JPH08138886A - Igniting apparatus for high frequency discharge in magnetic field - Google Patents
Igniting apparatus for high frequency discharge in magnetic fieldInfo
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- JPH08138886A JPH08138886A JP6273952A JP27395294A JPH08138886A JP H08138886 A JPH08138886 A JP H08138886A JP 6273952 A JP6273952 A JP 6273952A JP 27395294 A JP27395294 A JP 27395294A JP H08138886 A JPH08138886 A JP H08138886A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマを利用したプ
ロセス装置における、プラズマの生成、制御装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma generation and control device in a process device using plasma.
【０００２】[0002]
【従来の技術】磁場中の誘導型高周波放電によるプラズ
マ生成（通称、ヘリコン波によるプラズマ生成）技術
は、従来のプラズマ生成法である無磁場中の高周波放電
や電子サイクロトロン共鳴法等に比べて、より高い電子
密度を有するプラズマを生成できる特徴を持っている。2. Description of the Related Art Plasma generation technology (commonly known as plasma generation by helicon wave) by induction type high frequency discharge in a magnetic field is higher than conventional plasma generation methods such as high frequency discharge in a non-magnetic field and electron cyclotron resonance method. It has the feature that it can generate plasma with higher electron density.
【０００３】そして、この特徴が、プロセス（エッチン
グ、成膜等）の反応速度向上に有効であると期待されて
いる。図３に磁場中の誘導型高周波放電によるプラズマ
生成を行なうための装置の一例を示す。複数のソレノイ
ド状の磁場発生用コイル１の内空間に、円筒状のガラス
管２が、双方の軸を合わせて設置されている。ガラス管
２の周囲には、アンテナ４が設置されている。アンテナ
４としては銅パイプをガラス管２に螺旋状に巻き付けて
使用する。アンテナ４の端の一方には、高周波電源３が
接続され、他端は接地されている。It is expected that this feature is effective in improving the reaction rate of processes (etching, film formation, etc.). FIG. 3 shows an example of an apparatus for generating plasma by inductive high-frequency discharge in a magnetic field. A cylindrical glass tube 2 is installed in the inner space of a plurality of solenoidal magnetic field generating coils 1 with their axes aligned. An antenna 4 is installed around the glass tube 2. As the antenna 4, a copper pipe is spirally wound around the glass tube 2 and used. The high frequency power supply 3 is connected to one end of the antenna 4 and the other end is grounded.
【０００４】図４に、図３の側面図を示す。この様な状
態で、磁場発生用コイル１により、磁束密度方向５に磁
場を印加する。ガラス管２の内に目的に応じたガスを目
的の圧力で充填する。最後に、高周波電源３からアンテ
ナ４に高周波電力を印加し、ガラス管２の内に波動（電
磁波）を励起すると、磁場方向５に沿って、その波動が
伝搬する。波動が伝搬する空間においてプラズマが生成
される。FIG. 4 shows a side view of FIG. In this state, the magnetic field generating coil 1 applies a magnetic field in the magnetic flux density direction 5. The glass tube 2 is filled with a gas according to the purpose at a target pressure. Finally, when high frequency power is applied from the high frequency power supply 3 to the antenna 4 to excite a wave (electromagnetic wave) in the glass tube 2, the wave propagates along the magnetic field direction 5. Plasma is generated in the space where the waves propagate.
【０００５】ここで、プラズマが生成される機構を詳細
にみると次のようになっている。アンテナ４に高周波電
源３から高周波電力が印加されると、アンテナ４に高周
波電流が流れる。この高周波電流によって誘導磁場が高
周波電流と垂直方向に誘起される。更に、この誘導磁場
に従って誘導電場が高周波電流と逆方向に誘起される。Here, the mechanism of plasma generation will be described in detail as follows. When high frequency power is applied to the antenna 4 from the high frequency power supply 3, a high frequency current flows through the antenna 4. The high frequency current induces an induction magnetic field in a direction perpendicular to the high frequency current. Further, an induction electric field is induced in the opposite direction of the high frequency current according to the induction magnetic field.
【０００６】ガラス管内に誘起された誘導電場によっ
て、充填されているガス中の自由電子が加速され、中性
粒子として衝突し、これを電離させる。この作用が連続
的に起こり、誘導電場に起因するプラズマがガラス管２
の内壁近傍で発生する。Due to the induction electric field induced in the glass tube, the free electrons in the filled gas are accelerated and collide as neutral particles to ionize them. This action occurs continuously, and plasma caused by the induction electric field is generated in the glass tube 2.
Occurs near the inner wall of the.
【０００７】このプラズマが発生することで、磁場中に
波動を励起することができる。波動が励起されると、ガ
ラス管軸を中心として、磁場方向５に沿って波動が伝搬
する。波動が伝搬すると、そのエネルギが電子に移り、
加速された電子は中性粒子と衝突し、これを電離させ
る。そして、ガラス管壁近傍ではなく、管中心軸上にプ
ラズマが生成される。The generation of this plasma makes it possible to excite waves in the magnetic field. When the wave is excited, the wave propagates along the magnetic field direction 5 around the glass tube axis. As the wave propagates, its energy transfers to the electrons,
The accelerated electrons collide with neutral particles and ionize them. Then, plasma is generated not on the glass tube wall but on the tube central axis.
【０００８】このとき、誘導電場に起因するガラス管壁
近傍のプラズマの密度は、管中心軸上のプラズマに比べ
て何桁も低くなる。しかし、このように構成されている
装置においてプラズマを生成すると、ガラス管素材
（例、ＳｉＯ2 ）や、ガラス管壁に吸着しているガス
（例、Ｏ2 ）が放出されて、本来充填したガス以外の不
純物として混入してしまう。At this time, the density of the plasma in the vicinity of the glass tube wall due to the induction electric field becomes many orders of magnitude lower than that of the plasma on the central axis of the tube. However, when plasma is generated in the apparatus configured as described above, the glass tube material (eg, SiO 2 ) or the gas adsorbed on the glass tube wall (eg, O 2 ) is released and originally filled. It is mixed as impurities other than gas.
【０００９】つまり、プロセス装置において上記のまま
プラズマを生成すると、不純物が目的の化学反応を阻害
する。又、反応生物に不純物がそのまま混入するという
不具合がある。That is, if the plasma is generated as it is in the process apparatus, the impurities hinder the intended chemical reaction. Further, there is a problem that impurities are mixed into the reaction product as it is.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来装置
において、ガラス管材や、それに吸着しているガスが不
純物として混入する理由は、プラズマ生成初期に、誘導
電場に起因してガラス管壁近傍にプラズマが発生し、こ
のプラズマがガラス管を侵食するからである。In the conventional apparatus as described above, the reason why the glass tube material and the gas adsorbed to the glass tube material are mixed as impurities is that in the vicinity of the glass tube wall due to the induction electric field in the initial stage of plasma generation. This is because plasma is generated in the glass and the plasma corrodes the glass tube.
【００１１】波動に起因してガラス管中心軸上にプラズ
マが生成されてしまえば、プラズマがガラス管を侵食す
ることはなくなる。しかし、この波動を励起する条件
は、磁場雰囲気でプラズマが存在することであり、上記
装置において波動を励起するために必要なプラズマは、
誘導電場に起因して発生するものだけである。つまり、
誘導電場に起因するプラズマを利用するかぎりは、ガラ
ス管から発生する不純物を避けられないという問題点が
あった。 本発明は、上記の問題点を解決し、誘導電場
を使わずに波動を励起するためのプラズマを生成するこ
とができる装置を提供することを目的とする。If plasma is generated on the central axis of the glass tube due to the wave motion, the plasma will not erode the glass tube. However, the condition to excite this wave is that plasma exists in the magnetic field atmosphere, and the plasma required to excite the wave in the above apparatus is
Only those generated due to the induction electric field. That is,
As long as plasma derived from the induction electric field is used, there is a problem that impurities generated from the glass tube cannot be avoided. An object of the present invention is to solve the above problems and provide an apparatus capable of generating plasma for exciting waves without using an induction electric field.
【００１２】[0012]
（第１の手段）本発明に係る磁場中の高周波放電の点火
装置は、（Ａ）磁場発生用コイルの内空間に設置した円
筒状のガラス管と、（Ｂ）前記ガラス管の周囲に設けた
アンテナと、（Ｃ）前記アンテナの一端に接続した高周
波電源と、（Ｄ）前記ガラス管の軸方向に設置したレー
ザ発振器と、（Ｅ）前記レーザ発振器から出力するレー
ザ光線をガラス管の内に入射するように調整するレンズ
とを具備し、（Ｆ）プラズマ生成における放電点火にレ
ーザ光線を用いることを特徴とする。 （第２の手段）本発明に係る磁場中の高周波放電の点火
装置は、（Ａ）磁場発生用コイルの内空間に設置した円
筒状のガラス管と、（Ｂ）前記ガラス管の周囲に設けた
アンテナと、（Ｃ）前記アンテナの一端に接続した高周
波電源と、（Ｄ）前記ガラス管の軸方向に設置した電子
ビーム発生装置と、（Ｅ）前記電子ビーム発生装置から
の電子ビームを透過してガラス管に入射する電子ビーム
透過フォイールとを具備し、（Ｆ）プラズマ生成におけ
る放電点火に電子ビームを用いることを特徴とする。す
なわち、本発明によれば、磁場を発生するための磁場発
生用コイルと、プラズマを生成する場であるガラス管
と、プラズマ生成のエネルギを供給する高周波電源と、
波動を励起するアンテナからなる装置においてプラズマ
生成を行う場合、レーザ光、電子ビーム、紫外線より短
波長より光を利用してガスを電離させて、磁力線に沿っ
て伝搬する波動を励起させるプラズマを発生させること
を特徴とする。(First Means) An ignition device for high-frequency discharge in a magnetic field according to the present invention comprises (A) a cylindrical glass tube installed in the inner space of a magnetic field generating coil, and (B) provided around the glass tube. An antenna, (C) a high frequency power source connected to one end of the antenna, (D) a laser oscillator installed in the axial direction of the glass tube, and (E) a laser beam output from the laser oscillator in the glass tube. And a lens which is adjusted so that the laser beam is used for discharge ignition in plasma generation (F). (Second Means) An ignition device for high-frequency discharge in a magnetic field according to the present invention comprises (A) a cylindrical glass tube installed in an inner space of a coil for generating a magnetic field, and (B) a glass tube provided around the glass tube. An antenna, (C) a high frequency power source connected to one end of the antenna, (D) an electron beam generator installed in the axial direction of the glass tube, and (E) an electron beam transmitted from the electron beam generator. And an electron beam transmitting foil for entering the glass tube, and (F) the electron beam is used for discharge ignition in plasma generation. That is, according to the present invention, a magnetic field generating coil for generating a magnetic field, a glass tube for generating plasma, a high frequency power supply for supplying energy for plasma generation,
When plasma is generated in a device that consists of an antenna that excites waves, laser light, electron beams, and light with a shorter wavelength than ultraviolet rays are used to ionize gas and generate plasma that excites waves that propagate along magnetic lines of force. It is characterized by
【００１３】[0013]
【作用】本発明によれば、磁力線に沿って伝搬する波動
を励起させるためのプラズマを、ガスを充填したガラス
管内にレンズ、又は電子ビーム透過用フォイルを介し
て、レーザ光線、又は電子ビームを入射し、ガラス管の
軸中心上に生成するようにし、誘導電場によって発生さ
せることがないので、ガラス管近傍で発生したプラズマ
によってガラス管が侵食されることがなくなる。According to the present invention, plasma for exciting waves propagating along magnetic lines of force is supplied to a laser beam or an electron beam through a lens or an electron beam transmitting foil in a gas-filled glass tube. Since it is made incident and is generated on the axial center of the glass tube and is not generated by the induction electric field, the glass tube is not eroded by the plasma generated near the glass tube.
【００１４】従って、ガラス管から不純物を発生せず、
不純物による目的の化学反応の阻害、反応生成物に不純
物がそのまま混入するという不具合を回避することがで
きる。Therefore, no impurities are generated from the glass tube,
It is possible to avoid the problem that impurities impede the intended chemical reaction and that impurities are mixed into the reaction product as they are.
【００１５】[0015]
【実施例】本発明の実施例を図１〜図２に基づき説明す
る。図１は、本発明の第１実施例の概略構成を示す。図
１において、複数のソレノイド状の磁場発生用コイル１
の内空間に、円筒状のガラス管２を、双方の軸を合わせ
て設置する。ガラス管２の周囲に、アンテナ４を設置す
る。この例では、アンテナ４として銅パイプをガラス管
２に螺旋状に巻き付ける。アンテナ４の一端には、高周
波電源３を接続し、他端は接地する。ガラス管２の軸方
向にレーザ発振器８とレンズ９を配置し、レーザ発振器
８から出力するレーザ光線１０がレンズ９を透過して、
ガラス管２の管内に入射するように調整して設置する。
更にこの時、レンズ９によって集光される光が、アンテ
ナ４が囲む空間の中心（ガラス管２の軸中心上）に焦点
を結ぶように、レーザ発振器８と、レンズ９の配置を決
める。Embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows a schematic configuration of a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, a plurality of solenoidal magnetic field generating coils 1
The cylindrical glass tube 2 is installed in the inner space of the above with both axes aligned. An antenna 4 is installed around the glass tube 2. In this example, a copper pipe is spirally wound around the glass tube 2 as the antenna 4. The high frequency power source 3 is connected to one end of the antenna 4 and the other end is grounded. A laser oscillator 8 and a lens 9 are arranged in the axial direction of the glass tube 2, and a laser beam 10 output from the laser oscillator 8 passes through the lens 9 and
The glass tube 2 is adjusted and installed so as to enter the tube.
Further, at this time, the laser oscillator 8 and the lens 9 are arranged so that the light condensed by the lens 9 is focused on the center of the space surrounded by the antenna 4 (on the axial center of the glass tube 2).
【００１６】次に、以上の様に構成した第１実施例の動
作を説明する。まず、ガラス管２の内にガスを充填して
から、磁場発生用コイル１に通電し、磁場方向５に磁場
を発生させる。Next, the operation of the first embodiment constructed as above will be described. First, the glass tube 2 is filled with gas, and then the magnetic field generating coil 1 is energized to generate a magnetic field in the magnetic field direction 5.
【００１７】次に、レーザ発振器８をプラズマ生成のタ
イミングに合わせて動作させ、レーザ光線１０を出力さ
せる。プラズマ生成のタイミングとは次のことを意味す
る。 （Ａ）連続的にプラズマを生成する場合は、「初めにプ
ラズマを点火する時に」、（Ｂ）パルス的（間欠的）に
プラズマを生成する場合は、「繰り返し点火する毎に」
という意味である。Next, the laser oscillator 8 is operated at the timing of plasma generation to output the laser beam 10. The timing of plasma generation means the following. (A) When plasma is continuously generated, "when the plasma is first ignited"; (B) When pulsed (intermittently) is generated, "every time the plasma is repeatedly ignited"
It means that.
【００１８】レーザ光線１０は、アンテナ４が囲む空間
に集光され、そこに、プラズマ７が生成される。注意す
べき点は、図１のプラズマ７のエネルギ源は、レーザ光
線１０であり、図３のプラズマ６のエネルギ源は、高周
波電源３からアンテナ４に供給される高周波電力である
ことである。The laser beam 10 is condensed in the space surrounded by the antenna 4, and the plasma 7 is generated therein. It should be noted that the energy source of the plasma 7 in FIG. 1 is the laser beam 10 and the energy source of the plasma 6 in FIG. 3 is the high frequency power supplied from the high frequency power source 3 to the antenna 4.
【００１９】プラズマ７が生成された後、高周波電源３
からアンテナ４に高周波電力を供給し、プラズマ７中に
波動を励起する。波動は磁場方向５に伝搬し、ガラス管
２の内に目的のプラズマを生成する。波動を励起した以
降の動作は従来の技術と同様である。After the plasma 7 is generated, the high frequency power source 3
Supplies high-frequency power to the antenna 4 to excite waves in the plasma 7. The wave propagates in the magnetic field direction 5 to generate the target plasma in the glass tube 2. The operation after exciting the wave is similar to that of the conventional technique.
【００２０】従って、この様な実施例によれば、ガスを
充填したガラス管２の内にレンズ９を介してレーザ光線
１０を導入し、アンテナ４が囲む空間の中心（ガラス管
２の軸中心上）にプラズマ７を生成するようにしたの
で、従来、波動を励起するために、ガラス管壁近傍の誘
導電場によってプラズマを生成していたものに比べて、
ガラス管内面がプラズマによって侵されにくくなり、ガ
ラス管材の成分や、ガラス管壁に吸着しているガスが、
不純物として現われにくくなる。Therefore, according to such an embodiment, the laser beam 10 is introduced into the glass tube 2 filled with gas through the lens 9 and the center of the space surrounded by the antenna 4 (the axial center of the glass tube 2). Since the plasma 7 is generated in the above), compared with the conventional plasma generated by the induction electric field near the glass tube wall in order to excite the wave,
The inner surface of the glass tube is less likely to be attacked by plasma, and the components of the glass tube material and the gas adsorbed on the glass tube wall are
It is less likely to appear as an impurity.
【００２１】図２は、本発明の第２時実施例の概略構成
を示す。図２において、磁場発生用コイル１から磁場方
向５までの構成は、第１実施例と同様である。ガラス管
２の一端を電子ビーム透過フォイール１２を以て真空境
界とし、更にこのフォイルを介して、ガラス管２の軸方
向に電子ビーム発生装置１１を接続する。電子ビーム発
生装置１１から出力する電子ビーム１３が電子ビーム透
過フォイール１２を透過してガラス管２の内に入射する
ように調整して設置する。FIG. 2 shows the schematic construction of the second embodiment of the present invention. In FIG. 2, the configuration from the magnetic field generating coil 1 to the magnetic field direction 5 is the same as that of the first embodiment. One end of the glass tube 2 is made a vacuum boundary by an electron beam transmission foil 12, and an electron beam generator 11 is connected in the axial direction of the glass tube 2 via this foil. The electron beam 13 output from the electron beam generator 11 is adjusted and installed so as to pass through the electron beam transmission foil 12 and enter into the glass tube 2.
【００２２】次に、以上のように構成した第２実施例の
動作を説明する。まず、ガラス管２の内に目的のガスを
充填してから、磁場発生用コイル１に通電し、磁場方向
５に磁場を発生させる。Next, the operation of the second embodiment constructed as above will be described. First, the target gas is filled in the glass tube 2 and then the magnetic field generating coil 1 is energized to generate a magnetic field in the magnetic field direction 5.
【００２３】次に、電子ビーム発生装置１１をプラズマ
生成のタイミングに合わせて動作させ、電子ビーム１３
を出力させる。プラズマ生成のタイミングは、第１実施
例の場合と同様である。Next, the electron beam generator 11 is operated at the timing of plasma generation, and the electron beam 13
Is output. The plasma generation timing is the same as in the case of the first embodiment.
【００２４】電子ビーム１３が電子ビーム透過フォイー
ル１２を透過して、ガラス管２の軸方向に入射すると、
そこにプラズマ７が生成される。注意すべき点は、この
プラズマ７のエネルギ源は、電子ビーム１３であり、図
３のプラズマ６のエネルギ源は、高周波電源３からアン
テナ４に供給される高周波電力であることである。When the electron beam 13 passes through the electron beam transmission foil 12 and enters the glass tube 2 in the axial direction,
Plasma 7 is generated there. It should be noted that the energy source of the plasma 7 is the electron beam 13, and the energy source of the plasma 6 in FIG. 3 is the high frequency power supplied from the high frequency power source 3 to the antenna 4.
【００２５】プラズマ７が生成された後、高周波電源３
からアンテナ４に高周波電力を供給し、プラズマ７中に
波動を励起する。波動は磁場方向５に伝搬し、ガラス管
２の内に目的のプラズマを生成する。波動を励起した以
降の動作は従来の技術と同様である。After the plasma 7 is generated, the high frequency power source 3
Supplies high-frequency power to the antenna 4 to excite waves in the plasma 7. The wave propagates in the magnetic field direction 5 to generate the target plasma in the glass tube 2. The operation after exciting the wave is similar to that of the conventional technique.
【００２６】従って、このような実施例によれば、ガス
を充填したガラス管２の内に、電子ビーム透過フォイー
ル１２を介して電子ビーム１３を入射し、ガラス管２の
軸中心上にプラズマ７を生成するようにしているので、
従来、波動を励起するために、ガラス管壁近傍の誘導電
場によってプラズマを生成していたものに比べて、ガラ
ス管内面がプラズマによって侵されにくくなり、ガラス
管材の成分や、ガラス管壁に吸着しているガスが、不純
物として現われにくくなる。Therefore, according to such an embodiment, the electron beam 13 is injected into the gas-filled glass tube 2 through the electron beam transmission foil 12, and the plasma 7 is placed on the axial center of the glass tube 2. I am trying to generate
Conventionally, in order to excite waves, plasma is less likely to be attacked by the inner surface of the glass tube than plasma generated by an induction electric field in the vicinity of the glass tube wall. The generated gas is less likely to appear as impurities.
【００２７】なお、本発明は上記実施例にのみ限定され
ず、要旨を変更しない範囲で適宜変形して実施できる。
例えば、ガラス管２はガラス材に限らず、誘電体材料な
らば材料は問わない。又、アンテナ４として銅パイプを
ガラス管２に螺旋状に巻き付けるが、銅パイプの代わり
に線状導体や、リボン状導体を用いても構わない。又、
磁場方向５はこれと反対方向でも構わない。The present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and can be carried out by appropriately modifying it without departing from the scope of the invention.
For example, the glass tube 2 is not limited to a glass material, and any material may be used as long as it is a dielectric material. Further, although a copper pipe is spirally wound around the glass tube 2 as the antenna 4, a linear conductor or a ribbon conductor may be used instead of the copper pipe. or,
The magnetic field direction 5 may be the opposite direction.
【００２８】[0028]
【発明の効果】本発明は前述のように構成されているの
で、以下に記載する様な効果を奏する。 （１）本発明の放電点火方法によれば、プラズマプロセ
ス装置において、磁力線に沿って伝搬する波動を励起さ
せるためのプラズマを、ガスを充填したガラス管内にレ
ンズ、又は電子ビーム透過用フォイルを介して、レーザ
光線、又は電子ビームを入射し、ガラス管の軸中心上に
生成することができる。 （２）そのためガラス管内面がプラズマによって侵され
にくくなり、ガラス管材の成分や、ガラス管壁に吸着し
ているガスが、不純物として現れにくくなる。 （３）従って、これらの不純物による、目的の化学反応
の阻害、又は、反応生成物に不純物がそのまま混入する
という不具合を回避することができる。Since the present invention is configured as described above, it has the following effects. (1) According to the discharge ignition method of the present invention, in a plasma process apparatus, plasma for exciting waves propagating along magnetic lines of force is introduced into a glass tube filled with gas through a lens or an electron beam transmitting foil. Then, a laser beam or an electron beam can be incident and generated on the axial center of the glass tube. (2) Therefore, the inner surface of the glass tube is less likely to be attacked by plasma, and the components of the glass tube material and the gas adsorbed on the glass tube wall are less likely to appear as impurities. (3) Therefore, it is possible to avoid a problem that these impurities impede the intended chemical reaction or that the impurities are mixed into the reaction product as they are.
【図１】本発明の第１実施例の概略構成を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第２の実施例の概略構成を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of a second embodiment of the present invention.
【図３】従来の磁場中の誘導型高周波放電によるプラズ
マ生成を行なうための装置の一例を示す図。FIG. 3 is a diagram showing an example of a conventional apparatus for generating plasma by inductive high-frequency discharge in a magnetic field.
【図４】図３の装置の側面図。4 is a side view of the device of FIG.
１…磁場発生用コイル、 ２…ガラス管、 ３…高周波電源、 ４…アンテナ、 ５…磁場方向、 ６…プラズマ（波動が伝搬することによって生成される
プラズマ）、 ７…プラズマ（レーザ光線、又は電子ビームによって生
成されるプラズマ）、 ８…レーザ発振器、 ９…レンズ、 １０…レーザ光線、 １１…電子ビーム発生装置、 １２…電子ビーム透過用フォイル、 １３…電子ビーム。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Coil for magnetic field generation, 2 ... Glass tube, 3 ... High frequency power supply, 4 ... Antenna, 5 ... Magnetic field direction, 6 ... Plasma (plasma generated by wave propagation), 7 ... Plasma (laser beam, or Plasma generated by electron beam), 8 ... Laser oscillator, 9 ... Lens, 10 ... Laser beam, 11 ... Electron beam generator, 12 ... Electron beam transmitting foil, 13 ... Electron beam.
Claims (2)
設置した円筒状のガラス管（２）と、（Ｂ）前記ガラス
管（２）の周囲に設けたアンテナ（４）と、（Ｃ）前記
アンテナ（４）の一端に接続した高周波電源（３）と、
（Ｄ）前記ガラス管（２）の軸方向に設置したレーザ発
振器（８）と、（Ｅ）前記レーザ発振器（８）から出力
するレーザ光線（１０）をガラス管（２）の内に入射す
るように調整するレンズ（９）とを具備し、（Ｆ）プラ
ズマ生成における放電点火にレーザ光線（１０）を用い
ることを特徴とする磁場中の高周波放電の点火装置。1. A cylindrical glass tube (2) installed in the inner space of a magnetic field generating coil (1), and (B) an antenna (4) provided around the glass tube (2). (C) a high frequency power source (3) connected to one end of the antenna (4),
(D) A laser oscillator (8) installed in the axial direction of the glass tube (2) and (E) a laser beam (10) output from the laser oscillator (8) is incident on the inside of the glass tube (2). And a lens (9) that is adjusted as described above, and (F) a laser beam (10) is used for discharge ignition in plasma generation.
設置した円筒状のガラス管（２）と、（Ｂ）前記ガラス
管（２）の周囲に設けたアンテナ（４）と、（Ｃ）前記
アンテナ（４）の一端に接続した高周波電源（３）と、
（Ｄ）前記ガラス管（２）の軸方向に設置した電子ビー
ム発生装置（１１）と、（Ｅ）前記電子ビーム発生装置
（１１）からの電子ビーム（１３）を透過してガラス管
（２）に入射する電子ビーム透過フォイール（１２）と
を具備し、（Ｆ）プラズマ生成における放電点火に電子
ビーム（１３）を用いることを特徴とする磁場中の高周
波放電の点火装置。2. A cylindrical glass tube (2) installed in the inner space of a magnetic field generating coil (1), and (B) an antenna (4) provided around the glass tube (2). (C) a high frequency power source (3) connected to one end of the antenna (4),
(D) An electron beam generator (11) installed in the axial direction of the glass tube (2), and (E) an electron beam (13) from the electron beam generator (11) passing through the glass tube (2). ) Incident electron beam (12), and (F) an ignition device for high frequency discharge in a magnetic field, characterized in that the electron beam (13) is used for discharge ignition in plasma generation.
Priority Applications (1)
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6548381B2 (en) | 2001-04-26 | 2003-04-15 | Nissin Electric Co., Ltd. | Ion beam irradiation apparatus and method of igniting a plasma for the same |
| JP2009070586A (en) * | 2007-09-10 | 2009-04-02 | Imagineering Kk | Plasma generation method, plasma generation device, cavity for plasma generation device, and measuring apparatus |
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1994
- 1994-11-08 JP JP27395294A patent/JP3174699B2/en not_active Expired - Fee Related
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| US6548381B2 (en) | 2001-04-26 | 2003-04-15 | Nissin Electric Co., Ltd. | Ion beam irradiation apparatus and method of igniting a plasma for the same |
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