JPH10111491A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JPH10111491A
JPH10111491A JP26708496A JP26708496A JPH10111491A JP H10111491 A JPH10111491 A JP H10111491A JP 26708496 A JP26708496 A JP 26708496A JP 26708496 A JP26708496 A JP 26708496A JP H10111491 A JPH10111491 A JP H10111491A
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JP
Japan
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liquid crystal
display device
crystal display
gate
pixel
Prior art date
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Pending
Application number
JP26708496A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Murakami
浩 村上
Kenichi Nakabayashi
謙一 中林
Akira Yamamoto
山本  彰
Mitsuharu Nakazawa
光晴 中澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve deterioration in display due to a leak current of switching transistors by reversing a frame period alteratingly at a specific value or above, and also setting the frame frequency to a specific value or higher. SOLUTION: Active elements for switching pixels are constituted of multi-gate transistors for which plural pieces of single gate transistors 3, 4 of more than one size are serially connected. Then, the frame period N is reversed for AC electrification at N>2, with the frame frequency fd set as fd<60Hz. With the frame period N made larger than 2, the deviation ΔV of an effective voltage in a holding voltage can be reduced. In addition, with the frame frequency fd made larger than 60Hz, a leak time, namely a period in which polarity is reversed between the holding voltage and the voltage Vd applied to the data bus line 1, is shortened, thereby reducing the deviation ΔV of the effective voltage in the holding voltage.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関す
るものであり、特に、フレームの極性反転に伴う表示画
像の劣化を防止する手段を設けたアクティブマトリクス
型液晶表示装置(Active Matrix typ
e Liquid Crystal Display)
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to an active matrix type liquid crystal display device (Active Matrix type) provided with means for preventing deterioration of a displayed image due to reversal of the polarity of a frame.
e Liquid Crystal Display)
It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶表示装置は小型・軽量・低消
費電力であるため、OA端末やプロジェクター等に使用
されたり、或いは、携帯可能性を利用して小型液晶テレ
ビ等に使用されており、特に、高品質液晶表示装置用に
は、画素毎にスイッチング用のTFTを設けたアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置が用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, liquid crystal display devices have been used for OA terminals, projectors, etc. because of their small size, light weight, and low power consumption. In particular, for a high quality liquid crystal display device, an active matrix type liquid crystal display device provided with a switching TFT for each pixel is used.

【0003】この様な従来のアクティブマトリクス型液
晶表示装置を図9及び図10を参照して説明する。 図9(a)参照 図9(a)は従来のアクティブマトリクス型液晶表示装
置の概略的構成を示すものであり、互いに直交するよう
にメッシュ状に設けられたゲートバスライン(走査バス
ライン)41とデータバスライン(ドレインバスライ
ン)42との交点に、TFTと画素容量とからなる画素
43を配置し、各画素の画素容量の一端をTFTのソー
ス電極に接続し、他端をコモン電極に接続し、コモン電
圧Vcom を印加する。
Such a conventional active matrix type liquid crystal display device will be described with reference to FIGS. 9 and 10. FIG. FIG. 9A shows a schematic configuration of a conventional active matrix type liquid crystal display device. Gate bus lines (scanning bus lines) 41 provided in a mesh shape so as to be orthogonal to each other. And a data bus line (drain bus line) 42, a pixel 43 composed of a TFT and a pixel capacitor is arranged, one end of the pixel capacitor of each pixel is connected to the source electrode of the TFT, and the other end is connected to the common electrode. Connection and apply a common voltage V com .

【0004】また、各ゲートバスライン41には、走査
ドライバより、順次走査信号Vg1,Vg2,・・・Vgn
印加し、一方、各データバスライン42には、データド
ライバより、順次画像表示信号Vd1,Vd2,・・・Vdm
を印加し、各画素43の画素電極に一端には夫々
c11 ,Vc12 ,・・・Vcnm の画素電位が印加され、
このVc11 ,Vc12 ,・・・Vcnm の値に応じて、白〜
黒の明度の表示が得られることになる。
[0004] In each gate bus line 41, from the scan driver sequentially scanning signal V g1, V g2, applying a · · · V gn, whereas, the respective data bus line 42, from the data driver sequentially Image display signals V d1 , V d2 ,... V dm
, Vc11 , Vc12 ,... Vcnm are applied to one end of the pixel electrode of each pixel 43, respectively.
Depending on the values of V c11 , V c12 ,.
A display of black lightness is obtained.

【0005】図9(b)参照 図9(b)はノーマリホワイトモードの液晶表示装置に
おける、黒レベルと白レベルの電位関係を示すもので、
ゲートバスラインの非選択時に、画素を構成するTFT
が十分オフになるように、黒レベルVb-はオフ時の走査
信号の電位Vgo ffより高くしておく。
FIG. 9B shows a potential relationship between a black level and a white level in a normally white mode liquid crystal display device.
When the gate bus line is not selected, the TFT that constitutes the pixel
Is sufficiently turned off, the black level V b− is set higher than the potential V go ff of the scanning signal at the time of off.

【0006】図10参照 図10は、従来のアクティブマトリクス型液晶表示装置
における駆動波形の説明図であり、ごく一般的なフレー
ム周波数fd が60Hz(1フレーム周期≒16.7m
s)でフレーム反転する、即ち、2フレーム周期で交流
化する例を示しており、図におけるDF(交流化反転制
御信号)は、1フレーム毎に+−を繰り返す。
FIG. 10 is an explanatory diagram of driving waveforms in a conventional active matrix type liquid crystal display device. A very common frame frequency fd is 60 Hz (one frame period フ レ ー ム 16.7 m).
s) shows an example in which frame inversion is performed, that is, AC conversion is performed in a two-frame cycle, and DF (AC conversion inversion control signal) in the figure repeats +/- for each frame.

【0007】また、各ゲートバスラインに印加される走
査信号は、電圧Vgon で一水平期間(1H)のパルス幅
のパルス信号が、Vg1〜Vgnにかけて順次づれた位相で
印加されるように制御される。
The scanning signal applied to each gate bus line is such that a pulse signal having a voltage of V gon and a pulse width of one horizontal period (1H) is applied in a phase sequentially from V g1 to V gn. Is controlled.

【0008】また、各画素電位については、説明を簡単
にするために、m列目の画素について説明するものであ
り、m番目のデータバスラインに印加される電圧Vm
1フレーム周期でVb+とVb-を繰り返す黒表示の場合を
示している。
[0008] For the sake of simplicity, each pixel potential will be described for the pixel in the m-th column. The voltage V m applied to the m-th data bus line is V V in one frame cycle. This shows a case of black display in which b + and Vb- are repeated.

【0009】この場合、1行目の画素電位Vc1m は走査
信号Vg1の印加と共にVb+に立ち上がり、第2フレーム
目の走査信号の印加と共にVb-に立ち下がることにな
り、n行目の画素電位Vcnm は走査信号Vgnの印加と共
にVb+に立ち上がり、第2フレーム目の走査信号の印加
と共にVb-に立ち下がることになり、この様な振動を繰
り返す。
In this case, the pixel potential V c1m of the first row rises to V b + with the application of the scanning signal V g1 , and falls to V b- with the application of the scanning signal of the second frame. the pixel potential V cnm rise to V b + with application of the scan signal V gn, will be fall in V b-with the application of the second frame of the scanning signal is repeated such a vibration.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかし、この様なアク
ティブマトリクス型液晶表示装置においては、非走査選
択期間における画素トランジスタのオフリーク電流の大
きさは、ソース−ドレイン間の電位差に依存し、電位差
が大きいほどオフリーク電流が大きくなる。
However, in such an active matrix type liquid crystal display device, the magnitude of the off-leak current of the pixel transistor in the non-scanning selection period depends on the potential difference between the source and the drain, and the potential difference is large. The larger the value is, the larger the off-leak current is.

【0011】したがって、書き込んでから次のフレーム
で再度書き込むまでの間、保持電圧とデータバスライン
に印加される電圧Vdmの極性が殆ど同じである画素、即
ち、Vc1m の電圧が印加される画素においては、殆どリ
ークは発生せず、書き込んだ電圧Vc1m が保持され、表
示劣化を生じない。
Accordingly, during the period from writing to write again in the next frame, the pixel polarity of the voltage V dm applied to the holding voltage and the data bus line is almost the same, i.e., the voltage of V C1M is applied In the pixel, almost no leak occurs, the written voltage Vc1m is maintained, and display deterioration does not occur.

【0012】一方、書き込んでから次のフレームで再度
書き込むまでの間、保持電圧とデータバスラインに印加
される電圧Vdmの極性が殆ど反対となってソース−ドレ
イン間の電位差が大きくなる画素、即ち、Vcnm の電圧
が印加される画素においては、大きなリークが発生し
て、書き込んだ電圧Vc1m がΔVだけ大幅にずれ、表示
が著しく劣化することになる。
On the other hand, between the writing and the rewriting in the next frame, the polarity of the holding voltage and the voltage Vdm applied to the data bus line are almost opposite, and the potential difference between the source and the drain becomes large. That is, in a pixel to which a voltage of V cnm is applied, a large leak occurs, and the written voltage V c1m is greatly shifted by ΔV, so that the display is significantly deteriorated.

【0013】また、この従来のアクティブマトリクス型
液晶表示装置においては、全てのフレームが前フレーム
と極性が反転した極性変更フレームとなる、2フレーム
周期で交流化したフレーム反転方式であるので、1フレ
ームの最後の方の画素になるにしたがって、画素保持電
圧の実効電圧が大きくずれるという問題もある。
Further, in this conventional active matrix type liquid crystal display device, since all frames are of a polarity-changed frame in which the polarity is inverted with respect to the previous frame, a frame inversion method in which two frames are exchanged is used. There is also a problem that the effective voltage of the pixel holding voltage is greatly shifted toward the last pixel.

【0014】したがって、本発明は、アクティブマトリ
クス型液晶表示装置における、スイッチングトランジス
タのリーク電流に起因する表示劣化を改善することを目
的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to improve display degradation caused by leakage current of a switching transistor in an active matrix type liquid crystal display device.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理的構
成の説明図であり、この図1を参照して本発明における
課題を解決するための手段を説明する。 図1(a)乃至(c)参照 (1)本発明は、液晶表示装置において、フレーム周期
Nを、N>2で交流化反転すると共に、フレーム周波数
d を、fd >60Hzとしたことを特徴とする。
FIG. 1 is an explanatory view of the principle configuration of the present invention. Referring to FIG. 1, means for solving the problems in the present invention will be described. 1 (a) to 1 (c) (1) According to the present invention, in the liquid crystal display device, the frame period N is inverted with AC>N> 2, and the frame frequency f d is f d > 60 Hz. It is characterized by.

【0016】この様に、フレーム周期Nを、従来のN=
2より大きくすることによって、V cnm で大きなリーク
が生ずる極性変更フレームの頻度を少なくすることがで
き、それによって、保持電圧の実効電圧のズレΔVを少
なくすることができる。
As described above, the frame period N is defined as N =
By making it larger than 2, V cnmIn a big leak
Can reduce the frequency of polarity change frames
As a result, the deviation ΔV of the effective voltage of the holding voltage is reduced.
Can be eliminated.

【0017】また、フレーム周波数fd を、従来のfd
=60Hzより大きくすることによって、リークする時
間、即ち、保持電圧とデータバスライン1に印加される
電圧Vd の極性が逆になる期間を短くすることができ、
頻繁にリフレッシュすることができるので、保持電圧の
実効電圧のズレΔVを少なくすることができる。
Further, the frame frequency f d is changed from the conventional f d
= By greater than 60 Hz, the time to leakage, i.e., can be the polarity of the voltage V d applied to the holding voltage and the data bus line 1 is shorter periods are reversed,
Since the refresh operation can be performed frequently, the deviation ΔV of the effective voltage of the holding voltage can be reduced.

【0018】(2)本発明は、上記(1)において、画
素をスイッチングするアクティブ素子を、1種類以上の
サイズのシングルゲートトランジスタ3,4を複数個直
列接続したマルチゲートトランジスタで構成したことを
特徴とする。
(2) According to the present invention, in the above (1), the active element for switching the pixel is constituted by a multi-gate transistor in which a plurality of single-gate transistors 3 and 4 of one or more sizes are connected in series. Features.

【0019】この様に、アクティブ素子をマルチトラン
ジスタ、特に、サイズの異なるシングルゲートトランジ
スタ3,4を複数個直列接続したマルチゲートトランジ
スタで構成することによって、オフリーク電流を抑制す
ることができる。
As described above, by configuring the active element with a multi-transistor, particularly, a multi-gate transistor in which a plurality of single-gate transistors 3 and 4 having different sizes are connected in series, an off-leak current can be suppressed.

【0020】(3)また、本発明は、上記(1)または
(2)において、入力画像データの少なくとも一部を蓄
積すると共に、入力画像データと同じ速度或いは異なる
速度で表示データを出力するバッファメモリを設けたこ
とを特徴とする。
(3) In the present invention according to (1) or (2), the buffer for storing at least a part of the input image data and outputting the display data at the same speed as the input image data or at a different speed. A memory is provided.

【0021】この様に、バッファメモリを設けることに
よって、表示データの速度を入力画像データの速度に対
して任意に設定することができ、通常の速度の画像デー
タを入力画像データとした場合は、表示データの速度を
大きくすることによって、保持電圧の実効電圧のズレΔ
Vを少なくすることができる。
As described above, by providing the buffer memory, the speed of the display data can be set arbitrarily with respect to the speed of the input image data. When image data at a normal speed is used as the input image data, By increasing the speed of the display data, the deviation Δ of the effective voltage of the holding voltage can be obtained.
V can be reduced.

【0022】(4)また、本発明は、上記(1)乃至
(3)のいずれかにおいて、N=4としたことを特徴と
する。
(4) The present invention is characterized in that in any one of the above (1) to (3), N = 4.

【0023】フレーム周期Nを、N>4とした場合に
は、表示輝度の周期的変動が顕著になりやすいので、N
=4の場合に最大の効果が得られる。
When the frame period N is set to N> 4, the periodic fluctuation of the display luminance is likely to be remarkable.
= 4, the maximum effect is obtained.

【0024】(5)また、本発明は、上記(1)乃至
(4)のいずれかにおいて、Ioff をアクティブ素子の
オフ電流、ΔVp を画素電圧ズレの仕様値、及び、Cを
総画素容量とした場合、フレーム周波数fd を、 fd ≧Ioff /(ΔVp ×C) としたことを特徴とする。
(5) In the present invention, in any one of the above (1) to (4), I off is the off current of the active element, ΔV p is the specification value of the pixel voltage deviation, and C is the total pixel. When the capacity is used, the frame frequency f d is set to f d ≧ I off / (ΔV p × C).

【0025】一般に、画素電圧ズレの仕様値ΔVp は、
表示装置の用途によって異なり、高階調度の表示を得る
ためにはΔVp は小さくなるので、フレーム周波数fd
を、 fd ≧Ioff /(ΔVp ×C) の関係に基づいて決定することによって、高品質で表示
劣化のない液晶表示装置が得られる。なお、総画素容量
Cは、マルチゲートトランジスタを用いない場合には、
画素容量6、即ち、Ccellとなり、素子保持容量5を設
けたマルチゲートトランジスタを用いた場合には、素子
保持容量5と画素容量6との和、即ち、Ch +Ccell
なる。
In general, the specification value ΔV p of the pixel voltage deviation is
Depending on the application of the display device, ΔV p becomes small in order to obtain a display with a high gradation, so that the frame frequency f d
Is determined based on the relationship of f d ≧ I off / (ΔV p × C), whereby a high-quality liquid crystal display device without display deterioration can be obtained. It should be noted that the total pixel capacitance C is, when no multi-gate transistor is used,
Pixel capacitor 6, i.e., in the case of using the multi-gate transistor provided C cell. Therefore, the element holding capacitor 5, the sum of the element holding capacitor 5 and the pixel capacitor 6, i.e., the C h + C cell.

【0026】(6)また、本発明は、上記(1)乃至
(4)のいずれかにおいて、フレーム周波数fd を、1
00Hz≦fd ≦150Hzとしたことを特徴とする。
(6) Further, according to the present invention, in any one of the above (1) to (4), the frame frequency f d is set to 1
It is characterized in that 00 Hz ≦ f d ≦ 150 Hz.

【0027】この様なフレーム周波数fd の具体的値と
しては、100Hz≦fd ≦150Hzが適当である。
As a specific value of the frame frequency f d , 100 Hz ≦ f d ≦ 150 Hz is appropriate.

【0028】(7)また、本発明は、上記(1)乃至
(4)のいずれかにおいて、フレーム周波数fd を、入
力画像データのフレーム周波数の2倍に設定したことを
特徴とする。
(7) The present invention is characterized in that in any one of the above (1) to (4), the frame frequency f d is set to twice the frame frequency of the input image data.

【0029】この様なフレーム周波数fd の具体的値と
しては、入力画像データのフレーム周波数の2倍が適当
であり、通常の入力画像データのようにフレーム周波数
が60Hzの場合には、120Hzとなる。
[0029] A specific value for such a frame frequency f d, is suitably twice the frame frequency of the input image data, when the frame frequency as a normal input image data is 60Hz includes a 120Hz Become.

【0030】(8)また、本発明は、液晶表示装置にお
いて、アクティブ素子を、サイズの異なる複数個のシン
グルゲートトランジスタ3,4を直列接続したマルチゲ
ートトランジスタで構成したことを特徴とする。
(8) The present invention is characterized in that in the liquid crystal display device, the active element is constituted by a multi-gate transistor in which a plurality of single-gate transistors 3 and 4 having different sizes are connected in series.

【0031】この様に、アクティブ素子を、サイズの異
なる複数個のシングルゲートトランジスタ3,4を直列
接続したマルチゲートトランジスタで構成することによ
って、ソース・ドレイン間に印加される電位差を緩和す
ることができる。
As described above, by configuring the active element with a multi-gate transistor in which a plurality of single-gate transistors 3 and 4 having different sizes are connected in series, the potential difference applied between the source and the drain can be reduced. it can.

【0032】(9)また、本発明は、上記(2)乃至
(8)のいずれかにおいて、シングルゲートトランジス
タ3,4のサイズを、データバスライン1に近い側を大
きくしたことを特徴とする。
(9) The present invention is characterized in that in any one of the above (2) to (8), the size of the single gate transistors 3 and 4 is increased on the side closer to the data bus line 1. .

【0033】シングルゲートトランジスタ3,4のオフ
リーク電流は、サイズに依存するので、画素電極に接続
するシングルゲートトランジスタ4のサイズ、したがっ
て、チャネル幅は小さくする必要があり、また、データ
バスライン1側に接続するシングルゲートトランジスタ
3は、それより電流容量を大きくすることが必要になる
のでサイズを大きくする必要がある。
Since the off-leak current of the single-gate transistors 3 and 4 depends on the size, the size of the single-gate transistor 4 connected to the pixel electrode, that is, the channel width needs to be reduced. Needs to have a larger current capacity, so that the size of the single gate transistor 3 must be increased.

【0034】(10)また、本発明は、上記(2)乃至
(9)のいずれかにおいて、マルチゲートトランジスタ
を構成する複数のシングルゲートトランジスタ3,4の
チャネル領域を、ゲートバスライン2を複数回横切って
蛇行する単一の半導体層によって構成したことを特徴と
する。
(10) Further, according to the present invention, in any one of the above (2) to (9), the channel regions of the plurality of single-gate transistors 3 and 4 constituting the multi-gate transistor are divided into a plurality of gate bus lines 2. The semiconductor device is characterized by being constituted by a single semiconductor layer meandering crosswise.

【0035】この様な単一の半導体層によって複数のシ
ングルゲートトランジスタ3,4を構成することによっ
て、マルチゲートトランジスタの占有面積を小さくし
て、全体の構成を微細化することができる。
By forming a plurality of single-gate transistors 3 and 4 with such a single semiconductor layer, the area occupied by the multi-gate transistors can be reduced and the overall configuration can be miniaturized.

【0036】(11)また、本発明は、上記(2)乃至
(10)のいずれかにおいて、シングルゲートトランジ
スタ3,4同士を接続した節点の内の少なくとも一つ
に、素子保持容量5を接続すると共に、この素子保持容
量5の他端を所定の電位に接続したことを特徴とする。
(11) According to the present invention, in any one of the above (2) to (10), the element holding capacitor 5 is connected to at least one of the nodes connecting the single gate transistors 3 and 4 to each other. In addition, the other end of the element holding capacitor 5 is connected to a predetermined potential.

【0037】この様に、素子保持容量5を設けることに
より、ソース・ドレイン間に印加される電位差をより緩
和することができ、したがって、リーク電流が少なくな
り、表示劣化がより改善される。
As described above, by providing the element holding capacitor 5, the potential difference applied between the source and the drain can be further reduced, so that the leak current is reduced and the display deterioration is further improved.

【0038】(12)また、本発明、上記(11)にお
いて、素子保持容量5を構成する一方の電極をデータバ
スライン1と同層の導電層で構成すると共に、他方の電
極を補助容量電極で構成したことを特徴する。
(12) In the present invention, in the above (11), one electrode constituting the element holding capacitor 5 is formed of the same conductive layer as the data bus line 1 and the other electrode is an auxiliary capacitor electrode. It is characterized by comprising.

【0039】この様に、素子保持容量5を構成する他方
の電極を補助容量電極(Cs バスライン)で構成するこ
とにより、素子保持容量5が独自の光遮蔽部を構成しな
いので、開口率の高い、明るい液晶表示装置を実現する
ことができる。
[0039] Thus, by constituting the other electrode constituting the element holding capacitor 5 with an auxiliary capacitor electrode (C s bus line), since the element storage capacitor 5 does not constitute a unique light-shielding portion, the aperture ratio And a bright liquid crystal display device with high brightness can be realized.

【0040】(13)また、本発明は、上記(11)に
おいて、素子保持容量5を、所定のバイアスを与えたト
ランジスタのゲート容量によって構成したことを特徴と
する。
(13) The present invention is characterized in that, in the above (11), the element holding capacitor 5 is constituted by a gate capacitance of a transistor to which a predetermined bias is applied.

【0041】この様な素子保持容量5は、所定のバイア
スを与えたトランジスタのゲート容量によって構成して
も良いものである。
Such an element holding capacitor 5 may be constituted by a gate capacitance of a transistor to which a predetermined bias is applied.

【0042】(14)また、本発明は、上記(13)に
おいて、素子保持容量5を構成するトランジスタのゲー
ト電極を、補助容量電極で構成したことを特徴とする。
(14) The present invention is characterized in that, in the above (13), the gate electrode of the transistor constituting the element holding capacitor 5 is constituted by an auxiliary capacitance electrode.

【0043】この様に、素子保持容量5を構成するトラ
ンジスタのゲート電極を補助容量電極(Cs バスライ
ン)で構成することにより、素子保持容量5が独自の光
遮蔽部を構成しないので、開口率の高い、明るい液晶表
示装置を実現することができ、且つ、素子保持容量5を
形成するための独自の製造工程が不要になる。
[0043] Thus, by forming the gate electrode of the transistor included in the element storage capacitor 5 by the auxiliary capacitance electrode (C s bus line), since the element storage capacitor 5 does not constitute a unique light-shielding portion, the aperture A highly efficient and bright liquid crystal display device can be realized, and a unique manufacturing process for forming the element holding capacitor 5 is not required.

【0044】(15)また、本発明は、上記(1)乃至
(14)のいずれかにおいて、画素を駆動する駆動回路
の少なくとも一部を、アクティブ素子と一体に基板上に
集積化したことを特徴とする。
(15) Further, according to the present invention, in any one of the above (1) to (14), at least a part of the drive circuit for driving the pixel is integrated on the substrate integrally with the active element. Features.

【0045】画素を駆動する駆動回路を一体化したアク
ティブマトリクス型液晶表示装置においては、多結晶シ
リコンのキャリア移動度の低さを補うために駆動能力を
大きくする必要がある、即ち、オン電流を大きくする必
要があるが、オン電流を大きくするとオフ電流、即ち、
オフリーク電流も大きくなるので、本発明の構成は、駆
動回路一体型のアクティブマトリクス型液晶表示装置に
おいて特に効果的である。
In an active matrix type liquid crystal display device in which a driving circuit for driving a pixel is integrated, it is necessary to increase the driving capability in order to compensate for the low carrier mobility of polycrystalline silicon. Although it is necessary to increase the on-current, the off-current, that is,
The configuration of the present invention is particularly effective in an active matrix type liquid crystal display device integrated with a drive circuit, because the off-leak current also increases.

【0046】[0046]

【発明の実施の形態】本発明の第1の実施の形態を図2
及び図3を参照して説明する。なお、図2(a)は画素
の概略的平面構造を示す図であり、図2(b)は図2
(a)における一点鎖線に沿った素子保持容量近傍の断
面構造を示す図であり、また、図3(a)は図2(a)
におけるTFT部を拡大して示したもので、さらに、図
3(b)は、図2(a)に示す画素の等価回路を示す図
である。
FIG. 2 shows a first embodiment of the present invention.
This will be described with reference to FIG. FIG. 2A is a diagram showing a schematic planar structure of a pixel, and FIG.
FIG. 3A is a diagram showing a cross-sectional structure in the vicinity of the element holding capacitor along the alternate long and short dash line in FIG. 3A, and FIG.
3B is an enlarged view of the TFT section shown in FIG. 3, and FIG. 3B is a diagram showing an equivalent circuit of the pixel shown in FIG.

【0047】図2(a)及び(b)参照 まず、TFT基板となるガラス基板11上に、全面に多
結晶シリコン膜を堆積させ、パターニングすることによ
り蛇行する多結晶シリコン膜12を形成し、次いで、全
面にSiO2 膜等を設けてゲート絶縁膜13とする。
Referring to FIGS. 2A and 2B, a meandering polycrystalline silicon film 12 is formed on a glass substrate 11 serving as a TFT substrate by depositing and patterning a polycrystalline silicon film over the entire surface. Next, an SiO 2 film or the like is provided on the entire surface to form the gate insulating film 13.

【0048】次いで、Al等からなる導電層を堆積し、
パターニングすることによって多結晶シリコン膜12の
蛇行部を横切るようなゲートバスライン14を形成し、
次いで、SiO2 膜等からなる第1層間絶縁膜15を堆
積したのち、コンタクトホール16、19を形成し、次
いで、Al等からなる導電層を堆積してパターニングす
ることによってコンタクトホール16と接続するデータ
バスライン17、及び、コンタクトホール19と接続す
る素子保持容量電極18を形成する。
Next, a conductive layer made of Al or the like is deposited,
By patterning, a gate bus line 14 crossing the meandering portion of the polycrystalline silicon film 12 is formed,
Next, after depositing a first interlayer insulating film 15 made of a SiO 2 film or the like, contact holes 16 and 19 are formed, and then a conductive layer made of Al or the like is deposited and patterned to be connected to the contact hole 16. The data bus line 17 and the element holding capacitance electrode 18 connected to the contact hole 19 are formed.

【0049】次いで、SiO2 膜等からなる第2層間絶
縁膜20を堆積させたのち、Al等からなる導電膜を堆
積させ、パターニングすることによって補助容量を形成
するためのCs バスライン21を形成し、次いで、再
び、SiO2 膜等からなる第3層間絶縁膜22を堆積さ
せたのち、ITO等からなる透明導電膜を堆積させ、パ
ターニングすることによって画素電極23を形成して、
基本的な画素構成が完成する。
[0049] Next, after depositing a second interlayer insulating film 20 made of SiO 2 film or the like, is deposited a conductive film made of Al or the like, the C s bus line 21 for forming an auxiliary capacitor by patterning After the third interlayer insulating film 22 made of a SiO 2 film or the like is deposited again, a transparent conductive film made of ITO or the like is deposited and patterned to form the pixel electrode 23,
The basic pixel configuration is completed.

【0050】なお、この場合、画素マトリクスからなる
表示部の周辺には、データドライバ及び走査ドライバ等
の周辺回路も多結晶シリコン膜を利用したTFT等によ
って形成し、駆動回路一体型アクティブマトリクス型液
晶表示装置とする。
In this case, peripheral circuits such as a data driver and a scanning driver are also formed by TFTs using a polycrystalline silicon film around a display section composed of a pixel matrix. Display device.

【0051】図3(a)参照 図3(a)は、図2(a)における多結晶シリコン膜1
2を拡大して示したもので、破線の円で示す多結晶シリ
コン膜12がゲートバスライン14を横切る位置におい
て2つの直列接続した第1のTFT24と第2のTFT
25とが形成される。
Referring to FIG. 3A, FIG. 3A shows the polycrystalline silicon film 1 shown in FIG.
2 at a position where the polycrystalline silicon film 12 indicated by a dashed circle crosses the gate bus line 14, two series-connected first TFTs 24 and second TFTs.
25 are formed.

【0052】この場合には、ゲートバスラインの線幅を
一定にし、即ち、チャネル長Lを一定して、多結晶シリ
コン膜12の線幅を変えることによって、即ち、チャネ
ル幅W1 ,W2 を変えることによって、第1のTFT2
4と第2のTFT25の駆動能力に差を持たせる。
In this case, the line width of the gate bus line is made constant, that is, the channel length L is made constant, and the line width of the polysilicon film 12 is changed, that is, the channel widths W 1 and W 2 are changed. By changing the first TFT 2
The driving capability of the fourth TFT 25 is different from that of the second TFT 25.

【0053】この場合のTFTのオフリーク電流は、オ
ン電流、即ち、駆動能力に依存するので、チャネル幅W
2 のサイズの小さな第2のTFT25を画素電極に接続
することによって、画素電極からのリーク電流は少なく
なるので、保持電圧の実効電圧のズレは少なくなる。
In this case, the off-leakage current of the TFT depends on the on-state current, that is, the driving capability.
By connecting the second TFT 25 having a small size of 2 to the pixel electrode, the leak current from the pixel electrode is reduced, and the deviation of the effective voltage of the holding voltage is also reduced.

【0054】また、前段の第1のTFT24は、後段の
第2のTFT25より、当然駆動能力が大きいことが要
求されるので、チャネル長Lを一定とする場合には、第
1のTFT24のチャネル幅W1 と第2のTFT25の
チャネル幅W2 の比、W1 /W2 は(Ch +Ccell)/
cellの値により異なるが、実施の形態においては2/
1にしてある。
Also, the first TFT 24 in the former stage is naturally required to have a higher driving capability than the second TFT 25 in the latter stage. Therefore, when the channel length L is fixed, the channel of the first TFT 24 is width W 1 and the ratio of the channel width W 2 of the second TFT 25, W 1 / W 2 is (C h + C cell) /
Although it depends on the value of C cell , in the embodiment, 2 /
It is set to 1.

【0055】図3(b)参照 図3(b)は、図2(a)に示す画素の等価回路を示す
図であり、第1のTFT24と第2のTFT25が直列
接続されてマルチゲートトランジスタを構成し、このマ
ルチゲートトランジスタがアクティブ素子として画素容
量27をスイッチングすると共に、第1のTFT24と
第2のTFT25の節点に素子保持容量電極18とCs
バスライン21とから形成される素子保持容量26が接
続され、このCs バスライン21はVcom 等の所定の電
位Vbiasが印加される。
FIG. 3 (b) is a diagram showing an equivalent circuit of the pixel shown in FIG. 2 (a). A first TFT 24 and a second TFT 25 are connected in series to form a multi-gate transistor. The multi-gate transistor switches the pixel capacitance 27 as an active element, and the element holding capacitance electrode 18 and C s are connected to the nodes of the first TFT 24 and the second TFT 25.
Element holding capacitor 26 formed from the bus line 21. is connected to the C s bus line 21 a predetermined potential V bias, such as V com is applied.

【0056】この場合、画素容量27に電荷が蓄積され
る際に、素子保持容量26にも電荷が蓄積されるので、
走査信号がオフの時に、第2のTFT25のソース・ド
レイン間に逆電圧が殆ど印加されず、オフリーク電流は
殆ど流れなくなり、表示の劣化を防止することができ
る。
In this case, when the electric charge is accumulated in the pixel capacitance 27, the electric charge is also accumulated in the element holding capacitance 26.
When the scanning signal is off, almost no reverse voltage is applied between the source and the drain of the second TFT 25, and almost no off-leak current flows, thereby preventing display degradation.

【0057】また、画素容量27からの充放電電流i
cellと素子保持容量26からの充放電電流ih は駆動能
力の大きな第1のTFT24を介して流れるので、第2
のTFT25のサイズを小さくしても画素の駆動能力に
問題は生じない。
The charge / discharge current i from the pixel capacitor 27
Since the charge / discharge current i h from the cell and the element holding capacitor 26 flows through the first TFT 24 having a large driving ability, the second charge / discharge current i h
Even if the size of the TFT 25 is reduced, no problem occurs in the driving capability of the pixel.

【0058】この場合の素子保持容量26の容量C
h は、第2のTFT25のオフリークを抑制する程度の
大きさであれば良く、画素容量27の容量Ccellの0.
1〜1.0倍の容量であれば良く、実施の形態において
は、0.3倍にしてある。
The capacitance C of the element holding capacitor 26 in this case is
h may be any size of about suppressing off leak of the second TFT 25, 0 of the capacitance C cell of the pixel capacitor 27.
The capacity may be 1 to 1.0 times, and in the embodiment, it is 0.3 times.

【0059】また、この場合の補助容量Cs は、第3層
間絶縁膜22を介したCs バスライン21と画素電極2
3との重なりで構成され、且つ、素子保持容量26もC
s バスライン21との重なりで形成されるので、素子保
持容量26を形成するスペースが独自の遮光部を形成し
ないので、従来と同様に、開口率の高い、明るい液晶表
示装置を実現することができる。
[0059] The auxiliary capacitance C s in this case, C s bus line 21 and the pixel electrode 2 through the third interlayer insulating film 22
3 and the element holding capacitor 26 is also C
Since the s bus line 21 is formed so as to overlap with the s bus line 21, the space for forming the element holding capacitor 26 does not form a unique light-shielding portion. it can.

【0060】この様に、本発明の第1の実施の形態にお
いては、アクティブ素子をサイズの異なるシングルゲー
トのTFTを直列接続させたマルチゲートトランジスタ
を用い、且つ、素子保持容量を接続しているので、オフ
リーク電流を少なくすることができる。
As described above, in the first embodiment of the present invention, a multi-gate transistor in which single-gate TFTs having different sizes are connected in series is used as an active element, and an element holding capacitor is connected. Therefore, the off-leak current can be reduced.

【0061】また、マルチゲートトランジスタを、ゲー
トバスライン14を複数回横断して蛇行する単一の多結
晶シリコン膜12で構成しているので、アクティブ素子
を設けるためのスペースを少なくすることができ、マル
チゲートトランジスタを用いても、集積度を低下させる
ことはない。
Further, since the multi-gate transistor is formed of a single polycrystalline silicon film 12 meandering across the gate bus line 14 a plurality of times, the space for providing an active element can be reduced. Even if a multi-gate transistor is used, the degree of integration is not reduced.

【0062】次に、図4及び図5を参照して本発明の第
2の実施の形態を説明する。なお、図4(a)は画素の
概略的平面構造を示す図であり、図4(b)は図4
(a)における一点鎖線に沿った素子保持容量近傍の断
面構造を示す図であり、また、図5(a)は図4(a)
におけるTFT部を拡大して示したもので、さらに、図
5(b)は、図4(a)に示す画素の等価回路を示す図
である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 4A is a diagram showing a schematic planar structure of a pixel, and FIG.
FIG. 5A is a diagram showing a cross-sectional structure near the element holding capacitor along the alternate long and short dash line in FIG. 5A, and FIG.
5B is an enlarged view of the TFT section in FIG. 5, and FIG. 5B is a diagram showing an equivalent circuit of the pixel shown in FIG.

【0063】図4(a)及び(b)参照 まず、上記の第1の実施の形態と同様に、TFT基板と
なるガラス基板11上に、全面に多結晶シリコン膜を堆
積させ、パターニングすることにより蛇行する多結晶シ
リコン膜12を形成し、次いで、全面にSiO2 膜等を
設けてゲート絶縁膜13とする。
Referring to FIGS. 4A and 4B, a polycrystalline silicon film is deposited on the entire surface of a glass substrate 11 serving as a TFT substrate and patterned in the same manner as in the first embodiment. To form a meandering polycrystalline silicon film 12, and then provide an SiO 2 film or the like on the entire surface to form a gate insulating film 13.

【0064】次いで、Al等からなる導電層を堆積し、
パターニングすることによって多結晶シリコン膜12の
蛇行部を横切るようなゲートバスライン14と、ゲート
バスライン14と平行で、且つ、多結晶シリコン膜12
の一部を覆うようにCs バスライン28を形成し、次い
で、SiO2 膜等からなる第1層間絶縁膜15を堆積し
たのち、コンタクトホール16を形成し、次いで、Al
等からなる導電層を堆積してパターニングすることによ
ってコンタクトホール16と接続するデータバスライン
17を形成する。
Next, a conductive layer made of Al or the like is deposited,
A gate bus line 14 that crosses the meandering portion of the polycrystalline silicon film 12 by patterning;
The C s bus line 28 so as to partially cover is formed of, then, after the deposition of the first interlayer insulating film 15 made of SiO 2 film or the like, to form a contact hole 16, and then, Al
A data bus line 17 connected to the contact hole 16 is formed by depositing and patterning a conductive layer made of the same.

【0065】次いで、SiO2 膜等からなる第2層間絶
縁膜20を堆積させたのち、ITO等からなる透明導電
膜を堆積させ、パターニングすることによって画素電極
23を形成して、基本的な画素構成が完成する。
Next, after depositing a second interlayer insulating film 20 made of an SiO 2 film or the like, a transparent conductive film made of ITO or the like is deposited and patterned to form a pixel electrode 23, thereby forming a basic pixel electrode. The configuration is completed.

【0066】なお、この場合も、画素マトリクスからな
る表示部の周辺には、データドライバ及び走査ドライバ
等の周辺回路も多結晶シリコン膜を利用したTFT等に
よって形成し、駆動回路一体型アクティブマトリクス型
液晶表示装置とする。
Also in this case, peripheral circuits such as a data driver and a scanning driver are also formed by TFTs using a polycrystalline silicon film around a display section composed of a pixel matrix, so that a driving circuit integrated type active matrix type It is a liquid crystal display device.

【0067】図5(a)参照 図5(a)は、図5(a)における多結晶シリコン膜1
2を拡大して示したもので、破線の円で示す多結晶シリ
コン膜12がゲートバスライン14を横切る位置におい
て2つの直列接続した第1のTFT24と第2のTFT
25とが形成されると共に、多結晶シリコン膜12とC
s バスライン28との重なり部において第3のTFT2
9が形成される。
Referring to FIG. 5A, FIG. 5A shows the polycrystalline silicon film 1 shown in FIG.
2 at a position where the polycrystalline silicon film 12 indicated by a dashed circle crosses the gate bus line 14, two series-connected first TFTs 24 and second TFTs.
25, and the polycrystalline silicon film 12 and C
In the overlapping portion with the s bus line 28, the third TFT 2
9 is formed.

【0068】この場合も、ゲートバスラインの線幅を一
定にし、多結晶シリコン膜12の線幅を変えることによ
って、第1のTFT24と第2のTFT25の駆動能力
に差を持たせるものであり、第1のTFT24のチャネ
ル幅W1 と第2のTFT25のチャネル幅W2 の比、W
1 /W2 は、第3のFET29のゲート容量をChtとす
ると、(Cht+Ccell)/Ccellの値により異なるが、
例えば2/1とし、チャネル幅W2 のサイズの小さな第
2のTFT25を画素電極に接続することによって、画
素電極からのリーク電流は少なくなるので、保持電圧の
実効電圧のズレは少なくなる。
Also in this case, the line width of the gate bus line is made constant and the line width of the polycrystalline silicon film 12 is changed, so that the driving capability of the first TFT 24 and that of the second TFT 25 are made different. , the channel width W 1 of the first TFT24 second TFT25 ratio of the channel width W 2 of, W
1 / W 2 depends on the value of (C ht + C cell ) / C cell , where C ht is the gate capacitance of the third FET 29.
For example, a 2/1, by connecting the small second TFT25 size of the channel width W 2 to the pixel electrode, the leakage current is reduced from the pixel electrodes, displacement of the effective voltage of the holding voltage is reduced.

【0069】図5(b)参照 図5(b)は、図4(a)に示す画素の等価回路を示す
図であり、第1のTFT24と第2のTFT25が直列
接続されてマルチゲートトランジスタを構成し、このマ
ルチゲートトランジスタがアクティブ素子として画素容
量27をスイッチングすると共に、第1のTFT24と
第2のTFT25との間にはCs バスライン28をゲー
ト電極とする第3のTFT29が形成され、このCs
スライン28にはVcom 等の所定の電位Vbiasが印加さ
れる。
FIG. 5 (b) is a diagram showing an equivalent circuit of the pixel shown in FIG. 4 (a). A first TFT 24 and a second TFT 25 are connected in series to form a multi-gate transistor. configure, together with the multi-gate transistor for switching the pixel capacitor 27 as an active element, a first TFT24 between the second TFT25 the third TFT29 to the gate electrode of the C s bus lines 28 formed the predetermined potential V bias, such as V com is applied to the C s bus line 28.

【0070】この場合、第3のTFT29のゲート容量
を素子保持容量として用いることにより、第1の実施の
形態と同様に、走査信号がオフの時に、第2のTFT2
5のソース・ドレイン間に逆電圧が殆ど印加されず、オ
フリーク電流は殆ど流れなくなり、表示の劣化を防止す
ることができる。
In this case, by using the gate capacitance of the third TFT 29 as an element holding capacitance, as in the first embodiment, when the scanning signal is off, the second TFT 2
5, a reverse voltage is hardly applied between the source and the drain, and almost no off-leak current flows, so that deterioration of display can be prevented.

【0071】この場合の第3のTFT29のゲート容量
は、第2のTFT25のオフリークを抑制する程度の大
きさであれば良く、画素容量27の容量Ccellの0.1
〜1.0倍の容量であれば良く、実施の形態において
は、0.3倍にしてある。
In this case, the gate capacitance of the third TFT 29 may be large enough to suppress the off-leakage of the second TFT 25, and is 0.1% of the capacitance C cell of the pixel capacitance 27.
The capacity may be up to 1.0 times, and in the embodiment, it is 0.3 times.

【0072】また、この場合の補助容量Cs は、第1層
間絶縁膜15及び第2層間絶縁膜20を介したCs バス
ライン28と画素電極23との重なりで構成され、且
つ、第3のTFT29もCs バスライン28を利用して
いるので、第3のTFT29を形成するスペースが独自
の遮光部を形成しないので、従来と同様に、開口率の高
い、明るい液晶表示装置を実現することができる。
In this case, the storage capacitor C s is constituted by the overlap of the C s bus line 28 and the pixel electrode 23 via the first interlayer insulating film 15 and the second interlayer insulating film 20 and the third capacitor C s . since TFT29 also utilizes C s bus line 28, since the space for forming the third TFT29 do not form their own light-shielding portion, in a conventional manner with high aperture ratio, to realize a bright liquid crystal display device be able to.

【0073】また、この第2の実施の形態においては、
従来と同様に、ゲートバスライン14の形成工程を利用
してCs バスライン28を形成しているので、素子保持
容量を形成するための独自の工程を不要となり、第1の
実施の形態よりも製造工程が簡素化される。
In the second embodiment,
As with conventional, since the form C s bus line 28 by utilizing the process of forming the gate bus line 14, becomes unnecessary a unique process for forming an element holding capacity than the first embodiment Also, the manufacturing process is simplified.

【0074】この様に、本発明の第2の実施の形態にお
いても、アクティブ素子をサイズの異なるシングルゲー
トのTFTを直列接続させたマルチゲートトランジスタ
を用い、且つ、第3のTFTのゲート容量を利用した素
子保持容量を接続しているので、オフリーク電流を少な
くすることができる。
As described above, also in the second embodiment of the present invention, the active element uses a multi-gate transistor in which single-gate TFTs having different sizes are connected in series, and the gate capacitance of the third TFT is reduced. Since the used element holding capacitor is connected, the off-leak current can be reduced.

【0075】次に、図6乃至図8を参照して、フレーム
周波数fd を高めることによってオフリーク電流を抑制
する、本発明の第3の実施の形態を説明する。 図6参照 図6は、本発明の第3の実施の形態のアクティブマトリ
クス型液晶表示装置の概略的構成を示す図であり、パソ
コン等からなる画像発生手段31、画像発生手段31か
らの同期信号Sync0 と入力画像データDA0 とを所
定のタイミングで書込、且つ、所定のタイミングで読み
出す高速のメモリ素子等で構成されたバッファメモリ手
段32、バッファメモリ手段32に書き込まれた入力画
像データの読出タイミング等を指示する同期信号を発生
する同期信号発生手段33、バッファメモリ手段32か
らの読出画像データのタイミングを調整するラッチ手段
34、及び、表示画像データDAd 及び同期信号Syn
d にしたがって表示を行なう駆動回路一体型液晶表示
装置35から構成される。
Next, with reference to FIGS suppress leak current by increasing the frame frequency f d, illustrating a third embodiment of the present invention. FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of an active matrix type liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention, in which an image generating means 31 comprising a personal computer or the like, and a synchronization signal from the image generating means 31 are shown. Sync 0 and input image data DA 0 are written at a predetermined timing, and read at a predetermined timing. Buffer memory means 32 composed of a high-speed memory element or the like, and input image data written in buffer memory means 32 synchronizing signal generating means 33 for generating a synchronization signal indicating the read timing, etc., the latch means 34 to adjust the timing of the read-out image data from the buffer memory means 32, and the display image data DA d and synchronization signals Syn
accordance c d performs display and a drive circuit-integrated liquid crystal display device 35.

【0076】図7参照 図7は、図6に示したアクティブマトリクス型液晶表示
装置の駆動方法を示す図であり、まず、画像発生手段3
1からの同期信号の内の水平同期信号Hsyncによってド
ットクロック信号DCLK を発生させ、このドットクロッ
ク信号DCLK の前半を書込期間Rとし、後半を読出期間
Wとして、R/Wのタイミングを設定する。
FIG. 7 is a diagram showing a driving method of the active matrix type liquid crystal display device shown in FIG.
The dot clock signal DCLK is generated by the horizontal synchronizing signal Hsync among the synchronizing signals from 1 and the first half of the dot clock signal DCLK is a writing period R, and the latter half is a reading period W, and the timing of R / W Set.

【0077】このドットクロック信号DCLK の書込期間
Wに基づいて書込制御信号WCNTLを発生させ、この書込
制御信号WCNTLによって、フレーム周波数f0 =60H
zで送られてきた入力画像データDA0 を書込画像デー
タWDATAとしてバッファメモリ手段32に書き込む。な
お、この場合の書込画像データWDATAは、入力画像デー
タDA0 の全部、或いは、1フレーム分等の一部を蓄積
するものである。
A write control signal W CNTL is generated based on the write period W of the dot clock signal D CLK , and the frame frequency f 0 = 60H is generated by the write control signal W CNTL .
write to the buffer memory unit 32 the input image data DA 0 sent by z as write image data W DATA. Note that the write image data W DATA in this case accumulates all of the input image data DA 0 or a part of one frame or the like.

【0078】そして、同期信号発生手段33からの同期
信号に基づいて、ドットクロック信号DCLK の読出期間
Rに2回読出動作を行なうための読出制御信号RCNTL
発生させ、この読出制御信号RCNTLによって一時蓄積し
た書込画像データWDATAを2倍の周波数で読み出し、読
出画像データRDATAを形成する。
[0078] Then, based on the synchronizing signal from the synchronizing signal generating means 33, the dot clock signal D to the reading period R of CLK to generate a read control signal R CNTL for performing read twice out operation, the read control signal R the written image data W dATA transiently accumulated by CNTL read at twice the frequency, to form a read image data R dATA.

【0079】次いで、ラッチ手段34において、同期信
号発生手段33からの第1の同期信号LCK1 に同期し
て、読出画像データRDATAをラッチ画像データLDATA1
に変換したのち、第2の同期信号LCK2 に基づいて、ド
ットデータを等間隔にした表示データDAd を形成し、
駆動回路一体型液晶表示装置35に入力する。
[0079] Then, in the latch means 34, the synchronization signal in synchronization with the first synchronizing signal L CK1 from the generation means 33, the read-out image data R DATA latched image data L DATA1
After conversion into, based on the second synchronization signal L CK2, to form a display data DA d in which the dot data at regular intervals,
The data is input to the driving circuit integrated type liquid crystal display device 35.

【0080】図8参照 図8は、図7の結果得られた表示データDAd によって
液晶表示装置を駆動した場合の駆動波形を示す図であ
り、この場合、DFに示しているように、1フレーム周
期fd が120Hz(8.3ms)と、従来の60Hz
の2倍になったのに伴って、2フレーム単位でフレーム
反転させる、即ち、4フレーム周期で交流化している。
[0080] Figure 8 reference 8 is a diagram showing driving waveforms when driving the liquid crystal display device by the display data DA d obtained as a result of FIG. 7, in this case, it is shown in DF, 1 frame period f d is the 120 Hz (8.3 ms), conventional 60Hz
Is doubled, the frame is inverted in units of two frames, that is, alternating is performed in a cycle of four frames.

【0081】この場合のゲートバスライン及びドレイン
バスラインに印加する電圧は基本的には従来と同じであ
り、各ゲートバスラインには順次タイミングがずれるよ
うに走査信号Vg1・・・Vgnが印加され、この走査信号
g1・・・Vgnに同期して、各ドレインバスラインに印
加される画像データ信号Vdmから、各画素に印加される
画素電圧Vc1m ・・・Vcnm が形成される。なお、この
場合は、ノーマリホワイトモードにおける黒表示の場合
を示している。
[0081] Voltage applied to the gate bus line and the drain bus line in this case is basically the same as the conventional, the scanning signal V g1 ··· V gn to sequentially timing deviates to each gate bus line is applied, in synchronization with the scanning signal V g1 ··· V gn, from the image data signal V dm applied to each drain bus lines, the pixel voltage V c1m ··· V cnm applied to each pixel formation Is done. Note that this case shows a case of black display in the normally white mode.

【0082】この第3実施の形態においては、2フレー
ム単位でフレーム反転させているので、極性変更フレー
ムの頻度低下し、即ち、1フレーム分は逆バイアスが印
加されないので、オフリーク電流に起因する保持電圧の
実効電圧のずれΔVが従来よりも大幅に小さくなる。
In the third embodiment, since the frame is inverted every two frames, the frequency of the polarity change frame is reduced. That is, since the reverse bias is not applied for one frame, the holding due to the off-leak current is maintained. The deviation ΔV of the effective voltage is much smaller than in the prior art.

【0083】また、フレーム周波数fd を従来の2倍に
しているので、逆バイアスが印加される時間自体、即
ち、リークする時間そのものが短くなるので、オフリー
ク電流が少なくなり、それに伴って保持電圧の実効電圧
のずれΔVが従来よりも大幅に小さくなる。
[0083] Also, since the frame frequency f d to the conventional two-fold, the time itself reverse bias is applied, ie, the time itself which leaks is reduced, the off-leakage current is reduced, the holding voltage with it Of the effective voltage becomes significantly smaller than in the prior art.

【0084】なお、上記の実施の形態における交流化反
転周期Nは4、即ち、4フレーム周期交流化であり、N
=4が表示輝度の周期的フラツキを感じないので最適で
あるが、N=4に限られるものではなく、従来のN=2
より大きな、N>2であれば良い。
Note that the AC inversion cycle N in the above embodiment is 4, that is, 4 frames cycle AC.
= 4 is optimal because it does not feel the periodic fluctuation of the display luminance, but is not limited to N = 4.
It is sufficient if N> 2, which is larger.

【0085】また、フレーム周波数fd としては、従来
の入力画像データDA0 のフレーム周波数f0 の2倍の
120Hzを採用しているが、120Hzに限られるも
のではなく、60Hz以上であれば良く、特に、100
〜150Hzの範囲が好適である。
As the frame frequency f d , 120 Hz which is twice the conventional frame frequency f 0 of the input image data DA 0 is employed, but the frame frequency is not limited to 120 Hz and may be 60 Hz or more. , Especially 100
A range of up to 150 Hz is preferred.

【0086】このフレーム周波数fd は、Ioff をアク
ティブ素子のオフ電流、ΔVp を画素電圧ズレの仕様
値、及び、Cを総画素容量とした場合、 fd ≧Ioff /(ΔVp ×C) の関係に基づいて決定する。
When the frame frequency f d is I off is the off current of the active element, ΔV p is the specification value of the pixel voltage deviation, and C is the total pixel capacitance, f d ≧ I off / (ΔV p × C) It is determined based on the relationship.

【0087】これは、一般に、画素電圧ズレの仕様値Δ
p 、即ち、許容値は、表示装置の用途によって異な
り、高階調度の表示を得るためにはΔVp は小さくなる
ためであり、フレーム周波数fd を、 fd ≧Ioff
(ΔVp ×C)の関係に基づいて決定することによっ
て、用途に応じた高品質で表示劣化のない液晶表示装置
が得られる。
This generally corresponds to the specification value Δ of the pixel voltage deviation.
V p , that is, the allowable value differs depending on the use of the display device. This is because ΔV p becomes small in order to obtain a high-gradation display, and the frame frequency f d is changed to f d ≧ I off /
By determining based on the relationship of (ΔV p × C), a high-quality liquid crystal display device with no display deterioration according to the application can be obtained.

【0088】なお、総画素容量Cは、マルチゲートトラ
ンジスタを用いない場合には、画素容量、即ち、Ccell
となり、上記第1または第2の実施の形態のように素子
保持容量を設けたマルチゲートトランジスタを用いた場
合には、素子保持容量と画素容量との和、即ち、Ch
cellとなる。
When the multi-gate transistor is not used, the total pixel capacitance C is the pixel capacitance, that is, C cell
When a multi-gate transistor provided with an element holding capacitor as in the first or second embodiment is used, the sum of the element holding capacity and the pixel capacity, that is, Ch +
C cell .

【0089】また、この第3の実施の形態はアクティブ
素子の構造とは無関係に成立するものであるが、上記第
1または第2の実施の形態と組み合わせて適用すること
によって、オフリーク電流を更に少なくすることができ
る。
Although the third embodiment is established irrespective of the structure of the active element, the off-leak current can be further reduced by applying the third embodiment in combination with the first or second embodiment. Can be reduced.

【0090】また、上記第1及び第2の実施の形態の説
明においては、マルチゲートトランジスタを2個シング
ルゲートトランジスタを直列接続して構成しているもの
の、2個以上のシングルゲートトランジスタを直列接続
して構成しても良いものである。
In the description of the first and second embodiments, two multi-gate transistors are configured by connecting two single-gate transistors in series. However, two or more single-gate transistors are connected in series. The configuration may be made as follows.

【0091】また、各シングルゲートトランジスタは、
多結晶シリコン膜を蛇行するように形成し、その蛇行部
のゲートバスラインと重なる部分をチャネル領域として
いるが、必ずしもこの様な形態に限られるものではな
く、従来のTFTを2個並べた形で形成しても良い。
Each single gate transistor has
The polycrystalline silicon film is formed in a meandering manner, and the portion overlapping the gate bus line in the meandering portion is used as a channel region. However, the present invention is not necessarily limited to such a form. May be formed.

【0092】さらに、素子保持容量は、Cs バスライン
を利用する必要は必ずしもなく、別個に、ゲートバスラ
イン、或いは、Cs バスラインと同層の導電膜で構成し
ても良いものである。
[0092] Further, the element storage capacitor does not necessarily need to use the C s bus lines, independently, the gate bus line, or those may be configured by a conductive film of C s bus lines in the same layer .

【0093】また、上記各実施の形態の説明において
は、駆動回路一体型液晶表示装置で説明しているが、こ
れは、駆動回路一体型の場合には、駆動回路を構成する
多結晶シリコンTFTの低移動度を補償するために、オ
ン電流が大きくなるように構成しているが、それによっ
てオフリーク電流も必然的に大きくなり、オフリーク電
流に伴う表示の劣化が顕著になるためであるが、本発明
は、駆動回路一体型液晶表示装置に限られるものではな
く、アモルファスシリコンTFTをアクティブ素子とし
て用いた駆動回路別体型の液晶表示装置も対象とするも
のである。
In each of the embodiments described above, the liquid crystal display device integrated with a driving circuit is described. However, in the case of the integrated driving circuit type, the polycrystalline silicon TFT forming the driving circuit is used. In order to compensate for the low mobility of the above, the on-current is configured to be large, but this also inevitably increases the off-leak current, and the deterioration of the display due to the off-leak current becomes remarkable. The present invention is not limited to a liquid crystal display device integrated with a drive circuit, but also applies to a liquid crystal display device of a separate drive circuit type using an amorphous silicon TFT as an active element.

【0094】[0094]

【発明の効果】本発明によれば、アクティブ素子をサイ
ズの異なるシングルゲートトランジスタを直列接続した
マルチゲートトランジスタで構成することにより、リー
ク電流を少なくすることができ、また、駆動形態として
は、交流化反転周期Nを2より大きくし、また、フレー
ム周波数fd を60Hzより大きくすることによって、
リーク電流を少なくすることができ、表示劣化の少ない
高表示品質の液晶表示装置を実現することができる。
According to the present invention, the active element is constituted by a multi-gate transistor in which single-gate transistors having different sizes are connected in series, so that the leak current can be reduced. By making the inversion period N greater than 2 and the frame frequency f d greater than 60 Hz,
A leak current can be reduced, and a liquid crystal display device of high display quality with little display degradation can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の原理的構成の説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a basic configuration of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施の形態の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施の形態の等価回路の説明図
である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of an equivalent circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施の形態の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施の形態の等価回路の説明図
である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of an equivalent circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3の実施の形態の概略的構成の説明
図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of a schematic configuration of a third embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3の実施の形態の駆動方法の説明図
である。
FIG. 7 is an explanatory diagram of a driving method according to a third embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第3の実施の形態における駆動波形の
説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram of driving waveforms according to a third embodiment of the present invention.

【図9】従来のアクティブマトリクス型液晶表示装置の
説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram of a conventional active matrix type liquid crystal display device.

【図10】従来のアクティブマトリクス型液晶表示装置
における駆動波形の説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram of driving waveforms in a conventional active matrix type liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 データバスライン 2 ゲートバスライン 3 シングルゲートトランジスタ 4 シングルゲートトランジスタ 5 素子保持容量 6 画素容量 11 ガラス基板 12 多結晶シリコン膜 13 ゲート絶縁膜 14 ゲートバスライン 15 第1層間絶縁膜 16 コンタクトホール 17 データバスライン 18 素子保持容量電極 19 コンタクトホール 20 第2層間絶縁膜 21 Cs バスライン 22 第3層間絶縁膜 23 画素電極 24 第1のTFT 25 第2のTFT 26 素子保持容量 27 画素容量 28 Cs バスライン 29 第3のTFT 31 画素発生手段 32 バッファメモリ手段 33 同期信号発生手段 34 ラッチ手段 35 駆動回路一体型液晶表示装置 41 ゲートバスライン 42 データバスライン 43 画素DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Data bus line 2 Gate bus line 3 Single gate transistor 4 Single gate transistor 5 Element holding capacity 6 Pixel capacity 11 Glass substrate 12 Polycrystalline silicon film 13 Gate insulating film 14 Gate bus line 15 First interlayer insulating film 16 Contact hole 17 Data bus line 18 element storage capacitor electrodes 19 contact hole 20 second interlayer insulating film 21 C s bus line 22 third interlayer insulating film 23 pixel electrode 24 first TFT 25 second TFT 26 element holding capacitor 27 pixel capacitor 28 C s Bus line 29 Third TFT 31 Pixel generating means 32 Buffer memory means 33 Synchronous signal generating means 34 Latch means 35 Drive circuit integrated liquid crystal display device 41 Gate bus line 42 Data bus line 43 Pixel

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 彰 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 中澤 光晴 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Akira Yamamoto 4-1-1 Uedanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Mitsuharu Nakazawa 4-1-1 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture No. 1 Inside Fujitsu Limited

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フレーム周期Nを、N>2で交流化反転
すると共に、フレーム周波数fd を、fd >60Hzと
したことを特徴とする液晶表示装置。
1. A liquid crystal display device in which a frame period N is AC-inverted when N> 2, and a frame frequency f d is f d > 60 Hz.
【請求項2】 上記液晶表示装置の画素をスイッチング
するアクティブ素子を、1種類以上のサイズのシングル
ゲートトランジスタを複数個直列接続したマルチゲート
トランジスタで構成したことを特徴とする請求項1記載
の液晶表示装置。
2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the active element for switching pixels of the liquid crystal display device is constituted by a multi-gate transistor in which a plurality of single-gate transistors of one or more types are connected in series. Display device.
【請求項3】 上記液晶表示装置に、入力画像データの
少なくとも一部を蓄積すると共に、入力画像データと同
じ速度或いは異なる速度で表示データを出力するバッフ
ァメモリを設けたことを特徴とする請求項1または2記
載の液晶表示装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a buffer memory for storing at least a part of the input image data and outputting the display data at the same speed as or a different speed from the input image data. 3. The liquid crystal display device according to 1 or 2.
【請求項4】 上記フレーム周期Nを、N=4としたこ
とを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の
液晶表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the frame period N is set to N = 4.
【請求項5】 上記フレーム周波数fd を、Ioff をア
クティブ素子のオフ電流、ΔVp を画素電圧ズレの仕様
値、及び、Cを総画素容量とした場合、 fd ≧Ioff /(ΔVp ×C) としたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項
に記載の液晶表示装置。
5. When the frame frequency f d is I off is the off current of the active element, ΔV p is a specification value of a pixel voltage deviation, and C is a total pixel capacitance, f d ≧ I off / (ΔV The liquid crystal display device according to claim 1, wherein p × C).
【請求項6】 上記フレーム周波数fd を、100Hz
≦fd ≦150Hzとしたことを特徴とする請求項1乃
至4のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
6. The frame frequency f d is set to 100 Hz.
5. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein ≦ f d ≦ 150 Hz. 6.
【請求項7】 上記フレーム周波数fd を、入力画像デ
ータのフレーム周波数の2倍に設定したことを特徴とす
る請求項1乃至4のいずれか1項に記載の液晶表示装
置。
7. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the frame frequency f d is set to twice the frame frequency of the input image data.
【請求項8】 画素をスイッチングするアクティブ素子
を、サイズの異なる複数個のシングルゲートトランジス
タを直列接続したマルチゲートトランジスタで構成した
ことを特徴とする液晶表示装置。
8. A liquid crystal display device wherein an active element for switching a pixel is constituted by a multi-gate transistor in which a plurality of single-gate transistors having different sizes are connected in series.
【請求項9】 上記シングルゲートトランジスタのサイ
ズを、データバスラインに近い側をより大きくしたこと
を特徴とする請求項2乃至8のいずれか1項に記載の液
晶表示装置。
9. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the size of the single gate transistor is larger on the side closer to the data bus line.
【請求項10】 上記マルチゲートトランジスタを構成
する複数のシングルゲートトランジスタのチャネル領域
を、ゲートバスラインを複数回横切って蛇行する単一の
半導体層によって構成したことを特徴とする請求項2乃
至9のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
10. The multi-gate transistor according to claim 2, wherein the channel region of each of the plurality of single-gate transistors comprises a single semiconductor layer meandering across the gate bus line a plurality of times. The liquid crystal display device according to any one of the above.
【請求項11】 上記シングルゲートトランジスタ同士
を接続した節点の内の少なくとも一つに、素子保持容量
を接続すると共に、前記素子保持容量の他端を所定の電
位に接続したことを特徴とする請求項2乃至10のいず
れか1項に記載の液晶表示装置。
11. An element holding capacitor is connected to at least one of the nodes connecting the single-gate transistors, and the other end of the element holding capacitor is connected to a predetermined potential. Item 11. The liquid crystal display device according to any one of items 2 to 10.
【請求項12】 上記素子保持容量を構成する一方の電
極をデータバスラインと同層の導電層で構成すると共
に、他方の電極を補助容量電極で構成したことを特徴す
る請求項11記載の液晶表示装置。
12. The liquid crystal according to claim 11, wherein one of the electrodes forming the element holding capacitor is formed of the same conductive layer as the data bus line, and the other electrode is formed of an auxiliary capacitor electrode. Display device.
【請求項13】 上記素子保持容量を、所定のバイアス
を与えたトランジスタのゲート容量によって構成したこ
とを特徴とする請求項11記載の液晶表示装置。
13. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein said element holding capacitance is constituted by a gate capacitance of a transistor to which a predetermined bias is applied.
【請求項14】 上記素子保持容量を構成するトランジ
スタのゲート電極を、補助容量電極で構成したことを特
徴とする請求項13記載の液晶表示装置。
14. The liquid crystal display device according to claim 13, wherein a gate electrode of the transistor forming the element holding capacitor is formed by an auxiliary capacitor electrode.
【請求項15】 上記液晶表示装置の画素を駆動する駆
動回路の少なくとも一部を、前記画素をスイッチングす
るアクティブ素子と一体に基板上に集積化したことを特
徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の液晶
表示装置。
15. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein at least a part of a driving circuit for driving a pixel of the liquid crystal display device is integrated on a substrate together with an active element for switching the pixel. 2. The liquid crystal display device according to claim 1.
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