JPH10119267A - インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法Info
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Abstract
加圧した際に、インクキャビティの側壁が変形すること
を防止し、インクの射出速度を向上させることが可能な
インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 シリコン基板10上に形成された圧電体
素子20と、シリコン基板10の圧電体素子20と対応
する位置に形成されたインクキャビティ15と、インク
キャビティ15内に収容されたインクを吐出する吐出口
18と、を備え、インクキャビティ15は、少なくとも
一対の対向した側壁15a及び15bの所望領域に当接
して側壁15a及び15b間に介在するとともに、他の
側壁15a及び15bと隙間をおいて形成された梁状の
イオン注入層19を備えてなる。
Description
記録ヘッド及びその製造方法に係り、特に、インクキャ
ビティから吐出されるインクの射出速度を向上したイン
クジェット式記録ヘッド及びその製造方法に関する。
わち、電気的エネルギーを機械的エネルギーに変換する
素子として、下電極と上電極との間にチタン酸ジルコン
酸鉛(以下、「PZT」と記す)を挟んで形成された圧
電体素子を使用したインクジェット式記録ヘッドがあ
る。
には、多数のインクキャビティが形成されたヘッド基台
と、全てのインクキャビティを覆うように前記ヘッド基
台に取り付けられた振動板と、この振動板の前記インク
キャビティ上に対応する各部分に被着形成した圧電体素
子と、前記インクキャビティを塞ぐように、前記ヘッド
基台に設けられたノズル板と、を備えて構成されてい
る。なお、このノズル板には、インクキャビティ内に収
容されたインクを外部に吐出するためのインク吐出口が
設けられている。
は、前記圧電体素子に電界を加えてこれを変位させるこ
とにより、所望のインクキャビティ内を加圧し、この圧
力によって、ここに収容されているインクをインク吐出
口から外部に向けて押出すように設計されている。この
各々のインクキャビティは、良好な印字を行うことが可
能な量のインクを収容できる容積(体積)が得られるよ
うに形成されている。ここで、このインクジェット式記
録ヘッドは、微細な文字や図形、絵柄等の再現性や美観
を向上するために、狭い面積にできるだけ多くのインク
キャビティを形成できるするように設計されている。こ
のため、前述した必要なインク量を確保するために、イ
ンクキャビティの深さを深く設計している。
来のインクジェット式記録ヘッドは、シリコンウエハ表
面に薄膜ピエゾを利用した圧電体素子を形成し、圧電体
素子に対向する位置にシリコンウエハの背面にインクキ
ャビティを配置する構成であるが、実質的に製造で取り
扱いが可能なシリコンウエハは、直径100mmで厚み
がせいぜい200μmであるため、高精細な品質の印刷
を実現するため高密度にインクキャビティを形成する
と、個々のインクキャビティを隔てる側壁が薄くなり、
このため側壁が変形し易くなり、効率よく高速にインク
粒子を吐出できない問題点がある。
ンウエハを用いると、ハンドリング可能なシリコンウエ
ハの厚みは500μm程度になり、このウエハに形成す
るキャビティの深さが深くなり、このため圧電体素子の
変位により側壁が歪んで変形しやすくなるという問題点
もある。
ャビティ内を加圧した際に、この圧力を正確かつ効率よ
くインクの吐出のために利用することが困難であり、イ
ンクの射出速度が低下するという問題がある。
することを課題とするものであり、圧電体素子が変位し
てインクキャビティ内を加圧した際に、インクキャビテ
ィの側壁が変形することを防止し、インクの射出速度を
向上させることが可能なインクジェット式記録ヘッド及
びその製造方法を提供することを目的とする。
に本発明は、基板上に形成された圧電体素子と、前記基
板の前記圧電体素子と対応する位置に形成されたインク
キャビティと、当該インクキャビティ内に収容されたイ
ンクを吐出する吐出口と、を備えたインクジェット式記
録ヘッドであって、前記インクキャビティは、少なくと
も一対の対向した側壁の所望領域に当接して当該側壁間
に介在するとともに、他の側壁と隙間をおいて形成され
た梁状部を備えてなるインクジェット式記録ヘッドを提
供するものである。この構造を備えたインクジェット式
記録ヘッドは、前記梁状部がインクキャビティの対向し
た側壁を支持することになる。したがって、圧電体素子
に電界を加えてこれを変位させることにより、インクキ
ャビティ内を加圧し、この圧力によって、ここに収容さ
れているインクをインク吐出口から外部に向けて押出す
際に、インクキャビティの側壁が歪んだり、変形したり
することを防止することができる。
に介在させることができる。このようにすることで、前
記一対の側壁をさらに確実に支持することができる。
の中心部より前記圧電体素子側に位置させることができ
る。このようにすることで、前記利点に加え、インクの
吐出を効率よく行うことができる。
た圧電体素子と、前記基板の前記圧電体素子と対応する
位置に形成されたインクキャビティと、当該インクキャ
ビティ内に収容されたインクを吐出する吐出口と、を備
えたインクジェット式記録ヘッドの製造方法であって、
前記基板のインクキャビティが形成される領域の所望
部分に、選択的に不純物を添加する工程と、当該不純物
の添加が行われた基板上に、前記圧電体素子を形成する
工程と、前記基板の前記圧電体素子と対応する部分を選
択的にエッチングし、インクキャビティを形成する工程
と、を備えてなるインクジェット式記録ヘッドの製造方
法を提供するものである。
体素子と、前記基板の前記圧電体素子と対応する位置に
形成されたインクキャビティと、当該インクキャビティ
内に収容されたインクを吐出する吐出口と、を備えたイ
ンクジェット式記録ヘッドの製造方法であって、前記基
板のインクキャビティが形成される領域の所望部分を選
択的にエッチングする工程と、前記基板のエッチング領
域に不純物を添加する工程と、当該不純物の添加後、前
記エッチングされた部分にシリコンを充填する工程と、
前記基板のシリコンが充填された表面を平坦化する工程
と、当該平坦化された基板上に前記圧電体素子を形成す
る工程と、前記基板の前記圧電体素子と対応する部分を
選択的にエッチングし、インクキャビティを形成する工
程と、を備えてなるインクジェット式記録ヘッドの製造
方法を提供するものである。
対向した側壁の所望領域に当接して当該側壁間に介在す
るとともに、他の側壁と隙間をおいた梁状部を形成する
ことができる。
成される領域の所望部分を選択的にエッチングする工程
は、当該インクキャビティの中心部より前記圧電体素子
側となる位置まで行うことができる。
インクジェット式記録ヘッドについて図面を参照して説
明する。
係るインクジェット式記録ヘッドの一部を示す断面図、
図2は、図1に示すインクジェット式記録ヘッドのイン
クキャビティをノズル板設置面側から見た平面図、図3
は、図1に示すインクジェット式記録ヘッドの製造工程
を示す断面図である。
に係るインクジェット式記録ヘッドは、複数のインクキ
ャビティ15が設けられたシリコン基板10と、シリコ
ン基板10上に形成された熱酸化膜11を介して形成さ
れた圧電体素子20と、シリコン基板10の圧電体素子
20が形成された面とは反対側の面に、シリコン酸化膜
16を介して設けられたノズル板17と、を備えて構成
されている。
12上であって、インクキャビティ15が形成された位
置に対応した領域に形成されたPZT(チタン酸ジルコ
ン酸鉛)膜13と、PZT膜13上に形成された上電極
14と、を備えて構成されている。
内に収容されたインクを外部に吐出するためのインク吐
出口18が形成されている。
ビティ15の一対の側壁15a及び15bの長手方向略
中央部の圧電体素子20側端部に当接して側壁15a及
び15b間に介在するとともに、他の側壁15c及び1
5dと隙間をおいて形成された梁状の不純物添加層19
が形成されている。この不純物添加層19は、側壁15
a及び15bを支持する梁の役割を果たしている。
ッドでは、不純物添加層19がインクキャビティ15の
対向する側壁15a及び15bを支持する梁の役割を果
たすため、圧電体素子20に電界を加えてこれを変位さ
せることにより、インクキャビティ15内を加圧し、こ
の圧力によって、ここに収容されているインクをインク
吐出口18から外部に向けて押出す際に、インクキャビ
ティ15の側壁が歪んだり、変形したりすることを防止
することができる。この結果、前記圧力を正確かつ効率
よくインクの吐出のために利用することができ、インク
の射出速度を向上させることができる。
製造方法を、図3に示す工程にしたがって説明する。
0上のインクキャビティ形成領域の所望部分を除いた領
域に、レジスト膜31を形成する。なお、本実施の形態
では、不純物添加層19の形成方法として、イオン注入
法を利用した。すなわち、図1及び図2に示す部分に不
純物添加層19(イオン注入層)が形成されるパターン
を備えたレジスト膜31を形成した。次に、このレジス
ト膜31をマスクとして、シリコン基板10に、ボロン
イオン(B+)を、シリコン基板10の表面から1〜2
μmの深さの領域で1×1020cm-3〜2×1020cm
-3の濃度になるようにイオン注入する。このようにし
て、インクキャビティ15の一対の側壁15a及び15
bの長手方向略中央部の圧電体素子20側端部に当接し
て側壁15a及び15b間に介在するとともに、他の側
壁15c及び15dと隙間をおいて形成された梁状の不
純物添加層19を得る。この不純物添加層19には、後
に詳述するが、インクキャビティ15を形成する際に行
うエッチング工程で使用されるエッチング溶液に対する
耐性が付与される。
示す工程で得たレジスト膜31を除去する。次に、この
シリコン基板10に熱酸化を行い、熱酸化膜(シリコン
酸化膜)11及び16を形成する。次いで、熱酸化膜1
1上に下電極形成膜、PZT膜及び上電極形成膜を順に
形成する(図示せず)。次に、この上電極形成膜及びP
ZT膜をパターニングし、所望の形状を備えた上電極1
4及びPZT膜13を形成した後、前記下電極形成膜を
パターニングし、下電極12を形成する。このようにし
て、熱酸化膜11上の所定位置に下電極12、PZT膜
13及び上電極14からなる圧電体素子20を形成し
た。
膜16及びシリコン基板10を順に、選択的にエッチン
グし、インクキャビティ15を形成する。ここで、シリ
コン基板10のエッチングでは、エッチング溶液とし
て、水酸化カリウム溶液を使用したが、前述した不純物
添加層19は、このエッチング溶液に対して耐性がある
ため、すなわち、シリコン基板10とのエッチングレー
トの差が大きいため、エッチングされずにインクキャビ
ティ15内に残存する。
16に、インク吐出口18が開口されたノズル板17を
設ける等、所望の工程を行い、インクジェット式記録ヘ
ッドを完成する。
9を一ヶ所のみ設けた場合について説明したが、これに
限らず、インクの吐出に支障を来さなければ、二ヶ所以
上形成してもよい。また、設置場所も任意に決定してよ
い。
9を形成する方法として、イオン注入法を用いたが、こ
れに限らず、拡散法、選択的に不純物を塗布して熱処理
する方法等、他の方法により形成してもよい。
るインクジェット式記録ヘッドについて、図面を参照し
て説明する。
ト式記録ヘッドの一部を示す断面図、図5は、図4に示
すインクジェット式記録ヘッドのインクキャビティをノ
ズル板設置面側から見た平面図、図6は、図4に示すイ
ンクジェット式記録ヘッドの製造工程を示す断面図であ
る。なお、実施の形態2では、実施の形態1に係るイン
クジェット式記録ヘッドと同様の部材には、同様の符合
を付し、その詳細な説明は省略する。
ヘッドと、実施の形態1に係るインクジェット式記録ヘ
ッドとの異なる点は、梁の役割を果たすイオン注入層が
形成されている位置である。
ヘッドは、図4及び図5に示すように、複数のインクキ
ャビティ25が設けられたシリコン基板10と、シリコ
ン基板10上に形成された熱酸化膜11を介して形成さ
れた圧電体素子20と、シリコン基板10の圧電体素子
20が形成された面とは反対側の面に、シリコン酸化膜
16を介して設けられたノズル板17と、を備えて構成
されている。
ィ25の一対の側壁25a及び25bの長手方向略中央
部であって、インクキャビティ25の中心から若干圧電
体素子20側に偏移した位置に当接して側壁25a及び
25b間に介在するとともに、他の側壁25c及び25
dと隙間をおいて形成された梁状の不純物添加層29を
備えている。この不純物添加層29は、側壁25a及び
25bを支持する梁の役割を果たしている。
ッドも実施の形態1で説明した記録ヘッドと同様に、不
純物添加層29がインクキャビティ25の対向する側壁
を支持する梁の役割を果たす。このため、圧電体素子2
0に電界を加えてこれを変位させることにより、インク
キャビティ25内を加圧し、この圧力によって、ここに
収容されているインクをインク吐出口18から外部に向
けて押出す際に、インクキャビティ25の側壁が歪んだ
り、変形したりすることを防止することができる。この
結果、前記圧力を正確かつ効率よくインクの吐出のため
に利用することができ、インクの射出速度を向上させる
ことができる。
製造方法を、図6に示す工程にしたがって説明する。
同様に、シリコン基板10上にレジスト膜31を形成す
る。次に、このレジスト膜31をマスクとしてシリコン
基板10を、シリコン基板10の厚さに対し約1/3の
深さまでエッチングし、溝40を形成する。次に、レジ
スト膜31をマスクとして、シリコン基板10に、ボロ
ンイオン(B+)を、シリコン基板10の表面から1〜
2μmの深さの領域で1×1020cm-3〜2×1020c
m-3の濃度になるようにイオン注入する。このようにし
て、インクキャビティ25の一対の側壁25a及び25
bの長手方向略中央部であって、インクキャビティ25
の中心から若干圧電体素子20側に偏移した位置に当接
して側壁25a及び25b間に介在するとともに、他の
側壁25c及び25dと隙間をおいて形成された不純物
添加層29を得る。この不純物添加層29も実施の形態
1で説明したものと同様に、インクキャビティ15を形
成する際に行うエッチング工程で使用されるエッチング
溶液に対する耐性が付与される。
示す工程で得たレジスト膜31を除去する。次いで、こ
のシリコン基板10上に非晶質シリコン26を堆積し、
溝40内に非晶質シリコン26を充填する。次に、レジ
スト膜31を除去し、この面を平坦化する。
に示す工程で得たシリコン基板10に熱酸化を行い、熱
酸化膜(シリコン酸化膜)11及び16を形成する。次
いで、熱酸化膜11上に実施の形態1と同様の方法で、
圧電体素子20を形成する。
16及びシリコン基板10を順に、選択的にエッチング
し、インクキャビティ25を形成する。ここで、シリコ
ン基板10のエッチングでは、エッチング溶液として、
水酸化カリウム溶液を使用したが、前述した不純物添加
層29は、このエッチング溶液に対して耐性があるた
め、すなわち、シリコン基板10とのエッチングレート
の差が大きいため、エッチングされずにインクキャビテ
ィ25内に残存する。
16に、インク吐出口18が開口されたノズル板17を
設ける等、所望の工程を行い、インクジェット式記録ヘ
ッドを完成する。
をマスクとしてシリコン基板10を、その厚さに対し約
1/3の深さまでエッチングした場合について説明した
が、これに限らず、エッチング深さは、インクの吐出性
を損なわない範囲内で、任意により決定してよい。
質シリコン26を充填した場合について説明したが、こ
れに限らず、溝40内には、エッチング液に対するエッ
チングレートをシリコン基板10と同等にすることが可
能であれば、多結晶シリコン等、他の物質を充填しても
よい。
加層29を一ヶ所のみ設けた場合について説明したが、
これに限らず、インクの吐出に支障を来さなければ、二
ヶ所以上形成してもよい。また、設置場所も任意に決定
してよい。
加層29を形成する方法として、イオン注入法を用いた
が、これに限らず、拡散法、選択的に不純物を塗布して
熱処理する方法等、他の方法により形成してもよい。
少なくとも一対の対向した側壁の所望領域に当接して当
該側壁間に介在するとともに、他の側壁と隙間をおいて
形成された梁状部を、インクキャビティ内に備えてなる
ため、この梁状部によってインクキャビティの対向した
側壁を支持することができる。このため、圧電体素子に
電界を加えてこれを変位させることにより、インクキャ
ビティ内を加圧し、この圧力によって、ここに収容され
ているインクをインク吐出口から外部に向けて押出す際
に、インクキャビティの側壁が歪んだり、変形したりす
ることを防止することができる。この結果、前記圧力を
正確かつ効率よくインクの吐出のために利用することが
でき、インクの射出速度が向上したインクジェット式記
録ヘッドを提供することができる。
価な大型のシリコンウエハの利用を容易にすることもで
きる。
記録ヘッドの一部を示す断面図である。
クキャビティをノズル板設置面側から見た平面図であ
る。
工程を示す断面図である。
記録ヘッドの一部を示す断面図である。
クキャビティをノズル板設置面側から見た平面図であ
る。
工程を示す断面図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 基板上に形成された圧電体素子と、前記
基板の前記圧電体素子と対応する位置に形成されたイン
クキャビティと、当該インクキャビティ内に収容された
インクを吐出する吐出口と、を備えたインクジェット式
記録ヘッドであって、 前記インクキャビティは、少なくとも一対の対向した側
壁の所望領域に当接して当該側壁間に介在するととも
に、他の側壁と隙間をおいて形成された梁状部を備えて
なるインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項2】 前記梁状部は、前記一対の側壁間に略垂
直に介在してなる請求項1記載のインクジェット式記録
ヘッド。 - 【請求項3】 前記所望領域は、インクキャビティの中
心部より前記圧電体素子側に位置する請求項1または請
求項2記載のインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項4】 基板上に形成された圧電体素子と、前記
基板の前記圧電体素子と対応する位置に形成されたイン
クキャビティと、当該インクキャビティ内に収容された
インクを吐出する吐出口と、を備えたインクジェット式
記録ヘッドの製造方法であって、 前記基板のインクキ
ャビティが形成される領域の所望部分に、選択的に不純
物を添加する工程と、当該不純物の添加が行われた基板
上に、前記圧電体素子を形成する工程と、前記基板の前
記圧電体素子と対応する部分を選択的にエッチングし、
インクキャビティを形成する工程と、を備えてなるイン
クジェット式記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項5】 基板上に形成された圧電体素子と、前記
基板の前記圧電体素子と対応する位置に形成されたイン
クキャビティと、当該インクキャビティ内に収容された
インクを吐出する吐出口と、を備えたインクジェット式
記録ヘッドの製造方法であって、前記基板のインクキャ
ビティが形成される領域の所望部分を選択的にエッチン
グする工程と、前記基板のエッチング領域に不純物を添
加する工程と、当該不純物を添加した後、前記エッチン
グされた部分にシリコンを充填する工程と、前記基板の
シリコンが充填された表面を平坦化する工程と、当該平
坦化された基板上に前記圧電体素子を形成する工程と、
前記基板の前記圧電体素子と対応する部分を選択的にエ
ッチングし、インクキャビティを形成する工程と、を備
えてなるインクジェット式記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項6】 前記基板のインクキャビティが形成され
る領域の所望部分を選択的にエッチングする工程は、当
該インクキャビティの中心部より前記圧電体素子側とな
る位置まで行う請求項5記載のインクジェット式記録ヘ
ッドの製造方法。
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