JPH1031216A - Reflection type guest-host liquid crystal display device - Google Patents

Reflection type guest-host liquid crystal display device

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Publication number
JPH1031216A
JPH1031216A JP8204252A JP20425296A JPH1031216A JP H1031216 A JPH1031216 A JP H1031216A JP 8204252 A JP8204252 A JP 8204252A JP 20425296 A JP20425296 A JP 20425296A JP H1031216 A JPH1031216 A JP H1031216A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
guest
host liquid
layer
display device
Prior art date
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Pending
Application number
JP8204252A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Kataoka
秀雄 片岡
Eiho You
映保 楊
Nobuyuki Shigeno
信行 重野
Tetsuo Urabe
哲夫 占部
Masaki Munakata
昌樹 宗像
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP8204252A priority Critical patent/JPH1031216A/en
Publication of JPH1031216A publication Critical patent/JPH1031216A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To embody a reflection type guest-host liquid crystal display device of a stable normally white mode utilizing perpendicular orientation. SOLUTION: This reflection type guest-host liquid crystal display device has a pair of substrates 1, 2 which are joined to each other via a prescribed spacing and guest-host liquid crystals 3 which contain dichromatic dye 5 and are held in the spacing. At least, counter electrodes 6 are formed on the substrate 1 on the upper side. At least, a light reflection layer 8, a quarter-wave length plate 9 having a prescribed optical axis and pixel electrodes 10 are laminated on the substrate 2 on the lower side in order from below. Oriented layer 7, 11 for approximately perpendicularly orienting the guest-host liquid crystals 3 along the boundary into contact with the guest-host liquid crystals 3 are formed on one or both of a pair of the substrates 1, 2. These oriented layers 7, 11 are subjected to rubbing treatments along the direction intersecting with the optical axis of the quarter-wave length plate layer 9 at an angle of about 45 deg., thereby imparting a desired pretilt ϕ in the direction intersecting with the perpendicularly oriented quest-host liquid crystals 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型ゲストホス
ト液晶表示装置に関する。より詳しくはパネル内に四分
の一波長板層及び光反射層を内蔵した集積偏光変換構造
の反射型ゲストホスト液晶表示装置に関する。さらに詳
しくは、ゲストホスト液晶の配向制御技術に関する。
The present invention relates to a reflection type guest-host liquid crystal display device. More specifically, the present invention relates to a reflection-type guest-host liquid crystal display device having an integrated polarization conversion structure in which a quarter-wave plate layer and a light reflection layer are incorporated in a panel. More specifically, the present invention relates to a technology for controlling the orientation of a guest-host liquid crystal.

【0002】[0002]

【従来の技術】四分の一波長板層及び光反射層をパネル
内に集積形成した反射型ゲストホスト液晶表示装置が開
発されており、例えば特開平6−222351号公報に
開示されている。図7に示す様に、従来の反射型ゲスト
ホスト液晶表示装置101は上下一対の基板102及び
103を用いて組立てられている。一対の基板102及
び103は例えばガラス、石英、プラスチック等の絶縁
性基材で構成されている。少なくとも下側の基板102
は透明性を有する。一対の基板102及び103間には
ゲストホスト液晶104が保持されている。このゲスト
ホスト液晶104はネマティック液晶分子104aを主
成分とし二色性色素105を含有したものである。この
二色性色素105はその分子の長軸に略平行な遷移双極
子モーメントを有するp型色素であり、図示の例では白
黒表示を行なう為に黒色の二色性色素が用いられてい
る。入射側となる上方の基板102の内表面102aに
は図示しないがMIM等の二端子素子又はTFT等の三
端子素子からなるスイッチング素子と、マトリクス状に
配列した画素電極106とが形成されている。スイッチ
ング素子と画素電極106とが形成された上側の基板1
02の内表面102aにはさらにポリイミド樹脂等から
なる配向層107が形成されている。この配向層107
の表面はラビング処理を施されており、液晶分子104
aをラビング方向に沿って水平配向(ホモジニアス配
向)している。一方、下側の基板103の内表面103
aには光反射層108と四分の一波長板層109とがこ
の順に形成される。又、四分の一波長板層109の表面
には対向電極110と配向層111とがこの順に形成さ
れている。配向層111は対面する配向層107と同様
にポリイミド樹脂等からなりその表面はラビング処理が
施されている。電圧無印加状態では液晶分子104aは
水平配向しており、これに合わせて二色性色素105も
水平配向している。この水平配向状態では表示装置は黒
色を呈する。画素電極106と対向電極110との間に
電圧を印加すると液晶分子104aが立上り、これに応
じて、二色性色素105も立上る。所謂垂直配向(ホメ
オトロピック配向)状態となり、表示装置は白色を呈す
る。
2. Description of the Related Art A reflection type guest-host liquid crystal display device having a quarter-wave plate layer and a light reflection layer formed integrally in a panel has been developed, and is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-222351. As shown in FIG. 7, the conventional reflective guest-host liquid crystal display device 101 is assembled using a pair of upper and lower substrates 102 and 103. The pair of substrates 102 and 103 are made of an insulating base material such as glass, quartz, and plastic. At least the lower substrate 102
Has transparency. A guest-host liquid crystal 104 is held between the pair of substrates 102 and 103. The guest-host liquid crystal 104 has a nematic liquid crystal molecule 104a as a main component and a dichroic dye 105. The dichroic dye 105 is a p-type dye having a transition dipole moment substantially parallel to the long axis of the molecule. In the illustrated example, a black dichroic dye is used for black and white display. Although not shown, a switching element including a two-terminal element such as an MIM or a three-terminal element such as a TFT, and pixel electrodes 106 arranged in a matrix are formed on the inner surface 102a of the upper substrate 102 on the incident side. . Upper substrate 1 on which switching elements and pixel electrodes 106 are formed
An alignment layer 107 made of a polyimide resin or the like is further formed on the inner surface 102a of the substrate 02. This alignment layer 107
Has been subjected to a rubbing treatment, and the liquid crystal molecules 104
a is horizontally aligned (homogeneous alignment) along the rubbing direction. On the other hand, the inner surface 103 of the lower substrate 103
On a, a light reflecting layer 108 and a quarter-wave plate layer 109 are formed in this order. On the surface of the quarter-wave plate layer 109, a counter electrode 110 and an alignment layer 111 are formed in this order. The orientation layer 111 is made of a polyimide resin or the like, like the facing orientation layer 107, and its surface is rubbed. When no voltage is applied, the liquid crystal molecules 104a are horizontally aligned, and the dichroic dye 105 is also horizontally aligned. In this horizontal alignment state, the display device exhibits black. When a voltage is applied between the pixel electrode 106 and the counter electrode 110, the liquid crystal molecules 104a rise, and the dichroic dye 105 rises accordingly. The display device is in a so-called vertical alignment (homeotropic alignment) state, and the display device exhibits white.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】以上の様に、従来の反
射型ゲストホスト液晶表示装置では印加電圧をオン/オ
フする事で画素毎に白黒表示を切換えている。電圧無印
加では黒表示となり電圧印加では白表示となり、所謂ノ
ーマリブラックモードである。これとは逆に電圧無印加
で白表示となり電圧印加で黒表示となる場合はノーマリ
ホワイトモードと呼ばれる。ノーマリホワイトモードは
ノーマリブラックモードに比べ駆動特性や表示品位の観
点から有利な場合がある。しかしながら、ノーマリホワ
イトモードを得る為には従来困難とされていたゲストホ
スト液晶の垂直配向を精密且つ安定的に制御する必要が
ある。本発明はゲストホスト液晶に対する配向制御を改
善して高品位のノーマリホワイトモードの反射型ゲスト
ホスト液晶表示装置を提供する事を目的とする。
As described above, in the conventional reflection type guest-host liquid crystal display device, monochrome display is switched for each pixel by turning on / off the applied voltage. When no voltage is applied, black is displayed, and when voltage is applied, white is displayed. This is a so-called normally black mode. Conversely, the case where white display is made when no voltage is applied and black display is made when a voltage is applied is called a normally white mode. The normally white mode may be more advantageous than the normally black mode in terms of driving characteristics and display quality. However, in order to obtain a normally white mode, it is necessary to precisely and stably control the vertical alignment of the guest-host liquid crystal, which has been conventionally difficult. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a high-quality normally white mode reflective guest-host liquid crystal display device with improved orientation control for a guest-host liquid crystal.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上述した本発明の目的を
達成する為に以下の手段を講じた。即ち本発明にかかる
反射型ゲストホスト液晶表示装置は基本的な構成とし
て、所定の間隙を介して互いに接合した一対の基板と、
二色性色素を含有し該間隙に保持されたゲストホスト液
晶とを備えている。一方の基板に少なくとも対向電極が
形成されている。他方の基板には下から順に少なくとも
光反射層、所定の光学軸を有する四分の一波長板層及び
画素電極が積層されている。本発明の特徴事項として、
一対の基板の片方又は両方で該ゲストホスト液晶に接す
る界面に沿って該ゲストホスト液晶を略垂直に配向させ
る為の配向層が形成されている。そして、前記配向層は
該四分の一波長板層の光学軸と略45°の角度で交差す
る方向に沿ってラビング処理が施されており、略垂直配
向した該ゲストホスト液晶に対して該交差方向に所望の
プレティルトを付与する。
In order to achieve the above object of the present invention, the following measures have been taken. That is, the reflective guest-host liquid crystal display device according to the present invention has, as a basic configuration, a pair of substrates bonded to each other via a predetermined gap,
A guest-host liquid crystal containing a dichroic dye and held in the gap. At least a counter electrode is formed on one of the substrates. On the other substrate, at least a light reflecting layer, a quarter-wave plate layer having a predetermined optical axis, and a pixel electrode are laminated in order from the bottom. As features of the present invention,
An alignment layer for aligning the guest-host liquid crystal substantially vertically is formed on one or both of the pair of substrates along an interface in contact with the guest-host liquid crystal. The alignment layer has been subjected to a rubbing process along a direction intersecting at an angle of approximately 45 ° with the optical axis of the quarter-wave plate layer, and the guest host liquid crystal that has been substantially vertically aligned has the rubbing treatment. Apply the desired pretilt in the cross direction.

【0005】好ましくは、前記配向層はプレティルトの
角度が45°以下となる様にラビング処理されている。
又、前記配向層はポリイミドを含有した溶剤を塗工した
ポリイミド膜からなる。この場合、前記四分の一波長板
層は該溶剤に対して耐性を有し且つ該光学軸に沿って配
向した高分子液晶膜からなる。又好ましくは、前記ゲス
トホスト液晶を保持する間隙の寸法が2μmないし10
μmの範囲に設定されている。この場合、前記他方の基
板に形成された光反射層は実質的に鏡面を有し、前記一
方の基板には光散乱層が形成されている。
Preferably, the orientation layer is rubbed so that the pretilt angle is 45 ° or less.
The alignment layer is formed of a polyimide film coated with a solvent containing polyimide. In this case, the quarter-wave plate layer is made of a polymer liquid crystal film that is resistant to the solvent and is oriented along the optical axis. Preferably, the size of the gap for holding the guest-host liquid crystal is 2 μm to 10 μm.
It is set in the range of μm. In this case, the light reflection layer formed on the other substrate has a substantially mirror surface, and a light scattering layer is formed on the one substrate.

【0006】本発明によれば、四分の一波長板層及び光
反射層をパネル内に集積した反射型ゲストホスト液晶表
示装置において、上下の基板間に保持されたゲストホス
ト液晶を基本的に垂直配向に制御している。そして、四
分の一波長板層の光学軸と略45°の角度で交差する方
向に沿ってゲストホスト液晶に対し所望のプレティルト
を付与している。この様に、基本的に垂直配向とした上
で、所定の方向にプレティルトを付与する事により、電
圧無印加/電圧印加を切換える際液晶分子の整列方向を
安定化させる事ができ、実用的な画素品位を有するノー
マリホワイトモードの反射型ゲストホスト液晶表示装置
を実現するものである。なお、所望のプレティルトを付
与する為には上下一対の基板の内表面の両方に対して配
向層を形成し且つラビング処理を施こす事が好ましい。
但し、片側の基板に対してのみ配向層を形成し且つラビ
ング処理を施してもある程度の表示品位が期待できる。
仮に、プレティルトを付与しないと電圧を印加した瞬間
に垂直方向から水平方向に倒れる液晶分子の方位が十分
規制されない。この為コントラストが低い微細な領域
(ドメイン)が無数に表われる事になる。
According to the present invention, in a reflection type guest-host liquid crystal display device in which a quarter-wave plate layer and a light reflection layer are integrated in a panel, the guest-host liquid crystal held between upper and lower substrates is basically formed. It is controlled to vertical alignment. Then, a desired pretilt is given to the guest-host liquid crystal along a direction crossing the optical axis of the quarter-wave plate layer at an angle of about 45 °. As described above, by pre-tilting in a predetermined direction after the vertical alignment is basically performed, the alignment direction of the liquid crystal molecules can be stabilized when switching between no voltage application and voltage application, which is practical. It is intended to realize a normally white mode reflection type guest-host liquid crystal display device having pixel quality. In order to provide a desired pretilt, it is preferable to form an alignment layer on both inner surfaces of a pair of upper and lower substrates and to perform a rubbing treatment.
However, a certain degree of display quality can be expected even if an alignment layer is formed on only one substrate and subjected to a rubbing treatment.
If the pretilt is not applied, the orientation of the liquid crystal molecules that fall from the vertical direction to the horizontal direction at the moment when the voltage is applied is not sufficiently regulated. For this reason, countless fine regions (domains) with low contrast appear.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の最良
な実施形態を詳細に説明する。図1は本発明にかかる反
射型ゲストホスト液晶表示装置の構造を示す断面図であ
る。図示する様に、本表示装置は所定の間隙を介して互
いに接合した上下一対の基板1,2を用いて組立てられ
ている。上側の基板1は入射側に位置し透明である一
方、下側の基板2は反射側に位置し必ずしも透明基材を
用いる必要はない。一対の基板1,2の間隙にはゲスト
ホスト液晶3が保持されている。このゲストホスト液晶
3はネマティック液晶分子4を主成分とし、二色性色素
5を含有したものである。上側の基板1の内表面には対
向電極6と配向層7が形成されている。下側の基板2に
は下から順に少なくとも光反射層8、所定の光学軸を有
する四分の一波長板層9及び画素電極10が積層されて
いる。さらに本実施形態ではゲストホスト液晶3に接す
る界面に沿って配向層11が形成されている。即ち一対
の基板1及び2の両方でゲストホスト液晶3に接する界
面に沿って配向層7及び11が形成されており、ゲスト
ホスト液晶3を略垂直に配向している。即ち、基板の水
平面と液晶分子4の長軸とのなす角度θは略90°に近
い。なお、本発明はこれに限られるものではなく一対の
基板1及び2の少なくとも一方に配向層を形成すればよ
い。但し、実用的には両方の基板1及び2に配向層を形
成する事が好ましい。これらの配向層7及び11は四分
の一波長板層9の光学軸と略45°の角度で交差する方
向に沿ってラビング処理が施されている。この結果、略
垂直配向したゲストホスト液晶3の液晶分子4に対して
上述した交差方向(ラビング方向)に所望のプレティル
トを付与している。即ち、基板の垂線と液晶分子4の長
軸とのなす角φがプレティルトであり、本発明では好ま
しくはこのプレティルト角φが45°以下となる様に上
下の配向層7及び11がラビング処理されている。この
配向層7及び11は例えばポリイミドを含有した溶剤を
塗工したポリイミド膜からなる。一方、四分の一波長板
層9は溶剤に対して耐性を有し且つ光学軸に沿って配向
した高分子液晶膜からなる。この様に、耐溶剤性に優れ
た高分子液晶の材料を選択する事により、垂直配向性に
優れたポリイミド膜を配向層として使用する事が可能に
なる。又、このポリイミド膜をラビングする事により所
望のプレティルトを液晶分子4に付与する事ができる。
なお、本発明は配向層としてポリイミド膜に限られるも
のではなく、場合によっては垂直配向を付与可能なシラ
ンカップリング剤を用いる事ができる。なお耐溶剤性に
優れた高分子液晶としては、例えばビフェニルベンゾア
ートをペンダントとして持つ側鎖型液晶性高分子が挙げ
られる。あるいは、この側鎖型液晶性高分子にビフェニ
ルベンゾアートに加えメトキシフェニルをペンダントと
して導入した構造も耐溶剤性に優れている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing the structure of a reflective guest-host liquid crystal display device according to the present invention. As shown in the drawing, the display device is assembled using a pair of upper and lower substrates 1 and 2 joined to each other with a predetermined gap. The upper substrate 1 is located on the incident side and is transparent, while the lower substrate 2 is located on the reflecting side and does not necessarily need to use a transparent substrate. A guest host liquid crystal 3 is held in a gap between the pair of substrates 1 and 2. The guest-host liquid crystal 3 has a nematic liquid crystal molecule 4 as a main component and a dichroic dye 5. On the inner surface of the upper substrate 1, a counter electrode 6 and an alignment layer 7 are formed. On the lower substrate 2, at least a light reflection layer 8, a quarter-wave plate layer 9 having a predetermined optical axis, and a pixel electrode 10 are laminated in this order from the bottom. Further, in the present embodiment, the alignment layer 11 is formed along the interface in contact with the guest-host liquid crystal 3. That is, the alignment layers 7 and 11 are formed along the interface in contact with the guest-host liquid crystal 3 on both the pair of substrates 1 and 2, and the guest-host liquid crystal 3 is aligned substantially vertically. That is, the angle θ between the horizontal plane of the substrate and the long axis of the liquid crystal molecules 4 is close to approximately 90 °. Note that the present invention is not limited to this, and an alignment layer may be formed on at least one of the pair of substrates 1 and 2. However, it is practically preferable to form an alignment layer on both substrates 1 and 2. These alignment layers 7 and 11 are rubbed along a direction that intersects the optical axis of the quarter-wave plate layer 9 at an angle of approximately 45 °. As a result, a desired pretilt is given to the liquid crystal molecules 4 of the guest host liquid crystal 3 which is substantially vertically aligned in the above-described cross direction (rubbing direction). That is, the angle φ between the perpendicular of the substrate and the long axis of the liquid crystal molecules 4 is a pretilt. In the present invention, the upper and lower alignment layers 7 and 11 are preferably subjected to rubbing treatment so that the pretilt angle φ is 45 ° or less. ing. The alignment layers 7 and 11 are made of, for example, a polyimide film coated with a solvent containing polyimide. On the other hand, the quarter-wave plate layer 9 is made of a polymer liquid crystal film having resistance to a solvent and oriented along the optical axis. In this way, by selecting a polymer liquid crystal material having excellent solvent resistance, it becomes possible to use a polyimide film having excellent vertical alignment as an alignment layer. By rubbing the polyimide film, a desired pretilt can be provided to the liquid crystal molecules 4.
In the present invention, the alignment layer is not limited to a polyimide film, and a silane coupling agent capable of providing vertical alignment may be used in some cases. As the polymer liquid crystal having excellent solvent resistance, for example, a side chain type liquid crystal polymer having biphenyl benzoate as a pendant can be used. Alternatively, a structure in which methoxyphenyl is introduced as a pendant in addition to biphenylbenzoate to the side chain type liquid crystalline polymer is also excellent in solvent resistance.

【0008】本反射型ゲストホスト液晶表示装置はアク
ティブマトリクス型であり、下側の基板2には画素電極
10のスイッチング駆動用に薄膜トランジスタ12が形
成されている。この薄膜トランジスタ12はボトムゲー
ト構造を有し、下から順にゲート電極13、ゲート絶縁
膜14、半導体薄膜15、ストッパ16を積層したもの
である。薄膜トランジスタ12は層間絶縁膜17により
被覆されており、薄膜トランジスタ12に連通するコン
タクトホールが開口している。この層間絶縁膜17の上
にはソース電極18及びドレイン電極19がパタニング
形成されており、上述したコンタクトホールを介して薄
膜トランジスタ12に電気接続している。さらに、本実
施形態では、層間絶縁膜17の上に形成された光反射層
8が光散乱タイプである。即ち、この光反射層8は凹凸
が形成された樹脂膜8aとその表面に成膜されたアルミ
ニウム等の金属膜8bとからなる。樹脂膜8aはフォト
リソグラフィーにより凹凸がパタニングされた感光性樹
脂膜である。この感光性樹脂膜8aは例えばフォトレジ
ストからなり、層間絶縁膜17の表面に全面的に塗布さ
れる。これを所定のマスクを介して露光処理し例えば円
柱状にパタニング形成する。次いで加熱してリフローを
施せば凹凸形状が安定的に形成できる。この様にして形
成された凹凸形状の表面に所望の膜厚で良好な光反射率
を有するアルミニウム等の金属膜8bを形成する。凹凸
の深さ寸法を数μmに設定すれば、良好な光散乱特性が
得られ、光反射層8は白色を呈する。なお、本実施形態
では金属膜8bはドレイン電極19と同時にパタニング
加工されこれと同電位に保持される。
The reflection type guest-host liquid crystal display device is of an active matrix type, and a thin film transistor 12 is formed on a lower substrate 2 for driving a switching operation of a pixel electrode 10. The thin film transistor 12 has a bottom gate structure, and is formed by stacking a gate electrode 13, a gate insulating film 14, a semiconductor thin film 15, and a stopper 16 in this order from the bottom. The thin film transistor 12 is covered with an interlayer insulating film 17 and has a contact hole communicating with the thin film transistor 12. A source electrode 18 and a drain electrode 19 are formed on the interlayer insulating film 17 by patterning, and are electrically connected to the thin film transistor 12 via the above-described contact holes. Further, in the present embodiment, the light reflection layer 8 formed on the interlayer insulating film 17 is of a light scattering type. That is, the light reflecting layer 8 is composed of a resin film 8a having irregularities and a metal film 8b such as aluminum formed on the surface thereof. The resin film 8a is a photosensitive resin film having irregularities patterned by photolithography. The photosensitive resin film 8a is made of, for example, a photoresist, and is applied to the entire surface of the interlayer insulating film 17. This is exposed through a predetermined mask to form, for example, a columnar pattern. Then, by heating and performing reflow, the uneven shape can be formed stably. A metal film 8b made of aluminum or the like having a desired film thickness and good light reflectance is formed on the surface of the concavo-convex shape thus formed. If the depth dimension of the unevenness is set to several μm, good light scattering characteristics can be obtained, and the light reflection layer 8 exhibits white. In this embodiment, the metal film 8b is patterned at the same time as the drain electrode 19 and is kept at the same potential.

【0009】薄膜トランジスタ12及び光反射層8の凹
凸を埋める様に平坦化層20が形成されている。この平
坦化層20はアクリル樹脂等透明な有機物を用いる事が
望ましい。平坦化層20の表面に下地配向層21が成膜
されている。この下地配向層21は所定の方向に沿って
ラビング処理されている。四分の一波長板層9を構成す
る高分子液晶膜はこのラビング方向に沿って一軸配向す
る。従って、このラビング方向が四分の一波長板層9の
光学軸を規定する事になる。この様に、平坦化層20を
介在させる事で下地配向層21の成膜及びラビング処理
が安定に行なえる。この結果、四分の一波長板層9が精
度よく形成できる。
[0009] A flattening layer 20 is formed so as to fill the irregularities of the thin film transistor 12 and the light reflecting layer 8. The flattening layer 20 is desirably made of a transparent organic material such as an acrylic resin. An underlying alignment layer 21 is formed on the surface of the planarization layer 20. The underlying alignment layer 21 has been rubbed along a predetermined direction. The polymer liquid crystal film constituting the quarter-wave plate layer 9 is uniaxially oriented along the rubbing direction. Therefore, the rubbing direction defines the optical axis of the quarter-wave plate layer 9. In this manner, the interposition of the planarizing layer 20 enables stable formation of the underlying alignment layer 21 and rubbing. As a result, the quarter-wave plate layer 9 can be formed accurately.

【0010】四分の一波長板層9、下地配向層21及び
平坦化層20を貫通してコンタクトホール22が形成さ
れている。このコンタクトホール22は薄膜トランジス
タ12のドレイン電極19に連通している。前述した画
素電極10は四分の一波長板層9の上にパタニング形成
されており、コンタクトホール22を介してドレイン電
極19に電気接続している。図1に示した状態は画素電
極10に電圧が印加されておらずゲストホスト液晶3は
略垂直配向(ホメオトロピック配向)している。従っ
て、このオフ状態では表示装置は白色を呈し、所謂ノー
マリホワイトモードである。
[0010] A contact hole 22 is formed through the quarter-wave plate layer 9, the underlying alignment layer 21 and the planarizing layer 20. The contact hole 22 communicates with the drain electrode 19 of the thin film transistor 12. The above-described pixel electrode 10 is formed on the quarter-wave plate layer 9 by patterning, and is electrically connected to the drain electrode 19 via the contact hole 22. In the state shown in FIG. 1, no voltage is applied to the pixel electrode 10, and the guest-host liquid crystal 3 is substantially vertically aligned (homeotropically aligned). Accordingly, in the off state, the display device exhibits white, which is a so-called normally white mode.

【0011】図2は薄膜トランジスタ12を介して画素
電極10に電圧を印加した状態を表わしている。このオ
ン状態では液晶分子4が垂直方向から水平方向に倒れ略
水平配向(ホモジニアス配向)している。この結果、本
表示装置は黒表示となる。アクティブマトリクス型の表
示装置では白/黒の切換えは画素単位で行なう事ができ
る。
FIG. 2 shows a state where a voltage is applied to the pixel electrode 10 via the thin film transistor 12. In this ON state, the liquid crystal molecules 4 are tilted from the vertical direction to the horizontal direction and are substantially horizontally aligned (homogeneous alignment). As a result, the display device performs black display. In an active matrix type display device, white / black switching can be performed in pixel units.

【0012】図3は配向層のラビング方向と四分の一波
長板層の光学軸との関係を示す模式図である。図示する
様に、四分の一波長板層9の光学軸9aは下地配向層の
ラビング方向に沿って一定方位に規定されている。これ
に対し、上側の基板1に形成された配向層7のラビング
方向7aは光学軸9aに対して45°の角度で交差して
いる。同様に、下側の基板2に形成された配向層11の
ラビング方向11aも光学軸9aに対して45°の角度
で交差している。なお、ラビング方向7aと11aは互
いに反対である。かかるラビング処理により、略垂直配
向したゲストホスト液晶3の液晶分子4に対して光学軸
9aと45°の交差方向(ラビング方向)に所望のプレ
ティルト(図1のφ)を付与する事ができる。このプレ
ティルトにより、電圧印加状態では全ての液晶分子4が
光学軸9aと45°の角度をなす交差方向に倒れ込む事
になり、一様な黒表示状態が得られる。
FIG. 3 is a schematic diagram showing the relationship between the rubbing direction of the alignment layer and the optical axis of the quarter-wave plate layer. As shown in the drawing, the optical axis 9a of the quarter-wave plate layer 9 is defined to have a fixed direction along the rubbing direction of the base alignment layer. On the other hand, the rubbing direction 7a of the alignment layer 7 formed on the upper substrate 1 crosses the optical axis 9a at an angle of 45 °. Similarly, the rubbing direction 11a of the alignment layer 11 formed on the lower substrate 2 also crosses the optical axis 9a at an angle of 45 °. The rubbing directions 7a and 11a are opposite to each other. By such a rubbing treatment, a desired pretilt (φ in FIG. 1) can be imparted to the liquid crystal molecules 4 of the guest host liquid crystal 3 that is substantially vertically aligned in a direction (rubbing direction) crossing the optical axis 9a at 45 °. Due to this pretilt, all the liquid crystal molecules 4 fall down in the direction of intersection with the optical axis 9a at an angle of 45 ° under the voltage applied state, and a uniform black display state is obtained.

【0013】引続き図1〜図3を参照して、本発明にか
かる反射型ゲストホスト液晶表示装置の動作を詳細に説
明する。前述した様に、ゲストホスト液晶3は印加電圧
に応じて黒状態(吸収状態)と白状態(等価状態)に変
化する。図2は電圧印加に応じた吸収状態を表わしてい
る。図示する様に、この吸収状態ではネマティック液晶
分子4は水平配向しており、これに応じて二色性色素5
も水平配向している。本発明では電圧印加で図示の吸収
状態を実現している。この為、ネマティック液晶分子4
は負の誘電異方性を有するものを用いる。この吸収状態
ではゲストホスト液晶3は入射光に含まれる第1振動成
分Xを略吸収する一方、これと直交する第2振動成分Y
を略透過する。この際、四分の一波長板層9は図3に示
した様にその光学軸9aが吸収状態にあるゲストホスト
液晶3の水平配向方向と45°の角度で交差している。
吸収状態を透過した第2振動成分Y(直線偏光成分)の
振動方向はこのゲストホスト液晶3の水平配向方向と直
交している。又、この第2振動成分Yは四分の一波長板
層9の光学軸9aと45°の角度で交差している。第2
振動成分Y(直線偏光)は四分の一波長板層9を通過す
ると円偏光に変換される。この円偏光は光反射層8で反
射された後再び四分の一波長板層9に入射すると、元の
第2振動成分Yと直交する直線偏光(第1振動成分X)
に変換される。この様にして変換された第1振動成分X
は吸収状態にあるゲストホスト液晶3により吸収される
事になる。
The operation of the reflective guest-host liquid crystal display device according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. As described above, the guest-host liquid crystal 3 changes between a black state (absorption state) and a white state (equivalent state) according to the applied voltage. FIG. 2 shows the absorption state according to the voltage application. As shown, in this absorption state, the nematic liquid crystal molecules 4 are horizontally aligned, and accordingly, the dichroic dye 5
Are also horizontally oriented. In the present invention, the illustrated absorption state is realized by applying a voltage. Therefore, nematic liquid crystal molecules 4
Is used having a negative dielectric anisotropy. In this absorption state, the guest-host liquid crystal 3 substantially absorbs the first vibration component X included in the incident light, and the second vibration component Y orthogonal to the first vibration component X.
Is substantially transmitted. At this time, as shown in FIG. 3, the quarter-wave plate layer 9 has its optical axis 9a crossing the horizontal alignment direction of the guest-host liquid crystal 3 in the absorbing state at an angle of 45 °.
The vibration direction of the second vibration component Y (linearly polarized light component) transmitted through the absorption state is orthogonal to the horizontal alignment direction of the guest-host liquid crystal 3. The second vibration component Y intersects the optical axis 9a of the quarter-wave plate layer 9 at an angle of 45 °. Second
The vibration component Y (linearly polarized light) is converted into circularly polarized light when passing through the quarter-wave plate layer 9. When this circularly polarized light is reflected by the light reflection layer 8 and then enters the quarter-wave plate layer 9 again, it becomes linearly polarized light (first vibration component X) orthogonal to the original second vibration component Y.
Is converted to The first vibration component X thus converted
Is absorbed by the guest-host liquid crystal 3 in the absorbing state.

【0014】これに対し図1はゲストホスト液晶3の透
過状態を表わしており、ネマティック液晶分子4は略垂
直配向している。これに合わせて二色性色素5も垂直配
向している。従って、第1振動成分X及び第2振動成分
Yともにゲストホスト液晶3を略全面的に透過する。反
射光は第1振動成分と第2振動成分が互いに入れ換わる
だけであり、何ら光変調を受けない。本発明では、前述
した様に電圧無印加でネマティック液晶分子4の垂直配
向を実現している。即ち、配向層7及び11の材料等を
適宜選択する事により、ネマティック液晶分子4を垂直
配向(ホメオトロピック配向)する事ができる。この場
合には、誘電異方性が負のネマティック液晶分子4を用
い、電圧印加に応じて水平配向に切換える。この時、水
平配向方向を一定とする為、本発明では垂直配向状態で
予めネマティック液晶分子4に所定のプレティルトφを
付けておく。この場合、プレティルトを持った液晶分子
4の余弦方向に対して45°の角度を持つ様に、四分の
一波長板層9の光学軸が設定されていることは前述した
通りである。
FIG. 1 shows the transmission state of the guest-host liquid crystal 3 in which the nematic liquid crystal molecules 4 are substantially vertically aligned. In accordance with this, the dichroic dye 5 is also vertically aligned. Therefore, both the first vibration component X and the second vibration component Y transmit the guest host liquid crystal 3 substantially entirely. In the reflected light, only the first vibration component and the second vibration component are exchanged with each other, and the reflected light is not subjected to any light modulation. In the present invention, as described above, the vertical alignment of the nematic liquid crystal molecules 4 is realized without applying a voltage. That is, the nematic liquid crystal molecules 4 can be vertically aligned (homeotropically aligned) by appropriately selecting the materials and the like of the alignment layers 7 and 11. In this case, the nematic liquid crystal molecules 4 having a negative dielectric anisotropy are used, and the liquid crystal is switched to the horizontal alignment according to the voltage application. At this time, in order to keep the horizontal alignment direction constant, in the present invention, a predetermined pretilt φ is previously attached to the nematic liquid crystal molecules 4 in the vertical alignment state. In this case, as described above, the optical axis of the quarter-wave plate layer 9 is set to have an angle of 45 ° with respect to the cosine direction of the liquid crystal molecules 4 having pretilt.

【0015】以上の動作説明をまとめると以下の様にな
る。図2に示した水平配向状態で、外部から光が入射し
た場合を考える。先ず、入射光は互いに直交する偏光成
分である第1振動成分Xと第2振動成分Yに別けて考え
る事ができる。第1振動成分Xは液晶分子4の水平配向
方向と同一である為、同じ方向に配向している二色性色
素5によって吸収される。しかし、第2振動成分Yは色
素分子の配向方向と直交している為全く吸収されない。
従って、第2振動成分Yはゲストホスト液晶3を通過
し、さらに四分の一波長板層9に進入する。さらに、光
反射層8で反射され、再び四分の一波長板層9を通過す
る。第2振動成分Yは四分の一波長板層9を往復で2回
通った事になり、偏光方向が90°回転する。そうする
と、今度は液晶分子4の配向方向と一致する為光は吸収
される。この様にして入射光に含まれる全ての振動成分
が往路あるいは復路のどちらかで吸収される為、偏光板
なしで偏光板つきの透過型ゲストホスト液晶表示装置並
のコントラストが得られる。一方、図1に示した透過状
態では全ての二色性色素5が略液晶分子4に習って垂直
配向している。従って、入射光に含まれる第1振動成分
X及び第2振動成分Yはそのまま透過し且つ光反射層8
で反射された後出射する。
The above operation is summarized as follows. Consider a case where light is incident from the outside in the horizontal alignment state shown in FIG. First, incident light can be considered separately for a first vibration component X and a second vibration component Y, which are polarization components orthogonal to each other. Since the first vibration component X is the same as the horizontal alignment direction of the liquid crystal molecules 4, it is absorbed by the dichroic dye 5 aligned in the same direction. However, the second vibration component Y is not absorbed at all because it is orthogonal to the orientation direction of the dye molecules.
Therefore, the second vibration component Y passes through the guest-host liquid crystal 3 and further enters the quarter-wave plate layer 9. Further, the light is reflected by the light reflection layer 8 and again passes through the quarter-wave plate layer 9. The second vibration component Y has passed through the quarter-wave plate layer 9 twice in a reciprocating manner, and the polarization direction is rotated by 90 °. Then, the light is absorbed because it now matches the alignment direction of the liquid crystal molecules 4. In this way, all the vibration components contained in the incident light are absorbed in either the outward path or the return path, so that a contrast similar to that of a transmission type guest-host liquid crystal display device with a polarizing plate can be obtained without a polarizing plate. On the other hand, in the transmission state shown in FIG. 1, all the dichroic dyes 5 are vertically aligned substantially like the liquid crystal molecules 4. Therefore, the first vibration component X and the second vibration component Y included in the incident light are transmitted as they are and the light reflection layer 8
It is emitted after being reflected by.

【0016】図4は、本発明にかかる反射型ゲストホス
ト液晶表示装置の他の実施形態を示しており、図1に示
した先の実施形態と対応する部分には対応する参照番号
を付して理解を容易にしている。異なる点は、下側の基
板2に形成された光反射層8cが実質的に鏡面を有する
一方、上側の基板1には光散乱層が形成されている事で
ある。この光散乱層は上側の基板1に形成されたカラー
フィルタ層23に一体的に作り込まれている。なお、こ
のカラーフィルタ層23は個々の画素電極10に対応し
て例えば赤(R),緑(G),青(B)毎にセグメント
化して着色されている。この場合、上下一対の基板1及
び2の間隙寸法は2μmないし10μmに設定する事が
好ましい。この間隙寸法は一対の基板1及び2の間に介
在するスペーサの厚みによって決定され、ゲストホスト
液晶3の厚みと一致とする。図4に示した構造では光散
乱層(光拡散層)が上側の基板1にある為、入射光に対
し若干の後方散乱成分が存在し、黒表示時の沈み込みが
小さくなる。この為、間隙寸法を厚めに設定する方がよ
い。これに対し、図1の構造ではこの様な問題はない
が、金属膜8bの下地として凹凸を有する樹脂膜8aを
形成するプロセスを追加する必要が生じる。
FIG. 4 shows another embodiment of the reflection type guest-host liquid crystal display device according to the present invention, and portions corresponding to those of the previous embodiment shown in FIG. Easy to understand. The difference is that the light reflecting layer 8c formed on the lower substrate 2 has a substantially mirror surface, while the light scattering layer is formed on the upper substrate 1. This light scattering layer is formed integrally with the color filter layer 23 formed on the upper substrate 1. The color filter layer 23 is segmented and colored, for example, into red (R), green (G), and blue (B) corresponding to each pixel electrode 10. In this case, the gap between the upper and lower substrates 1 and 2 is preferably set to 2 μm to 10 μm. This gap size is determined by the thickness of the spacer interposed between the pair of substrates 1 and 2, and is assumed to be equal to the thickness of the guest-host liquid crystal 3. In the structure shown in FIG. 4, since the light scattering layer (light diffusion layer) is on the upper substrate 1, there is a slight backscattering component with respect to the incident light, and the sinking during black display is reduced. For this reason, it is better to set the gap size to be thicker. On the other hand, the structure shown in FIG. 1 does not have such a problem. However, it is necessary to add a process of forming a resin film 8a having irregularities as a base of the metal film 8b.

【0017】次に図5を参照して、四分の一波長板層の
形成方法を具体的に説明する。なお、この図では理解を
容易にする為基板51の表面に四分の一波長板層53を
形成している。先ず(A)に示す配向工程を行ない、ガ
ラス等の絶縁性基板51の表面を所定の配向方向に沿っ
て配向処理する。例えば、基板51の表面にポリイミド
フィルムを下地配向層として成膜した後、配向方向に沿
ってこのポリイミドフィルムをラビングすればよい。場
合によっては基板51の表面を直にラビングしてもよ
い。次に(B)に示す成膜工程を行ない、高分子液晶5
2からなる成膜材料を所定の膜厚で基板51の上に成膜
する。この高分子液晶は所定の転移点を境にして高温側
のネマティック液晶相と低温側のガラス固体相との間を
相転移可能な材料である。例えば、この高分子液晶52
は室温でガラス状態であり、好ましくは100℃以上に
転移点を持つ主鎖型もしくは側鎖型である。この高分子
液晶は光学的には可視領域に吸収のない透明物質であ
る。この高分子液晶を有機溶媒(例えばシクロヘキサノ
ンとn−ブタノンの混合溶液)に溶解させた後、スピン
コーティングによって基板51の表面に塗布する。な
お、スピンコーティングに変え、ディッピング又はスク
リーン印刷等を用いて基板51の表面に塗布してもよ
い。スピンコーティングを行なう場合、溶液の濃度やス
ピン回転数等の条件を適宜設定して、形成される薄膜の
膜厚が可視光領域でλ/4の位相差を生じさせる様にす
る(λは入射光の波長を示す)。最後に(C)に示す温
度処理工程を行ない、基板51を一旦転移点以上に加熱
した後、転移点以下の室温まで徐冷し、成膜された高分
子液晶52を配向方向に整列させて所望の一軸光学軸を
有する四分の一波長板層53を形成する。例えば、10
0℃以上の転移点を有し高分子の主鎖又は側鎖に液晶分
子を導入した高分子液晶材料に対して加熱及び徐冷を行
なう。図示する様に、成膜段階では高分子液晶52に含
まれる液晶分子はランダムな整列状態にあるのに対し、
徐冷後では液晶分子は配向方向に沿って整列し、所望の
一軸光学異方性が得られる。具体的には、高分子液晶5
2を成膜した基板51を予めネマティック相温度又はイ
ソトロピック相温度に設定されたオーブンに投入して加
熱する。その後徐冷して室温まで戻す。これによってコ
ーティングされた高分子液晶52が予め配向処理してお
いた基板51の配向方向に整列する。
Next, a method for forming a quarter-wave plate layer will be specifically described with reference to FIG. In this figure, a quarter-wave plate layer 53 is formed on the surface of the substrate 51 for easy understanding. First, an alignment step shown in FIG. 1A is performed, and the surface of an insulating substrate 51 such as glass is aligned along a predetermined alignment direction. For example, after a polyimide film is formed as a base alignment layer on the surface of the substrate 51, the polyimide film may be rubbed along the alignment direction. In some cases, the surface of the substrate 51 may be directly rubbed. Next, the film forming step shown in FIG.
2 is formed on the substrate 51 with a predetermined thickness. This polymer liquid crystal is a material capable of phase transition between a high temperature side nematic liquid crystal phase and a low temperature side glass solid phase at a predetermined transition point. For example, this polymer liquid crystal 52
Is in a glassy state at room temperature, and is preferably a main chain type or a side chain type having a transition point at 100 ° C. or higher. This polymer liquid crystal is a transparent substance that does not optically absorb in the visible region. The polymer liquid crystal is dissolved in an organic solvent (for example, a mixed solution of cyclohexanone and n-butanone), and then applied to the surface of the substrate 51 by spin coating. Note that, instead of spin coating, the surface of the substrate 51 may be applied using dipping or screen printing. When spin coating is performed, conditions such as the concentration of the solution and the number of spin rotations are appropriately set so that the film thickness of the formed thin film causes a phase difference of λ / 4 in the visible light region (where λ is incident light). Indicates the wavelength of light). Finally, a temperature treatment step shown in (C) is performed. After the substrate 51 is once heated to a temperature equal to or higher than the transition point, the substrate 51 is gradually cooled to room temperature equal to or lower than the transition point, and the deposited polymer liquid crystal 52 is aligned in the alignment direction. A quarter-wave plate layer 53 having a desired uniaxial optical axis is formed. For example, 10
Heating and slow cooling are performed on a polymer liquid crystal material having a transition point of 0 ° C. or higher and liquid crystal molecules introduced into the main chain or side chain of the polymer. As shown, the liquid crystal molecules contained in the polymer liquid crystal 52 are in a random alignment state at the film formation stage,
After slow cooling, the liquid crystal molecules are aligned along the alignment direction, and a desired uniaxial optical anisotropy can be obtained. Specifically, the polymer liquid crystal 5
The substrate 51 on which the film 2 is formed is put into an oven set to a nematic phase temperature or an isotropic phase temperature in advance and heated. Then, cool slowly and return to room temperature. As a result, the coated polymer liquid crystal 52 is aligned in the alignment direction of the substrate 51 which has been subjected to the alignment processing in advance.

【0018】続いて図6を参照して配向層の形成方法を
説明する。(A)に示す塗工工程を行ない、予め少なく
とも電極72が形成された基板71の表面に有機配向剤
73を塗布する。この塗工工程は例えば回転塗布法もし
くは印刷塗布法によって行なう。なお、この塗工工程に
先立って基板71は予め洗浄されている。有機配向剤7
3としては例えばポリイミド樹脂を所定の溶媒に溶かし
たものを用いる。次に(B)に示す乾燥工程を行なう。
即ち、比較的低い温度で基板71を加熱し、その表面に
塗布された有機配向剤を乾燥して有機配向膜73aを形
成する。ここではポリイミド樹脂を溶媒に溶かした有機
配向剤を加熱処理し溶媒を飛ばしている。さらに(C)
に示すラビング工程を行なう。即ち、有機配向膜73a
を回転ローラ74に巻付けられたバフ材75で一定の方
向(矢印で示す)にラビングして液晶分子に対する配向
能を付与する。具体的には、ネマティック液晶分子を略
垂直配向すると共に、ラビング方向に沿って45°以下
のプレティルトを付与する。なお、有機配向剤はポリイ
ミドに限られるものではなく、垂直配向用のシランカッ
プリング剤を用いてもよい。
Next, a method for forming an alignment layer will be described with reference to FIG. (A) is performed, and an organic alignment agent 73 is applied to at least the surface of the substrate 71 on which the electrodes 72 are formed in advance. This coating step is performed by, for example, a spin coating method or a printing coating method. Note that the substrate 71 has been cleaned before the coating step. Organic alignment agent 7
As 3, for example, one obtained by dissolving a polyimide resin in a predetermined solvent is used. Next, a drying step shown in FIG.
That is, the substrate 71 is heated at a relatively low temperature, and the organic alignment agent applied to the surface is dried to form the organic alignment film 73a. Here, an organic alignment agent obtained by dissolving a polyimide resin in a solvent is subjected to heat treatment to remove the solvent. Further (C)
Is performed. That is, the organic alignment film 73a
Is rubbed in a certain direction (indicated by an arrow) with a buff material 75 wound around a rotating roller 74 to impart an alignment ability to liquid crystal molecules. Specifically, the nematic liquid crystal molecules are aligned substantially vertically, and a pretilt of 45 ° or less is provided along the rubbing direction. The organic alignment agent is not limited to polyimide, and a silane coupling agent for vertical alignment may be used.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、一
対の基板の片方又は両方でゲストホスト液晶に接する界
面に沿ってゲストホスト液晶を略垂直に配向する為の配
向層を形成し、ノーマリホワイトモードの反射型ゲスト
ホスト液晶表示装置を得ている。この配向層は四分の一
波長板層の光学軸と略45°の角度で交差する方向に沿
ってラビング処理が施こされており、略垂直配向したゲ
ストホスト液晶に対して交差方向に所望のプレティルト
を付与している。これにより電圧の印加をオン/オフし
た場合に安定した液晶分子の応答特性が得られる。この
為、ホメオトロピック配向を利用したノーマリホワイト
モードの反射型ゲストホスト液晶表示装置を高品位化す
る事が可能になる。
As described above, according to the present invention, an alignment layer for aligning a guest-host liquid crystal substantially vertically along an interface in contact with the guest-host liquid crystal on one or both of a pair of substrates is formed. Thus, a normally white mode reflection type guest-host liquid crystal display device is obtained. The alignment layer has been subjected to rubbing along a direction intersecting the optical axis of the quarter-wave plate layer at an angle of approximately 45 °, and the rubbing process is performed in the direction perpendicular to the guest-host liquid crystal that is substantially vertically aligned. Pretilt is given. Thereby, a stable response characteristic of the liquid crystal molecules can be obtained when the application of the voltage is turned on / off. For this reason, it is possible to improve the quality of a normally white mode reflection type guest-host liquid crystal display device using homeotropic alignment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる反射型ゲストホスト液晶表示装
置の基本的な構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a basic configuration of a reflective guest-host liquid crystal display device according to the present invention.

【図2】電圧印加状態における反射型ゲストホスト液晶
表示装置の液晶分子配向を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a liquid crystal molecule orientation of a reflection type guest-host liquid crystal display device in a voltage applied state.

【図3】四分の一波長板層の光学軸と配向層のラビング
方向との関係を示す模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a relationship between an optical axis of a quarter-wave plate layer and a rubbing direction of an alignment layer.

【図4】本発明にかかる反射型ゲストホスト液晶表示装
置の他の実施形態を示す部分断面図である。
FIG. 4 is a partial sectional view showing another embodiment of the reflection type guest-host liquid crystal display device according to the present invention.

【図5】四分の一波長板層の形成方法を示す工程図であ
る。
FIG. 5 is a process chart showing a method of forming a quarter-wave plate layer.

【図6】配向層の形成方法を示す工程図である。FIG. 6 is a process chart showing a method for forming an alignment layer.

【図7】従来の反射型ゲストホスト液晶表示装置の一例
を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating an example of a conventional reflective guest-host liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基板、2…基板、3…ゲストホスト液晶、4…液晶
分子、5…二色性色素、6…対向電極、7…配向層、8
…光反射層、9…四分の一波長板層、10…画素電極、
11…配向層、12…薄膜トランジスタ、20…平坦化
層、21…下地配向層、22…コンタクトホール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Substrate, 3 ... Guest host liquid crystal, 4 ... Liquid crystal molecule, 5 ... Dichroic dye, 6 ... Counter electrode, 7 ... Alignment layer, 8
… Light reflection layer, 9… quarter wavelength plate layer, 10… pixel electrode,
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Orientation layer, 12 ... Thin film transistor, 20 ... Flattening layer, 21 ... Underlying orientation layer, 22 ... Contact hole

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 占部 哲夫 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 宗像 昌樹 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tetsuo Urabe 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Masaki Munakata 6-35, Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo No. Sony Corporation

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定の間隙を介して互いに接合した一対
の基板と二色性色素を含有し該間隙に保持されたゲスト
ホスト液晶とを備え、一方の基板には少なくとも対向電
極が形成されており、他方の基板には下から順に少なく
とも光反射層、所定の光学軸を有する四分の一波長板層
及び画素電極が積層されている反射型ゲストホスト液晶
表示装置であって、 一対の基板の片方又は両方で該ゲストホスト液晶に接す
る界面に沿って該ゲストホスト液晶を略垂直に配向する
為の配向層が形成されており、 前記配向層は該四分の一波長板層の光学軸と略45°の
角度で交差する方向に沿ってラビング処理が施されてお
り、略垂直配向した該ゲストホスト液晶に対して該交差
方向に所望のプレティルトを付与する事を特徴とする反
射型ゲストホスト液晶表示装置。
1. A semiconductor device comprising: a pair of substrates joined to each other via a predetermined gap; and a guest-host liquid crystal containing a dichroic dye and held in the gap. One of the substrates has at least a counter electrode formed thereon. A reflection-type guest-host liquid crystal display device in which at least a light reflection layer, a quarter-wave plate layer having a predetermined optical axis, and a pixel electrode are laminated on the other substrate in order from the bottom, An alignment layer for aligning the guest-host liquid crystal substantially vertically along an interface that is in contact with the guest-host liquid crystal on one or both of the alignment layers, and the alignment layer is an optical axis of the quarter-wave plate layer. And a rubbing process is performed along a direction intersecting at an angle of approximately 45 ° with the guest host liquid crystal, which is substantially vertically aligned, to impart a desired pretilt in the intersecting direction. Host liquid crystal Display devices.
【請求項2】 前記配向層はプレティルトの角度が45
°以下となる様にラビング処理されている事を特徴とす
る請求項1記載の反射型ゲストホスト液晶表示装置。
2. The alignment layer according to claim 1, wherein the pretilt angle is 45.
2. The reflection-type guest-host liquid crystal display device according to claim 1, wherein a rubbing treatment is performed so as to be equal to or less than a degree.
【請求項3】 前記配向層はポリイミドを含有した溶剤
を塗工したポリイミド膜からなり、前記四分の一波長板
層は該溶剤に対して耐性を有し且つ該光学軸に沿って配
向した高分子液晶膜からなる事を特徴とする請求項1記
載の反射型ゲストホスト液晶表示装置。
3. The alignment layer comprises a polyimide film coated with a solvent containing polyimide, and the quarter-wave plate layer has resistance to the solvent and is oriented along the optical axis. 2. The reflective guest-host liquid crystal display device according to claim 1, comprising a polymer liquid crystal film.
【請求項4】 前記ゲストホスト液晶を保持する間隙の
寸法が2μmないし10μmの範囲に設定されている事
を特徴とする請求項1記載の反射型ゲストホスト液晶表
示装置。
4. The reflective guest-host liquid crystal display device according to claim 1, wherein the size of the gap for holding the guest-host liquid crystal is set in a range of 2 μm to 10 μm.
【請求項5】 前記他方の基板に形成された光反射層は
実質的に鏡面を有し、前記一方の基板には光散乱層が形
成されている事を特徴とする請求項4記載の反射型ゲス
トホスト液晶表示装置。
5. The reflection according to claim 4, wherein the light reflection layer formed on the other substrate has a substantially mirror surface, and a light scattering layer is formed on the one substrate. Type guest host liquid crystal display device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6507381B1 (en) 1997-05-26 2003-01-14 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal panel having tilted liquid crystal molecules and liquid crystal display using the liquid crystal panel

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