JPH10113765A - ウェーブろう付けまたは錫めっきの機械、その方法および不活性化装置 - Google Patents
ウェーブろう付けまたは錫めっきの機械、その方法および不活性化装置Info
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- JPH10113765A JPH10113765A JP9115943A JP11594397A JPH10113765A JP H10113765 A JPH10113765 A JP H10113765A JP 9115943 A JP9115943 A JP 9115943A JP 11594397 A JP11594397 A JP 11594397A JP H10113765 A JPH10113765 A JP H10113765A
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- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Molten Solder (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
- Arc Welding In General (AREA)
- Auxiliary Devices For And Details Of Packaging Control (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 層流波の平坦面の制限された不活性化を達成
できるウェーブろう付けまたは錫めっきを提供しようと
するものである。 【構成】 ろう材受槽（９）と、いわゆる層流形（８
ｂ）を有する少なくとも１つのろう材波を形成する手段
と、前記層流波に接触してろう付けまたは錫めっきされ
る部品を運ぶコンベアシステム（２）と、前記波の近辺
にガスを噴射する噴射手段（１２）とを具備するウェー
ブろう付けまたは錫めっき機械であって、前記手段は、
隣接し、前記波の下流の位置に配置され、かつろう材波
に向き合う壁１７を持つ噴射器を備え、前記壁は前記ろ
う材波の平坦面に向けて導入される第１ガス噴射を供給
するように位置される少なくとも第１開口群（１５）を
有る。
できるウェーブろう付けまたは錫めっきを提供しようと
するものである。 【構成】 ろう材受槽（９）と、いわゆる層流形（８
ｂ）を有する少なくとも１つのろう材波を形成する手段
と、前記層流波に接触してろう付けまたは錫めっきされ
る部品を運ぶコンベアシステム（２）と、前記波の近辺
にガスを噴射する噴射手段（１２）とを具備するウェー
ブろう付けまたは錫めっき機械であって、前記手段は、
隣接し、前記波の下流の位置に配置され、かつろう材波
に向き合う壁１７を持つ噴射器を備え、前記壁は前記ろ
う材波の平坦面に向けて導入される第１ガス噴射を供給
するように位置される少なくとも第１開口群（１５）を
有る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、“静止槽”か“ウ
ェーブろう付け”機械として知られた機械での運動に置
かれる液状ろう材の槽を備えた装置を用いてなされるろ
う付けまたは錫めっき操作に関する。
ェーブろう付け”機械として知られた機械での運動に置
かれる液状ろう材の槽を備えた装置を用いてなされるろ
う付けまたは錫めっき操作に関する。
【０００２】
【従来の技術】これらの機械は、特に電気回路のような
支持体に電気部品をろう付けしたり、電気部品の端子に
錫めっきするために用いられる。
支持体に電気部品をろう付けしたり、電気部品の端子に
錫めっきするために用いられる。
【０００３】ウェーブろう付け装置は、ろう付けされる
回路（または錫めっきされる部品）がノズルを介在する
タンクを存するろう材浴槽を汲み上げることによって生
成される液状ろう材の波に接触して運ばれるように設計
されている。
回路（または錫めっきされる部品）がノズルを介在する
タンクを存するろう材浴槽を汲み上げることによって生
成される液状ろう材の波に接触して運ばれるように設計
されている。
【０００４】前記部品は、一般に前記機械から上流ゾー
ンで予めフラックス処理され、主に前記ろう材よるそれ
らの十分な濡れを促進するために金属表面を脱酸化す
る。フラックス処理操作は、前記回路にすでに堆積され
たフラックスを活性にするためと前記回路と部品をホッ
トソルダリングゾーンに達する前に予備加熱するための
両方をなす予備加熱操作が後に続く。
ンで予めフラックス処理され、主に前記ろう材よるそれ
らの十分な濡れを促進するために金属表面を脱酸化す
る。フラックス処理操作は、前記回路にすでに堆積され
たフラックスを活性にするためと前記回路と部品をホッ
トソルダリングゾーンに達する前に予備加熱するための
両方をなす予備加熱操作が後に続く。
【０００５】前記ノズルの結合構造は、ろう材波の形で
決定される。ウェーブろう付け機械は、通常、２つの
波、“乱流”と呼ばれる第１波と比較的大きな平坦上面
を出現させる“層流”と呼ばれる第２波、を有する。
決定される。ウェーブろう付け機械は、通常、２つの
波、“乱流”と呼ばれる第１波と比較的大きな平坦上面
を出現させる“層流”と呼ばれる第２波、を有する。
【０００６】前記機械にろう付けまたは錫めっきされる
部品が存在しない場合において、この層流波領域の液状
ろう材は前記機械の上流向かって非常に低速度で流れ
る。部品が前記層流波に接触して達すると、部分反転の
合金流が生じ、合金の一部は前記機械の下流方向に流れ
る。
部品が存在しない場合において、この層流波領域の液状
ろう材は前記機械の上流向かって非常に低速度で流れ
る。部品が前記層流波に接触して達すると、部分反転の
合金流が生じ、合金の一部は前記機械の下流方向に流れ
る。
【０００７】前記機械は、それゆえ通常、ダムシステム
と述べることができるものを備え、その高さは前記ろう
材の下流流れの流速を制御するために用いられる。この
ダムシステムは、ろう材を周囲の槽に戻すための単純な
金属プレートまたはガイドシュートからなる。
と述べることができるものを備え、その高さは前記ろう
材の下流流れの流速を制御するために用いられる。この
ダムシステムは、ろう材を周囲の槽に戻すための単純な
金属プレートまたはガイドシュートからなる。
【０００８】１つは、この槽流波領域での前記流速と合
金の流れ方向は得られたろう材の性質上で決められる影
響を有することに気が付く。
金の流れ方向は得られたろう材の性質上で決められる影
響を有することに気が付く。
【０００９】あるユーザは、それらの生産物の非常に特
有の性質に適合するために、実質的にこの下流ろう材流
れを規制する、好ましくはろう材の下流オーバフローを
非常に僅かかもしくはほぼ零にすることに気が付く。
有の性質に適合するために、実質的にこの下流ろう材流
れを規制する、好ましくはろう材の下流オーバフローを
非常に僅かかもしくはほぼ零にすることに気が付く。
【００１０】ウェーブろう付け（錫めっき）機械は、通
常、大気の空気雰囲気に開放される。そのような機械の
ユーザによって遭遇される一つの問題は、空気へのその
露出の結果としてろう材槽の表面での酸化層（ドロス）
の形成であり、実質のないろう材のロスのみならず、定
期的に槽を清浄する必要をもたらす。例えば、中型機械
では１時間操作あたり１ｋｇ以上のドロスの形成をもた
らす。
常、大気の空気雰囲気に開放される。そのような機械の
ユーザによって遭遇される一つの問題は、空気へのその
露出の結果としてろう材槽の表面での酸化層（ドロス）
の形成であり、実質のないろう材のロスのみならず、定
期的に槽を清浄する必要をもたらす。例えば、中型機械
では１時間操作あたり１ｋｇ以上のドロスの形成をもた
らす。
【００１１】層流波の特別の場合を考慮すると、前記層
流波の平坦な表面に定常的に形成するドロスは効果的に
除去できず、従ってろう付けまたは錫めっきの結果の性
質に十分に逆の効果として前記部品上に堆積されるの
で、ろう材の零もしくは過度に少ない下流オーバーフロ
ーは多くの不利益を現れるはずである。
流波の平坦な表面に定常的に形成するドロスは効果的に
除去できず、従ってろう付けまたは錫めっきの結果の性
質に十分に逆の効果として前記部品上に堆積されるの
で、ろう材の零もしくは過度に少ない下流オーバーフロ
ーは多くの不利益を現れるはずである。
【００１２】詳細には述べないが、ウェーブろう付け機
械の層流波の平坦面の場合においてここでくどくど述べ
たドロス形成現象は、制止槽の平坦面でさえも供する。
械の層流波の平坦面の場合においてここでくどくど述べ
たドロス形成現象は、制止槽の平坦面でさえも供する。
【００１３】多様な技術解決策は、周囲空気による酸化
からろう材槽を保護するために以下に提案されている。
からろう材槽を保護するために以下に提案されている。
【００１４】ａ）解決策の第１カテゴリーは、限られた
保護雰囲気、少なくともろう材槽の上方、に置くことか
らなるが、休止の機械に時々同様に置かれる。したがっ
て、完全に不活性化された機械は気密トンネルとして外
付けが出現し、設計しているが、大気空気に開放の既に
ある従来の機械に少なくともろう材槽の領域に窒素ブラ
ンケットを配置して用いることができる単純な覆いまた
はフードシステムもまた出現している。
保護雰囲気、少なくともろう材槽の上方、に置くことか
らなるが、休止の機械に時々同様に置かれる。したがっ
て、完全に不活性化された機械は気密トンネルとして外
付けが出現し、設計しているが、大気空気に開放の既に
ある従来の機械に少なくともろう材槽の領域に窒素ブラ
ンケットを配置して用いることができる単純な覆いまた
はフードシステムもまた出現している。
【００１５】解決策の第１カテゴリーにおいて、出願人
の米国特許第５１６１７２７は少なくともろう材槽の直
接的な上方で規定している覆いの配置、拡散取り付け覆
いの上部に開口しているガス噴射チャンネルのシステム
を持つ気密手段によって周囲雰囲気から分離される内部
空間を備えた不活性化装置を提案した。
の米国特許第５１６１７２７は少なくともろう材槽の直
接的な上方で規定している覆いの配置、拡散取り付け覆
いの上部に開口しているガス噴射チャンネルのシステム
を持つ気密手段によって周囲雰囲気から分離される内部
空間を備えた不活性化装置を提案した。
【００１６】前述した文献で述べられた不活性化装置
は、既にあるシステム（特に噴射ガスの流速と、ろう材
槽上方に達する残余酸素の濃度との間の折衷を最大限に
活用する点から見て）の性能の実質的な改善を示すと同
時に、このシステムは市場に出回っているウェーブろう
付け機械のそれぞれの型に対して実質的に特注となるの
で比較的複雑で高価な設計となる。
は、既にあるシステム（特に噴射ガスの流速と、ろう材
槽上方に達する残余酸素の濃度との間の折衷を最大限に
活用する点から見て）の性能の実質的な改善を示すと同
時に、このシステムは市場に出回っているウェーブろう
付け機械のそれぞれの型に対して実質的に特注となるの
で比較的複雑で高価な設計となる。
【００１７】ｂ）解決策の第２のカテゴリーは、波上方
の閉鎖空間のないろう材波の近辺に位置される噴射器を
用いる不十分な保護雰囲気を配置することを含む。
の閉鎖空間のないろう材波の近辺に位置される噴射器を
用いる不十分な保護雰囲気を配置することを含む。
【００１８】前記装置は、この第２カテゴリーの関与す
るＷＯ９３／１１６５３の教示した。
るＷＯ９３／１１６５３の教示した。
【００１９】それらの非常に制限された形態を考慮する
と、これらの方法によってなされる不活性化の性状を制
御することは困難であると考えられ、実際には低酸素レ
ベルを達成するのに２つの対称的噴射器を必要とする。
と、これらの方法によってなされる不活性化の性状を制
御することは困難であると考えられ、実際には低酸素レ
ベルを達成するのに２つの対称的噴射器を必要とする。
【００２０】さらに、このカテゴリーの解決策に関し、
層流波によりもたらつれる特別の問題に対する解決を扱
かったり、供したりする文献はどこにもない。
層流波によりもたらつれる特別の問題に対する解決を扱
かったり、供したりする文献はどこにもない。
【００２１】ｃ）ドロス形成の問題に対する第３のカテ
ゴリーの解決策は、層流波の表面で高い被覆力を持つ油
膜の使用を適用する。
ゴリーの解決策は、層流波の表面で高い被覆力を持つ油
膜の使用を適用する。
【００２２】前記油保護システムは、ボード上の油堆積
物の存在（困難でかつ不完全に清掃の履行を必要とする
こと）、ろう材槽内の油の蓄積による機械保守の頻繁な
時間を費やす必要、および人々や装置のいずれかの環境
への害をもたらす油蒸発速度を含む油使用に関連する典
型的な不利益（特に加熱源の存在で）を有する。
物の存在（困難でかつ不完全に清掃の履行を必要とする
こと）、ろう材槽内の油の蓄積による機械保守の頻繁な
時間を費やす必要、および人々や装置のいずれかの環境
への害をもたらす油蒸発速度を含む油使用に関連する典
型的な不利益（特に加熱源の存在で）を有する。
【００２３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、層流
波（既に示したように層流波は極端に低い流れによる非
常に特別な操作問題をもたらす）の平坦面の制限された
不活性化（制限システムの使用を要求せずに）を達成で
きるウェーブろう付けまたは錫めっきを提供し、その機
械設計は層流波の表面で達成される残余酸素量とこの波
に供給されるガスの流速との間の非常に好ましい折衷を
簡単かつ経済的に得ることができ、この流速は特別のユ
ーザ側の経済的仕様書に適合することを必要とする場
合、１０ｍ3／ｈ以下にでき、好ましくは５ｍ3 ／ｈ以
下である。
波（既に示したように層流波は極端に低い流れによる非
常に特別な操作問題をもたらす）の平坦面の制限された
不活性化（制限システムの使用を要求せずに）を達成で
きるウェーブろう付けまたは錫めっきを提供し、その機
械設計は層流波の表面で達成される残余酸素量とこの波
に供給されるガスの流速との間の非常に好ましい折衷を
簡単かつ経済的に得ることができ、この流速は特別のユ
ーザ側の経済的仕様書に適合することを必要とする場
合、１０ｍ3／ｈ以下にでき、好ましくは５ｍ3 ／ｈ以
下である。
【００２４】本発明の別の目的は、機械の層流波の平坦
な表面上のドロス形成を十分低減することができる条件
を提供する。
な表面上のドロス形成を十分低減することができる条件
を提供する。
【００２５】
【課題を解決するための手段】出願人による研究は、そ
のような結果が隣接し、層流波の下流の位置に配置さ
れ、かつこの波に向き合う前記層流波の平坦な表面に向
けて導入される第１ガス噴射を生成するように位置され
る開口群の少なくとも１つを有する壁を備えるガス噴射
器の使用によって得ることを示す。
のような結果が隣接し、層流波の下流の位置に配置さ
れ、かつこの波に向き合う前記層流波の平坦な表面に向
けて導入される第１ガス噴射を生成するように位置され
る開口群の少なくとも１つを有する壁を備えるガス噴射
器の使用によって得ることを示す。
【００２６】これらの研究は、次の測定の組合わせ使用
の有益な形態を証明する：槽中のろう材の下流溢れ対し
例えばプレートまたはガイドシュートの形態を有するダ
ムシステムの使用で、前記波に対する前記ダムシステム
の高さ調節は前方向（すなわち機械の下流方向）への層
流波の流速調節をなす；プレートの使用の場合、ろう材
槽に浸漬されたプレートを用いる；シュートの使用の場
合、前記槽に浸漬されたシュートを用いるか、またはシ
ュートにある程度機能されるように槽に浸漬されたスカ
ートを付設する；および隣接し、前記層流波の下流の位
置に配置され、かつこの波に向き合う壁を持つガス噴射
器の使用で、この壁は前記層流波の平坦な表面に向けて
導入される第１ガス噴射を生成するように位置される第
１開口群と、前記噴射器とプレート（この場合“プレー
ト”ダム）間に位置する空間またはスカート（この場合
“シュート”ダム）の内部に第２ガス噴射をなすように
前記壁に位置される第２開口群とを持つ前記波に向かう
ガスを導く少なくとも２つの開口群を有する。
の有益な形態を証明する：槽中のろう材の下流溢れ対し
例えばプレートまたはガイドシュートの形態を有するダ
ムシステムの使用で、前記波に対する前記ダムシステム
の高さ調節は前方向（すなわち機械の下流方向）への層
流波の流速調節をなす；プレートの使用の場合、ろう材
槽に浸漬されたプレートを用いる；シュートの使用の場
合、前記槽に浸漬されたシュートを用いるか、またはシ
ュートにある程度機能されるように槽に浸漬されたスカ
ートを付設する；および隣接し、前記層流波の下流の位
置に配置され、かつこの波に向き合う壁を持つガス噴射
器の使用で、この壁は前記層流波の平坦な表面に向けて
導入される第１ガス噴射を生成するように位置される第
１開口群と、前記噴射器とプレート（この場合“プレー
ト”ダム）間に位置する空間またはスカート（この場合
“シュート”ダム）の内部に第２ガス噴射をなすように
前記壁に位置される第２開口群とを持つ前記波に向かう
ガスを導く少なくとも２つの開口群を有する。
【００２７】例示して以下に詳細に述べるるように、そ
れら測定の組合わせ使用は殆ど澱んだ層流波の困難な場
合でさえ、いかなる制限手段を要求せずに非常に効果的
な不活性を与える。ボードの通過時に、数１０ｐｐｍの
みの残余酸素量が非常に適度のガス放出速度（数ｍ3 ／
ｈ）を得ることができることを証明する。
れら測定の組合わせ使用は殆ど澱んだ層流波の困難な場
合でさえ、いかなる制限手段を要求せずに非常に効果的
な不活性を与える。ボードの通過時に、数１０ｐｐｍの
みの残余酸素量が非常に適度のガス放出速度（数ｍ3 ／
ｈ）を得ることができることを証明する。
【００２８】本発明に係わるウェーブろう付けまたは錫
めっき機械は、ろう材受槽；いわゆる層流形を有する少
なくとも１つのろう材波を形成する手段；前記層流波に
接触してろう付けまたは錫めっきされる部品を運ぶコン
ベアシステム；前記波の近辺にガスを噴射する噴射手
段；を具備し、前記噴射手段は、隣接し、前記波の下流
の位置に配置され、かつろう材波に向き合う壁を持つ噴
射器を備え、前記壁は前記ろう材波の平坦な表面に向け
て導入される第１ガス噴射を生成するように位置される
少なくとも１つの第１開口群を有する。
めっき機械は、ろう材受槽；いわゆる層流形を有する少
なくとも１つのろう材波を形成する手段；前記層流波に
接触してろう付けまたは錫めっきされる部品を運ぶコン
ベアシステム；前記波の近辺にガスを噴射する噴射手
段；を具備し、前記噴射手段は、隣接し、前記波の下流
の位置に配置され、かつろう材波に向き合う壁を持つ噴
射器を備え、前記壁は前記ろう材波の平坦な表面に向け
て導入される第１ガス噴射を生成するように位置される
少なくとも１つの第１開口群を有する。
【００２９】前述したようにこの発明の遂行の有益な形
態において、前記機械は下流方向の波のオーバーフロー
流速を制御できる前記波に対する高さ調節のダムシステ
ムを備え、前記ダムシステムは前記ろう材受槽内に浸漬
するシュートの形態を取るか、または前記ろう材受槽内
に浸漬するスカート構造を備え、かつ前記壁は前記シュ
ートもしくは前記スカートの内部に第２ガス噴射をなす
ようにそれに位置される第２開口群を有する。
態において、前記機械は下流方向の波のオーバーフロー
流速を制御できる前記波に対する高さ調節のダムシステ
ムを備え、前記ダムシステムは前記ろう材受槽内に浸漬
するシュートの形態を取るか、または前記ろう材受槽内
に浸漬するスカート構造を備え、かつ前記壁は前記シュ
ートもしくは前記スカートの内部に第２ガス噴射をなす
ようにそれに位置される第２開口群を有する。
【００３０】本発明の一つの例において、前記噴射器お
よび前記シュートは噴射口が供される共通の壁を有す
る。その形態に関連して後により明確に示すように、そ
のような形態において第２噴射ガスは噴射器の内部から
スカートの内部に直接通過する。
よび前記シュートは噴射口が供される共通の壁を有す
る。その形態に関連して後により明確に示すように、そ
のような形態において第２噴射ガスは噴射器の内部から
スカートの内部に直接通過する。
【００３１】この形態は、組立物の構築の容易さ、従っ
てコストの遂行の観点から十分な有益さを与える。
てコストの遂行の観点から十分な有益さを与える。
【００３２】前記スカート内部への第２ガス噴射の注入
は、例えば適合される初期結合構造に依存してスカート
の壁に存する境界の穴、もしくはスカートとシュートの
境界、またはシュートの下部に向かい合う第２開口群を
配置することによって遂行される。
は、例えば適合される初期結合構造に依存してスカート
の壁に存する境界の穴、もしくはスカートとシュートの
境界、またはシュートの下部に向かい合う第２開口群を
配置することによって遂行される。
【００３３】この発明のもう一つの例において、機械は
前記ろう材受槽内に浸漬するプレートの形態を取るダム
システムを備え、前記噴射器の壁は前記噴射器と前記プ
レートの間に位置する空間に第２ガス噴射を行うように
その壁に位置される第２開口群を有する。すぐ前の形態
における“シュート”は、前記プレートと前記噴射器の
間にある手法で形成される。
前記ろう材受槽内に浸漬するプレートの形態を取るダム
システムを備え、前記噴射器の壁は前記噴射器と前記プ
レートの間に位置する空間に第２ガス噴射を行うように
その壁に位置される第２開口群を有する。すぐ前の形態
における“シュート”は、前記プレートと前記噴射器の
間にある手法で形成される。
【００３４】“下流”方向は、ろう付けされるべき部品
が機械で運ばれる方向として理解されるべきである。
が機械で運ばれる方向として理解されるべきである。
【００３５】この発明に係わるガス放出“開口”は、ガ
スが前記噴射器から逃散するいかなる種類の穴形態とし
て理解されるべきであり、場合により例えば従来の円形
開口またはスリットを持つ。
スが前記噴射器から逃散するいかなる種類の穴形態とし
て理解されるべきであり、場合により例えば従来の円形
開口またはスリットを持つ。
【００３６】第１開口群は、層流波の平坦面に対して接
線に沿って導入されるように前記噴射器の壁に効果的に
位置される。このような配置は、前記波の表面にガス噴
射に対するコアンダ効果の生成を助長し、それゆえ不活
性化をより効果的になす。
線に沿って導入されるように前記噴射器の壁に効果的に
位置される。このような配置は、前記波の表面にガス噴
射に対するコアンダ効果の生成を助長し、それゆえ不活
性化をより効果的になす。
【００３７】前記スカート内部への第２ガス噴射の注入
の前述の配置は、第１ガス噴射による空気侵入の寄生的
現象を避けるための予期しない効果をもたらす。
の前述の配置は、第１ガス噴射による空気侵入の寄生的
現象を避けるための予期しない効果をもたらす。
【００３８】前記開口群の少なくとも１つの開口は、開
口外に０．５〜３０ｍ／ｓのガス速度が得られるのに必
要な大きさにすることが好適である。好ましくは、ガス
速度は０．５〜１０ｍ／ｓの範囲の速度、より好ましく
は０．５〜５ｍ／ｓのより狭い範囲である。
口外に０．５〜３０ｍ／ｓのガス速度が得られるのに必
要な大きさにすることが好適である。好ましくは、ガス
速度は０．５〜１０ｍ／ｓの範囲の速度、より好ましく
は０．５〜５ｍ／ｓのより狭い範囲である。
【００３９】この発明の１つの例において、前記噴射手
段は前記層流波の全幅に亘って延出し、従って考慮され
るべき機械で処理される全ての部品の寸法に、より効果
的に適合する。
段は前記層流波の全幅に亘って延出し、従って考慮され
るべき機械で処理される全ての部品の寸法に、より効果
的に適合する。
【００４０】この発明の１つの例において、第１開口群
は少なくとも１つのスリット列からなり、それらの境界
は前記波に向き合う噴射器の壁にある。
は少なくとも１つのスリット列からなり、それらの境界
は前記波に向き合う噴射器の壁にある。
【００４１】前記噴射手段は、前記噴射器内部にガスを
放出する手段を備え、その手段は例えば前記噴射器内部
に配置される多孔質チューブからなり、外側に供給され
るガスに合わされるか、もしくは穴あけされたチューブ
として従来より供されている用語である単純な“クラリ
ネット”からなる。
放出する手段を備え、その手段は例えば前記噴射器内部
に配置される多孔質チューブからなり、外側に供給され
るガスに合わされるか、もしくは穴あけされたチューブ
として従来より供されている用語である単純な“クラリ
ネット”からなる。
【００４２】本発明の１つの形態において、噴射器は上
面または上壁を有する。出願人による研究は、この上壁
に強固に取り付ける偏向部品（deflecting piece）を供
することが有効であることを証明した。
面または上壁を有する。出願人による研究は、この上壁
に強固に取り付ける偏向部品（deflecting piece）を供
することが有効であることを証明した。
【００４３】そのような偏向部品は前記噴射器の全長さ
に沿って延出することが好ましい。
に沿って延出することが好ましい。
【００４４】この発明の有効な例において、前記偏向部
品（前記波に対する噴射器の位置を考慮することが必要
なように）は少なくともダムシステム（例えばシュー
ト）を覆うような幅に必要な大きさである。
品（前記波に対する噴射器の位置を考慮することが必要
なように）は少なくともダムシステム（例えばシュー
ト）を覆うような幅に必要な大きさである。
【００４５】前記噴射器の位置は、水平および／または
垂直に調節されることが好ましい。
垂直に調節されることが好ましい。
【００４６】当業者にとって明らかなように、この発明
に係わるろう付けまたは錫めっき機械は生成モードおよ
び純度に関連しない窒素のような中性ガスか、もしくは
中性ガスと還元ガスの混合物のようなより活性なガスの
いずれかの種類のガスの噴射器の使用を許容する。
に係わるろう付けまたは錫めっき機械は生成モードおよ
び純度に関連しない窒素のような中性ガスか、もしくは
中性ガスと還元ガスの混合物のようなより活性なガスの
いずれかの種類のガスの噴射器の使用を許容する。
【００４７】この発明は、ろう付けまたは錫めっきされ
る部品はいわゆる層流形を持つ液状ろう材の少なくとも
１つの波に接触して運ばれ、保護ガスは前記波の少なく
とも一部に亘って導入される前記部品のウェーブろう付
けまたは錫めっきの方法に関し、前記方法は、前記保護
ガスが隣接し、前記波の下流に位置され、かつろう材波
に向き合う壁を持つ噴射手段によって前記波に亘って導
入され、かつ少なくとも１つの開口群は前記層流波の平
坦面に向けて導入される第１ガス噴射を生成するように
前記壁に位置され、前記開口から出るガスの速度は０．
５〜３０ｍ／ｓ、好ましくは０．５〜１０ｍ／ｓ、より
好ましくは０．５〜５ｍ／ｓである。
る部品はいわゆる層流形を持つ液状ろう材の少なくとも
１つの波に接触して運ばれ、保護ガスは前記波の少なく
とも一部に亘って導入される前記部品のウェーブろう付
けまたは錫めっきの方法に関し、前記方法は、前記保護
ガスが隣接し、前記波の下流に位置され、かつろう材波
に向き合う壁を持つ噴射手段によって前記波に亘って導
入され、かつ少なくとも１つの開口群は前記層流波の平
坦面に向けて導入される第１ガス噴射を生成するように
前記壁に位置され、前記開口から出るガスの速度は０．
５〜３０ｍ／ｓ、好ましくは０．５〜１０ｍ／ｓ、より
好ましくは０．５〜５ｍ／ｓである。
【００４８】この発明に係わる方法の有益な例におい
て、下流方向のろう材波のオーバーフロー流速は前記波
に対して調節された高さを有するダムシステムによって
制御され、前記ダムシステムはろう材受槽内に浸漬する
シュートの形態を有するか、前記ろう材受槽内に浸漬す
るスカート構造を備え、そして前記噴射器の壁は下がっ
ているシュートまたはスカートの内部に第２ガス噴射を
注入するようにその壁に位置する第２開口群を有する。
て、下流方向のろう材波のオーバーフロー流速は前記波
に対して調節された高さを有するダムシステムによって
制御され、前記ダムシステムはろう材受槽内に浸漬する
シュートの形態を有するか、前記ろう材受槽内に浸漬す
るスカート構造を備え、そして前記噴射器の壁は下がっ
ているシュートまたはスカートの内部に第２ガス噴射を
注入するようにその壁に位置する第２開口群を有する。
【００４９】他の例において、下流方向のろう材波のオ
ーバーフロー流速は前記ろう材受槽内に浸漬するプレー
トの形態を有するダムシステムの使用により調節され、
前記噴射器の壁は前記プレートと前記噴射器の間に位置
する空間に第２ガス噴射をなすように前記壁に位置され
る第２開口群を有する。
ーバーフロー流速は前記ろう材受槽内に浸漬するプレー
トの形態を有するダムシステムの使用により調節され、
前記噴射器の壁は前記プレートと前記噴射器の間に位置
する空間に第２ガス噴射をなすように前記壁に位置され
る第２開口群を有する。
【００５０】この発明は、ウェーブろう付けまたは錫め
っき機械の不活性化装置に関し、隣接し、前記層流波の
下流の位置に配置され、かつ前記層流波に向き合う壁を
持つガス噴射器を備え、前記壁は前記層流波の平坦面に
向けて導入される第１ガス噴射を生じるように位置され
る少なくとも第１開口群を有する。
っき機械の不活性化装置に関し、隣接し、前記層流波の
下流の位置に配置され、かつ前記層流波に向き合う壁を
持つガス噴射器を備え、前記壁は前記層流波の平坦面に
向けて導入される第１ガス噴射を生じるように位置され
る少なくとも第１開口群を有する。
【００５１】この発明の１つの遂行において、前記噴射
器は上壁を備え、かつ前記装置は前記噴射器の上壁に強
固に取り付けられた偏向部品を備える。
器は上壁を備え、かつ前記装置は前記噴射器の上壁に強
固に取り付けられた偏向部品を備える。
【００５２】この発明の１つの形態において、ろう付け
または錫めっき機械はタムシステムを備え、前記波に対
するその高さ調節は機械の下流方向のろう材波のオーバ
ーフロー流速を制御するのに供し、前記ダムシステムは
前記ろう材受槽に浸漬するプレート板、もしくは前記ろ
う材受槽に浸漬するガイドシュート、または前記ろう材
受槽に浸漬するスカートを備え、前記装置の噴射器の壁
は前記シュート内部、または前記プレートと前記噴射器
の間の空間の内部に第２ガス噴射を生じるように前記壁
に位置される第２開口群を有する。
または錫めっき機械はタムシステムを備え、前記波に対
するその高さ調節は機械の下流方向のろう材波のオーバ
ーフロー流速を制御するのに供し、前記ダムシステムは
前記ろう材受槽に浸漬するプレート板、もしくは前記ろ
う材受槽に浸漬するガイドシュート、または前記ろう材
受槽に浸漬するスカートを備え、前記装置の噴射器の壁
は前記シュート内部、または前記プレートと前記噴射器
の間の空間の内部に第２ガス噴射を生じるように前記壁
に位置される第２開口群を有する。
【００５３】この発明の別の特徴、有益さは図示される
遂行形式に詳細にしたがって想像されるが、これに限定
されない。
遂行形式に詳細にしたがって想像されるが、これに限定
されない。
【００５４】
【実施例】図１に概要的に示されるウェーブろう付け機
械は、３つのゾーン：フラックスシステム（例えば湿
式）で部品１をフラックスするゾーンＩ；例えば赤外ラ
ンプからなる手段４を使用してフラックス部品を予備加
熱するゾーンII；部品１が存在しない遂行形式で、ろう
材ノズル６を通してろう材槽９を汲み上げることによっ
て得られた単一ろう材波８と出会う特有のろう付するゾ
ーンIII 、を備える。
械は、３つのゾーン：フラックスシステム（例えば湿
式）で部品１をフラックスするゾーンＩ；例えば赤外ラ
ンプからなる手段４を使用してフラックス部品を予備加
熱するゾーンII；部品１が存在しない遂行形式で、ろう
材ノズル６を通してろう材槽９を汲み上げることによっ
て得られた単一ろう材波８と出会う特有のろう付するゾ
ーンIII 、を備える。
【００５５】ボード１は、例えば機械のそれぞれの側部
に位置する２側ベルトに沿って移動するフレームまたは
“爪”型コンベアチェーンからなるコンベアシステムに
よって機械の異なるゾーンに運ばれる。
に位置する２側ベルトに沿って移動するフレームまたは
“爪”型コンベアチェーンからなるコンベアシステムに
よって機械の異なるゾーンに運ばれる。
【００５６】図２は、ろう材槽９が“２つの波”構造、
比較的急勾配構造（ノズル６ａの構造の結果として得ら
れる）を有する第１のいわゆる乱流波８ａと比較的大き
な寸法の平坦上面を提示し、ノズル６ｂの構造の結果と
して得られる層流構造の第２波８ｂとを生成するのに使
用される場合の部分断面図を供する。
比較的急勾配構造（ノズル６ａの構造の結果として得ら
れる）を有する第１のいわゆる乱流波８ａと比較的大き
な寸法の平坦上面を提示し、ノズル６ｂの構造の結果と
して得られる層流構造の第２波８ｂとを生成するのに使
用される場合の部分断面図を供する。
【００５７】図３および図４は、それぞれ部品の到達前
およびボード１のろう付中の層流波８ｂのろう材流れを
示す。ここで示された例は、ノズルから下流に位置する
ガイドシュートの形態を取る場合のダムシステム１０の
使用を含む。ガイドシュートの高さを調節することは、
下流方向（ここで、所定の環境下で零もしくはほぼ零の
流れ）のろう材溢れ速度を制御するように機能する。
およびボード１のろう付中の層流波８ｂのろう材流れを
示す。ここで示された例は、ノズルから下流に位置する
ガイドシュートの形態を取る場合のダムシステム１０の
使用を含む。ガイドシュートの高さを調節することは、
下流方向（ここで、所定の環境下で零もしくはほぼ零の
流れ）のろう材溢れ速度を制御するように機能する。
【００５８】この図は、シュート構造の縦断面を示して
いるが、当業者であれば明らかなように、前記シュート
の２つの“壁”の間の空間は受槽の側面またはそれぞれ
の端部に配置された２つの特別のプレート（矩形または
矩形様構造のの水平断面を規定する）によって２つの端
部が閉鎖されている。
いるが、当業者であれば明らかなように、前記シュート
の２つの“壁”の間の空間は受槽の側面またはそれぞれ
の端部に配置された２つの特別のプレート（矩形または
矩形様構造のの水平断面を規定する）によって２つの端
部が閉鎖されている。
【００５９】部分的下流溢れの可能な現象は、図４の中
でより観察される。
でより観察される。
【００６０】前記層流上の部品１の到達は、前記機械の
下流方向（すなわち、前方向）への液状ろう材の流れの
部分反転を引き起こす。前方向の溢れ流速は、シュート
システム１０の高さによって制御することができる。ま
た、そのようなシュート（ノズル６ｂに結合する単純な
プレートの置き換え）はより良好なガイドと槽９中への
ろう材溢れの返送を与える。
下流方向（すなわち、前方向）への液状ろう材の流れの
部分反転を引き起こす。前方向の溢れ流速は、シュート
システム１０の高さによって制御することができる。ま
た、そのようなシュート（ノズル６ｂに結合する単純な
プレートの置き換え）はより良好なガイドと槽９中への
ろう材溢れの返送を与える。
【００６１】図５は、この発明に係わるウェーブろう付
または錫めっきの遂行の一つの形式を示す。この図は、
層流／噴射器／シュート／スカートの配列を写す部分図
である。
または錫めっきの遂行の一つの形式を示す。この図は、
層流／噴射器／シュート／スカートの配列を写す部分図
である。
【００６２】ここで、波は上流方向の流れ持つ部品の到
達前の状態を示している。
達前の状態を示している。
【００６３】図は、シュートシステム１０に強固に取り
付けられる浸漬スカート１１を示し、前記シュートシス
テムは図７の斜視図との関連で後述する構造の２つの開
口群１５、１６を有する１つの面または壁１７を有する
ガス噴射器１２に向き合っている。
付けられる浸漬スカート１１を示し、前記シュートシス
テムは図７の斜視図との関連で後述する構造の２つの開
口群１５、１６を有する１つの面または壁１７を有する
ガス噴射器１２に向き合っている。
【００６４】前述を鑑みて理解されるように、我々は図
の理解をより容易にするために２つの異なる種類のライ
ンによってそれらに強固に取り付けられたシュートおよ
びスカートを図５に示すことを選んだ。既に示したよう
に、この発明に係わるシュートおよびスカートは強固に
取り付けられた２つの部材をばらばらにする必要はな
く、むしろ１つは初めから浸漬されたシュートを使用す
ることができる。
の理解をより容易にするために２つの異なる種類のライ
ンによってそれらに強固に取り付けられたシュートおよ
びスカートを図５に示すことを選んだ。既に示したよう
に、この発明に係わるシュートおよびスカートは強固に
取り付けられた２つの部材をばらばらにする必要はな
く、むしろ１つは初めから浸漬されたシュートを使用す
ることができる。
【００６５】開口群１５、１６は、層流波８ｂの平坦面
に向かう第１ガス噴射および浸漬スカート１１の内部に
向かう第２ガス噴射を導くようにそれぞれ位置される。
前に示したように、浸漬スカートの存在および前記スカ
ート内部への第２ガス噴射は層流波の平坦面への空気侵
入の効果を避けるための特別の効果がある。
に向かう第１ガス噴射および浸漬スカート１１の内部に
向かう第２ガス噴射を導くようにそれぞれ位置される。
前に示したように、浸漬スカートの存在および前記スカ
ート内部への第２ガス噴射は層流波の平坦面への空気侵
入の効果を避けるための特別の効果がある。
【００６６】前記噴射器１２の内部は、多孔質チューブ
１４を含み、この多孔質チューブ１４は外部からガスが
供給され、かつ前記噴射器１２の本体を構成する広がっ
たチャンバの内部にこのガスを分配する。
１４を含み、この多孔質チューブ１４は外部からガスが
供給され、かつ前記噴射器１２の本体を構成する広がっ
たチャンバの内部にこのガスを分配する。
【００６７】図６に概略的に示される構造は、前記噴射
器１２の上壁１９に強固に取り付けられ偏向部品１３の
存在を除いて図５に示されたのと同様である。
器１２の上壁１９に強固に取り付けられ偏向部品１３の
存在を除いて図５に示されたのと同様である。
【００６８】例示に関連して以下に詳細に述べるように
偏向部品１３の存在は、必要でれば、層流波の平坦面の
領域に非常に低残余酸素レベルを達成するのに非常に効
果的である。
偏向部品１３の存在は、必要でれば、層流波の平坦面の
領域に非常に低残余酸素レベルを達成するのに非常に効
果的である。
【００６９】この図６は、この発明の有益な例を示し、
前記偏向部品の幅は、必要であれば、前記波に対する前
記噴射器の位置に関連して前記シュートシステムを少な
くとも覆うに十分に延出することを許容する。
前記偏向部品の幅は、必要であれば、前記波に対する前
記噴射器の位置に関連して前記シュートシステムを少な
くとも覆うに十分に延出することを許容する。
【００７０】図６の噴射器１２および偏向部品１３の詳
細要部である図７は、偏向部品１３および噴射器１２の
それぞれの位置、特に前記噴射器の上壁１９へのこの偏
向部品１３の配置をより理解させる。この図は、また２
つの開口群１５、１６の開口形態の良好な透視を供す
る。
細要部である図７は、偏向部品１３および噴射器１２の
それぞれの位置、特に前記噴射器の上壁１９へのこの偏
向部品１３の配置をより理解させる。この図は、また２
つの開口群１５、１６の開口形態の良好な透視を供す
る。
【００７１】示された例において、開口群１５、１６は
それぞれ３列のスリット１８および１列のスリット１８
からなり、各スリットは前記噴射器１２の壁１７に位置
し、かつこの噴射器の長さ方向に延出されている。
それぞれ３列のスリット１８および１列のスリット１８
からなり、各スリットは前記噴射器１２の壁１７に位置
し、かつこの噴射器の長さ方向に延出されている。
【００７２】図８はこの発明の特別の形態を示し、前記
シュートと前記噴射器は共通の壁を有する。前記噴射器
の壁１７はシュートのいくつかの壁の一つを形成し、こ
の壁をスカート１１の側壁の一つして延出することが効
果的であることが気が付く。
シュートと前記噴射器は共通の壁を有する。前記噴射器
の壁１７はシュートのいくつかの壁の一つを形成し、こ
の壁をスカート１１の側壁の一つして延出することが効
果的であることが気が付く。
【００７３】第２開口群１６で生じるそのような形態の
第２ガス噴射は、噴射器１２の内部からスカート１１内
部に直接通過する。
第２ガス噴射は、噴射器１２の内部からスカート１１内
部に直接通過する。
【００７４】図９〜図１１は、以下に詳述する例を遂行
する形態を示す： 図９：シュート１０は、スカートを備えず（またはより
簡潔にシュートは浸漬シュートではない）、かつ噴射器
の壁１７は第２開口群を備えない； 図１０：シュート１０はスカート１１を備え、かつ噴射
器の壁１７は第２開口群を備えない；および 図１１：図１０のそれと全く同じ形態であるが、偏向部
品１３を備える。
する形態を示す： 図９：シュート１０は、スカートを備えず（またはより
簡潔にシュートは浸漬シュートではない）、かつ噴射器
の壁１７は第２開口群を備えない； 図１０：シュート１０はスカート１１を備え、かつ噴射
器の壁１７は第２開口群を備えない；および 図１１：図１０のそれと全く同じ形態であるが、偏向部
品１３を備える。
【００７５】第１の評価は２つの波のろう付け機械にこ
れら３つの形態を用いてなされた：層流の表面の残余酸
素レベルはろう付けされるべきボードの有無の両方で測
定された。層流波の平坦面上のドロスの形成またはドロ
スなしは同様に相称的に評価された。
れら３つの形態を用いてなされた：層流の表面の残余酸
素レベルはろう付けされるべきボードの有無の両方で測
定された。層流波の平坦面上のドロスの形成またはドロ
スなしは同様に相称的に評価された。
【００７６】全ての場合において、噴射器によって供給
される窒素放出速度は約８０Ｌ／リットルであった。
される窒素放出速度は約８０Ｌ／リットルであった。
【００７７】使用される窒素は、１０ｐｐｍ以下の残余
酸素濃度を持つ低温窒素であった。
酸素濃度を持つ低温窒素であった。
【００７８】第２の評価は、図１１の構造を用いてなさ
れ、２種のろう材欠陥の有無（ろう材ギャップ（割れ
目、裂き目）および短絡（ろう材架橋））は機械でろう
付けされた配線基板に対して計算された。評価は、窒素
（前記放出速度）下および空気下の両方でなされた。
れ、２種のろう材欠陥の有無（ろう材ギャップ（割れ
目、裂き目）および短絡（ろう材架橋））は機械でろう
付けされた配線基板に対して計算された。評価は、窒素
（前記放出速度）下および空気下の両方でなされた。
【００７９】観察結果は、次のように表わされることが
できる。
できる。
【００８０】ａ１）残余酸素レベル（体積比率） 図９の場合： ボード無：ほぼ１２０，０００ｐｐｍ； ボード有：＜１％； 図１０の場合 ボード無：ほぼ３０，０００ｐｐｍ； ボード有：ほぼ７０ｐｐｍ； 図１１の場合 ボード無：ほぼ８，０００ｐｐｍ； ボード有：ほぼ４５ｐｐｍ； ａ２）ドロス評価：ボードの存在におけるドロスの割合
は、全ての試験形態で非常に低減され、かつ最後の２つ
の形態は前記波の平坦面を典型的な鏡を保持することを
なした。
は、全ての試験形態で非常に低減され、かつ最後の２つ
の形態は前記波の平坦面を典型的な鏡を保持することを
なした。
【００８１】ｂ）ろう付け欠陥の割合：ここで（ｐｐｍ
欠陥）述べられた結果は、２００ろう付けボードに対す
る累積結果を示す。 空気下 窒素下 短絡 ほぼ４８００ ほぼ２０００ ろう材の割れ目 ほぼ２００ ほぼ７０
欠陥）述べられた結果は、２００ろう付けボードに対す
る累積結果を示す。 空気下 窒素下 短絡 ほぼ４８００ ほぼ２０００ ろう材の割れ目 ほぼ２００ ほぼ７０
【００８２】したがって、全体のこれらの結果としわか
ることは、この発明に係わるウェーブろう付け機械およ
び方法は、劇的形態および非常に適度な窒素消費で層流
の表面で非常に低残余酸素レベルを達成し、それは得ら
れたろう付け性能およびドロス形成の観点から優れた結
果として明確な改善に一貫して相当することを証明して
いる。
ることは、この発明に係わるウェーブろう付け機械およ
び方法は、劇的形態および非常に適度な窒素消費で層流
の表面で非常に低残余酸素レベルを達成し、それは得ら
れたろう付け性能およびドロス形成の観点から優れた結
果として明確な改善に一貫して相当することを証明して
いる。
【図１】ウェーブろう付機械の一般的構造の概要図。
【図２】２つの波、層流および乱流を有する構成の概要
部分断面図。
部分断面図。
【図３】部品の到達前（上流方向のろう材流れ）の層流
の概要図。
の概要図。
【図４】ろう付中の層流（部分的に反転のろう材流れ：
シュート１０に溢れる下流方向のろう材流れの一部）の
概要図。
シュート１０に溢れる下流方向のろう材流れの一部）の
概要図。
【図５】この発明に係わる機械の部分概要図。
【図６】噴射手段が偏向部品１３を取り付けているこの
発明に係わる機械の部分概要図。
発明に係わる機械の部分概要図。
【図７】偏向部品１３を取り付けている図６の噴射器の
詳細図。
詳細図。
【図８】共通の壁を有する場合のシュート／噴射器組立
て物の一例の概要図。
て物の一例の概要図。
【図９】この発明の例示に使用される機械構造を示す
図。
図。
【図１０】この発明の例示に使用される機械構造を示す
図。
図。
【図１１】この発明の例示に使用される機械構造を示す
図。
図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０５Ｋ 3/34 ５０６ Ｈ０５Ｋ 3/34 ５０６Ｋ
Claims (13)
- 【請求項１】 ろう材受槽（９）；いわゆる層流形（８
ｂ）を有する少なくとも１つのろう材波を形成する手
段；前記層流波に接触してろう付けまたは錫めっきされ
る部品を運ぶコンベアシステム（２）；前記波の近辺に
ガスを噴射する噴射手段（１２）；下流方向の波のオー
バーフローの流速を制御できる前記波に対する高さ調節
のダムシステム（１０）であって、前記ダムシステムは
前記ろう材受槽内に浸漬するシュートの形態を有する
か、前記ろう材受槽内に浸漬するスカート構造を備える
か、または前記ろう材受槽内に浸漬するプレートの形態
を有する；を具備したウェーブろう付けまたは錫めっき
機械において、 前記噴射手段は、隣接し、前記波の下流の位置に配置さ
れ、かつろう材波に向き合う壁１７を持つ噴射器を備
え、前記壁は前記ろう材波の平坦な表面に向けて導入さ
れる第１ガス噴射を生成するように位置される第１開口
群（１５）を有し、かつ前記壁は場合において前記浸漬
されたシュートもしくはスカートの内部、または前記プ
レートと前記噴射器の間に位置する空間に第２ガス噴射
をなすように前記壁に位置される第２開口群（１６）を
有する。 - 【請求項２】 前記噴射器およびシュートは、共通の壁
を有する請求項１記載の機械。 - 【請求項３】 第１開口群は、第１ガス噴射を前記層流
波の平坦な表面に対して接線に沿って導入されるように
位置される前述の請求項１、２のいずれか１つの記載の
機械。 - 【請求項４】 前記２つの開口群の少なくとも１つの開
口は、前記開口から０．５〜３０ｍ／ｓ、好ましくは
０．５〜１０ｍ／ｓで出るガス速度を得るのに必要な大
きさにする請求項１〜３いずれか１つの記載の機械。 - 【請求項５】 前記２つの開口群の少なくとも１つは、
少なくとも１つがスリット（１８）の列からなる請求項
１〜４いずれか１つの記載の機械。 - 【請求項６】 前記ガス噴射器は、前記層流波の全幅を
横切って延出する請求項１〜５いずれか１つの記載の機
械。 - 【請求項７】 前記噴射器は、上壁（１９）を備える前
述の請求項のいずれか１つの記載の機械。 - 【請求項８】 前記噴射器の上壁に強固に取り付けられ
る偏向部品（１３）を備える請求項７記載の機械。 - 【請求項９】 前記偏向部品は、前記噴射器の全幅に亘
って延出する請求項８記載の機械。 - 【請求項１０】 ろう付けまたは錫めっきされる部品は
いわゆる層流形を持つ液状ろう材の少なくとも１つの波
に接触して運ばれ、保護ガスは前記波の少なくとも一部
に亘って導入され、かつ下流方向のろう材波のオーバー
フロー流速は前記波に対して調節された高さを有するダ
ムシステムによって制御され、前記ダムシステムはろう
材受槽内に浸漬するシュートの形態を有するか、前記ろ
う材受槽内に浸漬するスカート構造を備えるか、または
前記ろう材受槽内に浸漬するプレートの形態を有するウ
ェーブろう付けまたは錫めっきの方法において、 前記保護ガスは、隣接し、前記波の下流に位置され、か
つろう材波に向き合う壁を持つ噴射手段によって前記波
に亘って導入され、前記壁は前記ろう材波の平坦な表面
に向けて導入される第１ガス噴射を生成するように位置
される開口の第１群と、場合において前記浸漬されたシ
ュートもしくはスカートの内部、または前記プレートと
前記噴射器の間に位置する空間に第２ガス噴射をなすよ
うに前記壁に位置される第２開口群を有する。 - 【請求項１１】 前記２つの群の少なくとも１つの開口
から出るガスの速度は、０．５〜３０ｍ／ｓ、好ましく
は０．５〜１０ｍ／ｓである請求項１０記載の方法。 - 【請求項１２】 ウェーブろう付けまたは錫めっき機械
の不活性化装置であって、 前記ウェーブろう付けまたは錫めっき機械は、下流方向
の波のオーバーフロー流速を制御できる層流波に対する
高さ調節のダムシステムを備え、前記ダムシステムはプ
レートまたはシュートの形態を有し、 前記装置は、隣接し、前記層流波の下流の位置に配置さ
れ、かつ前記層流波に向き合う壁を持つガス噴射器を備
え、前記壁は前記層流波の平坦な表面に向けて導入され
る第１ガス噴射を生じるように位置される第１開口群を
有し、かつ前記壁は前記シュート内部、または前記プレ
ートと前記噴射器の間の空間の内部に第２ガス噴射を生
じるように前記壁に位置される第２開口群を有する。 - 【請求項１３】 前記噴射器は、上壁（１９）を備え、
かつ前記噴射器の上壁に強固に取り付けられる少なくと
も１つの偏向部品（１３）を備える請求項１２記載の装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9605724A FR2748410B1 (fr) | 1996-05-07 | 1996-05-07 | Procede et machine de brasage ou etamage a la vague |
| FR9605724 | 1996-05-07 |
Publications (1)
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