JPH0975633A - Filter product - Google Patents

Filter product

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JPH0975633A
JPH0975633A JP13783296A JP13783296A JPH0975633A JP H0975633 A JPH0975633 A JP H0975633A JP 13783296 A JP13783296 A JP 13783296A JP 13783296 A JP13783296 A JP 13783296A JP H0975633 A JPH0975633 A JP H0975633A
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JP
Japan
Prior art keywords
photocatalyst particles
photocatalyst
wire
particles
filter product
Prior art date
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Pending
Application number
JP13783296A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Kitamura
厚 北村
Makoto Hayakawa
信 早川
Toshiya Watabe
俊也 渡部
Makoto Chikuni
真 千国
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toto Ltd filed Critical Toto Ltd
Priority to JP13783296A priority Critical patent/JPH0975633A/en
Publication of JPH0975633A publication Critical patent/JPH0975633A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • Y02T30/34

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance the peel resistance of a surface layer containing photocatalyst particles useful for the decomposition of a malodor component by forming a hydrophilic surface layer containing photocatalyst particles on the surface of a wire material being the material of a filter through the protective layer protecting the wire material from the redox reaction by a photocatalyst. SOLUTION: In a filter product such as a screen door, the filter of an air conditioner or a sieve, for example, in the screen door, longitudinal and lateral wire materials 3 are provided in a frame member under tension. A protective layer 4 constituted, for example, of an aluminum vapor deposition layer or a layer containing aluminum particles is provided on the surfaces of the wire materials 3 to protect the wire materials from the redox reaction by a photocatalyst. A hydrophilic surface layer 5 containing photocatalyst particles is formed on the protective layer 4. When the wire materials are composed of a resin, photocatalyst particles 6 are added to the interiors of the wire materials 3 and the protective film 7 is formed on the surfaces of the photocatalyst particles 6 to protect the wire materials 3 from redox reaction. In this case, the wire materials 3 are etched to expose the photocatalyst particles 6 to the open air.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は線材間に形成した隙
間を介して空気等を流通せしめる網戸、エアコンのフィ
ルター、篩等のフィルター製品に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a filter product such as a screen door, an air conditioner filter, a sieve, etc., which allows air and the like to flow through a gap formed between wires.

【0002】[0002]

【従来の技術】網状構造体に酸化チタン膜を形成し、こ
の酸化チタン膜に紫外線を照射することで異臭成分を分
解する脱臭方法が特開平3−106420号に提案され
ている。
2. Description of the Related Art Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 3-106420 proposes a deodorizing method in which a titanium oxide film is formed on a reticulated structure and the titanium oxide film is irradiated with ultraviolet rays to decompose offensive odor components.

【0003】上記先行技術は光触媒粒子(光半導体)の
分解作用に着目したものである。即ち光触媒粒子の分解
作用は、酸化還元反応に基づくものであり、光触媒粒子
に紫外線等を照射すると、光励起により電子−正孔対が
生じ、このうち電子は表面酸素を還元してスーパーオキ
サイドイオン(O2 -)を生成し、正孔は表面水酸基を酸
化して水酸ラジカル(・OH)を生成し、これらの極め
て反応性に富む活性種(O2 -や・OH)の酸化還元反応
によって表面に付着した悪臭成分等を分解するというも
のである。
The above-mentioned prior art focuses on the decomposition action of photocatalyst particles (optical semiconductors). That is, the decomposition action of the photocatalyst particles is based on an oxidation-reduction reaction, and when the photocatalyst particles are irradiated with ultraviolet rays or the like, an electron-hole pair is generated by photoexcitation, and among these electrons, the surface oxygen is reduced and the superoxide ion ( O 2 ) is generated, and the holes oxidize the surface hydroxyl groups to generate hydroxyl radicals (· OH). By the redox reaction of these extremely reactive active species (O 2 and · OH). It is to decompose the malodorous components and the like adhering to the surface.

【0004】一方、本発明者らは光触媒には親水化作用
があることを最近新たに知見した。光触媒粒子の親水化
作用は、その理論的根拠は完全には解明されていない
が、光触媒効果によって水酸基(OH-)が光触媒粒子
表面に化学吸着し、或いは水酸基(OH-)が有機基と
置換し、更にこの水酸基(OH-)に空気中の水分子が
物理吸着し、物理吸着水が増加することによって表面の
親水性が増し、超親水性の表面が実現すると考えてい
る。
On the other hand, the present inventors have recently newly found that the photocatalyst has a hydrophilizing action. Although the theoretical basis for the hydrophilization action of photocatalyst particles has not been completely clarified, hydroxyl groups (OH ) are chemically adsorbed on the surface of photocatalyst particles by the photocatalytic effect, or hydroxyl groups (OH ) are replaced with organic groups. Furthermore, it is considered that the water molecules in the air are physically adsorbed on the hydroxyl group (OH ), and the hydrophilicity of the surface is increased by increasing the physically adsorbed water, so that a superhydrophilic surface is realized.

【0005】具体例として、表面層がSi−O結合を有
するシリコーン樹脂からなる場合を説明すると、光触媒
粒子に光を照射する前は図1(a)に示すように、Si
原子にアルキル基(R)が結合しているため、表面層は
疎水性を示すが、光触媒粒子のバンドギャップエネルギ
よりも高いエネルギの光を照射すると、図1(b)に示
すように、まず光触媒効果によってアルキル基(R)が
水酸基(OH-)に置換(化学吸着)し、更にこの水酸
基(OH-)に空気中の水分子が物理吸着して親水性を
発揮する。
As a specific example, the case where the surface layer is made of a silicone resin having a Si--O bond will be described. Before the photocatalyst particles are irradiated with light, as shown in FIG.
Since the alkyl group (R) is bonded to the atom, the surface layer exhibits hydrophobicity. However, when the surface layer is irradiated with light having an energy higher than the band gap energy of the photocatalyst particles, as shown in FIG. the substitution (chemisorption), further the hydroxyl group - (OH) alkyl group (R) is a hydroxyl group by photocatalytic effect - exhibit hydrophilic water molecules in the air are physically adsorbed (OH).

【0006】また、光触媒粒子として酸化チタン(Ti
2)のみからなる場合を説明すると、光を照射する前
は図2(a)に示す状態であったものが、光を照射する
と、図2(b)に示すように、空気中の水分を構成する
水酸基(OH-)がTi原子に、水素原子(H+)が酸素
原子(O)に化学吸着し、更にこの水酸基(OH-)や
水素原子(H+)に空気中の水分子が物理吸着して親水
性を発揮する。
Further, titanium oxide (Ti
Explaining the case of only O 2 ), the state shown in FIG. 2A before the irradiation with light was changed to the state shown in FIG. 2B when irradiated with the light, as shown in FIG. 2B. The hydroxyl group (OH ) constituting the compound is chemically adsorbed to the T i atom, and the hydrogen atom (H + ) is chemically adsorbed to the oxygen atom (O), and the hydroxyl group (OH ) and the hydrogen atom (H + ) are water in the air. The molecule physically adsorbs and exhibits hydrophilicity.

【0007】上記の説明で、物質の分解作用と親水化作
用とは全く別のものであることが明らかであるが、具体
的事例を示せば、TiO2でもアナターゼ型のTiO2は酸
化還元反応に基づく物質の分解作用を示すがルチル型の
TiO2は殆ど酸化還元反応に基づく物質の分解作用を示
さない。また光触媒のうちでも酸化錫も酸化還元反応に
基づく物質の分解作用を示さない。これらの光触媒粒子
は伝導帯のエネルギ準位が十分に高くないため還元反応
が進行せず、その結果、伝導帯に光励起された電子が過
剰となり、光励起により生じた電子−正孔対が酸化還元
反応に関与せずに再結合するためと考えられている。し
かしながら、これらルチル型TiO2及び酸化錫のいずれ
も親水化作用は示す。また、物質の分解作用を発揮する
には、光触媒層の厚みとして少なくとも100nm以上
必要であったが、親水化作用を発揮するには、数nm以
上あれば可能である。これらの事実から光触媒による物
質の分解作用と親水化作用とは全く別のものであると言
える。
[0007] In the above description, it is apparent that the decomposition and hydrophilization effect of a substance is completely different, if Shimese concrete examples, TiO 2 anatase even TiO 2 oxidation-reduction reaction However, rutile-type TiO 2 shows almost no decomposition action of the substance based on the redox reaction. Also, among the photocatalysts, tin oxide does not show a decomposition effect of a substance based on a redox reaction. In these photocatalyst particles, the energy level of the conduction band is not sufficiently high, so that the reduction reaction does not proceed. As a result, the electrons excited by the photoexcitation in the conduction band become excessive, and the electron-hole pairs generated by the photoexcitation are oxidized and reduced. It is believed that they recombine without participating in the reaction. However, both rutile TiO 2 and tin oxide exhibit a hydrophilizing action. Further, the photocatalytic layer needs to have a thickness of at least 100 nm in order to exhibit the decomposing action of the substance, but it is possible for the photocatalytic layer to exhibit a hydrophilizing action if it has a thickness of several nm or more. From these facts, it can be said that the decomposition action of the substance by the photocatalyst and the hydrophilization action are completely different.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記したように光触媒
には親水化作用があるので、光触媒粒子を含む表面層を
特開平3−106420号に提案されるように網戸等の
フィルター製品を構成する線材(繊維)表面に形成すれ
ば、脱臭効果のみならず、洗剤等を用いなくとも付着し
た汚れを雨水等によって洗い流してしまう自浄効果も発
揮することになる。
As described above, since the photocatalyst has a hydrophilizing action, the surface layer containing the photocatalyst particles constitutes a filter product such as a mesh door as proposed in JP-A-3-106420. If it is formed on the surface of the wire (fiber), not only the deodorizing effect but also the self-cleaning effect that the adhered dirt is washed away by rainwater or the like without using a detergent or the like will be exhibited.

【0009】しかしながら、特開平3−106420号
に提案されるように、線材の表面に光触媒粒子を含む表
面層を直接形成すると、光触媒の酸化還元反応によって
線材自体が腐食したり劣化する虞れがある。また、線材
の表面に光触媒粒子を含む表面層を直接形成した場合に
は、擦り等によって表面層が容易に剥離してしまうおそ
れがある。
However, when a surface layer containing photocatalyst particles is directly formed on the surface of the wire as proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-106420, the wire itself may be corroded or deteriorated by the redox reaction of the photocatalyst. is there. Further, when the surface layer containing photocatalyst particles is directly formed on the surface of the wire, there is a possibility that the surface layer may be easily peeled off due to rubbing or the like.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は上記の知見、即
ち光触媒には親水化作用があり自浄効果を発揮し得ると
いう知見と、従来の問題点に基づいてなしたものであ
り、請求項1(第1発明)に係るフィルター製品は、フ
ィルター製品を構成する線材の表面に、光触媒による酸
化還元反応から線材を保護する保護層を形成し、この保
護層の上に光触媒粒子を含有する親水性の表面層を形成
するようにした。
The present invention has been made on the basis of the above findings, that is, that the photocatalyst has a hydrophilizing action and can exhibit a self-cleaning effect, and the conventional problems. The filter product according to 1 (first invention) has a hydrophilic layer containing a photocatalyst particle formed on the surface of a wire constituting the filter product by forming a protective layer for protecting the wire from a redox reaction by a photocatalyst. To form a permeable surface layer.

【0011】また、請求項3(第2発明)に係るフィル
ター製品は、線材自体に光触媒粒子を含有させるととも
に、光触媒粒子表面に光触媒による酸化還元反応から線
材を保護する保護膜を形成した。この第2発明に係るフ
ィルター製品において、線材の表面をエッチングするこ
とで光触媒粒子を外気に露出せしめれば、更に親水性の
効果が向上する。
In the filter product according to claim 3 (the second invention), the wire itself contains photocatalyst particles, and the surface of the photocatalyst particles is provided with a protective film for protecting the wire from the redox reaction by the photocatalyst. In the filter product according to the second aspect of the present invention, if the photocatalyst particles are exposed to the outside air by etching the surface of the wire rod, the hydrophilic effect is further improved.

【0012】光触媒粒子としては、酸化チタンが最も好
ましいが、この他にも、ZnO、SnO2、SrTiO3、W
3、Bi23、Fe23などの金属酸化物が挙げられ
る。これらは表面に金属元素と酸素が存在するため表面
に水酸基(OH-)を吸着しやすく、したがって親水性
を発揮しやすいと考えられる。尚、酸化チタンについて
はアナターゼ型、ルチル型いずれでもよい。
Titanium oxide is most preferable as the photocatalyst particles, but in addition to this, ZnO, SnO 2 , SrTiO 3 , W
Examples thereof include metal oxides such as O 3 , Bi 2 O 3 , and Fe 2 O 3 . It is considered that, since a metal element and oxygen are present on the surface, a hydroxyl group (OH ) is easily adsorbed on the surface, and therefore, it is easy to exhibit hydrophilicity. The titanium oxide may be either anatase type or rutile type.

【0013】光触媒粒子(チタニア)を含有する親水性
の表面層を形成方法としては、無定形チタニアの形成、
シリカ配合チタニアの塗布、酸化錫配合チタニアの塗
布、チタニア含有シリコーン塗料の塗布等が挙げられ
る。
As a method of forming a hydrophilic surface layer containing photocatalyst particles (titania), formation of amorphous titania,
Examples include application of silica-containing titania, application of tin oxide-containing titania, application of titania-containing silicone paint, and the like.

【0014】無定形チタニアの形成は、先ず被塗装面を
無定形チタニアで被覆し、これを焼成して結晶性チタニ
アに相変化させる方法であり、次のいずれかの方法を採
用することができる。 (1)有機チタン化合物の加水分解と脱水縮重合 チタンのアルコキシド、例えば、テトラエトキシチタ
ン、テトライソプロポキシチタン、テトラn−プロポキ
シチタン、テトラブトキシチタン、テトラメトキシチタ
ン、に塩酸またはエチルアミンのような加水分解抑制剤
を添加し、エタノールやプロパノールのようなアルコー
ルで希釈した後、部分的に加水分解を進行させながら又
は完全に加水分解を進行させた後、混合物をスプレーコ
ーティング、フローコーティング、スピンコーティン
グ、ディップコーティング、ロールコーティングその他
のコーティング法により塗布し、常温から200℃の温
度で乾燥させる。乾燥により、チタンのアルコキシドの
加水分解が完遂して水酸化チタンが生成し、水酸化チタ
ンの脱水縮重合により無定形チタニアの層が形成され
る。チタンのアルコキシドに代えて、チタンのキレート
又はチタンのアセテートのような他の有機チタン化合物
を用いてもよい。 (2)無機チタン化合物による無定形チタニアの形成 無機チタン化合物、例えば、TiCl4またはTi(S
42の酸性水溶液をスプレーコーティング、フローコ
ーティング、スピンコーティング、ディップコーティン
グ、ロールコーティングその他のコーティング法により
塗布し、100〜200℃の温度で乾燥させることによ
り加水分解と脱水縮重合を行い、無定形チタニアの層を
形成する。或いはTiCl4の化学蒸着により被塗装面に
無定形チタニアの層を形成してもよい。 (3)スパッタリングによる無定形チタニアの形成 金属チタンのターゲットに酸化雰囲気で電子ビームを照
射することにより、被塗装面に無定形チタニアの層を形
成する。
The formation of the amorphous titania is a method in which the surface to be coated is first coated with the amorphous titania and then fired to change the phase to crystalline titania, and any of the following methods can be adopted. . (1) Hydrolysis and Dehydration Polycondensation of Organic Titanium Compounds Titanium alkoxides such as tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, tetra n-propoxy titanium, tetrabutoxy titanium, tetramethoxy titanium, and hydrolyzed hydrochloric acid or ethylamine. After adding a decomposition inhibitor and diluting with an alcohol such as ethanol or propanol, the mixture is spray-coated, flow-coated, spin-coated, while the hydrolysis is partially or completely allowed to proceed. It is applied by dip coating, roll coating or other coating method, and dried at room temperature to 200 ° C. By drying, the hydrolysis of the alkoxide of titanium is completed to form titanium hydroxide, and a layer of amorphous titania is formed by dehydration-condensation polymerization of titanium hydroxide. Instead of titanium alkoxide, other organotitanium compounds such as titanium chelate or titanium acetate may be used. (2) Formation of amorphous titania by inorganic titanium compound Inorganic titanium compound such as TiCl 4 or Ti (S
An acidic aqueous solution of O 4 ) 2 is applied by spray coating, flow coating, spin coating, dip coating, roll coating or other coating method, and dried at a temperature of 100 to 200 ° C. to perform hydrolysis and dehydration polycondensation, Form a layer of amorphous titania. Or it may form a layer of amorphous titania on the surface to be coated by chemical vapor deposition of TiCl 4. (3) Formation of amorphous titania by sputtering A target of metal titanium is irradiated with an electron beam in an oxidizing atmosphere to form a layer of amorphous titania on the surface to be coated.

【0015】シリカ配合チタニアの塗布は、チタニアと
シリカとの混合物からなる層を被塗装面に形成すること
である。チタニアとシリカの合計に対するシリカの割合
は、5〜90モル%、好ましくは10〜70モル%、よ
り好ましくは10〜50モル%である。またシリカ配合
チタニアからなる表面層の形成方法には以下の方法を採
用することができる。 (1)アナターゼ型又はルチル型チタニアの粒子とシリ
カの粒子を含む懸濁液を被塗装面に塗布し、基材(被塗
装物)の軟化点以下の温度で焼成する。 (2)無定形シリカの前駆体(例えば、テトラエトキシ
チタン、テトライソプロポキシチタン、テトラn−プロ
ポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラメトキシ
チタン、等のテトラアルコキシシラン)と結晶性チタニ
アゾルとの混合物を基材の表面に塗布し、必要に応じて
加水分解させてシラノールを形成した後、約100℃以
上の温度で加熱してシラノールを脱水縮重合に付すこと
により、チタニアが無定形シリカで結着された表面層
(光触媒コーティング)を得る。特に、シラノールの脱
水縮重合を約200℃以上の温度で行えば、シラノール
の重合度を増し、光触媒コーティングの耐アルカリ性能
を向上させることができる。 (3)無定形チタニアの前駆体(チタンのアルコキシ
ド、キレート又はアセテートのような有機チタン化合
物、又はTiCl4またはTi(SO42のような無機チタ
ン化合物)の溶液にシリカの粒子を分散させてなる懸濁
液を基材の表面に塗布し、チタン化合物を常温から20
0℃の温度で加水分解と脱水縮重合に付すことにより、
シリカ粒子が分散された無定形チタニアの薄膜を形成す
る。次いで、チタニアの結晶化温度以上の温度、且つ基
材の軟化点以下の温度に加熱することにより、無定形チ
タニアを結晶性チタニアに相変化させる。 (4)無定形チタニアの前駆体(チタンのアルコキシ
ド、キレート又はアセテートのような有機チタン化合
物、又はTiCl4またはTi(SO42のような無機チタ
ン化合物)の溶液に無定形シリカの前駆体(例えば、テ
トラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テ
トラn−プロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テ
トラメトキシチタン、等のテトラアルコキシシラン、そ
れらの加水分解物であるシラノール、または平均分子量
3000以下のポリシロキサン)を混合し、基材の表面
に塗布する。次いで、これらの前駆体を加水分解と脱水
縮重合に付すことにより、無定形チタニアと無定形シリ
カの混合物からなる薄膜を形成する。次いで、チタニア
の結晶化温度以上の温度、且つ基材の軟化点以下の温度
に加熱することにより、無定形チタニアを結晶性チタニ
アに相変化させる。
Application of silica-containing titania is to form a layer of a mixture of titania and silica on the surface to be coated. The ratio of silica to the total of titania and silica is 5 to 90 mol%, preferably 10 to 70 mol%, more preferably 10 to 50 mol%. The following method can be employed for forming the surface layer made of silica-containing titania. (1) A suspension containing particles of anatase type or rutile type titania and particles of silica is applied to a surface to be coated, and fired at a temperature equal to or lower than the softening point of the substrate (object to be coated). (2) Based on a mixture of a precursor of amorphous silica (for example, tetraalkoxysilane such as tetraethoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, tetran-propoxytitanium, tetrabutoxytitanium, tetramethoxytitanium, etc.) and crystalline titania sol After applying to the surface of the material and hydrolyzing it as necessary to form silanol, heating at a temperature of about 100 ° C. or more and subjecting the silanol to dehydration polycondensation, the titania is bound with amorphous silica. Obtained surface layer (photocatalytic coating). In particular, if the dehydration condensation polymerization of silanol is performed at a temperature of about 200 ° C. or higher, the degree of polymerization of silanol can be increased, and the alkali resistance performance of the photocatalytic coating can be improved. (3) Dispersing silica particles in a solution of amorphous titania precursor (organic titanium compound such as alkoxide, chelate or acetate of titanium, or inorganic titanium compound such as TiCl 4 or Ti (SO 4 ) 2 ) Is applied to the surface of the base material, and the titanium compound is cooled to room temperature for 20 minutes.
By subjecting it to hydrolysis and dehydration polycondensation at a temperature of 0 ° C.,
A thin film of amorphous titania in which silica particles are dispersed is formed. Next, the amorphous titania is changed into crystalline titania by heating to a temperature higher than the crystallization temperature of titania and lower than the softening point of the substrate. (4) Amorphous titania precursor (organic titanium compound such as alkoxide, chelate or acetate of titanium, or inorganic titanium compound such as TiCl 4 or Ti (SO 4 ) 2 ) in a solution of amorphous titania precursor (For example, tetraalkoxysilanes such as tetraethoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, tetran-propoxytitanium, tetrabutoxytitanium, tetramethoxytitanium, etc., silanols which are hydrolysates thereof, or polysiloxanes having an average molecular weight of 3000 or less) And apply to the surface of the substrate. Then, these precursors are subjected to hydrolysis and dehydration polycondensation to form a thin film composed of a mixture of amorphous titania and amorphous silica. Next, the amorphous titania is changed into crystalline titania by heating to a temperature higher than the crystallization temperature of titania and lower than the softening point of the substrate.

【0016】酸化錫配合チタニアの塗布は、チタニアと
酸化錫との混合物からなる層を被塗装面に形成すること
である。チタニアと酸化錫との合計に対する酸化錫の割
合は、1〜95モル%、好ましくは1〜50モル%であ
る。また酸化錫配合チタニアからなる表面層の形成方法
には以下の方法を採用することができる。 (1)アナターゼ型又はルチル型チタニアの粒子と酸化
錫の粒子を含む懸濁液を被塗装面に塗布し、基材(被塗
装物)の軟化点以下の温度で焼成する。 (2)無定形チタニアの前駆体(チタンのアルコキシ
ド、キレート又はアセテートのような有機チタン化合
物、又はTiCl4またはTi(SO42のような無機チタ
ン化合物)の溶液に酸化錫の粒子を分散させてなる懸濁
液を基材の表面に塗布し、チタン化合物を常温から20
0℃の温度で加水分解と脱水縮重合に付すことにより、
酸化錫粒子が分散された無定形チタニアの薄膜を形成す
る。次いで、チタニアの結晶化温度以上の温度、且つ基
材の軟化点以下の温度に加熱することにより、無定形チ
タニアを結晶性チタニアに相変化させる。
The application of tin oxide-containing titania is to form a layer of a mixture of titania and tin oxide on the surface to be coated. The ratio of tin oxide to the total of titania and tin oxide is 1 to 95 mol%, preferably 1 to 50 mol%. The following method can be adopted as a method for forming a surface layer made of titania mixed with tin oxide. (1) A suspension containing particles of anatase type or rutile type titania and particles of tin oxide is applied to a surface to be coated, and fired at a temperature equal to or lower than the softening point of the substrate (object to be coated). (2) Dispersion of tin oxide particles in a solution of a precursor of amorphous titania (organic titanium compound such as titanium alkoxide, chelate or acetate, or inorganic titanium compound such as TiCl 4 or Ti (SO 4 ) 2 ) The resulting suspension is applied to the surface of the substrate, and the titanium compound is heated to room temperature for 20 minutes.
By subjecting it to hydrolysis and dehydration polycondensation at a temperature of 0 ° C.,
A thin film of amorphous titania in which tin oxide particles are dispersed is formed. Next, the amorphous titania is changed into crystalline titania by heating to a temperature higher than the crystallization temperature of titania and lower than the softening point of the substrate.

【0017】チタニア含有シリコーン塗料の塗布は、未
硬化の若しくは部分的に硬化したシリコーン(オルガノ
ポリシロキサン)またはシリコーンの前駆体からなる塗
膜形成要素にチタニア(光触媒粒子)を分散させた塗料
を用いる。具体的には、上記塗料を基材の表面に塗布
し、塗膜形成要素を硬化させた後、光触媒を光励起する
と、シリコーン分子の珪素原子に結合した有機基は光触
媒の作用により水酸基に置換され、表面が親水化(超親
水化)される。この方法は、比較的低温で塗膜形成要素
を硬化せしめることができ、また必要に応じ何度でも塗
布することができ、且つ太陽光でも容易に親水化せしめ
ることができる等の利点がある。尚、室温程度の低い温
度で硬化する樹脂としては以下のものが挙げられる。メ
チルトリクロルシラン、メチルトリブロムシラン、メチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メ
チルトリイソプロポキシシラン、メチルトリt−ブトキ
シシラン、エチルトリクロルシラン、エチルトリブロム
シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキ
シシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルト
リt−ブトキシシラン、n−プロピルトリクロルシラ
ン、n−プロピルトリブロムシラン、n−プロピルトリ
メトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、n
−プロピルトリイソプロポキシシラン、n−プロピルト
リt−ブトキシシラン、n−ヘキシルトリクロルシラ
ン、n−ヘキシルトリブロムシラン、n−ヘキシルトリ
メトキシシラン、n−ヘキシルトリエトキシシラン、n
−ヘキシルトリイソプロポキシシラン、n−ヘキシルト
リt−ブトキシシラン、n−デシルトリクロルシラン、
n−デシルトリブロムシラン、n−デシルトリメトキシ
シラン、n−デシルトリエトキシシラン、n−デシルト
リイソプロポキシシラン、n−デシルトリt−ブトキシ
シラン、n−オクタデシルトリクロルシラン、n−オク
タデシルトリブロムシラン、n−オクタデシルトリメト
キシシラン、n−オクタデシルトリエトキシシラン、n
−オクタデシルトリイソプロポキシシラン、n−オクタ
デシルトリt−ブトキシシラン、フェニルトリクロルシ
ラン、フェニルトリブロムシラン、フェニルトリメトキ
シシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ
イソプロポキシシラン、フェニルトリt−ブトキシシラ
ン、テトラクロルシラン、テトラブロムシラン、テトラ
メトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプ
ロポキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジ
エトキシシラン、ジメチルジクロルシラン、ジメチルジ
ブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、ジフェニルジクロルシラン、ジフェニ
ルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフ
ェニルジエトキシシラン、フェニルメチルジクロルシラ
ン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジ
メトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、ト
リエトキシヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、ト
リメトキシヒドロシラン、イソプロポキシヒドロシラ
ン、トリt−ブトキシヒドロシラン、ビニルトリクロル
シラン、ビニルトリブロムシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプ
ロポキシシラン、ビニルトリt−ブトキシシラン、トリ
フルオロプロピルトリクロルシラン、トリフルオロプロ
ピルトリブロムシラン、トリフルオロプロピルトリメト
キシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラ
ン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、
トリフルオロプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリイソプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリt−ブトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタアクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプ
ロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタアクリロキ
シプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチル
ジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−ア
ミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメ
チルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリt−ブトキシシラン、
β−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ
トキシシラン、β−(3、4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリエトキシシラン、及びこれらの部分加水
分解物若しくはこれらの混合物を使用することができ
る。シリコーン樹脂膜の良好な硬度と平滑性を確保する
ためには、3次元架橋型シロキサンを10モル%以上含
有させるのが好ましい。更に良好な硬度と平滑性を確保
しながら樹脂膜の十分な可撓性を提供するためには、2
次元架橋型シロキサンを60モル%以下含有させるのが
好ましい。また、シリコーン分子の珪素原子に結合した
有機基が光励起により水酸基に置換される速度を速める
には、シリコーン分子の珪素原子に結合する有機基がn
−プロピル基若しくはフェニル基からなるシリコーンを
使用するのが好ましい。シロキサン結合を有するシリコ
ーンに替えて、シラザン結合を有するオルガノポリシラ
ザン化合物を使用することもできる。
The titania-containing silicone paint is applied by using a paint in which titania (photocatalyst particles) is dispersed in a film-forming element made of uncured or partially cured silicone (organopolysiloxane) or a precursor of silicone. .. Specifically, when the photocatalyst is photoexcited after the above coating material is applied to the surface of the substrate and the coating film forming element is cured, the organic group bonded to the silicon atom of the silicone molecule is replaced with a hydroxyl group by the action of the photocatalyst. , The surface is made hydrophilic (superhydrophilic). This method has the advantages that the film-forming element can be cured at a relatively low temperature, can be applied as many times as necessary, and can be easily hydrophilized even by sunlight. Examples of the resin that cures at a temperature as low as room temperature include the following. Methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltrit-butoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, Ethyltriisopropoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n
-Propyltriisopropoxysilane, n-propyltrit-butoxysilane, n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n
-Hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane, n-decyltrichlorosilane,
n-decyltribromosilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-decyltriisopropoxysilane, n-decyltrit-butoxysilane, n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n
-Octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltrit-butoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltrit-butoxysilane, tetrachloro Silane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldichloro Silane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyl Dibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, triethoxyhydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, isopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyl Triethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltri-t-butoxysilane, trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane ,
Trifluoropropyltri-t-butoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropyltrit-butoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyl Trimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-methacryloxypropyltrit-butoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-ami Nopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltrit-butoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane,
β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, and partial hydrolysates thereof or a mixture thereof can be used. In order to ensure good hardness and smoothness of the silicone resin film, it is preferable to contain 10 mol% or more of the three-dimensional crosslinked siloxane. In order to provide sufficient flexibility of the resin film while ensuring better hardness and smoothness, 2
It is preferable that the dimensional cross-linking siloxane content be 60 mol% or less. Further, in order to accelerate the rate at which the organic group bonded to the silicon atom of the silicone molecule is replaced with the hydroxyl group by photoexcitation, the organic group bonded to the silicon atom of the silicone molecule is n.
It is preferred to use silicones consisting of -propyl or phenyl groups. An organopolysilazane compound having a silazane bond can be used instead of the silicone having a siloxane bond.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。図3は本発明に係るフィルタ
ー製品の一例としての網戸の全体図、図4は同網戸を構
成する線材の拡大図であり、網戸1は枠体2内に縦横に
線材3を張設して構成され、この線材3の表面に保護層
4を形成し、この保護層4の上に光触媒粒子を含有する
親水性の表面層5を形成している。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 3 is an overall view of a screen door as an example of the filter product according to the present invention, and FIG. 4 is an enlarged view of a wire rod that constitutes the screen door. In the screen door 1, a wire rod 3 is stretched vertically and horizontally inside a frame body 2. A protective layer 4 is formed on the surface of the wire 3 and a hydrophilic surface layer 5 containing photocatalyst particles is formed on the protective layer 4.

【0019】前記保護層4は例えばアルミニウム蒸着層
またはアルミニウム粒子を含む層にて構成され、この保
護層4を設けることで、光触媒による酸化還元反応から
線材を保護するようにしている。
The protective layer 4 is composed of, for example, a vapor-deposited aluminum layer or a layer containing aluminum particles. By providing the protective layer 4, the wire is protected from the redox reaction by the photocatalyst.

【0020】前記実施例にあっては、線材3の表面に保
護層4を介して表面層5を形成したが、線材が樹脂等か
らなる場合には、図5(a)に示すように線材3内部に
光触媒粒子6を含有せしめてもよい。この場合には、前
記と同様の理由から光触媒粒子6の表面に保護膜7を形
成して、光触媒による酸化還元反応から線材を保護する
のが好ましい。
In the above embodiment, the surface layer 5 was formed on the surface of the wire 3 with the protective layer 4 interposed therebetween. However, when the wire is made of resin or the like, as shown in FIG. The photocatalyst particles 6 may be contained in the interior of the material 3. In this case, for the same reason as above, it is preferable to form the protective film 7 on the surface of the photocatalyst particles 6 to protect the wire from the redox reaction by the photocatalyst.

【0021】上述したように、保護膜7を形成すると光
触媒粒子6の活性が多少損われる。そこで、図5(b)
に示すように、線材3をエッチングして光触媒粒子6表
面の保護膜7を剥離して外気に光触媒粒子6を露出せし
めるようにしてもよい。
As described above, when the protective film 7 is formed, the activity of the photocatalyst particles 6 is somewhat impaired. Therefore, FIG. 5 (b)
As shown in, the wire 3 may be etched to remove the protective film 7 on the surface of the photocatalyst particles 6 to expose the photocatalyst particles 6 to the outside air.

【0022】(実施例1)ポリエステル製の網を使用し
た市販の網戸表面に酸化チタンゾルを0〜80%の割合
で含有したシリコーン樹脂を塗布して表面層を形成し
た。そして、この表面層に0.5mW/cm2の紫外線
を照射した。結果を以下の(表1)に示す。
(Example 1) A silicone resin containing titanium oxide sol in a proportion of 0 to 80% was applied to the surface of a commercially available screen door using a polyester net to form a surface layer. Then, this surface layer was irradiated with ultraviolet rays of 0.5 mW / cm 2 . The results are shown in (Table 1) below.

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】(実施例2)金属網の網を使用した市販の
網戸表面にスパッタリングにて酸化チタン膜を被着し、
この酸化チタン膜を500℃で焼成して表面層を形成し
た。そして、この表面層に0.5mW/cm2の紫外線
を照射したところ、表面層の水との接触角が3°未満に
なった。
(Example 2) A titanium oxide film was deposited by sputtering on the surface of a commercially available screen door using a metal net.
This titanium oxide film was baked at 500 ° C. to form a surface layer. Then, when the surface layer was irradiated with 0.5 mW / cm 2 of ultraviolet rays, the contact angle of the surface layer with water was less than 3 °.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上に説明した如く本願の第1発明によ
れば、網戸等のフィルター製品を構成する線材の表面
に、光触媒粒子を含有する親水性の表面層を形成するに
あたり、その下地層として光触媒による酸化還元反応か
ら線材を保護する保護層を形成したので、線材の腐食や
劣化を有効に防止することができる。
As described above, according to the first invention of the present application, a base layer for forming a hydrophilic surface layer containing photocatalyst particles on the surface of a wire constituting a filter product such as a screen door. As described above, since the protective layer for protecting the wire from the redox reaction by the photocatalyst is formed, it is possible to effectively prevent the wire from being corroded or deteriorated.

【0026】また、本願の第2発明によれば線材自体に
光触媒粒子を含ませるようにしたので、剥離しにくく、
特に線材自体に光触媒粒子を含ませるにあたって、光触
媒粒子の表面に酸化還元反応から線材を保護する保護膜
を形成したので線材の腐食や劣化を有効に防止でき、し
かも線材表面をアルカリ等でエッチングして光触媒粒子
を外気に露出せしめたので、親水性効果を向上せしめる
ことができる。
Further, according to the second invention of the present application, since the wire rod itself is made to contain the photocatalyst particles, it is difficult to peel off,
Particularly when the photocatalyst particles are included in the wire itself, a protective film is formed on the surface of the photocatalyst particles to protect the wire from oxidation-reduction reaction, so the wire can be effectively prevented from being corroded or deteriorated, and the wire surface can be etched with alkali or the like. Since the photocatalyst particles are exposed to the outside air, the hydrophilic effect can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)は疎水性表面の概念図、(b)は親水性
表面の概念図
1A is a conceptual diagram of a hydrophobic surface, and FIG. 1B is a conceptual diagram of a hydrophilic surface.

【図2】光触媒粒子からなる表面層に親水性が付与され
る過程を説明した図
FIG. 2 is a diagram illustrating a process of imparting hydrophilicity to a surface layer made of photocatalytic particles.

【図3】本発明に係るフィルター製品の一例としての網
戸の全体図
FIG. 3 is an overall view of a screen door as an example of a filter product according to the present invention.

【図4】同網戸を構成する線材の拡大図FIG. 4 is an enlarged view of the wire rods that make up the screen door.

【図5】(a)は線材をエッチングする前の状態を示す
断面図、(b)線材をエッチングした後の状態を示す断
面図
5A is a cross-sectional view showing a state before etching the wire rod, and FIG. 5B is a cross-sectional view showing a state after etching the wire rod.

【符号の説明】 1…網戸、2…枠体、3…線材、4…保護層、5…表面
層、6…光触媒粒子、7…保護膜。
[Explanation of reference numerals] 1 ... screen door, 2 ... frame, 3 ... wire rod, 4 ... protective layer, 5 ... surface layer, 6 ... photocatalyst particles, 7 ... protective film.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡部 俊也 福岡県北九州市小倉北区中島2丁目1番1 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 千国 真 福岡県北九州市小倉北区中島2丁目1番1 号 東陶機器株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Toshiya Watanabe 2-1, 1-1 Nakajima, Kokurakita-ku, Kitakyushu, Fukuoka Prefecture Totoki Kikai Co., Ltd. (72) Inventor Makoto Senkuni, Nakajima, Kokurakita-ku, Kitakyushu, Fukuoka 2-1, 1-1 Totoki Equipment Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 線材間に形成した隙間によって所定の大
きさ以下の物体のみの透過を許容するようにしたフィル
ター製品において、前記線材の表面には光触媒による酸
化還元反応から線材を保護する保護層を介して、光触媒
粒子を含有する親水性の表面層が形成されていることを
特徴とするフィルター製品。
1. A filter product in which only an object having a size smaller than a predetermined size is allowed to pass through a gap formed between the wire rods, and a protective layer for protecting the wire rods from a redox reaction by a photocatalyst on the surface of the wire rods. A filter product, wherein a hydrophilic surface layer containing photocatalyst particles is formed via the.
【請求項2】 請求項1に記載のフィルター製品におい
て、前記光触媒粒子を含有する親水性の表面層は、光触
媒粒子を含有するシリコーン樹脂層の形成、チタン化合
物の加水分解と脱水縮重合による無定形シリカ層の形成
或いはスパッタリングによる無定形チタニア層の形成に
よって得られることを特徴とするフィルター製品。
2. The filter product according to claim 1, wherein the hydrophilic surface layer containing the photocatalyst particles is formed by forming a silicone resin layer containing the photocatalyst particles, hydrolysis of the titanium compound and dehydration condensation polymerization. A filter product obtained by forming a regular silica layer or forming an amorphous titania layer by sputtering.
【請求項3】 線材間に形成した隙間によって所定の大
きさ以下の物体のみの透過を許容するようにしたフィル
ター製品において、前記線材自体に光触媒粒子を含有さ
せるとともに、光触媒粒子表面には光触媒による酸化還
元反応から線材を保護する保護膜が形成されていること
を特徴とするフィルター製品。
3. A filter product in which only an object having a size smaller than a predetermined size is allowed to pass through a gap formed between the wire rods, wherein the wire rods themselves contain photocatalyst particles, and the photocatalyst particles have a photocatalyst surface. A filter product having a protective film formed thereon for protecting the wire from the redox reaction.
【請求項4】 請求項3に記載のフィルター製品におい
て、前記線材の表面にはエッチングによって光触媒粒子
が外気に露出していることを特徴とするフィルター製
品。
4. The filter product according to claim 3, wherein photocatalyst particles are exposed to the outside air by etching on the surface of the wire.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10211406A (en) * 1996-09-30 1998-08-11 Takashi Ono Air filter device
US6113861A (en) * 1996-07-02 2000-09-05 Tao, Inc. Photocatalyst sheet
JP2002266234A (en) * 2001-03-08 2002-09-18 Kazariichi:Kk Vegetable fiber processed product supporting fine particle having degrading ability for organic compound
CN100455926C (en) * 2005-10-14 2009-01-28 日立空调·家用电器株式会社 Pre-filter for air conditioner and air conditioner using the same

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