JPH10123058A - 粉粒体の粒度測定装置並びにこれを用いた流動層処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザ光を利用した粒度測定技術を用い、な
お且つ流動中の粉粒体をリアルタイム且つ直接的に測定
することのできる、新規な粉粒体の粒度測定装置並びに
これを用いた流動層処理装置の開発を試みたものであ
る。 【解決手段】 レーザ光発生装置３１から出力するレー
ザ光Ｌを、センサ３３によって受光し、レーザ光Ｌの光
伝送路３５途中の開放伝送路２５を通過する粉粒体Ｇに
より生ずるレーザ光Ｌの散乱状態を検知して、粉粒体Ｇ
の粒度を測定する装置において、前記光伝送路３５は屈
曲形成されているので、測定ヘッド２の設置個所の自由
度を増すことができ、同時に測定ヘッド２の小型化が図
られる。そしてこの測定ヘッド２を流動室１３内に臨ま
せることで、流動中の粉粒体Ｇの粒径をリアルタイム且
つ直接的に測定することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は粉粒体の粒度測定技
術に関するものであり、特に光伝送路によりレーザ光を
屈曲案内することで測定ヘッドの設置個所を幅広く選択
することができる粉粒体の粒度測定装置並びにこれを用
いて流動中の粉粒体をリアルタイム且つ直接的に測定す
ることのできる流動層処理装置に係るものである。

【０００２】

【発明の背景】従来より、粉粒体の粒度測定技術として
は特開平７−３３３１１３号公報に開示されているよう
に、Ｈｅ−Ｎｅレーザから発射されコリメータを経たレ
ーザ光が、粉粒体によりラマン散乱すること等を利用し
たレーザ光散乱法や、レーザ光回折法等のレーザ光を利
用したものがある。

【０００３】このようなレーザ光を利用した測定技術
は、流動状態（激しく移動している状態）の粉粒体でも
正確に粒径を測定できるものであり、既存の赤外線等を
利用した技術を凌駕したものである。従来の一般的な粒
度測定装置は、図５に示すように送出伝送路２３′開放
伝送路２５′、受光伝送路２４′、データ処理部４′を
具えて成り、このうち実質的に粉粒体Ｇの測定を担うの
は送出伝送路２３′、開放伝送路２５′、受光伝送路２
４′である。これらは、Ｈｅ−Ｎｅレーザ３１ａ′、コ
リメータ３１ｂ′、レンズ３２′及びセンサ３３′等を
具えて成るものであり、なお且つレーザ光Ｌに対して粉
粒体Ｇを横切らせることを要するのであるため、レーザ
光Ｌの直線軌道を確保する必要があった。このため、Ｈ
ｅ−Ｎｅレーザ３１ａ′、コリメータ３１ｂ′、レンズ
３２′及びセンサ３３′等の配設態様は、レーザ光Ｌの
直線軌道上に直列的に配置する必要があり、ある程度の
空間を占有してしまうとともに、これら測定に関連する
系の小型化には限界があった。

【０００４】このような事情から、レーザ光を用いた測
定装置では、流動層処理装置等の内部において処理を行
っている粉粒体を、直接的に計測するのは困難であり、
実際の適用態様は一例として前記特開平７−３３３１１
３号公報に開示されているように、流動層処理装置等に
別途設けたサンプリング装置により外部に採取した粉粒
体をレーザ光式粒径センサで計測し、計測後の粉粒体は
再び流動層処理装置に戻すという手法が採られている。

【０００５】

【解決を試みた技術課題】本発明はこのような背景の認
識に基づきなされたものであって、レーザ光を利用した
粒度測定技術を用い、なお且つ流動中の粉粒体をリアル
タイム且つ直接的に測定することのできる、新規な粉粒
体の粒度測定装置並びにこれを用いた流動層処理装置の
開発を試みたものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】すなわち請求項１記載の
粉粒体の粒度測定装置は、レーザ光発生装置から出力す
るレーザ光を、センサによって受光し、レーザ光の光伝
送路途中の開放伝送路を通過する粉粒体により生ずるレ
ーザ光の散乱状態を検知して、粉粒体の粒度を測定する
装置において、前記光伝送路は屈曲形成されていること
を特徴とする。この発明によれば、光伝送路を屈曲形成
することで、測定ヘッドの設置個所の自由度を増すこと
ができ、同時に測定ヘッドの小型化が図られる。

【０００７】また請求項２記載の粉粒体の粒度測定装置
は、前記要件に加え、前記開放伝送路の前後に位置する
送出伝送路及び受光伝送路においては、レーザ光が９０
°屈曲案内されることを特徴とする。この発明によれ
ば、レーザ光の経路である光伝送路を屈曲して形成する
ことができる。

【０００８】また請求項３記載の粉粒体の粒度測定装置
は、前記要件に加え、前記光伝送路は、プリズム、鏡、
レンズ、光ファイバー、光ロッド等の光学素子のいずれ
か一種または複数種を組み合わせて成ることを特徴とす
る。この発明によれば、レーザ光の経路である光伝送路
を非直線状（屈曲状）に形成することができる。

【０００９】更にまた請求項４記載の粉粒体の粒度測定
装置は、前記要件に加え、前記開放伝送路は測定ヘッド
に具えられ、また前記レーザ光発生装置及びセンサは本
体部に具えられることを特徴とする。この発明によれ
ば、測定ヘッドの構成部材が削減され、測定ヘッドの小
型化が図られる。

【００１０】更にまた請求項５記載の粉粒体の粒度測定
装置は、前記要件に加え、前記開放伝送路と送出伝送路
及び受光伝送路との境界部には、反射防止コーティング
ガラスを具えることを特徴とする。この発明によれば、
送出伝送路及び受光伝送路への粉粒体等の侵入を防止す
ることができる。

【００１１】更にまた請求項６記載の粉粒体の粒度測定
装置は、前記要件に加え、前記反射防止コーティングガ
ラスの開放伝送路側の面には、エアパージ孔を臨ませた
ことを特徴とする。この発明によれば、反射防止コーテ
ィングガラスへの粉粒体の付着を防止することができ
る。

【００１２】更にまた請求項７記載の粉粒体の粒度測定
装置を用いた流動層処理装置は、流動風吹込室の上部に
目皿板を仕切りとして流動室を具え、流動室の上方に噴
霧室を具え、原料、水、バインダ液等を流動室に投入し
て粉粒体の造粒等を行う流動層処理装置において、前記
流動室内には請求項１、２、３、４、５または６記載の
粒度測定装置における測定ヘッドを臨ませて具えたこと
を特徴とする。この発明によれば、流動中の粉粒体の粒
径をリアルタイム且つ直接的に測定することができる。

【００１３】更にまた請求項８記載の粉粒体の粒度測定
装置を用いた流動層処理装置は、前記請求項７記載の要
件に加え、前記測定ヘッドにおける開放伝送路には、パ
ージングノズルを臨ませて具えることを特徴とする。こ
の発明によれば、開放伝送路への粉粒体等の付着を防止
することができる。

【００１４】更にまた請求項９記載の粉粒体の粒度測定
装置を用いた流動層処理装置は、前記請求項７または８
記載の要件に加え、前記流動室における粉粒体の流動個
所には、粉粒体を測定ヘッドに送り込むための吹上ノズ
ルを、前記開放伝送路に臨ませて具えることを特徴とす
る。この発明によれば、粉粒体の流動状態の良否にかか
わらず、粉粒体を確実に開放伝送路へと搬送することが
できる。そしてこれら各請求項記載の発明の構成を手段
として前記課題の解決を図っているのである。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下本発明を図示の実施の形態に
基づいて具体的に説明する。この説明にあたっては、ま
ず粒度測定装置１について説明し、その後流動層処理装
置１０について説明する。図２、３に示すように、符号
１は本発明の粒度測定装置であって、一例として筐体１
Ａにより囲繞される部分を本体部３とし、この本体部３
に対して測定ヘッド２を外付けし、更にデータ処理部４
及びエアパージ機構５を構成する諸部材を具えて成る。
以下、上記各構成部材を順次説明しながら粒度測定装置
１の説明を行う。

【００１６】本体部３の外形を成す筐体１Ａは一例とし
て円筒状の部材であり、一側面の直径上の両端部に開口
部１ａを設ける。筐体１Ａ内には、一方の開口部１ａに
照射部を臨ませてレーザ光発生装置３１が設けられ、レ
ーザ光発生装置３１と開口部１ａとの間にはレンズ２
６、スリット２７及びレンズ２８を配置する。またもう
一方の開口部１ａの延長上にはレンズ３２及びセンサ３
３が設けられ、更にセンサ３３の出力側には増幅器３４
が設けられる。

【００１７】ここでレーザ光散乱法の原理について説明
する。この原理は図５に示すように、Ｈｅ−Ｎｅレーザ
３１ａから発射され、コリメータ３１ｂを経たレーザ光
Ｌを横切る粉粒体Ｇにより散乱したレーザ光Ｌをセンサ
３３により受光し、その強さ等から散乱物質である粉粒
体Ｇの粒径を測定するものである。なお本実施の形態で
はレーザ光散乱式の粒径センサを用いたが、レーザ光回
折法等、他の原理を採用してもよい。

【００１８】測定ヘッド２は、前記筐体１Ａにおける二
カ所の開口部１ａを覆うようにそれぞれ被覆部２Ａを設
け、更にこの被覆部２Ａ同士の対向面には、反射防止コ
ーティングガラス２１を具え、二つの被覆部２Ａの間を
開放伝送路２５とする。この開放伝送路２５は粒度測定
装置１の外部となる自由空間であり、この部分が粉粒体
Ｇの測定個所となる。そして前記レーザ光発生装置３１
から開放伝送路２５まで至る範囲を送出伝送路２３と
し、また前記センサ３３から開放伝送路２５まで至る範
囲を受光伝送路２４とする。

【００１９】測定ヘッド２及び本体部３の構成を上述の
ようにすることで、レーザ光発生装置３１からセンサ３
３まで至る範囲がレーザ光Ｌの経路となるのであり、こ
の部分を光伝送路３５と定義する。つまり光伝送路３５
は、送出伝送路２３、開放伝送路２５及び受光伝送路２
４を直列的に連接して成るのである。この光伝送路３５
は、プリズム２２、鏡、レンズ、光ファイバー、光ロッ
ド等の光学素子のいずれか一種または複数種を組み合わ
せて成る。本実施の形態では図２、３に示すように直角
二等辺三角形を底面とする三角柱状のプリズム２２を用
いるのであり、左右の被覆部２Ａ内にそれぞれ開放伝送
路２５側に直角部が位置するように配し、逆Ｕ字形の光
伝送路３５を形成する。因みにプリズム２２の形状を直
角二等辺三角形を底面とする三角柱状としたのは、二等
辺の一方の辺に垂直に入射したレーザ光Ｌを二等辺のも
う一方の辺から垂直に出射させ、レーザ光Ｌが前記光伝
送路３５に沿って進行するようにするためである。また
前記プリズム２２の代わりに、プリズム２２における直
角二等辺三角形の斜辺の部分に鏡を配するようにしても
同様の効果が得られる。

【００２０】エアパージ機構５は圧搾空気の供給源であ
るコンプレッサ５１と圧搾空気の噴出口となるエアパー
ジ孔５２を具えて成る。このエアパージ孔５２は、本実
施の形態では一例として図２において筐体１Ａの上部の
壁面及び被覆部２Ａに対して、反射防止コーティングガ
ラス２１に臨ませて穿設する。またコンプレッサ５１は
筐体１Ａの適宜の個所に接続され、筐体１Ａ内に圧搾空
気を供給する。

【００２１】次にデータ処理部４について説明する。デ
ータ処理部４はＡＤ変換器４１、データ処理装置４２、
データ転送装置４３及びコンピュータ４４を具えて成
る。これら各装置はセンサ３３のアナログ出力をデジタ
ル変換して処理するための既存の機器である。またコン
ピュータ４４は一例として既存のパソコンであり、測定
結果（粒子加工に必要な平均粒子径、均一度、粒度分布
等）を演算し、その結果を出力する。またこの出力値は
ＪＩＳ規格のふるいに準拠することが好ましい。なお、
本実施の形態ではコンピュータ４４としてパソコンを用
いたが、もちろんシングルボードコンピュータやＥＷＳ
等を用いてもよい。

【００２２】本発明の粒度測定装置１は上述したように
構成されるものであり、以下このものを用いた粉粒体Ｇ
の粒度測定の態様について説明する。まず、レーザ光発
生装置３１を起動すると照射部からレーザ光Ｌが送出さ
れ、レンズ２６、スリット２７及びレンズ２８により所
望の幅の平行光になる。このレーザ光Ｌは開口部１ａを
通過して測定ヘッド２に至ると、直角二等辺三角形状の
プリズム２２の一方の等辺に対して入射角０°で入射透
過し、境界面である斜辺に入射角４５°で入射するとと
もに全反射され、進路が９０°転換された後、もう一方
の等辺に入射角０°で入射透過して進行してゆく。そし
て反射防止コーティングガラス２１を透過し、開放伝送
路２５を通過して、対向する反射防止コーティングガラ
ス２１を透過しプリズム２２の一方の等辺に対して入射
角０°で入射透過し、境界面である斜辺に入射角４５°
で入射するとともに全反射され、進路が９０°転換され
た後、もう一方の等辺に入射角０°で入射透過して進行
してゆく。従ってレーザ発生装置３１から送出されたレ
ーザ光Ｌは、測定ヘッド２に対して垂直に入り込み、測
定ヘッド２から垂直に出てくる非直線状の（屈曲した）
光伝送路３５に沿って進行する。

【００２３】このようにして開放伝送路２５をレーザ光
Ｌが通過している状態で、校正を行った後、試料である
適量の粉粒体Ｇをレーザ光Ｌを横切るように通過させる
と、レーザ光Ｌは粉粒体Ｇにより一部が散乱するのであ
り、このレーザ光Ｌをレンズ３２によりセンサ３３上に
集光する。センサ３３では受光したレーザ光Ｌを電気信
号に変換し、この電気信号を増幅器３４で増幅し、ＡＤ
変換器４１、データ処理装置４２及びデータ転送装置４
３を経由して、コンピュータ４４により粒径が算出され
る。この際、反射防止コーティングガラス２１には、粉
粒体Ｇの付着によるレーザ光Ｌの外乱を避けるためにガ
ラス面に対して臨んだエアパージ孔５２から、コンプレ
ッサ５１より供給された圧搾空気が吹き付けられてい
る。

【００２４】本発明の粒度測定装置１は、１．４μｍ〜
２０００μｍまでの非常に広い範囲の粒径を測定するこ
とが可能であり、通常の造粒操作における粒度範囲をす
べてカバーしている。また本装置からの出力はＪＩＳ規
格のふるいに準拠することが好ましく、この場合、従来
一般的に用いられている粒度測定法との比較が容易に可
能である。

【００２５】本発明の粒度測定装置１の構成及び使用方
法は前記したとおりであり、次にこのものを用いた流動
層処理装置１０について説明する。流動層処理装置１０
は粉粒体Ｇの乾燥、造粒、コーティング等を行う公知の
装置であり、図１に示すように流動風吹込室１１、流動
室１３と、噴霧室１４、フィルタ室１５等により構成さ
れる。そして一例として粉粒体Ｇを造粒するにあたって
は、流動室１３に空気を送り込み、原料粉体を膨張させ
て流動化された粉体層である流動層を形成し、これに水
やバインダ液を加えて、粉粒体Ｇを凝集形成するもので
ある。このため噴霧室１４には水、あるいは結合剤とな
るバインダ液を噴霧するための噴霧ノズル１６が設置さ
れている。

【００２６】流動室１３は流動層処理装置１０の下部に
位置し逆円錐台形をしており、底部には、多孔板あるい
は金網等を適用した目皿板１２が設けられており、下方
の流動風吹込室１１から空気が送り込まれる。流動室１
３の内周面の適宜の位置には、前記粒度測定装置１にお
ける測定ヘッド２を具える。具体的には図１、４に示す
ように被覆部２Ａがほぼ水平となるように設ける。そし
て測定ヘッド２における開放伝送路２５付近にはパージ
ングノズル１７を具えるのであり、一例として測定ヘッ
ド２の上方に吹出口を前記開放伝送路２５に臨ませて具
える。このパージングノズル１７は、噴出口の向きを可
変としたり、あるいはエアをコーン状に噴出し、開放伝
送路２５全域をエアパージすることができるのが好まし
い。

【００２７】更に流動室１３にはその内周面の適宜の位
置、好ましくは前記測定ヘッド２における開放伝送路２
５の垂直下には、吹上ノズル１８が吹出口を開放伝送路
２５に臨ませて設けられている。因みに図示は省略する
が、これらパージングノズル１７及び吹上ノズル１８へ
のエア供給は、専用のコンプレッサを設けてよいが、前
記粒度測定装置１におけるコンプレッサ５１を共有する
ことが好ましい。

【００２８】フィルタ室１５には原料粉体と乾燥用空気
とを分離するためのバグフィルタ１９が組み込んであ
り、装置外へ原料粉体が飛散しないようにしてある。

【００２９】本発明の流動層処理装置１０の構成は上述
したとおりであり、以下粉粒体Ｇの粒度測定の態様につ
いて説明する。まず、常法に従い流動室１３内に流動風
吹込室１１からエアを供給し、更に原料、バインダ液等
を投入して流動層を形成する。この流動層内において原
料は、粉粒体Ｇとなるのであり、このような運転状態で
は前記パージングノズル１７からはエアが定常的あるい
は断続的に噴出しており、粉粒体Ｇ等による開放伝送路
２５のブリッジを防止している。

【００３０】粉粒体Ｇの粒度測定にあたっては粒度測定
装置１を起動し、開放伝送路２５にレーザ光Ｌを通過さ
せておく。またこのときエアパージ孔５２からはエアが
噴出している。この状態で吹上ノズル１８よりエアを噴
出し、流動状態の粉粒体Ｇの一部を開放伝送路２５に向
けて吹き飛ばす。このようにして開放伝送路２５に至っ
た粉粒体Ｇは、レーザ光Ｌを散乱させるのであり、その
粒度が測定される。もちろんこのような吹上ノズル１８
は、定常的あるいは断続的にでも開放伝送路２５に粉粒
体Ｇが至るようであれば用いる必要はない。

【００３１】このようにしてレーザ光Ｌを用いた測定技
術により、造粒中の流動室１３内の粉粒体Ｇの粒径を直
接的且つリアルタイムで測定することが可能となる。

【００３２】

【他の実施の形態】本発明は上述した実施の形態を基本
の実施の形態とするものであるが、本発明の技術思想に
基づき以下に示す実施の形態を採り得るものである。先
の実施の形態において、光伝送路３５は、空間に対して
プリズム２２を配して構成したが、鏡、レンズ、光ファ
イバー、光ロッド等の光学素子を、用いて構成すること
もできるのであり、特に光ファイバー、光ロッドを用い
た場合には、レーザ光Ｌの軌道が物理的に確保されるた
め、レーザ光発生装置３１によるレーザ光Ｌの送出方向
の決定に要するクリティカルな調整を必要としないか、
あるいは軽減することができる。

【００３３】また本発明の粒度測定装置１は、流動層処
理装置１０のみならず、例えば一般の乾燥装置、造粒装
置、粉体の貯留装置あるいは輸送中の配管内の粉体、等
々、粉体を扱う種々の装置等に適用ができる。

【００３４】

【発明の効果】本発明は以上述べたような構成を有する
ものであり、以下のような効果を奏する。まず請求項１
記載の発明によれば、光伝送路３５によりレーザ光Ｌを
屈曲案内することで、測定ヘッド２の設置個所の自由度
を増すことができ、同時に測定ヘッド２の小型化が図ら
れる。

【００３５】また請求項２記載の発明によれば、レーザ
光Ｌの経路である光伝送路３５を屈曲して形成すること
ができる。

【００３６】また請求項３記載の発明によれば、レーザ
光Ｌの経路である光伝送路３５を非直線状（屈曲状）に
形成することができる。

【００３７】更にまた請求項４記載の発明によれば、測
定ヘッド２の構成部材が削減され、測定ヘッド２の小型
化が図られる。

【００３８】更にまた請求項５記載の発明によれば、送
出伝送路２３あるいは受光伝送路２４への粉粒体Ｇ等の
侵入を防止することができる。

【００３９】更にまた請求項６記載の発明によれば、反
射防止コーティングガラス２１への粉粒体Ｇの付着を防
止することができる。

【００４０】更にまた請求項７記載の発明によれば、流
動中の粉粒体Ｇの粒径をリアルタイム且つ直接的に測定
することができる。

【００４１】更にまた請求項８記載の発明によれば、開
放伝送路２５への粉粒体Ｇ等の付着を防止することがで
きる。

【００４２】更にまた請求項９記載の発明によれば、粉
粒体Ｇの流動状態の良否にかかわらず、粉粒体Ｇを確実
に開放伝送路２５へと搬送することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の粒度測定装置並びにこのものを具えた
流動層造粒装置を示す骨格図である。

【図２】同上粒度測定装置を示す骨格的平面図である。

【図３】同上斜視図である。

【図４】流動層処理装置を一部拡大破断して、粒度測定
の様子を示す斜視図である。

【図５】レーザ光散乱式の粒度測定の原理を示す説明図
である。

【符号の説明】

１ 粒度測定装置 １Ａ 筐体 １ａ 開口部 ２ 測定ヘッド ２Ａ 被覆部 ３ 本体部 ４ データ処理部 ５ エアパージ機構 １０ 流動層処理装置 １１ 流動風吹込室 １２ 目皿板 １３ 流動室 １４ 噴霧室 １５ フィルタ室 １６ 噴霧ノズル １７ パージングノズル １８ 吹上ノズル １９ バグフィルタ ２１ 反射防止コーティングガラス ２２ プリズム ２３ 送出伝送路 ２４ 受光伝送路 ２５ 開放伝送路 ２６ レンズ ２７ スリット ２８ レンズ ３１ レーザ光発生装置 ３１ａ Ｈｅ−Ｎｅレーザ ３１ｂ コリメータ ３２ レンズ ３３ センサ ３４ 増幅器 ３５ 光伝送路 ４１ ＡＤ変換器 ４２ データ処理装置 ４３ データ転送装置 ４４ コンピュータ ５１ コンプレッサ ５２ エアパージ孔 Ｇ 粉粒体 Ｌ レーザ光

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 位 東京都練馬区上石神井１−３−16

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザ光発生装置から出力するレーザ光
   を、センサによって受光し、レーザ光の光伝送路途中の
   開放伝送路を通過する粉粒体により生ずるレーザ光の散
   乱状態を検知して、粉粒体の粒度を測定する装置におい
   て、前記光伝送路は屈曲形成されていることを特徴とす
   る粉粒体の粒度測定装置。
2. 【請求項２】 前記開放伝送路の前後に位置する送出伝
   送路及び受光伝送路においては、レーザ光が９０°屈曲
   案内されることを特徴とする請求項１記載の粉粒体の粒
   度測定装置。
3. 【請求項３】 前記光伝送路は、プリズム、鏡、レン
   ズ、光ファイバー、光ロッド等の光学素子のいずれか一
   種または複数種を組み合わせて成ることを特徴とする請
   求項１または２記載の粉粒体の粒度測定装置。
4. 【請求項４】 前記開放伝送路は測定ヘッドに具えら
   れ、また前記レーザ光発生装置及びセンサは本体部に具
   えられることを特徴とする請求項１、２または３記載の
   粉粒体の粒度測定装置。
5. 【請求項５】 前記開放伝送路と送出伝送路及び受光伝
   送路との境界部には、反射防止コーティングガラスを具
   えることを特徴とする請求項１、２、３または４記載の
   粉粒体の粒度測定装置。
6. 【請求項６】 前記反射防止コーティングガラスの開放
   伝送路側の面には、エアパージ孔を臨ませたことを特徴
   とする請求項１、２、３、４または５記載の粉粒体の粒
   度測定装置。
7. 【請求項７】 流動風吹込室の上部に目皿板を仕切りと
   して流動室を具え、流動室の上方に噴霧室を具え、原
   料、水、バインダ液等を流動室に投入して粉粒体の造粒
   等を行う流動層処理装置において、前記流動室内には請
   求項１、２、３、４、５または６記載の粒度測定装置に
   おける測定ヘッドを臨ませて具えたことを特徴とする粉
   粒体の粒度測定装置を用いた流動層処理装置。
8. 【請求項８】 前記測定ヘッドにおける開放伝送路に
   は、パージングノズルを臨ませて具えることを特徴とす
   る請求項７記載の粉粒体の粒度測定装置を用いた流動層
   処理装置。
9. 【請求項９】 前記流動室における粉粒体の流動個所に
   は、粉粒体を測定ヘッドに送り込むための吹上ノズル
   を、前記開放伝送路に臨ませて具えることを特徴とする
   請求項７または８記載の粉粒体の粒度測定装置を用いた
   流動層処理装置。