JPH10116443A - Optical recording medium - Google Patents
Optical recording mediumInfo
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- JPH10116443A JPH10116443A JP9221197A JP22119797A JPH10116443A JP H10116443 A JPH10116443 A JP H10116443A JP 9221197 A JP9221197 A JP 9221197A JP 22119797 A JP22119797 A JP 22119797A JP H10116443 A JPH10116443 A JP H10116443A
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体、特に
複数のレーザー波長に対して記録及び又は再生可能な光
記録媒体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to an optical recording medium capable of recording and / or reproducing information for a plurality of laser wavelengths.
【0002】[0002]
【従来の技術】コンパクトディスク(以下、CDと略
す)規格に対応した追記型光記録媒体としてCD−R
(CD−Recordable)が、例えば、OPTICAL
DATA STORAGE 1989, TECHNICAL DIGEST SERIES vol.1 P
45(1989) に開示され、市場に供されている。このCD
−Rは図1に示すように透明樹脂基板1上に記録層2、
反射層3、保護層4がこの順で積層されており、該記録
層に高パワーのレーザー光を照射することにより、記録
層が物理的あるいは化学的変化を起こし、ピットの形で
情報を記録する。形成されたピット部位に低パワーのレ
ーザー光を照射し、反射率の変化を検出することにより
ピットの情報を再生することができる。このような光記
録媒体の記録・再生には一般に波長770〜830nm
の近赤外半導体レーザーを用いており、レッドブックや
オレンジブック等のCDの規格に準拠しているため、C
DプレーヤーやCD−ROMプレーヤーと互換性を有す
るという特徴を有する。しかし、上記の従来の光記録媒
体の記録容量は650MB程度であり、デジタル動画の記録
を考慮すると容量が十分ではなく、情報記録媒体に対す
る高密度化・大容量化の要求は高まっている。2. Description of the Related Art As a recordable optical recording medium conforming to the compact disk (hereinafter abbreviated as CD) standard, a CD-R is used.
(CD-Recordable) is, for example, OPTICAL
DATA STORAGE 1989, TECHNICAL DIGEST SERIES vol.1 P
45 (1989) and is marketed. This CD
-R denotes a recording layer 2 on a transparent resin substrate 1 as shown in FIG.
The reflective layer 3 and the protective layer 4 are laminated in this order. By irradiating the recording layer with a high-power laser beam, the recording layer undergoes a physical or chemical change to record information in the form of pits. I do. By irradiating a low-power laser beam to the formed pit portion and detecting a change in reflectance, pit information can be reproduced. Generally, the wavelength of 770 to 830 nm is used for recording / reproduction of such an optical recording medium.
Since it uses a near-infrared semiconductor laser and conforms to CD standards such as Red Book and Orange Book,
It has the feature of being compatible with D players and CD-ROM players. However, the recording capacity of the above-mentioned conventional optical recording medium is about 650 MB, which is not sufficient in consideration of digital moving image recording, and the demand for higher density and larger capacity of information recording media is increasing.
【0003】最近、620〜690nmから選ばれた波
長の赤色半導体レーザーが開発され、高密度の記録及び
/又は再生が可能になりつつある。この半導体レーザー
を用いて、従来の媒体の5〜8媒の記録容量を有する高
密度記録媒体やこの高密度記録媒体対応のプレーヤーの
開発が行われている。例えば、2時間以上の動画をデジ
タル記録したDVD(DEGITAL VIDEO DISK) が上市され
た。また、YAGレーザーの高調波変換による530n
m、420nm付近の波長のレーザーが実用化され、さ
らに、490、410nm近辺の波長の半導体レーザー
の開発も行われている。しかしながら、このような短波
長のレーザーを用いた高密度光記録媒体及びプレーヤー
が検討・導入されるとしても、波長間での互換性を有す
る光記録媒体でないとソフト及び記録されたデータの継
続性が失われる。現状、市場に供されているCD−R媒
体は、400〜440、480〜540、620〜69
0nmから選ばれた波長の光で再生しようとすると反射率
は10%以下と非常に小さい。又、変調度も小さく、か
つ記録部の反射率が未記録部より大きくなるlow to hig
h記録となり、通常のCD(high to low 記録) とは極
性が逆になり好ましくない。さらに、記録波形に大きな
歪みが観察され、400〜440、480〜540、6
20〜690nmから選ばれた波長のレーザーを搭載した
高密度対応プレーヤーでは再生が困難であった。Recently, a red semiconductor laser having a wavelength selected from 620 to 690 nm has been developed, and high-density recording and / or reproduction has been enabled. Using this semiconductor laser, a high-density recording medium having a recording capacity of 5 to 8 conventional media and a player corresponding to this high-density recording medium are being developed. For example, a DVD (DEGITAL VIDEO DISK) digitally recording a movie of two hours or more has been launched. 530n by harmonic conversion of YAG laser
Lasers with wavelengths around m and 420 nm have been put to practical use, and semiconductor lasers with wavelengths around 490 and 410 nm have been developed. However, even if high-density optical recording media and players using such short-wavelength lasers are considered and introduced, the continuity of software and recorded data must be maintained unless the optical recording media has compatibility between wavelengths. Is lost. At present, CD-R media on the market are 400-440, 480-540, 620-69.
When trying to reproduce with light of a wavelength selected from 0 nm, the reflectance is very small at 10% or less. In addition, the degree of modulation is small, and the reflectance of the recorded portion is larger than that of the unrecorded portion.
h recording, which is not preferable because the polarity is opposite to that of a normal CD (high to low recording). Further, a large distortion was observed in the recording waveform, and 400 to 440, 480 to 540, 6
High-density players equipped with a laser having a wavelength selected from 20 to 690 nm were difficult to reproduce.
【0004】特開平3−290835には記録層とアル
ミ合金からなる反射層との間に低分子有機物からなる干
渉層を設けた媒体が開示されている。該媒体は反射層に
高価な金の代わりにアルミ合金を用いて、780nmに於
ける反射率を70%以上得るために干渉層を設けたもので
あり、確かに780nmに於ける反射率は70%以上得られ
るものの、400〜690nmから選ばれた波長の光に対
する反射率は小さく高密度媒体対応プレーヤーでは再生
できない。特開平8−99467号公報、特開平8−1
08623号公報などで色素含有記録層と色素含有光干
渉層を積層した光記録媒体が提案されている。しかしな
がら、これらの提案による媒体の記録特性、特に短波長
光での信号品位が必ずしも良好ではなかった。また、記
録特性を向上させるために添加剤を添加した光記録媒体
の例として、特開平7−98887号公報があるが、こ
れはあくまで記録層中に添加剤を添加したものであり、
光干渉層のような記録とは直接関係ない層に添加剤を添
加し、記録特性を向上させているわけではない。JP-A-3-290835 discloses a medium in which an interference layer made of a low molecular organic substance is provided between a recording layer and a reflection layer made of an aluminum alloy. This medium uses an aluminum alloy instead of expensive gold for the reflection layer, and is provided with an interference layer to obtain a reflectance at 780 nm of 70% or more. Indeed, the reflectance at 780 nm is 70%. % Or more, but the reflectance for light having a wavelength selected from 400 to 690 nm is small and cannot be reproduced by a player supporting high-density media. JP-A-8-99467, JP-A-8-1
JP 08623 and the like have proposed an optical recording medium in which a dye-containing recording layer and a dye-containing optical interference layer are laminated. However, the recording characteristics of the medium according to these proposals, particularly the signal quality at short wavelength light, have not always been good. Further, as an example of an optical recording medium to which an additive is added in order to improve recording characteristics, there is JP-A-7-98887, but this is one in which an additive is added to the recording layer,
Additives are not added to a layer that is not directly related to recording, such as a light interference layer, to improve recording characteristics.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、色素を
含有する記録層と光干渉層を積層した光記録媒体では、
記録時において記録層の分解する際発生する熱等によ
り、意外なことに光干渉層の一部もそれと同時に化学的
もしくは物理的変化を引き起こすため、その熱履歴等に
よりピットのエッジがなまり、良好な信号を得ることが
困難であることを見い出した。本発明の目的は、異なる
二波長のレーザーで良好な記録及び/又は再生可能な光
記録媒体を提供することにある。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have proposed an optical recording medium in which a recording layer containing a dye and an optical interference layer are laminated.
Surprisingly, due to the heat generated when the recording layer decomposes during recording, a part of the light interference layer also causes a chemical or physical change at the same time. It was difficult to obtain a good signal. An object of the present invention is to provide an optical recording medium that can perform good recording and / or reproduction with lasers of two different wavelengths.
【0006】[0006]
【問題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を提案する
に至った。即ち、この問題は以下の発明によって解決さ
れる。本発明は、(1) 基板上に記録層、光干渉層、反射
層及び保護層を有する光記録媒体において、該記録層と
該光干渉層が有機色素を主成分とする層であり、かつ、
該光干渉層に光吸収剤及び/又は熱分解促進剤を添加す
ることを特徴とする光記録媒体、(2) 該光吸収剤が記録
再生レーザー波長λ1で0.06以上の消衰係数kを有
するものであり、該熱分解促進剤が該光干渉層に含まれ
る有機色素よりも低温で分解して大きな分解熱を発生す
るか、もしくは反応活性なラジカルを生成するものであ
る(1) 記載の光記録媒体、(3) 波長λ1のレーザー光を
用いて記録及び/又は再生が可能であり、波長λ1より
80nm以上短波長側の波長λ2 を用いて記録及び/又
は再生が可能であり、かつ、該記録層の屈折率nが波長
λ1 で1.8以上、λ2 で1.0以上、消衰係数kがλ
1 で0.04〜0.20、λ2 で0.04〜0.7であ
り、かつ該光干渉層の屈折率nが波長λ1 で1.5以
上、λ2 で1.7以上、消衰係数kがλ1 で0.02〜
0.15、λ2 で0.04〜0.25であることを特徴
とする(2) 記載の光記録媒体、Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have come to propose the present invention. That is, this problem is solved by the following invention. The present invention provides (1) a recording layer, an optical interference layer, an optical recording medium having a reflective layer and a protective layer on a substrate, wherein the recording layer and the optical interference layer are layers containing an organic dye as a main component, and ,
(2) an optical recording medium comprising a light absorbing agent and / or a thermal decomposition accelerator added to the light interference layer; (2) an extinction coefficient k of 0.06 or more at a recording / reproducing laser wavelength λ1; Wherein the thermal decomposition accelerator decomposes at a lower temperature than the organic dye contained in the light interference layer and generates a large heat of decomposition, or generates a reactive radical (1). the optical recording medium according, (3) recording and / or reproducing using a laser beam having a wavelength λ1 is possible, can be recorded and / or reproduced using the wavelength lambda 2 of 80nm or more shorter wavelength side than the wavelength lambda 1 , and the and the refractive index n of the recording layer is the wavelength lambda 1 in 1.8 or more, lambda 2 in 1.0 above, the extinction coefficient k is lambda
1 in 0.04 to 0.20, a 0.04 to 0.7 at lambda 2, and the refractive index of the optical interference layer n is the wavelength lambda 1 in 1.5 or more, lambda 2 in 1.7 above, extinction coefficient k is 0.02 at λ 1
0.15, and wherein the at lambda 2 is from 0.04 to 0.25 (2), wherein the optical recording medium,
【0007】(4) 該記録層の屈折率nが波長λ1 で1.
9〜2.7、λ2 で1.0〜1.6、消衰係数kがλ1
で0.04〜0.16、λ2 で0.1〜0.7であり、
かつ、該光干渉層の屈折率nが波長λ1 で1.7〜2.
2、λ2 で1.8〜2.7、消衰係数kがλ1 で0.0
4〜0.14、λ2 で0.04〜0.18である(3) に
記載の光記録媒体、(5) 波長λ1 のレーザー光を用いて
記録及び再生が可能であり、波長λ2 のレーザー光を用
いて再生が可能である(3) に記載の光記録媒体、(6) レ
ーザー光の波長λ1 が770〜830nmの範囲から選
択され、λ2 が620〜690nmの範囲から選択さ
れ、かつ、基板を通して測定した波長λ1 でのレーザー
光の反射率が65%以上で、かつ、λ2 でのレーザー光
の反射率が15%以上である(3) 〜(5) のいずれかに記
載の光記録媒体、(7) レーザー光の波長λ1 が770〜
830nmの範囲から選択され、λ2 が480〜540
nmの範囲または400〜440nmの範囲から選択さ
れ、かつ基板を通して測定した波長λ1 でのレーザー光
の反射率が65%以上で、かつλ2でのレーザー光の反
射率が15%以上である(3) 〜(5) のいずれかに記載の
光記録媒体、(8) 該光干渉層に用いられる有機色素が下
記一般式(1)(化5)で表されるアゾ色素又は該アゾ
色素の金属錯体からなる(6) に記載の光記録媒体、[0007] (4) the refractive index n of the recording layer at the wavelength lambda 1 1.
9~2.7, λ 2 in the 1.0 to 1.6, the extinction coefficient k is λ 1
In from 0.04 to 0.16, it is at λ 2 0.1~0.7,
And the refractive index n of the optical interference layer at the wavelength lambda 1 1.7-2.
2, 1.8 to 2.7 at λ 2 , extinction coefficient k is 0.0 at λ 1
4 to 0.14, the optical recording medium according to an at λ 2 0.04~0.18 (3), ( 5) is capable of recording and reproducing with a wavelength lambda 1 of the laser beam, the wavelength lambda the optical recording medium according to reproduction is possible using a second laser beam (3), (6) the wavelength lambda 1 of the laser beam is selected from a range of 770 to 830 nm, lambda 2 is in the range of 620~690nm is selected, and, in the reflectance of the laser beam at a wavelength lambda 1 as measured through the substrate is 65% or more, and the reflectance of the laser light at lambda 2 is not less than 15% of (3) to (5) The optical recording medium according to any one of (7), wherein the wavelength λ 1 of the laser light is 770 to 770.
830 nm, and λ 2 is 480-540.
is selected from the range of nm or the range of 400 to 440 nm, and the reflectance of the laser light at the wavelength λ 1 measured through the substrate is 65% or more, and the reflectance of the laser light at λ 2 is 15% or more. (3) The optical recording medium according to any one of (5) to (5), (8) the organic dye used in the light interference layer is an azo dye represented by the following general formula (1) or a chemical formula (5): The optical recording medium according to (6), comprising a metal complex of
【0008】[0008]
【化5】 (式中、Aはそれが結合している窒素原子及び炭素原子
と一緒になって複素環を形成する残基であり、Bはそれ
が結合している2つの炭素原子と一緒になって芳香環を
形成する残基であり、Xは活性水素を有する基である) (9) 該記録層に用いられる有機色素が下記一般式(2)
(化6)で表されるフタロシアニン色素からなる(6) 〜
(8) のいずれかに記載の光記録媒体、Embedded image Wherein A is a residue which, together with the nitrogen and carbon atoms to which it is attached, forms a heterocycle, and B, which is aromatic with the two carbon atoms to which it is attached. (X is a group having active hydrogen) (9) The organic dye used in the recording layer is represented by the following general formula (2)
(6) consisting of a phthalocyanine dye represented by the following formula (6):
The optical recording medium according to any one of (8),
【0009】[0009]
【化6】 (式中、Y1 〜Y4 は酸素原子又は硫黄原子、Z1 〜Z
4 は4〜12個の炭素原子を有する無置換又は置換基を
有する炭化水素基、X1 〜X4 はハロゲン原子を表し、
l1 〜l4 は1または2、m1 〜m4 は0〜3の整数を
表し、Mは2個の水素原子、2価以上の金属、金属の酸
化物またはハロゲン化物を表す)Embedded image (Wherein, Y 1 to Y 4 are an oxygen atom or a sulfur atom, and Z 1 to Z
4 is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms, X 1 to X 4 represent a halogen atom,
l1 to l4 each represent an integer of 1 or 2, m1 to m4 each represent an integer of 0 to 3, and M represents two hydrogen atoms, a divalent or higher valent metal, a metal oxide or a halide.
【0010】(10)レーザー光の波長λ1 が690〜62
0nmの範囲から選択され、λ2 が480〜540nm
の範囲または400〜440nmの範囲から選択され、
かつ基板を通して測定した波長λ1 でのレーザー光の反
射率が20%以上で、かつλ2でのレーザー光の反射率
が15%以上である(3) 〜(5) のいずれかに記載の光記
録媒体、(11)レーザー光の波長λ1 が480〜540n
mの範囲から選択され、λ2 が400〜440nmの範
囲から選択され、かつ基板を通して測定した波長λ1 で
のレーザー光の反射率が20%以上で、かつλ2 でのレ
ーザー光の反射率が15%以上である(3) 〜(5) のいず
れかに記載の光記録媒体、(12)該光吸収剤が少なくとも
一種の下記一般式(3)(化7)で表されるフタロシア
ニン色素または下記一般式(4)(化8)で表されるナ
フタロシアニン色素であり、該熱分解促進剤がメタロセ
ン化合物であるFe(フェロセン)、Ti、V、Mn、
Cr、Co、Ni、Mo、Ru、Rh、Zr、Lu、T
a、W、Os、Ir、Sc、Yなどのビスシクロペンタ
ジエニル金属錯体、アセチルアセトナート錯体、フェナ
ントロリン錯体、ビスピリジン錯体、エチレンジアミン
錯体、エチレンジアミン四酢酸錯体、ジエチレントリア
ミン錯体、ジエチレングリコールジメチルエーテル錯
体、ジホスフィノ錯体、ジメチルグリオキシマート錯体
などのキレート錯体、もしくは、カルボニル錯体、シア
ノ錯体、アンミン錯体などの金属錯体からなる群から選
択される少なくとも一種である(3) 〜(7) のいずれかに
記載の光記録媒体、に関するものである。(10) The wavelength λ 1 of the laser beam is 690 to 62
0 nm range, λ 2 is 480-540 nm
Or from the range of 400 to 440 nm,
And the reflectance of the laser light at the wavelength λ 1 measured through the substrate is 20% or more, and the reflectance of the laser light at the wavelength λ 2 is 15% or more, according to any one of (3) to (5). optical recording medium, the wavelength lambda 1 (11) laser light 480~540n
m, λ 2 is selected from the range of 400 to 440 nm, and the reflectance of laser light at wavelength λ 1 measured through the substrate is 20% or more, and the reflectance of laser light at λ 2 The optical recording medium according to any one of (3) to (5), wherein the phthalocyanine dye is represented by at least one kind of the following general formula (3): Or a naphthalocyanine dye represented by the following general formula (4), wherein the thermal decomposition accelerator is a metallocene compound such as Fe (ferrocene), Ti, V, Mn,
Cr, Co, Ni, Mo, Ru, Rh, Zr, Lu, T
a, W, Os, Ir, Sc, Y, and other biscyclopentadienyl metal complexes, acetylacetonate complexes, phenanthroline complexes, bispyridine complexes, ethylenediamine complexes, ethylenediaminetetraacetic acid complexes, diethylenetriamine complexes, diethyleneglycoldimethylether complexes, diphosphino complexes, The optical recording according to any one of (3) to (7), which is at least one selected from the group consisting of a chelate complex such as a dimethylglyoximate complex, or a metal complex such as a carbonyl complex, a cyano complex, and an ammine complex. Media.
【0011】[0011]
【化7】 (式中、R1 、R2 は炭素数3〜18の直鎖、分岐また
は環状のアルコキシ基を表し、アルコキシ基中の酸素原
子に結合していない−CH2 −基は酸素原子で置換され
ていてもよく、R3 、R4 は水素原子またはハロゲン原
子を表し、Mは2個の水素原子、2価の金属、金属の酸
化物またはハロゲン化物を表す。ただし、R1 とR2 、
R3 とR4 は入れ代わってもよい。)Embedded image (Wherein, R 1 and R 2 represent a linear, branched or cyclic alkoxy group having 3 to 18 carbon atoms, and a —CH 2 — group not bonded to an oxygen atom in the alkoxy group is substituted with an oxygen atom. R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a halogen atom, and M represents two hydrogen atoms, a divalent metal, a metal oxide or a halide, provided that R 1 and R 2 ,
R 3 and R 4 may be interchanged. )
【0012】[0012]
【化8】 (式中、R1 、R2 およびMは前記と同じであり、R1
とR2 は入れ代わってもよい。)Embedded image (Wherein, R 1, R 2 and M are as defined above, R 1
And R 2 may be interchanged. )
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】本発明に従えば、上記のような屈
折率nおよび消衰係数kを有する異なる有機色素を積層
した記録層と光干渉層として用い、該光干渉層に光吸収
剤及び/又は熱分解促進剤を添加することにより、40
0〜440、480〜540、620〜690、770
〜830nmの中から二つの異なる波長領域から選ばれ
レーザーで記録及び/又は再生可能である光記録媒体に
おいて、記録特性の良好化が実現される。すなわち、そ
の作用は、記録時において、レーザー光で記録層の色素
が分解、燃焼、変形するが、光干渉層として用いた色素
も一部は化学的及び物理的に変化することが我々により
観測されている。このため、光干渉層が中途半端に変化
して、ピットが形成される。According to the present invention, a light absorbing layer is used as a recording layer and a light interference layer in which different organic dyes having the above-mentioned refractive index n and extinction coefficient k are laminated. And / or by adding a thermal decomposition accelerator,
0 to 440, 480 to 540, 620 to 690, 770
In an optical recording medium that is selected from two different wavelength regions from 8830 nm and that can be recorded and / or reproduced with a laser, the recording characteristics are improved. In other words, we observe that during recording, the dye in the recording layer is decomposed, burned, and deformed by laser light, but some of the dye used as the light interference layer is also chemically and physically changed. Have been. For this reason, the light interference layer changes halfway and pits are formed.
【0014】しかして、本発明に従って、光干渉層に光
吸収剤及び/又は熱分解促進剤を添加することにより、
それらが発熱もしくは分解することで光干渉層の化学的
及び物理的変化を促進させる。それにより記録層と光干
渉層とが一気にピット形成することにより記録特性が向
上することができると推定されるのである。Thus, according to the present invention, by adding a light absorber and / or a thermal decomposition accelerator to the light interference layer,
When they generate heat or decompose, they promote chemical and physical changes of the light interference layer. Thus, it is presumed that the recording characteristics can be improved by forming pits in the recording layer and the light interference layer at once.
【0015】なお本発明でいう記録及び/又は再生可能
とは、その波長で記録及び再生が可能、記録のみ可能、
及び他の波長で記録したものの再生のみ可能の三つの場
合を意味するものである。The term "recordable and / or reproducible" as used in the present invention means that recording and reproduction are possible at that wavelength, only recording is possible,
And three cases where only reproduction of data recorded at other wavelengths is possible.
【0016】本発明の具体的構成について以下に詳細に
説明する。本発明において光記録媒体とは、予め情報を
記録されている再生専用の光再生専用媒体及び情報を記
録して再生することのできる光記録媒体の両方を示すも
のである。但し、ここでは適例として後者の情報を記録
して再生のできる光記録媒体、特に基板上に記録層、光
干渉層、反射層及び保護層をこの順で形成した光記録媒
体及び反射層面に基板を貼りあわせた光記録媒体に関し
て説明する。これらの光記録媒体は(図2)に示すよう
に、基板1’上に記録層2’、光干渉層3’が形成され
ており、その上に密着して反射層4’が設けられてお
り、さらにその上に保護層5’が反射層4’を覆ってい
る。ただし、記録層2’と光干渉層3’の積層順序は逆
転してもかまわない。また、(図3)に示すように、基
板1”上に記録層2”、光干渉層3”が形成されてお
り、その上に密着して反射層4”が設けられており、さ
らにその上に接着層5”を介して基板6”が貼り合わさ
っている。ただし、記録層2”と光干渉層3”の積層順
序は逆転してもかまわない。基板の材質としては、基本
的には記録光及び再生光の波長で透明であればよい。例
えば、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメ
タクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹
脂、エポキシ樹脂等の高分子材料やガラス等の無機材料
が利用される。これらの基板材料は射出成形法等により
円盤状に基板に成形される。必要に応じて、基板表面に
溝を形成することもある。The specific structure of the present invention will be described in detail below. In the present invention, the optical recording medium refers to both a read-only optical read-only medium on which information is recorded in advance and an optical recording medium capable of recording and reproducing information. However, here, as an example, an optical recording medium capable of recording and reproducing the latter information, particularly a recording layer, an optical interference layer, a reflective layer, and a protective layer formed on a substrate in this order, the optical recording medium and the reflective layer surface. An optical recording medium to which a substrate is attached will be described. In these optical recording media, as shown in FIG. 2, a recording layer 2 ′ and a light interference layer 3 ′ are formed on a substrate 1 ′, and a reflective layer 4 ′ is provided on the recording layer 2 ′. And a protective layer 5 'covers the reflective layer 4'. However, the stacking order of the recording layer 2 'and the light interference layer 3' may be reversed. Further, as shown in FIG. 3, a recording layer 2 ″ and a light interference layer 3 ″ are formed on a substrate 1 ″, and a reflective layer 4 ″ is provided thereon in close contact therewith. A substrate 6 ″ is bonded on the upper side via an adhesive layer 5 ″. However, the stacking order of the recording layer 2 ″ and the light interference layer 3 ″ may be reversed. As a material of the substrate, basically, any material may be used as long as it is transparent at the wavelength of the recording light and the reproducing light. For example, an acrylic resin such as a polycarbonate resin, a vinyl chloride resin and polymethyl methacrylate, a polymer material such as a polystyrene resin and an epoxy resin, and an inorganic material such as glass are used. These substrate materials are formed into a disk shape by injection molding or the like. If necessary, a groove may be formed on the substrate surface.
【0017】本発明に用いる記録層に含有させる有機色
素としては、長波長側のレーザー波長(λ1 )が770
〜830nmの場合は、極大吸収波長(λmax )が70
0nm付近に存在し、770〜830nmでの屈折率が
大きく、吸光度が比較的小さいものである。具体例とし
て、ペンタメチンシアニン系色素、ヘプタメチンシアニ
ン系色素、スクアリリウム系色素、アゾ系色素、アント
ラキノン系色素、ナフトキノン系色素、インドフェノー
ル系色素、フタロシアニン系色素、ピリリウム系色素、
チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、トリフェ
ニルメタン系色素、キサンテン系色素、インダンスレン
系色素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メロシ
アニン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色素、オ
キサジン系色素、ジチオール金属錯体系色素などがある
が、好ましくはフタロシアニン系色素、アゾ系色素、シ
アニン系色素、アズレニウム系色素であり、耐光性や耐
久性の点からフタロシアニン系色素が特に好ましい。さ
らに、変調度や再生波形の歪、エラーレート、ジッタ
ー、デビエーション等の記録特性の点からは下記一般式
(2)(化9)で示されるフタロシアニン色素が最も好
ましい。なお記録層は、複数の色素を含有していてもよ
い。The organic dye contained in the recording layer used in the present invention has a laser wavelength (λ 1 ) on the long wavelength side of 770.
830 nm, the maximum absorption wavelength (λ max ) is 70
It exists near 0 nm, has a large refractive index at 770 to 830 nm, and has a relatively small absorbance. Specific examples, pentamethine cyanine dye, heptamethine cyanine dye, squarylium dye, azo dye, anthraquinone dye, naphthoquinone dye, indophenol dye, phthalocyanine dye, pyrylium dye,
Thiopyrylium dye, azurenium dye, triphenylmethane dye, xanthene dye, indanthrene dye, indigo dye, thioindigo dye, merocyanine dye, thiazine dye, acridine dye, oxazine dye, dithiol metal There are complex dyes and the like, but phthalocyanine dyes, azo dyes, cyanine dyes, and azurenium dyes are preferable, and phthalocyanine dyes are particularly preferable in terms of light resistance and durability. Further, phthalocyanine dyes represented by the following general formulas (2) and (9) are most preferable from the viewpoint of recording characteristics such as modulation degree, distortion of reproduced waveform, error rate, jitter, and deviation. The recording layer may contain a plurality of dyes.
【0018】[0018]
【化9】 (式中、Y1 〜Y4 は酸素原子又は硫黄原子、Z1 〜Z
4 は4〜12個の炭素原子を有する無置換又は置換基を
有する炭化水素基、X1 〜X4 はハロゲン原子を表し、
l1 〜l4 は1又は2、m1 〜m4 は0〜3の整数を表
し、Mは2個の水素原子、2価の金属、金属の酸化物ま
たはハロゲン化物を表す。)Embedded image (Wherein, Y 1 to Y 4 are an oxygen atom or a sulfur atom, and Z 1 to Z
4 is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms, X 1 to X 4 represent a halogen atom,
l1 to l4 represent an integer of 1 or 2; m1 to m4 represent an integer of 0 to 3; M represents two hydrogen atoms, a divalent metal, a metal oxide or a halide. )
【0019】一般式(2)で表されるフタロシアニン色
素に於けるMの具体例としては、Cu、Pd、Ni、M
g、Zn、Pb、Cd等の2価の金属、VO等の金属酸
化物やAlCl等の金属のハロゲン化物等が挙げられ
る。一方、Z1 、Z2 、Z3 、Z4 は、炭素数が4〜1
2の無置換又は置換基を有する炭化水素基であるが、具
体的には、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、
シクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基等の飽和
炭化水素基や、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル
基、ドデセニル基、フェニル基、メチルフェニル基、ブ
チルフェニル基、ヘキシルフェニル基等の不飽和炭化水
素基等が挙げられる。これらの炭化水素基は直鎖状でも
分枝状であっても良い。又、これらの炭化水素基はハロ
ゲン、アミノ基、エーテル基等で置換されていても良
い。アミノ基やエーテル基で置換されている場合でも置
換基中の全ての炭素原子数は4〜12個である。又、X
1 、X2 、X3 、X4 で表されるハロゲンとしてはフッ
素、塩素、臭素、沃素等が挙げられる。Specific examples of M in the phthalocyanine dye represented by the general formula (2) include Cu, Pd, Ni, M
g, a divalent metal such as Zn, Pb, and Cd; a metal oxide such as VO; and a halide of a metal such as AlCl. On the other hand, Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 each have 4 to 1 carbon atoms.
2 unsubstituted or substituted hydrocarbon groups, specifically, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, dodecyl,
Cyclohexyl group, saturated hydrocarbon group such as dimethylcyclohexyl group, and unsaturated hydrocarbon group such as butenyl group, hexenyl group, octenyl group, dodecenyl group, phenyl group, methylphenyl group, butylphenyl group, hexylphenyl group and the like. Can be These hydrocarbon groups may be linear or branched. Further, these hydrocarbon groups may be substituted with a halogen, an amino group, an ether group or the like. Even when substituted with an amino group or an ether group, the total number of carbon atoms in the substituent is from 4 to 12. Also, X
Examples of the halogen represented by 1 , X 2 , X 3 and X 4 include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
【0020】フタロシアニンを構成するベンゼン環に結
合している前記したX1 〜X4 の置換基及びY1 〜Y4
の置換基の置換位置は特に限定するものではなく、又置
換基の種類及び数は一分子中の4つのベンゼン環で異な
っていても良い。好ましいフタロシアニン色素の具体例
としては、例えば特開平3-62878 、特開平3-141582、特
開平3-215466に記載されている以下のような色素(化1
0〜化13)が挙げられる。The substituents of X 1 to X 4 described above are attached to the benzene rings constituting phthalocyanine and Y 1 to Y 4
Is not particularly limited, and the type and number of the substituents may be different among four benzene rings in one molecule. Specific examples of preferable phthalocyanine dyes include, for example, the following dyes described in JP-A-3-62878, JP-A-3-41582, and JP-A-3-215466.
0 to 13).
【0021】[0021]
【化10】 Embedded image
【0022】[0022]
【化11】 Embedded image
【0023】[0023]
【化12】 Embedded image
【0024】[0024]
【化13】 Embedded image
【0025】λ1 のレーザー波長が620〜690nm
の場合は、λmax が580nm付近に存在し、620〜
690nmでの屈折率が大きく、吸光度が小さいもので
ある。具体例として、トリメチンシアニン系色素、スク
アリリウム系色素、アゾ系色素、アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、ピリリウム系色素、アズ
レニウム系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテ
ン系色素、インダンスレン系色素、インジゴ系色素、メ
ロシアニン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色
素、オキサジン系色素、ポルフィン系色素、アザポルフ
ィン系色素、ピロメテン系色素などがあるが、好ましく
はトリメチンシアニン系色素、ポルフィン系色素、アザ
ポルフィン系色素、ピロメテン系色素、アゾ系色素であ
り、複数の色素を含有していてもよい。The laser wavelength of λ 1 is 620 to 690 nm
In the case of λmax exists around 580 nm,
It has a large refractive index at 690 nm and a small absorbance. Specific examples include trimethine cyanine dyes, squarylium dyes, azo dyes, anthraquinone dyes, indophenol dyes, pyrylium dyes, azurenium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and indanthrene dyes Indigo dyes, merocyanine dyes, thiazine dyes, acridine dyes, oxazine dyes, porphine dyes, azaporphine dyes, pyromethene dyes, and the like, preferably trimethine cyanine dyes, porphine dyes, It is an azaporphine dye, a pyromethene dye, or an azo dye, and may contain a plurality of dyes.
【0026】λ1 のレーザー波長が480〜540nm
の場合は、λmax が440nm付近に存在し、480〜
540nmでの屈折率が大きく、吸光度が比較的小さい
ものである。具体例として、スピロ系色素、フェロセン
系色素、フルオレイン系色素、フルギド系色素、イミダ
ゾール系色素、チアゾール系色素、ペリレン系色素、フ
ェナジン系色素、フェノチアジン系色素、ポリエン系色
素、インドール系色素、アニリン系色素、アゾ系色素、
キノン系色素、シアニン系色素、アクリジン系色素、ア
クリジノン系色素、キノフタロン系色素、フェノキサジ
ン系色素、ジフェニルアミン系色素、クマリン系色素、
カルボスチリル系色素、ポルフィン系色素、スクアリリ
ウム系色素、オキサジン系色素、ピロメテン系色素など
があるが、好ましくは、ポルフィン系色素、キノフタロ
ン系色素、キノン系色素、ピロメテン系色素、アゾ系色
素であり、複数の色素を含有していてもよい。The laser wavelength of λ 1 is 480 to 540 nm
In the case of λ max exists around 440 nm,
It has a large refractive index at 540 nm and a relatively small absorbance. Specific examples include spiro dyes, ferrocene dyes, fluorein dyes, fulgide dyes, imidazole dyes, thiazole dyes, perylene dyes, phenazine dyes, phenothiazine dyes, polyene dyes, indole dyes, and aniline Dyes, azo dyes,
Quinone dye, cyanine dye, acridine dye, acridinone dye, quinophthalone dye, phenoxazine dye, diphenylamine dye, coumarin dye,
Carbostyril dyes, porphine dyes, squarylium dyes, oxazine dyes, pyromethene dyes and the like, preferably, porphine dyes, quinophthalone dyes, quinone dyes, pyromethene dyes, azo dyes, It may contain a plurality of dyes.
【0027】本発明において光干渉層に含有させる有機
色素としては、短波長側のレーザー波長(λ2 )が62
0〜690nmの場合、λmax が580nm付近に存在
し、620〜830nmでの屈折率が大きく、吸光度が
小さいものである。具体的には、シアニン系色素、スク
アリリウム系色素、アゾ系色素、ナフトキノン系色素、
アントラキノン系色素、ポルフィリン系色素、テトラア
ザポルフィン系色素、アクリジン系色素、オキサジン系
色素、ピロメテン系色素などがあるが、好ましくはアゾ
系色素、ポルフィン系色素、シアニン系色素、ピロメテ
ン系色素であり、成膜の容易さや耐久性の点からアゾ色
素が好ましい。さらに、記録特性の点から下記一般式
(1)(化14)で表されるアゾ色素又は該アゾ色素の
金属錯体が最も好ましい。なお、光干渉層は、複数の色
素を含有していてもよい。In the present invention, the organic dye contained in the light interference layer has a laser wavelength (λ 2 ) on the short wavelength side of 62.
In the case of 0 to 690 nm, λ max exists near 580 nm, the refractive index at 620 to 830 nm is large, and the absorbance is small. Specifically, cyanine dyes, squarylium dyes, azo dyes, naphthoquinone dyes,
Anthraquinone dyes, porphyrin dyes, tetraazaporphine dyes, acridine dyes, oxazine dyes, pyrromethene dyes and the like, preferably azo dyes, porphine dyes, cyanine dyes, pyromethene dyes, Azo dyes are preferred from the viewpoint of ease of film formation and durability. Furthermore, an azo dye represented by the following general formula (1) or a metal complex of the azo dye is most preferable from the viewpoint of recording characteristics. Note that the light interference layer may contain a plurality of dyes.
【0028】[0028]
【化14】 (式中、Aは、それが結合している窒素原子及び炭素原
子と一緒になって複素環を形成する残基であり、Bはそ
れが結合している二つの炭素原子と一緒になって芳香環
を形成する残基である。又、Xは活性水素を有する基で
ある。) 具体的には、一般式(1)で表されるアゾ色素に於い
て、Aで表される複素環を形成する残基は、例えばチア
ゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリドベンゾチアゾー
ル環、ベンゾピリドチアゾール環、ピリドチアゾール
環、ピリジン環、キノリン環、チアジアゾール環、イミ
ダゾール環等が挙げられる。好ましくは、ピリジン環又
はチアジアゾール環である。Embedded image Wherein A is a residue that forms a heterocycle with the nitrogen and carbon atoms to which it is attached, and B is a residue that is taken together with the two carbon atoms it is attached to X is a group having active hydrogen.) Specifically, in the azo dye represented by the general formula (1), a heterocyclic ring represented by A Include, for example, thiazole ring, benzothiazole ring, pyridobenzothiazole ring, benzopyridothiazole ring, pyridothiazole ring, pyridine ring, quinoline ring, thiadiazole ring, imidazole ring and the like. Preferably, it is a pyridine ring or a thiadiazole ring.
【0029】これらの複素環は、一つ以上の置換基を有
することが好ましく、置換基の具体例としては、アルキ
ル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、ハロゲン化アルコキシ基、アリールオキシ基、アル
キルチオ基、ハロゲン化アルキルチオ基、アリールチオ
基、アラルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、エステル基、カルバモイル基、アシル基、アシルア
ミノ基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アミノ
基、ヒドロキシル基、フェニルアゾ基、ピリジノアゾ
基、ビニル基等が挙げられ、これらの置換基は更に置換
基を有していても良い。複素環上の置換基の中で好まし
い置換基は、置換基を有していても良い炭素数1〜15の
アルキル基、置換基を有していても良い炭素数1〜15の
フロロアルキル基、置換基を有していても良い炭素数1
〜25のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、置換基を有していても良い炭素数1〜15のアルキル
チオ基、置換基を有していても良い炭素数1〜15のフロ
ロアルキルチオ基、置換基を有していても良い炭素数1
〜15アルキルスルファモイル基、置換基を有していても
良い炭素数6〜20のフェニルスルファモイル基、置換基
を有していても良いフェニルアゾ基、置換基を有してい
ても良いピリジノアゾ基、炭素数2〜16のエステル基、
炭素数2〜16のカルバモイル基、炭素数2〜16のアシル
基、炭素数2〜15のアシルアミノ基、炭素数1〜15のス
ルホンアミド基、−NR5 R6 (R5 及びR6 はそれぞ
れ独立に水素原子、置換基を有していても良い炭素数1
〜15のアルキル基、又は置換基を有していても良いフェ
ニル基を表し、R5 及びR6 は一緒になって5員環又は
6員環を形成していても良い)、ヒドロキシル基、−C
R7=C(CN)R8 (R7 は水素原子又は炭素数1〜
6のアルキル基を表し、R8はシアノ基又は炭素数2〜
7のアルコキシカルボニル基を表す)等が挙げられる。
なお、上記全てのアルキル基部位はスルホン化、ニトロ
化、シアノ化、ハロゲン化、アセチル化、又はヒドロキ
シル化されていても良い。These heterocycles preferably have one or more substituents. Specific examples of the substituent include an alkyl group, a halogenated alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a halogenated alkoxy group, and an aryloxy group. Group, alkylthio group, halogenated alkylthio group, arylthio group, aralkyl group, halogen atom, cyano group, nitro group, ester group, carbamoyl group, acyl group, acylamino group, sulfamoyl group, sulfonamide group, amino group, hydroxyl group, Examples thereof include a phenylazo group, a pyridinoazo group, and a vinyl group, and these substituents may further have a substituent. Preferred substituents among the substituents on the heterocyclic ring are an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms which may have a substituent, and a fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms which may have a substituent. Having 1 carbon atom which may have a substituent
~ 25 alkoxy group, halogen atom, cyano group, nitro group, C1-C15 alkylthio group which may have a substituent, C1-C15 fluoroalkylthio group which may have a substituent 1 group which may have a group or a substituent
~ 15 alkylsulfamoyl group, optionally substituted phenylsulfamoyl group having 6 to 20 carbon atoms, optionally substituted phenylazo group, optionally substituted Pyridinoazo group, an ester group having 2 to 16 carbon atoms,
A carbamoyl group having 2 to 16 carbon atoms, an acyl group having 2 to 16 carbon atoms, an acylamino group having 2 to 15 carbon atoms, a sulfonamide group having 1 to 15 carbon atoms, -NR 5 R 6 (R 5 and R 6 are each Independently a hydrogen atom, carbon atom 1 which may have a substituent
Represents an alkyl group or a phenyl group which may have a substituent, and R 5 and R 6 may together form a 5- or 6-membered ring), a hydroxyl group, -C
R 7 CC (CN) R 8 (R 7 is a hydrogen atom or a carbon atom having 1 to
6 represents an alkyl group, and R 8 represents a cyano group or a group having 2 to 2 carbon atoms.
7 represents an alkoxycarbonyl group).
In addition, all the alkyl groups described above may be sulfonated, nitrated, cyanated, halogenated, acetylated, or hydroxylated.
【0030】一般式(1)のBで表される芳香環を形成
する残基の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ピ
リドン環、ピリジン環、ピラゾール環等が挙げられる。
好ましくはベンゼン環であり、少なくとも一つの電子供
与性基で置換されているものが特に好ましい。かかる置
換基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、ア
リール基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン化アルキル
チオ基、アリールチオ基、アラルキル基、ハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、エステル基、カルバモイル
基、アシル基、アシルアミノ基、スルファモイル基、ス
ルホンアミド基、アミノ基、ヒドロキシル基、フェニル
アゾ基、ピリジノアゾ基、ビニル基等が挙げられ、これ
らの置換基は更に置換基を有していても良い。芳香環上
の置換基の中で好ましい置換基は、置換基を有していて
も良い炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有していて
も良い炭素数1〜15のフロロアルキル基、置換基を有し
ていても良い炭素数1〜25のアルコキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、置換基を有していても良い炭
素数1〜15のアルキルチオ基、置換基を有していても良
い炭素数1〜15のフロロアルキルチオ基、置換基を有し
ていても良い炭素数1〜15のアルキルスルファモイル
基、置換基を有していても良い炭素数6〜20のフェニル
スルファモイル基、置換基を有していても良いフェニル
アゾ基、置換基を有していても良いピリジノアゾ基、炭
素数2〜16のエステル基、炭素数2〜16のカルバモイル
基、炭素数2〜16のアシル基、炭素数1〜15のアシルア
ミノ基、炭素数1〜15のスルホンアミド基、−NR5 R
6 (R5 及びR6 は前記と同じ)、ヒドロキシル基、−
CR7=C(CN)R8 (R7 及びR8 は前記と同じ)
等が挙げられる。特に好ましい電子供与性基としては、
置換基を有していても良い炭素数1〜8のモノアルキル
アミノ基、置換基を有していても良い炭素数2〜8のジ
アルキルアミノ基、置換基を有していても良い炭素数1
〜8のアルコキシ基、置換基を有していても良い炭素数
1〜8のアルキル基、置換基を有していても良い炭素数
6〜12のアリールオキシ基、置換基を有していても良
い炭素数7〜12のアラルキル基、カルバモイル基、ア
ミノ基、水酸基等が挙げられる。なお、上記全ての置換
基のアルキル基部位はスルホン化、ニトロ化、シアノ
化、ハロゲン化、アセチル化、又はヒドロキシル化され
ていても良い。Examples of the residue forming the aromatic ring represented by B in the general formula (1) include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridone ring, a pyridine ring and a pyrazole ring.
Preferred is a benzene ring, particularly preferred is one substituted with at least one electron donating group. Examples of such a substituent include an alkyl group, a halogenated alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a halogenated alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, a halogenated alkylthio group, an arylthio group, an aralkyl group, a halogen atom, a cyano group, and a nitro group. Groups, ester groups, carbamoyl groups, acyl groups, acylamino groups, sulfamoyl groups, sulfonamide groups, amino groups, hydroxyl groups, phenylazo groups, pyridinoazo groups, vinyl groups, and the like. May be. Among the substituents on the aromatic ring, preferred substituents are an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms which may have a substituent, and a fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms which may have a substituent. An alkoxy group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkylthio group having 1 to 15 carbon atoms which may have a substituent, Fluoroalkylthio group having 1 to 15 carbon atoms which may be substituted, alkylsulfamoyl group having 1 to 15 carbon atoms which may have a substituent, 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent Phenylsulfamoyl group, a phenylazo group which may have a substituent, a pyridinoazo group which may have a substituent, an ester group having 2 to 16 carbon atoms, a carbamoyl group having 2 to 16 carbon atoms, carbon An acyl group having 2 to 16 carbon atoms, an acylamino group having 1 to 15 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms 15 sulfonamide group, -NR 5 R
6 (R 5 and R 6 are as defined above), a hydroxyl group,-
CR 7 CC (CN) R 8 (R 7 and R 8 are the same as above)
And the like. Particularly preferred electron donating groups include
A monoalkylamino group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, a dialkylamino group having 2 to 8 carbon atoms which may have a substituent, and a carbon number which may have a substituent 1
An alkoxy group having 8 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms which may have a substituent, And aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms, carbamoyl groups, amino groups, and hydroxyl groups. In addition, the alkyl group site | part of all the said substituents may be sulfonated, nitrated, cyanated, halogenated, acetylated, or hydroxylated.
【0031】一般式(1)のXとしては活性水素を有す
る基であれば特に制限はないが、好ましいものとして
は、−OH、−COOH、−SO3 H、−B(O
H)2 、−NHSO2 R9 (R9 は水素原子、置換基を
有していても良い炭素数1〜25のアルキル基又は置換基
を有していても良いフェニル基を表す)、−CON
H2 、−SO2 NH2 、−NH2 等が挙げられ、特に好
ましいものとしては−OH、−COOH、−SO3 H、
−NHSO2 R9 (R9 は前記と同じ)が挙げられる。
なお、Xが−OH、−COOH、−SO3 H等のように
陰イオンに解離しうる基である場合には、アゾ金属錯体
化合物の形成に際してはこのままの形で用いてもよい
が、陽イオンとの塩の形で用いても良い。かかる陽イオ
ンとしては、Na+ 、Li+ 、K+ 等の無機系の陽イオ
ンやP+ (C6 H5 )4 、N+ (C2 H5 )4 、N
+ (C4 H9 )4 、C6 H5 N+ (CH3 )3 等の有機
系陽イオンが挙げられる。[0031] As the X in the general formula (1) is not particularly limited as long as it is a group having an active hydrogen, preferred are, -OH, -COOH, -SO 3 H , -B (O
H) 2, represents a -NHSO 2 R 9 (R 9 is a hydrogen atom, which may have a may have a substituent alkyl group or a substituted group of 1 to 25 carbon atoms a phenyl group), - CON
H 2 , —SO 2 NH 2 , —NH 2 and the like. Particularly preferred are —OH, —COOH, —SO 3 H,
—NHSO 2 R 9 (R 9 is as defined above).
When X is a group that can be dissociated into an anion such as —OH, —COOH, or —SO 3 H, it may be used as it is when forming the azo metal complex compound. It may be used in the form of a salt with ions. Examples of such cations include inorganic cations such as Na + , Li + , and K + , P + (C 6 H 5 ) 4 , N + (C 2 H 5 ) 4 , N
And organic cations such as + (C 4 H 9 ) 4 and C 6 H 5 N + (CH 3 ) 3 .
【0032】本発明に於いては、前記アゾ色素は金属の
錯体として用いられる。アゾ色素と錯体を形成する能力
を有する金属としては、例えば、Ni、Co、Fe、R
u、Rh,Pd、Cu、Zn、Mn、Os、Ir、Pt
等の遷移金属が好ましく、特に、Ni、Co、Cu、P
d、Mn、Znが好ましい。これらは製造時に酢酸塩、
ハロゲン化物、BF4 - 塩等の形で用いられ、Ni2+、
Co2+、Co3+、Cu2+、Pd2+、Mn2+、Zn2+等と
してアゾ色素に配位した錯体として得られる。このアゾ
金属錯体化合物は、単独でも複数の化合物を混合しても
良い。In the present invention, the azo dye is used as a metal complex. Examples of the metal capable of forming a complex with an azo dye include Ni, Co, Fe, and R.
u, Rh, Pd, Cu, Zn, Mn, Os, Ir, Pt
Transition metals such as Ni, Co, Cu, P
d, Mn, and Zn are preferred. These are acetate,
Halides, BF 4 - are used in the form of such salts, Ni 2+,
It is obtained as a complex coordinated to an azo dye as Co 2+ , Co 3+ , Cu 2+ , Pd 2+ , Mn 2+ , Zn 2+ or the like. The azo metal complex compound may be used alone or as a mixture of a plurality of compounds.
【0033】本発明に用いられるアゾ色素の金属錯体
は、例えば古川;Analytica ChimicaActa 140(1982) 28
1-289に記載の方法に準じて合成することが出来る。本
発明に用いられるアゾ色素の金属錯体の好ましい具体例
としては、以下のアゾ化合物(化15)とNi2+、Co
2+、Co3+、Cu2+、Pd2+、Mn2+、Zn2+等の錯体
が挙げられる。さらには、特公平5-67438 や国際出願特
許WO91/18950の表1〜9に記載の化合物等が挙げられ
る。The metal complex of the azo dye used in the present invention is, for example, Furukawa; Analytica Chimica Acta 140 (1982) 28
It can be synthesized according to the method described in 1-289. Preferred specific examples of the metal complex of the azo dye used in the present invention include the following azo compound (Formula 15) and Ni 2+ , Co
Complexes such as 2+ , Co 3+ , Cu 2+ , Pd 2+ , Mn 2+ , Zn 2+ and the like can be mentioned. Furthermore, the compounds described in Japanese Patent Publication No. 5-67438 and International Patent Application No. WO91 / 18950, Tables 1 to 9 and the like can be mentioned.
【0034】[0034]
【化15】 Embedded image
【0035】λ2 のレーザー波長が480〜540nm
の場合、λmax が440nm付近に存在し、480〜5
40nmでの屈折率が大きく、吸光度が小さいものであ
る。具体的には、スピロ系色素、フェロセン系色素、フ
ルオレン系色素、フルギド系色素、イミダゾール系色
素、チアゾール系色素、ペリレン系色素、フェナジン系
色素、フェノチアジン系色素、ポリエン系色素、インド
ール系色素、アニリン系色素、アゾ系色素、キノン系色
素、シアニン系色素、アクリジン系色素、アクリジノン
系色素、キノフタロン系色素、フェノキサジン系色素、
ジフェニルアミン系色素、クマリン系色素、カルボスチ
リル系色素、ポルフィン系色素、オキサジン系色素、ピ
ロメテン系色素などがあるが、好ましくは、ポルフィン
系色素、キノフタロン系色素、キノン系色素、ピロメテ
ン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素であり、複数の
色素を含有していてもよい。The laser wavelength of λ 2 is 480 to 540 nm
In the case of λ max exists around 440 nm and 480 to 5
It has a large refractive index at 40 nm and a small absorbance. Specifically, spiro dyes, ferrocene dyes, fluorene dyes, fulgide dyes, imidazole dyes, thiazole dyes, perylene dyes, phenazine dyes, phenothiazine dyes, polyene dyes, indole dyes, aniline Dyes, azo dyes, quinone dyes, cyanine dyes, acridine dyes, acridinone dyes, quinophthalone dyes, phenoxazine dyes,
Diphenylamine dyes, coumarin dyes, carbostyril dyes, porphine dyes, oxazine dyes, pyromethene dyes and the like are preferred, but porphine dyes, quinophthalone dyes, quinone dyes, pyromethene dyes, cyanine dyes It is a dye or an azo dye, and may contain a plurality of dyes.
【0036】λ2 のレーザー波長が400〜440nm
の場合、λmax が350nm付近に存在し、400〜4
40nmでの屈折率が大きく、吸光度が小さいものであ
る。具体的には、スピロ系色素、スチルベン系色素、フ
ルオレイン系色素、イミダゾール系色素、ペリレン系色
素、フェナジン系色素、フェノチアジン系色素、ポリエ
ン系色素、キノン系色素、シアニン系色素、アクリジン
系色素、アクリジノン系色素、クマリン系色素、カルボ
スチリル系色素、ポルフィン系色素、スクアリリウム系
色素などがあるが、好ましくは、ポリエン系色素、スチ
ルベン系色素、キノン系色素であり、複数の色素を含有
していてもよい。The laser wavelength of λ 2 is 400 to 440 nm
In the case of λ max exists around 350 nm, and 400 to 4
It has a large refractive index at 40 nm and a small absorbance. Specifically, spiro dyes, stilbene dyes, fluorein dyes, imidazole dyes, perylene dyes, phenazine dyes, phenothiazine dyes, polyene dyes, quinone dyes, cyanine dyes, acridine dyes, There are acridinone-based dyes, coumarin-based dyes, carbostyril-based dyes, porphine-based dyes, squarylium-based dyes, and the like, preferably, polyene-based dyes, stilbene-based dyes, and quinone-based dyes, which contain a plurality of dyes. Is also good.
【0037】本発明において光干渉層に添加する光吸収
剤は、長波長側のレーザー波長(λ1 )における消衰係
数が0.06以上、短波長側のレーザー波長(λ2 )で
は消衰係数が0.6以下であり、かつ光吸収後に発熱も
しくは分解熱が発生すれば、特に制限はない。In the present invention, the light absorbing agent added to the light interference layer has an extinction coefficient of 0.06 or more at the longer wavelength laser wavelength (λ 1 ) and extinction at the shorter wavelength laser wavelength (λ 2 ). There is no particular limitation as long as the coefficient is 0.6 or less and heat or decomposition heat is generated after light absorption.
【0038】光吸収剤の具体的な例として、波長620
〜690及び770〜830nmで記録する場合はシア
ニン系色素、スクアリリウム系色素、アゾ系色素、アン
トラキノン系色素、ナフトキノン系色素、インドフェノ
ール系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン
系色素、テトラアザポルフィン系色素、ピリリウム系色
素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、トリ
フェニルメタン系色素、キサンテン系色素、インダンス
レン系色素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メ
ロシアニン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色
素、オキサジン系色素、ジチオール金属錯体系色素など
がある。λ1 のレーザー光が770〜830nmから選
ばれる場合、好ましくはフタロシアニン系色素、ナフタ
ロシアニン系色素であり、特に下記一般式(3)(化1
6) の構造を有するフタロシアニン色素又は下記一般
式(4)(化17)で表されるナフタロシアニン色素が
最も好ましく、その例を表−1(表1 )に示す。な
お、色素は複数混合していてもよい。また、これらの光
吸収剤を記録層に添加することは何ら排除するものでは
ない。As a specific example of the light absorbing agent, a wavelength of 620
To 690 and 770 to 830 nm, cyanine dyes, squarylium dyes, azo dyes, anthraquinone dyes, naphthoquinone dyes, indophenol dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, and tetraazaporphine dyes , Pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, azurenium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, indanthrene dyes, indigo dyes, thioindigo dyes, merocyanine dyes, thiazine dyes, acridine dyes, oxazine Dyes and dithiol metal complex dyes. When the laser beam of λ 1 is selected from 770 to 830 nm, it is preferably a phthalocyanine dye or a naphthalocyanine dye, and particularly preferably represented by the following general formula (3):
The phthalocyanine dye having the structure of 6) or the naphthalocyanine dye represented by the following general formula (4) (Formula 17) is most preferable, and examples thereof are shown in Table 1 (Table 1). Note that a plurality of dyes may be mixed. The addition of these light absorbing agents to the recording layer is not excluded at all.
【0039】[0039]
【化16】 (式中、R1 、R2 は炭素数3〜18の直鎖、分岐また
は環状のアルコキシ基を表し、アルコキシ基中の酸素原
子に結合していない−CH2 −基は酸素原子で置換され
ていてもよく、R3 、R4 は水素原子またはハロゲン原
子を表し、Mは2個の水素原子、2価の金属、金属の酸
化物またはハロゲン化物を表す。ただし、R1 とR2 、
R3 とR4 は入れ代わってもよい。)Embedded image (Wherein, R 1 and R 2 represent a linear, branched or cyclic alkoxy group having 3 to 18 carbon atoms, and a —CH 2 — group not bonded to an oxygen atom in the alkoxy group is substituted with an oxygen atom. R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a halogen atom, and M represents two hydrogen atoms, a divalent metal, a metal oxide or a halide, provided that R 1 and R 2 ,
R 3 and R 4 may be interchanged. )
【0040】[0040]
【化17】 (式中、R1 、R2 およびMは前記と同じであり、R1
とR2 は入れ代わってもよい。)なお、表中のPhはフ
タロシアニン、Nphはナフタロシアニンを表し、A〜
Dは下記の基(化18)を表す。Embedded image (Wherein, R 1, R 2 and M are as defined above, R 1
And R 2 may be interchanged. ) In the table, Ph represents phthalocyanine, Nph represents naphthalocyanine,
D represents the following group (Chemical Formula 18).
【0041】[0041]
【表1】 [Table 1]
【0042】[0042]
【化18】 Embedded image
【0043】波長400〜440及び480〜540n
mで記録する場合はスピロ系色素、フェロセン系色素、
フルオレイン系色素、フルギド系色素、イミダゾール系
色素、チアゾール系色素、ペリレン系色素、フェナジン
系色素、フェノチアジン系色素、ポリエン系色素、イン
ドール系色素、アニリン系色素、アゾ系色素、キノン系
色素、シアニン系色素、アクリジン系色素、アクリジノ
ン系色素、キノフタロン系色素、フェノキサジン系色
素、ジフェニルアミン系色素、クマリン系色素、カルボ
スチリル系色素、ポルフィン系色素などがあり、複数の
色素を添加してもよい。また、これらの光吸収剤を記録
層に添加することは何ら排除するものではない。なお、
光干渉層に用いる有機色素と光吸収剤の混合比は、一般
には重量比で1〜10:1程度の範囲である。ただし、
添加量があまり少なすぎる場合にはその効果が現れず、
逆にあまり多すぎる場合には、光干渉層本来の役割を損
なう恐れがあるため、混合比は好ましくは重量比で3〜
7:1である。Wavelength 400-440 and 480-540n
When recording in m, spiro dye, ferrocene dye,
Fluorine dye, fulgide dye, imidazole dye, thiazole dye, perylene dye, phenazine dye, phenothiazine dye, polyene dye, indole dye, aniline dye, azo dye, quinone dye, cyanine Dyes, acridine dyes, acridinone dyes, quinophthalone dyes, phenoxazine dyes, diphenylamine dyes, coumarin dyes, carbostyril dyes, porphine dyes, and the like, and a plurality of dyes may be added. The addition of these light absorbing agents to the recording layer is not excluded at all. In addition,
The mixing ratio of the organic dye and the light absorber used in the light interference layer is generally in the range of about 1 to 10: 1 by weight. However,
If the amount is too small, the effect will not appear,
Conversely, if the amount is too large, the original role of the light interference layer may be impaired, so that the mixing ratio is preferably 3 to 3 in weight.
7: 1.
【0044】また、本発明における熱分解促進剤は、光
干渉層よりも低温で分解し、大きな分解熱が発生する、
もしくは反応活性なラジカルが生成するものであること
が好ましい。熱分解促進剤の例としては、金属系アンチ
ノッキング剤である四エチル鉛、四メチル鉛などの鉛系
化合物やシマントレン〔Mn(C5 H5)(CO)3〕など
のMn系化合物、また、メタロセン化合物であるFe
(フェロセン)、Ti、V、Mn、Cr、Co、Ni、
Mo、Ru、Rh、Zr、Lu、Ta、W、Os、I
r、Sc、Yなどのビスシクロペンタジエニル金属錯体
を挙げられる。中でもフェロセン、ルテノセン、オスモ
セン、ニッケロセン、チタノセン及びそれらの誘導体は
良好な熱分解促進効果がある。メタロセンの他にギ酸金
属化合物、シュウ酸金属化合物、ラウリル酸金属化合
物、ナフテン酸金属化合物、ステアリン酸金属化合物、
酪酸金属化合物などの有機酸金属化合物、アセチルアセ
トナート錯体、フェナントロリン錯体、ビスピリジン錯
体、エチレンジアミン錯体、エチレンジアミン四酢酸錯
体、ジエチレントリアミン錯体、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル錯体、ジホスフィノ錯体、ジメチルグ
リオキシマート錯体などのキレート錯体、カルボニル錯
体、シアノ錯体、アンミン錯体などの金属錯体、ハロゲ
ン化金属化合物、あるいは、硝酸金属化合物、硫酸金属
化合物などの無機金属塩類、さらには、酸化金属化合物
などが挙げられる。ここで用いる金属化合物は有機溶剤
に可溶で、且つ、耐湿熱性及び耐光性の良好なものが望
ましい。特にアセチルアセトナート錯体やカルボニル錯
体などは良好な溶解性が得られるという点で非常に好ま
しい。また、金属は好ましくは鉄、コバルト、クロムで
ある。上記熱分解促進剤の中では、メタロセン等の有機
金属錯体が特に好ましくその他ニトロセルロースも使用
可能である。以上の熱分解促進剤は必要に応じて置換基
を導入したり、複数混合したり、バインダー等の添加物
質を加えてもよい。また、これらの熱分解促進剤を記録
層に添加することは何ら排除するものではない。Further, the thermal decomposition accelerator of the present invention decomposes at a lower temperature than the light interference layer, and generates a large heat of decomposition.
Alternatively, it is preferable to generate a reactive radical. Examples of the thermal decomposition accelerator include lead compounds such as tetraethyl lead and tetramethyl lead which are metal anti-knocking agents, Mn compounds such as Simantrene [Mn (C 5 H 5 ) (CO) 3 ], and , A metallocene compound Fe
(Ferrocene), Ti, V, Mn, Cr, Co, Ni,
Mo, Ru, Rh, Zr, Lu, Ta, W, Os, I
Biscyclopentadienyl metal complexes such as r, Sc, and Y can be mentioned. Among them, ferrocene, ruthenocene, osmocene, nickelocene, titanocene and derivatives thereof have a good thermal decomposition promoting effect. In addition to metallocene, metal formate, metal oxalate, metal laurate, metal naphthenate, metal stearate,
Organic acid metal compounds such as metal butyrate compounds, acetylacetonate complexes, phenanthroline complexes, bispyridine complexes, ethylenediamine complexes, ethylenediaminetetraacetic acid complexes, diethylenetriamine complexes, diethyleneglycol dimethylether complexes, chelating complexes such as dimethylglyoximate complexes, carbonyl Metal complexes such as complexes, cyano complexes and ammine complexes; metal halide compounds; inorganic metal salts such as metal nitrate compounds and metal sulfate compounds; and metal oxide compounds. It is desirable that the metal compound used herein is soluble in an organic solvent and has good wet heat resistance and light resistance. In particular, acetylacetonate complexes and carbonyl complexes are very preferable in that good solubility can be obtained. The metal is preferably iron, cobalt or chromium. Among the thermal decomposition accelerators, organometallic complexes such as metallocene are particularly preferable, and nitrocellulose can also be used. The above-mentioned thermal decomposition accelerator may introduce a substituent, mix a plurality thereof, or add an additional substance such as a binder, if necessary. The addition of these thermal decomposition accelerators to the recording layer is not excluded at all.
【0045】なお、光干渉層に用いる有機色素と熱分解
促進剤との混合比は、一般にはモル比で1:0.1〜1
0の範囲である。ただし、添加量があまり少なすぎる場
合にはその効果が現れず、逆にあまり多すぎる場合に
は、光干渉層本来の役割を損なう恐れがあるため、混合
比は好ましくはモル比で1:0.5〜1.5である。The mixing ratio of the organic dye used in the light interference layer to the thermal decomposition accelerator is generally 1: 0.1 to 1 in terms of molar ratio.
It is in the range of 0. However, if the added amount is too small, the effect is not exhibited, and if it is too large, the original role of the light interference layer may be impaired. Therefore, the mixing ratio is preferably 1: 0 in molar ratio. 0.5 to 1.5.
【0046】また、記録層、光干渉層を作製する際に
は、ビスシクロペンタジエニル金属錯体等のメタロセン
化合物、エチルセルロース、アクリル樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂やレベリング剤、消泡剤
等の添加剤を本発明の効果を損なわない程度に於いて併
用することができる。さらに、必要に応じて、消光剤や
紫外線吸収剤等の添加剤を混合あるいは置換基として導
入することも可能である。これらの記録層、光干渉層で
使用する有機色素の含有量は、30%以上、好ましくは
60%以上である。When forming the recording layer and the light interference layer, a metallocene compound such as a biscyclopentadienyl metal complex, a resin such as ethyl cellulose, an acrylic resin, a polystyrene resin, a urethane resin, a leveling agent, a defoaming agent And the like can be used together as long as the effects of the present invention are not impaired. Further, if necessary, additives such as a quencher and an ultraviolet absorber can be mixed or introduced as a substituent. The content of the organic dye used in these recording layers and light interference layers is 30% or more, preferably 60% or more.
【0047】本発明において光学定数は複素屈折率(n
+ki )で表現される。式中のn、kは実数部と虚数部
に相当する係数である。ここではnを屈折率、kを消衰
係数とする。一般に有機色素は、波長λに対し、屈折率
nと消衰係数kが大きく変化する特徴がある。この特徴
を利用して各レーザー波長において好ましい光学定数を
有する有機色素を用いて光干渉層を成膜する。これによ
り、各レーザー波長において、高い反射率を得ることが
できる。In the present invention, the optical constant is a complex refractive index (n
+ Ki). N and k in the expression are coefficients corresponding to the real part and the imaginary part. Here, n is a refractive index and k is an extinction coefficient. In general, an organic dye has a feature that the refractive index n and the extinction coefficient k greatly change with respect to the wavelength λ. Utilizing this feature, a light interference layer is formed using an organic dye having a preferable optical constant at each laser wavelength. Thereby, a high reflectance can be obtained at each laser wavelength.
【0048】有機色素の特性を考慮した場合、記録層の
光学定数は、波長λ1 において、nが1.8以上、好ま
しくは1.9〜2.7で、且つ、kが0.04〜0.2
0、好ましくは0.04〜0.16である。λ2 におい
ては、nが1.0以上、好ましくは1.0〜1.6で、
且つ、kが0.04〜0.7、好ましくは0.1〜0.
7を満足することが好ましく、光干渉層の光学定数は、
波長λ1 において、nがが1.5以上、好ましくは1.
7〜2.2で、且つ、kが0.02〜0.15、好まし
くは0.04〜0.14である。λ2 においては、nが
1.7以上、好ましくは1.8〜2.7で、且つ、kが
0.04〜0.25、好ましくは0.04〜0.18を
満足することが好ましく、さらには、記録層と光干渉層
の波長λ1 における屈折率及び消衰係数の平均がそれぞ
れ1.8〜2.4、0.04〜0.16、λ2 における
屈折率及び消衰係数の平均がそれぞれ1.5〜2.1、
0.08〜0.3であることが好ましい。なお、ここで
用いている光干渉層は各レーザー波長で反射率を向上さ
せることが主な役割である。In consideration of the characteristics of the organic dye, the optical constant of the recording layer at wavelength λ 1 is such that n is 1.8 or more, preferably 1.9 to 2.7, and k is 0.04 to 0.04. 0.2
0, preferably 0.04 to 0.16. In λ 2 , n is 1.0 or more, preferably 1.0 to 1.6,
And k is 0.04 to 0.7, preferably 0.1 to 0.1.
7, and the optical constant of the light interference layer is:
At the wavelength λ 1 , n is 1.5 or more, preferably 1.
7 to 2.2, and k is 0.02 to 0.15, preferably 0.04 to 0.14. In λ 2, it is preferable that n is 1.7 or more, preferably 1.8 to 2.7, and k satisfies 0.04 to 0.25, preferably 0.04 to 0.18. Further, the average of the refractive index and the extinction coefficient of the recording layer and the optical interference layer at the wavelength λ 1 are 1.8 to 2.4, 0.04 to 0.16, and the average of the refractive index and the extinction coefficient at λ 2 , respectively. 1.5 to 2.1 respectively,
It is preferably 0.08 to 0.3. The main role of the optical interference layer used here is to improve the reflectance at each laser wavelength.
【0049】次に本発明の製造方法に関して説明する。
上記の化合物または色素はスピンコート法やキャスト法
等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法、真空蒸着法等に
よって基板上に厚さ30〜300nm、好ましくは厚さ
50〜150nmの層を形成させ記録層や光干渉層とす
る。記録層の膜厚を30nmより薄くすると、熱拡散が
大きいため記録出来ないか、または記録信号に歪が発生
する上、信号振幅が小さくなりCD規格を満足しなくな
る。また、膜厚が300nmより厚い場合は反射率が低
下し、再生信号特性が悪化する。一方、光干渉層の膜厚
を30nmよりあまり薄くすると、光エンハンス効果が
小さくなり反射率向上効果が得られない。さらに、光干
渉層の厚さは下記の式を満足し、各レーザー波長に対し
て反射率が高くなる値に合わすことが好ましい。Next, the manufacturing method of the present invention will be described.
The above compound or dye is formed on a substrate by a coating method such as a spin coating method or a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, or a vacuum vapor deposition method to form a layer having a thickness of 30 to 300 nm, preferably 50 to 150 nm. A recording layer or an optical interference layer. If the thickness of the recording layer is less than 30 nm, recording cannot be performed due to large thermal diffusion, or a recording signal will be distorted, and signal amplitude will be reduced to not satisfy the CD standard. On the other hand, when the film thickness is larger than 300 nm, the reflectivity decreases and the reproduction signal characteristics deteriorate. On the other hand, if the thickness of the light interference layer is much smaller than 30 nm, the light enhancement effect becomes small and the reflectance improvement effect cannot be obtained. Further, it is preferable that the thickness of the light interference layer satisfies the following expression, and is adjusted to a value at which the reflectance increases for each laser wavelength.
【0050】0.6xλ/4n<d<1.5xλ/4n (ただし、λはレーザー波長、nは光干渉層の屈折率、
dは光干渉層の膜厚) 塗布法においては色素を溶解あるいは分散させた塗布溶
媒を用いるが、この溶媒は基板にダメージを与えないも
のを選ぶことが好ましい。例えば、メチルアルコール、
エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコ
ール、アリルアルコール、フルフリルアルコール、メチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフルオロプロ
パノール等のアルコール系溶媒;ヘキサン、ヘプタン、
オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サン、ジメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキ
サン、プロピルシクロヘキサン等の脂肪族又は脂環式炭
化水素系溶媒;トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香
族炭化水素系溶媒;四塩化炭素、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、ジブチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル系溶媒;アセトン等のケトン
系溶媒;酢酸エチル等のエステル系溶媒;水などが1種
あるいは複数混合して用いられる。0.6 × λ / 4n <d <1.5 × λ / 4n (where λ is the laser wavelength, n is the refractive index of the light interference layer,
(d is the thickness of the light interference layer) In the coating method, a coating solvent in which a dye is dissolved or dispersed is used, and it is preferable to select a solvent that does not damage the substrate. For example, methyl alcohol,
Alcoholic solvents such as ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol, allyl alcohol, furfuryl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and tetrafluoropropanol; hexane, heptane,
Aliphatic or alicyclic hydrocarbon solvents such as octane, decane, cyclohexane, methylcyclohexane, dimethylcyclohexane, trimethylcyclohexane and propylcyclohexane; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and benzene; carbon tetrachloride, chloroform, etc. Halogenated hydrocarbon solvents; ether solvents such as diethyl ether, dibutyl ether, diisopropyl ether, dioxane, and tetrahydrofuran; ketone solvents such as acetone; ester solvents such as ethyl acetate; Used.
【0051】また、記録層に使用する有機色素と光干渉
層に使用する有機色素は各々異なる極性の溶媒に溶解
し、もう一方の溶媒には溶解せず、2層目の色素層を塗
布する際には一層目の層に障害を与えないようにするこ
とが好ましい。例えば、一方の色素層に使用する色素
は、極性の高い溶媒である、アルコール系溶媒、水等に
溶解し、もう一方の色素層に使用する色素は、極性の低
い溶媒、例えば、脂肪族又は脂環式炭化水素系溶媒、芳
香族炭化水素系溶媒、四塩化炭素やエーテル系溶媒に溶
解して塗布する。なお、樹脂性基板への障害、あるいは
多層膜の影響を減少させるためには、各色素層塗布成膜
のための溶媒は、脂肪族又は脂環式炭化水素系溶媒およ
びこれらと他溶媒の混合溶媒と、アルコール系溶媒およ
びこれらと他溶媒の混合溶媒であり、それぞれに可溶な
色素の組み合わせが特に望ましい。The organic dye used for the recording layer and the organic dye used for the light interference layer are each dissolved in solvents having different polarities, and are not dissolved in the other solvent, and the second dye layer is applied. In this case, it is preferable not to hinder the first layer. For example, a dye used for one dye layer is a solvent having a high polarity, such as an alcohol-based solvent, or dissolved in water, and a dye used for the other dye layer is a solvent having a low polarity, for example, aliphatic or It is applied by dissolving in an alicyclic hydrocarbon solvent, aromatic hydrocarbon solvent, carbon tetrachloride or ether solvent. In order to reduce the obstacle to the resinous substrate or the influence of the multilayer film, the solvent for each dye layer coating and forming must be an aliphatic or alicyclic hydrocarbon-based solvent or a mixture of these and other solvents. A combination of a solvent, an alcohol-based solvent, and a mixed solvent of these and other solvents, each of which is soluble in each other, is particularly desirable.
【0052】なお、有機色素の塗布溶媒への溶解性の改
良は、色素分子内に適当な置換基を導入することで可能
になる。例えば、極性の低い溶媒に溶解しやすくするに
は、次のような置換基、例えばアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アルキルアリル基、アルキルカルボ
ニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノ基、
アルキルイミノ基、アルキルカルボキシアミド基、アル
カノイルイミノ基、アルキルスルファニル基、アルキル
スルフェニル基、アルキルスルフォンアミド基等の導入
を行えばよい。一方、極性の高い溶媒に溶解しやすくす
るには、次のような置換基、例えば末端がアミノ基、カ
ルボキシル基、カルバモイル基、メルカプト基、メルカ
プトアミノ基、スルファモイル基、スルホン酸基、スル
ホンアミノ基等の導入を行えばよい。なお記録層は色素
を高分子薄膜などに分散して用いたりすることもでき
る。また、基板にダメージを与えない溶媒を選択できな
い場合はスパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着法などが有
効である。光吸収剤や熱分解促進剤は光干渉層用色素を
塗布する際に用いられる溶媒に溶解することが必要であ
る。The solubility of the organic dye in the coating solvent can be improved by introducing an appropriate substituent into the dye molecule. For example, in order to be easily dissolved in a low-polarity solvent, the following substituents, for example, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an alkylallyl group, an alkylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylamino group,
An alkylimino group, an alkylcarboxamide group, an alkanoylimino group, an alkylsulfanyl group, an alkylsulfenyl group, an alkylsulfonamide group, or the like may be introduced. On the other hand, in order to easily dissolve in a highly polar solvent, the following substituents, for example, amino group, carboxyl group, carbamoyl group, mercapto group, mercaptoamino group, sulfamoyl group, sulfonic acid group, sulfonamino group Etc. may be introduced. The recording layer can also be used by dispersing a dye in a polymer thin film or the like. When a solvent that does not damage the substrate cannot be selected, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, or the like is effective. The light absorber and the thermal decomposition accelerator must be dissolved in the solvent used when applying the dye for the light interference layer.
【0053】次に記録層又は光干渉層の上に厚さ50〜
300nm、好ましくは100〜150nmの反射層を
形成する。反射層の材料としては、再生光の波長で反射
率の十分高いもの、例えば、Au、Al、Ag、Cu、
Ti、Cr、Ni、Pt、Ta及びPdの金属を単独あ
るいは合金にして用いることが可能である。このなかで
もAu、Al、Agは反射率が高く反射層の材料として
適している。これ以外でも下記のものを含んでいてもよ
い。例えば、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、
Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、G
a、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi
などの金属及び半金属を挙げることができる。また、A
uを主成分としているものは反射率の高い反射層が容易
に得られるため好適である。ここで主成分というのは含
有率が50%以上のものをいう。なお、金属以外の材料
で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層
膜を形成し、反射層として用いることも可能である。Next, on the recording layer or the light interference layer,
A reflective layer having a thickness of 300 nm, preferably 100 to 150 nm is formed. As a material of the reflection layer, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, Au, Al, Ag, Cu,
The metals of Ti, Cr, Ni, Pt, Ta and Pd can be used alone or as an alloy. Among them, Au, Al and Ag have high reflectivity and are suitable as a material for the reflective layer. In addition, the following may be included. For example, Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W,
Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Zn, Cd, G
a, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi
And metal and semimetals. Also, A
Those containing u as a main component are preferable because a reflection layer having a high reflectance can be easily obtained. Here, the main component means a component having a content of 50% or more. Note that it is also possible to form a multilayer film by alternately stacking low-refractive-index thin films and high-refractive-index thin films with a material other than a metal and use it as a reflective layer.
【0054】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタ法、イオンプレーテイング法、化学蒸着法、真
空蒸着法等が挙げられる。また、反射率を高めるためや
密着性をよくするために記録層と反射層の間にそれぞれ
反射増幅層や接着層を設けることもできる。さらに、反
射層の上に保護層を形成する。保護層の材料としては反
射層を外力から保護するものであれば特に限定しない。
有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子
線硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げることができ
る。又、無機物質としては、SiO2 、Si3 N4 、M
gF2 、SnO2 等が挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を塗布し、
乾燥することによって形成することができる。UV硬化
性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布
液を調製した後にこの塗布液を塗布し、UV光を照射し
て硬化させることによって形成することができる。UV
硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、
エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなど
のアクリレート樹脂を用いることができる。これらの材
料は単独であるいは混合して用いても良いし、1層だけ
でなく多層膜にして用いてもいっこうに差し支えない。As a method of forming the reflection layer, for example,
Examples include a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, and a vacuum vapor deposition method. In addition, a reflection amplification layer and an adhesive layer may be provided between the recording layer and the reflection layer in order to increase the reflectance and improve the adhesion. Further, a protective layer is formed on the reflective layer. The material of the protective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force.
Examples of the organic substance include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and a UV curable resin. Inorganic substances include SiO 2 , Si 3 N 4 , M
gF 2 , SnO 2 and the like. Thermoplastic resin, thermosetting resin, etc. are dissolved in an appropriate solvent and a coating liquid is applied,
It can be formed by drying. The UV curable resin can be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in an appropriate solvent, applying the coating solution, and irradiating with UV light to cure the resin. UV
As the curable resin, for example, urethane acrylate,
Acrylate resins such as epoxy acrylate and polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or as a mixture, or may be used not only as a single layer but also as a multilayer film.
【0055】保護層の形成の方法としては、記録層と同
様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッ
タ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、このなかで
もスピンコート法が好ましい。保護層の膜厚は、一般に
は0.1〜100μmの範囲であるが、本発明において
は、3〜30μmであり、好ましくは5〜20μmがよ
り好ましい。保護層の上に更にレーベル等の印刷を行う
こともできる。また、反射層面に保護シートまたは基板
を貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし対向
させ光記録媒体2枚を貼り合わせる等の手段を用いても
よい。As a method of forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, or the like is used as in the case of the recording layer. Among them, the spin coating method is preferable. . The thickness of the protective layer is generally in the range of 0.1 to 100 μm, but is preferably 3 to 30 μm, more preferably 5 to 20 μm in the present invention. Printing of a label or the like can be further performed on the protective layer. Alternatively, a means such as bonding a protective sheet or a substrate to the reflective layer surface, or bonding two optical recording media with the reflective layer surfaces facing each other and facing each other may be used.
【0056】本発明において使用するレーザーは、40
0〜440、480〜540、620〜690、770
〜830nmの波長のレーザーであれば何でも良い。例
えば、可視領域の広範囲で波長選択の可能な色素レーザ
ーや波長532nmのYAG高調波変換レーザー、波長
430nm、425nmの高調波変換レーザー、波長6
33nmのヘリウムネオンレーザー、波長635nm、
650nm、680nmの赤外半導体レーザー、波長7
70〜830nmの近赤外半導体レーザーなどがある
が、装置に搭載することを考慮すると半導体レーザーが
好適である。The laser used in the present invention is 40
0 to 440, 480 to 540, 620 to 690, 770
Any laser can be used as long as it has a wavelength of 〜830 nm. For example, a dye laser capable of wavelength selection in a wide range of the visible region, a YAG harmonic conversion laser with a wavelength of 532 nm, a harmonic conversion laser with a wavelength of 430 nm and 425 nm, a wavelength of 6
33nm helium neon laser, wavelength 635nm,
650 nm, 680 nm infrared semiconductor laser, wavelength 7
There is a near-infrared semiconductor laser with a wavelength of 70 to 830 nm, and a semiconductor laser is preferable in consideration of mounting on a device.
【0057】[0057]
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。 〔実施例1〕下記式(5)(化19)で示されるフタロ
シアニン化合物0.25gをジメチルシクロヘキサン1
0mlに溶解した色素溶液1を調整する。基板は、ポリ
カーボネート樹脂製で連続した案内溝(トラックピッ
チ:1.6μm)を有する直径120mmφ、厚さ1.
2mmの円盤状のものを用いた。この基板の上に、回転
数1600rpmでスピンコートし、70℃、2時間乾
燥して、80nmの記録層を形成した。この記録層の光
学定数は、780nmでnが2.2、kは0.08であ
り、680nmではnが1.2、kは0.50であり、
650nmではnが1.2、kは0.51であり、63
5nmではnが1.1、kは0.34である。さらに、
下記式(6)(化19)に示されるアゾ化合物0.2g
と表1中の化合物5を光吸収剤として重量比で5:1と
なるように混合し、2,2,3,3-テトラフルオロ-1- プロパ
ノール10mlに溶解し、色素溶液2を調製する。この
色素溶液2を、記録層の上に回転数1500rpmでス
ピンコートし、70℃2時間乾燥して、80nmの光干
渉層を形成した。この光干渉層の光学定数は、780n
mでnが2.0、kは0.09であり、680nmでは
nが2.1、kは0.09であり、650nmではnが
2.2、kは0.08であり、635nmではnが2.
3、kは0.11である。なお、化合物5の780nm
でのkは0.20であった。EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited by these examples. Example 1 0.25 g of a phthalocyanine compound represented by the following formula (5) (formula 19) was added to dimethylcyclohexane 1
A dye solution 1 dissolved in 0 ml is prepared. The substrate is made of polycarbonate resin and has a continuous guide groove (track pitch: 1.6 μm), a diameter of 120 mm, and a thickness of 1.
A 2 mm disc was used. The substrate was spin-coated at 1600 rpm and dried at 70 ° C. for 2 hours to form an 80 nm recording layer. The optical constants of this recording layer are n = 2.2 and k = 0.08 at 780 nm, n = 1.2 and k = 0.50 at 680 nm,
At 650 nm, n is 1.2, k is 0.51, and 63
At 5 nm, n is 1.1 and k is 0.34. further,
0.2 g of an azo compound represented by the following formula (6):
And Compound 5 in Table 1 as a light absorber were mixed in a weight ratio of 5: 1, and dissolved in 10 ml of 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol to prepare a dye solution 2. . This dye solution 2 was spin-coated on the recording layer at 1500 rpm and dried at 70 ° C. for 2 hours to form an 80 nm light interference layer. The optical constant of this light interference layer is 780n
At m, n is 2.0 and k is 0.09, at 680 nm, n is 2.1, k is 0.09, at 650 nm, n is 2.2, k is 0.08, and at 635 nm, n is 2.
3, k is 0.11. In addition, 780 nm of compound 5
Was 0.20.
【0058】[0058]
【化19】 Embedded image
【0059】この光干渉層の上にバルザース社製スパッ
タ装置(CDI−900)を用いてAuをスパッタし、
厚さ100nmの反射層を形成した。スパッタガスに
は、アルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタ
パワー2.5kW、スパッタガス圧1.0×10-2To
rrで行った。さらに反射層の上に紫外線硬化樹脂SD
−17(大日本インキ化学工業製)をスピンコートした
後、紫外線照射して厚さ6μmの保護層を形成し、光記
録媒体を作製した。この光記録媒体を780nm半導体
レーザーヘッドを搭載したソニー製ライター(CDU−
921S)を用いて、線速度2.4m/s、最適レーザ
ーパワーでEFM信号を記録した。記録後、市販CDプ
レーヤー(YAMAHA CDX−1050、レーザー
波長786nm)を用いて信号を再生し、反射率、エラ
ーレート及び変調度を測定した。いずれもオレンジブッ
ク規格を満足した良好な値を示した。次にこの記録した
媒体を680nm、650nm及び635nm赤色半導
体レーザーヘッドを搭載したパルステック工業製光ディ
スク評価装置(DDU−1000)を用いて信号を再生
し、反射率、ジッター、エラーレート及び変調度を測定
した。いずれも良好な値を示した。このように、この媒
体は複数のレーザー波長で記録及び再生を良好に行うこ
とが出来た。なお、エラーレート及びジッターは、ケン
ウッド社製CDデコーダー(DR3552)及びADC
社製TIA−175タイムインターバルアナライザを用
いて計測し、変調度は以下の式により求めた。 変調度={(信号の最大強度)−(信号の最小強度)}
/(信号の最大強度)Au was sputtered on this light interference layer using a sputtering apparatus (CDI-900) manufactured by Balzers Co., Ltd.
A reflective layer having a thickness of 100 nm was formed. Argon gas was used as a sputtering gas. The sputtering conditions were as follows: a sputtering power of 2.5 kW and a sputtering gas pressure of 1.0 × 10 −2 To.
rr. Further, an ultraviolet curing resin SD is provided on the reflection layer.
After spin coating with -17 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), the layer was irradiated with ultraviolet rays to form a protective layer having a thickness of 6 μm, thereby producing an optical recording medium. The optical recording medium is a Sony writer (CDU-
921S), an EFM signal was recorded at a linear velocity of 2.4 m / s and an optimum laser power. After recording, the signal was reproduced using a commercially available CD player (YAMAHA CDX-1050, laser wavelength 786 nm), and the reflectance, error rate, and modulation were measured. All showed good values satisfying the Orange Book standard. Next, a signal was reproduced from the recorded medium using an optical disk evaluation device (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial equipped with a red semiconductor laser head of 680 nm, 650 nm, and 635 nm, and the reflectance, jitter, error rate, and degree of modulation were measured. It was measured. All exhibited good values. Thus, this medium was able to perform recording and reproduction favorably with a plurality of laser wavelengths. Note that the error rate and the jitter were measured using a Kenwood CD decoder (DR3552) and an ADC.
The measurement was performed using a TIA-175 time interval analyzer manufactured by the company, and the degree of modulation was determined by the following equation. Modulation degree = {(maximum signal strength)-(minimum signal strength)}
/ (Maximum signal strength)
【0060】〔実施例2〕実施例1において、光吸収剤
として表−1中の化合物3を用いること以外は、同様に
して光記録媒体を作製した。光干渉層の光学定数は、7
80nmでnが2.0、kは0.06であり、680n
mではnが2.1、kは0.09であり、650nmで
はnが2.2、kは0.11であり、635nmではn
が2.3、kは0.12であった。なお、化合物3の7
80nmでのkは0.13であった。作製した媒体を実
施例1と同様に780nm半導体レーザーヘッドを搭載
したソニー製ライターを用いて記録した。記録後、実施
例1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記録特
性を示した。Example 2 An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1, except that Compound 3 in Table 1 was used as a light absorbing agent. The optical constant of the light interference layer is 7
At 80 nm, n is 2.0, k is 0.06, and 680n
At m, n is 2.1 and k is 0.09, at 650 nm, n is 2.2, k is 0.11, and at 635 nm, n is n.
Was 2.3 and k was 0.12. In addition, 7 of compound 3
The k at 80 nm was 0.13. The produced medium was recorded using a Sony writer equipped with a 780 nm semiconductor laser head in the same manner as in Example 1. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.
【0061】〔実施例3〕実施例1において、光吸収剤
として表−1中の化合物10を用いること以外は、同様
にして光記録媒体を作製した。光干渉層の光学定数は、
780nmでnが2.0、kは0.06であり、680
nmではnが2.1、kは0.09であり、650nm
ではnが2.2、kは0.12であり、635nmでは
nが2.3、kは0.11であった。なお、化合物10
の780nmでのkは0.11であった。作製した媒体
を実施例1と同様に780nm半導体レーザーヘッドを
搭載したソニー製ライターを用いて記録した。記録後、
実施例1と同様の測定を行った結果、いずれも良好な記
録特性を示した。Example 3 An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1, except that Compound 10 shown in Table 1 was used as a light absorbing agent. The optical constant of the light interference layer is
At 780 nm, n is 2.0, k is 0.06, and 680
In nm, n is 2.1, k is 0.09, and 650 nm
In the results, n was 2.2 and k was 0.12, and at 635 nm, n was 2.3 and k was 0.11. Compound 10
The k at 780 nm was 0.11. The produced medium was recorded using a Sony writer equipped with a 780 nm semiconductor laser head in the same manner as in Example 1. After recording,
As a result of performing the same measurement as in Example 1, all showed good recording characteristics.
【0062】〔実施例4〕実施例1において、記録層に
下記式(7)(化20)で表される化合物を用いること
以外は、同様にして光記録媒体を作製した。記録層の光
学定数は、780nmでnが2.2、kは0.11であ
り、680nmではnが1.5、kは0.54であり、
650nmではnが1.5、kは0.49であり、63
5nmではnが1.5、kは0.33であった。作製し
た媒体を実施例1と同様に780nm半導体レーザーヘ
ッドを搭載したソニー製ライターを用いて記録した。記
録後、実施例1と同様の測定を行った結果、いずれも良
好な記録特性を示した。Example 4 An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound represented by the following formula (7) (Formula 20) was used for the recording layer. The optical constants of the recording layer are n = 2.2 and k = 0.11 at 780 nm, n = 1.5 and k = 0.54 at 680 nm,
At 650 nm, n is 1.5, k is 0.49, and 63
At 5 nm, n was 1.5 and k was 0.33. The produced medium was recorded using a Sony writer equipped with a 780 nm semiconductor laser head in the same manner as in Example 1. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.
【0063】[0063]
【化20】 Embedded image
【0064】〔実施例5〕実施例1において、光干渉層
に下記式(8)(化21)で表される化合物を用いるこ
と以外は、同様にして光記録媒体を作製した。光干渉層
の光学定数は、780nmでnが2.0、kは0.06
であり、680nmではnが2.1、kは0.09であ
り、650nmではnが2.2、kは0.11であり、
635nmではnが2.2、kは0.10であった。作
製した媒体を実施例1と同様に780nm半導体レーザ
ーヘッドを搭載したソニー製ライターを用いて記録し
た。記録後、実施例1と同様の測定を行った結果、いず
れも良好な記録特性を示した。Example 5 An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1, except that the compound represented by the following formula (8) (Formula 21) was used for the light interference layer. The optical constant of the optical interference layer is n = 2.0 and k = 0.06 at 780 nm.
At 680 nm, n is 2.1 and k is 0.09; at 650 nm, n is 2.2 and k is 0.11;
At 635 nm, n was 2.2 and k was 0.10. The produced medium was recorded using a Sony writer equipped with a 780 nm semiconductor laser head in the same manner as in Example 1. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.
【0065】[0065]
【化21】 Embedded image
【0066】〔比較例1〕実施例1において、光干渉層
に光吸収剤を添加しないこと以外は、同様に光記録媒体
を作製した。光干渉層の光学定数は、780nmでnが
2.0、kは0.06であり、680nmではnが2.
2、kは0.05であり、650nmではnが2.3、
kは0.06であり、635nmではnが2.4、kは
0.10であった。作製した媒体を実施例1と同様に7
80nm半導体レーザーヘッドを搭載したソニー製ライ
ターを用いて記録した。記録後、実施例1と同様の測定
を行った結果、650nm及び635nmでのジッター
が悪かった。Comparative Example 1 An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1, except that no light absorbing agent was added to the light interference layer. The optical constant of the light interference layer is n = 2.0 at 780 nm, k = 0.06, and n = 2 at 680 nm.
2, k is 0.05, n is 2.3 at 650 nm,
k was 0.06, n was 2.4 and k was 0.10. The prepared medium was changed to 7 in the same manner as in Example 1.
Recording was performed using a Sony writer equipped with an 80 nm semiconductor laser head. After recording, the same measurement as in Example 1 was performed. As a result, jitter at 650 nm and 635 nm was poor.
【0067】〔比較例2〕実施例2において、光干渉層
に光吸収剤を重量比で1:1となるように添加すること
以外は同様に光記録媒体を作製した。光干渉層の光学定
数は、780nmでnが2.1、kは0.08であり、
680nmではnが1.8、kは0.28であり、65
0nmではnが1.9、kは0.37であり、635n
mではnが1.9、kは0.23であった。作製した媒
体を実施例1と同様に780nm半導体レーザーヘッド
を搭載したソニー製ライターを用いて記録した。記録
後、実施例1と同様の測定を行った結果、反射率や65
0nm及び635nmでのジッターが悪かった。以上の
各媒体を、780nmで記録した場合で、786nm、
680nm、650nm、635nmでの再生時の反射
率、エラーレート、変調度、及び650nm及び635
nmでのジッター(3Tピット/ランド)を表−2(表
2)にまとめて示した。Comparative Example 2 An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 2, except that the light absorbing agent was added to the light interference layer so that the weight ratio became 1: 1. The optical constants of the light interference layer are n = 2.1 and k = 0.08 at 780 nm,
At 680 nm, n is 1.8, k is 0.28, and 65
At 0 nm, n is 1.9, k is 0.37, and 635n
In m, n was 1.9 and k was 0.23. The produced medium was recorded using a Sony writer equipped with a 780 nm semiconductor laser head in the same manner as in Example 1. After recording, the same measurement as in Example 1 was performed.
The jitter at 0 nm and 635 nm was poor. When each of the above media is recorded at 780 nm, 786 nm,
Reflectance, error rate, modulation factor, and 650 nm and 635 at the time of reproduction at 680 nm, 650 nm, and 635 nm
The jitter (3T pit / land) in nm is shown in Table 2 (Table 2).
【0068】[0068]
【表2】 ジッター:3T PIT/LAND エラーレート:cps[Table 2] Jitter: 3T PIT / LAND Error rate: cps
【0069】〔実施例6〕実施例1において、光干渉層
に下記式(9)(化22)で示されるポルフィン化合物
を用いること以外は、同様にして光記録媒体を作製し
た。光干渉層の光学定数は、780nmでnが1.8、
kは0.07であり、532nmではnが2.2、kは
0.10であった。作製した媒体を実施例1と同様に7
80nm半導体レーザーヘッドを搭載したソニー製ライ
ターを用いて、線速度2.4m/s、最適レーザーパワ
ーでEFM信号を記録した。記録後、市販CDプレーヤ
ーを用いて信号を再生評価した結果、反射率は73%、
エラーレートは6cps及び変調度は0.75といずれ
もオレンジブック規格を満足した良好な値を示した。次
にこの記録した媒体を532nmYAG高調波変換レー
ザーヘッドを搭載した光ディスク評価装置で信号を再生
した結果、反射率は31%、3Tピットジッターは21
で3Tランドジッターは24、エラーレートは8cps
及び変調度は0.76といずれも良好な値を示した。な
お、光干渉層に光吸収剤を添加しない媒体を同様に作
製、評価した結果、532nmで、ジッターが35以
上、エラーレートが30cps以上と悪かった。Example 6 An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1, except that a porphine compound represented by the following formula (9) (Formula 22) was used for the light interference layer. The optical constant of the light interference layer is n = 1.8 at 780 nm,
k was 0.07, and at 532 nm, n was 2.2 and k was 0.10. The prepared medium was changed to 7 in the same manner as in Example 1.
Using a Sony writer equipped with an 80 nm semiconductor laser head, an EFM signal was recorded at a linear velocity of 2.4 m / s and an optimum laser power. After recording, the signal was reproduced and evaluated using a commercially available CD player. As a result, the reflectance was 73%,
The error rate was 6 cps and the modulation factor was 0.75, all of which were good values satisfying the Orange Book standard. Next, a signal was reproduced from the recorded medium by an optical disk evaluation apparatus equipped with a 532 nm YAG harmonic conversion laser head. As a result, the reflectance was 31% and the 3T pit jitter was 21.
3T land jitter is 24, error rate is 8 cps
And the degree of modulation was 0.76, which was a good value. In addition, a medium in which no light absorber was added to the light interference layer was similarly prepared and evaluated. As a result, at 532 nm, the jitter was 35 or more and the error rate was 30 cps or more.
【0070】[0070]
【化22】 Embedded image
【0071】〔実施例7〕実施例1において、光干渉層
に下記式(10)(化23)で示されるポリエン化合
物、光吸収剤に表−1中の化合物6を用いること以外
は、同様にして光記録媒体を作製した。光干渉層の光学
定数は、780nmでnが1.8、kは0.06であ
り、430nmではnが2.3、kは0.11であっ
た。作製した媒体を実施例1と同様に780nm半導体
レーザーヘッドを搭載したソニー製ライターを用いて、
線速度2.4m/s、最適レーザーパワーでEFM信号
を記録した。記録後、市販CDプレーヤーを用いて信号
を再生評価した結果、反射率は72%、エラーレートは
7cps及び変調度は0.74といずれもオレンジブッ
ク規格を満足した良好な値を示した。次にこの記録した
媒体を430nm高調波変換レーザーヘッドを搭載した
光ディスク評価装置で信号を再生した結果、反射率は3
0%、3Tピットジッターは22で3Tランドジッター
は25、エラーレートは8cps及び変調度は0.75
といずれも良好な値を示した。なお、光干渉層に光吸収
剤を添加しない媒体を同様に作製、評価した結果、43
0nmで、ジッターが35以上、エラーレートが30c
ps以上と悪かった。Example 7 The procedure of Example 1 was repeated, except that the light interference layer used was a polyene compound represented by the following formula (10) and the light absorber was Compound 6 shown in Table 1. Thus, an optical recording medium was manufactured. The optical constants of the optical interference layer were n = 1.8 and k = 0.06 at 780 nm, and n = 2.3 and k = 0.11 at 430 nm. Using a Sony writer equipped with a 780 nm semiconductor laser head as in Example 1,
An EFM signal was recorded at a linear velocity of 2.4 m / s and an optimum laser power. After recording, the signal was reproduced and evaluated using a commercially available CD player. As a result, the reflectance was 72%, the error rate was 7 cps, and the modulation was 0.74, all of which were good values satisfying the Orange Book standard. Next, a signal was reproduced from the recorded medium using an optical disk evaluation device equipped with a 430 nm harmonic conversion laser head.
0%, 3T pit jitter is 22, 3T land jitter is 25, error rate is 8 cps, and modulation degree is 0.75.
And all showed good values. As a result of preparing and evaluating a medium in which a light absorber was not added to the light interference layer in the same manner, 43
0nm, jitter 35 or more, error rate 30c
It was worse than ps.
【0072】[0072]
【化23】 Embedded image
【0073】〔実施例8〕下記式(11)(化24)で
示されるテトラアザポルフィン化合物0.20gをエチ
ルシクロヘキサン10mlに溶解した色素溶液1を調整
する。基板は、ポリカーボネート樹脂製で連続した案内
溝(トラックピッチ:0.80μm)を有する直径12
0mmφ、厚さ0.6mmの円盤状のものを用いた。こ
の基板の上に、回転数1600rpmでスピンコート
し、70℃2時間乾燥して、85nmの記録層を形成し
た。この記録層の光学定数は、635nmでnが2.
2、kは0.08であり、532nmではnが1.2、
kは0.55であった。さらに、下記式(12)(化2
4)で示されるキノフタロン化合物0.2gと光吸収剤
として前記式(6)で示されるアゾ化合物を重量比で
5:1となるように混合し、2,2,3,3,- テトラフルオロ
-1- プロパノール10mlに溶解し、色素溶液2を調製
する。この色素溶液2を、記録層の上に回転数1500
rpmでスピンコートし、70℃2時間乾燥して、80
nmの光干渉層を形成した。この光干渉層の光学定数
は、635nmでnが2.0、kは0.06であり、5
32nmではnが2.3、kは0.10であった。な
お、式(6)のアゾ化合物の635nmでのkは0.1
0であった。反射層は光干渉層の上にバルザース社製ス
パッタ装置(CDI−900)を用いてAgをスパッタ
し、厚さ100nmの反射層を形成した。スパッタガス
には、アルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッ
タパワー2.5kW、スパッタガス圧1.0×10-2T
orrで行った。さらに反射層の上に紫外線硬化樹脂S
D−301(大日本インキ化学工業製)をスピンコート
した後、その上に直径120mmφ、厚さ0.6mmの
ポリカーボネート樹脂製基板を乗せ、紫外線照射して貼
り合わせした光記録媒体を作製した。Example 8 A dye solution 1 was prepared by dissolving 0.20 g of a tetraazaporphine compound represented by the following formula (11) in 10 ml of ethylcyclohexane. The substrate is made of polycarbonate resin and has a continuous guide groove (track pitch: 0.80 μm) and a diameter of 12 μm.
A disk-shaped one having a diameter of 0 mm and a thickness of 0.6 mm was used. On this substrate, spin coating was performed at 1600 rpm, and dried at 70 ° C. for 2 hours to form an 85 nm recording layer. The optical constant of this recording layer is 635 nm and n is 2.
2, k is 0.08, n is 1.2 at 532 nm,
k was 0.55. Further, the following formula (12)
0.2 g of the quinophthalone compound represented by the formula 4) and the azo compound represented by the formula (6) as a light absorber were mixed at a weight ratio of 5: 1, and 2,2,3,3, -tetrafluoro
-1- Dissolve in 10 ml of propanol to prepare Dye Solution 2. The dye solution 2 was applied onto the recording layer at a rotational speed of 1500.
Spin coat at rpm, dry at 70 ° C for 2 hours,
A light interference layer of nm was formed. The optical constant of this light interference layer is n = 2.0 and k = 0.06 at 635 nm.
At 32 nm, n was 2.3 and k was 0.10. Note that k at 635 nm of the azo compound of the formula (6) is 0.1
It was 0. The reflective layer was formed by sputtering Ag on the light interference layer using a sputtering apparatus (CDI-900, manufactured by Balzers) to form a reflective layer having a thickness of 100 nm. Argon gas was used as a sputtering gas. The sputtering conditions were as follows: a sputtering power of 2.5 kW and a sputtering gas pressure of 1.0 × 10 −2 T.
orr. Further, an ultraviolet curable resin S is provided on the reflective layer.
After spin-coating D-301 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), a polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mmφ and a thickness of 0.6 mm was placed thereon, and irradiated with ultraviolet rays to produce an optical recording medium bonded thereto.
【0074】[0074]
【化24】 この光記録媒体に635nm半導体レーザーヘッドを搭
載したパルステック工業製光ディスク評価装置(DDU
−1000)を用いて、線速度5.6m/s、レーザー
パワー10mWで記録後、同評価装置で再生評価した結
果、反射率は52%、エラーレートは7cps及び変調
度は0.74と良好な信号特性が得られた。次にこの記
録した媒体を532nmYAG高調波変換レーザーヘッ
ドを搭載した光ディスク評価装置で信号を再生した結
果、反射率は29%、3Tピットジッターは23で3T
ランドジッターは24、エラーレートは8cps及び変
調度は0.74といずれも良好な値を示した。なお、光
干渉層に光吸収剤を添加しない媒体を同様に作製、評価
した結果、532nmで、ジッターが35以上、エラー
レートが30cps以上と悪かった。Embedded image An optical disc evaluation device (DDU manufactured by Pulstec Industrial) having a 635 nm semiconductor laser head mounted on this optical recording medium.
After recording at a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 10 mW using the -1000), the evaluation was performed with the same evaluation apparatus. As a result, the reflectance was 52%, the error rate was 7 cps, and the modulation was 0.74. Signal characteristics were obtained. Next, a signal was reproduced from the recorded medium using an optical disk evaluation device equipped with a 532 nm YAG harmonic conversion laser head. As a result, the reflectivity was 29%, the 3T pit jitter was 23, and the 3T
The land jitter was 24, the error rate was 8 cps, and the modulation was 0.74, all of which were good values. In addition, a medium in which no light absorber was added to the light interference layer was similarly prepared and evaluated. As a result, at 532 nm, the jitter was 35 or more and the error rate was 30 cps or more.
【0075】〔実施例9〕実施例8において、光干渉層
に前記式(10)の化合物を用いること以外は、同様に
して光記録媒体を作製した。光干渉層の光学定数は、6
35nmでnが1.9、kは0.07であり、430n
mではnが2.3、kは0.11であった。この光記録
媒体に、635nm半導体レーザーヘッドを搭載したパ
ルステック工業製光ディスク評価装置(DDU−100
0)を用いて、線速度5.6m/s、レーザーパワー1
0mWで記録後、同評価装置で再生評価した結果、反射
率は50%、エラーレートは8cps及び変調度は0.
73と良好な信号特性が得られた。次に、この記録した
媒体を430nm高調波変換レーザーヘッドを搭載した
光ディスク評価装置で信号を再生した結果、反射率は3
2%、3Tピットジッターは22で3Tランドジッター
は23、エラーレートは8cps及び変調度は0.75
といずれも良好な値を示した。なお、光干渉層に光吸収
剤を添加しない媒体を同様に作製、評価した結果、43
0nmで、ジッターが35以上、エラーレートが30c
ps以上と悪かった。Example 9 An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 8, except that the compound of the formula (10) was used for the light interference layer. The optical constant of the light interference layer is 6
At 35 nm, n is 1.9, k is 0.07, and 430n
In m, n was 2.3 and k was 0.11. An optical disk evaluation device (DDU-100 manufactured by Pulstec Industrial) equipped with a 635 nm semiconductor laser head mounted on this optical recording medium.
0), a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 1
After recording at 0 mW, the result of the reproduction evaluation by the same evaluation apparatus was as a result.
A good signal characteristic of 73 was obtained. Next, a signal was reproduced from the recorded medium by an optical disk evaluation device equipped with a 430 nm harmonic conversion laser head, and as a result, the reflectance was 3
2%, 3T pit jitter is 22, 3T land jitter is 23, error rate is 8 cps and modulation is 0.75.
And all showed good values. As a result of preparing and evaluating a medium in which a light absorber was not added to the light interference layer in the same manner, 43
0nm, jitter 35 or more, error rate 30c
It was worse than ps.
【0076】〔実施例10〕下記式(13)(化25)
で示されるジピロメテン化合物0.20gをエチルシク
ロヘキサン10mlに溶解した色素溶液1を調整する。
基板は、ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝(ト
ラックピッチ:0.80μm)を有する直径120mm
φ、厚さ0.6mmの円盤状のものを用いた。この基板
の上に、回転数1800rpmでスピンコートし、70
℃2時間乾燥して、80nmの記録層を形成した。この
記録層の光学定数は、532nmでnが2.4、kは
0.13であり、430nmではnが1.2、kは0.
65であった。さらに、前記式(10)で示される化合
物0.2gと、光吸収剤として前記式(9)の化合物を
重量比で5:1となるように混合し、2,2,3,3-テトラフ
ルオロ-1- プロパノール10mlに溶解し、色素溶液2
を調製する。この色素溶液2を、記録層の上に回転数1
600rpmでスピンコートし、70℃2時間乾燥し
て、80nmの光干渉層を形成した。この光干渉層の光
学定数は、532nmでnが2.0、kは0.09であ
り、532nmではnが2.2、kは0.11であっ
た。式(9)の化合物の532nmでのkは0.10で
あった。この後、実施例8と同様にして貼り合わせの光
記録媒体を作製した。Example 10 The following formula (13)
A dye solution 1 was prepared by dissolving 0.20 g of the dipyrromethene compound represented by the following formula in 10 ml of ethylcyclohexane.
The substrate is made of polycarbonate resin and has a continuous guide groove (track pitch: 0.80 μm) and a diameter of 120 mm.
A disk having a diameter of φ and a thickness of 0.6 mm was used. Spin coating is performed on this substrate at a rotation speed of 1800 rpm,
Drying was performed at 2 ° C. for 2 hours to form a recording layer having a thickness of 80 nm. The optical constants of this recording layer are n = 2.4 and k = 0.13 at 532 nm, and n = 1.2 and k = 0.3 at 430 nm.
65. Further, 0.2 g of the compound represented by the formula (10) and the compound of the formula (9) as a light absorber were mixed at a weight ratio of 5: 1, and 2,2,3,3-tetrafluoroethylene was added. Dissolve in 10 ml of fluoro-1-propanol and add dye solution 2
Is prepared. This dye solution 2 is applied onto the recording layer at a rotation speed of 1
Spin coating was performed at 600 rpm and dried at 70 ° C. for 2 hours to form an 80 nm light interference layer. The optical constants of this light interference layer were n = 2.0 and k = 0.09 at 532 nm, and n = 2.2 and k = 0.11 at 532 nm. The k at 532 nm of the compound of the formula (9) was 0.10. Thereafter, a bonded optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 8.
【0077】[0077]
【化25】 この光記録媒体に532nm高調波変換レーザーヘッド
を搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置(D
DU−1000)を用いて、線速度5.6m/s、レー
ザーパワー9mWで記録後、同評価装置で再生評価した
結果、反射率は48%、エラーレートは8cps及び変
調度は0.73と良好な信号特性が得られた。次にこの
記録した媒体を430nm高調波変換レーザーヘッドを
搭載した光ディスク評価装置で信号を再生した結果、反
射率は28%、3Tピットジッターは23で3Tランド
ジッターは25、エラーレートは9cps及び変調度は
0.76といずれも良好な値を示した。なお、光干渉層
に光吸収剤を添加しない媒体を同様に作製、評価した結
果、430nmで、ジッターが35以上、エラーレート
が30cps以上と悪かった。Embedded image Pulstec Industrial Optical Disk Evaluation System (D) equipped with a 532 nm harmonic conversion laser head mounted on this optical recording medium.
After recording at a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 9 mW using DU-1000), the same evaluation apparatus was used to evaluate the reproduction. As a result, the reflectance was 48%, the error rate was 8 cps, and the modulation factor was 0.73. Good signal characteristics were obtained. Next, a signal was reproduced from the recorded medium by an optical disk evaluation device equipped with a 430 nm harmonic conversion laser head. As a result, the reflectance was 28%, the 3T pit jitter was 23, the 3T land jitter was 25, the error rate was 9 cps, and the modulation was performed. The degree was 0.76, which was a good value. A medium in which no light absorber was added to the light interference layer was similarly prepared and evaluated. As a result, at 430 nm, the jitter was 35 or more, and the error rate was 30 cps or more.
【0078】〔実施例11〕実施例1と同様に記録層を
成膜した後、さらに、下記式(14)(化26)で示さ
れるアゾ化合物0.2gと下記式(15)(化26)で
示される熱分解促進剤をアゾ色素に対してモル比で1:
1となるように添加し、2,2,3,3-テトラフルオロ-1- プ
ロパノール10mlに溶解する。この溶液を、記録層の
上に回転数1500rpmでスピンコートし、70℃2
時間乾燥して、80nmの光干渉層を形成した。この光
干渉層の光学定数は、780nmでnが1.9、kは
0.05であり、680nmではnが2.1、kは0.
04であり、650nmではnが2.2、kは0.05
であり、635nmではnが2.4、kは0.08であ
った。その後、実施例1と同様に光記録媒体を作製し
た。Example 11 After forming a recording layer in the same manner as in Example 1, 0.2 g of the azo compound represented by the following formula (14) (formula 26) and ) In a molar ratio of 1:
1 and dissolved in 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol 10 ml. This solution was spin-coated on the recording layer at a rotation speed of 1500 rpm,
After drying for an hour, a light interference layer of 80 nm was formed. The optical constants of this optical interference layer are 1.9 and k are 0.05 at 780 nm, and 2.1 at 680 nm and k is 0.1.
04, n = 2.2 and k = 0.05 at 650 nm
At 635 nm, n was 2.4 and k was 0.08. Thereafter, an optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1.
【0079】[0079]
【化26】 この光記録媒体を780nm半導体レーザーヘッドを搭
載したフィリップス製ライター(CDD−521)を用
いて、線速度2.4m/s、レーザーパワー11mWで
EFM信号を記録した。記録後、市販CDプレーヤー
(YAMAHA CDX−1050、レーザー波長78
6nm)を用いて信号を再生し、デビエーション(11
Tピット)、反射率、エラーレート及び変調度を測定し
た。いずれもオレンジブック規格を満足した良好な値を
示した。Embedded image An EFM signal was recorded on the optical recording medium using a Philips writer (CDD-521) equipped with a 780 nm semiconductor laser head at a linear velocity of 2.4 m / s and a laser power of 11 mW. After recording, a commercially available CD player (YAMAHA CDX-1050, laser wavelength 78)
6 nm), and reproduces the deviation (11
T pit), reflectance, error rate, and degree of modulation. All showed good values satisfying the Orange Book standard.
【0080】次にこの記録した媒体を680nm、65
0nm及び635nm赤色半導体レーザーヘッドを搭載
したパルステック工業製光ディスク評価装置(DDU−
1000)を用いて信号を再生し、反射率、エラーレー
ト及び変調度を測定した。いずれも良好な値を示した。
次にこの媒体を680nm赤色半導体レーザーヘッドを
搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置(DD
U−1000)及びKENWOOD製EFMエンコーダ
ーを用いて、線速度2.4m/s、レーザーパワー10
mWで記録した。記録後、680nm及び635nm赤
色半導体レーザーヘッドを搭載した評価装置を用いて信
号を再生し、反射率、エラーレート及び変調度を測定し
た結果、いずれも良好な値を示した。この記録した媒体
を、市販CDプレーヤー(YAMAHA CDX−10
50、レーザー波長786nm)を用いて、前記680
nmのドライブ(DDU−1000)で記録した信号の
再生を行い、デビエーション(11Tピット)、反射
率、エラーレート及び変調度を測定した結果、いずれも
オレンジブック規格を満足した良好な値であった。この
ように、この媒体は複数のレーザー波長で記録及び再生
を良好に行うことが出来た。なお、デビエーションはA
DC社製TIA−175タイムインターバルアナライザ
を用いて計測した。Next, the recorded medium is set to 680 nm, 65
Pulstec Industrial Optical Disk Evaluation System (DDU-) equipped with 0 nm and 635 nm red semiconductor laser heads
1000), and the reflectance, error rate and modulation were measured. All exhibited good values.
Next, this medium was used as an optical disk evaluation device (DD) manufactured by Pulstec Industrial, equipped with a 680 nm red semiconductor laser head.
U-1000) and a KENWOOD EFM encoder with a linear velocity of 2.4 m / s and a laser power of 10
Recorded in mW. After recording, the signal was reproduced using an evaluation device equipped with a 680 nm and 635 nm red semiconductor laser head, and the reflectance, error rate, and modulation were measured. This recorded medium is used as a commercially available CD player (YAMAHA CDX-10).
50, a laser wavelength of 786 nm).
A signal recorded by a nm drive (DDU-1000) was reproduced, and the deviation (11T pit), the reflectance, the error rate, and the modulation were measured. . Thus, this medium was able to perform recording and reproduction favorably with a plurality of laser wavelengths. The deviation is A
It measured using DC TIA-175 time interval analyzer.
【0081】〔実施例12〕実施例11において、熱分
解促進剤として下記式(16)(化27)を用いること
以外は、同様にして光記録媒体を作製した。光干渉層の
光学定数は、780nmでnが1.8、kは0.06で
あり、680nmではnが2.0、kは0.04であ
り、650nmではnが2.1、kは0.06であり、
635nmではnが2.2、kは0.08であった。作
製した媒体を実施例11と同様に780nm半導体レー
ザーヘッドを搭載したフィリップス製ライターと680
nm赤色半導体レーザーヘッドを搭載したパルステック
工業製光ディスク評価装置(DDU−1000)及びK
ENWOOD製EFMエンコーダーを用いて記録した。
記録後、実施例1と同様の測定を行った結果、いずれも
良好な記録特性を示した。Example 12 An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 11, except that the following formula (16) (Formula 27) was used as the thermal decomposition accelerator. The optical constants of the optical interference layer are n = 1.8 and k = 0.06 at 780 nm, n = 2.0 and k = 0.04 at 680 nm, and n = 2.1 and k = 650 at 650 nm. 0.06,
At 635 nm, n was 2.2 and k was 0.08. A Philips lighter equipped with a 780 nm semiconductor laser head and a 680 nm
optical disk evaluation device (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial equipped with a nm semiconductor laser head and K
Recording was performed using an ENWOOD EFM encoder.
After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.
【0082】[0082]
【化27】 Embedded image
【0083】〔実施例13〕実施例1において、熱分解
促進剤として、下記式(17)(化28)を用いること
以外は、同様にして光記録媒体を作製した。光干渉層の
光学定数は、780nmでnが1.8、kは0.06で
あり、680nmではnが1.9、kは0.05であ
り、650nmではnが2.0、kは0.06であり、
635nmではnが2.2、kは0.07であった。作
製した媒体を実施例1と同様に780nm半導体レーザ
ーヘッドを搭載したフィリップス製ライターと680n
m赤色半導体レーザーヘッドを搭載したパルステック工
業製光ディスク評価装置(DDU−1000)及びKE
NWOOD製EFMエンコーダーを用いて記録した。記
録後、実施例1と同様の測定を行った結果、いずれも良
好な記録特性を示した。Example 13 An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1, except that the following formula (17) (Formula 28) was used as the thermal decomposition accelerator. The optical constants of the optical interference layer are n = 1.8 and k = 0.06 at 780 nm, n = 1.9 and k = 0.05 at 680 nm, and n = 2.0 and k = 650 at 650 nm. 0.06,
At 635 nm, n was 2.2 and k was 0.07. A Philips writer equipped with a 780 nm semiconductor laser head and a 680 n
Pulstec Industrial Optical Disk Evaluation System (DDU-1000) equipped with m red semiconductor laser head and KE
Recording was performed using an NWOOD EFM encoder. After recording, the same measurements as in Example 1 were performed, and as a result, all showed good recording characteristics.
【0084】[0084]
【化28】 Embedded image
【0085】〔比較例3〕実施例1において、光干渉層
に熱分解促進剤を添加しないこと以外は、同様にして光
記録媒体を作製した。作製した媒体を実施例1と同様に
780nm半導体レーザーヘッドを搭載したフィリップ
ス製ライターと680nm赤色半導体レーザーヘッドを
搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置(DD
U−1000)及びKENWOOD製EFMエンコーダ
ーを用いて記録した。記録後、実施例1と同様の測定を
行った結果、780nmでのデビエーションが悪かっ
た。実施例11〜13および比較例3で得られた各媒体
について、780及び680nmで記録した各々の場合
で、786、680、650、635nmでの再生時の
デビエーション(11Tピット)、反射率、エラーレー
ト、変調度を表−3(表3、4)にまとめて示した。Comparative Example 3 An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1, except that the thermal decomposition accelerator was not added to the light interference layer. As in Example 1, the produced medium was a Philips writer equipped with a 780 nm semiconductor laser head and a Pulstec Industrial Optical Disk Evaluation System (DD) equipped with a 680 nm red semiconductor laser head.
U-1000) and KENWOOD EFM encoder. After recording, the same measurement as in Example 1 was performed. As a result, the deviation at 780 nm was poor. For each of the media obtained in Examples 11 to 13 and Comparative Example 3, in each case of recording at 780 and 680 nm, deviation (11T pit), reflectance, and error at the time of reproduction at 786, 680, 650, and 635 nm Table 3 (Tables 3 and 4) summarizes the rate and the modulation factor.
【0086】[0086]
【表3】 [Table 3]
【0087】[0087]
【表4】 デビエーション:11T PIT エラーレート:cps[Table 4] Deviation: 11T PIT Error rate: cps
【0088】〔実施例14〕実施例11において、光干
渉層の色素として前記式(14)の代わりに、前記式
(9)で示されるポルフィン化合物を用いること以外
は、同様にして光記録媒体を作製した。光干渉層の光学
定数は、780nmでnが1.8、kは0.05であ
り、532nmではnが2.2、kは0.08であっ
た。作製した媒体を実施例11と同様に780nm半導
体レーザーヘッドを搭載したフィリップス製ライターを
用いて、線速度2.4m/s、レーザーパワー11mW
でEFM信号を記録した。記録後、市販CDプレーヤー
を用いて信号を再生評価した結果、デビエーション(1
1Tピット)は−47、反射率は74%、エラーレート
は9cps及び変調度は0.76といずれもオレンジブ
ック規格を満足した良好な値を示した。次にこの記録し
た媒体を532nmYAG高調波変換レーザーヘッドを
搭載した光ディスク評価装置で信号を再生した結果、反
射率は31%、エラーレートは9cps及び変調度は
0.78といずれも良好な値を示した。なお、光干渉層
に熱分解促進剤を添加しない媒体を同様に作製、評価し
た結果、780nmでのデビエーション(11Tピッ
ト)が−60以下と悪く、532nmでの反射率、変調
度が小さくなった。Example 14 An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 11, except that the porphine compound represented by the formula (9) was used instead of the formula (14) as the dye of the light interference layer. Was prepared. The optical constants of the light interference layer were n = 1.8 and k = 0.05 at 780 nm, and n = 2.2 and k = 0.08 at 532 nm. The prepared medium was used in the same manner as in Example 11 using a Philips writer equipped with a 780 nm semiconductor laser head and a linear velocity of 2.4 m / s and a laser power of 11 mW.
Recorded the EFM signal. After recording, the signal was reproduced and evaluated using a commercially available CD player.
(1T pit) was -47, the reflectance was 74%, the error rate was 9 cps, and the modulation was 0.76, all of which were good values satisfying the Orange Book standard. Next, as a result of reproducing a signal from the recorded medium using an optical disk evaluation apparatus equipped with a 532 nm YAG harmonic conversion laser head, the reflectance was 31%, the error rate was 9 cps, and the modulation factor was 0.78, which were all good values. Indicated. A medium in which the thermal decomposition accelerator was not added to the light interference layer was similarly prepared and evaluated. As a result, the deviation (11T pit) at 780 nm was as poor as −60 or less, and the reflectance and modulation at 532 nm were small. .
【0089】〔実施例15〕実施例11において、光干
渉層の色素として前記式(14)の代わりに、前記式
(10)に示されるポリエン化合物を用いること以外
は、同様にして光記録媒体を作製した。光干渉層の光学
定数は、780nmでnが1.8、kは0.04であ
り、430nmではnが2.3、kは0.09であっ
た。作製した媒体を実施例11と同様に780nm半導
体レーザーヘッドを搭載したフィリップス製ライターを
用いて、線速度2.4m/s、レーザーパワー11mW
でEFM信号を記録した。記録後、市販CDプレーヤー
を用いて信号を再生評価した結果、デビエーション(1
1Tピット)は−50、反射率は75%、エラーレート
は8cps及び変調度は0.76といずれもオレンジブ
ック規格を満足した良好な値を示した。次にこの記録し
た媒体を430nm高調波変換レーザーヘッドを搭載し
た光ディスク評価装置で信号を再生した結果、反射率は
30%、エラーレートは11cps及び変調度は0.7
7といずれも良好な値を示した。なお、光干渉層に熱分
解促進剤を添加しない媒体を同様に作製、評価した結
果、780nmでのデビエーション(11Tピット)が
−60以下と悪く、430nmでの反射率、変調度が小
さくなった。Example 15 An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 11, except that the polyene compound represented by the formula (10) was used instead of the formula (14) as the dye of the light interference layer. Was prepared. The optical constants of the optical interference layer were n = 1.8 and k = 0.04 at 780 nm, and n = 2.3 and k = 0.09 at 430 nm. The prepared medium was used in the same manner as in Example 11 using a Philips writer equipped with a 780 nm semiconductor laser head and a linear velocity of 2.4 m / s and a laser power of 11 mW.
Recorded the EFM signal. After recording, the signal was reproduced and evaluated using a commercially available CD player.
(1T pit) was -50, the reflectance was 75%, the error rate was 8 cps, and the modulation was 0.76, all of which were good values satisfying the Orange Book standard. Next, a signal was reproduced from the recorded medium using an optical disk evaluation device equipped with a 430 nm harmonic conversion laser head. As a result, the reflectance was 30%, the error rate was 11 cps, and the modulation was 0.7.
7 showed good values. A medium in which the thermal decomposition accelerator was not added to the light interference layer was similarly prepared and evaluated. As a result, the deviation (11T pit) at 780 nm was as poor as −60 or less, and the reflectance and modulation at 430 nm were small. .
【0090】〔実施例16〕実施例8において、光干渉
層に光吸収色素の前記式(6)の化合物を添加する代わ
りに、熱分解促進剤として前記式(15)の化合物を光
干渉層色素に対して1:1のモル比で添加すること以外
は、同様にして光記録媒体を作製した。光干渉層の光学
定数は、635nmでnが1.9、kは0.05であ
り、532nmではnが2.2、kは0.07であっ
た。この光記録媒体に635nm半導体レーザーヘッド
を搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置(D
DU−1000)を用いて、線速度5.6m/s、レー
ザーパワー10mWで記録後、同評価装置で再生評価し
た結果、デビエーション(11Tピット)は−49、反
射率は51%、エラーレートは7cps及び変調度は
0.74と良好な信号特性が得られた。次にこの記録し
た媒体を532nmYAG高調波変換レーザーヘッドを
搭載した光ディスク評価装置で信号を再生した結果、反
射率は35%、エラーレートは8cps及び変調度は
0.76といずれも良好な値を示した。なお、光干渉層
に熱分解促進剤を添加しない媒体を同様に作製、評価し
た結果、635nmでのデビエーション(11Tピッ
ト)が−60以下と悪く、532nmでの反射率、変調
度が小さくなった。Example 16 In Example 8, instead of adding the compound of the formula (6) as a light absorbing dye to the light interference layer, the compound of the formula (15) was used as a thermal decomposition accelerator. An optical recording medium was prepared in the same manner, except that it was added at a molar ratio of 1: 1 to the dye. The optical constant of the light interference layer was 1.9 at 635 nm, k was 0.05, and 2.2 at 532 nm, k was 0.07. An optical disc evaluation device (D) manufactured by Pulstec Industrial which has a 635 nm semiconductor laser head
After recording at a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 10 mW using a DU-1000), the reproduction was evaluated by the same evaluation apparatus. As a result, the deviation (11T pit) was -49, the reflectance was 51%, and the error rate was Good signal characteristics of 7 cps and a modulation factor of 0.74 were obtained. Next, as a result of reproducing a signal from the recorded medium using an optical disk evaluation device equipped with a 532 nm YAG harmonic conversion laser head, the reflectance was 35%, the error rate was 8 cps, and the modulation factor was 0.76, all good values. Indicated. A medium in which the thermal decomposition accelerator was not added to the light interference layer was similarly prepared and evaluated. As a result, the deviation (11T pit) at 635 nm was as bad as −60 or less, and the reflectance and modulation at 532 nm were small. .
【0091】〔実施例17〕実施例9において、光干渉
層に光吸収色素の前記式(6)の化合物を添加する代わ
りに、熱分解促進剤として前記式(16)の化合物を光
干渉層色素に対して1:1のモル比で添加すること以外
は、同様にして光記録媒体を作製した。光干渉層の光学
定数は、635nmでnが1.8、kは0.05であ
り、532nmではnが2.2、kは0.08であっ
た。この光記録媒体に635nm半導体レーザーヘッド
を搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置(D
DU−1000)を用いて、線速度5.6m/s、レー
ザーパワー10mWで記録後、同評価装置で再生評価し
た結果、デビエーション(11Tピット)は−48、反
射率は49%、エラーレートは10cps及び変調度は
0.74と良好な信号特性が得られた。次にこの記録し
た媒体を430nm高調波変換レーザーヘッドを搭載し
た光ディスク評価装置で信号を再生した結果、反射率は
32%、エラーレートは9cps及び変調度は0.77
といずれも良好な値を示した。なお、光干渉層に熱分解
促進剤を添加しない媒体を同様に作製、評価した結果、
635nmでのデビエーション(11Tピット)が−6
0以下と悪く、430nmでの反射率、変調度が小さく
なった。Example 17 In Example 9, instead of adding the compound of the formula (6) as a light absorbing dye to the light interference layer, the compound of the formula (16) was used as a thermal decomposition accelerator. An optical recording medium was prepared in the same manner, except that it was added at a molar ratio of 1: 1 to the dye. The optical constants of the light interference layer were 1.8 for n at 635 nm and 0.05 for k, and 2.2 for k at 532 nm and 0.08. An optical disc evaluation device (D) manufactured by Pulstec Industrial which has a 635 nm semiconductor laser head
After recording at a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 10 mW using DU-1000), the reproduction and evaluation were performed by the same evaluation apparatus. As a result, the deviation (11T pit) was -48, the reflectance was 49%, and the error rate was Good signal characteristics of 10 cps and a modulation factor of 0.74 were obtained. Next, a signal was reproduced from the recorded medium using an optical disk evaluation apparatus equipped with a 430 nm harmonic conversion laser head. As a result, the reflectance was 32%, the error rate was 9 cps, and the modulation factor was 0.77.
And all showed good values. In addition, as a result of similarly preparing and evaluating a medium in which the thermal decomposition accelerator was not added to the light interference layer,
The deviation at 635 nm (11T pit) is -6
0 or less, the reflectance at 430 nm and the modulation were reduced.
【0092】〔実施例18〕実施例10において、光干
渉層に光吸収色素の前記式(9)の化合物を添加する代
わりに、熱分解促進剤として前記式(17)の化合物を
光干渉層色素に対して1:1のモル比で添加すること以
外は、同様にして光記録媒体を作製した。光干渉層の光
学定数は、532nmでnが1.9、kは0.06であ
り、430nmではnが2.1、kは0.08であっ
た。この光記録媒体に532nm高調波変換レーザーヘ
ッドを搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置
(DDU−1000)を用いて、線速度5.6m/s、
レーザーパワー9mWで記録後、同評価装置で再生評価
した結果、デビエーション(11Tピット)は−49、
反射率は50%、エラーレートは10cps及び変調度
は0.74と良好な信号特性が得られた。次にこの記録
した媒体を430nm高調波変換レーザーヘッドを搭載
した光ディスク評価装置で信号を再生した結果、反射率
は30%、エラーレートは9cps及び変調度は0.7
6といずれも良好な値を示した。なお、光干渉層に熱分
解促進剤を添加しない媒体を同様に作製、評価した結
果、532nmでのデビエーション(11Tピット)が
−60以下と悪く、430nmでの反射率、変調度が小
さくなった。Example 18 In Example 10, instead of adding the compound of formula (9) as a light absorbing dye to the light interference layer, the compound of formula (17) was used as a thermal decomposition accelerator. An optical recording medium was prepared in the same manner, except that it was added at a molar ratio of 1: 1 to the dye. The optical constants of the light interference layer were n = 1.9 and k = 0.06 at 532 nm, and n = 2.1 and k = 0.08 at 430 nm. Using an optical disk evaluation device (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial equipped with a 532 nm harmonic conversion laser head on this optical recording medium, a linear velocity of 5.6 m / s,
After recording at a laser power of 9 mW, the reproduction was evaluated by the same evaluation apparatus. As a result, the deviation (11T pit) was -49,
Good signal characteristics were obtained with a reflectance of 50%, an error rate of 10 cps and a modulation factor of 0.74. Next, a signal was reproduced from the recorded medium using an optical disk evaluation device equipped with a 430 nm harmonic conversion laser head. As a result, the reflectance was 30%, the error rate was 9 cps, and the modulation was 0.7.
6 and all showed good values. A medium in which the thermal decomposition accelerator was not added to the light interference layer was similarly prepared and evaluated. As a result, the deviation (11T pit) at 532 nm was as poor as −60 or less, and the reflectance and modulation at 430 nm were small. .
【0093】〔実施例19〕実施例1において、光干渉
層を成膜する際に、光干渉層スピンコート用色素溶液の
中にさらに前記式(15)の熱分解促進剤をアゾ色素に
対してモル比で1:1となるように添加すること以外
は、同様にして光記録媒体を作製した。光干渉層の光学
定数は、780nmでnが1.9、kは0.07であ
り、635nmではnが2.3、kは0.09であっ
た。作製した媒体を実施例1と同様に780nm半導体
レーザーヘッドを搭載したソニー製ライターを用いて、
線速度2.4m/s、最適レーザーパワーでEFM信号
を記録した。記録後、市販CDプレーヤーを用いて信号
を再生評価した結果、デビエーション(11Tピット)
は43、反射率は74%、エラーレートは6cps及び
変調度は0.76といずれもオレンジブック規格を満足
した良好な値を示した。次にこの記録した媒体を635
nm半導体レーザーヘッドを搭載した光ディスク評価装
置で信号を再生した結果、反射率は33%、3Tピット
ジッターは21で3Tランドジッターは22、エラーレ
ートは7cps及び変調度は0.79といずれも良好な
値を示した。Example 19 In Example 1, when forming the light interference layer, the thermal decomposition accelerator of the formula (15) was further added to the dye solution for spin coating of the light interference layer with respect to the azo dye. An optical recording medium was prepared in the same manner as above except that the molar ratio was 1: 1. The optical constants of the light interference layer were 1.9 at n at 780 nm and 0.07 at k, and 2.3 at 635 nm and k at 0.09. Using a Sony writer equipped with a 780 nm semiconductor laser head as in Example 1,
An EFM signal was recorded at a linear velocity of 2.4 m / s and an optimum laser power. After recording, the signal was reproduced and evaluated using a commercially available CD player. As a result, the deviation (11T pit) was obtained.
Are 43, the reflectance is 74%, the error rate is 6 cps, and the modulation is 0.76, all of which are good values satisfying the Orange Book standard. Next, this recorded medium is stored in 635
As a result of reproducing the signal with an optical disk evaluation device equipped with a nm semiconductor laser head, the reflectivity was 33%, the 3T pit jitter was 21, the 3T land jitter was 22, the error rate was 7 cps, and the modulation was 0.79, all of which were good. Value.
【0094】[0094]
【発明の効果】本発明によれば、有機色素が主成分であ
り適当な屈折率と消衰係数を有する記録層と光干渉層を
積層した2層媒体において、光干渉層に光吸収剤及び/
又は熱分解促進剤を添加することにより、異なる二波長
領域で良好な記録及び/又は再生が可能な互換性のある
光記録媒体を提供することが出来た。According to the present invention, in a two-layer medium in which a recording layer and an optical interference layer each having an organic dye as a main component and having an appropriate refractive index and extinction coefficient are laminated, a light absorber and a light absorbing agent are added to the optical interference layer. /
Alternatively, by adding a thermal decomposition accelerator, it was possible to provide a compatible optical recording medium capable of excellent recording and / or reproduction in two different wavelength regions.
【図1】従来の光記録媒体の層構成を示す断面構造図FIG. 1 is a sectional structural view showing a layer configuration of a conventional optical recording medium.
【図2】本発明の光記録媒体の層構成を示す断面構造図FIG. 2 is a sectional structural view showing a layer configuration of the optical recording medium of the present invention.
【図3】本発明の光記録媒体の層構成を示す断面構造図FIG. 3 is a sectional structural view showing a layer configuration of the optical recording medium of the present invention.
1 :基板 2 :記録層 3 :反射層 4 :保護層 1’:基板 2’:記録層 3’:光干渉層 4’:反射層 5’:保護層 1”:基板 2”:記録層 3”:光干渉層 4”:反射層 5”:接着層(保護層) 6”:基板 1: substrate 2: recording layer 3: reflective layer 4: protective layer 1 ′: substrate 2 ′: recording layer 3 ′: light interference layer 4 ′: reflective layer 5 ′: protective layer 1 ″: substrate 2 ″: recording layer 3 ": Light interference layer 4": Reflective layer 5 ": Adhesive layer (protective layer) 6": Substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 笹川 知由 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 三沢 伝美 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 杉本 賢一 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 西本 泰三 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 津田 武 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tomoyoshi Sasagawa 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Mitsui Toatsu Chemicals Co., Ltd. (72) Inventor Denmi Misawa 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa (72) Inventor Kenichi Sugimoto 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Yasumi Nishimoto 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Takeshi Takeda 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.
Claims (12)
保護層を有する光記録媒体において、該記録層と該光干
渉層が有機色素を主成分として含有する層であり、か
つ、該光干渉層に光吸収剤及び/又は熱分解促進剤を添
加することを特徴とする光記録媒体。1. An optical recording medium having a recording layer, an optical interference layer, a reflective layer, and a protective layer on a substrate, wherein the recording layer and the optical interference layer are layers containing an organic dye as a main component, and An optical recording medium comprising a light absorbing agent and / or a thermal decomposition accelerator added to the light interference layer.
で0.06以上の消衰係数kを有するものであり、該熱
分解促進剤が該光干渉層に含まれる有機色素よりも低温
で分解して大きな分解熱を発生するか、もしくは反応活
性なラジカルを生成するものである請求項1に記載の光
記録媒体。2. The method according to claim 1, wherein the light absorbing agent is a recording / reproducing laser wavelength λ 1.
Has an extinction coefficient k of 0.06 or more, and the thermal decomposition accelerator decomposes at a lower temperature than the organic dye contained in the light interference layer to generate a large heat of decomposition, or has a reactive activity. The optical recording medium according to claim 1, which generates radicals.
/又は再生が可能であり、波長λ1 より80nm以上短
波長側の波長λ2 を用いて記録及び/又は再生が可能で
あり、かつ、該記録層の屈折率nが波長λ1 で1.8以
上、λ2 で1.0以上、消衰係数kがλ1 で0.04〜
0.20、λ2 で0.04〜0.7であり、かつ該光干
渉層の屈折率nが波長λ1 で1.5以上、λ2 で1.7
以上、消衰係数kがλ1 で0.02〜0.15、λ2 で
0.04〜0.25であることを特徴とする請求項2に
記載の光記録媒体。3. Recording and / or reproduction can be performed using a laser beam having a wavelength of λ 1 , and recording and / or reproduction can be performed using a wavelength λ 2 that is at least 80 nm shorter than the wavelength λ 1 , and the recording layer refractive index n wavelengths lambda 1 at 1.8 or more, lambda 2 in 1.0 above, the extinction coefficient k is at lambda 1 0.04 to
0.20 is at lambda 2 .04-.7, and the refractive index n of the optical interference layer is a wavelength lambda 1 in 1.5 above, in the lambda 2 1.7
Above, the optical recording medium of claim 2, the extinction coefficient k is equal to or in lambda 1 0.02 to 0.15, which is at lambda 2 .04 to .25.
〜2.7、λ2 で1.0〜1.6、消衰係数kがλ1 で
0.04〜0.16、λ2 で0.1〜0.7であり、か
つ、該光干渉層の屈折率nが波長λ1 で1.7〜2.
2、λ2 で1.8〜2.7、消衰係数kがλ1 で0.0
4〜0.14、λ2 で0.04〜0.18である請求項
3に記載の光記録媒体。4. The recording layer has a refractive index n of 1.9 at a wavelength λ 1 .
To 2.7, lambda 2 in 1.0 to 1.6, with 1 extinction coefficient k lambda .04 to .16, and 0.1 to 0.7 at lambda 2, and the optical interference 1.7 to 2 the refractive index n of the layer at the wavelength lambda 1.
2, 1.8 to 2.7 at λ 2 , extinction coefficient k is 0.0 at λ 1
The optical recording medium according to claim 3, wherein the optical recording medium has a value of 4 to 0.14 and a value of λ2 of 0.04 to 0.18.
再生が可能であり、波長λ2 のレーザー光を用いて再生
が可能である請求項3に記載の光記録媒体。5. The optical recording medium according to claim 3, wherein recording and reproduction can be performed using a laser beam having a wavelength of λ 1 , and reproduction can be performed using a laser beam having a wavelength of λ 2 .
nmの範囲から選択され、λ2 が620〜690nmの
範囲から選択され、かつ、基板を通して測定した波長λ
1 でのレーザー光の反射率が65%以上で、かつ、λ2
でのレーザー光の反射率が15%以上である請求項3〜
5のいずれかに記載の光記録媒体。6. A laser beam having a wavelength λ 1 of 770 to 830.
is selected from the range of nm, lambda 2 is selected from the range of 620~690Nm, and the wavelength lambda measured through the substrate
The reflectance of the laser light at 1 is 65% or more and λ 2
The reflectivity of the laser beam at the surface is 15% or more.
6. The optical recording medium according to any one of 5.
nmの範囲から選択され、λ2 が480〜540nmの
範囲または400〜440nmの範囲から選択され、か
つ基板を通して測定した波長λ1 でのレーザー光の反射
率が65%以上で、かつλ2 でのレーザー光の反射率が
15%以上である請求項3〜5のいずれかに記載の光記
録媒体。7. A laser beam having a wavelength λ 1 of 770 to 830.
is selected from the range of nm, lambda 2 is selected from the scope or range of 400~440nm of 480~540Nm, and in the reflectance of the laser beam at a wavelength lambda 1 as measured through the substrate is 65% or more, and in lambda 2 The optical recording medium according to any one of claims 3 to 5, wherein the reflectance of the laser light is 15% or more.
一般式(1)(化1)で表されるアゾ色素又は該アゾ色
素の金属錯体からなる請求項6に記載の光記録媒体。 【化1】 (式中、Aはそれが結合している窒素原子及び炭素原子
と一緒になって複素環を形成する残基であり、Bはそれ
が結合している2つの炭素原子と一緒になって芳香環を
形成する残基であり、Xは活性水素を有する基であ
る。)8. The optical recording medium according to claim 6, wherein the organic dye used in the light interference layer comprises an azo dye represented by the following general formula (1) or a metal complex of the azo dye. Embedded image Wherein A is a residue which, together with the nitrogen and carbon atoms to which it is attached, forms a heterocycle, and B, which is aromatic with the two carbon atoms to which it is attached. It is a residue forming a ring, and X is a group having active hydrogen.)
般式(2)(化2)で表されるフタロシアニン色素から
なる請求項6〜8のいずれかに記載の光記録媒体。 【化2】 (式中、Y1 〜Y4 は酸素原子又は硫黄原子、Z1 〜Z
4 は4〜12個の炭素原子を有する無置換又は置換基を
有する炭化水素基、X1 〜X4 はハロゲン原子を表し、
l1 〜l4 は1または2、m1 〜m4 は0〜3の整数を
表し、Mは2個の水素原子、2価の金属、金属の酸化物
またはハロゲン化物を表す。)9. The optical recording medium according to claim 6, wherein the organic dye used in the recording layer comprises a phthalocyanine dye represented by the following general formula (2). Embedded image (Wherein, Y 1 to Y 4 are an oxygen atom or a sulfur atom, and Z 1 to Z
4 is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms, X 1 to X 4 represent a halogen atom,
l1 to l4 represent an integer of 1 or 2, m1 to m4 represent an integer of 0 to 3, and M represents two hydrogen atoms, a divalent metal, a metal oxide or a halide. )
0nmの範囲から選択され、λ2 が480〜540nm
の範囲または400〜440nmの範囲から選択され、
かつ基板を通して測定した波長λ1 でのレーザー光の反
射率が20%以上で、かつλ2 でのレーザー光の反射率
が15%以上である請求項3〜5のいずれかに記載の光
記録媒体。10. A laser beam having a wavelength λ 1 of 690 to 62.
0 nm range, λ 2 is 480-540 nm
Or from the range of 400 to 440 nm,
And in the reflectance of the laser beam at a wavelength lambda 1 as measured through the substrate is 20% or more, and an optical recording according to any one of claims 3-5 reflectance of the laser beam is 15% or more in lambda 2 Medium.
0nmの範囲から選択され、λ2 が400〜440nm
の範囲から選択され、かつ基板を通して測定した波長λ
1 でのレーザー光の反射率が20%以上で、かつλ2 で
のレーザー光の反射率が15%以上である請求項3〜5
のいずれかに記載の光記録媒体。11. The wavelength λ 1 of the laser beam is 480-54.
0 nm, λ 2 is 400-440 nm
Wavelength λ selected from the range and measured through the substrate
The reflectance of the laser light at 1 is 20% or more, and the reflectance of the laser light at λ 2 is 15% or more.
The optical recording medium according to any one of the above.
般式(3)(化3)で表されるフタロシアニン色素また
は下記一般式(4)(化4)で表されるナフタロシアニ
ン色素であり、該熱分解促進剤がメタロセン化合物であ
るFe(フェロセン)、Ti、V、Mn、Cr、Co、
Ni、Mo、Ru、Rh、Zr、Lu、Ta、W、O
s、Ir、Sc、Yなどのビスシクロペンタジエニル金
属錯体、アセチルアセトナート錯体、フェナントロリン
錯体、ビスピリジン錯体、エチレンジアミン錯体、エチ
レンジアミン四酢酸錯体、ジエチレントリアミン錯体、
ジエチレングリコールジメチルエーテル錯体、ジホスフ
ィノ錯体、ジメチルグリオキシマート錯体などのキレー
ト錯体、もしくは、カルボニル錯体、シアノ錯体、アン
ミン錯体などの金属錯体からなる群から選択される少な
くとも一種である請求項3〜7のいずれかに記載の光記
録媒体。 【化3】 (式中、R1 、R2 は炭素数3〜18の直鎖、分岐また
は環状のアルコキシ基を表し、アルコキシ基中の酸素原
子に結合していない−CH2 −基は酸素原子で置換され
ていてもよく、R3 、R4 は水素原子またはハロゲン原
子を表し、Mは2個の水素原子、2価の金属、金属の酸
化物またはハロゲン化物を表す。ただし、R1 とR2 、
R3 とR4 は入れ代わってもよい。) 【化4】 (式中、R1 、R2 およびMは前記と同じであり、R1
とR2 は入れ代わってもよい。)12. The light absorbing agent is at least one phthalocyanine dye represented by the following general formula (3) or (formula 3) or a naphthalocyanine dye represented by the following general formula (4) (formula 4): The thermal decomposition accelerator is a metallocene compound such as Fe (ferrocene), Ti, V, Mn, Cr, Co,
Ni, Mo, Ru, Rh, Zr, Lu, Ta, W, O
biscyclopentadienyl metal complexes such as s, Ir, Sc and Y, acetylacetonate complexes, phenanthroline complexes, bispyridine complexes, ethylenediamine complexes, ethylenediaminetetraacetic acid complexes, diethylenetriamine complexes,
8. A chelate complex such as a diethylene glycol dimethyl ether complex, a diphosphino complex, or a dimethylglyoximate complex, or at least one selected from the group consisting of a metal complex such as a carbonyl complex, a cyano complex, and an ammine complex. An optical recording medium according to claim 1. Embedded image (Wherein, R 1 and R 2 represent a linear, branched or cyclic alkoxy group having 3 to 18 carbon atoms, and a —CH 2 — group not bonded to an oxygen atom in the alkoxy group is substituted with an oxygen atom. R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a halogen atom, and M represents two hydrogen atoms, a divalent metal, a metal oxide or a halide, provided that R 1 and R 2 ,
R 3 and R 4 may be interchanged. ) (Wherein, R 1, R 2 and M are as defined above, R 1
And R 2 may be interchanged. )
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9221197A JPH10116443A (en) | 1996-08-08 | 1997-08-04 | Optical recording medium |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20975596 | 1996-08-08 | ||
JP8-209755 | 1996-08-22 | ||
JP22144996 | 1996-08-22 | ||
JP8-221449 | 1996-08-22 | ||
JP9221197A JPH10116443A (en) | 1996-08-08 | 1997-08-04 | Optical recording medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10116443A true JPH10116443A (en) | 1998-05-06 |
Family
ID=27329049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9221197A Pending JPH10116443A (en) | 1996-08-08 | 1997-08-04 | Optical recording medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10116443A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6277460B1 (en) | 1998-04-09 | 2001-08-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical recording medium |
US7378220B2 (en) | 2001-06-28 | 2008-05-27 | Fujifilm Corporation | Optical information recording method and medium |
-
1997
- 1997-08-04 JP JP9221197A patent/JPH10116443A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6277460B1 (en) | 1998-04-09 | 2001-08-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical recording medium |
US7378220B2 (en) | 2001-06-28 | 2008-05-27 | Fujifilm Corporation | Optical information recording method and medium |
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