JPH10104614A - Formation of high polymer liquid crystal film - Google Patents

Formation of high polymer liquid crystal film

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JPH10104614A
JPH10104614A JP8281349A JP28134996A JPH10104614A JP H10104614 A JPH10104614 A JP H10104614A JP 8281349 A JP8281349 A JP 8281349A JP 28134996 A JP28134996 A JP 28134996A JP H10104614 A JPH10104614 A JP H10104614A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
polymer liquid
coating material
coating
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Application number
JP8281349A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideo Kataoka
秀雄 片岡
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH10104614A publication Critical patent/JPH10104614A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To stably form a uniaxial optical film having high quality by uniformly forming high-polymer liquid crystals. SOLUTION: A coating material having a desired viscosity is first prepd. by executing a compounding stage and dissolving the high-polymer liquid crystal having a prescribed phase transition point in a solvent. An orientation stage is next executed to orient the surface of a substrate 1 along a prescribed orientation direction. In succession, a coating stage is executed. The coating material 2 is deposited on a wire bar 4 wound with a fine wire 4b on a rotatable core bar 4a and this wire bar 4 is relatively moved in the state of bringing the bar into contact with the surface of the substrate 1 while the bar is rotated, by which the coating material 2 is applied on the surface of the substrate 1. A drying stage is thereafter, executed and the solvent is removed from the coating material 2 applied on the substrate is removed to form the thin film of the high-polymer liquid crystals 2a having a uniform thickness. Finally, an alignment stage is executed and the thin-film is heat treated once to the phase transition point or above and is then cooled down to the temp. below the phase transition point, by which the high-polymer liquid crystals 2a are aligned in the orientation direction and the uniaxial optical film 3 is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は高分子液晶成膜方法
に関する。より詳しくは高分子液晶を一軸光学膜として
成膜し四分の一波長板の機能を付与する技術に関する。
The present invention relates to a method for forming a polymer liquid crystal film. More specifically, the present invention relates to a technique of forming a polymer liquid crystal as a uniaxial optical film and imparting a function of a quarter wavelength plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、波長板は互いに垂直な方向に振
動する直線偏光が板を通過した時、これらの間に所定の
光路差(従って位相差)を与える複屈折板(結晶板)を
云う。複屈折板の厚さをd、互いに垂直な電気的主軸方
向に振動する直線偏光の屈折率をn1,n2とした時、
光路差は|n1−n2|dで与えられる。この値がλ/
4,λ/2,λ/1(λは用いる光の真空中での波長)
のものを夫々四分の一,二分の一,一波長板と云い、こ
れらはπ/2,π,2πの位相板に相当する。例えば、
四分の一波長板は互いに垂直な方向に振動する直線偏光
の間に1/4波長の光路差を生ずるように厚さを決めら
れた複屈折板である。白雲母を適当な厚さに劈開した薄
板等が用いられる。或いは、一方向に分子配向させた合
成樹脂板等が用いられる。この板に主軸方向と45°の
方位を持つ直線偏光を入れると透過光は円偏光になる。
2. Description of the Related Art In general, a wave plate is a birefringent plate (crystal plate) which gives a predetermined optical path difference (accordingly, a phase difference) between linearly polarized lights oscillating in mutually perpendicular directions when passing through the plate. . When the thickness of the birefringent plate is d, and the refractive indices of linearly polarized light vibrating in the direction of the electric principal axis perpendicular to each other are n1 and n2,
The optical path difference is given by | n1−n2 | d. This value is λ /
4, λ / 2, λ / 1 (λ is the wavelength of light used in vacuum)
Are called quarter-wave, half-wave and one-wavelength plates, respectively, which correspond to phase plates of π / 2, π and 2π. For example,
The quarter-wave plate is a birefringent plate whose thickness is determined so as to generate a quarter-wavelength optical path difference between linearly polarized lights vibrating in directions perpendicular to each other. A thin plate or the like obtained by cleaving muscovite to an appropriate thickness is used. Alternatively, a synthetic resin plate or the like having a molecular orientation in one direction is used. When linearly polarized light having an azimuth of 45 ° with respect to the principal axis direction is applied to this plate, the transmitted light becomes circularly polarized light.

【0003】四分の一波長板は様々な用途があり、例え
ば反射型ゲストホスト液晶表示装置の偏光制御素子に用
いられる。特開平6−222351号公報には四分の一
波長板を内部に組み込んだ反射型ゲストホスト液晶表示
装置が開示されている。この従来構造では、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリエチレン
テレフタレート等の高分子フィルムを一方向に分子配向
した四分の一波長板を用いている。しかしながら、一軸
延伸した高分子フィルムの光学異方性(複屈折性)は必
ずしも十分なものではなく、四分の一波長板として実用
的に満足できるレベルのものを得るに至っていない。
The quarter-wave plate has various uses, and is used, for example, as a polarization control element of a reflection type guest-host liquid crystal display device. JP-A-6-222351 discloses a reflective guest-host liquid crystal display device having a quarter-wave plate incorporated therein. This conventional structure uses a quarter-wave plate in which a polymer film of polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyethylene terephthalate or the like is molecularly oriented in one direction. However, the optical anisotropy (birefringence) of the uniaxially stretched polymer film is not always sufficient, and a practically satisfactory level as a quarter-wave plate has not yet been obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】又、上述した特許公開
公報では、高分子液晶からなる四分の一波長板層も開示
している。例えば、高分子液晶を加熱し、別途加熱又は
冷却した基板上に付着させて四分の一波長板層を形成す
る。しかしながら、この方法でも高分子液晶を高精度で
分子配向させることが難しく、実用的に満足できる一軸
異方性の光学膜を得るに至っていない。特に、四分の一
波長板層を形成する場合、基板全面に亘って高分子液晶
を一定の厚みで精度良く且つ均一に成膜する必要があ
る。しかしながら、現在の段階ではこの高分子液晶の均
一且つ高精密な成膜方法が確立されていない。
The above-mentioned patent publication also discloses a quarter-wave plate layer made of a polymer liquid crystal. For example, a polymer liquid crystal is heated and adhered onto a separately heated or cooled substrate to form a quarter-wave plate layer. However, even with this method, it is difficult to molecularly align the polymer liquid crystal with high precision, and a practically satisfactory uniaxial anisotropic optical film has not been obtained. In particular, when a quarter-wave plate layer is formed, it is necessary to precisely and uniformly form a polymer liquid crystal with a constant thickness over the entire surface of the substrate. However, at the present stage, a uniform and high-precision film formation method of the polymer liquid crystal has not been established.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上述した従来の技術の課
題を解決する為に以下の手段を講じた。即ち、本発明に
よれば高分子液晶は以下の工程により成膜される。先
ず、調合工程を行ない、高分子液晶を溶媒に溶かして所
望の粘度を有する塗剤を調製する。次に塗工工程を行な
い、回転可能な芯棒に細線を巻回したワイヤバーに塗剤
を担持させ、基板の表面に接した状態でワイヤバーを回
転しながら相対的に移動して塗剤を基板の表面に塗布
(転写)する。最後に乾燥工程を行ない、塗布された塗
剤から溶媒を除去して一様な厚みを有する高分子液晶の
薄膜を形成する。
The following means have been taken in order to solve the above-mentioned problems of the prior art. That is, according to the present invention, a polymer liquid crystal is formed by the following steps. First, a blending step is performed, and a polymer liquid crystal is dissolved in a solvent to prepare a coating material having a desired viscosity. Next, a coating process is performed, the coating material is carried on a wire bar in which a thin wire is wound around a rotatable core rod, and the coating material is moved relative to the substrate by rotating the wire bar while in contact with the surface of the substrate. Is applied (transferred) to the surface of. Finally, a drying step is performed to remove the solvent from the applied coating material to form a polymer liquid crystal thin film having a uniform thickness.

【0006】本発明にかかる高分子液晶成膜方法は特に
一軸光学膜の形成に好適である。この場合、先ず調合工
程を行ない、所定の相転移点を有する高分子液晶を溶媒
に溶かして所望の粘度を有する塗剤を調製する。次に配
向工程を行ない、基板の表面を所定の配向方向に沿って
配向処理する。続いて塗工工程を行ない、回転可能な芯
棒に細線を巻回したワイヤバーに塗剤を担持させ、基板
の表面に接した状態でワイヤバーを回転しながら相対的
に移動して塗剤を基板の表面に塗布する。更に乾燥工程
を行ない、塗布された塗剤から溶媒を除去して一様な厚
みを有する高分子液晶の薄膜を形成する。最後に整列工
程を行ない、該薄膜を一旦相転移点以上に加熱処理した
後相転移点以下の温度まで冷却し高分子液晶を該配向方
向に整列させて一軸光学膜を形成する。
The method of forming a polymer liquid crystal film according to the present invention is particularly suitable for forming a uniaxial optical film. In this case, first, a compounding step is performed, and a polymer liquid crystal having a predetermined phase transition point is dissolved in a solvent to prepare a coating material having a desired viscosity. Next, an alignment step is performed, and the surface of the substrate is aligned along a predetermined alignment direction. Subsequently, a coating process is performed, the coating material is carried on a wire bar in which a thin wire is wound around a rotatable core rod, and the coating material is moved relatively while rotating the wire bar in a state of being in contact with the surface of the substrate. Apply to the surface of. Further, a drying step is performed to remove the solvent from the applied coating material to form a thin film of polymer liquid crystal having a uniform thickness. Finally, an alignment step is performed. The thin film is once heated to a temperature equal to or higher than the phase transition point, then cooled to a temperature equal to or lower than the phase transition point, and the polymer liquid crystal is aligned in the alignment direction to form a uniaxial optical film.

【0007】本発明にかかる高分子液晶成膜方法は特に
ゲストホスト液晶表示装置の製造方法に応用できる。こ
の場合、先ず調合工程を行ない、所定の相転移点を有す
る高分子液晶を溶媒に溶かして所望の粘度を有する塗剤
を調製する。次に配向工程を行ない、一方の基板の表面
を所定の配向方向に沿って配向処理する。続いて、塗工
工程を行ない、回転可能な芯棒に細線を巻回したワイヤ
バーに塗剤を担持させ、基板の表面に接した状態でワイ
ヤバーを回転しながら相対的に移動して塗剤を基板の表
面に塗布する。更に乾燥工程を行ない、塗布された塗剤
から溶媒を除去して一様な厚みを有する高分子液晶の薄
膜を形成する。続いて整列工程を行ない、該薄膜を一旦
相転移点以上に加熱処理した後相転移点以下の温度まで
冷却し高分子液晶を該配向方向に整列させて四分の一波
長板層を形成する。この後接合工程を行ない、所定の間
隙を介して該一方の基板に他方の基板を接合する。最後
に注入工程を行ない、二色性色素を含有したゲストホス
ト液晶を該間隙に注入してゲストホスト液晶表示装置を
完成させる。
The method of forming a polymer liquid crystal film according to the present invention is particularly applicable to a method of manufacturing a guest-host liquid crystal display device. In this case, first, a compounding step is performed, and a polymer liquid crystal having a predetermined phase transition point is dissolved in a solvent to prepare a coating material having a desired viscosity. Next, an alignment step is performed, and the surface of one of the substrates is aligned along a predetermined alignment direction. Subsequently, a coating process is performed, the coating material is carried on a wire bar in which a fine wire is wound around a rotatable core rod, and the coating material is relatively moved while rotating the wire bar while being in contact with the surface of the substrate. Apply to the surface of the substrate. Further, a drying step is performed to remove the solvent from the applied coating material to form a thin film of polymer liquid crystal having a uniform thickness. Subsequently, an alignment step is performed, and the thin film is once heated to a temperature equal to or higher than the phase transition point, and then cooled to a temperature equal to or lower than the phase transition point, and the polymer liquid crystal is aligned in the alignment direction to form a quarter-wave plate layer. . Thereafter, a bonding step is performed, and the other substrate is bonded to the one substrate via a predetermined gap. Finally, an injection step is performed, and a guest-host liquid crystal containing a dichroic dye is injected into the gap to complete a guest-host liquid crystal display.

【0008】本発明にかかる高分子液晶成膜方法の特徴
事項はワイヤバーを用いたコーティング方法(以下、バ
ーコート法)を用いて高分子液晶を基板の表面に塗布す
る点である。従来、バーコート法は例えば写真フィルム
の感光剤塗布等に用いられていた。しかしながら、この
バーコート法を液晶技術の分野で利用することは行なわ
れていなかった。本発明では、バーコート法で高分子液
晶を塗工することにより、均一且つ一定の厚みで高分子
液晶を成膜することが可能になった。特に、液晶デバイ
ス分野では高分子液晶からなる一軸光学膜や四分の一波
長板層を高精密且つ一様に作成する必要があり、この点
バーコート法は大きな効力を発揮する。
A feature of the polymer liquid crystal film forming method according to the present invention is that a polymer liquid crystal is applied to the surface of a substrate using a coating method using a wire bar (hereinafter, a bar coating method). Conventionally, the bar coating method has been used, for example, for applying a photosensitive agent to a photographic film. However, this bar coating method has not been used in the field of liquid crystal technology. According to the present invention, it is possible to form a polymer liquid crystal with a uniform and constant thickness by coating the polymer liquid crystal by a bar coating method. In particular, in the field of liquid crystal devices, it is necessary to form a uniaxial optical film or a quarter-wave plate layer composed of a polymer liquid crystal with high precision and uniformity, and this point bar coating method is very effective.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の最
良な実施形態を詳細に説明する。図1は、本発明にかか
る高分子液晶成膜方法を示す工程図である。この実施形
態では、特に高分子液晶を用いて一軸光学膜(四分の一
波長板層)を作成している。先ず準備段階として調合工
程を行ない、所定の相転移点を有する高分子液晶を溶媒
に溶かして所望の粘度を有する塗剤を調製する。次に
(A)に示すように配向工程を行なう。即ち、基板1の
表面を所定の配向方向(矢印で示す)に沿って配向処理
する。例えば、基板1の表面にポリイミド(図示せず)
を成膜した後配向方向に沿ってラビングする。場合によ
っては、基板1の表面を直にラビングしても良い。次に
(B)に示すように塗工工程及び乾燥工程を行なう。塗
工工程では、回転可能な芯棒(バー)4aに細線(ワイ
ヤ)4bを巻回したワイヤバー4に塗剤2を担持させ、
基板1の表面に接した状態でワイヤバー4を回転しなが
ら相対的に移動して塗剤2を基板1の表面に塗布(転
写)する。この際、細線4bの太さや塗剤2の粘度を適
宜設定して、形成される塗膜の厚みが可視光領域でλ/
4の位相差を生じさせるようにすれば、所望の四分の一
波長板層が得られる。続く乾燥工程で加熱処理を行な
い、塗布された塗剤2から溶媒を除去して一様な厚みを
有する高分子液晶2aの薄膜を形成する。例えば、沸点
以下で低温加熱処理を行ない溶媒を蒸発させて塗剤2
(塗膜)の一様な状態を維持したまま乾燥する。これに
より、塗膜にピンホール等が発生することがない。尚、
この乾燥工程では、場合により真空下で低温加熱処理を
行ない、溶媒の蒸発を促進させることができる。最後に
(C)に示すように整列工程を行なう。この整列工程で
は基板1を一旦相転移点以上に加熱した後、相転移点以
下の温度まで冷却し、乾燥された塗剤2に含まれる高分
子液晶2aを配向方向に整列させて一軸光学膜3を形成
する。バーコート法を用いることにより一軸光学膜3を
大型基板の全面に亘って設計値通りの厚みで成膜するこ
とができ、一軸光学膜3をそのまま四分の一波長板層と
して用いることが可能になる。図示するように、塗工及
び乾燥段階では塗剤2に含まれる高分子液晶2aの液晶
分子はランダムな状態にあるのに対し、加熱処理後では
高分子液晶2aの液晶分子は配向方向に沿って整列し、
所望の一軸光学異方性が得られる。具体的には、塗剤2
を塗工し且つ乾燥させた基板1を予めネマティック相温
度又はイソトロピック相温度に設定されたオーブンに投
入して加熱する。その後徐冷して室温まで戻す。これに
よってバーコート法で塗工された高分子液晶2aが予め
ラビング処理しておいた基板1の配向方向に整列する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a process chart showing a polymer liquid crystal film forming method according to the present invention. In this embodiment, a uniaxial optical film (quarter wavelength plate layer) is formed using a polymer liquid crystal. First, a preparation process is performed as a preparation step, and a polymer liquid crystal having a predetermined phase transition point is dissolved in a solvent to prepare a coating material having a desired viscosity. Next, an alignment step is performed as shown in FIG. That is, the surface of the substrate 1 is aligned along a predetermined alignment direction (indicated by an arrow). For example, polyimide (not shown) is applied to the surface of the substrate 1.
Is formed and then rubbed along the alignment direction. In some cases, the surface of the substrate 1 may be directly rubbed. Next, a coating step and a drying step are performed as shown in FIG. In the coating process, the coating material 2 is carried on a wire bar 4 in which a thin wire 4b is wound around a rotatable core bar 4a.
The coating material 2 is applied (transferred) to the surface of the substrate 1 by relatively moving while rotating the wire bar 4 in contact with the surface of the substrate 1. At this time, the thickness of the thin wire 4b and the viscosity of the coating material 2 are appropriately set so that the thickness of the formed coating film is λ / λ in the visible light region.
If a phase difference of 4 is generated, a desired quarter-wave plate layer can be obtained. A heat treatment is performed in a subsequent drying step to remove the solvent from the applied coating material 2 to form a thin film of the polymer liquid crystal 2a having a uniform thickness. For example, a low-temperature heat treatment is performed at a temperature lower than the boiling point to evaporate the solvent, thereby
Dry while keeping the (coating) uniform state. Thereby, pinholes and the like do not occur in the coating film. still,
In this drying step, a low-temperature heat treatment may be optionally performed under vacuum to promote the evaporation of the solvent. Finally, an alignment step is performed as shown in FIG. In this alignment step, the substrate 1 is once heated to a temperature equal to or higher than the phase transition point, then cooled to a temperature equal to or lower than the phase transition point, and the polymer liquid crystal 2a contained in the dried coating material 2 is aligned in the alignment direction to form a uniaxial optical film. Form 3 By using the bar coating method, the uniaxial optical film 3 can be formed over the entire surface of the large substrate with a thickness as designed, and the uniaxial optical film 3 can be used as it is as a quarter-wave plate layer. become. As shown in the drawing, in the coating and drying stages, the liquid crystal molecules of the polymer liquid crystal 2a contained in the coating material 2 are in a random state, but after the heat treatment, the liquid crystal molecules of the polymer liquid crystal 2a are aligned along the alignment direction. Align
A desired uniaxial optical anisotropy is obtained. Specifically, paint 2
The substrate 1 coated with and dried is put into an oven set to a nematic phase temperature or an isotropic phase temperature in advance and heated. Then, cool slowly and return to room temperature. As a result, the polymer liquid crystals 2a coated by the bar coating method are aligned in the alignment direction of the substrate 1 which has been rubbed in advance.

【0010】図2は、ワイヤバーの具体的な構成を示す
模式図である。図示するように、ワイヤバー4は直径が
Gの金属からなる芯棒(バー)4aに直径がgの細線
(ワイヤ)4bを隙間無く巻回した構造になっている。
高分子液晶を溶媒に溶かした塗剤2をワイヤバー4に滴
下すると、塗剤2は芯棒4aに巻かれた細線4bの隙間
に担持される。この状態でワイヤバー4は基板1の表面
を回転しつつ相対的に移動し(図1の(B)参照)基板
1上に塗膜が形成される。細線4bの直径gを所望の値
に設定することで、塗膜の厚みを基板全面に亘って極め
て均一且つ一様に制御できる。これにより、高精密な四
分の一波長板層を基板に作成することができる。又、芯
棒4aに対する細線4bの巻幅を所望の寸法に設定する
ことで、大型の基板にも自由に対応できる。このバーコ
ート法は塗剤の使用量の節約に最適である。例えば、3
00mm×350mmのサイズの大型基板に塗剤を塗布する
場合、バーコート法を用いると2cc程度の使用量で十分
である。これに対して、スピナーを用いて塗布を行なお
うとすると、同一サイズの基板に対して約20cc〜25
ccの塗剤が必要になる。スピナーは回転テーブルの上に
基板を載置し、高速回転した状態で塗剤を滴下し遠心力
を利用してコーティングを行なうものである。遠心力に
より大量の塗剤が振り切られる為、使用量に無駄が生じ
る。これに対し、バーコート法では極めて効率良く塗剤
を塗工処理に使用できる。以上のように、バーコート法
を用いると基板上に均一な厚みで高分子液晶を成膜でき
る。従って、安定した光学特性を有する一軸光学膜が得
られる。又、材料の使用量の大幅な節約ができる。この
点は、高分子液晶が高価な材料であることから実際上製
造コスト削減の面で効果を発揮する。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a specific configuration of the wire bar. As shown in the drawing, the wire bar 4 has a structure in which a thin wire (wire) 4b having a diameter g is wound around a core bar 4a made of a metal having a diameter G without any gap.
When the coating material 2 in which the polymer liquid crystal is dissolved in the solvent is dropped on the wire bar 4, the coating material 2 is carried in the gaps between the fine wires 4b wound around the core rod 4a. In this state, the wire bar 4 relatively moves while rotating on the surface of the substrate 1 (see FIG. 1B), and a coating film is formed on the substrate 1. By setting the diameter g of the thin wire 4b to a desired value, the thickness of the coating film can be extremely uniformly and uniformly controlled over the entire surface of the substrate. Thereby, a high-precision quarter-wave plate layer can be formed on the substrate. In addition, by setting the winding width of the fine wire 4b around the core rod 4a to a desired size, it is possible to freely cope with a large-sized substrate. This bar coating method is optimal for saving the amount of coating material used. For example, 3
When a coating material is applied to a large substrate having a size of 00 mm × 350 mm, the use amount of about 2 cc is sufficient if a bar coating method is used. On the other hand, when applying by using a spinner, about 20 cc to 25 cc for a substrate of the same size.
cc paint is required. The spinner mounts a substrate on a rotary table, drops a coating material while rotating at a high speed, and performs coating using centrifugal force. Since a large amount of the coating material is shaken off by the centrifugal force, the used amount is wasted. On the other hand, in the bar coating method, the coating agent can be used for the coating treatment very efficiently. As described above, by using the bar coating method, a polymer liquid crystal can be formed on a substrate with a uniform thickness. Therefore, a uniaxial optical film having stable optical characteristics can be obtained. Also, the amount of material used can be greatly reduced. In this regard, since the polymer liquid crystal is an expensive material, it is practically effective in reducing the manufacturing cost.

【0011】図3は、高分子液晶の一例を示す化学構造
を表わした模式図である。図示するように、この高分子
液晶はアルキル主鎖から分岐した側鎖を有している。側
鎖の先端にはペンダントとしてメトキシフェニルベンゾ
アートが連結されている。側鎖のスペーサ長は炭素数n
で2個及び6個のものが配列されている。本実施例で
は、n=2及びn=6の側鎖が1対1の割合で主鎖に対
して共重合されている。この高分子は例えばシクロヘキ
サノンとメチルエチルケトン(MEK)を8対2で混合
した溶媒に溶かして塗剤とする。この塗剤をバーコート
法により基板に塗工して一軸光学膜を形成する。即ち、
予めラビング処理を施された基板上にバーコート法でこ
の塗剤を塗布する。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a chemical structure showing an example of a polymer liquid crystal. As shown in the figure, this polymer liquid crystal has a side chain branched from an alkyl main chain. Methoxyphenylbenzoate is connected as a pendant to the tip of the side chain. Side chain spacer length is carbon number n
And two and six are arranged. In this example, the side chains of n = 2 and n = 6 are copolymerized with the main chain at a ratio of 1: 1. For example, this polymer is dissolved in a solvent obtained by mixing cyclohexanone and methyl ethyl ketone (MEK) at a ratio of 8 to 2 to prepare a coating material. This coating material is applied to a substrate by a bar coating method to form a uniaxial optical film. That is,
This coating agent is applied by a bar coating method on a substrate that has been previously rubbed.

【0012】図4は、上述した塗剤を乾燥処理及び整列
処理する場合の温度プロファイルを示すグラフである。
先ず、乾燥工程では80℃程度の低温で2時間程度加熱
処理を行ない十分に溶媒を蒸発させる。尚、この低温焼
成の際に真空下でこれを行なうことにより、更に蒸発を
促進させてもよい。次に、整列工程では加熱及び徐冷を
行なう。図3に示した高分子液晶はネマティック相と液
相との間の相転移点TPが110℃である。そこで、基
板を一旦相転移点TP以上の温度(例えば120℃)に
高温加熱処理した後、相転移点TP以下の温度まで徐冷
し塗剤に含まれる高分子液晶を配向方向に整列させて一
軸光学膜を形成する。相転移点TPを超える120℃で
整列工程を行なうことにより良好な一軸配向(良配向)
を有する光学膜を安定して作成することができる。
FIG. 4 is a graph showing a temperature profile when the above-mentioned coating material is subjected to a drying process and an alignment process.
First, in the drying step, heat treatment is performed at a low temperature of about 80 ° C. for about 2 hours to sufficiently evaporate the solvent. The evaporation may be further promoted by performing this under vacuum during the low-temperature firing. Next, heating and slow cooling are performed in the alignment step. The polymer liquid crystal shown in FIG. 3 has a phase transition point TP between a nematic phase and a liquid phase of 110 ° C. Therefore, the substrate is once subjected to a high-temperature heat treatment at a temperature higher than the phase transition point TP (for example, 120 ° C.), and then gradually cooled to a temperature lower than the phase transition point TP to align the polymer liquid crystal contained in the coating material in the alignment direction. A uniaxial optical film is formed. Good uniaxial orientation (good orientation) by performing the alignment process at 120 ° C. that exceeds the phase transition point TP
Can be stably formed.

【0013】最後に、図5及び図6を参照して本発明に
かかる高分子液晶成膜方法を応用したゲストホスト液晶
表示装置の製造方法を説明する。先ず、図5の工程
(A)で、ガラス又は石英からなる絶縁性の基板11の
上に薄膜トランジスタ12を集積形成する。具体的に
は、高融点金属等からなるゲート電極13を絶縁基板1
1の表面にパタニング形成した後、その上にCVD等に
よりシリコン酸化膜又はシリコン窒化膜からなるゲート
絶縁膜14を成膜する。その上に多結晶シリコン等から
なる半導体薄膜15を成膜し、薄膜トランジスタ12の
素子領域に合わせて島状にパタニングする。その上にゲ
ート電極13と整合したシリコン酸化膜等からなるスト
ッパ16をパタニング形成する。ストッパ16をマスク
としてイオンドーピング又はイオンインプランテーショ
ンにより不純物を半導体薄膜15に注入してボトムゲー
ト型の薄膜トランジスタ12を形成する。この薄膜トラ
ンジスタ12を被覆するように、CVD等で酸化シリコ
ン等からなる層間絶縁膜17を成膜する。
Finally, a method of manufacturing a guest-host liquid crystal display device using the polymer liquid crystal film forming method according to the present invention will be described with reference to FIGS. First, in the step (A) of FIG. 5, a thin film transistor 12 is formed on an insulating substrate 11 made of glass or quartz. Specifically, the gate electrode 13 made of a high melting point metal or the like is
After patterning is formed on the surface of the substrate 1, a gate insulating film 14 made of a silicon oxide film or a silicon nitride film is formed thereon by CVD or the like. A semiconductor thin film 15 made of polycrystalline silicon or the like is formed thereon, and is patterned in an island shape according to the element region of the thin film transistor 12. A stopper 16 made of a silicon oxide film or the like aligned with the gate electrode 13 is formed thereon by patterning. Impurities are implanted into the semiconductor thin film 15 by ion doping or ion implantation using the stopper 16 as a mask to form the bottom gate thin film transistor 12. An interlayer insulating film 17 made of silicon oxide or the like is formed by CVD or the like so as to cover the thin film transistor 12.

【0014】工程(B)に進み、層間絶縁膜17にコン
タクトホールを開口した後アルミニウム等をスパッタリ
ングで堆積し、所定の形状にパタニングしてソース電極
18及びドレイン電極19を形成する。この時同時にア
ルミニウムを利用して光反射層20を形成する。この光
反射層20はドレイン電極19と同電位に接続されてい
る。この光反射層20は凹凸が形成された樹脂膜20a
とその表面に成膜されたアルミニウム膜20bとからな
る。樹脂膜20aはフォトリソグラフィにより凹凸がパ
タニングされた感光性樹脂膜である。この感光性樹脂膜
20aは例えばフォトレジストからなり、基板11の表
面に全面的に塗布される。これを所定のマスクを介して
露光処理し、例えば円柱状にパタニング加工する。次い
で加熱してリフローを施せば凹凸形状が安定的に形成で
きる。このようにして形成された凹凸形状の表面に所望
の膜厚で良好な光反射率を有するアルミニウム膜20b
を形成する。凹凸の深さ寸法を数μmに設定すれば、良
好な光散乱特性が得られ、光反射層20は白色を呈す
る。
In step (B), after opening a contact hole in the interlayer insulating film 17, aluminum or the like is deposited by sputtering, and is patterned into a predetermined shape to form a source electrode 18 and a drain electrode 19. At this time, the light reflection layer 20 is simultaneously formed using aluminum. This light reflection layer 20 is connected to the same potential as the drain electrode 19. The light reflection layer 20 is formed of a resin film 20a having unevenness.
And an aluminum film 20b formed on the surface thereof. The resin film 20a is a photosensitive resin film whose unevenness is patterned by photolithography. The photosensitive resin film 20 a is made of, for example, a photoresist, and is entirely applied to the surface of the substrate 11. This is exposed through a predetermined mask, and is patterned into, for example, a cylindrical shape. Then, by heating and performing reflow, the uneven shape can be formed stably. An aluminum film 20b having a desired film thickness and good light reflectivity is formed on the surface of the thus formed uneven shape.
To form If the depth dimension of the unevenness is set to several μm, good light scattering characteristics can be obtained, and the light reflection layer 20 exhibits white.

【0015】工程(C)に進み、薄膜トランジスタ12
及び光反射層20の凹凸を埋めるように平坦化層21を
形成する。平坦化層21はアクリル樹脂等透明な有機物
を用いることが好ましい。この平坦化層21の表面を所
定の配向方向に沿って配向処理する。例えば、平坦化層
21の表面にポリイミドからなる下地配向層22を成膜
した後所定の配向方向に沿ってラビングする。この平坦
化層21を介在させることで下地配向層22の成膜及び
ラビング処理が安定に行なえる。
Proceeding to step (C), the thin film transistor 12
Then, the planarization layer 21 is formed so as to fill the irregularities of the light reflection layer 20. The flattening layer 21 is preferably made of a transparent organic material such as an acrylic resin. The surface of the flattening layer 21 is subjected to an alignment process along a predetermined alignment direction. For example, a base alignment layer 22 made of polyimide is formed on the surface of the flattening layer 21 and then rubbed along a predetermined alignment direction. With the planarization layer 21 interposed, the film formation and the rubbing treatment of the base alignment layer 22 can be stably performed.

【0016】工程(D)に進み、所定の相転移点を有す
る高分子液晶と所定の沸点を有する溶媒とからなる塗剤
をバーコート法により所定の厚みで下地配向層22の表
面に一様な状態で塗工する。本実施例では、富士フィル
ム社製のハイプレシジョンコーター(HPC)を用いて
バーコート法により塗工処理を行なった。この後、沸点
以下で低温加熱処理を行ない溶媒を蒸発させて塗膜の一
様な状態を維持したまま乾燥する。基板11を一旦相転
移点以上に高温加熱処理した後相転移点以下の温度まで
徐冷し乾燥された塗剤に含まれる高分子液晶を下地配向
層22のラビング方向に整列させて四分の一波長板層2
3に加工する。
Proceeding to step (D), a coating comprising a polymer liquid crystal having a predetermined phase transition point and a solvent having a predetermined boiling point is uniformly coated on the surface of the base alignment layer 22 with a predetermined thickness by a bar coating method. Coating in the condition. In this example, the coating treatment was performed by a bar coating method using a high precision coater (HPC) manufactured by Fuji Film Co., Ltd. Thereafter, a low-temperature heat treatment is performed at a temperature lower than the boiling point to evaporate the solvent, and the coating film is dried while maintaining a uniform state. The substrate 11 is once subjected to a high-temperature heat treatment above the phase transition point, then gradually cooled to a temperature below the phase transition point, and the polymer liquid crystal contained in the dried coating material is aligned in the rubbing direction of the base alignment layer 22 to form a quarter. One wavelength plate layer 2
Process into 3.

【0017】図6の工程(E)に進み、四分の一波長板
層23、下地配向層22及び平坦化層21を貫通して薄
膜トランジスタ12のドレイン電極19に連通するコン
タクトホール24を開口する。例えば、ドライエッチン
グ又はウェットエッチングにより上述した積層(21,
22,23)をパタニングしてコンタクトホール24を
形成する。
Proceeding to step (E) in FIG. 6, a contact hole 24 is formed through the quarter-wave plate layer 23, the underlying alignment layer 22, and the planarizing layer 21 to communicate with the drain electrode 19 of the thin film transistor 12. . For example, the above-described lamination (21,
22 and 23) are patterned to form contact holes 24.

【0018】工程(F)に進み、四分の一波長板層23
の上にITO等からなる透明導電膜を成膜し所定の形状
にパタニングして画素電極25を得る。この画素電極2
5はコンタクトホール24を介して薄膜トランジスタ1
2のドレイン電極19に電気接続する。画素電極25の
表面を被覆するように配向層26を成膜する。例えば、
ポリイミドを溶解した配向溶剤を塗工した後乾燥して配
向層26とする。
Proceeding to step (F), the quarter-wave plate layer 23
A transparent conductive film made of ITO or the like is formed thereon, and is patterned into a predetermined shape to obtain the pixel electrode 25. This pixel electrode 2
5 is a thin film transistor 1 through a contact hole 24.
2 is electrically connected to the drain electrode 19. The alignment layer 26 is formed so as to cover the surface of the pixel electrode 25. For example,
An alignment solvent in which polyimide is dissolved is applied and then dried to form an alignment layer 26.

【0019】最後に、工程(G)に進み、所定の間隙を
介して反射側の基板11に入射側の基板31を接合す
る。入射側の基板31の内表面には予め対向電極32及
び配向層33が形成されている。この間隙にゲストホス
ト液晶40を注入すると反射型のゲストホスト液晶表示
装置が完成する。このゲストホスト液晶40はネマテッ
ィク液晶分子41と例えば黒色の二色性色素42を含ん
でいる。図示の例では液晶分子41は上下に位置する一
対の配向層33,26により垂直配向に制御されてい
る。これに倣って二色性色素42も垂直配向している。
Finally, the process proceeds to step (G), where the incident-side substrate 31 is joined to the reflective-side substrate 11 via a predetermined gap. A counter electrode 32 and an alignment layer 33 are previously formed on the inner surface of the incident side substrate 31. When the guest host liquid crystal 40 is injected into this gap, a reflection type guest host liquid crystal display device is completed. The guest host liquid crystal 40 includes nematic liquid crystal molecules 41 and, for example, a black dichroic dye 42. In the illustrated example, the liquid crystal molecules 41 are controlled to be vertically aligned by a pair of alignment layers 33 and 26 located above and below. Following this, the dichroic dye 42 is also vertically aligned.

【0020】続いて、(G)に示した反射型ゲストホス
ト液晶表示装置を用いて白黒表示を行なう場合の動作に
ついて参考に説明する。電圧無印加状態では液晶分子4
1は垂直方向に配向し、二色性色素42も同様に配向す
る。上側の基板31から入射した光は二色性色素42に
よって吸収されずに液晶層40を通過し、四分の一波長
板層23で偏光されずに光反射層20で反射する。反射
した光は再び四分の一波長板層23を通過し、液晶層4
0で吸収されずに出射する。従って白色表示となる。一
方電圧印加時には液晶分子41が画素電極25及び対向
電極32の間に生じた電界に応答して水平配向に移行す
る。二色性色素42も同様に配向する。上側の基板31
側から入射した光が液晶層40を通過すると、入射光の
うち二色性色素42の分子の長軸方向に平行な振動面を
持つ成分が二色性色素42によって吸収される。又、二
色性色素42の分子の長軸方向に対して垂直な振動面を
持つ成分は液晶層40を通過し、反射側の基板11に形
成された四分の一波長板層23で円偏光とされ、光反射
層20で反射する。この時反射光の偏光が逆廻りとな
り、再び四分の一波長板層23を通過し、二色性色素4
2の分子の長軸方向に対して平行な振動面を持つ成分と
なる。この成分は二色性色素42によって吸収されるの
で完全な黒色表示となる。
Next, a description will be given of an operation in the case of performing monochrome display using the reflection type guest-host liquid crystal display device shown in FIG. When no voltage is applied, the liquid crystal molecules 4
1 is oriented vertically, and the dichroic dye 42 is similarly oriented. Light incident from the upper substrate 31 passes through the liquid crystal layer 40 without being absorbed by the dichroic dye 42, and is reflected by the light reflection layer 20 without being polarized by the quarter-wave plate layer 23. The reflected light passes through the quarter-wave plate layer 23 again, and
At 0, light is emitted without being absorbed. Therefore, white display is obtained. On the other hand, when a voltage is applied, the liquid crystal molecules 41 shift to horizontal alignment in response to an electric field generated between the pixel electrode 25 and the counter electrode 32. The dichroic dye 42 is similarly oriented. Upper substrate 31
When light incident from the side passes through the liquid crystal layer 40, components of the incident light having a vibration plane parallel to the major axis direction of the molecules of the dichroic dye 42 are absorbed by the dichroic dye 42. The component of the dichroic dye 42 having a vibration plane perpendicular to the major axis direction of the molecule passes through the liquid crystal layer 40 and is reflected by the quarter-wave plate layer 23 formed on the reflective side substrate 11. The light is polarized and reflected by the light reflection layer 20. At this time, the polarization of the reflected light is reversed and passes through the quarter-wave plate layer 23 again, and the dichroic dye 4
A component having a vibration plane parallel to the major axis direction of the second molecule. Since this component is absorbed by the dichroic dye 42, a complete black display is obtained.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
バーコート法により高分子液晶を塗布して成膜を行なっ
ている。即ち、回転可能な芯棒に細線を巻回したワイヤ
バーに塗剤を担持させ、基板の表面に接した状態でワイ
ヤバーを回転しながら相対的に移動して塗剤を基板の表
面に塗布する。これにより、高分子液晶を大面積の基板
の全面に亘って一様且つ均一な厚みで成膜できる。成膜
された高分子液晶を一軸光学膜として用いることによ
り、安定した光学特性を有する四分の一波長板層が得ら
れる。又、ワイヤバー法を用いることで高価な高分子液
晶の使用量を大幅に節約することが可能である。
As described above, according to the present invention,
A polymer liquid crystal is applied by a bar coating method to form a film. That is, the coating material is carried on a wire bar formed by winding a fine wire around a rotatable core rod, and the coating material is applied to the surface of the substrate by relatively moving while rotating the wire bar in contact with the surface of the substrate. As a result, a polymer liquid crystal can be formed with a uniform and uniform thickness over the entire surface of a large-area substrate. By using the formed polymer liquid crystal as a uniaxial optical film, a quarter-wave plate layer having stable optical characteristics can be obtained. Also, by using the wire bar method, it is possible to greatly reduce the amount of expensive polymer liquid crystal used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる高分子液晶成膜方法を示す工程
図である。
FIG. 1 is a process chart showing a polymer liquid crystal film forming method according to the present invention.

【図2】本発明にかかる高分子液晶成膜方法に用いるワ
イヤバーの構造を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic view showing the structure of a wire bar used in the method for forming a polymer liquid crystal film according to the present invention.

【図3】高分子液晶の一例を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example of a polymer liquid crystal.

【図4】高分子液晶成膜方法の温度プロファイルを示す
グラフである。
FIG. 4 is a graph showing a temperature profile of a polymer liquid crystal film forming method.

【図5】本発明にかかる高分子液晶成膜方法を応用した
ゲストホスト液晶表示装置の製造方法を示す工程図であ
る。
FIG. 5 is a process chart showing a method for manufacturing a guest-host liquid crystal display device to which the polymer liquid crystal film forming method according to the present invention is applied.

【図6】同じく製造方法を示す工程図である。FIG. 6 is a process drawing showing the same manufacturing method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基板、2…塗剤、2a…高分子液晶、3…一軸光学
膜、4…ワイヤバー、4a…芯棒、4b…細線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Coating agent, 2a ... Polymer liquid crystal, 3 ... Uniaxial optical film, 4 ... Wire bar, 4a ... Core rod, 4b ... Fine wire

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高分子液晶を溶媒に溶かして所望の粘度
を有する塗剤を調製する調合工程と、 回転可能な芯棒に細線を巻回したワイヤバーに塗剤を担
持させ、基板の表面に接した状態でワイヤバーを回転し
ながら相対的に移動して塗剤を基板の表面に塗布する塗
工工程と、 塗布された塗剤から溶媒を除去して一様な厚みを有する
高分子液晶の薄膜を形成する乾燥工程とを行なう高分子
液晶成膜方法。
1. A compounding step of preparing a coating material having a desired viscosity by dissolving a polymer liquid crystal in a solvent; and carrying the coating material on a wire bar in which a fine wire is wound around a rotatable core rod, and applying the coating material on the surface of the substrate. A coating process in which the wire bar is rotated while moving in contact with each other to apply the coating material on the surface of the substrate, and a solvent is removed from the applied coating material to form a polymer liquid crystal having a uniform thickness. And a drying step of forming a thin film.
【請求項2】 所定の相転移点を有する高分子液晶を溶
媒に溶かして所望の粘度を有する塗剤を調製する調合工
程と、 基板の表面を所定の配向方向に沿って配向処理する配向
工程と、 回転可能な芯棒に細線を巻回したワイヤバーに塗剤を担
持させ、基板の表面に接した状態でワイヤバーを回転し
ながら相対的に移動して塗剤を基板の表面に塗布する塗
工工程と、 塗布された塗剤から溶媒を除去して一様な厚みを有する
高分子液晶の薄膜を形成する乾燥工程と、 該薄膜を一旦相転移点以上に加熱処理した後相転移点以
下の温度まで冷却し高分子液晶を該配向方向に整列させ
て一軸光学膜を形成する整列工程とを行なう高分子液晶
成膜方法。
2. A compounding step of dissolving a polymer liquid crystal having a predetermined phase transition point in a solvent to prepare a coating material having a desired viscosity, and an alignment step of performing an alignment treatment on a surface of a substrate along a predetermined alignment direction. A coating is carried on a wire bar in which a thin wire is wound around a rotatable core rod, and the wire bar is rotated and relatively moved to apply the coating to the surface of the substrate while being in contact with the surface of the substrate. And a drying step of removing a solvent from the applied coating material to form a thin film of a polymer liquid crystal having a uniform thickness. And a step of aligning the polymer liquid crystal in the alignment direction to form a uniaxial optical film.
【請求項3】 所定の相転移点を有する高分子液晶を溶
媒に溶かして所望の粘度を有する塗剤を調製する調合工
程と、 一方の基板の表面を所定の配向方向に沿って配向処理す
る配向工程と、 回転可能な芯棒に細線を巻回したワイヤバーに塗剤を担
持させ、該基板の表面に接した状態でワイヤバーを回転
しながら相対的に移動して塗剤を基板の表面に塗布する
塗工工程と、 塗布された塗剤から溶媒を除去して一様な厚みを有する
高分子液晶の薄膜を形成する乾燥工程と、 該薄膜を一旦相転移点以上に加熱処理した後相転移点以
下の温度まで冷却し高分子液晶を該配向方向に整列させ
て四分の一波長板層を形成する整列工程と、 所定の間隙を介して該一方の基板に他方の基板を接合す
る接合工程と、 二色性色素を含有したゲストホスト液晶を該間隙に注入
する注入工程とを行なうゲストホスト液晶表示装置の製
造方法。
3. A compounding step of dissolving a polymer liquid crystal having a predetermined phase transition point in a solvent to prepare a coating material having a desired viscosity, and performing an alignment treatment on a surface of one of the substrates along a predetermined alignment direction. Orientation step, the coating material is carried on a wire bar in which a fine wire is wound around a rotatable core rod, and relatively moved while rotating the wire bar in a state of being in contact with the surface of the substrate to apply the coating material to the surface of the substrate. A coating step of applying, a drying step of removing a solvent from the applied coating agent to form a thin film of a polymer liquid crystal having a uniform thickness, and a step of heating the thin film once to a phase transition point or higher. An alignment step of cooling the polymer liquid crystal to a temperature below the transition point and aligning the polymer liquid crystal in the alignment direction to form a quarter-wave plate layer, and joining the other substrate to the one substrate via a predetermined gap Bonding step, and a guest-host liquid crystal containing a dichroic dye A method of manufacturing a guest-host liquid crystal display device, which performs an injection step of injecting into a gap.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016045498A (en) * 2014-08-26 2016-04-04 東友ファインケム株式会社 Method for producing optically anisotropic film

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