JPH0992200A - Plasma ion source mass analysis device - Google Patents

Plasma ion source mass analysis device

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JPH0992200A
JPH0992200A JP7249072A JP24907295A JPH0992200A JP H0992200 A JPH0992200 A JP H0992200A JP 7249072 A JP7249072 A JP 7249072A JP 24907295 A JP24907295 A JP 24907295A JP H0992200 A JPH0992200 A JP H0992200A
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JP
Japan
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plasma
measurement
ion
signal
detector
Prior art date
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Application number
JP7249072A
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Japanese (ja)
Inventor
Toyoji Okumoto
豊治 奥本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0992200A publication Critical patent/JPH0992200A/en
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  • Electron Tubes For Measurement (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To correct variation of ionization efficiency and try to improve measurement precision by correcting a signal used for measurement, using molecule or element ion peak of gas which is generating a plasma instead of an element targeted for measurement. SOLUTION: A sample separated by elements by means of a mass analysis gauge 24 is deflected by 90 degrees by means of a deflecting electrode 26, led by an ion detector 28, and detected. Another ion detector 62 is set at the back of the deflecting electrode 26, and molecule or element ion peak of gas which is generating a plasma instead of an element targeted for measurement is detected. This signal is amplified by using an amplifier 64, and a signal to be measured by means of an ion detector 28 is corrected by using that signal. Thus, variation of ion effect ratio at a torch, and variation of ion convergence efficiency due to the dirt of an ion lens through long-duration use and the like can be corrected. In addition, an optical detection means is provided, a molecule or element emitting ray of gas which is generating a plasma is detected, and the measurement signal of the ion detector 28 is corrected by means of that signal.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、各種の方法によっ
て生成されるプラズマをイオン源とし、四重極質量分析
計または二重収束形の質量分析計を検出部とするプラズ
マイオン源極微量元素分析装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma ion source ultratrace element having a plasma produced by various methods as an ion source and a quadrupole mass spectrometer or a double-focusing mass spectrometer as a detector. Regarding analytical equipment.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の技術は、例えば 河口広司・中原
武利編 日本分光学会 測定法シリーズ 28 『プラ
ズマイオン源質量分析』の19項から43項において論
じられる。すなわち、プラズマイオン源質量分析装置は
プラズマによって溶液サンプルをイオン化させ、その結
果生じたイオンをインターフェイスを介して真空中に引
き込み、質量分析計によって測定を行うに構成されてい
る。
2. Description of the Related Art Conventional techniques are discussed, for example, in Koji Kawaguchi and Taketoshi Nakahara, edited by Spectroscopic Society of Japan, Series 28, "Plasma Ion Source Mass Spectrometry", paragraphs 19 to 43. That is, the plasma ion source mass spectrometer is configured to ionize a solution sample by plasma, draw the resulting ions into a vacuum through an interface, and perform measurement by a mass spectrometer.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし上記従来技術で
は、測定対象は四重極質量分析計で質量分別された後検
知器に導かれたイオンであり、例えば、トーチでのイオ
ン化効率の変動,長期間の使用によるイオンレンズの汚
れによるイオン収束効率の変動等装置的な変動に対して
それを補正するという手段を持っていなかった。測定者
の立場で上記の問題を解決する一つの手段に内標準法が
ある。例えば 河口広司・中原武利編 日本分光学会
測定法シリーズ 28 『プラズマイオン源質量分析』
の110項から115項で論じられる。この方法は、測
定サンプルの中にあらかじめ一定の濃度の測定しない元
素(測定を必要としない元素)を添加しておき、その元
素を同時に測定することによって、装置的な変動に対し
てそれを補正しようという方法である。しかしこの内標
準法の使用では、測定サンプルの中に一定濃度のサンプ
ルを添加しなければならず、非常の手間がかかる方法で
あること、添加するサンプルの汚染に十分な考慮が必要
であること、多元素測定の場合には測定を必要としない
元素を探すこと自体が難しいこと、有機溶媒系試料中の
微量金属元素の測定では、安定な添加元素自体を探すこ
と自体が非常に難しいことなど、内標準法の使用には非
常に多くの問題点があった。
However, in the above-mentioned prior art, the object to be measured is ions that have been mass fractionated by the quadrupole mass spectrometer and then guided to the detector. For example, fluctuations in ionization efficiency in the torch, There was no means to correct for fluctuations in the device such as fluctuations in ion focusing efficiency due to dirt on the ion lens due to long-term use. The internal standard method is one means for solving the above problems from the standpoint of a measurer. For example, Koji Kawaguchi and Taketoshi Nakahara, Japan Spectroscopy Society
Measurement method series 28 "Plasma ion source mass spectrometry"
, Paragraphs 110-115 of. This method corrects for instrumental fluctuations by adding a fixed concentration of a non-measuring element (element that does not require measurement) to the measurement sample in advance and measuring the element at the same time. Is the way to try. However, when using this internal standard method, it is necessary to add a certain concentration of sample to the measurement sample, it is a very time-consuming method, and it is necessary to give sufficient consideration to contamination of the added sample. , In the case of multi-element measurement, it is difficult to search for an element that does not need to be measured, and in the measurement of trace metal elements in organic solvent-based samples, it is very difficult to search for a stable additive element itself. However, there were numerous problems in using the internal standard method.

【0004】本発明の目的は、内標準法のような面倒な
処理を測定者に行わせることなく、例えばトーチでのイ
オン化効率の変動,長期間の使用によるイオンレンズの
汚れによるイオン収束効率の変動等装置的な変動を補正
することができるプラズマイオン源質量分析装置を提供
することにある。
The object of the present invention is to improve the ion focusing efficiency due to, for example, fluctuations in ionization efficiency of a torch and contamination of the ion lens due to long-term use, without requiring the measurer to perform troublesome processing such as the internal standard method. It is an object of the present invention to provide a plasma ion source mass spectroscope capable of compensating for instrumental fluctuations such as fluctuations.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記のような問題点を解
決するための本発明の特長は、測定に使用する通常の検
知器以外にさらなる1個のイオンの検知手段もしくは光
学的検知手段を持ち、この検知手段は測定試料中に含ま
れる測定対象元素ではなくプラズマを生成しているガス
の分子または元素イオンピークもしくはプラズマを生成
しているガスの分子または元素の発光線を用いて測定に
使用する信号を補正するところにある。プラズマイオン
源質量分析装置に使用されるプラズマは、通常ICP
(誘導結合プラズマ)もしくはMIP(マイクロ波誘導
プラズマ)が使用される。ICPではAr(アルゴン)
ガス、MIPではN2 (窒素)ガスがプラズマ生成ガス
として使用されるため、アルゴンまたは窒素に起因する
分子または元素イオンがプラズマ中に生成される。これ
らの分子または元素イオンはプラズマを生成するメイン
の物質であるため、その数は測定対象となるイオンの数
とは比較にならないほど多く存在(通常、5〜6桁以上
大きい)し、測定に使用する通常の検知器では検出する
ことはできない。そのため、測定に使用する通常の検知
器以外のさらなる1個のイオンの検知手段もしくは光学
的検知手段(これらは一般には測定に使用する通常の検
知器と比較すると感度は格段に低い)を持つことによっ
て、プラズマを生成しているガスの分子または元素イオ
ンピークもしくはプラズマを生成しているガスの分子ま
たは元素の発光線を検出し、この信号を用いて測定に使
用する信号を補正するように作用する。
The feature of the present invention for solving the above-mentioned problems is that, in addition to an ordinary detector used for measurement, an additional ion detecting means or optical detecting means is provided. This detection means is not the element to be measured contained in the measurement sample, but the molecule of the gas generating plasma or the element peak of the ion or the emission line of the gas molecule or the element generating the plasma. It is about correcting the signal to be used. The plasma used in the plasma ion source mass spectrometer is usually ICP.
(Inductively coupled plasma) or MIP (microwave inductive plasma) is used. Ar (Argon) for ICP
In the gas, MIP, N 2 (nitrogen) gas is used as a plasma generation gas, so that molecules or elemental ions derived from argon or nitrogen are generated in plasma. Since these molecules or elemental ions are the main substances that generate plasma, the number of them is so large that they are incomparable with the number of ions to be measured (usually 5 to 6 digits or more), and It cannot be detected by the usual detector used. Therefore, it must have an additional ion detection means or optical detection means other than the ordinary detector used for measurement (these are generally much lower in sensitivity than ordinary detectors used for measurement). To detect the molecular or element ion peak of the gas generating plasma or the emission line of the molecule or element of the gas generating plasma and use this signal to correct the signal used for measurement To do.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図1を
用いて説明する。図1は一例としてマイクロ波プラズマ
極微量元素分析装置の全体の構成図を示したものであ
る。ここで1は測定対象となる試料である。通常2は液
体であり、キャピラリチューブ4を通してネブライザ等
の霧化器6に供給する。ネブライザ等の霧化器6にはキ
ャリアガス8が供給されておりここで試料の霧化が行わ
れる。2は液体であれば水溶液でも良いし、アルコール
等の有機溶媒でも良い。そしてこの霧状化されたサンプ
ルはマイクロ波により生成されたマイクロ波プラズマ1
8へと導かれ、マイクロ波プラズマ18によって霧状化
されたサンプルは解離,原子化,イオン化されて大気中
へと放出される。ネブライザ等の霧化器6でサンプルを
適当な条件で霧状化し、さらにこの霧状化されたサンプ
ルをプラズマ18へと導くためにガス制御部50が設け
られており、ガス制御部50によってサンプルはプラズ
マ18へと送られる。このガス制御部50は制御コンピ
ュータ52によって制御されている。プラズマ生成部1
2でプラズマ18を発生させるが、これにはマイクロ波
14が用いられる。マイクロ波14は、マイクロ波電源
54によって2.45Ghz としてプラズマ生成部12
へと供給される。このマイクロ波14およびプラズマガ
ス16によって大気中にプラズマ18が生成され、その
プラズマ18の温度は約5000℃〜6000℃に達す
る。マイクロ波電源54は、制御コンピュータ52によ
り最適条件となるように制御される。ここで大気中でプ
ラズマ18によりイオン化されたサンプルを質量分析部
へと導いて質量分析を行うが、質量分析計24は真空中
で動作するため、イオン化されたサンプルを効率良く真
空中に引き込むために、インターフェイス系(サンプリ
ングコーンおよびスキマーコーン)20が設けられる。
インターフェイス系20は、通常冷却が良くできる金属
である銅やニッケルで構成される。このインターフェイ
ス系20により、プラズマ内でイオン化されたサンプル
を引き込む。質量分析計24は真空中(約10-6Torr)の
環境で動作するために、本装置は図1に示す様に34,
30,32の3段階の真空引き、すなわち作動排気を行
う。真空引きは通常34はロータリポンプ、30,32
はターボ分子ポンプ+ロータリポンプの組み合わせ、ま
たは油拡散ポンプ+ロータリポンプの組み合わせで行
う。これらの真空ポンプも制御コンピュータ52により
制御され、真空引きは自動にて行われる。インターフェ
イス系(サンプリングコーンおよびスキマーコーン)2
0を通って真空中へと引き込まれたイオン化したサンプ
ルは、制御コンピュータ52に制御されたイオンレンズ
22によって四重極質量分析計24へと収束される。イ
オンレンズ22はイオンレンズ電源56によって電圧を
供給されており、電気的性質を持ったイオンの流れの挙
動を制御することが可能である。四重極質量分析計24
に導入されたイオンは、四重極質量分析計24により元
素別に分類される。四重極質量分析計24は制御コンピ
ュータ52によって質量分析計駆動用電源58を制御す
ることによって、任意の元素を取り出すことが可能であ
る。通常の測定では、四重極質量分析計24によって元
素ごとに分別されたサンプルは、その後偏向電極26に
よって90度偏向され、イオン検知器28に導かれて検
出される。この信号をパルスカウンテイングと呼ばれる
1個1個の入射イオンを検出できる方法を用いて増幅6
0し、データを得る。この方式によって、非常に高感度
な測定が可能となる。本発明では、偏向電極26の後ろ
にもう1個のイオン検知器62を設置し、イオン検知器
62によって測定対象元素ではなくプラズマを生成して
いるガスの分子または元素イオンピークを検出する。通
常の場合、プラズマを生成しているガスの分子または元
素イオンの個数は測定対象となる元素イオンの個数に比
べると桁違いに大きい(5桁以上大きい)ため、イオン
検知器62はイオン検知器28よりも遥かに感度の悪い
ファラデーカップ等を使用するが、これはファラデーカ
ップにこだわらずどのような検出器であっても問題な
い。ファラデーカップからの信号をアンプ64を用いて
増幅し、データを得る。ファラデーカップからの信号を
用いて、イオン検知器28で測定される測定信号を補正
するが、四重極質量分析計24を使用する場合には同時
に二つの質量数を測定することはできない。そのため図
2に示す様にピークを時間分割的に高速にスキャンし、
交互に測定対象元素の信号とプラズマを生成しているガ
スの分子イオン信号を取り込んで、その後補正の処理を
行う。図2で、70は時間軸、72は四重極質量分析計
がスキャンする(データを取り込む)質量数を表わす。
一例として74は測定対象となる元素イオンのデータを
取り込む質量数であり、76はプラズマを生成している
ガスの分子または元素イオンのデータを取り込む質量数
である。この両者の信号を例えば50msec 間隔78で
取り込むが、もちろんこの取り込み間隔は任意の値で問
題ない。この様にピークを時間分割的に高速にスキャン
し、交互にデータを取り込むことで補正を行う信号を確
率し補正を行う。この様に補正を行うことによって、例
えば、トーチでのイオン化効率の変動,長期間の使用に
よるイオンレンズの汚れによるイオン収束効率の変動等
は、測定対象元素の信号もプラズマを生成しているガス
の分子または元素イオン信号にも同様に影響を与えるも
のであるから、その影響を補正することが可能となる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. As an example, FIG. 1 shows the overall configuration of a microwave plasma trace element analyzer. Here, 1 is a sample to be measured. Usually, 2 is a liquid and is supplied to an atomizer 6 such as a nebulizer through a capillary tube 4. A carrier gas 8 is supplied to an atomizer 6 such as a nebulizer, where the sample is atomized. If 2 is a liquid, it may be an aqueous solution or an organic solvent such as alcohol. This atomized sample is a microwave plasma 1 generated by microwaves.
The sample, which is guided to No. 8 and atomized by the microwave plasma 18, is dissociated, atomized, and ionized, and is emitted into the atmosphere. A gas controller 50 is provided to atomize the sample under an appropriate condition with an atomizer 6 such as a nebulizer, and to guide the atomized sample to the plasma 18. Are sent to the plasma 18. The gas control unit 50 is controlled by the control computer 52. Plasma generator 1
A plasma 18 is generated at 2, and a microwave 14 is used for this. The microwave 14 is generated by the microwave power source 54 as 2.45 Ghz and the plasma generation unit 12
Supplied to. A plasma 18 is generated in the atmosphere by the microwave 14 and the plasma gas 16, and the temperature of the plasma 18 reaches about 5000 ° C to 6000 ° C. The microwave power supply 54 is controlled by the control computer 52 so as to have optimum conditions. Here, the sample ionized by the plasma 18 in the atmosphere is guided to the mass spectrometric section for mass analysis. Since the mass spectrometer 24 operates in vacuum, the ionized sample is efficiently drawn into the vacuum. In addition, an interface system (sampling cone and skimmer cone) 20 is provided.
The interface system 20 is usually made of metal such as copper or nickel that can be cooled well. The interface system 20 draws the sample ionized in the plasma. Since the mass spectrometer 24 operates in a vacuum (about 10 −6 Torr) environment, this device is equipped with 34,
Vacuuming is performed in three stages of 30, 32, that is, operating exhaust is performed. For vacuum evacuation, 34 is usually a rotary pump, 30, 32
Is performed by a combination of turbo molecular pump + rotary pump or a combination of oil diffusion pump + rotary pump. These vacuum pumps are also controlled by the control computer 52, and evacuation is automatically performed. Interface system (sampling cone and skimmer cone) 2
The ionized sample drawn through 0 into the vacuum is focused by an ion lens 22 controlled by a control computer 52 onto a quadrupole mass spectrometer 24. The ion lens 22 is supplied with a voltage by the ion lens power supply 56 and can control the behavior of the flow of ions having electrical properties. Quadrupole mass spectrometer 24
The ions introduced into the are classified by element by the quadrupole mass spectrometer 24. The quadrupole mass spectrometer 24 can take out any element by controlling the power source 58 for driving the mass spectrometer by the control computer 52. In a normal measurement, the sample sorted by element by the quadrupole mass spectrometer 24 is then deflected by 90 degrees by the deflection electrode 26, guided to the ion detector 28, and detected. This signal is amplified using a method called pulse counting that can detect each incident ion.
0 to obtain the data. This method allows very sensitive measurements. In the present invention, another ion detector 62 is installed behind the deflection electrode 26, and the ion detector 62 detects not the element to be measured but the molecule or element ion peak of the gas generating plasma. In the normal case, the number of gas molecules or elemental ions that generate plasma is an order of magnitude larger than the number of elemental ions to be measured (larger by 5 digits or more). Therefore, the ion detector 62 is an ion detector. A Faraday cup or the like, which is far less sensitive than 28, is used, but this detector is not limited to the Faraday cup and any detector can be used. The signal from the Faraday cup is amplified using the amplifier 64 to obtain data. Although the signal from the Faraday cup is used to correct the measurement signal measured by the ion detector 28, two mass numbers cannot be measured at the same time when using the quadrupole mass spectrometer 24. Therefore, as shown in Fig. 2, the peaks are scanned at high speed in a time division manner,
The signals of the element to be measured and the molecular ion signals of the gas generating plasma are alternately captured, and then the correction process is performed. In FIG. 2, 70 represents a time axis, and 72 represents a mass number scanned by the quadrupole mass spectrometer (acquiring data).
As an example, 74 is a mass number that captures data of elemental ions to be measured, and 76 is a mass number that captures data of molecules or elemental ions of gas that is generating plasma. Both signals are fetched at intervals of, for example, 50 msec 78, but of course, this fetching interval may be an arbitrary value without any problem. In this way, the peaks are scanned at high speed in a time-divisional manner, and the data is alternately fetched so that the signal to be corrected is probable and corrected. By performing the correction in this way, for example, the fluctuation of the ionization efficiency in the torch, the fluctuation of the ion focusing efficiency due to the contamination of the ion lens due to long-term use, and the like, the signal of the element to be measured is also the gas generating plasma. Since it similarly affects the signal of the molecule or element ion, the influence can be corrected.

【0007】次にもう一つの実施例として、さらなる1
個の光学的検知手段を用いて測定に使用する信号を補正
する方法について図3を用いて説明する。図3は基本的
な構成は図1と同じであるが、インターフェイス系(サ
ンプリングコーンおよびスキマーコーン)20の前に光
学的検知手段80を設けてある。この光学的検知手段8
0は光ファイバーのようなもので分光器82に光を伝達
できるものであれば手段は問わない。そして分光器82
で分別された光を検知器84に導く。このように構成す
ることによって、測定対象元素ではなくプラズマを生成
しているガスの分子または元素の発光線を検出する。通
常の場合、プラズマを生成しているガスの分子または元
素,イオンの発光は測定対象となる元素イオンに比べる
と桁違いに大きいが、通常発光による感度は質量分析装
置の感度よりも遥かに悪いため問題とはならない。この
発光信号をアンプ86を用いて増幅し、データを得る。
この信号を用いて、イオン検知器28で測定される測定
信号を補正するが、この手段は上記に述べたファラデー
カップからの信号による補正方法と同じである。但し、
この場合は光学的検知手段と測定対象元素は全く同時に
測定できることが可能であるため、図2に示す様な時間
分割的な測定は必要としない。
Next, as another embodiment, a further one
A method of correcting the signal used for the measurement using the individual optical detecting means will be described with reference to FIG. 3 has the same basic configuration as that of FIG. 1, but an optical detection means 80 is provided in front of the interface system (sampling cone and skimmer cone) 20. This optical detecting means 8
0 is an optical fiber, and any means can be used as long as it can transmit light to the spectroscope 82. And the spectroscope 82
The light separated by is guided to the detector 84. With this configuration, the emission line of the molecule or element of the gas generating plasma, not the element to be measured, is detected. In the usual case, the emission of molecules, elements, or ions of the gas that generates plasma is orders of magnitude higher than that of the elemental ion to be measured, but the sensitivity due to normal emission is much worse than the sensitivity of the mass spectrometer. Therefore, it does not matter. This light emission signal is amplified by the amplifier 86 to obtain data.
This signal is used to correct the measurement signal measured by the ion detector 28, and this means is the same as the correction method using the signal from the Faraday cup described above. However,
In this case, the optical detection means and the element to be measured can be measured at exactly the same time, so that the time-divisional measurement as shown in FIG. 2 is not necessary.

【0008】本発明による効果を図4を用いて説明す
る。図4は実施例の前半の部分で述べた、ファラデーカ
ップからの信号による補正の効果を示したものである。
図4は横軸に時間を取り、縦軸に信号強度を取ったもの
である。横軸108,110,112は時間を示してお
り、測定の経過を表わしている。また、縦軸102は測
定に使用する通常の検知器による信号出力を示し、縦軸
104はファラデーカップからの信号出力を示し、縦軸
106は102の信号を104の信号で補正した結果を
示している。この図で領域(時間領域)114では、1
02の信号は安定しており、この領域では補正の必要は
ない。しかし、領域116,118では、102の信号
が本来あるべき値から上または下にずれている。ここで
は模式的に示してあるが、実際の質量分析装置では、例
えば、トーチでのイオン化効率の変動,長期間の使用に
よるイオンレンズの汚れによるイオン収束効率の変動等
装置的な変動等によって本来あるべき値からずれて信号
値が得られることになる。106はこれらの変動を打ち
消すような働きを行い、具体的には、例えば、102の信
号を104の信号で除算を行い、その結果得られる比を
用いるというような方法を取る。
The effect of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 shows the effect of the correction by the signal from the Faraday cup described in the first half of the embodiment.
In FIG. 4, the horizontal axis represents time and the vertical axis represents signal intensity. The abscissas 108, 110, 112 represent time, and represent the progress of measurement. Further, the vertical axis 102 shows the signal output from a normal detector used for measurement, the vertical axis 104 shows the signal output from the Faraday cup, and the vertical axis 106 shows the result of correcting the signal of 102 with the signal of 104. ing. In this figure, in the area (time area) 114, 1
The 02 signal is stable and needs no correction in this region. However, in the regions 116 and 118, the signal of 102 is shifted up or down from the value that it should be. Although it is schematically shown here, in an actual mass spectrometer, due to fluctuations in the ionization efficiency of the torch, fluctuations in the ion focusing efficiency due to contamination of the ion lens due to long-term use, and other fluctuations in the equipment, A signal value will be obtained with a deviation from a desired value. Reference numeral 106 serves to cancel these fluctuations. Specifically, for example, the signal of 102 is divided by the signal of 104, and the resulting ratio is used.

【0009】[0009]

【発明の効果】本発明によれば、内標準法のような面倒
な処理を測定者に行わせることなく、例えばトーチでの
イオン化効率の変動,長期間の使用によるイオンレンズ
の汚れによるイオン収束効率の変動等装置的な変動を補
正することができ、サンプル測定における測定精度を大
きく向上させることが可能となる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, ion converging due to fluctuations in ionization efficiency of a torch and contamination of an ion lens due to long-term use can be achieved without requiring a measurer to perform troublesome processing such as the internal standard method. It is possible to correct apparatus-like fluctuations such as efficiency fluctuations, and it is possible to greatly improve the measurement accuracy in sample measurement.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例のブロック図。FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of the present invention.

【図2】図1における実施例におけるデータ取り込みの
方法を示した説明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a method of data acquisition in the embodiment in FIG.

【図3】本発明の第二実施例のブロック図。FIG. 3 is a block diagram of a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の効果を示す説明図。FIG. 4 is an explanatory view showing the effect of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

24…四重極質量分析計、26…偏向電極、28…イオ
ン検知器、62…ファラデーカップ、80…光学的検知
手段。
24 ... Quadrupole mass spectrometer, 26 ... Deflection electrode, 28 ... Ion detector, 62 ... Faraday cup, 80 ... Optical detection means.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プラズマ生成系,プラズマトーチ系,試料
導入系,イオン化系,インターフェイス系,質量分析系
を含むプラズマイオン源極微量元素分析装置において、
測定に使用する通常の検知器以外にさらなる1個のイオ
ンの検知手段を持ち、前記検知手段は測定試料中に含ま
れる測定対象元素ではなくプラズマを生成しているガス
の分子または元素イオンピークを用いて測定に使用する
信号を補正することを特徴とするプラズマイオン源質量
分析装置。
1. A plasma ion source ultratrace element analyzer including a plasma generation system, a plasma torch system, a sample introduction system, an ionization system, an interface system, and a mass spectrometry system,
In addition to the usual detector used for measurement, it has a detector for one additional ion, and the detector is not the element to be measured contained in the measurement sample but the molecule or element ion peak of the gas generating plasma. A plasma ion source mass spectrometer, characterized in that it is used to correct a signal used for measurement.
【請求項2】請求項1において、測定に使用する通常の
検知器以外にさらなる1個の光学的検知手段を持ち、前
記光学的検知手段は測定試料中に含まれる測定対象元素
ではなくプラズマを生成しているガスの分子または元素
の発光線を用いて測定に使用する信号を補正するプラズ
マイオン源極微量元素分析装置。
2. The method according to claim 1, further comprising one optical detecting means other than a normal detector used for measurement, wherein the optical detecting means is not an element to be measured contained in a measurement sample but plasma. Plasma ion source ultratrace element analyzer that corrects the signal used for measurement by using the emission lines of the molecules or elements of the generated gas.
JP7249072A 1995-09-27 1995-09-27 Plasma ion source mass analysis device Pending JPH0992200A (en)

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