JPH0979824A - 膜厚解析装置 - Google Patents

膜厚解析装置

Info

Publication number
JPH0979824A
JPH0979824A JP23178095A JP23178095A JPH0979824A JP H0979824 A JPH0979824 A JP H0979824A JP 23178095 A JP23178095 A JP 23178095A JP 23178095 A JP23178095 A JP 23178095A JP H0979824 A JPH0979824 A JP H0979824A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
infrared
film thickness
camera
measured
specific wavelength
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23178095A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroaki Nose
宏明 野瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP23178095A priority Critical patent/JPH0979824A/ja
Publication of JPH0979824A publication Critical patent/JPH0979824A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被測定物の膜厚を被測定物の全面にわたって
評価することができるとともに被測定物の膜厚を非破壊
で評価することのできる膜厚解析装置を提供する。 【解決手段】 赤外面光源1と、バンドパスフィルター
2と、IRカメラ3と、演算装置4とを備え、赤外面光
源1から発し被測定物50中を透過した赤外線のうち特定
波長のものをバンドパスフィルター2で選択し、このバ
ンドパスフィルター2で選択した特定波長の赤外線のエ
ネルギー分布をIRカメラ3で捕らえ、このIRカメラ
3で捕らえた特定波長の赤外線のエネルギー分布データ
を演算装置4で演算して被測定物の膜厚を評価する構成
とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は膜厚解析装置に関
し、さらに詳しくは例えば包装材料に好適に用いられる
薄膜積層材料を構成する薄膜の膜厚を2次元で、すなわ
ち被測定物の膜厚を被測定物の全面にわたって評価する
ことのできる膜厚解析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば基材フィルム上に金属酸化物等の
蒸着膜が設けられた薄膜積層材料は、包装材料その他の
用途に広く用いられつつある。
【0003】特に、珪素酸化物(SiOx )蒸着膜を有する
薄膜積層材料は、高いバリアー性を有することから食品
包装その他の包装材料として好適に用いられている。一
方、薄膜積層材料を構成する薄膜の膜厚を評価する方法
としては、走査型電子顕微鏡(SEM)または透過型電
子顕微鏡(TEM)を使用する方法、化学分析用電子分
光法(ESCA)、螢光X線法などが知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来法は、いずれも膜厚をスポットで評価するものであ
るため例えばフィルム状の被測定物の膜厚を全体にわた
って連続的に評価することが困難であるという欠点があ
る。しかも、従来法は、いずれもいわゆる破壊検査であ
るため、例えば包装材料の製造工程中で膜厚を評価する
ことができないという問題もある。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明の第一の膜厚解析装置は、赤外面光源と、バ
ンドパスフィルターと、IRカメラと、演算装置とを備
え、前記赤外面光源から発し被測定物中を透過した赤外
線のうち特定波長のものを前記バンドパスフィルターで
選択し、このバンドパスフィルターで選択した特定波長
の赤外線のエネルギー分布を前記IRカメラで捕らえ、
このIRカメラで捕らえた特定波長の赤外線のエネルギ
ー分布データを前記演算装置で演算して被測定物の膜厚
を評価する構成とし、本発明の第二の膜厚解析装置は、
赤外面光源と、ハーフミラーと、第一バンドパスフィル
ターと、第一IRカメラと、第一演算装置とを有する第
一系統と、該第一系統を構成する赤外面光源およびハー
フミラーとそれぞれ共用の赤外面光源およびハーフミラ
ーと、第二バンドパスフィルターと、第二IRカメラ
と、第二演算装置とを有する第二系統とを備え、前記第
一系統では、前記赤外面光源から発し被測定物中を透過
した後、前記ハーフミラーを透過した赤外線のうち特定
波長のものを前記第一バンドパスフィルターで選択し、
この第一バンドパスフィルターで選択した特定波長の赤
外線のエネルギー分布を前記第一IRカメラで捕らえ、
この第一IRカメラで捕らえた特定波長の赤外線のエネ
ルギー分布データを前記第一演算装置で演算して被測定
物を構成する2層のうちの1層の膜厚を評価し、前記第
二系統では、前記赤外面光源から発し被測定物中を透過
した後、前記ハーフミラーで反射した赤外線のうち特定
波長のものを前記第二バンドパスフィルターで選択し、
この第二バンドパスフィルターで選択した特定波長の赤
外線のエネルギー分布を前記第二IRカメラで捕らえ、
この第二IRカメラで捕らえた特定波長の赤外線のエネ
ルギー分布データを前記第二演算装置で演算して被測定
物を構成する2層のうちの他の1層の膜厚を評価する構
成とし、本発明の第三の膜厚解析装置は、赤外面光源
と、ハーフミラーと、第一バンドパスフィルターと、第
一IRカメラと、第一演算装置とを有する第一系統と、
該第一系統を構成する赤外面光源およびハーフミラーと
それぞれ共用の赤外面光源およびハーフミラーと、第二
バンドパスフィルターと、第二IRカメラと、第二演算
装置とを有する第二系統と、第三演算装置とを備え、前
記第一系統では、前記赤外面光源から発し被測定物中を
透過した後、前記ハーフミラーを透過した赤外線のうち
特定波長のものを前記第一バンドパスフィルターで選択
し、この第一バンドパスフィルターで選択した特定波長
の赤外線のエネルギー分布を前記第一IRカメラで捕ら
え、この第一IRカメラで捕らえた特定波長の赤外線の
エネルギー分布データを前記第一演算装置で演算して被
測定物の全膜厚を評価し、前記第二系統では、前記赤外
面光源から発し被測定物中を透過した後、前記ハーフミ
ラーで反射した赤外線のうち特定波長のものを前記第二
バンドパスフィルターで選択し、この第二バンドパスフ
ィルターで選択した特定波長の赤外線のエネルギー分布
を前記第二IRカメラで捕らえ、この第二IRカメラで
捕らえた特定波長の赤外線のエネルギー分布データを前
記第二演算装置で演算して被測定物を構成する2層のう
ちの1層の膜厚を評価し、前記第一系統で得られた赤外
線エネルギー分布データと前記第二系統で得られた赤外
線エネルギー分布データとを前記第三演算装置で演算す
ることにより被測定物を構成する2層のうちの他の1層
の膜厚を評価する構成とし、さらに必要に応じ、前記第
一乃至第三のいずれかの膜厚解析装置において、前記赤
外線のエネルギー分布データを画像データに変換する画
像処理装置と、該画像データを表示する表示装置とを有
する構成とした。
【0006】本発明の第一の膜厚解析装置は、赤外面光
源と、バンドパスフィルターと、IRカメラと、演算装
置とを備える。この膜厚解析装置において、赤外面光源
からは2層構造であってこの2層のうち1層の厚みが既
知である被測定物に向けて赤外線が照射され、この赤外
線は被測定物を透過する。このように被測定物を透過し
た赤外線は、バンドパスフィルターに入射する。バンド
パスフィルターは、入射した赤外線のうち特定波長のも
ののみを透過させる。次に、この特定波長の赤外線のエ
ネルギー分布をIRカメラで捕らえる。IRカメラで捕
らえられた赤外線のエネルギー分布データは演算装置に
送られる。演算装置では、IRカメラで捕らえられた赤
外線のエネルギー分布データに基づき温度透過率(T/
0 )が求められ、被測定物の形成材料ごとに予め演算
装置に入力されている膜厚と温度透過率との関係から被
測定物の形成材料に応じて膜厚が評価される。なお、温
度透過率(T/T0 )はIRカメラで捕らえられた赤外
線のエネルギー分布データに基づいて演算装置で算出さ
れる温度(T)と、被測定物中を未だ透過していない赤
外線のエネルギー分布から求められるものであって予め
演算装置に入力されている温度(T0 )との比として算
出される。
【0007】本発明の第二の膜厚解析装置は、赤外面光
源と、ハーフミラーと、第一バンドパスフィルターと、
第一IRカメラと、第一演算装置とを有する第一系統
と、該第一系統を構成する赤外面光源およびハーフミラ
ーとそれぞれ共用の赤外面光源およびハーフミラーと、
第二バンドパスフィルターと、第二IRカメラと、第二
演算装置とを有する第二系統とを備える。第一系統で
は、2層構造であって各層の厚みが未知である被測定物
に向けて赤外面光源から赤外線が照射され、この赤外線
は被測定物を透過する。このように被測定物を透過した
赤外線は、ハーフミラーを透過した後、第一バンドパス
フィルターに入射する。第一バンドパスフィルターは、
入射した赤外線のうち特定波長のもののみを選択的に透
過させる。次に、この特定波長の赤外線のエネルギー分
布を第一IRカメラで捕らえる。第一IRカメラで捕ら
えられた赤外線のエネルギー分布データは第一演算装置
に送られる。第一演算装置では、第一IRカメラで捕ら
えられた赤外線のエネルギー分布データに基づき温度透
過率(T/T0 )が求められ、被測定物を構成する各層
の形成材料ごとに予め第一演算装置に入力されている膜
厚と温度透過率との関係から被測定物を構成する2層の
うちの1層の膜厚が評価される。なお、温度透過率(T
/T0 )は前述の第一の膜厚解析装置におけるのと同様
にして算出される。第二系統では、第一系統と共用の赤
外面光源から被測定物に向けて赤外線が照射され、この
赤外線は被測定物を透過する。このように被測定物を透
過した赤外線は、第一系統と共用のハーフミラーで反射
した後、第二バンドパスフィルターに入射する。すなわ
ち、この膜厚解析装置において、赤外面光源から被測定
物に向けて照射され、被測定物を透過した赤外線の一部
はハーフミラーを透過した後、第一バンドパスフィルタ
ーに入射し、赤外線の残りの一部はハーフミラーで反射
した後、第二バンドパスフィルターに入射する。第二バ
ンドパスフィルターは、入射した赤外線のうち第一バン
ドパスフィルターが選択的に透過させる特定波長とは範
囲の異なる特定波長のもののみを選択的に透過させる。
次に、この特定波長の赤外線のエネルギー分布を第二I
Rカメラで捕らえる。第二IRカメラで捕らえられた赤
外線のエネルギー分布データは第二演算装置に送られ
る。第二演算装置では、第二IRカメラで捕らえられた
赤外線のエネルギー分布データに基づき2層構造の被測
定物のうち前記第一系統で膜厚を評価した層とは異なる
他の層の温度透過率(T/T0 )が求められ、予めこの
層の形成材料に応じて第二演算装置に入力されている膜
厚と温度透過率との関係から前記第一系統で膜厚が評価
された層とは異なる他の1層の薄膜の膜厚が薄膜の形成
材料に応じて評価される。なお、温度透過率(T/
0 )は前述の第一の膜厚解析装置におけるのと同様に
して算出される。
【0008】本発明の第三の膜厚解析装置は、赤外面光
源と、ハーフミラーと、第一バンドパスフィルターと、
第一IRカメラと、第一演算装置とを有する第一系統
と、該第一系統を構成する赤外面光源およびハーフミラ
ーとそれぞれ共用の赤外面光源およびハーフミラーと、
第二バンドパスフィルターと、第二IRカメラと、第二
演算装置とを有する第二系統と、第三演算装置とを備え
る。第一系統では、2層構造であって各層の厚みが未知
である被測定物に向けて赤外面光源から赤外線が照射さ
れ、この赤外線は被測定物を透過する。このように被測
定物を透過した赤外線は、ハーフミラーを透過した後、
第一バンドパスフィルターに入射する。第一バンドパス
フィルターは、入射した赤外線のうち特定波長のものの
みを選択的に透過させる。次に、この特定波長の赤外線
のエネルギー分布を第一IRカメラで捕らえる。第一I
Rカメラで捕らえられた赤外線のエネルギー分布データ
は第一演算装置に送られる。第一演算装置では、第一I
Rカメラで捕らえられた赤外線のエネルギー分布データ
に基づき温度透過率(T/T0 )が求められ、被測定物
の形成材料ごとに、すなわち各層の組合せごとに予め第
一演算装置に入力されている膜厚と温度透過率との関係
から被測定物の全膜厚が評価される。なお、温度透過率
(T/T0 )は前述の第一の膜厚解析装置におけるのと
同様にして算出される。第二系統では、第一系統と共用
の赤外面光源から被測定物に向けて赤外線が照射され、
この赤外線は被測定物を透過する。このように被測定物
を透過した赤外線は、第一系統と共用のハーフミラーで
反射した後、第二バンドパスフィルターに入射する。す
なわち、この膜厚解析装置において、赤外面光源から被
測定物に向けて照射され、被測定物を透過した赤外線の
一部はハーフミラーを透過した後、第一バンドパスフィ
ルターに入射し、赤外線の残りの一部はハーフミラーで
反射した後、第二バンドパスフィルターに入射する。第
二バンドパスフィルターは、入射した赤外線のうち第一
バンドパスフィルターが選択的に透過させる特定波長と
は範囲の異なる特定波長のもののみを選択的に透過させ
る。次に、この特定波長の赤外線のエネルギー分布を第
二IRカメラで捕らえる。第二IRカメラで捕らえられ
た赤外線のエネルギー分布データは第二演算装置に送ら
れる。第二演算装置では、第二IRカメラで捕らえられ
た赤外線のエネルギー分布データに基づき2層構造の被
測定物のうちの1層の薄膜の温度透過率(T/T0 )が
求められ、予めこの層の形成材料ごとに第二演算装置に
入力されている膜厚と温度透過率との関係から2層構造
の被測定物のうちの1層の膜厚がこの層の形成材料に応
じて評価される。なお、温度透過率(T/T0 )は前述
の第一の膜厚解析装置におけるのと同様にして算出され
る。第三演算装置では、第一演算装置で評価された被測
定物の全膜厚データと第二演算装置で評価された被測定
物を構成する2層のうちの1層の膜厚データとに基づい
て被測定物を構成する2層のうちの残りの1層の膜厚が
算出される。
【0009】このように本発明の膜厚解析装置は、被測
定物の膜厚を2次元で、すなわち面で評価するものであ
り、また膜厚の評価にあたり被測定物を破壊する必要は
ない。
【0010】さらに、第一の膜厚解析装置乃至第三の膜
厚解析装置のいずれにおいても、必要に応じて各演算装
置に送られて来る赤外線のエネルギー分布データを画像
データに変換する画像処理装置および該画像データを表
示する表示装置とを備える構成とすれば、被測定物の膜
厚を濃淡画像として可視化して評価することが可能であ
る。
【0011】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施形態について図
面を参照しながら説明する。図1は第一の膜厚解析装置
の構成の一例を示す説明図である。
【0012】図1に示すように、この膜厚解析装置は、
赤外面光源1と、バンドパスフィルター2と、IRカメ
ラ3と、演算装置4と、この演算装置4に接続された画
像処理装置(図示せず)と、表示装置(モニター)5と
から構成されている。
【0013】赤外面光源1からは、例えば厚みが既知の
ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂フィルム50
a 上に厚みが未知の珪素酸化物(SiOx )蒸着膜50b が形
成されてなる積層構造の被測定物50に向けて赤外線が照
射される。
【0014】赤外面光源1から発した赤外線は被測定物
50を透過してバンドパスフィルター2に入射する。図1
に示す膜厚解析装置では、赤外面光源1とバンドパスフ
ィルター2とが被測定物50に対して反対側に配置されて
いるが、適当な反射層を設けることにより、赤外面光源
1とバンドパスフィルター2とを被測定物50に対して同
一方向に配置することも可能である。
【0015】バンドパスフィルター2には、珪素酸化物
(SiOx )の厚みによる吸収差が見られる特定波長の
赤外線、例えば、波数で1090〜1010cm-1の範囲にある波
長の赤外線のみを選択的に透過させるものを使用する。
すなわちバンドパスフィルター2には、被測定物50を構
成する厚みが未知の層および厚みが既知の層の2層のう
ち、厚みが未知の層の形成材料について厚みによる吸収
差が見られる波長領域の赤外線のみを透過させるものを
選択して使用する。
【0016】IRカメラ3では、バンドパスフィルター
2を透過した特定波長の赤外線、例えば波数で1090〜10
10cm-1の範囲にある波長の赤外線のエネルギー分布を捕
らえ、このエネルギー分布データが演算装置4に送られ
る。
【0017】演算装置4では、IRカメラ3で捕らえら
れた特定波長の赤外線のエネルギー分布データに基づき
この赤外線の温度透過率(T/T0 )が求められる。具
体的には、この温度透過率(T/T0 )は、IRカメラ
3で捕らえられた特定波長の赤外線のエネルギー分布か
ら決定される温度Tと、被測定物を透過していない特定
波長の赤外線のエネルギー分布から決定される温度T0
との比であり、温度T0 は予め決定され演算装置4に入
力されている。
【0018】また、演算装置4には、膜厚が既知の試料
について予め測定された温度透過率と膜厚との関係が被
測定物の形成材料ごとに入力されている。図2はそれぞ
れ膜厚が既知の複数の試料について予め測定された温度
透過率(T/T0 )と膜厚との関係を示すグラフであ
る。図2において、横軸は厚み12μmのポリエチレンテ
レフタレート(PET)フィルム上に形成された珪素酸
化物(SiOx )蒸着膜の厚みを示し、この厚みは螢光
X線を用いた従来法により測定されたものである。一
方、図2の縦軸は温度透過率(T/T0 )であり、試料
を透過した赤外線のエネルギー分布から求められる温度
Tと試料を透過していない赤外線のエネルギー分布から
求められる温度T0 との比として算出されたものであ
る。図2に示すグラフからは厚みが12μmのポリエチ
レンテレフタレート(PET)フィルム上に厚みが未知
の珪素酸化物(SiOx )蒸着膜が形成されている被測
定物について、温度透過率から膜厚を評価することがで
きる。
【0019】この膜厚と温度透過率との関係から演算装
置4では、被測定物50について求められた温度透過率
(T/T0 )に基づいて被測定物50を構成する珪素酸化
物(SiOx )蒸着膜50b の膜厚が評価される。この評
価は、例えば適・不適のように2値化して行ってもよい
し、過大・適・過少のように3値化して行ってもよい。
【0020】図1に示す膜厚解析装置では、演算装置4
に図示しない画像処理装置および表示装置5が接続さ
れ、演算装置4で算出された膜厚データは画像処理装置
で画像データに変換され、この画像データがエネルギー
分布を表す色画像として表示装置5に表示される。
【0021】図3は第二の膜厚解析装置の構成の一例を
示す説明図である。図3に示すようにこの膜厚解析装置
は、赤外面光源1と、ハーフミラー6と、第一バンドパ
スフィルター7と、第一IRカメラ8と、第一演算装置
9と、この第一演算装置9に接続されている図示しない
画像処理装置と、第一表示装置10と、第二バンドパス
フィルター11と、第二IRカメラ12と、第二演算装
置13と、この第二演算装置13に接続されている図示
しない画像処理装置と、第二表示装置14とにより構成
されている。また、赤外面光源1と、ハーフミラー6
と、第一バンドパスフィルター7と、第一IRカメラ8
と、第一演算装置9と、この第一演算装置9に接続され
ている図示しない画像処理装置と、第一表示装置10と
は第一系統を構成し、赤外面光源1と、ハーフミラー6
と、第二バンドパスフィルター11と、第二IRカメラ
12と、第二演算装置13と、この第二演算装置13に
接続されている図示しない画像処理装置と、第二表示装
置14とは第二系統を構成する。
【0022】赤外面光源1からはいずれも厚みが未知で
あるとともに形成材料が既知である2層60a ,60b から
なる被測定物60に向けて赤外線が照射される。図3に示
す膜厚解析装置では、赤外面光源1とハーフミラー6と
が被測定物60に対して反対側に配置されているが、適当
な反射層を設けることにより、赤外面光源1とハーフミ
ラー6とを被測定物60に対して同一方向に配置すること
も可能である。
【0023】赤外面光源1から発した赤外線は被測定物
60を透過し、この赤外線のうち一部はハーフミラー6を
透過し、残りの一部はハーフミラー6で反射する。ハー
フミラー6を透過した赤外線は前記第一系統で解析さ
れ、ハーフミラー6で反射した赤外線は前記第二系統で
解析される。
【0024】前記第一系統では、ハーフミラー6を透過
した赤外線が第一バンドパスフィルター7に入射する。
第一バンドパスフィルター7には、被測定物60を構成す
るいずれも厚みが未知であるとともに形成材料が既知で
ある2層60a ,60b のうち、いずれか1層の形成材料に
ついて厚みによる吸収差が見られる波長領域の赤外線の
みを透過させるものを選択して使用する。具体的には、
被測定物60を構成する2層60a ,60b のうち、一方の層
60b の形成材料が例えば珪素酸化物(SiOx )である
場合、珪素酸化物(SiOx )の厚みによる吸収差が見
られる特定波長の赤外線、例えば波数で1090〜1010cm-1
の範囲にある波長の赤外線のみを選択的に透過させるも
のを使用する。
【0025】第一IRカメラ8では、第一バンドパスフ
ィルター7を透過した特定波長の赤外線のエネルギー分
布を捕らえ、このエネルギー分布データが第一演算装置
9に送られる。
【0026】第一演算装置9では、第一IRカメラ8で
捕らえられた特定波長の赤外線のエネルギー分布データ
に基づきこの赤外線の温度透過率(T/T0 )が求めら
れる。
【0027】具体的には、この温度透過率(T/T0
は、第一IRカメラ8で捕らえられた特定波長の赤外線
のエネルギー分布から決定される温度Tと、被測定物を
透過していない特定波長の赤外線のエネルギー分布から
決定される温度T0 との比であり、温度T0 は予め決定
され第一演算装置9に入力されている。
【0028】また、第一演算装置9には、被測定物60を
構成する2層60a ,60b のうちの一方の層60b の形成材
料ごとに、膜厚が既知の試料について予め測定された温
度透過率と膜厚との関係が入力されている。
【0029】したがって、第一演算装置9では、この膜
厚と温度透過率との関係から、形成材料が既知の層60b
について求められた温度透過率(T/T0 )に基づいて
層60b の膜厚が評価される。この評価は、図1に示す第
一の膜厚解析装置におけるのと同様に2値化して行って
もよいし、3値化して行ってもよい。
【0030】図3に示す膜厚解析装置では、第一演算装
置9に図示しない画像処理装置および第一表示装置10
が接続され、第一演算装置9で算出された膜厚データは
画像処理装置で画像データに変換され、この画像データ
がエネルギー分布を表す濃淡画像として第一表示装置1
0に表示される。
【0031】前記第二系統では、ハーフミラー6で反射
した赤外線が第二バンドパスフィルター11に入射す
る。第二バンドパスフィルター11には、被測定物60を
構成する2層60a ,60b のうち前記第一系統で膜厚が評
価された層60b とは異なる他の層60a の形成材料のみに
ついて厚みによる吸収差が見られる特定波長の赤外線の
みを選択的に透過させるものを使用する。
【0032】具体的には、例えば被測定物60を構成する
2層60a ,60b のうち一方の層60aの形成材料がポリエ
チレンテレフタレート(PET)である場合、例えば、
波数で3100〜2900cm-1の範囲にある波長の赤外線のみを
選択的に透過させるものを第二バンドパスフィルター1
1に使用する。このようなものを第二バンドパスフィル
ター11を使用するのは、波長が例えば上記の範囲にあ
る赤外線に対してPET中の−CH3 による吸収が見ら
れるからである。
【0033】第二IRカメラ12では、第二バンドパス
フィルター11を透過した例えば波数で3100〜2900cm-1
の範囲にある特定波長の赤外線のエネルギー分布を捕ら
え、このエネルギー分布データが第二演算装置13に送
られる。
【0034】第二演算装置13では、第二IRカメラ1
2で捕らえられた特定波長の赤外線のエネルギー分布デ
ータに基づきこの赤外線の温度透過率(T/T0 )が求
められる。
【0035】具体的には、この温度透過率(T/T0
は、第二IRカメラ12で捕らえられた特定波長の赤外
線のエネルギー分布から決定される温度Tと、被測定物
を透過していない特定波長の赤外線のエネルギー分布か
ら決定される温度T0 との比であり、温度T0 は予め決
定され第二演算装置13に入力されている。
【0036】また、第二演算装置13には、被測定物60
を構成する2層60a ,60b のうち一方の層60a の形成材
料ごとに、膜厚が既知の試料について予め測定された温
度透過率と膜厚との関係が入力されている。
【0037】したがって、第二演算装置13では、この
膜厚と温度透過率との関係から、形成材料が既知の層60
a について求められた温度透過率(T/T0 )に基づい
て層60a の膜厚が評価される。この評価は前述のように
2値化して行ってもよいし、3値化して行ってもよい。
【0038】第二演算装置13には、図示しない画像処
理装置および第二表示装置14が接続され、第二演算装
置13で算出された膜厚データは画像処理装置で画像デ
ータに変換され、この画像データがエネルギー分布を表
す色画像として第二表示装置14に表示される。
【0039】図4は第三の膜厚解析装置の構成の一例を
示す説明図である。図4に示すようにこの膜厚解析装置
は、図3に示す第二の膜厚解析装置の構成に加えてさら
に第三演算装置15と、この第三演算装置15に接続さ
れている図示しない画像処理装置と、第三表示装置16
とを備える。
【0040】赤外面光源1からはいずれも厚みが未知で
あるとともに形成材料が既知である2層60a ,60b から
なる被測定物60に向けて赤外線が照射される。図4に示
す膜厚解析装置では、赤外面光源1とハーフミラー6と
が被測定物60に対して反対側に配置されているが、適当
な反射層を設けることにより、赤外面光源1とハーフミ
ラー6とを被測定物60に対して同一方向に配置すること
も可能である。
【0041】赤外面光源1から発した赤外線は被測定物
60を透過し、この赤外線のうち一部はハーフミラー6を
透過し、残りの一部はハーフミラー6で反射する。ハー
フミラー6を透過した赤外線は前記第一系統で解析さ
れ、ハーフミラー6で反射した赤外線は前記第二系統で
解析される。
【0042】前記第一系統では、ハーフミラー6を透過
した赤外線が第一バンドパスフィルター7に入射する。
第一バンドパスフィルター7には、被測定物60を構成す
るいずれも厚みが未知であるとともに形成材料が既知で
ある2層60a ,60b のうち、いずれか1層の形成材料に
ついて厚みによる吸収差が見られる波長領域の赤外線の
みを透過させるものを選択して使用する。具体的には、
被測定物60を構成する2層60a ,60b のうち、一方の層
60b の形成材料が例えば珪素酸化物(SiOx )である
場合、珪素酸化物(SiOx )の厚みによる吸収差が見
られる特定波長の赤外線、例えば波数で1090〜1010cm-1
の範囲にある波長の赤外線のみを選択的に透過させるも
のを使用する。
【0043】第一IRカメラ8では、第一バンドパスフ
ィルター7を透過した上記特定波長の赤外線のエネルギ
ー分布を捕らえ、このエネルギー分布データが第一演算
装置9に送られる。
【0044】第一演算装置9では、第一IRカメラ8で
捕らえられた特定波長の赤外線のエネルギー分布データ
に基づきこの赤外線の温度透過率(T/T0 )が求めら
れる。
【0045】具体的には、この温度透過率(T/T0
は、第一IRカメラ8で捕らえられた特定波長の赤外線
のエネルギー分布から決定される温度Tと、被測定物を
透過していない特定波長の赤外線のエネルギー分布から
決定される温度T0 との比であり、温度T0 は予め決定
され第一演算装置9に入力されている。
【0046】また、第一演算装置9には、被測定物60を
構成する2層60a ,60b の形成材料の組合せごとに、全
膜厚が既知の試料について予め測定された温度透過率と
膜厚との関係が入力されている。
【0047】したがって、第一演算装置9では、この膜
厚と温度透過率との関係から、形成材料が既知の被測定
物60について求められた温度透過率(T/T0 )に基づ
いて被測定物60の全膜厚が評価される。この評価は、図
1に示す第一の膜厚解析装置におけるのと同様に2値化
して行ってもよいし、3値化して行ってもよい。
【0048】図4に示す膜厚解析装置では、第一演算装
置9に図示しない画像処理装置および第一表示装置10
が接続され、第一演算装置9で算出された膜厚データは
画像処理装置で画像データに変換され、この画像データ
がエネルギー分布を表す濃淡画像として第一表示装置1
0に表示される。
【0049】前記第二系統では、ハーフミラー6で反射
した赤外線が第二バンドパスフィルター11に入射す
る。第二バンドパスフィルター11には、被測定物60を
構成する2層60a ,60b のうち一方の層60a の形成材料
のみについて厚みによる吸収差が見られる特定波長の赤
外線のみを選択的に透過させるものを使用する。
【0050】具体的には、例えば被測定物60を構成する
2層60a ,60b のうち一方の層60aの形成材料がポリエ
チレンテレフタレート(PET)である場合、例えば、
波数で3100〜2900cm-1の範囲にある波長の赤外線のみを
選択的に透過させるものを第二バンドパスフィルター1
1に使用する。
【0051】第二IRカメラ12では、第二バンドパス
フィルター11を透過した特定波長の赤外線のエネルギ
ー分布を捕らえ、このエネルギー分布データが第二演算
装置13に送られる。
【0052】第二演算装置13では、第二IRカメラ1
2で捕らえられた特定波長の赤外線のエネルギー分布デ
ータに基づきこの赤外線の温度透過率(T/T0 )が求
められる。
【0053】具体的には、この温度透過率(T/T0
は、第二IRカメラ12で捕らえられた特定波長の赤外
線のエネルギー分布から決定される温度Tと、被測定物
を透過していない特定波長の赤外線のエネルギー分布か
ら決定される温度T0 との比であり、平均温度T0 は予
め決定され第二演算装置13に入力されている。
【0054】また、第二演算装置13には、被測定物60
を構成する2層60a ,60b のうち一方の層60a の形成材
料ごとに、膜厚が既知の試料について予め測定された温
度透過率と膜厚との関係が入力されている。
【0055】したがって、第二演算装置13では、この
膜厚と温度透過率との関係から、形成材料が既知の層60
a について求められた温度透過率(T/T0 )に基づい
て層60a の膜厚が評価される。この評価は前述のように
2値化して行ってもよいし、3値化して行ってもよい。
【0056】第二演算装置13には、図示しない画像処
理装置および第二表示装置14が接続され、第二演算装
置13で算出された膜厚データは画像処理装置で画像デ
ータに変換され、この画像データがエネルギー分布を表
す色画像として第二表示装置14に表示される。
【0057】第三演算装置15には、第一演算装置9で
算出された被測定物60の全膜厚データおよび第二演算装
置で算出された層60a の膜厚データが送られ、これらの
データに基づき層60b の膜厚が2値化または3値化され
て評価される。
【0058】第三演算装置15には、図示しない画像処
理装置および第三表示装置16が接続され、第三演算装
置15で算出された膜厚データは画像処理装置で画像デ
ータに変換され、この画像データがエネルギー分布を表
す色画像として第三表示装置16に表示される。
【0059】
【発明の効果】以上に詳述したように、本発明によれ
ば、被測定物の形成材料ごとに厚みによる吸収差が見ら
れる特定波長の赤外線を利用してそのエネルギー分布か
ら被測定物の膜厚を評価する構成としたので、被測定物
の膜厚を2次元で、すなわち被測定物全面にわたって評
価することが可能であるとともに被測定物を破壊するこ
とがなく、したがって、たとえば包装材料の製造工程中
で連続的に被測定物の膜厚を評価することができる膜厚
解析装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の膜厚解析装置の構成例を示す説明図で
ある。
【図2】本発明の膜厚解析装置を構成する演算装置に予
め入力される温度透過率と膜厚との関係の一例を示すグ
ラフである。
【図3】本発明の膜厚解析装置の構成例を示す説明図で
ある。
【図4】本発明の膜厚解析装置の構成例を示す説明図で
ある。
【符号の説明】
1…赤外面光源 2…バンドパスフィルター 3…IRカメラ 4…演算装置 6…ハーフミラー 7…第一バンドパスフィルター 8…第一IRカメラ 9…第一演算装置 11…第二バンドパスフィルター 12…第二IRカメラ 13…第二演算装置 15…第三演算装置 50…被測定物 60…被測定物

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被測定物の膜厚を2次元で評価する装置
    であって、赤外面光源と、バンドパスフィルターと、I
    Rカメラと、演算装置とを備え、前記赤外面光源から発
    し被測定物中を透過した赤外線のうち特定波長のものを
    前記バンドパスフィルターで選択し、このバンドパスフ
    ィルターで選択した特定波長の赤外線のエネルギー分布
    を前記IRカメラで捕らえ、このIRカメラで捕らえた
    特定波長の赤外線のエネルギー分布データを前記演算装
    置で演算して被測定物の膜厚を評価することを特徴とす
    る膜厚解析装置。
  2. 【請求項2】 2層構造の被測定物の各膜厚を2次元で
    評価する装置であって、赤外面光源と、ハーフミラー
    と、第一バンドパスフィルターと、第一IRカメラと、
    第一演算装置とを有する第一系統と、該第一系統を構成
    する赤外面光源およびハーフミラーとそれぞれ共用の赤
    外面光源およびハーフミラーと、第二バンドパスフィル
    ターと、第二IRカメラと、第二演算装置とを有する第
    二系統とを備え、前記第一系統では、前記赤外面光源か
    ら発し被測定物中を透過した後、前記ハーフミラーを透
    過した赤外線のうち特定波長のものを前記第一バンドパ
    スフィルターで選択し、この第一バンドパスフィルター
    で選択した特定波長の赤外線のエネルギー分布を前記第
    一IRカメラで捕らえ、この第一IRカメラで捕らえた
    特定波長の赤外線のエネルギー分布データを前記第一演
    算装置で演算して被測定物を構成する2層のうちの1層
    の膜厚を評価し、前記第二系統では、前記赤外面光源か
    ら発し被測定物中を透過した後、前記ハーフミラーで反
    射した赤外線のうち特定波長のものを前記第二バンドパ
    スフィルターで選択し、この第二バンドパスフィルター
    で選択した特定波長の赤外線のエネルギー分布を前記第
    二IRカメラで捕らえ、この第二IRカメラで捕らえた
    特定波長の赤外線のエネルギー分布データを前記第二演
    算装置で演算して被測定物を構成する2層のうちの他の
    1層の膜厚を評価することを特徴とする膜厚解析装置。
  3. 【請求項3】 2層構造の被測定物の各膜厚を2次元で
    評価する装置であって、赤外面光源と、ハーフミラー
    と、第一バンドパスフィルターと、第一IRカメラと、
    第一演算装置とを有する第一系統と、該第一系統を構成
    する赤外面光源およびハーフミラーとそれぞれ共用の赤
    外面光源およびハーフミラーと、第二バンドパスフィル
    ターと、第二IRカメラと、第二演算装置とを有する第
    二系統と、第三演算装置とを備え、前記第一系統では、
    前記赤外面光源から発し被測定物中を透過した後、前記
    ハーフミラーを透過した赤外線のうち特定波長のものを
    前記第一バンドパスフィルターで選択し、この第一バン
    ドパスフィルターで選択した特定波長の赤外線のエネル
    ギー分布を前記第一IRカメラで捕らえ、この第一IR
    カメラで捕らえた特定波長の赤外線のエネルギー分布デ
    ータを前記第一演算装置で演算して被測定物の全膜厚を
    評価し、前記第二系統では、前記赤外面光源から発し被
    測定物中を透過した後、前記ハーフミラーで反射した赤
    外線のうち特定波長のものを前記第二バンドパスフィル
    ターで選択し、この第二バンドパスフィルターで選択し
    た特定波長の赤外線のエネルギー分布を前記第二IRカ
    メラで捕らえ、この第二IRカメラで捕らえた特定波長
    の赤外線のエネルギー分布データを前記第二演算装置で
    演算して被測定物を構成する2層のうちの1層の膜厚を
    評価し、前記第一系統で得られた赤外線エネルギー分布
    データと前記第二系統で得られた赤外線エネルギー分布
    データとを前記第三演算装置で演算することにより被測
    定物を構成する2層のうちの他の1層の膜厚を評価する
    ことを特徴とする膜厚解析装置。
  4. 【請求項4】 さらに前記赤外線のエネルギー分布デー
    タを画像データに変換する画像処理装置と、該画像デー
    タを表示する表示装置とを有する請求項1乃至請求項3
    のいずれかに記載の膜厚解析装置。
JP23178095A 1995-09-08 1995-09-08 膜厚解析装置 Pending JPH0979824A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23178095A JPH0979824A (ja) 1995-09-08 1995-09-08 膜厚解析装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23178095A JPH0979824A (ja) 1995-09-08 1995-09-08 膜厚解析装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0979824A true JPH0979824A (ja) 1997-03-28

Family

ID=16928924

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23178095A Pending JPH0979824A (ja) 1995-09-08 1995-09-08 膜厚解析装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0979824A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1060385A1 (en) * 1998-02-10 2000-12-20 Philip Morris Products Inc. Process control by transient thermography
KR20020073978A (ko) * 2001-03-19 2002-09-28 현대중공업 주식회사 적외선 열화상 장치를 이용한 박막 두께의 측정법
KR20030091100A (ko) * 2002-05-22 2003-12-03 강성준 적외선 영상기법을 이용한 박막의 균질도 검사 장치 및 방법

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1060385A1 (en) * 1998-02-10 2000-12-20 Philip Morris Products Inc. Process control by transient thermography
EP1060385A4 (en) * 1998-02-10 2001-05-16 Philip Morris Prod CONTROL OF A PROCESS BY TRANSIENT THERMOGRAPHY
KR20020073978A (ko) * 2001-03-19 2002-09-28 현대중공업 주식회사 적외선 열화상 장치를 이용한 박막 두께의 측정법
KR20030091100A (ko) * 2002-05-22 2003-12-03 강성준 적외선 영상기법을 이용한 박막의 균질도 검사 장치 및 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4476462B2 (ja) 半導体の電気特性評価装置
US5579363A (en) Method for obtaining the image of the internal structure of an object
CA2211785C (en) Real-time on-line analysis of organic and non-organic compounds for food, fertilizers and pharmaceutical products
US8399838B2 (en) Terahertz investigative system and method
US4929846A (en) Surface quality analyzer apparatus and method
JP3574851B2 (ja) 可視光及び/又は近赤外光を用いた乳房炎の有無を診断する方法及び装置
CN106030292A (zh) 用于组合式明场、暗场及光热检验的设备及方法
JPH06504843A (ja) 自動光学的検査方法および装置
JP2022522348A (ja) 基板上の膜の検査のための装置及び方法
WO2004086011A1 (ja) テラヘルツ波分光計測によるターゲット判別方法及び装置
JP2012164801A (ja) 検査装置及び検査方法
KR20220034883A (ko) 분광계 장치
US7868295B2 (en) Advanced calorimetric spectroscopy for commercial applications of chemical and biological sensors
JPH0979824A (ja) 膜厚解析装置
JP2803443B2 (ja) 表面検査方法およびその装置
Farbaniec et al. Thermoreflectance-based approach for surface temperature measurements of thin-film gold sensors
JP2002082048A (ja) 非接触式物性測定方法およびその装置
JP2000046759A (ja) X線検査方法およびx線検査装置
JP2001165775A (ja) スペクトルイメージセンサ
Agishev Application of imaging S-lidars: functional and diagnostic capabilities for remote air pollution detection
WO2024106458A1 (ja) 撮像装置、当該撮像装置を用いた検査装置、及び撮像方法
JP2001201323A (ja) 溝の深さ測定方法及び測定装置
CN107402223A (zh) X射线分析的操作指导系统、操作指导方法及存储介质
JP2981696B2 (ja) 検体の3次元情報計測方法および装置
CN112130221A (zh) 人体安全检查设备和人体安全检查方法