、且つ同チャンバから回収さ
れる。基板自動供給回収装置は搬送手段（ロボット）を
含む。

【０００３】半導体の基板は通常カセットに収納され、
カセット毎に搬送され、あるいは保管される。また、半
導体の基板を収納したカセットをさらに保管容器に収納
して、保管容器毎搬送したり、保管したりすることもあ
る。保管容器は基板自動供給回収装置内で開かれ、保管
容器から出されたカセットがエッチングやＣＶＤを行う
チャンバに供給される。保管容器はカセットを密閉して
収納することができるが、カセットは一側面が開口して
いて半導体の基板をその開口部から出し入れするように
なっている。カセットは密閉構造のものではない。

【０００４】基板自動供給回収装置はカセット又は保管
容器を配置可能な複数のステージを含む。従来は、複数
のステージのうちの一つのステージが入出庫ステージで
あり、残りのステージが保管ステージとなっていた。従
って、搬送車で基板自動供給回収装置へ搬送されたカセ
ット又は保管容器は、入出庫ステージに挿入される。入
出庫ステージに挿入されたカセット又は保管容器は、内
部のロボットにより入出庫ステージとは別の保管ステー
ジに移送され、その保管ステージで保管されるととも
に、必要に応じてその保管ステージからエッチングやＣ
ＶＤを行うチャンバに供給され、且つ同チャンバからそ
の保管ステージへ回収される。それから、処理済の基板
を収納したカセット又は保管容器は、保管ステージから
入出庫ステージへ移送され、入出庫ステージから別のス
テージへ搬送される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】近年の半導体デバイス
の高集積化にともない、酸化膜の信頼性向上、直接コン
タクトの低抵抗化等の要求が厳しくなっている。そのた
め、半導体の基板の表面が汚染されるのを防止する必要
がある。しかし、クリーンルーム内と言えども、半導体
の基板の表面が汚染されることがある。

【０００６】例えば、基板自動供給回収装置から基板処
理部へ基板を収納したカセットを供給するとき及び逆に
基板処理部から基板自動供給回収装置へ基板を収納した
カセットを回収するとき、並びに、基板処理部内におい
て、処理待ちや処理終了した半導体の基板は、クリーン
ルーム環境雰囲気にさらされていることになり、基板に
は、有機物質が付着したり、酸素と水分による表面酸化
等の汚染が発生する。

【０００７】また、従来の基板自動供給回収装置では、
上記したように、カセット又は保管容器の供給回収処理
を行う入出庫ステージが１個しかなく、挿入されたカセ
ット又は保管容器を入出庫ステージから別の位置の保管
ステージ移送し、回収したカセット又は保管容器を保管
ステージから入出庫ステージへ移送することが必要であ
る。

【０００８】このような移送の間は、ロボットが基板自
動供給回収装置と基板処理部との間でカセット又は保管
容器を搬送できないので、基板処理部で処理が終わって
いても処理の終わった基板を基板自動供給回収装置へ回
収することができず、また新しい基板を基板処理部へ搬
送することができない。このように、従来は搬送待ちに
よる供給回収の停止があり、処理チャンバの稼働率の低
下があった。そして、処理チャンバでの基板の待ち時間
が長くなると、上記した汚染の問題が大きくなる。

【０００９】本発明の目的は、半導体の基板が汚染され
にくく、且つ待ち時間を最小限にするようにした基板自
動供給回収装置及び半導体製造装置を提供することを目
的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明による基板自動供
給回収装置は、半導体の基板を収納したカセットを収納
可能な保管容器を配置した複数のステージと、各ステー
ジ内で保管容器を開閉するための開閉手段と、ステージ
内の各保管容器に清浄用ガスを供給するためのガス供給
手段と、基板用搬送手段とを備え、基板を収納したカセ
ットをステージ内においてガスを充満した状態で保管容
器に保管し、選択されたカセットを該保管容器から基板
処理部に供給し又はカセットを該基板処理部から回収し
てステージ内においてガスを充満した状態で保管容器に
保管するようにしたことを特徴とするものである。

【００１１】本発明による半導体製造装置は、半導体の
基板を収納したカセットを収納可能な保管容器を配置し
た複数のステージと、各ステージ内で保管容器を開閉す
るための開閉手段と、ステージ内の各保管容器に清浄用
ガスを供給するためのガス供給手段と、基板を収納した
カセットを搬送する搬送手段とを備えた基板自動供給回
収装置と、基板処理部とを備え、基板を収納したカセッ
トをステージ内においてガスを充満した状態で保管容器
に保管し、選択されたカセットを該保管容器から該基板
処理部に供給し又はカセットを該基板処理部から回収し
てステージ内においてガスを充満した状態で保管容器に
保管するようにしたことを特徴とする。

【００１２】このように、本発明では、基板自動供給回
収装置のステージ内において、半導体の基板を収納した
カセットを収納可能な保管容器を開閉し、且つ保管容器
に不活性ガス等の清浄用ガスを導入するようにしてい
る。従って、少なくとも基板自動供給回収装置内におい
て基板はガスで清浄にされてエッチングやＣＶＤ等の基
板処理部へ送られ、且つ回収された基板は基板自動供給
回収装置内においてガスで清浄にされ、クリーンルーム
内の汚染の原因となるガスに直接に触れる機械が非常に
小さくなる。従って、基板の汚染を小さくすることがで
きる。

【００１３】本発明によるもう一つの特徴の半導体製造
装置は、半導体の基板を収納したカセットを収納した保
管容器を配置可能な複数のステージと、基板を収納した
カセットを収納した保管容器を搬送する搬送手段とを備
えた基板自動供給回収装置と、基板処理部と、該基板処
理部内に設けられて、保管容器を開閉するための開閉手
段と、保管容器の周りに清浄用ガスを供給するためのガ
ス供給手段とを有する保管容器開閉室とを備え、基板を
収納したカセットを収納した保管容器を該基板自動供給
回収装置で保管し、選択された保管容器を該基板自動供
給回収装置から該保管容器開閉室へ搬送するとともに該
保管容器開閉室内にガスを充満した状態で該保管容器を
開き、該保管容器からカセットを出して該基板を使用し
且つ使用されたカセットを該基板処理部から該保管容器
開閉室内に戻して該保管容器開閉室内にガスを充満した
状態で該保管容器を開いて基板を収納したカセットを該
保管容器に収納し、該保管容器を該基板自動供給回収装
置に回収するようにしたことを特徴とする。

【００１４】このように、本発明では、保管容器開閉室
が基板処理部内に設けられている。この保管容器開閉室
には、保管容器を開閉するための開閉手段と、保管容器
の周りに清浄用ガスを供給するためのガス供給手段とが
ある。従って、基板はガスで清浄にされてエッチングや
ＣＶＤ等の基板処理部へ送られ、且つ回収された基板も
ガスで清浄にされた状態となる。従って、クリーンルー
ム内の汚染の原因となるガスに直接に触れる機会が非常
に小さくなり、基板の汚染を小さくすることができる。

【００１５】本発明によるもう一つの特徴の基板自動供
給回収装置は、半導体の基板を収納したカセット又は保
管容器を配置可能な複数のステージと、基板を収納した
カセットを収納した保管容器を基板処理部へ供給し且つ
該基板処理部から回収する搬送手段とを備え、該複数の
ステージの少なくとも２つ以上のステージは入出庫機能
を有するとともに半導体の基板を収納したカセット又は
保管容器を保管可能にしたことを特徴とする。

【００１６】この場合、複数のステージの少なくとも２
つ以上のステージは入出庫機能を有するとともに半導体
の基板を収納したカセット又は保管容器を保管可能にし
たので、半導体の基板を収納したカセット又は保管容器
の入出庫作業中であっても、基板自動供給回収装置と基
板処理部との間で基板の移送を行うことができ、基板処
理部における作業の待ち時間を最小限にすることができ
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】図１及び図２は本発明の第１実施
例による半導体製造装置１０を示す図である。半導体製
造装置１０は、クリーンルーム１２を有する。クリーン
ルーム１２にはフィルタ１４が配置され、クリーンルー
ム環境を外部の環境よりも清浄にしている。フィルタ１
４は、ガラス繊維濾材を使用したＨＥＰＡフィルタ又は
ＵＬＰＡフィルタからなり、例えば０．１μｍ以上の微
粒子除去を行うようになっている。

【００１８】しかし、クリーンルーム１２内には、０．
１μｍ以下の微粒子があり、さらに各種の部材に付着し
たガスや水分があり、あるいは各種の部材の材料から生
じるガス（例えばプラスチック部材の場合には材料段階
で充填された有機溶剤等のガス）がある。半導体の基板
がそのようなクリーンルーム環境雰囲気にさらされるの
が好ましくないことがある。

【００１９】クリーンルーム１２内には、基板自動供給
回収装置１６及び基板処理部１８が設けられる。基板処
理部１８は、半導体製造のために半導体の基板（ウエ
ハ）を処理するための部位であり、例えば、エッチング
やＣＶＤやイオンプランティング等の半導体製造におけ
る区画されたチャンバ及びそのチャンバ内の装置、ある
いは基板の検査を行うための区画された領域及び検査装
置を含む。

【００２０】基板自動供給回収装置１６は搬送手段とし
てのロボット（又はロボットアーム）２０を有する。基
板自動供給回収装置１６は、複数のステージ２２を備え
る。各ステージ２２は半導体の基板２４を収納したカセ
ット２６を収納可能な保管容器２８を配置してある。カ
セット２６は前面側が開口され、側面に水平な溝が設け
られて、その前面側の開口部から基板２４を出し入れす
ることができる従来的なものである。基板２４の両端部
はカセット２６の側面の水平な溝に挿入、保持される。

【００２１】図１及び図３に示されるように、保管容器
２８は各ステージ２２内で固定的に配置される下方部分
２８ａと移動可能な上方部分２８ｂとを有し、上方部分
２８ｂを固定部分２８ａに対して移動させることにより
保管容器２８の開閉を行うことができる。各ステージ２
内には、保管容器２２を開閉するための開閉装置３０が
設けられる。この開閉装置３０は上方部分２８ｂに係合
して上方部分２８ｂを移動させるアクチュエータであ
る。

【００２２】さらに、各ステージ２２内の各保管容器２
２に清浄用ガス（不活性ガス）を供給するためのガス供
給装置３２が設けられる。ガス供給装置３２は、チェッ
ク弁３３を備えたガス供給ライン３４と、チェック弁３
５を備えたガス戻りライン３６とからなり、ガス供給ラ
イン３４及びガス戻りライン３６は固定部分２８ａを通
って保管容器２２の内部に通じている。また、ガス供給
ライン３４及びガス戻りライン３６は図示しないガス供
給源に通じている。なお、図３で点線で示すチェック弁
３３、３５を含む部分を固定部分２８ａの内蔵してもよ
い。また、ガス供給ライン３４及びガス戻りライン３６
には、その他の弁を配置してもよい。

【００２３】上記構成において、ロボット２０は全ての
ステージ２２の全ての保管容器２２の位置間を移動でき
るとともに、処理や検査を行う基板２４を収容したカセ
ット２６を基板自動供給回収装置１６と基板処理部１８
との間で搬送することができる。さらに、基板自動供給
回収装置１６の制御装置と、基板処理部１８の制御装置
とがあるが、これらの制御装置はオンラインで接続され
ており、基板処理部１８における基板２４の搬送の要求
や待機指令及び準備指令は基板自動供給回収装置１６に
送られ、基板自動供給回収装置１６と基板処理部１８と
を同期して、ロボット２０や開閉装置３０やガス供給装
置３２を作動させる。

【００２４】最初に、基板２４を収納したカセット２６
を全てのステージ２２の全ての保管容器２８に例えば搬
送車や人手により挿入する。この場合、開閉装置３０が
保管容器２８を開かせ、カセット２６が保管容器２８に
挿入されたら保管容器２８を閉じさせる。それから、ガ
ス供給装置３２が保管容器２８内に浄化用ガス（不活性
ガス）を供給する。

【００２５】このようにして、基板２４を収納したカセ
ット２６をステージ２２内においてガスを充満した状態
で保管容器２８に保管する。従って、保管中に、半導体
の基板２４及びカセット２６がクリーンルーム環境雰囲
気にさらされることはない。ただし、基板２４を収納し
たカセット２６を最初から全てのステージ２２の全ての
保管容器２８に挿入しておく必要はないが、保管容器２
８は全てのステージ２２にセットしておく。

【００２６】選択されたカセット２６を該保管容器２６
から基板処理部１８に供給する。この場合、開閉装置３
０が保管容器２８を開かせ、ロボット２０がカセット２
６を保管容器２８から出したら、保管容器２８を閉じさ
せる。それから、そのカセット２６内の基板２４の処理
（エンチングやＣＶＤ及び検査等）が終了したら、カセ
ット２６を基板処理部１８から基板自動供給回収装置１
６へ回収する。

【００２７】この場合にも、開閉装置３０が保管容器２
８を開かせ、カセット２６が保管容器２８に入ったら、
保管容器２８を閉じさせ、そしてガス供給装置３２が保
管容器２８内に浄化用ガス（不活性ガス）を供給する。
こうして、ステージ２２内においてガスを充満した状態
でカセット２６を保管容器２６に保管する。それから、
次のカセット２６をステージ２２の保管容器２６から基
板処理部１８に供給し、処理が終了したらカセット２６
を基板処理部１８から基板自動供給回収装置１６へ回収
する。

【００２８】このような動作を繰り返す間、基板２４及
びカセット２６がクリーンルーム環境雰囲気にさらされ
る時間は非常に短くなり、基板２４へのクリーンルーム
環境からの有機系物質の付着や、水分や酸素による表面
酸化等の汚染を防止することができる。使用済の基板２
４を収納したカセット２６は、基板自動供給回収装置１
６から次の処理のために排出され、新しい基板２４を収
納したカセット２６が基板自動供給回収装置１６に挿入
される。

【００２９】図４から図７は本発明の第２実施例による
半導体製造装置１０を示す図である。半導体製造装置１
０は、フィルタ１４を備えたクリーンルーム１２内に、
基板自動供給回収装置１６及び基板処理部１８が設けら
れる。基板処理部１８は、半導体製造のために半導体の
基板（ウエハ）に作用するための部位である。基板処理
部１８は区画された領域であり、その中に、エッチング
やＣＶＤやイオン注入及び検査等の処理のために区画さ
れたチャンバ１８ａを含む。

【００３０】基板自動供給回収装置１６はロボット２０
及び複数のステージ２２を備える。各ステージ２２は半
導体の基板２４を収納したカセット２６を収納した保管
容器２８を配置可能である。カセット２６は前面側が開
口された従来的なものである。図６及び図７に示される
ように、保管容器２８は下方部分２８ａと上方部分２８
ｂとを有し、上方部分２８ｂを下方部分２８ａに対して
移動させることにより保管容器２８の開閉を行うことが
できる。ただし、この実施例においては、保管容器２８
は各ステージ２２内で固定的に配置されるものではな
く、保管容器２８はカセット２６を収納した状態で各ス
テージ２２に挿入され、且つ、保管容器２８はカセット
２６を収納した状態で基板処理部１８へ搬送される。

【００３１】この実施例においては、保管容器開閉室４
０が基板処理部１８内に設けられる。基板処理部１８内
には、保管容器開閉室４０とチャンバ１８ａとの間でカ
セット２６を搬送するロボット４２が設けられる。保管
容器開閉室４０は密閉室であり、入口側扉４４と出口側
扉４６とを有する。保管容器開閉室４０内には、保管容
器を開閉するための開閉装置３０と、保管容器２８の周
りに清浄用ガス（不活性ガス）を供給するためのガス供
給装置３２とが設けられる。

【００３２】開閉装置３０は保管容器２８の上方部分２
８ｂに係合して上方部分２８ｂを移動させるアクチュエ
ータである。開閉装置３０は保管容器２８の下方部分２
８ａを固定する固定手段を含むようにしてもよい。ガス
供給装置３２は、ガス供給ライン３４とガス戻りライン
３６とからなり、また、ガス供給ライン３４及びガス戻
りライン３６は図示しないガス供給源に通じている。さ
らに、基板自動供給回収装置１６の制御装置と、基板処
理部１８の制御装置とがあるが、これらの制御装置はオ
ンラインで接続されており、基板処理部１８における基
板２４の搬送の要求や待機指令は基板自動供給回収装置
１６に送られ、ロボット２０や開閉装置３０やガス供給
装置３２を作動させる。

【００３３】上記構成において、ロボット２０は全ての
ステージ２２の全ての保管容器２２の位置間を移動でき
るとともに、処理や検査を行う基板２４を収容したカセ
ット２６を収容した保管容器２８を基板自動供給回収装
置１６と保管容器開閉室４０との間で搬送することがで
き、ロボット４２は保管容器２８から出したカセット２
６を保管容器開閉室４０と基板処理部１８との間で搬送
することができる。

【００３４】最初に、基板２４を収納したカセット２６
を収容した保管容器２８を基板自動供給回収装置１６の
ステージ２２に例えば搬送車や人手により挿入する。そ
れから、選択された保管容器２８を基板自動供給回収装
置１６から保管容器開閉室４０に搬送する。この場合、
出口側扉４６を閉じ、入口側扉４４を開き、保管容器２
８が保管容器開閉室４０に搬送されたら、入口側扉４４
を閉じる。

【００３５】それから、ガス供給装置３２が保管容器開
閉室４０内で保管容器２８の周りに浄化用ガス（不活性
ガス）を供給する。そこで、開閉装置３０が保管容器２
８を開かせる。このようにして、保管容器開閉室４０内
にガスを充満した状態で保管容器２８を開き、基板２
４、カセット２６、及び保管容器２８の全てを不活性ガ
スで包み込む。

【００３６】ここで、基板２４、カセット２６、及び保
管容器２８を一時的に保管容器開閉室４０内に保管する
こともでき、あるいはただちに、ロボット４２が保管容
器２８からカセット２６を出してチャンバ１８ａへ搬送
し、チャンバ１８ａ内で基板２４を使用する。すなわ
ち、エッチング等の処理や検査を行い、それから使用さ
れた（処理が終了した）カセット２４が保管容器開閉室
４０に戻され、カセット２６は保管容器２８に収容され
る。

【００３７】この場合にも、入口側扉４４及び出口側扉
４６が閉じたら、ガス供給装置３２が保管容器開閉室４
０内で保管容器２８の周りに浄化用ガス（不活性ガス）
を供給し、それから、開閉装置３０が保管容器２８を閉
じさせる。それから、ロボット２０が基板２４を収容し
たカセット２６を収容した保管容器２８を基板処理部１
８の保管容器開閉室４０から基板自動供給回収装置１６
に回収する。

【００３８】このようにして、基板２４、カセット２６
及び保管容器２８がクリーンルーム環境雰囲気にさらさ
れる時間は非常に短くなり、基板２４へのクリーンルー
ム環境からの有機系物質の付着や、水分や酸素による表
面酸化等の汚染を防止することができる。使用済の基板
２４を収納したカセット２６を収納した保管容器２８
は、基板自動供給回収装置１６から次の処理のために排
出され、新しい基板２４を収納したカセット２６を収納
した保管容器２８が基板自動供給回収装置１６に挿入さ
れる。

【００３９】図８及び図９は本発明の第３実施例による
半導体製造装置１０を示す図である。半導体製造装置１
０は、フィルタ（図示せず）を備えたクリーンルーム１
２内に、基板自動供給回収装置１６及び基板処理部１８
が設けられる。基板処理部１８は、半導体製造のために
半導体の基板（ウエハ）に作用するための部位である。
基板自動供給回収装置１６はロボット２０及び複数のス
テージ２２を備える。図９においては、９個のステージ
２２が設けられている。

【００４０】各ステージ２２には、上記第１実施例及び
第２実施例のようにして、半導体の基板２４を収納した
カセット２６を収納した保管容器２８を保管可能であ
る。また、第３実施例においては、上記第１実施例及び
第２実施例とは異なって、保管容器２８を使用すること
なく、各ステージ２２には、半導体の基板２４を収納し
たカセット２６を保管可能である。図８及び図９には、
カセット２６又は保管容器２８が示されている。

【００４１】基板自動供給回収装置１６の制御装置と、
基板処理部１８の制御装置とがあるが、これらの制御装
置はオンラインで接続されており、基板処理部１８にお
ける基板２４の搬送の要求や待機指令は基板自動供給回
収装置１６に送られる。ロボット２０は、図８に矢印で
示されるように、全てのステージ２２の全てのカセット
又は保管容器２２の位置間を移動できるとともに、処理
や検査を行う基板２４を収容したカセット２６又は保管
容器２８を基板自動供給回収装置１６と基板処理部１８
との間で搬送することができる。

【００４２】この実施例においては、全てのステージ２
２が入出庫機能を有するとともに半導体の基板２４を収
納したカセット２６又は保管容器２８を保管可能になっ
ている。全てのステージ２２が入出庫機能を有するため
に、全てのステージ２２の表側に扉５０が設けられてい
る。従って、基板２４を収納したカセット２６又は保管
容器２８を全てのステージ２２から出し入れすることが
できる。基板２４を収納したカセット２６又は保管容器
２８を基板自動供給回収装置１６に挿入するとき、及び
基板２４を収納したカセット２６又は保管容器２８を基
板自動供給回収装置１６から排出するときに、扉５０は
開閉されることができる。

【００４３】従って、半導体の基板２４を収納したカセ
ット２６又は保管容器２８の入出庫作業中であっても、
ロボット２０によって基板自動供給回収装置１６と基板
処理部１８との間で基板２４の移送を行うことができ、
基板処理部１８における作業の待ち時間を最小限にする
ことができる。なお、全てのステージ２２が入出庫機能
を有するようにする代わりに、複数のステージ２２の少
なくとも２つ以上のステージ２２が入出庫機能を有する
とともに半導体の基板２４を収納したカセット２６又は
保管容器２８を保管可能にすることができる。

【００４４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
半導体の基板が汚染されにくく、且つ待ち時間を最小限
にするようにした基板自動供給回収装置及び半導体製造
装置を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例の半導体製造装置を示す図
である。

【図２】図１の半導体製造装置の基板自動供給回収装置
の正面図である。

【図３】図１の保管容器の開閉装置及びガス供給装置の
部分を示す図である。

【図４】本発明の第２実施例の半導体製造装置を示す図
である。

【図５】図４の半導体製造装置の基板自動供給回収装置
の正面図である。

【図６】図４の保管容器開閉室の部分を示す側面図であ
る。

【図７】図６の保管容器開閉室の部分を示す正面図であ
る。

【図８】本発明の第３実施例の半導体製造装置を示す図
である。

【図９】図８の半導体製造装置の基板自動供給回収装置
の正面図である。

【符号の説明】

１６…基板自動供給回収装置 １８…基板処理部 ２０…ロボット ２２…ステージ ２４…基板 ２６…カセット ２８…保管容器 ３０…開閉装置 ３２…ガス供給装置 ４０…保管容器開閉室 ５０…扉

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 宏 福島県会津若松市門田町工業団地４番地 株式会社富士通東北エレクトロニクス内 (72)発明者 川口 仁 福島県会津若松市門田町工業団地４番地 株式会社富士通東北エレクトロニクス内 (72)発明者 千葉 詳 福島県会津若松市門田町工業団地４番地 株式会社富士通東北エレクトロニクス内 (72)発明者 赤坂 謙太郎 福島県会津若松市門田町工業団地４番地 株式会社富士通東北エレクトロニクス内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 半導体の基板を収納したカセットを収納
   可能な保管容器を配置した複数のステージと、各ステー
   ジ内で保管容器を開閉するための開閉手段と、ステージ
   内の各保管容器に清浄用ガスを供給するためのガス供給
   手段と、基板用搬送手段とを備え、基板を収納したカセ
   ットをステージ内においてガスを充満した状態で保管容
   器に保管し、選択されたカセットを該保管容器から基板
   処理部に供給し又はカセットを該基板処理部から回収し
   てステージ内においてガスを充満した状態で保管容器に
   保管するようにしたことを特徴とする基板自動供給回収
   装置。
2. 【請求項２】 保管容器は各ステージ内で固定的に配置
   される固定部分と移動可能な移動部分とを有し、前記開
   閉手段は該移動部分を移動させることにより保管容器を
   開閉させ、該ガス供給手段は該固定部分に設けられるこ
   とを特徴とする請求項１に記載の基板自動供給回収装
   置。
3. 【請求項３】 半導体の基板を収納したカセットを収納
   可能な保管容器を配置した複数のステージと、各ステー
   ジ内で保管容器を開閉するための開閉手段と、ステージ
   内の各保管容器に清浄用ガスを供給するためのガス供給
   手段と、基板を収納したカセットを搬送する搬送手段と
   を備えた基板自動供給回収装置と、 基板処理部とを備え、 基板を収納したカセットをステージ内においてガスを充
   満した状態で保管容器に保管し、選択されたカセットを
   該保管容器から該基板処理部に供給し又はカセットを該
   基板処理部から回収してステージ内においてガスを充満
   した状態で保管容器に保管するようにしたことを特徴と
   する半導体製造装置。
4. 【請求項４】 保管容器は各ステージ内で固定的に配置
   される固定部分と移動可能な移動部分とを有し、前記開
   閉手段は該移動部分を移動させることにより保管容器を
   開閉させ、該ガス供給手段は該固定部分に設けられるこ
   とを特徴とする請求項３に記載の半導体製造装置。
5. 【請求項５】 半導体の基板を収納したカセットを収納
   した保管容器を配置可能な複数のステージと、基板を収
   納したカセットを収納した保管容器を搬送する搬送手段
   とを備えた基板自動供給回収装置と、 基板処理部と、 該基板処理部内に設けられて、保管容器を開閉するため
   の開閉手段と、保管容器の周りに清浄用ガスを供給する
   ためのガス供給手段とを有する保管容器開閉室とを備
   え、 基板を収納したカセットを収納した保管容器を該基板自
   動供給回収装置で保管し、選択された保管容器を該基板
   自動供給回収装置から該保管容器開閉室へ搬送するとと
   もに該保管容器開閉室内にガスを充満した状態で該保管
   容器を開き、該保管容器からカセットを出して基板を使
   用し且つ使用されたカセットを該基板処理部から該保管
   容器開閉室内に戻して該保管容器開閉室内にガスを充満
   した状態で該保管容器を開いて基板を収納したカセット
   を該保管容器に収納し、該保管容器を該基板自動供給回
   収装置に回収するようにしたことを特徴とする半導体製
   造装置。
6. 【請求項６】 半導体の基板を収納したカセット又は保
   管容器を配置可能な複数のステージと、 基板を収納したカセットを収納した保管容器を基板処理
   部へ供給し且つ該基板処理部から回収する搬送手段とを
   備え、 該複数のステージの少なくとも２つ以上のステージは入
   出庫機能を有するとともに半導体の基板を収納したカセ
   ット又は保管容器を保管可能にしたことを特徴とする基
   板自動供給回収装置。