JPH097534A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
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- JPH097534A JPH097534A JP7174369A JP17436995A JPH097534A JP H097534 A JPH097534 A JP H097534A JP 7174369 A JP7174369 A JP 7174369A JP 17436995 A JP17436995 A JP 17436995A JP H097534 A JPH097534 A JP H097534A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線の減衰が少なく、軟Ｘ線にも使用でき、
気密性が優れ、しかも強度が十分なＸ線取出し用窓を有
するＸ線発生装置を提供する。 【構成】 電子銃２内のフィラメント８から放出される
電子をロータターゲット３に衝突させてＸ線焦点Ｆを形
成し、そのＸ線焦点ＦからＸ線を放射し、放射されたＸ
線をＸ線取出し用窓１６を通して外部へ取り出す。Ｘ線
取出し用窓１６に関しては、Ｘ線が通過する中心部のＸ
線通過部の厚さが１０μｍ〜５０μｍ程度に薄く形成さ
れるので該部を通過するＸ線の減衰を抑えることがで
る。一方、そのまわりのリング状の周辺部の厚さは０．
４ｍｍ程度に厚く形成されるので、十分な機械的強度を
得ることができ、固定用フランジ２２の内周面全域にロ
ー付け等によって正確に固着できる。
気密性が優れ、しかも強度が十分なＸ線取出し用窓を有
するＸ線発生装置を提供する。 【構成】 電子銃２内のフィラメント８から放出される
電子をロータターゲット３に衝突させてＸ線焦点Ｆを形
成し、そのＸ線焦点ＦからＸ線を放射し、放射されたＸ
線をＸ線取出し用窓１６を通して外部へ取り出す。Ｘ線
取出し用窓１６に関しては、Ｘ線が通過する中心部のＸ
線通過部の厚さが１０μｍ〜５０μｍ程度に薄く形成さ
れるので該部を通過するＸ線の減衰を抑えることがで
る。一方、そのまわりのリング状の周辺部の厚さは０．
４ｍｍ程度に厚く形成されるので、十分な機械的強度を
得ることができ、固定用フランジ２２の内周面全域にロ
ー付け等によって正確に固着できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フィラメントから放出
された電子をターゲットに衝突させてそこからＸ線を発
生するＸ線発生装置に関する。
された電子をターゲットに衝突させてそこからＸ線を発
生するＸ線発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】上記のようなＸ線発生装置は、Ｘ線回折
装置その他のＸ線利用機器のためのＸ線源として用いら
れる。このＸ線発生装置では、ケーシング内部に格納さ
れたフィラメント及びターゲットの周囲を真空にした状
態でターゲットから発生するＸ線をベリリウム等の金属
によって形成されたＸ線取出し用窓を通して外部へ取り
出すようになっている。この形式のＸ線発生装置では、
従来、０．１ｍｍ〜０．４ｍｍ程度の一様な厚さのベリ
リウム板によってＸ線取出し用窓を形成するのが一般的
であった。
装置その他のＸ線利用機器のためのＸ線源として用いら
れる。このＸ線発生装置では、ケーシング内部に格納さ
れたフィラメント及びターゲットの周囲を真空にした状
態でターゲットから発生するＸ線をベリリウム等の金属
によって形成されたＸ線取出し用窓を通して外部へ取り
出すようになっている。この形式のＸ線発生装置では、
従来、０．１ｍｍ〜０．４ｍｍ程度の一様な厚さのベリ
リウム板によってＸ線取出し用窓を形成するのが一般的
であった。
【０００３】ベリリウム板の厚さを０．１ｍｍ〜０．４
ｍｍ程度に設定するのは、主に、以下の理由による。ま
ず、０．４ｍｍ以上にすると外部へ取り出すことのでき
るＸ線の強度が著しく減衰するからである。特に、ター
ゲットから波長の長い軟Ｘ線を発生させてそれをＸ線取
出し用窓から取り出す場合には、そのＸ線の減衰が特に
顕著である。また、ベリリウム板は、通常、ロー付け等
によって固定用フランジに取り付けられ、さらにその固
定用フランジがＸ線発生装置のケーシングに固定され
る。ベリリウム板の厚さを０．１ｍｍ以上に設定するの
は、ベリリウム板の厚さを０．１ｍｍ以下にすると、そ
れをロー付け等によってフランジに固着するとき、ベリ
リウム板が薄過ぎてロー付け等が正常に行われず、その
結果、ケーシング内部を真空に保持することに関して不
良が発生するおそれが高いからである。
ｍｍ程度に設定するのは、主に、以下の理由による。ま
ず、０．４ｍｍ以上にすると外部へ取り出すことのでき
るＸ線の強度が著しく減衰するからである。特に、ター
ゲットから波長の長い軟Ｘ線を発生させてそれをＸ線取
出し用窓から取り出す場合には、そのＸ線の減衰が特に
顕著である。また、ベリリウム板は、通常、ロー付け等
によって固定用フランジに取り付けられ、さらにその固
定用フランジがＸ線発生装置のケーシングに固定され
る。ベリリウム板の厚さを０．１ｍｍ以上に設定するの
は、ベリリウム板の厚さを０．１ｍｍ以下にすると、そ
れをロー付け等によってフランジに固着するとき、ベリ
リウム板が薄過ぎてロー付け等が正常に行われず、その
結果、ケーシング内部を真空に保持することに関して不
良が発生するおそれが高いからである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】以上のように従来のＸ
線発生装置では、Ｘ線強度の面から見ればベリリウム板
等の厚さをできる限り薄くしたいのであるが、機械的強
度の面から見ればそのように薄くすることに関して限界
があった。本発明は、その問題点を解消するためになさ
れたものであって、Ｘ線取出し用窓を通過するＸ線の減
衰を低減でき、しかもＸ線取出し用窓に関して高い機械
的強度を獲得できるＸ線発生装置を提供することを目的
とする。
線発生装置では、Ｘ線強度の面から見ればベリリウム板
等の厚さをできる限り薄くしたいのであるが、機械的強
度の面から見ればそのように薄くすることに関して限界
があった。本発明は、その問題点を解消するためになさ
れたものであって、Ｘ線取出し用窓を通過するＸ線の減
衰を低減でき、しかもＸ線取出し用窓に関して高い機械
的強度を獲得できるＸ線発生装置を提供することを目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線発生装置は、電子を放出するフィ
ラメントと、該フィラメントに対向して配置されたター
ゲットと、上記フィラメント及び上記ターゲットを気密
に格納するケーシングと、上記ケーシングの適所に設け
られたＸ線取出し用窓とを有するＸ線発生装置におい
て、上記Ｘ線取出し用窓は、Ｘ線が通過するＸ線通過部
の厚さが薄くその周辺部が厚く形成されることを特徴と
する。例えば、Ｘ線通過部は５０μｍ以下、望ましくは
１０μｍ〜５０μｍの厚さに設定され、そして周辺部は
それよりも厚く、例えば０．４ｍｍ程度に設定される。
め、本発明に係るＸ線発生装置は、電子を放出するフィ
ラメントと、該フィラメントに対向して配置されたター
ゲットと、上記フィラメント及び上記ターゲットを気密
に格納するケーシングと、上記ケーシングの適所に設け
られたＸ線取出し用窓とを有するＸ線発生装置におい
て、上記Ｘ線取出し用窓は、Ｘ線が通過するＸ線通過部
の厚さが薄くその周辺部が厚く形成されることを特徴と
する。例えば、Ｘ線通過部は５０μｍ以下、望ましくは
１０μｍ〜５０μｍの厚さに設定され、そして周辺部は
それよりも厚く、例えば０．４ｍｍ程度に設定される。
【０００６】一般に、Ｘ線発生装置のターゲット３から
は、図８に示すように、ラインフォーカスのＸ線ＲL 及
びポイントフォーカスのＸ線ＲP の２種類のＸ線を取り
出すことができる。ターゲット３からラインフォーカス
のＸ線ＲL を取り出す場合には、Ｘ線取出し用窓のＸ線
通過部は該部を通過するＸ線の断面形状に合わせて長方
形状に形成することが望ましい。また、この場合のＸ線
通過部の面積はラインフォーカスのＸ線ＲL の断面形状
の面積よりも少し広い面積に設定される。また、ターゲ
ット３からポイントフォーカスのＸ線ＲP を取り出す場
合には、Ｘ線取出し用窓のＸ線通過部は該部を通過する
Ｘ線の断面形状に合わせて円形状又は正方形状に形成す
るのが望ましい。またこの場合にも、Ｘ線通過部の面積
はＸ線の断面形状の面積よりも少し広い面積に設定され
る。
は、図８に示すように、ラインフォーカスのＸ線ＲL 及
びポイントフォーカスのＸ線ＲP の２種類のＸ線を取り
出すことができる。ターゲット３からラインフォーカス
のＸ線ＲL を取り出す場合には、Ｘ線取出し用窓のＸ線
通過部は該部を通過するＸ線の断面形状に合わせて長方
形状に形成することが望ましい。また、この場合のＸ線
通過部の面積はラインフォーカスのＸ線ＲL の断面形状
の面積よりも少し広い面積に設定される。また、ターゲ
ット３からポイントフォーカスのＸ線ＲP を取り出す場
合には、Ｘ線取出し用窓のＸ線通過部は該部を通過する
Ｘ線の断面形状に合わせて円形状又は正方形状に形成す
るのが望ましい。またこの場合にも、Ｘ線通過部の面積
はＸ線の断面形状の面積よりも少し広い面積に設定され
る。
【０００７】本発明に係るＸ線取出し用窓は、軟Ｘ線を
発生するＸ線発生装置に適用する場合に、Ｘ線強度の減
衰を低減する上で特に有利である。軟Ｘ線というのは、
長い波長、例えば８Å〜４４Å程度の波長を有するＸ線
のことである。８Å近傍の波長のＸ線は、例えば、アル
ミニウム（Ａｌ）製のターゲットに比較的低電圧の管電
圧、例えば２０ｋｖ程度の管電圧を印加することによっ
て作ることができる。また、４４Å近傍の波長のＸ線
は、例えば炭素（Ｃ）製のターゲットに２０ｋｖ程度の
管電圧を印加することによって作ることができる。
発生するＸ線発生装置に適用する場合に、Ｘ線強度の減
衰を低減する上で特に有利である。軟Ｘ線というのは、
長い波長、例えば８Å〜４４Å程度の波長を有するＸ線
のことである。８Å近傍の波長のＸ線は、例えば、アル
ミニウム（Ａｌ）製のターゲットに比較的低電圧の管電
圧、例えば２０ｋｖ程度の管電圧を印加することによっ
て作ることができる。また、４４Å近傍の波長のＸ線
は、例えば炭素（Ｃ）製のターゲットに２０ｋｖ程度の
管電圧を印加することによって作ることができる。
【０００８】本発明に係るＸ線取出し用窓は、例えば、
ベリリウムを蒸発物とする真空蒸着法によって形成でき
るが、そのＸ線取出し用窓のＸ線通過部の厚さを薄く形
成し、さらにその周辺部を厚く形成するためには、例え
ば、次のような方法が考えられる。図９に示すように、
真空排気された蒸発槽５１の内部でルツボ５３内に収納
されたベリリウムＢｅを蒸発させ、ヒータ５４によって
加熱される基板５２にその蒸気流を吹き付けて、その基
板５２上にＸ線通過部の厚さに相当する薄い厚さのベリ
リウム板を形成する。その後、Ｘ線通過部の形状に合致
するマスクを基板５２の中央部に配置した上でさらにベ
リリウムを吹き付けて、厚さの厚い周辺部を積層し、そ
の後、ベリリウム板を基板５２から取り外す。但し、こ
れ以外の任意の製法を用いても良い。
ベリリウムを蒸発物とする真空蒸着法によって形成でき
るが、そのＸ線取出し用窓のＸ線通過部の厚さを薄く形
成し、さらにその周辺部を厚く形成するためには、例え
ば、次のような方法が考えられる。図９に示すように、
真空排気された蒸発槽５１の内部でルツボ５３内に収納
されたベリリウムＢｅを蒸発させ、ヒータ５４によって
加熱される基板５２にその蒸気流を吹き付けて、その基
板５２上にＸ線通過部の厚さに相当する薄い厚さのベリ
リウム板を形成する。その後、Ｘ線通過部の形状に合致
するマスクを基板５２の中央部に配置した上でさらにベ
リリウムを吹き付けて、厚さの厚い周辺部を積層し、そ
の後、ベリリウム板を基板５２から取り外す。但し、こ
れ以外の任意の製法を用いても良い。
【０００９】
【作用】フィラメントから放出される電子は高速でター
ゲットに衝突し、そのターゲットからＸ線が発生し、発
生したそのＸ線がＸ線取出し用窓から外部へ取り出され
る。Ｘ線取出し用窓のＸ線通過部分の厚さは薄く形成さ
れるので、その部分を通過するＸ線の減衰は低減されて
強度の高いＸ線を外部へ取り出すことができる。また、
Ｘ線取出し用窓の周辺部分の厚さは厚く形成されるの
で、Ｘ線取出し用窓に高い機械的強度を付与できる。こ
のため、Ｘ線取出し用窓の固定用フランジへのロー付け
を全周にわたって確実に行うことができ、その結果、フ
ィラメント及びターゲットを格納したケーシング内を真
空状態に排気するときの真空不良の発生を確実に防止で
きる。
ゲットに衝突し、そのターゲットからＸ線が発生し、発
生したそのＸ線がＸ線取出し用窓から外部へ取り出され
る。Ｘ線取出し用窓のＸ線通過部分の厚さは薄く形成さ
れるので、その部分を通過するＸ線の減衰は低減されて
強度の高いＸ線を外部へ取り出すことができる。また、
Ｘ線取出し用窓の周辺部分の厚さは厚く形成されるの
で、Ｘ線取出し用窓に高い機械的強度を付与できる。こ
のため、Ｘ線取出し用窓の固定用フランジへのロー付け
を全周にわたって確実に行うことができ、その結果、フ
ィラメント及びターゲットを格納したケーシング内を真
空状態に排気するときの真空不良の発生を確実に防止で
きる。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明に係るＸ線発生装置の一実施
例を示している。このＸ線発生装置は、テーブル５の上
に固定されたケーシング１を有している。テーブル５の
上にはＸ線回折装置等といったＸ線利用機器（図示せ
ず）が設置される。ケーシング１の内部の上側部分に
は、電子銃２及びそれに対向する円筒形状のロータター
ゲット３が格納されている。電子銃２は、図２に示すよ
うに、直方体形状のケース１３内に配置されたフィラメ
ント８と、そのフィラメント８を取り囲むウエネルト１
４とを有している。フィラメント８の両端はケース１３
の下方外部へ突出する電極端子１５に接続されている。
図１において、電子銃２は、その内部のフィラメント８
がターゲット３に対向するように配置される。波長の長
い軟Ｘ線を発生するためにはターゲツト３の材質にアル
ミニウム（Ａｌ）や炭素（Ｃ）を使用し、波長の短い硬
Ｘ線を発生するためには銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍ
ｏ）等が使用される。
例を示している。このＸ線発生装置は、テーブル５の上
に固定されたケーシング１を有している。テーブル５の
上にはＸ線回折装置等といったＸ線利用機器（図示せ
ず）が設置される。ケーシング１の内部の上側部分に
は、電子銃２及びそれに対向する円筒形状のロータター
ゲット３が格納されている。電子銃２は、図２に示すよ
うに、直方体形状のケース１３内に配置されたフィラメ
ント８と、そのフィラメント８を取り囲むウエネルト１
４とを有している。フィラメント８の両端はケース１３
の下方外部へ突出する電極端子１５に接続されている。
図１において、電子銃２は、その内部のフィラメント８
がターゲット３に対向するように配置される。波長の長
い軟Ｘ線を発生するためにはターゲツト３の材質にアル
ミニウム（Ａｌ）や炭素（Ｃ）を使用し、波長の短い硬
Ｘ線を発生するためには銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍ
ｏ）等が使用される。
【００１１】ターゲット３はターゲット本体部分７によ
って支持されており、そのターゲット本体部分７はケー
シング１の一側面である部品装着面１ｃに固定され、そ
の側面を貫通している。ターゲット本体部分７の内部に
は、ターゲット３を回転駆動するための回転駆動装置、
例えばダイレクトモータ及びターゲット３の内部に冷却
水を循環して通水させるための通水機構が格納される。
ターゲット３は、その回転駆動装置によって駆動されて
中心軸線Ｌ１を中心として矢印Ａのように回転する。
って支持されており、そのターゲット本体部分７はケー
シング１の一側面である部品装着面１ｃに固定され、そ
の側面を貫通している。ターゲット本体部分７の内部に
は、ターゲット３を回転駆動するための回転駆動装置、
例えばダイレクトモータ及びターゲット３の内部に冷却
水を循環して通水させるための通水機構が格納される。
ターゲット３は、その回転駆動装置によって駆動されて
中心軸線Ｌ１を中心として矢印Ａのように回転する。
【００１２】ターゲット３とテーブル５との間のケーシ
ング１の側面には電力導入端子４が固定される。この電
力導入端子４を介してフィラメント８、ウエネルト１
４、ターゲット３へ電力が供給される。具体的には、フ
ィラメント８を加熱してそこから電子を放出するために
そのフィラメント８に電流が供給され、フィラメント８
のまわりに電場を形成して電子の進行方向を制御するた
めにフィラメント８とウエネルト１４との間にバイアス
電圧を印加し、さらに、放出された電子を加速するため
にフィラメント８とターゲット３との間に管電圧を印加
する。軟Ｘ線を発生する際には管電圧として２０ｋｖ以
下を印加し、硬Ｘ線を発生する際には管電圧として６０
ｋｖ程度を印加する。
ング１の側面には電力導入端子４が固定される。この電
力導入端子４を介してフィラメント８、ウエネルト１
４、ターゲット３へ電力が供給される。具体的には、フ
ィラメント８を加熱してそこから電子を放出するために
そのフィラメント８に電流が供給され、フィラメント８
のまわりに電場を形成して電子の進行方向を制御するた
めにフィラメント８とウエネルト１４との間にバイアス
電圧を印加し、さらに、放出された電子を加速するため
にフィラメント８とターゲット３との間に管電圧を印加
する。軟Ｘ線を発生する際には管電圧として２０ｋｖ以
下を印加し、硬Ｘ線を発生する際には管電圧として６０
ｋｖ程度を印加する。
【００１３】テーブル５の下方位置においてケーシング
１の底部に排気ポンプ６が取り付られている。この排気
ポンプ６を作動することにより、ケーシング１の内部、
従って電子銃２及びターゲット３のまわりを真空状態に
排気する。このように真空状態に設定するのは、ケーシ
ング内で放電が発生するのを防止するため、フィラメン
ト８が酸化するのを防止するため、さらに、できるだけ
低いフィラメント温度でフィラメントから電子を十分に
放出できるようにするため等の理由による。
１の底部に排気ポンプ６が取り付られている。この排気
ポンプ６を作動することにより、ケーシング１の内部、
従って電子銃２及びターゲット３のまわりを真空状態に
排気する。このように真空状態に設定するのは、ケーシ
ング内で放電が発生するのを防止するため、フィラメン
ト８が酸化するのを防止するため、さらに、できるだけ
低いフィラメント温度でフィラメントから電子を十分に
放出できるようにするため等の理由による。
【００１４】ケーシング１の上部の両側面には、図３に
示すように、それぞれ１個づつ合計で２個のＸ線取出し
用窓１６，１６が互いに対向して配設されている。これ
らのＸ線取出し用窓１６は、図４及び図５に示すよう
に、Ｘ線が通過する部分であって円形状のＸ線通過部２
０と、その周辺に位置するリング状の周辺部２１とによ
って構成されている。Ｘ線通過部２０の厚さｔ１は１０
μｍ〜５０μｍに設定され、周辺部２１の厚さｔ２は約
０．４ｍｍに設定される。これらのＸ線取出し用窓１６
はベリリウムによって形成されるが、その理由は、ベリ
リウムは原子番号が４と小さいので、他の材料、例えば
アルミニウム、チタン、鉄等に比べて圧倒的にＸ線の透
過率が高く、しかも軽く、強度も高いという利点を持っ
ているからである。
示すように、それぞれ１個づつ合計で２個のＸ線取出し
用窓１６，１６が互いに対向して配設されている。これ
らのＸ線取出し用窓１６は、図４及び図５に示すよう
に、Ｘ線が通過する部分であって円形状のＸ線通過部２
０と、その周辺に位置するリング状の周辺部２１とによ
って構成されている。Ｘ線通過部２０の厚さｔ１は１０
μｍ〜５０μｍに設定され、周辺部２１の厚さｔ２は約
０．４ｍｍに設定される。これらのＸ線取出し用窓１６
はベリリウムによって形成されるが、その理由は、ベリ
リウムは原子番号が４と小さいので、他の材料、例えば
アルミニウム、チタン、鉄等に比べて圧倒的にＸ線の透
過率が高く、しかも軽く、強度も高いという利点を持っ
ているからである。
【００１５】Ｘ線取出し用窓１６は、ステンレス製でリ
ング状の固定用フランジ２２の内周面にロー付けＱによ
って気密に固着される。こうして形成された窓ユニット
は、図３に示すように、固定用フランジ２２をケーシン
グ１の凹部に嵌合させた状態で押えリング２３をボルト
２４によってケーシング１に締め付けることによってケ
ーシング１の所定位置に気密に固定される。
ング状の固定用フランジ２２の内周面にロー付けＱによ
って気密に固着される。こうして形成された窓ユニット
は、図３に示すように、固定用フランジ２２をケーシン
グ１の凹部に嵌合させた状態で押えリング２３をボルト
２４によってケーシング１に締め付けることによってケ
ーシング１の所定位置に気密に固定される。
【００１６】本実施例のＸ線発生装置は以上のように構
成されているので、図２に示すフィラメント８が通電に
よって発熱して電子を放出すると、その電子はウエネル
ト１４によって形成された電場によって進行方向が制御
され、さらにフィラメント８とターゲット３（図３）と
の間に印加された管電圧によって高速に加速された状態
でターゲット３の外周側面に衝突して長方形状のＸ線焦
点Ｆを形成し、そのＸ線焦点ＦからＸ線が放射される。
放射されたＸ線は各Ｘ線取出し用窓１６を通してライン
フォーカスのＸ線として外部へ取り出される。
成されているので、図２に示すフィラメント８が通電に
よって発熱して電子を放出すると、その電子はウエネル
ト１４によって形成された電場によって進行方向が制御
され、さらにフィラメント８とターゲット３（図３）と
の間に印加された管電圧によって高速に加速された状態
でターゲット３の外周側面に衝突して長方形状のＸ線焦
点Ｆを形成し、そのＸ線焦点ＦからＸ線が放射される。
放射されたＸ線は各Ｘ線取出し用窓１６を通してライン
フォーカスのＸ線として外部へ取り出される。
【００１７】ラインフォーカスのＸ線は、図８に示すよ
うに、Ｘ線取出し用窓１６から見て、長さ（Ｌ）×幅
（Ｗ）の断面長方形状を有している。図４に示すよう
に、Ｘ線取出し用窓１６のＸ線通過部２０は、そこを通
過するＸ線の断面形状よりも少し広い面積の円形状に形
成されている。例えば、図８に示すようにターゲット３
上に０．５ｍｍ×１０ｍｍの大きさのＸ線焦点Ｆを形成
し、そのＸ線焦点Ｆから取出し角度α＝６゜でＸ線を取
り出すものとすると、Ｘ線の断面寸法は、長さＬが１０
ｍｍで幅Ｗが約０．０５ｍｍとなる。よって図４におい
て、Ｘ線取出し用窓１６のＸ線通過部２０の寸法はそれ
らＬ及びＷの寸法に応じて決められる。
うに、Ｘ線取出し用窓１６から見て、長さ（Ｌ）×幅
（Ｗ）の断面長方形状を有している。図４に示すよう
に、Ｘ線取出し用窓１６のＸ線通過部２０は、そこを通
過するＸ線の断面形状よりも少し広い面積の円形状に形
成されている。例えば、図８に示すようにターゲット３
上に０．５ｍｍ×１０ｍｍの大きさのＸ線焦点Ｆを形成
し、そのＸ線焦点Ｆから取出し角度α＝６゜でＸ線を取
り出すものとすると、Ｘ線の断面寸法は、長さＬが１０
ｍｍで幅Ｗが約０．０５ｍｍとなる。よって図４におい
て、Ｘ線取出し用窓１６のＸ線通過部２０の寸法はそれ
らＬ及びＷの寸法に応じて決められる。
【００１８】このように形成されたＸ線取り出し用窓１
６に関しては、Ｘ線が通過するＸ線通過部２０が１０μ
ｍ〜５０μｍの薄い厚さに形成されるので、軟Ｘ線と呼
ばれる波長が８Å〜４４Åの減衰し易いＸ線でもそれを
減衰させることなく通過させることができる。よって、
強度の強いＸ線を得ることができる。また、Ｘ線通過部
２０のまわりの周辺部２１の厚さは厚く形成されるの
で、十分な機械的強度が得られ、よって、図４において
その周辺を固定用フランジ２２の内周面にロー付けする
とき、その全周をフランジ２２に確実に気密に固着でき
る。よって、図３においてケーシング１の内部を真空状
態に排気したとき、空気漏れを確実に防止して高精度の
真空状態を得ることができる。
６に関しては、Ｘ線が通過するＸ線通過部２０が１０μ
ｍ〜５０μｍの薄い厚さに形成されるので、軟Ｘ線と呼
ばれる波長が８Å〜４４Åの減衰し易いＸ線でもそれを
減衰させることなく通過させることができる。よって、
強度の強いＸ線を得ることができる。また、Ｘ線通過部
２０のまわりの周辺部２１の厚さは厚く形成されるの
で、十分な機械的強度が得られ、よって、図４において
その周辺を固定用フランジ２２の内周面にロー付けする
とき、その全周をフランジ２２に確実に気密に固着でき
る。よって、図３においてケーシング１の内部を真空状
態に排気したとき、空気漏れを確実に防止して高精度の
真空状態を得ることができる。
【００１９】図６は、Ｘ線取出し用窓の改変例を示して
いる。ここに示したＸ線取出し用窓２６がロー付けＱに
よってリング状のフランジ２２に固着されることは図４
の実施例の場合と同じである。しかしながらこのＸ線取
出し用窓２６では、Ｘ線通過部３０の形状が、該部を通
過するラインフォーカスのＸ線の断面形状Ｄ１よりも少
し面積の広い長方形状に形成されている。この実施例に
よれば、厚さの薄いＸ線通過部３０の面積が、図４の実
施例の場合のＸ線通過部２０に比べて小さくなり、その
分だけ厚さの厚い周辺部３１の面積が大きくなるので、
Ｘ線取出し用窓の全体の機械的強度が向上する。
いる。ここに示したＸ線取出し用窓２６がロー付けＱに
よってリング状のフランジ２２に固着されることは図４
の実施例の場合と同じである。しかしながらこのＸ線取
出し用窓２６では、Ｘ線通過部３０の形状が、該部を通
過するラインフォーカスのＸ線の断面形状Ｄ１よりも少
し面積の広い長方形状に形成されている。この実施例に
よれば、厚さの薄いＸ線通過部３０の面積が、図４の実
施例の場合のＸ線通過部２０に比べて小さくなり、その
分だけ厚さの厚い周辺部３１の面積が大きくなるので、
Ｘ線取出し用窓の全体の機械的強度が向上する。
【００２０】図７は、Ｘ線取出し用窓のさらに別の改変
例を示している。ここに示したＸ線取出し用窓３６で
は、Ｘ線通過部４０の形状が、該部を通過するポイント
フォーカスのＸ線の断面形状Ｄ２よりも少し面積の広い
正方形状に形成されている。符号４１は周辺部を示して
いる。ポイントフォーカスのＸ線を使用するこの実施例
では、Ｘ線通過部４０の形状をＸ線断面の対角線よりも
少し大きな直径を有する円形状にすることもできる。
例を示している。ここに示したＸ線取出し用窓３６で
は、Ｘ線通過部４０の形状が、該部を通過するポイント
フォーカスのＸ線の断面形状Ｄ２よりも少し面積の広い
正方形状に形成されている。符号４１は周辺部を示して
いる。ポイントフォーカスのＸ線を使用するこの実施例
では、Ｘ線通過部４０の形状をＸ線断面の対角線よりも
少し大きな直径を有する円形状にすることもできる。
【００２１】以上、好ましい実施例を挙げて本発明を説
明したが、本発明はそれらの実施例に限定されるもので
はなく、特許請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々
に改変できる。例えば、本発明を適用できるＸ線発生装
置の全体的な構成は、図１に示した構成に限られるもの
でなく、種々の形式のＸ線発生装置に適用できる。
明したが、本発明はそれらの実施例に限定されるもので
はなく、特許請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々
に改変できる。例えば、本発明を適用できるＸ線発生装
置の全体的な構成は、図１に示した構成に限られるもの
でなく、種々の形式のＸ線発生装置に適用できる。
【００２２】
【発明の効果】請求項１記載のＸ線発生装置によれば、
Ｘ線取出し用窓のうちＸ線が通過する部分であるＸ線通
過部の厚さを薄く形成したので、ターゲットで発生した
Ｘ線をその強度を大きく減衰させることなく外部に取り
出すことができる。特に、波長が長くて減衰し易い軟Ｘ
線を使用する場合に有効である。しかも、Ｘ線通過部の
まわりの周囲部の厚さを厚く形成したので、Ｘ線取出し
用窓に関して十分な機械的強度が得られる。その結果、
そのＸ線取出し用窓を固定用フランジにロー付けする
際、Ｘ線取出し用窓の外周全域を確実にロー付けでき、
よって、Ｘ線発生装置の内部を真空状態に保持すること
に関して不良が発生することがほとんどなくなる。
Ｘ線取出し用窓のうちＸ線が通過する部分であるＸ線通
過部の厚さを薄く形成したので、ターゲットで発生した
Ｘ線をその強度を大きく減衰させることなく外部に取り
出すことができる。特に、波長が長くて減衰し易い軟Ｘ
線を使用する場合に有効である。しかも、Ｘ線通過部の
まわりの周囲部の厚さを厚く形成したので、Ｘ線取出し
用窓に関して十分な機械的強度が得られる。その結果、
そのＸ線取出し用窓を固定用フランジにロー付けする
際、Ｘ線取出し用窓の外周全域を確実にロー付けでき、
よって、Ｘ線発生装置の内部を真空状態に保持すること
に関して不良が発生することがほとんどなくなる。
【００２３】また、Ｘ線通過部の形状をラインフォーカ
ス又はポイントフォーカスに合わせた形状にすれば、厚
さの厚い周辺部の面積を大きくすることができることに
なり、Ｘ線取出し用窓の機械的な強度をより一層高める
ことができる。
ス又はポイントフォーカスに合わせた形状にすれば、厚
さの厚い周辺部の面積を大きくすることができることに
なり、Ｘ線取出し用窓の機械的な強度をより一層高める
ことができる。
【００２４】本発明によれば、Ｘ線通過部の厚さを１０
〜５０μｍのように非常に薄くした場合でも、Ｘ線取出
し用窓をロー付けによって正確に固定用フランジに気密
に固着できる。Ｘ線通過部の厚さをその程度まで薄くす
れば、該部を通過するＸ線の強度の減衰を実用上問題と
ならない程度まで小さくできる。
〜５０μｍのように非常に薄くした場合でも、Ｘ線取出
し用窓をロー付けによって正確に固定用フランジに気密
に固着できる。Ｘ線通過部の厚さをその程度まで薄くす
れば、該部を通過するＸ線の強度の減衰を実用上問題と
ならない程度まで小さくできる。
【００２５】
【図１】本発明に係るＸ線発生装置の一実施例を示す斜
視図である。
視図である。
【図２】電子銃の一例を示す斜視図である。
【図３】図１の要部を示す平面断面図である。
【図４】Ｘ線取り出し用窓の一実施例の正面図である。
【図５】図４のＢ−Ｂ線に従ったＸ線取出し用窓の断面
図である。
図である。
【図６】Ｘ線取り出し用窓の他の実施例の正面図であ
る。
る。
【図７】Ｘ線取り出し用窓のさらに他の実施例の正面図
である。
である。
【図８】ターゲットから発生するＸ線の取出し方を模式
的に示す斜視図である。
的に示す斜視図である。
【図９】本発明に係るＸ線取出し用窓を製造するための
製造方法の一例を模式的に示す図である。
製造方法の一例を模式的に示す図である。
１ ケーシング ２ 電子銃 ３ ロータターゲット ４ 電力導入端子 ５ テーブル ６ 排気ポンプ ７ ターゲット本体部 ８ フィラメント １６，２６，３６ Ｘ線取り出し用窓 ２０，３０，４０ Ｘ線通過部 ２１，３１，４１ 周辺部 ２２ 固定用フランジ ２３ 押えリング Ｄ１，Ｄ２ Ｘ線の断面形状 Ｆ Ｘ線焦点 Ｑ ロー付け部分 ＲL ラインフォーカスのＸ線 ＲP ポイントフォーカスのＸ線 α Ｘ線の取出し角度
Claims (5)
- 【請求項１】 電子を放出するフィラメントと、該フィ
ラメントに対向して配置されたターゲットと、上記フィ
ラメント及び上記ターゲットを気密に格納するケーシン
グと、上記ケーシングの適所に設けられたＸ線取出し用
窓とを有するＸ線発生装置において、 上記Ｘ線取出し用窓は、Ｘ線が通過するＸ線通過部の厚
さが薄くその周辺部が厚く形成されることを特徴とする
Ｘ線発生装置。 - 【請求項２】 ターゲットからラインフォーカスのＸ線
を取り出すようにした請求項１記載のＸ線発生装置にお
いて、Ｘ線取出し用窓のＸ線通過部は該部を通過するＸ
線の断面形状に合わせて長方形状に形成され、そのＸ線
通過部の面積はＸ線の断面形状の面積よりも少し広いこ
とを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項３】 ターゲットからポイントフォーカスのＸ
線を取り出すようにした請求項１記載のＸ線発生装置に
おいて、Ｘ線取出し用窓のＸ線通過部は該部を通過する
Ｘ線の断面形状に合わせて円形状又は正方形状に形成さ
れ、そのＸ線通過部の面積はＸ線の断面形状の面積より
も少し広いことを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３のうちのいずれか
１つに記載のＸ線発生装置において、ターゲットから発
生するＸ線は波長の長い軟Ｘ線であることを特徴とする
Ｘ線発生装置。 - 【請求項５】 請求項１から請求項４のうちのいずれか
１つに記載のＸ線発生装置において、Ｘ線取出し用窓は
ベリリウムによって形成され、そのＸ線通過部の厚さは
５０μｍ以下であることを特徴とするＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7174369A JPH097534A (ja) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7174369A JPH097534A (ja) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH097534A true JPH097534A (ja) | 1997-01-10 |
Family
ID=15977418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7174369A Pending JPH097534A (ja) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH097534A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007043390A1 (ja) | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Hamamatsu Photonics K.K. | Ｘ線管および非破壊検査装置 |
| WO2009091044A1 (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ｘ線管 |
-
1995
- 1995-06-16 JP JP7174369A patent/JPH097534A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007043390A1 (ja) | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Hamamatsu Photonics K.K. | Ｘ線管および非破壊検査装置 |
| EP1933360A1 (en) * | 2005-10-07 | 2008-06-18 | Hamamatsu Photonics Kabushiki Kaisha | X-ray tube and nondestructive inspection equipment |
| EP1933360A4 (en) * | 2005-10-07 | 2010-10-20 | Hamamatsu Photonics Kk | X-RAYS AND DEVICES FOR NON-DESTRUCTIVE EXAMINATION |
| KR101289502B1 (ko) * | 2005-10-07 | 2013-07-24 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | Ｘ선관 및 비파괴 검사 장치 |
| WO2009091044A1 (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ｘ線管 |
| US8031839B2 (en) | 2008-01-17 | 2011-10-04 | Kabushik Kaisha Toshiba | X-ray tube |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040630 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040804 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041201 |