JPH0992492A - Plasma generator - Google Patents

Plasma generator

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JPH0992492A
JPH0992492A JP7245674A JP24567495A JPH0992492A JP H0992492 A JPH0992492 A JP H0992492A JP 7245674 A JP7245674 A JP 7245674A JP 24567495 A JP24567495 A JP 24567495A JP H0992492 A JPH0992492 A JP H0992492A
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Mitsuhiro Yoshida
光宏 吉田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma generator which provides a high-density plasma. SOLUTION: This microwave type plasma generator has between a microwave guide 3 and a vacuum vessel 1 a dielectric pipe 6 and an antenna 7 surrounding the dielectric pipe 6.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ発生装置
に係り、例えば大面積プロセス用プラズマ発生装置、リ
ニア型イオン源、金属等の大面積酸化膜生成装置、フィ
ルム等の表面処理装置、プラズマ加速器等のプラズマを
利用する装置全般への適用に有用で、更にはエッチング
やスパッター装置、薄膜生成装置等、効率よく短時間で
処理を行う必要性がああるプラズマ発生装置として好適
なものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma generator, for example, a plasma generator for a large area process, a linear ion source, a large area oxide film generator for metal or the like, a surface treatment device for a film or the like, a plasma accelerator. The present invention is useful for general applications to plasma-using devices such as plasma etching devices, and is suitable as a plasma generating device such as an etching device, a sputtering device, a thin film forming device, etc. that needs to be processed efficiently in a short time.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来におけるシートプラズマ発生装置を
図4に示す。図4はマイクロ波をガスに吸収させてプラ
ズマを発生させるいわゆるマイクロ波型シートプラズマ
発生装置であり、(a)は側面構成(b)は(a)のA
−B断面である。図4において、矩形断面導波管3にて
伝送するマイクロ波9をこの導波管3と同一形状断面を
有する入射窓4を介して金属管5に入射させ、この金属
管5内ではマイクロ波9の伝播を制御しつつプラズマを
シート状に発生させている。ここで、プラズマの発生
は、真空容器1外に配置されて磁場B0 を作るコイル2
により発生されるECRゾーンEにて、磁場B0 平行に
入射されるマイクロ波9が矩形断面の金属管5内を伝播
しつつECR条件にて効率良く吸収されることによりシ
ートプラズマP0 が発生するものである。なお、ECR
条件及びECRゾーンのECRは、Electron Cycrotron
Resonance(電子サイクロトロン共鳴のことであり、磁
場中の電子はサイクロトロン周波数にて回転運動を行な
うが、この周波数と同一周波数にて振動する電磁波をプ
ラズマ中の電子に作用させるとき、共鳴的にこの電磁波
のエネルギを電子の運動エネルギに変換でき、この共鳴
現象のことである。発生したプラズマP0 は、コイル2
による軸方向磁場B0 によって、真空容器1内でターゲ
ット8までのプラズマ輸送が行なわれると共に、プラズ
マの閉じ込めが行なわれる。
2. Description of the Related Art A conventional sheet plasma generator is shown in FIG. FIG. 4 shows a so-called microwave type sheet plasma generator which absorbs microwaves into gas to generate plasma. (A) is a side structure (b) is A of (a)
-B cross section. In FIG. 4, the microwave 9 transmitted through the rectangular cross-section waveguide 3 is made incident on the metal tube 5 through the entrance window 4 having the same cross-section as the waveguide 3, and the microwave is generated in the metal tube 5. The plasma is generated in a sheet shape while controlling the propagation of No. 9. Here, the plasma is generated by the coil 2 which is arranged outside the vacuum container 1 and creates a magnetic field B 0.
In the ECR zone E generated by, the microwave 9 incident in parallel with the magnetic field B 0 is efficiently absorbed under the ECR condition while propagating in the metal tube 5 having a rectangular cross section, so that the sheet plasma P 0 is generated. To do. In addition, ECR
Conditions and ECR of ECR zone are Electron Cycrotron
Resonance (Electron cyclotron resonance), in which the electrons in the magnetic field make rotational motion at the cyclotron frequency, but when an electromagnetic wave vibrating at the same frequency as this frequency acts on the electrons in the plasma, the electromagnetic waves can convert the energy into electron kinetic energy, is that the resonance phenomenon. plasma P 0 generated in the coils 2
The axial magnetic field B 0 causes the plasma to be transported to the target 8 in the vacuum container 1 and confine the plasma.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上述の説明に係るシー
トプラズマ発生装置すなわちマイクロ波型プラズマ発生
装置において、プラズマ密度はガス圧、磁場強度、マイ
クロ波パワー等の制御パラメータに依存するが、この制
御パラメータのうち、磁場強度の増大によるプラズマの
締め付けは、ECR条件の制限及びコイルにおける消費
電力の制限により限度があり、またガス圧の増大による
密度の増大はプラズマの輸送効率を考慮すると限度があ
る。また、マイクロ波パワーの増大は、シートプラズマ
の形状を変化させることなく、また他の要因の制限もな
くて密度の増加に寄与するが、プラズマ密度のマイクロ
波パワーに対する増加率はパワーが一定値以上になると
飽和する傾向にあって、これも限度がある。そして、例
えばプラズマ密度を10倍にするためには100倍以上
のマイクロ波パワーが必要となる。
In the sheet plasma generator, that is, the microwave plasma generator according to the above description, the plasma density depends on control parameters such as gas pressure, magnetic field strength, and microwave power. Among the parameters, the plasma tightening due to the increase of the magnetic field strength is limited due to the limitation of the ECR condition and the power consumption in the coil, and the increase of the density due to the increase of the gas pressure is limited considering the plasma transport efficiency. . Further, the increase of microwave power contributes to the increase of density without changing the shape of the sheet plasma and without limitation of other factors, but the increase rate of the plasma density with respect to the microwave power is constant. When it becomes above, there is a tendency to be saturated, and this also has a limit. Then, for example, in order to increase the plasma density by 10 times, microwave power of 100 times or more is required.

【0004】本発明は、上述の問題に鑑み、プラズマ密
度を更に高密度としたプラズマ発生装置の提供を目的と
する。
In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a plasma generator having a higher plasma density.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成する本
発明は次の構成を目的とする。 (1)真空容器と、マイクロ波を伝える導波管と、この
導波管の端部に設けた導波管断面と同形状の入射窓と、
この入射窓に接して設けた金属管と、この金属管と真空
容器との間に設置して金属管断面と同形状の断面を有す
る誘導体管と、この誘導体管を囲んで設けたアンテナ
と、前記真空容器及び金属管部分を囲んで配置したコイ
ルから成ることを特徴とする。 (2)(1)において、並列に並べた複数の導波管を、
複数の入射窓を介して金属管に設けたことを特徴とす
る。 (3)(1)において、金属管の断面形状を矩形とした
ことを特徴とする。 (4)(1)おいて、コイルは金属管断面一部を切欠く
ように金属管を囲んで配置したことを特徴とする。
The present invention which achieves the above-mentioned objects has the following objects. (1) A vacuum container, a waveguide for transmitting microwaves, and an entrance window having the same shape as the waveguide cross section provided at the end of the waveguide,
A metal tube provided in contact with the entrance window, a dielectric tube having a cross section of the same shape as the cross section of the metal tube installed between the metal tube and the vacuum vessel, and an antenna surrounding the dielectric tube. It is characterized by comprising a coil arranged so as to surround the vacuum container and the metal tube portion. (2) In (1), a plurality of waveguides arranged in parallel are
It is characterized in that it is provided on the metal tube through a plurality of entrance windows. (3) In (1), the cross-sectional shape of the metal tube is rectangular. (4) In (1), the coil is arranged so as to surround the metal tube so that a part of the cross section of the metal tube is cut out.

【0006】ECRゾーンにある金属管にて発生したプ
ラズマ(以下母体プラズマと称する)に対し誘導体管を
囲むアンテナにより例えばMHZ オーダの高周波電界を
発生させ、この高周波電界とコイルによる軸方向磁場と
により誘導体管容器内のプラズマ周囲に高周波電流を流
すヘリコン波(プラズマ中を磁場に平行に伝播する電磁
波で、周波数又は波長により位相速度が変化する性質を
持つホイッスラー波にて電子サイクロトン周波数より充
分低周波の部分をいう)を励起させ、この母体プラズマ
にて達成されるプラズマ密度を密度ジャンプによりEC
R放電以上の密度を持つプラズマを得るものである。こ
こで、空間を囲むアンテナによる高周波電界とコイルに
よる軸方向磁場とによりヘリコン波が励起されるが、こ
のヘリコン波による母体プラズマを囲む高周波パワーの
増大は母体プラズマ密度を増加させプラズマみつぞが一
定値を越えると密度ジャンプを生じ、ECR放電以上の
プラズマ密度が得られる。この場合密度ジャンプはプラ
ズマ密度が一定値以上になると、アンテナにて励起され
た波がロスなくプラズマ中にヘリコン波を励起し高エネ
ルギ電子(数拾ev程度)を生成することにより生ず
る。そして、この密度ジャンプに当っては、母体プラズ
マにて達成する密度を前提としてヘリコン波にて密度ジ
ャンプを誘導することになるので、マイクロ波パワーも
莫大なものが必要なくなる。その結果、莫大なマイクロ
波パワーを必要とせず、プラズマ形状を乱すことなく高
密度のプラズマが得られる。
A high frequency electric field of MH Z order, for example, is generated by an antenna surrounding the dielectric tube with respect to plasma (hereinafter referred to as “matrix plasma”) generated in the metal tube in the ECR zone, and this high frequency electric field and the axial magnetic field by the coil are generated. A helicon wave that causes a high-frequency current to flow around the plasma in the dielectric tube container (an electromagnetic wave that propagates parallel to the magnetic field in the plasma, and a Whistler wave whose phase velocity changes with frequency or wavelength (Low-frequency part) is excited, and the plasma density achieved by this host plasma is EC
A plasma having a density equal to or higher than R discharge is obtained. Here, a helicon wave is excited by a high-frequency electric field generated by an antenna that surrounds the space and an axial magnetic field generated by a coil. An increase in the high-frequency power that surrounds the maternal plasma due to the helicon wave increases the maternal plasma density and makes the plasma groove constant. When it exceeds the value, a density jump occurs and a plasma density higher than the ECR discharge is obtained. In this case, when the plasma density exceeds a certain value, the density jump is caused by a wave excited by an antenna exciting a helicon wave in the plasma without loss and generating high energy electrons (about several ev). In this density jump, since the density jump is induced by the helicon wave on the premise of the density achieved by the mother plasma, the microwave power does not need to be enormous. As a result, a high density plasma can be obtained without disturbing the plasma shape without requiring enormous microwave power.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】ここで、図1〜図3を参照して本
発明の実施例を説明する。図1、図2は一実施例であ
り、図1(a)は側面構成(b)は(a)のA−B断
面、図2(a)は金属管側面、(b)は(a)の底面、
図2(c)はアンテナ及び誘導体管の側面、(d)は底
面、(e)は正面をそれぞれ示し、図4と同一部分には
同符号を付す。図1、図2は、高密度シートプラズマ発
生装置である。図1において、1は矩形(円形でもよ
い)の真空容器、2は軸方向磁場及びECRゾーンEを
形成するコイル、3はマイクロ波伝送用導波管、4は入
射窓、5はECRプラズマ形状制御のための整形用の金
属管、8はターゲットである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will now be described with reference to FIGS. 1 and 2 show one embodiment, FIG. 1 (a) is a side surface configuration (b) is an AB cross section of (a), FIG. 2 (a) is a metal pipe side surface, and (b) is (a). Bottom of the
2C shows a side surface of the antenna and the dielectric tube, FIG. 2D shows a bottom surface thereof, and FIG. 2E shows a front surface thereof, and the same portions as those in FIG. 1 and 2 show a high density sheet plasma generator. In FIG. 1, 1 is a rectangular (or circular) vacuum container, 2 is a coil for forming an axial magnetic field and ECR zone E, 3 is a microwave transmission waveguide, 4 is an entrance window, and 5 is an ECR plasma shape. A shaping metal tube for control, 8 is a target.

【0008】真空容器1と金属管5との間には、母体プ
ラズマの高密度化のためのヘリコン波を励起させるため
の誘導体管6とこの誘導体管6を囲むループ状の高周波
アンテナ7が配置される。ここにおいて、シートプラズ
マ発生のためには、図2(a)(b)に示すような金属
管5を有し、マイクロ波9の真空保持用誘導体からなる
入射窓4に対してプラズマ放出口mを厚さ方向tに狭く
とった矩形とすることにより厚さ方向tに絞れたシート
プラズマを生成することが可能となる。この場合、入射
窓4はマイクロ波導波管3の断面と同形であり、このた
め大電力入射に際しても入射窓4の大気側における放電
破壊の問題はない。
A dielectric tube 6 for exciting a helicon wave for densifying the mother plasma and a loop-shaped high frequency antenna 7 surrounding the dielectric tube 6 are arranged between the vacuum container 1 and the metal tube 5. To be done. Here, in order to generate the sheet plasma, there is provided a metal tube 5 as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), and a plasma emission port m is provided to an incident window 4 made of a vacuum holding derivative of the microwave 9. It is possible to generate sheet plasma narrowed down in the thickness direction t by making the rectangle narrow in the thickness direction t. In this case, the incident window 4 has the same shape as the cross section of the microwave waveguide 3, and therefore there is no problem of discharge breakdown on the atmosphere side of the incident window 4 even when high power is incident.

【0009】更に、図2(c)(d)(e)に示すよう
に金属管5の終端に位置して金属管5と同形断面の誘導
体管6が備えられ、この高周波の反射を防ぐ誘導体管6
を囲むようにここでは矩形リング状のアンテナ7が備え
られている。この場合、アンテナ7は誘導体管6の断面
全体を囲むことなく図2(d)の如く一部切欠かれた形
状となっている。また、アンテナ7は、磁場の向きB0
と平行な方向に電気的に直列又は並列に複数個設置して
もよい。このアンテナ7にて生ずる高周波電界とコイル
2による軸方向磁場とにより、母体プラズマ密度がヘリ
コン波分散関係を満たすことにより、シートプラズマに
矩形断面のヘリコン波が励起される。
Further, as shown in FIGS. 2 (c), (d) and (e), a dielectric tube 6 having the same cross section as the metal tube 5 is provided at the end of the metal tube 5, and the dielectric tube prevents reflection of high frequencies. Tube 6
Here, a rectangular ring-shaped antenna 7 is provided so as to surround the. In this case, the antenna 7 does not surround the entire cross section of the dielectric tube 6 and is partially cut out as shown in FIG. Further, the antenna 7 has a magnetic field direction B 0.
A plurality of units may be installed electrically in series or in parallel in the direction parallel to. The radio frequency electric field generated by the antenna 7 and the axial magnetic field generated by the coil 2 cause the matrix plasma density to satisfy the helicon wave dispersion relationship, so that a helicon wave having a rectangular cross section is excited in the sheet plasma.

【0010】導波管3から導入されたマイクロ波は、入
射窓4に接し内部を真空に引かれた金属管5内をECR
ゾーン(E)まで伝播し同金属管5内に母体となるシー
トプラズマP0 を生成する。生成された母体プラズマP
0 中に、ヘリコン波励起用矩形リング型高周波アンテナ
7と、その位置でヘリコン波励に適した起軸方向磁場条
件を設定することにより矩形断面モードヘリコン波が励
起され、同ヘリコン波のパワーにより母体プラズマの達
成密度から若干密度を上昇させることで密度ジャンプを
誘導し、高密度シートプラズマP1 が発生する。
The microwave introduced from the waveguide 3 is in contact with the entrance window 4 and the inside of the metal tube 5 is evacuated to ECR.
A sheet plasma P 0 that propagates to the zone (E) and serves as a matrix in the metal tube 5 is generated. Generated maternal plasma P
A rectangular cross-section mode helicon wave is excited by setting a rectangular ring type high frequency antenna 7 for helicon wave excitation and a magnetic field condition in the axial direction suitable for helicon wave excitation at that position by the power of the helicon wave. The density jump is induced by slightly increasing the density from the achieved density of the mother plasma, and the high density sheet plasma P 1 is generated.

【0011】図3は装置やシートプラズマの大型化のた
めの一例である。同図に示すようにマイクロ波9を真空
容器1に複数入射窓により並列に導入し、金属管5、及
びヘリコン波励起用矩形リング型高周波アンテナ7を長
辺に長い共通のものにすることで、任意の幅を持った高
密度シートプラズマP1 の生成が可能である。
FIG. 3 shows an example for increasing the size of the apparatus and sheet plasma. As shown in the figure, microwaves 9 are introduced into the vacuum container 1 in parallel through a plurality of incident windows, and the metal tube 5 and the helicon wave exciting rectangular ring type high frequency antenna 7 are made common with long sides. It is possible to generate high density sheet plasma P 1 having an arbitrary width.

【0012】[0012]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、マ
イクロ波を導波管で入射窓より金属管内に入射し、この
金属管によりマイクロ波伝播を制御し、真空容器外部に
設置したコイルで発生させたECR条件を利用すること
で高効率でプラズマを金属管内に発生させ、同プラズマ
中に、金属管終端に接続した誘電体の外周に設置したリ
ング状アンテナによりヘリコン波を励起し、上記プラズ
マの達成密度を利用することで密度ジャンプを誘導する
ことにより、リング型高周波アンテナによるヘリコン波
を重畳させ密度ジャンプを誘導することで、合計の投入
パワーと同じマイクロ波パワーで達成できない高密度を
実現することができ、非常に高効率でプラズマを発生さ
せる手法を得ることができた。
As described above, according to the present invention, the microwave is introduced into the metal tube through the entrance window by the waveguide, the microwave propagation is controlled by the metal tube, and the coil is installed outside the vacuum container. Plasma is generated in the metal tube with high efficiency by using the ECR condition generated in 1., and the helicon wave is excited in the plasma by the ring-shaped antenna installed on the outer periphery of the dielectric connected to the end of the metal tube, By using the achieved density of the above plasma to induce a density jump, by superimposing a helicon wave by a ring type high frequency antenna to induce a density jump, a high density that cannot be achieved with the same microwave power as the total input power. It has been possible to obtain a method for generating plasma with extremely high efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の構成図。FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of the present invention.

【図2】金属管及び誘電体管アンテナの構成図。FIG. 2 is a configuration diagram of a metal tube and a dielectric tube antenna.

【図3】本発明の他の例の構成図。FIG. 3 is a configuration diagram of another example of the present invention.

【図4】従来例の構成図。FIG. 4 is a configuration diagram of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 真空容器 2 コイル 3 導波管 4 入射窓 5 金属管 6 誘導体管 7 アンテナ 8 ターゲット 1 vacuum container 2 coil 3 waveguide 4 entrance window 5 metal tube 6 dielectric tube 7 antenna 8 target

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空容器と、マイクロ波を伝える導波管
と、この導波管の端部に設けた導波管断面と同形状の入
射窓と、この入射窓に接して設けた金属管と、この金属
管と真空容器との間に設置して金属管断面と同形状の断
面を有する誘導体管と、この誘導体管を囲んで設けたア
ンテナと、前記真空容易及び金属管部分を囲んで配置し
たコイルから成ることを特徴とするプラズマ発生装置。
1. A vacuum container, a waveguide for transmitting microwaves, an entrance window having the same shape as the waveguide cross section provided at an end of the waveguide, and a metal tube provided in contact with the entrance window. A dielectric tube having a cross section of the same shape as the cross section of the metal tube installed between the metal tube and the vacuum container; an antenna surrounding the dielectric tube; and surrounding the vacuum easy and metal tube parts. A plasma generator comprising: arranged coils.
【請求項2】 並列に並べた複数の導波管を、複数の入
射窓を介して金属管に設けたことを特徴とする請求項1
記載のプラズマ発生装置。
2. The metal tube is provided with a plurality of waveguides arranged in parallel through a plurality of entrance windows.
The plasma generator according to the above.
【請求項3】 金属管の断面形状を矩形としたことを特
徴とする請求項1記載のプラズマ発生装置。
3. The plasma generator according to claim 1, wherein the cross section of the metal tube is rectangular.
【請求項4】 コイルは金属管断面一部を切欠くように
金属管を囲んで配置したことを特徴とする請求項1記載
のプラズマ発生装置。
4. The plasma generator according to claim 1, wherein the coil is arranged so as to surround the metal tube so as to cut out a part of the cross section of the metal tube.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2003067939A1 (en) * 2002-02-06 2003-08-14 Tokyo Electron Limited Plasma processing equipment

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WO2003067939A1 (en) * 2002-02-06 2003-08-14 Tokyo Electron Limited Plasma processing equipment
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