JPH097196A

JPH097196A - 光ヘッドの調整方法

Info

Publication number: JPH097196A
Application number: JP17822495A
Authority: JP
Inventors: Daisuke Ogata; 緒方　　大輔
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1995-06-20
Filing date: 1995-06-20
Publication date: 1997-01-10

Abstract

(57)【要約】【目的】マルチビームヘッドを有する光学式記録再生
装置において、すべてのレーザビームの焦点での光軸方
向位置のばらつきを所定値以下に調整すること。【構成】共通のコリメートレンズ２と対物レンズ３を
有する光学系で、光源ブロック１からの複数のレーザビ
ーム１１、２１を記録媒体に導く。光ヘッドＨ２の焦点
部分に顕微鏡３０を取り付ける。このときビーム焦点に
合焦している位置と、顕微鏡３０を光軸方向に少し移動
した位置とでビームプロファイルを測定する。こうする
と複数のビームの焦点１２、２２の光軸方向の位置ずれ
が僅かであっても、ビームプロファイルの差を大きくし
て検出することができる。そしてこの差が最小になるよ
う、発光点１０、２０の位置を微調整する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、記録媒体に光学的に情
報を記録再生する光学式記録再生装置において、特に複
数の光束（マルチビーム）を同一の光学系に導くための
光ヘッドの調整方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光学式記録再生装置において、一つの光
学系で複数のレーザビーム（以下、ビームという）を導
き、記録媒体上に複数の光スポットを結像させるものが
ある。このような装置に用いられるマルチビームヘッド
は、複数の発光点を有するモノリシックな光源を有して
いる。この装置は、例えば半導体レーザから出射される
複数のビームを同一の光学系に導き、記録媒体としての
ディスクの記録面上に絞り込んで、各ビームごとに情報
の記録・再生を行うものである。

【０００３】このようなマルチビームヘッドでは、複数
のビームの内いずれか一つのビームを用いて焦点誤差信
号を検出し、そのビームが記録媒体上で最も絞り込まれ
るように焦点制御（フォーカスサーボ）を行う。このと
き、すべてのビームで同じ記録性能及び再生性能を得る
ためには、フォーカスサーボの対象となるビームと他の
ビームとの焦点の光軸方向位置のばらつきが、所定値以
下でなければならない。即ちこのばらつきはデフォーカ
ス許容値の目安である焦点深度よりも十分小さくなけれ
ばならない。

【０００４】光学系からビームの焦点までの距離は、光
源の発光点から光学系までの距離に依存する。通常、マ
ルチビームヘッドの発光点の光軸方向の位置は光学系の
製作誤差によりばらつくので、各ビームの焦点の光軸方
向の位置も同様にばらつく。そのばらつき量は発光点位
置の誤差量及び光学系の結像倍率により決まる。例えば
現実的な値として、ある２つの発光点位置のばらつきを
５μｍ、光学系の結像倍率を１／４倍とすると、焦点位
置のばらつきは約１．２５μｍになる。この値は、現行
の光ヘッドでの標準的な焦点深度の約１μｍと比べて無
視できない大きさであり、このままではすべてのビーム
で同一の記録再生特性を得ることができなくなる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】これを補正するため
に、本願の発明者は光学系に対する光源の姿勢を調節す
るための案内面と固定機構をそなえた光ヘッドの調整機
構を発明し、出願人により出願中である。以下その機構
の概略を、簡単のため２ビームヘッド（光ヘッド）の場
合について図４を用いて説明する。

【０００６】図４は光学式記録再生装置における２ビー
ムヘッドの概略構成図である。この光ヘッドＨ１は光源
ブロック１、コリメートレンズ２、対物レンズ３、ヘッ
ド筺体４を含んで構成される。光源ブロック１は、光源
である半導体レーザ５、これと保持する金具６、金具６
の位置を微動自在に調節して支持及び締結する金具７か
ら構成される。ヘッド筐体４はコリメートレンズ２、対
物レンズ３、金具７を同軸に支持及び固定する部材であ
る。

【０００７】半導体レーザ５は二つの発光点１０及び２
０を持ち、これらの発光点１０及び２０から光学系の光
軸５０の方向に、それぞれレーザビーム１１及び２１が
出射される。これらのレーザビーム１１及び２１はコリ
メートレンズ２を透過して平行光になり、さらに対物レ
ンズ３を透過して収束光になって、それぞれ焦点１２及
び２２に収束する。

【０００８】発光点１０及び２０の光軸５０方向の位置
は、半導体レーザ５の製作誤差のため通常ばらつく。こ
のため光学系を介して収束した焦点１２及び２２には、
光軸方向に位置ずれ量ｅが発生する。従って一方のレー
ザビーム１１を用いてフォーカスサーボを行う場合、焦
点１２はディスク面７０上に正確に位置することになる
が、焦点２２は位置ずれｅだけデフォーカスすることに
なる。この位置ずれｅはコリメートレンズ２と各発光点
１０及び２０の距離を揃えることにより、補正すること
が可能である。

【０００９】光学系の光軸５０と発光点１０及び２０を
結ぶ直線５１との交点をＰとする。金具７は、交点Ｐを
通り光軸５０及び直線５１に垂直な軸６０（図４におい
て紙面に垂直な軸）を中心とする円筒面６１を有し、金
具６に設けられた案内面６２に対して微調整できるよう
に保持されている。このため半導体レーザ５及び金具６
は、案内面６２を介して円筒面６１に沿って微動するこ
とにより、発光点１０及び２０が軸６０の周りに回転移
動できる。これによってコリメートレンズ２との距離が
増減する。こうして焦点１２及び２２の光軸方向の位置
ずれを補正することができる。

【００１０】このような調整はビームの焦点位置ずれ状
態の変化の様子を観測しながら行う。このための従来の
光ヘッドの調整装置を図５に示す。なお、図４と同一の
構成要素については同一符号を付け、詳細な説明は省略
する。図５において、顕微鏡３０はビームの光強度分布
形状（以下、ビームプロファイルという）測定用の顕微
鏡であり、対物レンズ３１、観察対象を撮像するための
ＣＣＤカメラ３２を有し、調整固定機構３３によって光
軸方向に移動及び固定される。ＣＣＤカメラ３２で取得
したデータは映像処理装置３４に送られ、必要な処理を
施された後にパーソナルコンピュータ３５に送られ、ビ
ームプロファイル測定結果が表示される。

【００１１】一方のレーザビーム１１の焦点１２にピン
トが合うように顕微鏡３０の位置を調整固定機構３３に
より調節すると、焦点１２を含む光軸と直角な平面Ａと
対物レンズ３１の基準面との距離は、対物レンズ３１の
焦点距離ｆに等しくなる。この状態でビームプロファイ
ルを観測すると、顕微鏡３０から見て焦点１２は合焦位
置にあるが、焦点２２は合焦位置から外れている。この
ためそれぞれのビームプロファイルは異なった形状を示
す。この差異がなくなるように光源ブロック１を調整す
ることにより、焦点１２及び２２の光軸方向の位置ずれ
を焦点深度よりも十分小さくなるように調整すればよ
い。

【００１２】以上述べたような調整を行うためには、複
数のビーム焦点の位置のずれを焦点深度よりも十分小さ
い分解能で検出することが必要である。従来の調整方法
においては、ビームプロファイルの測定をビーム焦点の
近傍で行っていたが、ビーム焦点の付近では少々光軸方
向に位置ずれが生じてもプロファイルがあまり大きな変
化を示さない。このため焦点の位置ずれが小さくなるほ
どその差異の検出が困難になる。

【００１３】例えばビームの波長λが６８０ｎｍで対物
レンズの開口数ＮＡが０．５５であるような光学系の場
合、一般に焦点深度はλ／（２ＮＡ²）＝１．１２μｍ
程度であると言われている。焦点の光軸方向位置のばら
つきの目安を焦点深度の１０分の１程度とすると、許容
誤差はΔ＝０．１１２μｍになる。従って、焦点位置の
ばらつきを許容誤差Δ以下に補正するためには、基準と
なるレーザビーム１１の焦点１２から光軸方向に許容誤
差Δだけずれた位置にレーザビーム２１の焦点２２が収
束した場合に、平面Ａにおける両レーザビームのビーム
プロファイルの間に有意な差を検出できることが必要で
ある。

【００１４】一般に、焦点位置でのレーザビームのビー
ム有効半径及び中心強度をそれぞれｗ₀及びＩ₀とする
と、焦点位置から光軸方向にｚだけ離れた位置でのビー
ム半径ｗ及び中心強度Ｉは、（２）式及び（３）式で表
される。

【数２】

【数３】

【００１５】従って、レーザビーム２１の平面Ａにおけ
るビーム有効半径及び中心強度は、それぞれ（２）式及
び（３）式でｚ＝Δとして計算すると、ｗ＝１．００５
ｗ₀、Ｉ＝０．９９０Ｉ₀となり、基準のレーザビーム
１１との差が非常に小さいことがわかる。ただし焦点位
置でのビーム有効半径は、ｗ₀＝０．４１λ／ＮＡ＝
０．５１μｍとしている。

【００１６】このため従来の光ヘッドの調整方法では、
許容誤差以上に焦点位置がずれていたとしても、それを
検出することが困難であった。また必要精度まで調整す
るためには、極めて精密なビームプロファイル測定装置
が必要になるという欠点があった。

【００１７】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
てなされたものであって、光学ヘッドの発光点の位置ず
れを高精度に調整できる光ヘッドの調整方法を実現する
ことを目的とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本願の請求項１の発明
は、共通の光学系を介して複数の光ビームを各発光点か
ら記録媒体に出射する光ヘッドに用いられ、前記光学系
に対して前記光ヘッドの各発光点の位置を調節すること
により、前記複数の光ビームの焦点位置のばらつきを最
小にする光ヘッドの調整方法であって、（ａ）前記複数
の光ビームの内いずれかひとつを基準ビームとして、そ
の収束位置で前記基準ビームの光強度分布形状を測定す
るビームプロファイル測定手段を合焦させる第１のステ
ップと、（ｂ）前記第１のステップの合焦位置から前記
ビームプロファイル測定手段を光軸方向に移動させ、そ
の位置で前記複数の光ビームの光強度分布形状を再度測
定する第２のステップと、（ｃ）前記第１及び第２のス
テップで得られた各光ビームの光強度分布形状を比較し
て、基準ビームとその他の光ビームの焦点の光軸方向の
位置ずれを検出し、前記位置ずれのデータに基づいて前
記各発光点の位置を制御し、前記各光ビームの焦点位置
を調整してそのばらつきを最小にする第３のステップ
と、を有することを特徴とする。

【００１９】本願の請求項２の発明は、前記第３のステ
ップでは、前記複数の光ビームの光強度分布形状の測定
値として前記光ビームのビーム有効径を用い、前記第２
のステップの各ビーム有効径が略同一になるよう前記各
発光点の位置を制御することを特徴とするものである。

【００２０】本願の請求項３の発明は、前記第３のステ
ップでは、前記複数の光ビームの光強度分布形状の測定
値として前記光ビームの中心強度を用い、前記第２のス
テップの各中心強度が略同一になるよう前記各発光点の
位置を制御することを特徴とするものである。

【００２１】本願の請求項４の発明は、前記第１及び第
２のステップでは、前記複数の光ビームの光強度分布形
状の測定を、前記光ヘッドの一部を構成する対物レンズ
の出射光に対して行うことを特徴とするものである。

【００２２】本願の請求項５の発明は、前記第１及び第
２のステップでは、前記複数の光ビームの光強度分布形
状の測定を、前記光ヘッドの一部を構成するコリメート
レンズの出射光に対して行うことを特徴とするものであ
る。

【００２３】本願の請求項６の発明は、前記複数の光ビ
ームの合焦位置の許容調整誤差をΔとし、前記基準ビー
ムの焦点位置でのビーム有効半径をｗ₀とし、前記光ビ
ームの波長をλとするとき、前記ビームプロファイル測
定手段の合焦位置の変位量ｚを、（１）式により求めた
値とすることを特徴とするものである。

【００２４】

【作用】このような特徴を有する本発明によれば、光ビ
ームの焦点位置から光軸方向に離れた面では、光軸方向
のわずかな変位に対するビームプロファイルの変化は焦
点位置付近よりもはるかに大きくなる。従ってこの位置
では光ビームの焦点位置ずれの検出分解能を高くするこ
とができる。そして焦点位置のばらつきが焦点深度より
も十分小さくなるよう調整することができる。

【００２５】

【実施例】本発明の第１実施例における光ヘッドの調整
方法について図１、図２を用いて説明する。図１は第１
実施例の２ビームヘッドの光ヘッドの調整装置の概略構
成図である。光ヘッドＨ２は光源ブロック１、コリメー
トレンズ２、対物レンズ３、ヘッド筺体４を含んで構成
される。光源ブロック１は、半導体レーザ５、金具６、
金具７から構成されることは前述したものと同一であ
る。また他の部分についても図５と同一の構成要素につ
いては同一の符号をつけ、詳細な説明は省略する。

【００２６】図１に示すようにレーザビーム１１を基準
ビームとしてその焦点１２の平面Ａに顕微鏡３０のピン
トを合わせる。そしてＣＣＤカメラ３２でレーザビーム
１１の収束部分のビームプロファイルを測定し、そして
このデータを映像処理装置３４に取り込む。次に調整固
定機構３３又はピントの調整により、顕微鏡３０の焦点
位置を光軸方向にｚだけ変位させる。この場合顕微鏡３
０の合焦点は平面Ａからｚだけ離れた平面Ｃ上に来る。
この状態で平面Ｃにおけるレーザビーム１１及び２１の
ビームプロファイルを再度測定する。

【００２７】このときの観測されるビームプロファイル
の様子を図２を用いて説明する。図２（ａ）は位置Ａに
おけるレーザビーム１１の焦点１２でのプロファイル、
図２（ｂ）は平面Ｃにおけるレーザビーム１１のプロフ
ァイルであり、図２（ｃ）は平面Ｃにおけるレーザビー
ム２１のプロファイルである。いずれも横軸がビーム中
心からの距離を示し、縦軸が光強度を示す。平面Ａで半
径ｗ₀、中心強度Ｉ₀であったレーザビーム１１のビー
ムプロファイルは、平面Ｃにおいては半径ｗ₁、中心強
度Ｉ₁になる。また平面Ｃにおけるレーザビーム２１の
ビームプロファイルは半径ｗ₂、中心強度Ｉ₂になる。

【００２８】焦点１２及び２２と平面Ｃとの距離は、そ
れぞれｚ及びｚ−ｅなので、（２）式及び（３）式よ
り、ビーム有効半径の大小関係はｗ₀＜ｗ₁＜ｗ₂とな
り、中心強度の大小関係はＩ₀＞Ｉ₁＞Ｉ₂になる。焦
点１２と２２の光軸方向の位置ずれｅが許容誤差Δ＝
０．１１２μｍに等しいとき、顕微鏡３０の移動量ｚを
レーザビーム１１の中心強度が平面Ａの８０％になるよ
うな値ｚ_0.8＝０．６０１μｍとし、課題の項で説明し
たのと同じ数値を代入して計算すると、平面Ｃにおける
レーザビーム１１及び２１のビーム有効半径はそれぞれ
ｗ₁＝１．１１８ｗ₀及びｗ₂＝１．１６３ｗ₀とな
る。ビーム有効半径ｗ₁とｗ₂の比を取れば、ｗ₂／ｗ
₁＝１．０４となる。すなわち従来では両ビームの差が
０．５％であったのに対して、本実施例では４％の差と
なっている。この程度の差であれば有意な差を観測する
ことができるので、少なくとも焦点位置ずれを許容誤差
Δまでは調整することができる。

【００２９】また中心強度についても同様に、レーザビ
ーム１１及び２１についてそれぞれＩ₁＝０．８００Ｉ
₀及びＩ₂＝０．７３９Ｉ₀となる。この場合、中心強
度Ｉ₁とＩ₂の比を取れば、Ｉ₂／Ｉ₁＝０．９３とな
る。すなわち両ビームの差は７％であり、ビーム半径を
参照するよりも更に精度よく焦点位置ずれを調整するこ
とができる。

【００３０】以上の実施例において、顕微鏡３０、対物
レンズ３１、ＣＣＤカメラ３２、調整固定機構３３、映
像処理装置３４は、ビームウェスト位置における光ビー
ム１１、１２の光強度分布形状を測定するビームプロフ
ァイル測定手段を構成している。

【００３１】本発明の第２実施例における光ヘッドの調
整方法について図３を用いて説明する。図３は第２実施
例における２ビームヘッドの光ヘッド調整装置の概略構
成図である。第１実施例の光ヘッドの調整方法は対物レ
ンズ３の出射ビームについてビームプロファイルを測定
するものであった。しかし、ビームプロファイルの測定
をコリメートレンズ２の出射ビームについて行っても良
い。図３はこの場合の実施例であり、図１と同様の構成
要素については同一の符号を付けた。

【００３２】図３に示すようにヘッド筺体４から対物レ
ンズ３を取り外し、コリメートレンズ２と発光点１０及
び２０の距離をコリメートレンズ２の焦点距離ｆ_CLより
も大きくすると、レーザビーム１１及び２１は収束光と
なり、それぞれ焦点１３及び２３に収束する。この焦点
１３及び２３に対して図１及び図２と同様の測定を行う
ことにより、焦点位置ずれを許容値以下に調整すること
ができる。

【００３３】この場合の数値例を次に述べる。図３に示
すように発光点１０及び２０の光軸方向の位置ずれをδ
とし、発光点１０とコリメートレンズ２の距離をｆ_CL＋
εとすると、焦点１３及び２３の光軸方向の位置ずれｅ
は、（４）式で表される。

【数４】

【００３４】この（４）式より計算される位置ずれｅの
値を用いて（２）式及び（３）式の値を計算すれば、調
整可能かどうかを知ることができる。たとえば、図１に
おける焦点ずれの許容誤差Δを０．１１２μｍ、光学系
の結像倍率を１／４倍とすると、発光点１０及び２０の
光軸方向に許容される位置ずれ量はδ＝０．４４８μｍ
になる。このとき、ｆ_CL＝８ｍｍ、ε＝０．５ｍｍとし
て（４）式から焦点１３及び２３の光軸方向の位置ずれ
ｅを求めると、ｅ＝１１４．７μｍになる。

【００３５】一方、コリメートレンズ２の位置でのビー
ム半径をａ、コリメートレンズ２から焦点１３までの距
離をｓとすると、焦点１３のビーム有効半径ｗ₀は
（５）式で表される。

【数５】

【００３６】ｆ_CL＝８ｍｍ、ε＝０．５ｍｍの場合のレ
ンズの結像則より求まるｓの値、ｓ＝１３６ｍｍ、及び
現実的なビーム半径の値であるａ＝２．６ｍｍを（５）
式に代入すると、ｗ₀＝１１．３２μｍとなる。このと
き、中心強度が焦点１３での強度の８０％となる光軸方
向の位置をｚ_0.8とすると、ｚ_0.8＝２９６．０μｍと
なる。この位置を通る平面をＣとすると、平面Ｃにおけ
る両ビームの半径は図２の場合と同様にして（２）式に
より求めることができる。その計算結果はそれぞれｗ₁
＝１．１１８ｗ₀、ｗ₂＝１．２１７ｗ₀となる。

【００３７】従って比の値はｗ₂／ｗ₁＝１．０９とな
り、９％の差があるので対物レンズ３の出射ビームを使
う場合よりも更に精度よく焦点位置ずれを調整すること
ができることになる。また中心強度についても同様であ
り、（３）式により計算すると、それぞれＩ₁＝０．８
００Ｉ₀、Ｉ₂＝０．６７５Ｉ₀となる。この比の値は
Ｉ₂／Ｉ₁＝０．８４となり、１６％もの差があるので
十分精度よく調整することができる。

【００３８】さて、図１及び図２の実施例における顕微
鏡の光軸方向の移動量は、例として基準となるビームの
中心強度が焦点位置での強度の８０％になる位置とした
が、検出の分解能が最大になる位置を解析的に求めるこ
ともできる。レーザビーム１１の焦点位置から光軸方向
にｚだけ離れた位置での各ビームの中心強度Ｉ₁及びＩ
₂の比は、（３）式より（６）式のように表される。

【数６】

【００３９】（６）式をｚの関数とみなすと、Ｉ₂／Ｉ
₁が極大値を取るときのｚの値を求めれば、それが最大
の検出の分解能が得られる検出位置となる。この値は
（６）式をｚで微分することにより簡単に求められ、
（７）式のようになる。

【数７】（７）式に図３の実施例の値を代入して計算すると、ｚ
＝５３７μｍ及び−６５２μｍとなる。顕微鏡のピント
をこの値だけずらしたときの中心強度の比Ｉ₂／Ｉ₁を
計算すると、ｚ＝５３７μｍのときＩ₂／Ｉ₁＝０．８
２となる。またｚ＝−６５２μｍのときＩ₂／Ｉ₁＝
１．２１となる。これらの値は互いに逆数であり、Ｉ₁
とＩ₂の差が１８％程度と最大になり、十分精度よく調
整することができる。

【００４０】本発明の調整方法では、顕微鏡の調整固定
機構３３に精密な位置表示機能がない場合でも、ピント
外し量である変位量ｚをビーム中心強度に換算すること
により、同様の検出精度を得ることができる。すなわ
ち、レーザビーム１１の中心強度が（１）式より求めら
れるｚの値を（３）式に代入して得られる値になるよう
に顕微鏡を光軸方向に移動させれば、そのときの移動量
は（９）式によるｚと等しくなる。たとえば、ｚ＝５３
７μｍの場合、Ｉ₁＝０．５４９Ｉ₀になるようにビー
ムプロファイルを参照しながら顕微鏡を移動させればよ
い。

【００４１】また２ビームヘッドの場合だけではなく、
３ビーム以上の光ヘッドの場合も、基準となる光ビーム
と、ビーム列の一番端の光ビームを用いて測定を行うこ
とにより、同様な効果が得られる。

【００４２】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、ビームプ
ロファイルを測定するビームフロファイル測定手段の合
焦点を、光軸方向に変位させて測定することにより、複
数ビームの焦点の光軸方向ずれの検出分解能を大幅に向
上させることができる。このため、複数の光ビームに対
して精度よく焦点位置の調整を行うことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例の光ヘッドの調整装置の概
略図である。

【図２】第１実施例の光ヘッドの調整方法を示す説明図
である。

【図３】本発明の第２実施例の光ヘッドの調整装置の概
略図である。

【図４】光学式記録再生装置における光ヘッドの構造を
示す断面図である。

【図５】従来の光ヘッドの調整装置の概略図である。

【符号の説明】

１光源ブロック２コリメートレンズ３対物レンズ４ヘッド筺体５半導体レーザ６，７金具１０，２０発光点１１，２１レーザビーム１２，１３，２２，２３焦点３０顕微鏡３１対物レンズ３２ＣＣＤカメラ３３調整固定機構３４映像処理装置３５パーソナルコンピュータ５０光軸６０軸６１円筒面６２案内面Ｈ１，Ｈ２，光ヘッド

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】共通の光学系を介して複数の光ビームを
各発光点から記録媒体に出射する光ヘッドに用いられ、
前記光学系に対して前記光ヘッドの各発光点の位置を調
節することにより、前記複数の光ビームの焦点位置のば
らつきを最小にする光ヘッドの調整方法であって、（ａ）前記複数の光ビームの内いずれかひとつを基準ビ
ームとして、その収束位置で前記基準ビームの光強度分
布形状を測定するビームプロファイル測定手段を合焦さ
せる第１のステップと、（ｂ）前記第１のステップの合焦位置から前記ビームプ
ロファイル測定手段を光軸方向に移動させ、その位置で
前記複数の光ビームの光強度分布形状を再度測定する第
２のステップと、（ｃ）前記第１及び第２のステップで得られた各光ビー
ムの光強度分布形状を比較して、基準ビームとその他の
光ビームの焦点の光軸方向の位置ずれを検出し、前記位
置ずれのデータに基づいて前記各発光点の位置を制御
し、前記各光ビームの焦点位置を調整してそのばらつき
を最小にする第３のステップと、を有することを特徴と
する光ヘッドの調整方法。
【請求項２】前記第３のステップでは、前記複数の光
ビームの光強度分布形状の測定値として前記光ビームの
ビーム有効径を用い、前記第２のステップの各ビーム有
効径が略同一になるよう前記各発光点の位置を制御する
ことを特徴とする請求項１記載の光ヘッドの調整方法。
【請求項３】前記第３のステップでは、前記複数の光
ビームの光強度分布形状の測定値として前記光ビームの
中心強度を用い、前記第２のステップの各中心強度が略
同一になるよう前記各発光点の位置を制御することを特
徴とする請求項１記載の光ヘッドの調整方法。
【請求項４】前記第１及び第２のステップでは、前記
複数の光ビームの光強度分布形状の測定を、前記光ヘッ
ドの一部を構成する対物レンズの出射光に対して行うこ
とを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の光ヘ
ッドの調整方法。
【請求項５】前記第１及び第２のステップでは、前記
複数の光ビームの光強度分布形状の測定を、前記光ヘッ
ドの一部を構成するコリメートレンズの出射光に対して
行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載
の光ヘッドの調整方法。
【請求項６】前記複数の光ビームの合焦位置の許容調
整誤差をΔとし、前記基準ビームの焦点位置でのビーム
有効半径をｗ₀とし、前記光ビームの波長をλとすると
き、前記ビームプロファイル測定手段の合焦位置の変位量ｚ
を、（１）式【数１】により求めた値とすることを特徴とする請求項１〜５の
いずれか１項記載の光ヘッドの調整方法。