JPH10104415A - Color filter, liquid crystal element using the same, production of these, and ink for ink-jet process used for production - Google Patents

Color filter, liquid crystal element using the same, production of these, and ink for ink-jet process used for production

Info

Publication number
JPH10104415A
JPH10104415A JP25722996A JP25722996A JPH10104415A JP H10104415 A JPH10104415 A JP H10104415A JP 25722996 A JP25722996 A JP 25722996A JP 25722996 A JP25722996 A JP 25722996A JP H10104415 A JPH10104415 A JP H10104415A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ink
color filter
liquid crystal
color
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP25722996A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akio Kashiwazaki
昭夫 柏崎
Katsuhiro Shirota
勝浩 城田
Koichiro Nakazawa
広一郎 中澤
Masafumi Hirose
雅史 広瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP25722996A priority Critical patent/JPH10104415A/en
Publication of JPH10104415A publication Critical patent/JPH10104415A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter having sufficient heat resistance, solvent resistance and high resolution without causing mixing of colors, irregular colors or voids in colors in simplified production processes by using an ink jet method. SOLUTION: A black matrix 2 is formed on a substrate 1, and an ink 4 composed of a coloring agent and a reactive nylon resin is injected from an ink jet printer on the openings of the black matrix 2. The ink 4 on the substrate is hardened by heat treatment to form a color filter. If necessary, a protective film 5 is formed on the filter.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー表示装置な
どに用いられるカラーフィルター及びその製造方法に関
し、特に、カラーテレビや車載テレビ、パーソナルコン
ピュータ、パチンコ遊戯台等に使用されるカラー液晶表
示装置に好適なカラーフィルター及び該カラーフィルタ
ーを用いた液晶素子、これらの製造方法、さらには該製
造方法に用いられるインクジェット用インクに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter used in a color display device and the like and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a color liquid crystal display device used in a color television, an in-vehicle television, a personal computer, a pachinko game board, and the like. The present invention relates to a suitable color filter, a liquid crystal device using the color filter, a method for producing the same, and an inkjet ink used in the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要
が増加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及の
ためには液晶ディスプレイのコストダウンが必要であ
り、特にコスト的に比重の高いカラーフィルターのコス
トダウンに対する要求が高まっている。従来から、カラ
ーフィルターの要求特性を満足しつつ上記の要求に応え
るべく種々の方法が試みられているが、未だすべての要
求特性を満足する方法は確立されていない。以下にそれ
ぞれの方法を説明する。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of personal computers,
In particular, with the development of portable personal computers, the demand for liquid crystal displays, especially color liquid crystal displays, tends to increase. However, for further widespread use, it is necessary to reduce the cost of the liquid crystal display. In particular, there is an increasing demand for reducing the cost of a color filter having a high specific gravity. Conventionally, various methods have been tried to satisfy the above requirements while satisfying the required characteristics of the color filter, but no method has yet been established that satisfies all the required characteristics. The respective methods will be described below.

【0003】最も多く用いられている第1の方法が染色
法である。染色法は、ガラス基板上に染色用の材料であ
る水溶性高分子材料を塗布し、これをフォトリソグラフ
ィー工程により所望の形状にパターニングした後、得ら
れたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを
得る。これを3回繰り返すことによりR(赤),G
(緑),B(青)の着色層を形成する。
[0003] The first method most frequently used is a dyeing method. In the dyeing method, a water-soluble polymer material, which is a material for dyeing, is applied on a glass substrate, and is patterned into a desired shape by a photolithography process. Get a pattern. By repeating this three times, R (red), G
(Green) and B (blue) coloring layers are formed.

【0004】第2の方法は顔料分散法であり、近年染色
法に取って代わりつつある。この方法は、基板上に顔料
を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニング
することにより単色のパターンを得る。さらにこの工程
を3回繰り返すことによりR,G,Bの着色層を形成す
る。
[0004] The second method is a pigment dispersion method, which is recently replacing the dyeing method. In this method, a photosensitive resin layer in which a pigment is dispersed is formed on a substrate, and a monochromatic pattern is obtained by patterning the photosensitive resin layer. This process is further repeated three times to form R, G, B colored layers.

【0005】第3の方法としては電着法がある。この方
法は、基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹
脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第1の色を
電着する。この工程を3回繰り返してR,G,Bの着色
層を形成し、最後に焼成するものである。
As a third method, there is an electrodeposition method. In this method, a transparent electrode is patterned on a substrate, and immersed in an electrodeposition coating solution containing a pigment, a resin, an electrolytic solution, and the like to electrodeposit a first color. This process is repeated three times to form R, G, and B colored layers, and finally firing.

【0006】第4の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散させ、印刷を3回繰り返すことによりR,G,
Bを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色
層を形成するものである。また、いずれの方法において
も着色層上に保護膜を形成するのが一般的である。
As a fourth method, a pigment is dispersed in a thermosetting resin, and printing is repeated three times so that R, G,
After separately applying B, the resin is thermally cured to form a colored layer. In any method, a protective film is generally formed on the colored layer.

【0007】これらの方法に共通している点は、R,
G,Bの3色を着色するために同一の工程を3回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
が多いほど歩留が低下するという問題を有している。さ
らに、電着法においては、形成可能なパターン形状が限
定されるため、現状の技術ではTFT用には適用困難で
ある。また、印刷法は、解像性、平滑性が悪いためファ
インピッチのパターン形成には不向きである。
The common feature of these methods is that R,
It is necessary to repeat the same process three times in order to color the three colors G and B, which increases the cost. In addition, there is a problem that the yield decreases as the number of steps increases. Further, in the electrodeposition method, since the pattern shape that can be formed is limited, it is difficult to apply the current technology for TFT. Further, the printing method is not suitable for forming a fine pitch pattern due to poor resolution and smoothness.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】これらの欠点を補うべ
く、特開昭59−75205号公報、特開昭63−23
5901号公報或いは特開平1−217320号公報等
には、インクジェット方式を用いてカラーフィルターを
製造する方法が記載されているが、いまだ十分満足でき
るものは得られていない。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to make up for these drawbacks, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 59-75205 and 63-23
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5901 or Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 1-217320 describes a method for producing a color filter using an ink jet method, but a satisfactory one has not yet been obtained.

【0009】本発明の目的は、従来法の有する耐熱性、
耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、混色、色ム
ラ、色抜けを防止し、高精細で信頼性の高いカラーフィ
ルターを提供するものであり、さらには、インクジェッ
ト方式を利用してカラーフィルターの製造工程を短縮
し、液晶素子のコストダウンを図ることにある。
[0009] The object of the present invention is to provide a heat resistance of the conventional method,
Satisfies the required properties such as solvent resistance and resolution, prevents color mixing, color unevenness, and color loss, and provides a high-definition and highly reliable color filter. Therefore, the manufacturing process of the color filter can be shortened, and the cost of the liquid crystal element can be reduced.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】即ち、請求項1〜6記載
の発明は、透光部に凹部を有するカラーフィルター形成
面の該凹部に、少なくとも着色剤と反応性ナイロン樹脂
を含有する熱硬化型組成物からなるインクを付与する工
程と、上記インクを熱処理により硬化させる工程とを有
することを特徴とするカラーフィルターの製造方法であ
り、請求項7記載の発明は該製造方法によって得られる
ことを特徴とするカラーフィルターである。
That is, according to the present invention, there is provided a thermosetting resin containing at least a coloring agent and a reactive nylon resin in the concave portion of the color filter forming surface having the concave portion in the light transmitting portion. A method for producing a color filter, comprising a step of applying an ink composed of a mold composition and a step of curing the ink by heat treatment, wherein the invention according to claim 7 is obtained by the production method. It is a color filter characterized by the following.

【0011】また、請求項8及び9記載の発明は、上記
カラーフィルターを用いたことを特徴とする液晶素子で
あり、請求項10及び11記載の発明は上記製造方法に
よってカラーフィルターを製造することを特徴とする液
晶素子の製造方法であり、請求項12記載の発明は、上
記本発明に好適な、少なくとも着色剤と反応性ナイロン
樹脂を含有する熱硬化型組成物からなることを特徴とす
るインクジェット用インクである。
The invention according to claims 8 and 9 is a liquid crystal device using the color filter, and the invention according to claims 10 and 11 is directed to manufacturing a color filter by the manufacturing method. A method for manufacturing a liquid crystal element, characterized by comprising a thermosetting composition containing at least a colorant and a reactive nylon resin, which is suitable for the present invention. This is an inkjet ink.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を参照して詳
細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0013】図1に本発明のカラーフィルターの製造方
法の第1の実施形態を示す。尚、以下の工程−a〜dは
それぞれ図1の(a)〜(d)に対応する。本実施形態
は、基板上にブラックマトリクスを設け、該ブラックマ
トリクスの開口部に形成された凹部に本発明にかかるイ
ンクをインクジェット方式により付与してカラーフィル
ターを形成した例である。
FIG. 1 shows a first embodiment of a method for manufacturing a color filter according to the present invention. Note that the following steps -a to d correspond to (a) to (d) in FIG. 1, respectively. The present embodiment is an example in which a black matrix is provided on a substrate, and a color filter is formed by applying the ink according to the present invention to a concave portion formed in an opening of the black matrix by an inkjet method.

【0014】工程−a 先ずブラックマトリクス2を基板1上に形成する。これ
により、ブラックマトリクス2の開口部に後述のインク
を付与する凹部が形成される。本発明において、基板1
としては一般にガラス基板が用いられるが、液晶用カラ
ーフィルターとしての透明性、機械的強度等の必要特性
を有するものであればガラス基板に限定されるものでは
ない。また、ブラックマトリクス2としては黒色顔料レ
ジストを用いた一般的なフォトリソ法により形成するこ
とができる。この時、黒色顔料レジストの厚みは0.5
μm以上あることが好ましい。0.5μm未満である場
合には、ブラックマトリクスの光学濃度が低くなり、ブ
ラックマトリクスとしての機能を十分に果たさない。ま
た、後述するインクを付与した場合に該インクが凹部か
らあふれ出して隣接する異なる色同士のインクが混じり
合ってしまう場合がある。
Step-a First, a black matrix 2 is formed on a substrate 1. Thereby, a concave portion for applying ink described later is formed in the opening of the black matrix 2. In the present invention, the substrate 1
A glass substrate is generally used, but is not limited to a glass substrate as long as it has necessary characteristics such as transparency and mechanical strength as a color filter for liquid crystal. The black matrix 2 can be formed by a general photolithography method using a black pigment resist. At this time, the thickness of the black pigment resist is 0.5
It is preferably at least μm. If it is less than 0.5 μm, the optical density of the black matrix will be low, and the black matrix will not function sufficiently. Further, when an ink described later is applied, the ink may overflow from the concave portion and the adjacent inks of different colors may be mixed.

【0015】工程−b 次に、インクジェットプリンタによりR,G,Bのイン
ク4を上記凹部を埋めるように基板に向かって吐出し、
各色のパターンを形成する。このR,G,Bパターンは
いわゆるキャスティングのような形で形成されてもよ
い。また、ブラックマトリクス2上で各色インクが重な
らない範囲で付与されるのが好ましい。
Step-b Next, R, G, and B inks 4 are ejected toward the substrate by an ink jet printer so as to fill the recesses.
A pattern of each color is formed. The R, G and B patterns may be formed in a so-called casting manner. In addition, it is preferable that each color ink is applied on the black matrix 2 within a range where the inks do not overlap.

【0016】本発明で使用されるインクは、少なくとも
着色剤と反応性ナイロン樹脂を含む熱硬化型組成物から
なる。
The ink used in the present invention comprises a thermosetting composition containing at least a colorant and a reactive nylon resin.

【0017】上記着色剤としては、染料、顔料のいずれ
もが用いられる。染料としては、C.I.アシッドレッ
ド 118,C.I.アシッドレッド 254,C.
I.アシッドグリーン 25,C.I.アシッドブルー
113,C.I.アシッドブルー 185,C.I.
アシッドブルー 7等、顔料としては、C.I.ピグメ
ントレッド 177,C.I.ピグメントレッド 5,
C.I.ピグメントレッド 12,C.I.ピグメント
グリーン 36,C.I.ピグメントブルー 209,
C.I.ピグメントブルー 16等が挙げられるがもち
ろんこれらに限られるものではない。これらの染料、顔
料はインク中で約0.1〜20重量%を占める割合で使
用されるのが好ましい。
As the above-mentioned coloring agent, both dyes and pigments are used. As the dye, C.I. I. Acid Red 118, C.I. I. Acid Red 254, C.I.
I. Acid Green 25, C.I. I. Acid Blue 113, C.I. I. Acid Blue 185, C.I. I.
Acid Blue 7 and the like include C.I. I. Pigment Red 177, C.I. I. Pigment Red 5,
C. I. Pigment Red 12, C.I. I. Pigment Green 36, C.I. I. Pigment Blue 209,
C. I. Pigment Blue 16 and the like, but are not limited thereto. These dyes and pigments are preferably used at a ratio of about 0.1 to 20% by weight in the ink.

【0018】本発明にかかるインクに用いられる反応性
ナイロン樹脂とは、自己架橋性或いは架橋剤との反応性
を有するナイロン樹脂であり、例えば、アミド結合の水
素をメトキシメチル基で置換した8ナイロンと言われる
アルコール可溶性のものや、さらに置換基の導入等によ
り水溶性としたもの、また、水やアルコールに溶解する
機能を付与した変性ポリアミドタイプのナイロンも存在
する。具体的な製品としては、帝国化学産業(株)製ト
レジンシリーズ、東レ(株)製AQ−ナイロンシリーズ
を挙げることができる。これらの反応性ナイロン樹脂は
インク中に0.05〜20重量%含有させて用いるのが
好ましく、1種又は2種以上組合せて用いられる。
The reactive nylon resin used in the ink according to the present invention is a nylon resin having a self-crosslinking property or a reactivity with a crosslinking agent, for example, 8 nylon having an amide bond hydrogen substituted with a methoxymethyl group. There are also alcohol-soluble nylons, which are made water-soluble by introducing substituents, and denatured polyamide-type nylons having a function of dissolving in water or alcohol. Specific products include Toresin series manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd. and AQ-nylon series manufactured by Toray Industries, Inc. These reactive nylon resins are preferably used in an amount of 0.05 to 20% by weight in the ink, and are used alone or in combination of two or more.

【0019】上記反応性ナイロン樹脂は、熱処理により
自己架橋反応が進行し、耐水性、耐溶剤性が向上し、よ
って、熱硬化後には耐水性、耐溶剤性が高く、後工程に
耐えるカラーフィルターが得られる。この場合、シュウ
酸、マロン酸、クエン酸、マレイン酸、イタコン酸、酒
石酸、コハク酸、次亜りん酸、アジピン酸、セバチン酸
等の酸を混合させることにより上記架橋反応は促進され
る。また、架橋剤と併用することも可能であり、該架橋
剤としては、エポキシ化合物、メチロール化メラミンを
挙げることができるが、これらに限られるものではな
い。これら酸、架橋剤を併用する場合、これらのインク
中での含有率は0.01〜10重量%の範囲で用いるの
が好ましい。これらの酸、架橋剤は、1種でも或いは2
種以上組合せて用いてもよい。
The above-mentioned reactive nylon resin undergoes a self-crosslinking reaction by heat treatment to improve water resistance and solvent resistance. Therefore, after heat curing, the water resistance and solvent resistance are high, and the color filter can withstand post-processes. Is obtained. In this case, the crosslinking reaction is promoted by mixing an acid such as oxalic acid, malonic acid, citric acid, maleic acid, itaconic acid, tartaric acid, succinic acid, hypophosphorous acid, adipic acid and sebacic acid. Further, it can be used in combination with a cross-linking agent. Examples of the cross-linking agent include an epoxy compound and a methylolated melamine, but are not limited thereto. When these acids and cross-linking agents are used in combination, the content in these inks is preferably in the range of 0.01 to 10% by weight. These acids and crosslinking agents may be used alone or
You may use in combination of more than one.

【0020】またさらに、ポリビニルアルコール、ポリ
アクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリメタクリル酸エステル、ポリヒドロキシエチル
メタクリレート等のアクリル系樹脂;シリコン樹脂;エ
ポキシ樹脂;ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロース等のセルロース誘導体或いはその変性
物;ポリビニルピロリドン等の高分子化合物を混合させ
てもよい。
Further, acrylic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylate, polymethacrylate, and polyhydroxyethyl methacrylate; silicone resins; epoxy resins; hydroxypropyl cellulose, hydroxyethyl cellulose; Cellulose derivatives such as methylcellulose and carboxymethylcellulose or modified products thereof; and high molecular compounds such as polyvinylpyrrolidone may be mixed.

【0021】本発明に用いられるインクをインクジェッ
ト方式で用いる場合に好適な水性媒体は、水及び水溶性
有機溶剤の混合溶媒であり、水としては種々のイオンを
含有する一般的な水ではなく、イオン交換水(脱イオン
水)を使用するのが好ましい。
A suitable aqueous medium when the ink used in the present invention is used in an ink jet system is a mixed solvent of water and a water-soluble organic solvent, and the water is not general water containing various ions. It is preferable to use ion-exchanged water (deionized water).

【0022】また、その他併用し得る任意の溶剤成分と
して、水と混合して使用される水溶性有機溶剤として
は、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n
−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−
ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、ter
t−ブチルアルコール等の炭素数1〜4のアルキルアル
コール類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド等のアミド類;アセトン、ジアセトンアルコール等の
ケトン又はケトアルコール類;テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等のエーテル類;ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール
類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチ
レングリコール、トリエチレングリコール、1,2,6
−ヘキサントリオール、チオジグリコール、ヘキシレン
グリコール、ジエチレングリコール等のアルキレン基が
2〜6個の炭素原子を含むアルキレングリコール類;グ
リセリン;エチレングリコールモノメチル(又はエチ
ル)エーテル、ジエチレングリコールメチル(又はエチ
ル)エーテル、トリエチレングリコールモノメチル(又
はエチル)エーテル等の多価アルコールの低級アルキル
エーテル類;N−メチル−2−ピロリドン、2−ピロリ
ドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等が挙
げられる。これらの多くの水溶性有機溶剤の中でもジエ
チレングリコール等の多価アルコール、トリエチレング
リコールモノメチル(又はエチル)エーテル等の多価ア
ルコールの低級アルキルエーテルが好ましい。
Other water-soluble organic solvents which can be used in combination with water include, for example, methyl alcohol, ethyl alcohol and n.
-Propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-
Butyl alcohol, sec-butyl alcohol, ter
alkyl alcohols having 1 to 4 carbon atoms such as t-butyl alcohol; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; ketones or keto alcohols such as acetone and diacetone alcohol; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; Polyalkylene glycols such as polypropylene glycol; ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, triethylene glycol, 1,2,6
Alkylene glycols having an alkylene group containing 2 to 6 carbon atoms such as hexanetriol, thiodiglycol, hexylene glycol, diethylene glycol; glycerin; ethylene glycol monomethyl (or ethyl) ether, diethylene glycol methyl (or ethyl) ether; Lower alkyl ethers of polyhydric alcohols such as triethylene glycol monomethyl (or ethyl) ether; N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among these many water-soluble organic solvents, polyhydric alcohols such as diethylene glycol and lower alkyl ethers of polyhydric alcohols such as triethylene glycol monomethyl (or ethyl) ether are preferable.

【0023】さらに、インクジェットプリンタからのイ
ンクの吐出の安定性を得るためには、エタノール或いは
イソプロピルアルコール、又は多価アルコールの低級ア
ルキルエーテル類を添加することが効果的である。これ
はこれら溶剤を添加することによってバブルジェットタ
イプの場合にインクジェットプリンタ内の薄膜抵抗体上
でのインクの発泡をより安定に行なうことができるから
と考えられる。
Further, in order to obtain the stability of ink ejection from the ink jet printer, it is effective to add a lower alkyl ether of ethanol, isopropyl alcohol, or a polyhydric alcohol. This is presumably because the addition of these solvents makes it possible to more stably foam the ink on the thin film resistor in the ink jet printer in the case of the bubble jet type.

【0024】また、本発明にかかるインクには、上記の
成分の他に必要に応じて所望の物性値を持つインクとす
るために、界面活性剤、消泡剤、防腐剤等を添加するこ
とができ、さらに、市販の水溶性染料などを添加するこ
ともできる。
Further, in addition to the above-mentioned components, a surfactant, an antifoaming agent, a preservative and the like may be added to the ink according to the present invention in order to obtain an ink having desired physical properties as required. And a commercially available water-soluble dye or the like can be added.

【0025】例えば、界面活性剤としては、インクに対
して保存安定性等の悪影響を及ぼさないものであればい
ずれでも用いることができ、例えば、脂肪酸塩類、高級
アルコール硫酸エステル塩類、液体脂肪油硫酸エステル
塩類、アルキルアリルスルホン酸塩類等の陰イオン界面
活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリ
オキシエチレンアルキルエステル類、ポリオキシエチレ
ンソルビタンアルキルエステル類、アセチレンアルコー
ル、アセチレングリコール等の非イオン性界面活性剤が
あり、これらの1種又は2種以上を適宜選択して使用で
きる。
For example, any surfactant may be used as long as it does not adversely affect the storage stability or the like of the ink. Examples thereof include fatty acid salts, higher alcohol sulfates, and liquid fatty oil sulfates. Nonionic surfactants such as anionic surfactants such as ester salts and alkyl allyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, polyoxyethylene sorbitan alkyl esters, acetylene alcohol and acetylene glycol And one or more of these can be appropriately selected and used.

【0026】また、本発明においては、インクの安定性
を保つために、インクのpH調製が必要である場合に
は、例えばアンモニア、或いはジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン等の各種有機アミン、水酸化ナトリ
ウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属の水酸化物等の無機アルカリ剤、有機酸や、無機酸を
用いることができる。
In the present invention, when the pH of the ink needs to be adjusted in order to maintain the stability of the ink, for example, ammonia or various organic amines such as diethanolamine and triethanolamine, sodium hydroxide, An inorganic alkali agent such as a hydroxide of an alkali metal such as lithium hydroxide or potassium hydroxide, an organic acid, or an inorganic acid can be used.

【0027】また、本発明において利用されるインクジ
ェット方式としては、エネルギー発生素子として電気熱
変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子
を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、吐
出面積及びパターンは任意に設定することができる。
As the ink jet system used in the present invention, a bubble jet type using an electrothermal converter or a piezo jet type using a piezoelectric element can be used as an energy generating element. The pattern can be set arbitrarily.

【0028】工程−c 吐出したインク4を熱処理により硬化させ、カラーフィ
ルター9とする。本発明においては、耐熱性、耐溶剤性
を十分に発現させて後工程における熱処理や溶剤に耐え
るカラーフィルターを形成するために130℃以上の温
度で熱処理することが望ましい。
Step-c The ejected ink 4 is cured by heat treatment to form a color filter 9. In the present invention, it is desirable to perform heat treatment at a temperature of 130 ° C. or more in order to sufficiently develop heat resistance and solvent resistance and to form a heat treatment in a post-process or a color filter that can withstand the solvent.

【0029】工程−d 基板全面に樹脂組成物を塗布し、光照射及び/又は熱処
理により硬化させて保護膜5を形成する。上記樹脂組成
物としては、透明性を有し、その後のITO等形成プロ
セス、配向膜形成プロセス等に耐えうるものであれば使
用可能である。通常カラーフィルター上には保護膜5が
設けられているが、特に必要がなければ設けなくても構
わない。
Step-d A resin composition is applied to the entire surface of the substrate and cured by light irradiation and / or heat treatment to form a protective film 5. As the resin composition, any resin can be used as long as it has transparency and can withstand the subsequent process of forming ITO or the like, the process of forming an alignment film, or the like. Usually, the protective film 5 is provided on the color filter, but may be omitted if not particularly required.

【0030】次に、図2に本発明のカラーフィルターの
製造方法の第2の実施形態を示す。尚、以下の工程−a
〜eはそれぞれ図2の(a)〜(e)に対応する。本実
施形態は、カラーフィルター形成面にインク受容層を形
成してからインクを付与した例である。
Next, FIG. 2 shows a second embodiment of the method for manufacturing a color filter of the present invention. The following step-a
To e correspond to (a) to (e) of FIG. The present embodiment is an example in which ink is applied after forming an ink receiving layer on a color filter forming surface.

【0031】工程−a 第1の実施形態と同様に、ブラックマトリクス2を形成
したガラス基板1を用意する。
Step-a As in the first embodiment, a glass substrate 1 on which a black matrix 2 is formed is prepared.

【0032】工程−b 基板全面に樹脂組成物をコーティングしてインク受容層
3を設ける。このインク受容層3は、インクを受容し、
着弾したインクの広がりを所望の径に調製する機能を有
するものであり、耐熱性等の耐プロセス性を有する樹脂
組成物から選択される。
Step-b The entire surface of the substrate is coated with a resin composition to provide an ink receiving layer 3. This ink receiving layer 3 receives ink,
It has a function of adjusting the spread of the landed ink to a desired diameter, and is selected from a resin composition having process resistance such as heat resistance.

【0033】具体的には、いわゆる撥水性、撥油性がそ
れほど高くないもので、例えば、アクリル系、エポキシ
系、イミド系の樹脂が好適に用いられる。また、これら
の樹脂組成物は熱・光硬化タイプでも良く、また、その
場合には、インク吐出後に硬化させてもよい。
Specifically, those having low so-called water repellency and oil repellency are not so high. For example, acrylic, epoxy and imide resins are preferably used. Further, these resin compositions may be of a heat / light curable type, and in such a case, they may be cured after ink ejection.

【0034】この樹脂組成物は、スピンコート、ロール
コート、バーコート、スプレーコート、ディップコート
等の方法により塗布される。
The resin composition is applied by a method such as spin coating, roll coating, bar coating, spray coating, dip coating and the like.

【0035】工程−c インク受容層3に対し、インクジェットプリンタにより
インク4を吐出する。
Step-c Ink 4 is discharged onto the ink receiving layer 3 by an ink jet printer.

【0036】工程−d 熱処理、或いは、熱処理及び光照射によって、インクを
硬化させると同時にインク受容層3を硬化させ、カラー
フィルター9を形成する。
Step-d Heat treatment or heat treatment and light irradiation cure the ink and simultaneously cure the ink receiving layer 3 to form the color filter 9.

【0037】工程−e 第1の実施形態と同様に、基板全面に樹脂組成物を塗布
し、光照射及び/又は熱処理により硬化させて保護膜5
を形成する。
Step-e As in the first embodiment, a resin composition is applied to the entire surface of the substrate and cured by light irradiation and / or heat treatment to form a protective film 5
To form

【0038】図3に、上記第1の実施形態によるカラー
フィルターを組み込んだ、本発明の液晶素子の表示部の
一実施形態の概略断面図を示す。本実施形態は、TFT
カラー液晶素子である。
FIG. 3 is a schematic sectional view of an embodiment of a display portion of the liquid crystal device of the present invention, in which the color filter according to the first embodiment is incorporated. This embodiment uses a TFT
It is a color liquid crystal element.

【0039】TFTカラー液晶素子は、カラーフィルタ
ー9を有する基板と、TFTを有する基板とを不図示の
封止材により貼り合わせ、その間隙(2〜5μm程度)
に液晶化合物15を封入することにより構成される。液
晶素子の一方の基板の内側にはTFT(不図示)と透明
な画素電極12がマトリクス状に形成されている。また
もう一方の基板の内側には、画素電極12に対応する位
置にカラーフィルター9がそれぞれ設置され、その上に
透明な対向(共通)電極14が一面に形成されている。
さらに両基板の面内には配向膜13a,13bがそれぞ
れ形成されており、これらをラビング処理することによ
り液晶分子を一定方向に配列させることができる。また
それぞれのガラス基板の外側には偏光板16a,16b
が接着されている。またバックライトとしては、蛍光灯
と散乱光(いずれも不図示)の組合せが用いられ、液晶
化合物をバックライトの光17の透過率を変化させる光
シャッターとして機能させることにより表示を行なう。
In the TFT color liquid crystal element, a substrate having a color filter 9 and a substrate having a TFT are bonded together with a sealing material (not shown), and a gap (about 2 to 5 μm) therebetween.
Is formed by enclosing a liquid crystal compound 15 therein. A TFT (not shown) and a transparent pixel electrode 12 are formed in a matrix inside one substrate of the liquid crystal element. A color filter 9 is provided at a position corresponding to the pixel electrode 12 inside the other substrate, and a transparent opposing (common) electrode 14 is formed on one surface of the color filter 9.
Further, alignment films 13a and 13b are formed in the planes of both substrates, respectively, and by subjecting them to rubbing treatment, liquid crystal molecules can be arranged in a certain direction. Polarizing plates 16a, 16b are provided outside the respective glass substrates.
Is glued. As the backlight, a combination of a fluorescent lamp and scattered light (both not shown) is used, and display is performed by making the liquid crystal compound function as an optical shutter that changes the transmittance of light 17 of the backlight.

【0040】本発明の液晶素子においては、TN型液晶
や強誘電性液晶(FLC)等いずれの液晶も好適に用い
ることができる。
In the liquid crystal device of the present invention, any liquid crystal such as a TN type liquid crystal and a ferroelectric liquid crystal (FLC) can be suitably used.

【0041】図3においては、TFT基板に対向する基
板側にカラーフィルターを設けた液晶素子を示したが、
ブラックマトリクス2及びカラーフィルター9はTFT
基板側に形成されていても良い。図4にその液晶素子の
表示部の概略断面図、図5にTFT基板の平面図(但し
簡略化のため画素電極は不図示)を示す。尚、図4は図
5のA−A’断面に相当する。本図に示すように、第1
のガラス基板101の上にはゲート電極102、ゲート
絶縁膜103、i型のアモルファスシリコン膜104、
オーミックコンタクト層106、ソース電極107、ド
レイン電極108から構成されたTFT109が形成さ
れており、パッシベーション膜110と遮光層111を
介してドレイン電極108には透明画素電極114が接
続されている。透明画素電極114とガラス基板101
との間には、カラーフィルター113が形成されてい
る。TFT109及び透明画素電極114上の全面には
配向膜115が形成されている。
FIG. 3 shows a liquid crystal device in which a color filter is provided on the substrate side facing the TFT substrate.
The black matrix 2 and the color filter 9 are TFT
It may be formed on the substrate side. FIG. 4 is a schematic sectional view of a display portion of the liquid crystal element, and FIG. 5 is a plan view of a TFT substrate (pixel electrodes are not shown for simplicity). FIG. 4 corresponds to a section taken along line AA ′ of FIG. As shown in FIG.
A gate electrode 102, a gate insulating film 103, an i-type amorphous silicon film 104,
A TFT 109 composed of an ohmic contact layer 106, a source electrode 107, and a drain electrode 108 is formed. A transparent pixel electrode 114 is connected to the drain electrode 108 via a passivation film 110 and a light shielding layer 111. Transparent pixel electrode 114 and glass substrate 101
A color filter 113 is formed between the two. An alignment film 115 is formed on the entire surface of the TFT 109 and the transparent pixel electrode 114.

【0042】一方第2のガラス基板116上には、共通
透明電極117、配向膜118が形成され、上記第1の
ガラス基板101とは5μm程度の間隙を介して対向配
置され、両基板間には液晶119が充填されている。図
6、図7は本実施形態の液晶素子の製造工程を示す断面
図である。以下にその工程を説明する。尚、以下の工程
−a〜kは、図6、図7の(a)〜(k)に対応する。
On the other hand, on the second glass substrate 116, a common transparent electrode 117 and an alignment film 118 are formed, and are arranged opposite to the first glass substrate 101 with a gap of about 5 μm. Are filled with liquid crystal 119. 6 and 7 are cross-sectional views illustrating the steps of manufacturing the liquid crystal element of the present embodiment. The steps will be described below. Note that the following steps -a to k correspond to (a) to (k) in FIGS.

【0043】工程−a ガラス基板101上に2000Å程度の膜厚でCr,T
a等によりゲート電極102を形成する。
Step-a Cr, T
The gate electrode 102 is formed by a or the like.

【0044】工程−b ゲート電極102上に5000Å程度の膜厚でゲート絶
縁膜103を形成する。ゲート絶縁膜にはSiN,Si
34 ,TaO,Ta25 等の単層膜、或いはこれら
絶縁膜を積層してなる多層膜を用いる。
Step-b A gate insulating film 103 is formed on the gate electrode 102 to a thickness of about 5000 °. SiN, Si for the gate insulating film
A single-layer film of 3 N 4 , TaO, Ta 2 O 5 , or the like, or a multilayer film formed by laminating these insulating films is used.

【0045】工程−c ゲート絶縁膜103上に2000Å程度の膜厚でi型の
アモルファスシリコン膜104、エッチングストップ層
105を形成する。エッチングストップ層105は後述
の工程−fのエッチングの際にチャネル領域となるi型
アモルファスシリコン膜104にダメージが生じないよ
うに、i型アモルファスシリコン膜104を保護するも
ので、特にi型アモルファスシリコン膜104及びオー
ミックコンタクト層106とエッチングレートの異なる
素材、例えばSiN,Si34等の絶縁膜を用いて形
成する。
Step-c On the gate insulating film 103, an i-type amorphous silicon film 104 and an etching stop layer 105 are formed to a thickness of about 2000 °. The etching stop layer 105 protects the i-type amorphous silicon film 104 so as not to damage the i-type amorphous silicon film 104 serving as a channel region at the time of etching in the later-described step-f. It is formed using a material having an etching rate different from that of the film 104 and the ohmic contact layer 106, for example, an insulating film such as SiN or Si 3 N 4 .

【0046】工程−d エッチングストップ層105をパターニングする。Step-d The etching stop layer 105 is patterned.

【0047】工程−e i型アモルファスシリコン膜104及びエッチングスト
ップ層105上に3000Å程度の膜厚でオーミックコ
ンタクト層106を形成する。オーミックコンタクト層
106には、n+ 型のアモルファスシリコン或いはマイ
クロクリスタルシリコン等を用いる。
Step-e: An ohmic contact layer 106 having a thickness of about 3000 ° is formed on the i-type amorphous silicon film 104 and the etching stop layer 105. For the ohmic contact layer 106, n + type amorphous silicon or microcrystal silicon is used.

【0048】工程−f オーミックコンタクト層106上にソース電極107及
びドレイン電極108を形成し、オーミックコンタクト
層106、i型アモルファスシリコン膜104、ゲート
絶縁膜103の不要な部分をエッチングで除去して、T
FT109を形成する。ソース電極107及びドレイン
電極108にはAl,Mo等を用いる。
Step-f A source electrode 107 and a drain electrode 108 are formed on the ohmic contact layer 106, and unnecessary portions of the ohmic contact layer 106, the i-type amorphous silicon film 104, and the gate insulating film 103 are removed by etching. T
The FT 109 is formed. For the source electrode 107 and the drain electrode 108, Al, Mo, or the like is used.

【0049】工程−g TFT109をSiN等からなるパッシベーション膜1
10で覆い、その上に樹脂からなる遮光層111を形成
する。本実施形態においては、遮光層111はTFTの
誤動作を防止する遮光と同時に、第1の実施形態で説明
したブラックマトリクスに相当し、同じ素材が用いら
れ、塗布形成した後マスク露光する。
Step-g Passivation film 1 of TFT 109 made of SiN or the like
Then, a light-shielding layer 111 made of resin is formed thereon. In the present embodiment, the light shielding layer 111 corresponds to the black matrix described in the first embodiment at the same time as the light shielding for preventing the malfunction of the TFT. The same material is used.

【0050】工程−h 開口領域120のパッシベーション膜110と遮光層1
11を現像して除去し、ドレイン電極108上にコンタ
クトホール112を形成する。
Step-h Passivation film 110 and light shielding layer 1 in opening region 120
11 is developed and removed, and a contact hole 112 is formed on the drain electrode 108.

【0051】工程−i 開口領域120にカラーフィルター113を形成する。
カラーフィルター113はそれぞれ本発明によるインク
をインクジェットプリンタにより所定の位置に吐出し、
熱処理により硬化することにより形成される。
Step-i The color filter 113 is formed in the opening area 120.
Each of the color filters 113 discharges the ink according to the present invention to a predetermined position by an inkjet printer,
It is formed by curing by heat treatment.

【0052】工程−j カラーフィルター113上にITOからなる透明画素電
極114を形成し、コンタクトホール112を介してド
レイン電極108を接続する。さらに、TFT109及
び透明画素電極114上の全面にポリイミドからなる配
向膜115を形成する。
Step-j A transparent pixel electrode 114 made of ITO is formed on the color filter 113, and a drain electrode 108 is connected through a contact hole 112. Further, an alignment film 115 made of polyimide is formed on the entire surface of the TFT 109 and the transparent pixel electrode 114.

【0053】工程−k 他方、共通透明電極117、配向膜118を形成したガ
ラス基板116とTFT109及びカラーフィルター1
13等を形成したガラス基板101とを対向配置して、
両基板間に液晶119を充填する。
Step-k On the other hand, the glass substrate 116 on which the common transparent electrode 117 and the alignment film 118 are formed, the TFT 109 and the color filter 1
The glass substrate 101 on which 13 and the like are formed is disposed so as to face each other,
A liquid crystal 119 is filled between the two substrates.

【0054】本発明に用いられるインクは、インクジェ
ット用インクとして、カラーフィルター製造以外にも、
紙、フィルム等の印字に用いても画像の鮮明さ、耐水性
の点で優れた性能を示すものである。
The ink used in the present invention can be used as an inkjet ink in addition to producing a color filter.
Even when used for printing on paper, film, and the like, it shows excellent performance in terms of image clarity and water resistance.

【0055】また、上記実施形態においては、本発明に
好適なインクジェット方式を用いて製造工程を簡略化し
た製造例を示したが、他の手段によってインクを付与す
ることも可能である。
Further, in the above-described embodiment, a production example in which the production process is simplified by using an ink jet system suitable for the present invention has been described. However, ink can be applied by other means.

【0056】[0056]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.

【0057】[実施例1]ガラス基板上に新日鐵化学
(株)製の黒色顔料レジストBK−739Pを膜厚1.
2μmになるようにスピンコート法により塗布し、露
光、現像、熱処理により厚さ1.2μmのブラックマト
リクスを形成した。次いで、インクジェットプリンタに
より開口部にR,G,Bの各インクを吐出した。
[Example 1] A black pigment resist BK-739P manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. was applied on a glass substrate to a film thickness of 1.
Coating was performed by spin coating to a thickness of 2 μm, and a 1.2 μm thick black matrix was formed by exposure, development, and heat treatment. Next, R, G, and B inks were ejected to the openings by an inkjet printer.

【0058】上記インクとしては、以下のものを用い
た。
The following inks were used.

【0059】 (Rインク) C.I.アシッドレッド 118 5重量部 水溶性ナイロン〔帝国化学産業(株)製,トレンジFS−500〕 6重量部 メチロール化メラミン〔住友化学(株)製,Sumirez Resin 613 special〕 4重量部 エチレングリコール 20重量部 エタノール 2重量部 イオン交換水 63重量部(R ink) C.I. I. Acid Red 118 5 parts by weight Water-soluble nylon [Trange FS-500, manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.] 6 parts by weight Methylolated melamine [Sumitomo Chemical Co., Ltd., Sumirez Resin 613 special] 4 parts by weight Ethylene glycol 20 parts by weight Ethanol 2 parts by weight Ion exchange water 63 parts by weight

【0060】(Gインク) C.I.アシッドグリーン 25 5重量部 以下Rインクに同じ(G ink) C.I. I. Acid Green 25 5 parts by weight Same as R ink

【0061】(Bインク) C.I.アシッドブルー 113 5重量部 以下Rインクに同じ(B ink) C.I. I. Acid Blue 113 5 parts by weight Same as R ink

【0062】上記インクを吐出した後、220℃、30
分の熱処理により該インクを硬化させ液晶素子用カラー
フィルターを形成した。
After the ink has been discharged, the ink
The ink was cured by heat treatment for one minute to form a color filter for a liquid crystal element.

【0063】上記カラーフィルターを光学顕微鏡により
観察したところ、混色、色ムラ等の問題は観察されなか
った。
When the above color filter was observed with an optical microscope, no problems such as color mixing and color unevenness were observed.

【0064】また、上記のカラーフィルター、ITO
(電極)形成、配向膜形成、液晶材料の封入等の一連の
作業を行ない、図3に示すようなカラー液晶素子を作製
したところ、良好に作製された。
The above color filters, ITO
A series of operations including (electrode) formation, formation of an alignment film, sealing of a liquid crystal material, and the like were performed, and a color liquid crystal device as shown in FIG. 3 was manufactured.

【0065】本実施例の液晶素子を用いて、−20℃〜
60℃の温度範囲にて連続1000時間の駆動を行なっ
たところ、障害は発生しなかった。
Using the liquid crystal element of the present embodiment,
When driving was performed for 1000 hours in a temperature range of 60 ° C., no trouble occurred.

【0066】[実施例2]実施例1と全く同様にしてカ
ラーフィルターを作製し、その上に2液型の熱硬化型樹
脂材料〔日本合成ゴム(株)製,オプトマーSS650
0〕を膜厚1μmとなるようにスピンコートし、230
℃、30分間の熱処理を行なって樹脂層を硬化させるこ
とにより、保護膜を作製した。
Example 2 A color filter was prepared in exactly the same manner as in Example 1, and a two-component thermosetting resin material [Optomer SS650, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.]
0] was spin-coated so as to have a thickness of 1 μm.
A protective film was prepared by performing a heat treatment at 30 ° C. for 30 minutes to cure the resin layer.

【0067】このようにして作製したカラーフィルター
を光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラ、保
護膜の膜剥れやクラック等の問題は観察されなかった。
Observation of the thus prepared color filter by an optical microscope revealed no problems such as color mixing, color unevenness, peeling of the protective film and cracks.

【0068】また、上記のカラーフィルター、ITO
(電極)形成、配向膜形成、液晶材料の封入等の一連の
作業を行ない、図3に示すようなカラー液晶素子を作製
したところ、良好に作製された。
The above color filter, ITO
A series of operations including (electrode) formation, formation of an alignment film, sealing of a liquid crystal material, and the like were performed, and a color liquid crystal device as shown in FIG. 3 was manufactured.

【0069】本実施例の液晶素子を用いて、−20℃〜
60℃の温度範囲にて連続1000時間の駆動を行なっ
たところ、障害は発生しなかった。
Using the liquid crystal element of this embodiment, the temperature was -20 ° C.
When driving was performed for 1000 hours in a temperature range of 60 ° C., no trouble occurred.

【0070】[実施例3]実施例1において、インクを
以下のものとした以外は全く同様にしてカラーフィルタ
ーを作製した。
Example 3 A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the following inks were used.

【0071】 (Rインク) C.I.アシッドレッド 118 5重量部 水溶性ナイロン〔帝国化学産業(株)製,トレンジFS−350〕 7重量部 N−メチル−2−ピロリドン 15重量部 エチレングリコール 20重量部 イソプロピルアルコール 2重量部 イオン交換水 51重量部(R ink) C.I. I. Acid Red 118 5 parts by weight Water-soluble nylon [Trange FS-350 manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.] 7 parts by weight N-methyl-2-pyrrolidone 15 parts by weight Ethylene glycol 20 parts by weight Isopropyl alcohol 2 parts by weight Ion-exchanged water 51 Parts by weight

【0072】(Gインク) C.I.アシッドグリーン 25 5重量部 以下Rインクに同じ(G ink) C.I. I. Acid Green 25 5 parts by weight Same as R ink

【0073】(Bインク) C.I.アシッドブルー 113 5重量部 以下Rインクに同じ(B ink) C.I. I. Acid Blue 113 5 parts by weight Same as R ink

【0074】このようにして作製したカラーフィルター
を光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラ等の
問題は観察されなかった。
When the color filter thus produced was observed with an optical microscope, no problems such as color mixing and color unevenness were observed.

【0075】また、上記のカラーフィルター、ITO
(電極)形成、配向膜形成、液晶材料の封入等の一連の
作業を行ない、図3に示すようなカラー液晶素子を作製
したところ、良好に作製された。
The above color filters, ITO
A series of operations including (electrode) formation, formation of an alignment film, sealing of a liquid crystal material, and the like were performed, and a color liquid crystal device as shown in FIG. 3 was manufactured.

【0076】本実施例の液晶素子を用いて、−20℃〜
60℃の温度範囲にて連続1000時間の駆動を行なっ
たところ、障害は発生しなかった。
Using the liquid crystal element of the present embodiment,
When driving was performed for 1000 hours in a temperature range of 60 ° C., no trouble occurred.

【0077】[実施例4]実施例1において、インクを
以下のものとした以外は全く同様にしてカラーフィルタ
ーを作製した。
Example 4 A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the following inks were used.

【0078】 (Rインク) C.I.アシッドレッド 254 5重量部 水溶性ナイロン〔帝国化学産業(株)製,トレンジFS−550〕 5重量部 アジピン酸 0.5重量部 エチレングリコール 20重量部 イソプロピルアルコール 2重量部 アセチレングリコール 1重量部 イオン交換水 66.5重量部(R ink) C.I. I. Acid Red 254 5 parts by weight Water-soluble nylon [Trange FS-550, manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.] 5 parts by weight Adipic acid 0.5 parts by weight Ethylene glycol 20 parts by weight Isopropyl alcohol 2 parts by weight Acetylene glycol 1 part by weight Ion exchange 66.5 parts by weight of water

【0079】(Gインク) C.I.アシッドグリーン 25 5重量部 以下Rインクに同じ(G ink) C.I. I. Acid Green 25 5 parts by weight Same as R ink

【0080】(Bインク) C.I.アシッドブルー 185 5重量部 以下Rインクに同じ(B ink) C.I. I. Acid Blue 185 5 parts by weight Same as R ink

【0081】このようにして作製したカラーフィルター
を光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラ等の
問題は観察されなかった。
When the color filter thus manufactured was observed with an optical microscope, no problems such as color mixing and color unevenness were observed.

【0082】また、上記のカラーフィルター、ITO
(電極)形成、配向膜形成、液晶材料の封入等の一連の
作業を行ない、図3に示すようなカラー液晶素子を作製
したところ、良好に作製された。
The above color filter, ITO
A series of operations including (electrode) formation, formation of an alignment film, sealing of a liquid crystal material, and the like were performed, and a color liquid crystal device as shown in FIG. 3 was manufactured.

【0083】本実施例の液晶素子を用いて、−20℃〜
60℃の温度範囲にて連続1000時間の駆動を行なっ
たところ、障害は発生しなかった。
Using the liquid crystal element of the present embodiment,
When driving was performed for 1000 hours in a temperature range of 60 ° C., no trouble occurred.

【0084】[実施例5]実施例1において、黒色顔料
レジストを東京応化(株)製のBK−416Sとし、膜
厚を1.5μm、インクを以下のものとした以外は全く
同様にしてカラーフィルターを作製した。
Example 5 The procedure of Example 1 was repeated except that the black pigment resist was BK-416S manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd., the film thickness was 1.5 μm, and the inks were as follows. A filter was made.

【0085】 (Rインク) C.I.ピグメントレッド 177 4重量部 水溶性ナイロン〔帝国化学産業(株)製,トレンジFS−350〕 4重量部 コハク酸 0.5重量部 N−メチル−2−ピロリドン 15重量部 エチレングリコール 20重量部 イソプロピルアルコール 1重量部 イオン交換水 55.5重量部(R ink) C.I. I. Pigment Red 177 4 parts by weight Water-soluble nylon [Trange FS-350, manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.] 4 parts by weight Succinic acid 0.5 parts by weight N-methyl-2-pyrrolidone 15 parts by weight Ethylene glycol 20 parts by weight isopropyl alcohol 1 part by weight Ion exchange water 55.5 parts by weight

【0086】(Gインク) C.I.ピグメントグリーン 36 5重量部 以下Rインクに同じ(G ink) C.I. I. Pigment Green 365 5 parts by weight Same as R ink

【0087】(Bインク) C.I.ピグメントブルー 209 5重量部 以下Rインクに同じ(B ink) C.I. I. Pigment Blue 209 5 parts by weight Same as R ink

【0088】このようにして作製したカラーフィルター
を光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラ等の
問題は観察されなかった。
When the thus prepared color filter was observed with an optical microscope, no problems such as color mixing and color unevenness were observed.

【0089】また、上記のカラーフィルター、ITO
(電極)形成、配向膜形成、液晶材料の封入等の一連の
作業を行ない、図3に示すようなカラー液晶素子を作製
したところ、良好に作製された。
The above color filter, ITO
A series of operations including (electrode) formation, formation of an alignment film, sealing of a liquid crystal material, and the like were performed, and a color liquid crystal device as shown in FIG. 3 was manufactured.

【0090】本実施例の液晶素子を用いて、−20℃〜
60℃の温度範囲にて連続1000時間の駆動を行なっ
たところ、障害は発生しなかった。
Using the liquid crystal element of the present embodiment,
When driving was performed for 1000 hours in a temperature range of 60 ° C., no trouble occurred.

【0091】[実施例6]実施例1と同様にしてガラス
基板上にブラックマトリクスを形成した。その上にイン
ク受容層として、アクリル酸−メタクリル酸メチル−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート−N−メチロールアクリ
ルアミドの4元共重合体を厚さ1μmになるように形成
した。次いでインクジェットプリンタによりブラックマ
トリクスの開口部に実施例1と同じR,G,Bインクを
吐出し、220℃、30分の熱処理により該インクと上
記インク受容層とを硬化させた。
Example 6 A black matrix was formed on a glass substrate in the same manner as in Example 1. A quaternary copolymer of acrylic acid-methyl methacrylate-hydroxyethyl methacrylate-N-methylol acrylamide was formed thereon to a thickness of 1 μm as an ink receiving layer. Next, the same R, G, and B inks as in Example 1 were discharged into the openings of the black matrix by an ink jet printer, and the ink and the ink receiving layer were cured by heat treatment at 220 ° C. for 30 minutes.

【0092】このようにして作製したカラーフィルター
を光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラ等の
問題は観察されなかった。
When the color filter thus manufactured was observed with an optical microscope, no problems such as color mixing and color unevenness were observed.

【0093】また、上記のカラーフィルター、ITO
(電極)形成、配向膜形成、液晶材料の封入等の一連の
作業を行ない、図3に示すようなカラー液晶素子を作製
したところ、良好に作製された。
The above color filters, ITO
A series of operations including (electrode) formation, formation of an alignment film, sealing of a liquid crystal material, and the like were performed, and a color liquid crystal device as shown in FIG. 3 was manufactured.

【0094】本実施例の液晶素子を用いて、−20℃〜
60℃の温度範囲にて連続1000時間の駆動を行なっ
たところ、障害は発生しなかった。
Using the liquid crystal element of this embodiment, the temperature was -20.degree.
When driving was performed for 1000 hours in a temperature range of 60 ° C., no trouble occurred.

【0095】[実施例7]オンアレイタイプの実施例に
ついて図6、図7に基づいて説明する。
[Embodiment 7] An embodiment of the on-array type will be described with reference to FIGS.

【0096】先ず、ガラス基板101上に2000Å程
度の膜厚でCrによりゲート電極102を形成した。次
いで、ゲート電極102上にSi34を用いて5000
Å程度の膜厚でゲート絶縁膜103を形成した。さら
に、ゲート絶縁膜103上に2000Å程度の膜厚でi
型のアモルファスシリコン膜104、またSiNにより
エッチングストップ層105を形成し、エッチングスト
ップ層105をパターニングした。
First, a gate electrode 102 was formed on a glass substrate 101 with a thickness of about 2000 ° by using Cr. Next, 5000 g of Si 3 N 4 is formed on the gate electrode 102.
The gate insulating film 103 was formed to a thickness of about Å. Further, i.
An etching stop layer 105 was formed of a type amorphous silicon film 104 and SiN, and the etching stop layer 105 was patterned.

【0097】次いで、i型アモルファスシリコン膜10
4及びエッチングストップ層105上に3000Å程度
の膜厚でn+型のアモルファスシリコンによりオーミッ
クコンタクト層106を形成した。
Next, the i-type amorphous silicon film 10
An ohmic contact layer 106 was formed of n.sup. + Type amorphous silicon with a thickness of about 3000.degree.

【0098】次に、オーミックコンタクト層106上に
ソース電極107及びドレイン電極108をAlにより
形成し、オーミックコンタクト層106、i型アモルフ
ァスシリコン膜104、ゲート絶縁膜103の不要な部
分をエッチングで除去して、TFT109を形成した。
Next, a source electrode 107 and a drain electrode 108 are formed of Al on the ohmic contact layer 106, and unnecessary portions of the ohmic contact layer 106, the i-type amorphous silicon film 104, and the gate insulating film 103 are removed by etching. Thus, a TFT 109 was formed.

【0099】TFT109をSiNからなるパッシベー
ション膜110で覆い、その上にカーボンブラックから
なる遮光層111を形成し、その後マスク露光した。開
口領域120のパッシベーション膜110と遮光層11
1を現像して除去し、ドレイン電極108上にコンタク
トホール112を形成した。
The TFT 109 was covered with a passivation film 110 made of SiN, a light-shielding layer 111 made of carbon black was formed thereon, and the mask was exposed. Passivation film 110 and light shielding layer 11 in opening region 120
1 was developed and removed, and a contact hole 112 was formed on the drain electrode 108.

【0100】開口領域120に実施例1に用いたものと
同じR,G,Bインクを用いて、インクジェット法によ
り所定の位置にインクを吐出することにより着色し、さ
らに、220℃、30分の熱処理により該インクを硬化
させた。
Using the same R, G, and B inks as those used in the first embodiment, the opening region 120 is colored by discharging the ink to a predetermined position by an ink-jet method. The ink was cured by heat treatment.

【0101】カラーフィルタ113上にITOからなる
透明画素電極114を形成し、コンタクトホール112
を介してドレイン電極108を接続した。さらに、TF
T109及び透明画素電極114上の全面にポリイミド
からなる配向膜115を形成した。
A transparent pixel electrode 114 made of ITO is formed on the color filter 113 and a contact hole 112 is formed.
, The drain electrode 108 was connected. Furthermore, TF
An alignment film 115 made of polyimide was formed on the entire surface of T109 and the transparent pixel electrode 114.

【0102】他方、共通透明電極117、配向膜118
を形成したガラス基板116とTFT109及びカラー
フィルタ113等を形成したガラス基板101とを対向
配置して、両基板間に液晶119を充填した。
On the other hand, the common transparent electrode 117 and the alignment film 118
And the glass substrate 101 on which the TFT 109, the color filter 113, and the like are formed, and the liquid crystal 119 is filled between the two substrates.

【0103】このようにして作成された液晶素子は、混
色、色ムラ等の障害は観察されず、一連の作業も問題な
く作成できた。また、本実施例の液晶素子を用いて、−
20℃〜60℃の温度範囲にて連続1000時間の駆動
を行ったところ、障害は発生しなかった。
In the liquid crystal device thus prepared, no obstacle such as color mixture and color unevenness was observed, and a series of operations could be performed without any problem. Further, using the liquid crystal element of this embodiment,
When driving was performed for 1000 hours continuously in a temperature range of 20 ° C. to 60 ° C., no trouble occurred.

【0104】[実施例8]着色剤を変える以外は実施例
1と同様のインクを用い、記録信号に応じた熱エネルギ
ーを付与することによりインクを吐出させるオンデマン
ド型マルチ記録ヘッドを有するインクジェット記録装置
を用いて、キヤノン NP−DRYコピー用紙にイエロ
ー、マゼンタ、シアン、ブラックの各色ベタ部を隣接し
て記録し、さらに印字物を加熱定着した。着色剤として
は、以下のものを用いた。
[Embodiment 8] Ink-jet recording having an on-demand type multi-recording head that uses the same ink as in Embodiment 1 except that the colorant is changed and applies thermal energy according to a recording signal to eject the ink. Using a device, solid portions of yellow, magenta, cyan, and black were recorded adjacent to each other on Canon NP-DRY copy paper, and the printed matter was heated and fixed. The following were used as coloring agents.

【0105】(ブラック) C.I.フードブラック 2 (イエロー) C.I.ダイレクトイエロー 86 (マゼンタ) C.I.アシッドレッド 35 (シアン) C.I.ダイレクトブルー 199(Black) C.I. I. Food black 2 (yellow) C.I. I. Direct Yellow 86 (Magenta) C.I. I. Acid Red 35 (cyan) C.I. I. Direct Blue 199

【0106】カラーインク間各色の境界部、カラーブラ
ックインク間の境界部で色がにじんだり、不均一に混じ
り合っていないか観察したところ、色がにじんだり、不
均一に混じり合った部分はなかった。
Observation of whether or not the colors were blurred or unevenly mixed at the boundary between the respective colors of the color inks and the boundary between the color black inks showed that there were no portions where the colors were blurred or unevenly mixed. Was.

【0107】また、上記印字物を水道水に5分間浸し、
試験前後の印字濃度を測定したところ、印字濃度の変化
は見られなかった。
The printed matter was immersed in tap water for 5 minutes.
When the print density before and after the test was measured, no change in the print density was observed.

【0108】[比較例1]ガラス基板上に富士ハント
(株)製の黒色顔料レジストCK−S171Bを膜厚
1.0μmになるようにスピンコート法により塗布し、
露光、現像、熱処理により厚さ1.0μmのブラックマ
トリクスを形成した。次いで、インクジェットプリンタ
により上記ブラックマトリクスの開口部にR,G,Bイ
ンクを吐出した。該インクとしては以下のものを用い
た。
Comparative Example 1 A black pigment resist CK-S171B manufactured by Fuji Hunt Co., Ltd. was applied on a glass substrate by spin coating so as to have a thickness of 1.0 μm.
A black matrix having a thickness of 1.0 μm was formed by exposure, development, and heat treatment. Next, R, G, and B inks were ejected to the openings of the black matrix by an inkjet printer. The following were used as the ink.

【0109】 (Rインク) C.I.アシッドレッド 118 5重量部 アクリル酸−メタクリル酸メチル−ヒドロキシエチルメタクリレートの 3元共重合体 4.5重量部 N−メチル−2−ピロリドン 15重量部 エチレングリコール 20重量部 エタノール 2重量部 イオン交換水 53.5重量部(R ink) C.I. I. Acid Red 118 5 parts by weight Acrylic acid-methyl methacrylate-hydroxyethyl methacrylate terpolymer 4.5 parts by weight N-methyl-2-pyrrolidone 15 parts by weight Ethylene glycol 20 parts by weight Ethanol 2 parts by weight Ion exchange water 53 .5 parts by weight

【0110】(Gインク) C.I.アシッドグリーン 25 5重量部 以下Rインクに同じ(G ink) C.I. I. Acid Green 25 5 parts by weight Same as R ink

【0111】(Bインク) C.I.アシッドブルー 113 5重量部 以下Rインクと同じ(B ink) C.I. I. Acid Blue 113 5 parts by weight Same as R ink

【0112】上記インクを吐出した後、230℃、40
分の熱処理により該インクを硬化しカラーフィルターを
形成した。
After discharging the above ink, the ink was heated at 230 ° C. and 40 ° C.
The ink was cured by heat treatment for one minute to form a color filter.

【0113】このようにして作製したカラーフィルター
を光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラが観
察された。
When the thus prepared color filter was observed with an optical microscope, color mixing and color unevenness were observed.

【0114】また、上記のカラーフィルター、ITO
(電極)形成、配向膜形成、液晶材料の封入等の一連の
作業を行ない、図3に示すようなカラー液晶素子を作製
したところ、R,G,Bの各色の色濃度の低下が激し
く、さらに、カラーフィルターのひび割れといった問題
が発生した。
Further, the above color filters, ITO
A series of operations such as (electrode) formation, alignment film formation, liquid crystal material encapsulation, etc. were performed to produce a color liquid crystal device as shown in FIG. 3. Further, a problem such as cracking of the color filter has occurred.

【0115】[比較例2]インクとしては以下のものを
用いる以外は比較例1と同様にしてカラーフィルターを
作製した。
Comparative Example 2 A color filter was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the following inks were used.

【0116】 (Rインク) C.I.アシッドレッド 118 5重量部 ヒドロキシプロピルセルロース 4.5重量部 N−メチル−2−ピロリドン 15重量部 エチレングリコール 20重量部 エタノール 2重量部 イオン交換水 53.5重量部(R ink) C.I. I. Acid Red 118 5 parts by weight Hydroxypropylcellulose 4.5 parts by weight N-methyl-2-pyrrolidone 15 parts by weight Ethylene glycol 20 parts by weight Ethanol 2 parts by weight Deionized water 53.5 parts by weight

【0117】(Gインク) C.I.アシッドグリーン 25 5重量部 以下Rインクに同じ(G ink) C.I. I. Acid Green 25 5 parts by weight Same as R ink

【0118】(Bインク) C.I.アシッドブルー 113 5重量部 以下Rインクと同じ(B ink) C.I. I. Acid Blue 113 5 parts by weight Same as R ink

【0119】このようにして作製したカラーフィルター
を光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ムラが観
察された。
When the thus prepared color filter was observed with an optical microscope, color mixing and color unevenness were observed.

【0120】また、上記のカラーフィルター、ITO
(電極)形成、配向膜形成、液晶材料の封入等の一連の
作業を行ない、図3に示すようなカラー液晶素子を作製
したところ、R,G,Bの各色の色濃度の低下が激し
く、さらに、カラーフィルターのひび割れといった問題
が発生した。
The above color filters, ITO
A series of operations such as (electrode) formation, alignment film formation, liquid crystal material encapsulation, etc. were performed to produce a color liquid crystal device as shown in FIG. 3. Further, a problem such as cracking of the color filter has occurred.

【0121】[0121]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
十分な耐熱性、耐溶剤性、解像性を有し、且つ、混色、
色ムラ、色抜け、製造工程中の色落ち、ひび割れのない
カラーフィルターが簡易な方法で得られる。よって該カ
ラーフィルターを構成部品として備えた液晶素子を製造
する場合でも、後工程の熱処理や溶剤等による劣化がな
く、安価で信頼性の高い液晶素子を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention,
Having sufficient heat resistance, solvent resistance, resolution, and color mixing,
A color filter without color unevenness, color omission, discoloration during the manufacturing process, and cracks can be obtained by a simple method. Therefore, even when a liquid crystal element having the color filter as a component is manufactured, an inexpensive and highly reliable liquid crystal element can be provided without deterioration due to heat treatment or a solvent in a later step.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のカラーフィルターの製造方法の第1の
実施形態を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a first embodiment of a method for manufacturing a color filter of the present invention.

【図2】本発明のカラーフィルターの製造方法の第2の
実施形態を示す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a second embodiment of the method for manufacturing a color filter of the present invention.

【図3】図1に示した本発明の第1の実施形態によって
得られるカラーフィルターを設けたTFTカラー液晶素
子の概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a TFT color liquid crystal device provided with a color filter obtained by the first embodiment of the present invention shown in FIG.

【図4】本発明のカラーフィルターをTFT基板に設け
たTFTカラー液晶素子の一実施形態を示す概略断面図
である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of a TFT color liquid crystal element in which a color filter of the present invention is provided on a TFT substrate.

【図5】図4に示した液晶素子のTFT基板の概略平面
図である。
5 is a schematic plan view of a TFT substrate of the liquid crystal element shown in FIG.

【図6】図4、図5に示した液晶素子の製造工程を示す
断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a step of manufacturing the liquid crystal element shown in FIGS.

【図7】図4、図5に示した液晶素子の製造工程を示す
断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a step of manufacturing the liquid crystal element shown in FIGS. 4 and 5.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 ブラックマトリクス 3 イオン受容層 4 インク 5 保護膜 9 カラーフィルター 11 ガラス基板 12 画素電極 13a,13b 配向膜 14 共通電極 15 液晶化合物 16a,16b 偏光板 17 バックライトの光 101 ガラス基板 102 ゲート電極 103 ゲート絶縁膜 104 i型アモルファスシリコン膜 105 エッチングストップ層 106 オーミックコンタクト層 107 ソース電極 108 ドレイン電極 109 TFT 110 パッシベーション膜 111 遮光層 112 コンタクトホール 113 カラーフィルター 114 透明画素電極 115 配向膜 116 ガラス基板 117 透明共通電極 118 配向膜 119 液晶 120 開口領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Black matrix 3 Ion receiving layer 4 Ink 5 Protective film 9 Color filter 11 Glass substrate 12 Pixel electrode 13a, 13b Alignment film 14 Common electrode 15 Liquid crystal compound 16a, 16b Polarizing plate 17 Backlight 101 Glass substrate 102 Gate electrode 103 gate insulating film 104 i-type amorphous silicon film 105 etching stop layer 106 ohmic contact layer 107 source electrode 108 drain electrode 109 TFT 110 passivation film 111 light shielding layer 112 contact hole 113 color filter 114 transparent pixel electrode 115 alignment film 116 glass substrate 117 transparent Common electrode 118 Alignment film 119 Liquid crystal 120 Open area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 広瀬 雅史 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Masafumi Hirose 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透光部に凹部を有するカラーフィルター
形成面の該凹部に、少なくとも着色剤と反応性ナイロン
樹脂を含有する熱硬化型組成物からなるインクを付与す
る工程と、上記インクを熱処理により硬化させる工程と
を有することを特徴とするカラーフィルターの製造方
法。
1. A step of applying an ink comprising a thermosetting composition containing at least a colorant and a reactive nylon resin to the concave portion of a color filter forming surface having a concave portion in a light transmitting portion, and heat treating the ink. And a step of curing the color filter.
【請求項2】 上記凹部が、基板上に形成されたブラッ
クマトリクスの開口部である請求項1記載のカラーフィ
ルターの製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the recess is an opening of a black matrix formed on the substrate.
【請求項3】 上記ブラックマトリクスが黒色顔料含有
レジストからなる請求項2記載のカラーフィルターの製
造方法。
3. The method for producing a color filter according to claim 2, wherein said black matrix is made of a resist containing a black pigment.
【請求項4】 上記カラーフィルター形成面に樹脂組成
物からなるインク受容層を形成した後、インクの付与を
行なう請求項1〜3のいずれかに記載のカラーフィルタ
ーの製造方法。
4. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein an ink is applied after forming an ink receiving layer made of a resin composition on the color filter forming surface.
【請求項5】 上記インク受容層が、光照射及び熱処理
の少なくとも一方により硬化可能な樹脂組成物からなる
請求項4記載のカラーフィルターの製造方法。
5. The method for producing a color filter according to claim 4, wherein said ink receiving layer is made of a resin composition curable by at least one of light irradiation and heat treatment.
【請求項6】 上記インクの付与がインクジェット方式
による請求項1〜5のいずれかに記載のカラーフィルタ
ーの製造方法。
6. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the application of the ink is performed by an ink-jet method.
【請求項7】 請求項1〜6のいずれかに記載の製造方
法によって製造されたことを特徴とするカラーフィルタ
ー。
7. A color filter produced by the production method according to claim 1. Description:
【請求項8】 それぞれに電極を有する一対の基板間に
液晶を挟持してなり、該一対の基板のいずれか一方に請
求項7に記載のカラーフィルターを設けたことを特徴と
する液晶素子。
8. A liquid crystal device comprising a pair of substrates each having an electrode and holding a liquid crystal between the pair of substrates, wherein one of the pair of substrates is provided with the color filter according to claim 7.
【請求項9】 一方の基板がTFT基板であり、カラー
フィルターが該TFT基板上に形成されている請求項8
記載の液晶素子。
9. The TFT substrate according to claim 8, wherein the color filter is formed on the TFT substrate.
The liquid crystal element according to the above.
【請求項10】 それぞれに電極を有する一対の基板間
に液晶を挟持してなり、該一対の基板のいずれか一方に
カラーフィルターを有する液晶素子の製造方法であっ
て、上記カラーフィルターが請求項1〜6のいずれかに
記載の製造方法によって製造されることを特徴とする液
晶素子の製造方法。
10. A method for manufacturing a liquid crystal device comprising a pair of substrates each having an electrode and a liquid crystal sandwiched between the pair of substrates, and having a color filter on one of the pair of substrates. 7. A method for manufacturing a liquid crystal element, which is manufactured by the manufacturing method according to any one of 1 to 6.
【請求項11】 カラーフィルターを有するTFT基板
と対向電極基板間に液晶を挟持してなる液晶素子の製造
方法であって、TFTアレイを作り込んだ基板の画素部
を凹部として、請求項1〜6のいずれかに記載の製造方
法によってカラーフィルターを製造したことを特徴とす
る液晶素子の製造方法。
11. A method for manufacturing a liquid crystal device comprising a liquid crystal sandwiched between a TFT substrate having a color filter and a counter electrode substrate, wherein the pixel portion of the substrate on which the TFT array is formed is formed as a concave portion. 7. A method for manufacturing a liquid crystal device, wherein a color filter is manufactured by the method according to any one of 6.
【請求項12】 少なくとも着色剤と反応性ナイロン樹
脂を含有する熱硬化型組成物であることを特徴とするイ
ンクジェット用インク。
12. An ink-jet ink characterized by being a thermosetting composition containing at least a colorant and a reactive nylon resin.
JP25722996A 1996-09-30 1996-09-30 Color filter, liquid crystal element using the same, production of these, and ink for ink-jet process used for production Withdrawn JPH10104415A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25722996A JPH10104415A (en) 1996-09-30 1996-09-30 Color filter, liquid crystal element using the same, production of these, and ink for ink-jet process used for production

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25722996A JPH10104415A (en) 1996-09-30 1996-09-30 Color filter, liquid crystal element using the same, production of these, and ink for ink-jet process used for production

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10104415A true JPH10104415A (en) 1998-04-24

Family

ID=17303478

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25722996A Withdrawn JPH10104415A (en) 1996-09-30 1996-09-30 Color filter, liquid crystal element using the same, production of these, and ink for ink-jet process used for production

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10104415A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004246289A (en) * 2003-02-17 2004-09-02 Chunghwa Picture Tubes Ltd Liquid crystal display equipped with ink jet color filter and its manufacturing method
US7410734B2 (en) 2005-08-25 2008-08-12 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Method of fabricating color filter

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004246289A (en) * 2003-02-17 2004-09-02 Chunghwa Picture Tubes Ltd Liquid crystal display equipped with ink jet color filter and its manufacturing method
US7410734B2 (en) 2005-08-25 2008-08-12 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Method of fabricating color filter

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6084006A (en) Color filter, liquid crystal using the same, manufacturing methods thereof, and ink for ink jet used in the manufacturing method
US6312771B1 (en) Production process of color filter for liquid crystal display device and ink
JP3376169B2 (en) Color filter manufacturing method and color filter manufactured by the method
JP2952143B2 (en) Manufacturing method of color filter
JPH0829771A (en) Color filter, production thereof and liquid crystal panel with same
JP4261657B2 (en) Manufacturing method of color filter
JPH11302283A (en) Production of phthalocyanine compound, ink, color filter, liquid crystal panel, computer, and color filter
JPH08327811A (en) Ink for color filter, color filter, production of color filter and liquid crystal panel
JP2000147241A (en) Manufacture of color filter and liquid crystal element and ink jet head using color filter manufactured by the manufacturing method
JPH10104415A (en) Color filter, liquid crystal element using the same, production of these, and ink for ink-jet process used for production
JPH10104416A (en) Color filter, liquid crystal element using the same, production of these and ink for ink-jet process used for production
JPH10104417A (en) Color filter, liquid crystal element using the same, production of these and ink for ink-jet process used for production
JP2001288393A (en) Recording ink, inkjet recording method, method for producing color filter, color filters, method for producing liquid crystal display panel, liquid crystal display panel and yellow ink
JP2000089213A (en) Liquid crystal device and its production
JPH08230314A (en) Color filter, production thereof and liquid crystal panel using color filter
JP2001154008A (en) Color filter, method of producing the same, liquid crystal device using the color filter
JP2002212471A (en) Ink, color filter and its manufacturing method, liquid crystal panel, computer and image display device
JP2002303716A (en) Optical parts, method for manufacturing the same and optical element which uses the optical parts
JPH0829777A (en) Color filter, production thereof and liquid crystal panel with same
JP4510246B2 (en) Manufacturing method of color filter
JP2002302626A (en) Recording ink, ink jet recording process, color filter manufacture process, liquid crystal display panel and its manufacture process
JPH0915580A (en) Color filter for liquid crystal, its production and liquid crystal panel
JP2001159710A (en) Color filter, method of manufacturing it, and liquid crystal element using the color filter
JPH10332926A (en) Color filter substrate and its manufacture, and liquid crystal element using the same substrate
JPH0915582A (en) Color filter for liquid crystal, its production and liquid crystal panel

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20031202