JPH0996716A - カラーフィルタ基板 - Google Patents
カラーフィルタ基板Info
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- JPH0996716A JPH0996716A JP25344595A JP25344595A JPH0996716A JP H0996716 A JPH0996716 A JP H0996716A JP 25344595 A JP25344595 A JP 25344595A JP 25344595 A JP25344595 A JP 25344595A JP H0996716 A JPH0996716 A JP H0996716A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラーフィルタ基板をカラーＬＣＤパネルに
組みあげた場合に、色むらや表示むらを低減できるよう
に、カラーフィルタを形成する色ペーストの塗布膜厚を
均一化する。 【解決手段】 ガラス基板１上に複数の色ペーストを塗
布パターンニングするに当り、少なくともシール部を避
けた領域にダミーパターン部６を設定し、ダミーパター
ン部６に少なくとも第１回目に形成するべき色ペースト
により、例えばＲパターン２１を塗布パターンニング
し、次に形成するべきＧペースト２２１をその上から塗
布することにより、垂れ部５などにより膜厚が不均一と
なる領域をダミーパターン部６に吸収させる。
組みあげた場合に、色むらや表示むらを低減できるよう
に、カラーフィルタを形成する色ペーストの塗布膜厚を
均一化する。 【解決手段】 ガラス基板１上に複数の色ペーストを塗
布パターンニングするに当り、少なくともシール部を避
けた領域にダミーパターン部６を設定し、ダミーパター
ン部６に少なくとも第１回目に形成するべき色ペースト
により、例えばＲパターン２１を塗布パターンニング
し、次に形成するべきＧペースト２２１をその上から塗
布することにより、垂れ部５などにより膜厚が不均一と
なる領域をダミーパターン部６に吸収させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルタ基板
に係り、特に、液晶表示パネルに適用されるカラーフィ
ルタの色むらを低減するための基板構造に関する。
に係り、特に、液晶表示パネルに適用されるカラーフィ
ルタの色むらを低減するための基板構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶表示パネル（以下、ＬＣＤと
称する）は、カラー化が進み、特にパーソナルＯＡ用の
ディスプレイとしては、近い将来、大半がカラー化され
るものと予想されている。
称する）は、カラー化が進み、特にパーソナルＯＡ用の
ディスプレイとしては、近い将来、大半がカラー化され
るものと予想されている。
【０００３】ＬＣＤのカラー化は、主として、カラーフ
ィルタ方式により実現されている。このカラーフィルタ
方式は、表面にカラーフィルタを配列したカラーフィル
タ基板と、光を変調するためのＬＣＤを重ね合わせた構
造を有する。つまり、カラーフィルタ基板はカラーＬＣ
Ｄパネルの重要な要素部品とされている。
ィルタ方式により実現されている。このカラーフィルタ
方式は、表面にカラーフィルタを配列したカラーフィル
タ基板と、光を変調するためのＬＣＤを重ね合わせた構
造を有する。つまり、カラーフィルタ基板はカラーＬＣ
Ｄパネルの重要な要素部品とされている。
【０００４】このカラーフィルタ基板は、ガラスやアク
リル等の透明基板の上に、顔料を分散させたり、染色し
たり、電着により色を配置したり、印刷により色を刷り
込んだりの方法によって製造される。
リル等の透明基板の上に、顔料を分散させたり、染色し
たり、電着により色を配置したり、印刷により色を刷り
込んだりの方法によって製造される。
【０００５】この中で、代表的な例として上げられるの
が、顔料分散法である。
が、顔料分散法である。
【０００６】この顔料分散法では、先ず、例えばアクリ
ル樹脂等の透明性の良好なベース材料に、色の元となる
顔料を均一に分散させてペーストを作成する。このペー
ストは、例えば色表示の３原色であるＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の各色毎に対応した３種類を準備す
る。
ル樹脂等の透明性の良好なベース材料に、色の元となる
顔料を均一に分散させてペーストを作成する。このペー
ストは、例えば色表示の３原色であるＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の各色毎に対応した３種類を準備す
る。
【０００７】次に、このペーストをガラス等の透明基板
にスピンナや浸漬等で均一に全面塗布し、次にフォトリ
ソグラフィ技術により、所望のパターン、例えばストラ
イプパターンに加工する。この加工は、Ｒ、Ｇ、Ｂの各
色毎に繰り返し行われ、色置き層が完成する。
にスピンナや浸漬等で均一に全面塗布し、次にフォトリ
ソグラフィ技術により、所望のパターン、例えばストラ
イプパターンに加工する。この加工は、Ｒ、Ｇ、Ｂの各
色毎に繰り返し行われ、色置き層が完成する。
【０００８】以上のように、顔料分散法等によって形成
された色置き層の上には、同じく透明性の高い有機材
料、例えばエポキシ樹脂等により、その保護および平坦
化を目的として、オーバーコート層の塗布が行われる。
この塗布作業も同じく浸漬やスピンナ等で行われる。
された色置き層の上には、同じく透明性の高い有機材
料、例えばエポキシ樹脂等により、その保護および平坦
化を目的として、オーバーコート層の塗布が行われる。
この塗布作業も同じく浸漬やスピンナ等で行われる。
【０００９】しかる後に、ＩＴＯ等の透明電極材料が、
スパッタ等の方法で形成され、表示駆動用の透明電極
が、所望のパターンに加工される。
スパッタ等の方法で形成され、表示駆動用の透明電極
が、所望のパターンに加工される。
【００１０】図３は、以上のようなカラーフィルタ基板
製造方法によって製造されたカラーフィルタ基板の断面
図である。図において示すように、ガラス基板１の上に
は、Ｒペースト、Ｇペースト、Ｂペーストを順次塗布お
よびパターンニングして形成されるＲパターン２１、Ｇ
パターン２２、Ｂパターン２３をストライプ状に配置し
た色置層２が形成され、その上には、色置層２の保護と
平坦化のためのオーバーコート層３が形成される。そし
て、このオーバーコート層３の上には、透明電極４が積
層形成される。
製造方法によって製造されたカラーフィルタ基板の断面
図である。図において示すように、ガラス基板１の上に
は、Ｒペースト、Ｇペースト、Ｂペーストを順次塗布お
よびパターンニングして形成されるＲパターン２１、Ｇ
パターン２２、Ｂパターン２３をストライプ状に配置し
た色置層２が形成され、その上には、色置層２の保護と
平坦化のためのオーバーコート層３が形成される。そし
て、このオーバーコート層３の上には、透明電極４が積
層形成される。
【００１１】以上のような構造に製作されたカラーフィ
ルタ基板は、ＴＦＴ等をマトリックス状に配置したアレ
イ基板と対向配置され、両者の間にできる空隙に液晶材
料を充填して、カラーＬＣＤパネルに加工される。
ルタ基板は、ＴＦＴ等をマトリックス状に配置したアレ
イ基板と対向配置され、両者の間にできる空隙に液晶材
料を充填して、カラーＬＣＤパネルに加工される。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】従来のカラーフィルタ
基板製造方法は、以上のように構成されていたので、以
下に述べるような問題点を有する。
基板製造方法は、以上のように構成されていたので、以
下に述べるような問題点を有する。
【００１３】例えば、顔料分散法で色置き層を形成する
場合、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色に対応するペーストを塗布する
工程が含まれる。これを浸漬法によって行う場合、ペー
ストを溜めた浸漬槽に基板を垂直に漬け込み、これを引
き上げて行う。
場合、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色に対応するペーストを塗布する
工程が含まれる。これを浸漬法によって行う場合、ペー
ストを溜めた浸漬槽に基板を垂直に漬け込み、これを引
き上げて行う。
【００１４】浸漬法により色ペーストを塗布した場合、
塗布されたペーストの垂れ部２０（図４の２０）が発生
するのは避けられない。この傾向は、１色目のペースト
の場合より、２色目、３色目のペーストの場合の方が顕
著に現れる。これは、既にパターンニングされた１色目
ないしは２色目のペーストのパターンの影響を受けるた
めであり、引き上げ方向の上方が著しい。
塗布されたペーストの垂れ部２０（図４の２０）が発生
するのは避けられない。この傾向は、１色目のペースト
の場合より、２色目、３色目のペーストの場合の方が顕
著に現れる。これは、既にパターンニングされた１色目
ないしは２色目のペーストのパターンの影響を受けるた
めであり、引き上げ方向の上方が著しい。
【００１５】図４は、従来のカラーフィルタ基板製造方
法の途中工程の断面図であるが、ガラス基板１の上に、
Ｒパターン２１を形成した後に、Ｇペースト２２１を浸
漬により塗布した直後の状態を示している。図に示すよ
うに、Ｒパターン２１が形成された後に、Ｇペースト２
２１を塗布した場合、引き上げ方向上方側のＲパターン
２１の周辺に垂れ部２０が発生する。
法の途中工程の断面図であるが、ガラス基板１の上に、
Ｒパターン２１を形成した後に、Ｇペースト２２１を浸
漬により塗布した直後の状態を示している。図に示すよ
うに、Ｒパターン２１が形成された後に、Ｇペースト２
２１を塗布した場合、引き上げ方向上方側のＲパターン
２１の周辺に垂れ部２０が発生する。
【００１６】つまり、浸漬法では、基板の引き上げ方向
の上方で、ペーストの垂れにより生じる垂れ部５によ
り、膜厚むらが発生しやすく、特に浸漬２回目以降、つ
まり２色目以降で膜厚のむらが発生しやすい。この膜厚
変化はＬＣＤのセルギャップ不良につながり、カラーＬ
ＣＤパネルに組みあげた後で、色むらや表示むらを生じ
る原因となる。
の上方で、ペーストの垂れにより生じる垂れ部５によ
り、膜厚むらが発生しやすく、特に浸漬２回目以降、つ
まり２色目以降で膜厚のむらが発生しやすい。この膜厚
変化はＬＣＤのセルギャップ不良につながり、カラーＬ
ＣＤパネルに組みあげた後で、色むらや表示むらを生じ
る原因となる。
【００１７】一方、色置き層を形成するに当り、Ｒ、
Ｇ、Ｂの各色に対応するペーストを、スピンナにより塗
布する場合、回転する基板の回転中心付近に滴下したペ
ーストは、基板の回転に伴う遠心力で、基板全体に均一
な塗膜となって広がる。しかし、スピンナの場合、一般
には回転の周辺部で膜厚が薄くなり易い。特に、浸漬法
と同様に、２色目以降においては、既に形成済のパター
ンと、パターンのなくなる境界部で、ペーストの広がる
速度が不連続になり易い。このため、既形成パターン周
辺の膜厚が薄くなり易い。
Ｇ、Ｂの各色に対応するペーストを、スピンナにより塗
布する場合、回転する基板の回転中心付近に滴下したペ
ーストは、基板の回転に伴う遠心力で、基板全体に均一
な塗膜となって広がる。しかし、スピンナの場合、一般
には回転の周辺部で膜厚が薄くなり易い。特に、浸漬法
と同様に、２色目以降においては、既に形成済のパター
ンと、パターンのなくなる境界部で、ペーストの広がる
速度が不連続になり易い。このため、既形成パターン周
辺の膜厚が薄くなり易い。
【００１８】図５は、従来のカラーフィルタ基板製造方
法の途中工程の断面図であるが、ガラス基板１の上に、
Ｒパターン２１を形成した後に、Ｇペースト２２１をス
ピンナにより塗布した直後の状態を示している。図に示
すように、Ｒパターン２１が形成された後に、Ｇペース
ト２２１を塗布した場合、回転周辺部８では膜厚が薄く
なり易く、一方、Ｒパターン２１の周辺では、膜厚が不
均一となってしまう。付近いつを配置した表示パターン
部７さダミ表示パターン部７鉢ーパターン部６引き上げ
方向上方側のＲパターン２１の周辺に垂れ部５が発生す
る。
法の途中工程の断面図であるが、ガラス基板１の上に、
Ｒパターン２１を形成した後に、Ｇペースト２２１をス
ピンナにより塗布した直後の状態を示している。図に示
すように、Ｒパターン２１が形成された後に、Ｇペース
ト２２１を塗布した場合、回転周辺部８では膜厚が薄く
なり易く、一方、Ｒパターン２１の周辺では、膜厚が不
均一となってしまう。付近いつを配置した表示パターン
部７さダミ表示パターン部７鉢ーパターン部６引き上げ
方向上方側のＲパターン２１の周辺に垂れ部５が発生す
る。
【００１９】つまり、スピンナ法では、回転周辺部や既
形成パターン周辺で膜厚が薄くなり易く、この膜厚変化
に伴うＬＣＤのセルギャップ不良により、このカラーフ
ィルタ基板を用いたカラーＬＣＤパネルにおいて、色む
らや表示むらを発生する原因になる。
形成パターン周辺で膜厚が薄くなり易く、この膜厚変化
に伴うＬＣＤのセルギャップ不良により、このカラーフ
ィルタ基板を用いたカラーＬＣＤパネルにおいて、色む
らや表示むらを発生する原因になる。
【００２０】以上述べたように、従来のカラーフィルタ
基板製造方法では、その工程中で、色ペーストを順次塗
布する場合に、先に形成したペーストのパターンの影響
により、後の工程で塗布されるペーストの膜厚むらを生
じ易く、ＬＣＤのセルギャップに変動を与え、色むらや
表示むらを発生し易いという問題点があった。
基板製造方法では、その工程中で、色ペーストを順次塗
布する場合に、先に形成したペーストのパターンの影響
により、後の工程で塗布されるペーストの膜厚むらを生
じ易く、ＬＣＤのセルギャップに変動を与え、色むらや
表示むらを発生し易いという問題点があった。
【００２１】本発明は上記のような従来技術の問題点を
解消し、カラーＬＣＤパネルに組みあげた場合に、色む
らや表示むらを低減できるように、カラーフィルタを形
成する色ペーストの塗布膜厚を均一化できるカラーフィ
ルタ基板製造方法を提供することを目的とする。
解消し、カラーＬＣＤパネルに組みあげた場合に、色む
らや表示むらを低減できるように、カラーフィルタを形
成する色ペーストの塗布膜厚を均一化できるカラーフィ
ルタ基板製造方法を提供することを目的とする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、透明基板上にカラーフィルターを形成するための複
数の色ペーストが塗布、パターンニングされて色パター
ンが形成されており、且つ少なくともシール部を避けた
領域にダミーパターンが形成されており、前記ダミーパ
ターンは第１色目の色ペーストを塗布、パターンニング
することにより構成されている、ことを特徴とするカラ
ーフィルタ基板を提供するものである。
に、透明基板上にカラーフィルターを形成するための複
数の色ペーストが塗布、パターンニングされて色パター
ンが形成されており、且つ少なくともシール部を避けた
領域にダミーパターンが形成されており、前記ダミーパ
ターンは第１色目の色ペーストを塗布、パターンニング
することにより構成されている、ことを特徴とするカラ
ーフィルタ基板を提供するものである。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態としての実施例を説明する。 実施例１．図１は実施例１のカラーフィルタ基板の途中
工程を示す断面図であり、特に浸漬法によりペースト塗
布を行う場合を例示するものである。
の実施の形態としての実施例を説明する。 実施例１．図１は実施例１のカラーフィルタ基板の途中
工程を示す断面図であり、特に浸漬法によりペースト塗
布を行う場合を例示するものである。
【００２４】図において示すように、ガラス基板１の上
には、ＬＣＤパネルとして構成した場合に、実際の表示
には用いないダミーパターン部６と、実際の表示に用い
る表示パターン部７が配置される。このダミーパターン
部６は、少なくとも浸漬の場合の引き上げ方向上方部に
配置される。図では、Ｒペーストの塗布、パターンニン
グが行われた状態を示している。ちなみに、このダミー
パターン部６に配置されたＲパターン２１は実際の表示
には用いられない。
には、ＬＣＤパネルとして構成した場合に、実際の表示
には用いないダミーパターン部６と、実際の表示に用い
る表示パターン部７が配置される。このダミーパターン
部６は、少なくとも浸漬の場合の引き上げ方向上方部に
配置される。図では、Ｒペーストの塗布、パターンニン
グが行われた状態を示している。ちなみに、このダミー
パターン部６に配置されたＲパターン２１は実際の表示
には用いられない。
【００２５】さて、以上のようにダミーパターン部６を
配置したガラス基板１を、例えばＲパターン２１をパタ
ーンニングした後で、Ｇペースト２２１の浸漬槽から引
き上げた場合、Ｇペースト２２１の垂れによる垂れ部２
０は、引き上げ方向上方のダミーパターン部６における
Ｒパターン２１の周辺で発生する。そして、実際の表示
に用いられる表示パターン部７のＲパターン２１の周辺
では、Ｇペースト２２１の膜厚は安定しており、均一に
塗布され、垂れ部の発生はない。
配置したガラス基板１を、例えばＲパターン２１をパタ
ーンニングした後で、Ｇペースト２２１の浸漬槽から引
き上げた場合、Ｇペースト２２１の垂れによる垂れ部２
０は、引き上げ方向上方のダミーパターン部６における
Ｒパターン２１の周辺で発生する。そして、実際の表示
に用いられる表示パターン部７のＲパターン２１の周辺
では、Ｇペースト２２１の膜厚は安定しており、均一に
塗布され、垂れ部の発生はない。
【００２６】つまり、本実施例のカラーフィルタ基板製
造方法では、基板の引き上げ方向の上方で、ペーストの
垂れにより生じる垂れ部５は、実際の表示には用いられ
ないダミーパターン部６よりも上方に発生し、表示パタ
ーン部７の近傍には生じない。これは、浸漬１色目で
も、３色目以降でも同じであり、膜厚のむらはダミーパ
ターン部６に集中して発生する。その結果、表示パター
ン部７では膜厚変化がなく、ＬＣＤのセルギャップも均
一にすることができる。その結果、カラーＬＣＤパネル
に組みあげた後の、色むらや表示むらを低減することが
可能となる。 実施例２．図２は実施例２のカラーフィルタ基板の途中
工程を示す断面図であり、特にスピンナ法によりペース
ト塗布を行う場合を例示するものである。
造方法では、基板の引き上げ方向の上方で、ペーストの
垂れにより生じる垂れ部５は、実際の表示には用いられ
ないダミーパターン部６よりも上方に発生し、表示パタ
ーン部７の近傍には生じない。これは、浸漬１色目で
も、３色目以降でも同じであり、膜厚のむらはダミーパ
ターン部６に集中して発生する。その結果、表示パター
ン部７では膜厚変化がなく、ＬＣＤのセルギャップも均
一にすることができる。その結果、カラーＬＣＤパネル
に組みあげた後の、色むらや表示むらを低減することが
可能となる。 実施例２．図２は実施例２のカラーフィルタ基板の途中
工程を示す断面図であり、特にスピンナ法によりペース
ト塗布を行う場合を例示するものである。
【００２７】図において示すように、ガラス基板１の上
には、ＬＣＤパネルとして構成した場合に、実際の表示
には用いないダミーパターン部６と、実際の表示に用い
る表示パターン部７が配置される。このダミーパターン
部６は、回転周辺部８に配置される。図では、Ｒペース
トの塗布、パターンニングが行われている状態を示して
いる。ちなみに、このダミーパターン部６に配置された
Ｒパターン２１は実際の表示には用いられない。
には、ＬＣＤパネルとして構成した場合に、実際の表示
には用いないダミーパターン部６と、実際の表示に用い
る表示パターン部７が配置される。このダミーパターン
部６は、回転周辺部８に配置される。図では、Ｒペース
トの塗布、パターンニングが行われている状態を示して
いる。ちなみに、このダミーパターン部６に配置された
Ｒパターン２１は実際の表示には用いられない。
【００２８】さて、以上のようにダミーパターン部６を
配置したガラス基板１を、例えばＲパターン２１をパタ
ーンニングした後で、スピンナにかけ回転中心部付近に
Ｇペースト２２１を滴下した場合、Ｇペースト２２１は
遠心力によりガラス基板１の上に均一に塗布されるが、
先にも述べたように、膜厚は回転周辺部８で薄くなり、
薄膜部２０ａが形成される。
配置したガラス基板１を、例えばＲパターン２１をパタ
ーンニングした後で、スピンナにかけ回転中心部付近に
Ｇペースト２２１を滴下した場合、Ｇペースト２２１は
遠心力によりガラス基板１の上に均一に塗布されるが、
先にも述べたように、膜厚は回転周辺部８で薄くなり、
薄膜部２０ａが形成される。
【００２９】そして、この実施例の場合、回転周辺部８
にはダミーパターン部６が配置され、例えばＲパターン
２１が形成されている。その結果、膜厚の薄い部分や、
膜厚の均一でない部分は、ダミーパターン部６のＲパタ
ーン２１のまわりに集中して発生する。そして、実際の
表示に用いられる表示パターン部７のＲパターン２１の
周辺では、Ｇペースト２２１の膜厚は安定しており、均
一に塗布される。
にはダミーパターン部６が配置され、例えばＲパターン
２１が形成されている。その結果、膜厚の薄い部分や、
膜厚の均一でない部分は、ダミーパターン部６のＲパタ
ーン２１のまわりに集中して発生する。そして、実際の
表示に用いられる表示パターン部７のＲパターン２１の
周辺では、Ｇペースト２２１の膜厚は安定しており、均
一に塗布される。
【００３０】つまり、本実施例のカラーフィルタ基板製
造方法では、スピンナの回転周辺部８での、膜厚の薄い
部分や不均一な部分は、実際の表示には用いられないダ
ミーパターン部６で発生し、膜厚むらはこの部分で吸収
される。これは、塗布１色目でも、３色目以降でも同じ
であり、膜厚のむらはダミーパターン部６に集中して発
生する。その結果、表示パターン部７では膜厚変化がな
く、ＬＣＤのセルギャップも均一にすることができる。
その結果、カラーＬＣＤパネルに組みあげた後の、色む
らや表示むらを低減することが可能となる。
造方法では、スピンナの回転周辺部８での、膜厚の薄い
部分や不均一な部分は、実際の表示には用いられないダ
ミーパターン部６で発生し、膜厚むらはこの部分で吸収
される。これは、塗布１色目でも、３色目以降でも同じ
であり、膜厚のむらはダミーパターン部６に集中して発
生する。その結果、表示パターン部７では膜厚変化がな
く、ＬＣＤのセルギャップも均一にすることができる。
その結果、カラーＬＣＤパネルに組みあげた後の、色む
らや表示むらを低減することが可能となる。
【００３１】なお、上記各実施例では、Ｒパターン２１
を形成した後の、Ｇペースト２２１の塗布の場合を例示
したが、本発明は、色ペーストの塗布順序や、工程の過
程にかかわらず、実施可能であることは言うまでもな
い。
を形成した後の、Ｇペースト２２１の塗布の場合を例示
したが、本発明は、色ペーストの塗布順序や、工程の過
程にかかわらず、実施可能であることは言うまでもな
い。
【００３２】また、上記実施例では、ダミーパターン部
６を残したままカラーＬＣＤパネルに組みあげる場合を
例示したが、ダミーパターン部６をカットして、表示パ
ターン部７だけで構成したカラーフィルタ基板となし、
カラーＬＣＤパネルに組みあげるようにしてもよいこと
はもちろんであり、特に小型の機器を形成する場合に有
効となる。
６を残したままカラーＬＣＤパネルに組みあげる場合を
例示したが、ダミーパターン部６をカットして、表示パ
ターン部７だけで構成したカラーフィルタ基板となし、
カラーＬＣＤパネルに組みあげるようにしてもよいこと
はもちろんであり、特に小型の機器を形成する場合に有
効となる。
【００３３】また、上記各実施例では、ダミーパターン
部６に、表示パターン部７で用いられるのと同じ色ペー
ストを塗布パターンニングする場合を例示したが、ダミ
ーパターン部６に別の材料によるパターンを形成しても
よい。また、ダミーパターン部６にパターンニングする
色は、全色分でなくてもよく、１色分ないしは２色分で
あってもよく、同様の効果を得ることができる。
部６に、表示パターン部７で用いられるのと同じ色ペー
ストを塗布パターンニングする場合を例示したが、ダミ
ーパターン部６に別の材料によるパターンを形成しても
よい。また、ダミーパターン部６にパターンニングする
色は、全色分でなくてもよく、１色分ないしは２色分で
あってもよく、同様の効果を得ることができる。
【００３４】なお、以上のようにして製造されたカラー
フィルタ基板は、最終的には、図３に示すように、ガラ
ス基板１、色置き層２、オーバーコート層３、透明電極
４を有するものとして構成され、さらにカラーＬＣＤパ
ネルに組みあげる訳であるが、この場合に液晶を封入す
るために、周辺には、シール部を設ける必要がある。と
ころが、ダミーパターン部６とこのシール部が同一であ
ると、シール性能に悪影響を与える可能性があるので、
ダミーパターン部６は、このシール部を避けて形成する
のが望ましい。ないしは、塗布工程が終了した段階で、
ダミーパターン部６のパターンを除去するような工程を
いれてもよい。
フィルタ基板は、最終的には、図３に示すように、ガラ
ス基板１、色置き層２、オーバーコート層３、透明電極
４を有するものとして構成され、さらにカラーＬＣＤパ
ネルに組みあげる訳であるが、この場合に液晶を封入す
るために、周辺には、シール部を設ける必要がある。と
ころが、ダミーパターン部６とこのシール部が同一であ
ると、シール性能に悪影響を与える可能性があるので、
ダミーパターン部６は、このシール部を避けて形成する
のが望ましい。ないしは、塗布工程が終了した段階で、
ダミーパターン部６のパターンを除去するような工程を
いれてもよい。
【００３５】図６、図７は実際の製造に係る大型基板１
００、２００を示し、図６はカラーフィルター基板ＣＦ
Ｓの２枚取りを示し、図７は４枚取りを示す。これらの
各大型基板１００、２００はスピンナ法による場合のも
のとして各ＣＦＳのまわりにダミーパターン部６を形成
した例を示したが、浸漬法で引き上げする場合には、引
き上げ方向に対して少なくとも上例にのみダミーパター
ン部６を形成すればよい。なお、これらの図６、図７に
おいて、各部の方法関係の比率は図に示される通りであ
る。
００、２００を示し、図６はカラーフィルター基板ＣＦ
Ｓの２枚取りを示し、図７は４枚取りを示す。これらの
各大型基板１００、２００はスピンナ法による場合のも
のとして各ＣＦＳのまわりにダミーパターン部６を形成
した例を示したが、浸漬法で引き上げする場合には、引
き上げ方向に対して少なくとも上例にのみダミーパター
ン部６を形成すればよい。なお、これらの図６、図７に
おいて、各部の方法関係の比率は図に示される通りであ
る。
【００３６】
【発明の効果】以上述べたように、本発明は、カラーフ
ィルタ基板の製造に当り、色ペーストの塗布において、
膜厚に不均一を発生しそうな部分に、ダミーパターン部
を設け、この部分に膜厚の不均一を集中して発生させ、
実際の表示に用いられる表示パターン部の膜厚を均一に
製造するように構成したので、カラーＬＣＤパネルに組
みあげた場合に、色むらや表示むらを低減できる効果が
ある。
ィルタ基板の製造に当り、色ペーストの塗布において、
膜厚に不均一を発生しそうな部分に、ダミーパターン部
を設け、この部分に膜厚の不均一を集中して発生させ、
実際の表示に用いられる表示パターン部の膜厚を均一に
製造するように構成したので、カラーＬＣＤパネルに組
みあげた場合に、色むらや表示むらを低減できる効果が
ある。
【図１】本発明の実施例１のカラーフィルタ基板の途中
工程の断面図である。
工程の断面図である。
【図２】本発明の実施例２のカラーフィルタ基板の途中
工程の断面図である。
工程の断面図である。
【図３】カラーフィルタ基板の構造を示す断面図であ
る。
る。
【図４】従来のカラーフィルタ基板製造方法、特に浸漬
法による場合の、途中工程の断面図である。
法による場合の、途中工程の断面図である。
【図５】従来のカラーフィルタ基板製造方法、特にスピ
ンナ法による場合の、途中工程の断面図である。
ンナ法による場合の、途中工程の断面図である。
【図６】実際の製造に係る、２枚取りの大型基板の平面
図である。
図である。
【図７】実際の製造に係る、４枚取りの大型基板の平面
図である。
図である。
１ ガラス基板 ２ 色置層 ３ オーバーコート層 ４ 透明電極 ５ 垂れ部 ６ ダミーパターン部 ７ 表示パターン部 ８ 回転周辺部 ２１ Ｒパターン ２２１ Ｇペースト
Claims (4)
- 【請求項１】透明基板上にカラーフィルタを形成するた
めの複数の色ペーストが塗布、パターンニングされて色
パターンが形成されており、且つ少なくともシール部を
避けた領域にダミーパターンが形成されており、前記ダ
ミーパターンは第１色目の色ペーストを塗布、パターン
ニングすることにより構成されている、ことを特徴とす
るカラーフィルタ基板。 - 【請求項２】透明基板と、 この透明基板上に、カラーフィルタを形成するための複
数の色ペーストによって、ストライプパターン等の所望
の色パターンを形成することによって構成された色置き
層と、 この色置き層における第１色目の色ペーストによってパ
ターンとして形成され、組み立て時にシール部分として
使用される部分以外の部分に、前記色置き層における第
２色目のパターンを形成するための第２色目の色ペース
ト層の垂れを防止する、ダミーパターンと、 この色置き層を保護、平坦化するオーバーコート層と、 このオーバーコート層上に、所望のパターンに加工され
た表示用の透明電極と、 を備えることを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 【請求項３】前記複数の色ペーストの塗布が浸漬法によ
って行われ、前記ダミーパターンが前記色パターンより
も浸漬後の引き上げ方向に対して上方部に配置される、
請求項１又は２のカラーフィルタ基板。 - 【請求項４】前記複数の色ペーストの塗布がスピンナ法
によって行われ、前記ダミーパターンが前記色パターン
の外周辺部に配置される、請求項１又は２のカラーフィ
ルタ基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25344595A JPH0996716A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | カラーフィルタ基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25344595A JPH0996716A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | カラーフィルタ基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0996716A true JPH0996716A (ja) | 1997-04-08 |
Family
ID=17251504
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25344595A Pending JPH0996716A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | カラーフィルタ基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0996716A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6376872B1 (en) * | 1998-05-04 | 2002-04-23 | Yuan-Chi Pai | Focusing and color-filtering structure for semiconductor light-sensitive device |
| JP2004252418A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-09-09 | Sharp Corp | カラーフィルタ基板の製造方法、カラーフィルタ基板および表示装置 |
| JP2008191651A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Toppoly Optoelectronics Corp | 画像表示システムとその製造方法 |
| JP2009163168A (ja) * | 2008-01-10 | 2009-07-23 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
-
1995
- 1995-09-29 JP JP25344595A patent/JPH0996716A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6376872B1 (en) * | 1998-05-04 | 2002-04-23 | Yuan-Chi Pai | Focusing and color-filtering structure for semiconductor light-sensitive device |
| JP2004252418A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-09-09 | Sharp Corp | カラーフィルタ基板の製造方法、カラーフィルタ基板および表示装置 |
| JP2008191651A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Toppoly Optoelectronics Corp | 画像表示システムとその製造方法 |
| JP2009163168A (ja) * | 2008-01-10 | 2009-07-23 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040914 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050729 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051216 |