JPH0967405A - 多孔性高分子ゲル材料の製造方法、及び多孔性高分子ゲル材料製造用の配合組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】光照射によって多孔性高分子ゲル材料を製造す
る製造方法とそれに用いる配合組成物を提供すること。 【解決手段】少なくともラジカル重合性の官能基を１つ
以上有する水溶性の単量体とラジカル重合性の官能基を
２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体と光重合
開始剤とを含有した組成物に、前記組成物に不溶で溶媒
に可溶な粒子状物質であり、且つ前記光重合開始剤がラ
ジカルを発生する光に透過性を有する粒子状物質を混合
した配合組成物を用いる多孔性高分子ゲル材料の製造方
法であって、該配合組成物に光照射を行って前記単量体
をラジカル重合させ、重合体を得る行程と、前記粒子状
物質が可溶で且つ重合体が膨潤する溶媒に浸漬して該粒
子状物質を溶解除去する行程を具備する多孔性高分子ゲ
ル材料の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ケモメカニカル材
料として用いる多孔性高分子ゲル材料の製造方法および
多孔性高分子ゲル材料製造に用いる配合組成物に関す
る。特に、光照射により多孔性高分子ゲル材料を製造す
る方法とそれに用いる配合組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、医療機器や産業用ロボット，マイ
クロマシンなどの分野において、小さく，軽く，柔軟性
に富むアクチュエータとして、ケモメカニカル（メカノ
ケミカルとも言う）材料を使ったケモメカニカルアクチ
ュエータが注目されている。ここで、ケモメカニカル材
料とは、熱変化，イオン濃度変化，電気，溶媒組成変
化，光などの刺激によって、膨潤，収縮を起こし、機械
的変形を起こす材料をいい、具体的には高分子ゲル材料
がその特性を有する。高分子ゲルとは架橋によって三次
元化した高分子が、溶媒によって膨潤したものを言う。
これらケモメカニカル材料を利用したアクチュエータを
ケモメカニカルアクチュエータといい、例えば「樋口俊
郎、生田幸士編集：マイクロメカニカルシステム実用化
総覧、フジ・テクノシステム、ｐ４３８〜４４７」に詳
しく説明されている。

【０００３】ケモメカニカル材料に用いる高分子ゲル材
料は、その機械的変形の応答速度が遅いことが問題視さ
れており、応答速度向上をはかることが従来からの大き
な課題である。応答速度を向上する方法としては、高分
子ゲル材料を多孔質化して表面積を大きくする手段が公
知である。ここで多孔質とは、１μｍ以上の大きさの独
立または連続空孔の集まりのことを指し、高分子ゲルが
溶液中で膨潤することによって生じた、ミクロな高分子
の三次元網目構造の広がりを指したものではない。高分
子ゲル材料を多孔質化する公知技術としては、例えば、
特開昭６３−２２３０４５には、ポリビニルアルコール
と分子量が５万以上の酸性または塩基性の高分子電解質
の混合水溶液を多数の突起を形成した板上に塗布し、凍
結と解凍を繰り返すことによって多孔性の高分子ゲル材
料を製造する方法が示されている。また、「荻野一善、
長田義仁、伏見隆夫、山内愛造：ゲル、産業図書、ｐ６
７〜６８」には、ポリビニルメチルエーテル水溶液と少
量のアルギン酸ナトリウム水溶液の混合溶液、γ線を照
射することによって多孔性の高分子ゲル材料を製造する
方法が示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高分子
ゲル材料を多孔質化する方法の従来技術である特開昭６
３−２２３０４５は、凍結・解凍の繰り返しによってケ
モメカニカル材料を製造するため、複雑な加工や微小化
に適していない。また、「荻野一善、長田義仁、伏見隆
夫、山内愛造：ゲル、産業図書、ｐ６７〜６８」はγ線
によって高分子ゲル材料を製造するため、複雑な加工や
微小化は可能であるが、製造に高価な装置を必要とし、
材料が限定されるという問題点を有する。

【０００５】高分子ゲル材料を医療機器や産業用ロボッ
ト，マイクロマシンなどの分野で、小さく，軽く，柔軟
性に富むアクチュエータとして応用するためには、複雑
な加工や微小化が可能であり、材料の選択の幅が広く、
安価に製造できることが望ましい。

【０００６】したがって本発明は、上記課題を解決すべ
くなされたもので、その目的は、光照射によって多孔性
高分子ゲル材料を製造する製造方法とそれに用いる配合
組成物を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題は、以下の
（Ｉ）および（II）によって解決される。

【０００８】（Ｉ） 化学エネルギーを力学エネルギー
に変換するケモメカニカル材料に用いられる多孔性高分
子ゲル材料の製造方法において、少なくともラジカル重
合性の官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカ
ル重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水
性の単量体と光重合開始剤とを含有した組成物に、前記
組成物に不溶で溶媒に可溶な粒子状物質であり、且つ前
記光重合開始剤がラジカルを発生する光に透過性を有す
る粒子状物質を混合した配合組成物を用い、該配合組成
物に光照射を行って前記単量体をラジカル重合させ、重
合体を得る行程；前記粒子状物質が可溶で且つ重合体が
膨潤する溶媒に浸漬して該粒子状物質を溶解除去する行
程；を具備することを特徴とする多孔性高分子ゲル材料
の製造方法。

【０００９】（II） 少なくともラジカル重合性の官能
基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合性の
官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体
と光重合開始剤とを含有した組成物に、前記組成物に不
溶で溶媒に可溶な粒子状物質であり、且つ前記光重合開
始剤がラジカルを発生する光に透過性を有する粒子状物
質を混合したことを特徴とする多孔性高分子ゲル材料製
造用の配合組成物。

【００１０】以下に本発明を更に詳細に説明する。

【００１１】本発明の第一の側で面は、化学エネルギー
を力学エネルギーに変換するケモメカニカル材料に用い
られる多孔性高分子ゲル材料の製造方法において、少な
くともラジカル重合性の官能基を１つ以上有する水溶性
の単量体とラジカル重合性の官能基を２つ以上有する水
溶性若しくは親水性の単量体と光重合開始剤とを含有し
た組成物に、前記組成物に不溶で溶媒に可溶な粒子状物
質であり、且つ前記光重合開始剤がラジカルを発生する
光に透過性を有する粒子状物質を混合した配合組成物を
用い、該配合組成物に光照射を行って前記単量体をラジ
カル重合させ、重合体を得る行程；前記粒子状物質が可
溶で且つ重合体が膨潤する溶媒に浸漬して該粒子状物質
を溶解除去する行程；を具備することを特徴とする多孔
性高分子ゲル材料の製造方法。

【００１２】まず、本方法に用いることができる配合組
成物について説明する。

【００１３】本発明において、ラジカル重合性の官能基
を１つ以上有する水溶性の単量体とは、不飽和炭化水素
を１個以上有する水溶性の単量体の中から選択され、イ
オン基を有する単量体とイオン基を有さない単量体があ
る。イオン基を有するラジカル重合性単量体は、分子内
にカチオンまたはアニオンを発生しうる基を含有し、少
なくとも１個以上のラジカル重合性官能基を含有する単
量体である。従って、「イオン基を有する」とは、分子
内に少なくとも１つのカチオンまたはアニオンを発生し
うる基を有することを意味する。

【００１４】イオン基を有するラジカル重合性単量体と
しては、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、３
級アミン、水酸化４級アミン、スルホニウム基などのイ
オン基を有し、少なくとも１個以上のラジカル重合性官
能基を有する単量体の中から選択される。例えば、（メ
タ）アクリル酸、ビニル酢酸、スチレンスルホン酸、無
水マレイン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパ
ンスルホン酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルア
ミド、２−アクリロイルオキシドエチルトリメチルアン
モニウムクロライド、３−アクリルアミドプロピルトリ
メチルアンモニウムクロライドなどがそれに値する。

【００１５】イオン基を持たない水溶性のラジカル重合
性単量体としては、例えば、アクリロイルモルフォリ
ン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エチ
レングリコール（メタ）アクリレート、アクリルアミ
ド、グリセロール（メタ）アクリレート、ビニルピロリ
ドン、Ｎ，Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、２−ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、モルフォリノエチル（メ
タ）アクリレート、（メタ）アクリル酸メチル、（メ
タ）アクリル酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミ
ドなどがそれに値する。

【００１６】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体は、上記単量体のうち一種または複数を
用いて構成される。イオン基を有する単量体を用いる場
合は、酸またはアルカリによってイオン基を中和して用
いた方が重合しやすくなる。

【００１７】ラジカル重合性の官能基を２つ以上有する
水溶性若しくは親水性の単量体とは、不飽和炭化水素を
２個以上有する単量体の中から選択される。例えば、
Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド、エチレングリ
コールジアクリレート、エチレングルコールジメタクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリ
エチレングリコールジメタクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレ
ート、２，２−ビス［４−（アクリロキシジエトキシ）
フェニル］プロパン、グリセロールジアクリレート、グ
リセロールジメタクリレート、１，４−ブタンジオール
ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレートなどがそ
れに値する。

【００１８】光重合開始剤は、光照射によってラジカル
を発生する作用を有する化合物である。本発明の場合、
光照射は、紫外光であっても可視光であってもよい。従
って、本発明の光重合開始剤は、これらの光でラジカル
を発生するものから選択される。

【００１９】紫外光によってラジカルを発生する化合物
としては、例えば、ベンゾフェノン、２，２−ジメトキ
シ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，
４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフォン
オキサイド、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−
フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパ
ン−１−オンなどを挙げることができる。

【００２０】また、３６０ｎｍ以上の波長の光によって
ラジカルを発生する化合物としては、例えば、２，４−
ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサント
ン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−
（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−
３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメ
ソクロライド、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フ
ェニル］−２−モルフォリノプロパン−１、２−ベンジ
ル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェ
ニル）−ブタノン−１、ビス（シクロペンタジエニル）
−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）
チタニウムなどを例に挙げることができる。また、１，
３−ジ（ｔ−ブチルジオキシカルボニル）ベンゼンや
３，３′，４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルペルオキシ
カルボニル）ベンゾフェノンなどのパーオキシエステル
に、チオピリリウム塩、メロシアニン、キノリン、スチ
ルキノリン系色素を混合した物質を用いることもでき
る。特に、水溶性の光重合開始剤か常温で液体状の光重
合開始剤の方が望ましい。

【００２１】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体とラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体と光重合開始剤とを
含有した組成物の配合比は、ラジカル重合性の官能基を
１つ以上有する水溶性の単量体に対してラジカル重合性
の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量
体は０．５〜５ｍｏｌ％、光重合開始剤は０．０１〜５
ｍｏｌ％の範囲であることが望ましい。ラジカル重合性
の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量
体が０．５ｍｏｌ％未満の場合では、多孔性ゲル材料の
材料強度が非常に弱くなる。一方、５ｍｏｌ％よりも多
量の場合は多孔性ゲル材料の伸縮率が小さくなる、膨潤
する際多孔性ゲル材料に亀裂が入り崩壊しやすくなる、
などの問題が生じる。また、光重合開始剤が０．００１
ｍｏｌ％未満の場合は重合速度が遅く、５ｍｏｌ％より
多量の場合は重合度が低下する。

【００２２】粒子状物質は、該組成物に不溶で溶媒に可
溶なものである。更に、該粒子状物質は、ラジカル重合
に使用する光の波長の透過性が高い粒子状物質、即ち、
照射された光を吸収または反射することによりその光量
を減少しない性質を有する粒状物質から選択される。一
般に、ラジカル重合には紫外線が用いられるため、紫外
線の透過性の高い物質が望ましい。例えば、二酸化ケイ
素やフッ化カルシウムなどがそれに値する。また、粒子
状物質として臭化カリウム、塩化ナトリウム、塩化カリ
ウムなどの無機塩を用いることもできるが、無機塩の結
晶は紫外光を吸収するため、３６０ｎｍ以上の光によっ
てラジカルを発生する光重合開始剤と組み合わせて用い
ることが望ましい。無機塩としては、光透過性に優れた
臭化カリウムが最も適している。

【００２３】粒子状物質の粒径は１０〜１０００μｍの
範囲の物が望ましく、特に５０〜２００μｍの物が望ま
しい。粒径が１０μｍ未満の場合では、製造したゲル材
料の孔が小さすぎて多孔質化する効果が小さくなる、配
合組成物の粘度が高くなる、などの問題が生じる。粒径
が１０００μｍよりも大きい場合は、孔が大きすぎて材
料強度が弱くなるという問題が生じる。粒子状物質の含
有率は、１０〜５０ｖｏｌ％で有ることが望ましく、特
に２０〜４０ｖｏｌ％が望ましい。１０ｖｏｌ％以下の
場合は孔と孔がつながらないため多孔質化の効率が悪く
なる。５０ｖｏｌ％よりも多量の場合は孔が多量すぎて
材料強度が弱くなるという問題が生じる。

【００２４】また、本発明で使用する粒子状物質は、必
要に応じて表面処理する。例えば、粒子状物質として石
英ビーズを使用する場合は、表面を、側鎖にビニル基を
有するシランカップリング剤で処理することが好まし
い。

【００２５】ラジカル重合に用いる光は、光重合開始剤
がラジカルを発生する波長を含んだ光が照射できる光源
から照射する。一般の光重合開始剤は紫外線によってラ
ジカルを発生する物がほとんどであるため、紫外線を照
射できる光源が望ましい。例えば、高圧水銀灯、キセノ
ンランプ、Ｈｅ−Ｃｄレーザーなどがそれに値する。

【００２６】該粒子状物質が可溶で且つ重合体が膨潤す
る溶媒は、用いる粒子状物質の性質によって選択する。
該粒子状物質が二酸化ケイ素やフッ化カルシウムの場合
はフッ酸や強アルカリ水溶液を、無機塩の場合は水を用
いることが望ましい。

【００２７】上記の配合組成物を上記配合割合の範囲内
で配合し、ポリエチレン性の容器内で、光を照射する。
これにより、光重合開始剤がラジカルを発生し、ラジカ
ル重合性の官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラ
ジカル重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは
親水性の単量体が重合し、３次元架橋した高分子が得ら
れる。配合組成物に含まれた粒子状物質は不活性である
ため、重合された高分子に物理的に取り込まれた状態
（高分子重合体と化学結合をしていない状態）の重合体
が製造される。また、粒子状物質は重合に使用する光の
波長を透過するため、ラジカル重合開始剤の光照射によ
るラジカル発生を阻害する可能性は小さい。このように
して得られた重合体を該粒子状物質が可溶で且つ重合体
が膨潤する溶媒に浸漬すると、重合体は３次元架橋され
ているため膨潤するだけで溶解せず、粒子状化合物およ
び光重合開始剤が重合体から溶出される。粒子状物質が
溶解され全て溶出されると、重合体は粒子状物質が含ま
れていた部分が空隙となり、多孔質となる。この重合体
は高分子ゲルとなる材料から構成されているため、多孔
質の高分子ゲル材料を得ることができる。

【００２８】以上のように、上記配合組成物を光照射す
ることによって多孔性の高分子ゲル材料を製造すること
が可能となる。

【００２９】高分子ゲル材料が多孔質化されることによ
って、高分子ゲル材料の表面積が大きくなる。高分子ゲ
ル材料は溶液の吸収・放出によって膨潤・収縮し、機械
的変形を生じるため、表面積が大きくなると溶液の交換
が容易となり応答速度が向上する。

【００３０】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンによって重合物の製造がで
きるので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水
溶性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の
幅も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【００３１】次に本発明の第二の側面について説明す
る。

【００３２】本発明の第二の側面では少なくともラジカ
ル重合性の官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラ
ジカル重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは
親水性の単量体と光重合開始剤とを含有した組成物に、
前記組成物に不溶で溶媒に可溶な粒子状物質であり、且
つ前記光重合開始剤がラジカルを発生する光に透過性を
有する粒子状物質を混合したことを特徴とする多孔性高
分子ゲル材料製造用の配合組成物を提供する。

【００３３】本側面の少なくともラジカル重合性の官能
基を１つ以上有する水溶性の単量体、ラジカル重合性の
官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量
体、光開始剤、および粒子状物質は、それぞれ、上記第
一の側面で記載したものと同様であり、上記で例示した
化合物を本側面でもそのまま例として挙げることができ
る。

【００３４】更に、これらの化合物の配合量は、ラジカ
ル重合性の官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラ
ジカル重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは
親水性の単量体と光重合開始剤とを含有した組成物の配
合比は、ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する水溶
性の単量体に対してラジカル重合性の官能基を２つ以上
有する水溶性若しくは親水性の単量体は０．５〜５ｍｏ
ｌ％、光重合開始剤は０．０１〜５ｍｏｌ％の範囲であ
ることが望ましい。ラジカル重合性の官能基を２つ以上
有する水溶性若しくは親水性の単量体が０．５ｍｏｌ％
未満の場合では、多孔性ゲル材料の材料強度が非常に弱
くなる。一方、５ｍｏｌ％よりも多量の場合は多孔性ゲ
ル材料の伸縮率が小さくなる、膨潤する際多孔性ゲル材
料に亀裂が入り崩壊しやすくなる、などの問題が生じ
る。また、光重合開始剤が０．００１ｍｏｌ％未満の場
合は重合速度が遅く、５ｍｏｌ％より多量の場合は重合
度が低下する。

【００３５】粒子状物質の粒径は１０〜１０００μｍの
範囲の物が望ましく、特に５０〜２００μｍの物が望ま
しい。粒径が１０μｍ未満の場合では、製造したゲル材
料の孔が小さすぎて多孔質化する効果が小さくなる、配
合組成物の粘度が高くなる、などの問題が生じる。粒径
が１０００μｍよりも大きい場合は、孔が大きすぎて材
料強度が弱くなるという問題が生じる。粒子状物質の含
有率は、１０〜５０ｖｏｌ％で有ることが望ましく、特
に２０〜４０ｖｏｌ％が望ましい。１０ｖｏｌ％以下の
場合は孔と孔がつながらないため多孔質化の効率が悪く
なる。５０ｖｏｌ％よりも多量の場合は孔が多量すぎて
材料強度が弱くなるという問題が生じる。

【００３６】本側面の配合組成物は、上記第一の側面と
同様にして光照射および後処理をすることにより、多孔
質の高分子ゲル材料を得ることができる。

【００３７】

【発明の実施の形態】

実施例１ 本実施例は、ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、および光重合開始
剤を含有する組成物に、更に該組成物に不溶で溶媒に可
溶な該光重合開始剤がラジカルを発生する光の透過性を
有する粒子状物質を配合した配合組成物を用いる多孔性
高分子ゲル材料の製造方法の例である。

【００３８】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル
アクリルアミド（興人）を、ラジカル重合性の官能基を
２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体として
Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド（和光純薬工
業）を、光重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−フェニルプロパン−１−オン（チバガイギー）
を使用し、これらを含有した組成物に不溶で溶媒に可溶
な該光重合開始剤がラジカルを発生する光の透過性を有
する粒子状物質として石英ガラスビーズ（二酸化ケイ
素）を用い、以下の方法で高分子ゲル材料の光重合を検
討した。石英ガラスビーズは、側鎖にビニル基を有する
シランカップリング剤で表面処理した粒径が６０〜９０
μｍのものを用いた。

【００３９】石英ガラスビーズの表面処理は以下の方法
で行った。ビニルトリクロロシランの１０Ｍのトルエン
溶液を調製し、該溶液に石英ガラスビーズを入れ撹拌し
ながら１２時間放置した。該ビーズを溶液から取り出
し、トルエンでの洗浄を繰り返して、表面処理を終了し
た。ビニルトリクロロシランは、ビニルトリクロロシラ
ンのクロル基が石英ガラスビーズ表面のＯＨ基と加水分
解反応して共有結合で強固に結合し、石英ガラスビーズ
表面に自発的に単分子膜を製造する。したがって、ビニ
ルトリクロロシランのビニル基が表面にならんだ被覆処
理を施すことができる。

【００４０】本実施例の多孔性高分子ゲル製造方法のフ
ローチャートを図１に示す。

【００４１】Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリル
アミド０．１ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリル
アミド０．００１ｍｏｌ、２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−フェニルプロパン−１−オン０．００３ｍｏｌ、
シランカップリング剤で表面処理した石英ガラスビーズ
６ｇを混合した配合組成物１を調製した。該配合組成物
１をポリエチレン性の０．３ｍｌの容器に入れた。容器
の上部から超高圧水銀灯を用い５０ｍＷ／ｃｍ² の照度
で光を照射した。６０秒の照射により、配合組成物は重
合し硬化物となった。該硬化物を水道水によって３時間
流水洗浄した後、イオン交換水に一昼夜浸漬し、さらに
１０％フッ酸水溶液一昼夜浸漬して、重合体を膨潤させ
石英ガラスビーズを溶出除去した。次に再びイオン交換
水に浸漬してフッ酸水溶液とイオン交換水とを置換し
た。膨潤後の体積は約１０倍にとなり、石英ガラスビー
ズが含まれていた部分が空隙となって多孔性の高分子ゲ
ル材料となった。該高分子ゲル材料は、水溶液のイオン
濃度やｐＨによって伸縮した。

【００４２】次ぎにｐＨによる高分子ゲル材料の伸縮特
性について試験した。

【００４３】該高分子ゲル材料をｐＨ１１の水酸化ナト
リウム溶液中で平衡状態としてから３ミリ角に切り出
し、次ぎに溶液をｐＨ３の塩酸溶液に交換して高分子ゲ
ル材料が平衡膨潤状態に達するまでの時間を測定した。
また、比較のため、同じ条件で石英ガラスビーズを混合
せずに製造した多孔質化していない高分子ゲル材料につ
いても同様の測定を行った。比較の結果を表１に示す。
多孔質化した高分子ゲル材料は多孔質化していないもの
に比べ、約２倍の速さで膨潤し平衡状態に達することが
わかった。

【００４４】

【表１】

【００４５】以上のように、本実施例の配合組成物に超
高圧水銀灯から光を照射すると、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オンがラジカルを
発生しＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド
とＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドおよび石英ガ
ラスビーズに表面処理されたシランカップリング剤のビ
ニル基が３次元架橋した高分子が重合される。配合組成
物に含まれた石英ガラスビーズは表面処理したシランカ
ップリング剤によって重合体と化学結合した状態で存在
する。また、石英ガラスビーズは重合に使用する光の波
長の透過率が高いため、ラジカル重合の阻害性は小さ
い。該重合体をフッ酸水溶液に浸漬すると、重合体は３
次元架橋されているため膨潤するだけで溶解せず、石英
ガラスビーズが重合体から溶出する。石英ガラスビーズ
が全て溶出されると、重合体は石英ガラスビーズが含ま
れていた部分が空隙となり、多孔質となる。この重合体
は高分子ゲル材料から構成されているため、多孔質の高
分子ゲル材料を得ることができる。

【００４６】このように、本発明の方法および配合組成
物により、光照射によって多孔性の高分子ゲル材料を得
ることが可能となる。また、石英ガラスビーズは配合組
成物の主成分である単量体に比べ比重が重く沈殿しやす
いが、側鎖にビニル基を有するシランカップリング剤で
表面処理することによって単量体との相溶性が上がり、
且つ側鎖にあるビニル基が単量体と重合するため、二酸
化ケイ素が重合体に化学結合した重量物が形成できる。

【００４７】本発明の方法および配合組成物により応答
速度が速く加工性に優れた高分子ゲル材料を製造でき
る。また、粒子上物質の沈殿が軽減され、均一に孔の開
いた高分子ゲル材料となる。

【００４８】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ができ
るので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水溶
性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅
も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【００４９】なお、この実施例は、当然、各種の変形、
変更が可能である。

【００５０】この実施例には次のような特徴がある。

【００５１】（ｉ）ラジカル重合性の官能基を１つ以上
有する水溶性の単量体としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミドを、ラジカル重合性の官能基を２
つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体として、
Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドを、光重合開始
剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプ
ロパン−１−オンを使用し、これを含有した組成物に不
溶で溶媒に可溶な該光重合開始剤がラジカルを発生する
光の透過性を有する粒子状物質として側鎖にビニル基を
有するシランカップリング剤で表面処理した石英ガラス
ビーズを混合した配合組成物を調製し、光照射を行って
該単量体をラジカル重合せしめた後、水およびフッ酸水
溶液に浸漬して該粒子状物質を溶解除去したことによ
り、多孔質の高分子ゲル材料を光重合によって製造で
き、しかも多孔質によって高分子ゲル材料の応答速度を
が高速化することができる。

【００５２】実施例２ 本実施例は、ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、および光重合開始
剤を含有する組成物に、更に該組成物に不溶で溶媒に可
溶な該光重合開始剤がラジカルを発生する光の透過性を
有する粒子状物質を配合した配合組成物を用いる多孔性
高分子ゲル材料の製造方法の例である。

【００５３】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル
アクリルアミド（興人）を、ラジカル重合性の官能基を
２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体として
Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド（和光純薬工
業）を、光重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−フェニルプロパン−１−オン（チバガイギー）
を含有する組成物と、該組成物に不溶で溶媒に可溶な該
光重合開始剤がラジカルを発生する光の透過性を有する
繊維状物質として繊維の太さが約２０μｍの石英ガラス
ウール（（二酸化ケイ素）を用い、以下の方法で高分子
ゲル材料の光重合を検討した。

【００５４】本実施例の多孔性高分子ゲル製造方法のフ
ローチャートを図２に示す。

【００５５】Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリル
アミド０．１ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリル
アミド０．００１ｍｏｌ、２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−フェニルプロパン−１−オン０．００３ｍｏｌ、
石英ガラスウール６ｇを混合した配合組成物２を調製し
た。該配合組成物２を良く撹拌しポリエチレン性の０．
３ｍｌの容器に入れた。容器の上部から超高圧水銀灯を
用い５０ｍＷ／ｃｍ²の照度で光を照射した。６０秒の
照射により、配合組成物は重合し硬化物となった。該硬
化物を水道水によって３時間流水洗浄した後、イオン交
換水に一昼夜浸漬し、さらに１０％フッ酸水溶液一昼夜
浸漬して、重合体を膨潤させ石英ガラスウールを溶出除
去した。次に再びイオン交換水に浸漬してフッ酸水溶液
とイオン交換水とを置換した。膨潤後の体積は約１０倍
にとなり、石英ガラスウールが含まれていた部分が空隙
となって多孔性の高分子ゲル材料となった。該高分子ゲ
ル材料は、水溶液のイオン濃度やｐＨによって伸縮し
た。

【００５６】次にｐＨによる高分子ゲル材料の伸縮特性
について検討した。

【００５７】該高分子ゲル材料をｐＨ１１の水酸化ナト
リウム溶液中で平衡状態としてから３ミリ角に切り出
し、次に溶液をｐＨ３の塩酸溶液に交換して高分子ゲル
材料が平衡膨潤状態に達するまでの時間を測定した。ま
た、比較のため、同じ条件で石英ガラスウールを混合せ
ずに製造した多孔質化していない高分子ゲル材料につい
ても同様の測定を行った。比較の結果、多孔質化した高
分子ゲル材料は多孔質化していないものに比べ、約３倍
の速さで膨潤し平衡状態に達することがわかった。

【００５８】以上のように、本実施例の配合組成物に超
高圧水銀灯から光を照射すると、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オンがラジカルを
発生しＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド
とＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドが３次元架橋
した高分子が重合される。配合組成物に含まれた石英ガ
ラスウールは不活性であるため、重合された高分子に物
理的に含まれた状態の重合体が製造される。また、石英
ガラスウールは重合に使用する光の波長の透過率が高い
ため、ラジカル重合の阻害性は小さい。該重合体を水に
浸漬すると、重合体は３次元架橋されているため膨潤す
るだけで溶解せず、石英ガラスウールが重合体から溶出
する。石英ガラスウールが全て溶出されると、重合体は
石英ガラスウールが含まれていた部分が空隙となり、多
孔質となる。この重合体は高分子ゲル材料から構成され
ているため、多孔質の高分子ゲル材料を得ることができ
る。

【００５９】本発明の方法および配合組成物により、光
照射によって多孔性の高分子ゲル材料を得ることが可能
となる。また、繊維状物質が含まれていた部分が空隙と
なり多孔質化するため、連続空気孔の開いた高分子ゲル
材料を光照射によって製造できる。

【００６０】本発明の方法および配合組成物により、応
答速度が速く加工性に優れた高分子ゲル材料を製造でき
る。また、高分子ゲル材料に連続空孔が開いているた
め、応答速度がさらに高速化できる。

【００６１】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ができ
るので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水溶
性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅
も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【００６２】なお、この実施例は、当然、各種の変形、
変更が可能である。

【００６３】この実施例には次のような特徴がある。

【００６４】（ｉ）ラジカル重合性の官能基を１つ以上
有する水溶性の単量体としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミドを、ラジカル重合性の官能基を２
つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体としてＮ，
Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドを、光重合開始剤と
して２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オンを含有する組成物と、該組成物に不溶で溶
媒に可溶な該光重合開始剤がラジカルを発生する光の透
過性を有する繊維状物質として石英ガラスウールを混合
した配合組成物を調製し、光照射を行って該単量体をラ
ジカル重合せしめた後、水およびフッ酸水溶液に浸漬し
て該繊維状物質を溶解除去したことにより、連続空孔の
開いた多孔質の高分子ゲル材料を光重合によって製造で
き、しかも多孔質によって高分子ゲル材料の応答速度を
高速化することができる。

【００６５】実施例３ 本実施例は、ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、および光重合開始
剤を含有する組成物に、更に該組成物に不溶で溶媒に可
溶な該光重合開始剤がラジカルを発生する光の透過性を
有する粒子状物質を配合した配合組成物を用いる多孔性
高分子ゲル材料の製造方法の例である。

【００６６】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体としてアクリロイルモルフォリン（興
人）を、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有する水溶
性若しくは親水性の単量体としてエチレングリコールジ
アクリレート（日本油脂）を、光重合開始剤として２−
（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−
３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメ
ソクロライド（日本化薬）を含有する組成物と、該組成
物に不溶で溶媒に可溶な該光重合開始剤がラジカルを発
生する光の透過性を有する粒子状物質として臭化カリウ
ム（和光純薬工業）を用い、以下の方法で高分子ゲル材
料の光重合を検討した。

【００６７】本実施例の多孔性高分子ゲル製造方法のフ
ローチャートを図３に示す。

【００６８】アクリロイルモルフォリン０．１ｍｏｌ、
エチレングリコールジアクリレート０．００１ｍｏｌ、
２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキ
シ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−
オンメソクロライド０．００３ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノエタノールアミン０．００３ｍｏｌ（重合促進
剤）、臭化カリウム６ｇを混合した配合組成物３を調製
した。臭化カリウムは、メッシュを用いて粒径が５０〜
２００μｍのものを振るい分けして混合した。該配合組
成物３をポリエチレン性の０．３ｍｌの容器に入れた。
容器の上部からキセノンランプを用い５０ｍＷ／ｃｍ²
の照度で光を照射した。６０秒の照射により、配合組成
物は重合し硬化物となった。該硬化物を水道水によって
３時間流水洗浄した後、イオン交換水に浸漬して１時間
超音波洗浄し、さらに多量のイオン交換水に浸漬して一
昼夜放置する作業を繰り返して重合体を膨潤させ、臭化
カリウムを溶出除去した。膨潤後の体積は約１２倍にと
なり、臭化カリウムが含まれていた部分が空隙となって
多孔性の高分子ゲル材料となった。該高分子ゲル材料
は、水溶液のイオン濃度によって伸縮した。

【００６９】次にイオン濃度による高分子ゲル材料の伸
縮特性について検討した。

【００７０】該高分子ゲル材料をイオン交換水中で平衡
状態としてから３ミリ角に切り出し、次に０．０１Ｍの
塩化ナトリウム溶液中に浸漬して高分子ゲル材料が平衡
収縮状態に達するまでの時間を測定した。また、比較の
ため、同じ条件で臭化カリウムを混合せずに製造した多
孔質化していない高分子ゲル材料についても同様の測定
を行った。比較の結果、多孔質化した高分子ゲル材料は
多孔質化していないものに比べ、約２．５倍の速さで収
縮し平衡状態に達することがわかった。

【００７１】以上のように本実施例の配合組成物に超高
圧水銀灯から光を照射すると、２−（３−ジメチルアミ
ノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル−
９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロライドがラジ
カルを発生しアクリロイルモルフォリンとエチレングリ
コールジアクリレートが３次元架橋した高分子が重合さ
れる。配合組成物に含まれた臭化カリウムは不活性であ
るため、重合された高分子に物理的に含まれた状態の重
合体が製造される。また、臭化カリウムは紫外光を吸収
するが可視光の透過性に優れ、２−（３−ジメチルアミ
ノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル−
９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロライドは３６
０ｎｍ以上の波長の光でもラジカルを発生するため、ラ
ジカル重合の阻害性は小さい。該重合体を水に浸漬する
と、重合体は３次元架橋されているため膨潤するだけで
溶解せず、臭化カリウムが重合体から溶出する。臭化カ
リウムが全て溶出されると、重合体は臭化カリウムが含
まれていた部分が空隙となり、多孔質となる。この重合
体は高分子ゲル材料から構成されているため、多孔質の
高分子ゲル材料を得ることができる。

【００７２】本発明の方法および配合組成物により、光
照射によって多孔性の高分子ゲル材料を得ることが可能
となる。

【００７３】本発明の方法および配合組成物により、応
答速度が速く加工性に優れた高分子ゲル材料を製造でき
る。

【００７４】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ができ
るので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水溶
性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅
も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【００７５】なお、この実施例は、当然、各種の変形、
変更が可能である。

【００７６】この実施例には次のような特徴がある。

【００７７】（ｉ）ラジカル重合性の官能基を１つ以上
有する水溶性の単量体としてアクリロイルモルフォリン
を、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若
しくは親水性の単量体としてエチレングリコールジアク
リレートを、光重合開始剤として２−（３−ジメチルア
ミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル
−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロライドを含
有する組成物と、該組成物に不溶で溶媒に可溶な該光重
合開始剤がラジカルを発生する光の透過性を有する粒子
状物質として臭化カリウムを混合した配合組成物を調製
し、光照射を行って該単量体をラジカル重合せしめた
後、水に浸漬して臭化カリウムを溶解除去したことによ
り、多孔質の高分子ゲル材料を光重合によって製造でき
るという作用があり、高分子ゲル材料の応答速度が高速
化するという効果がある。

【００７８】実施例４ 本実施例は、ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤、溶
媒を含有する組成物に、更に該組成物に可溶な粒子状物
質を用いる高分子ゲル材料の光重合の例である。

【００７９】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体として２−アクリロイルオキシエチルト
リメチルアンモニウムクロライド（興人）を、ラジカル
重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性
の単量体としてＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド
（和光純薬工業）を、光重合開始剤として２−（３−ジ
メチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−
ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロラ
イド（日本化薬）を、溶媒としてイオン交換水を含有す
る組成物と、該組成物に可溶な粒子状物質として臭化カ
リウム（和光純薬工業）を用い、以下の方法で高分子ゲ
ル材料の光重合を検討した。

【００８０】本実施例の多孔性高分子ゲル製造方法のフ
ローチャートを図４に示す。

【００８１】２−アクリロイルオキシエチルトリメチル
アンモニウムクロライド０．１ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ′−メチ
レンビスアクリルアミド０．００１ｍｏｌ、２−（３−
ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４
−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロ
ライド０．００３ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエタ
ノールアミン０．００３ｍｏｌ（重合促進剤）、イオン
交換水４ｇ、臭化カリウム１２ｇを混合した配合組成物
４を調製した。臭化カリウムは、ふるいにかけ、粒径が
５０〜２００μｍのものを混合した。臭化カリウムは該
配合組成物に溶解するが、飽和量以上混合しているため
不溶物が残留した。該配合組成物４を良く撹拌した後、
ポリエチレン性の０．３ｍｌの容器に入れ、容器の上部
からキセノンランプを用い５０ｍＷ／ｃｍ² の照度で光
を照射した。６０秒の照射により、配合組成物は重合し
硬化物となった。該硬化物を水道水によって３時間流水
洗浄した後、イオン交換水に浸漬して１時間超音波洗浄
し、さらに多量のイオン交換水に浸漬して一昼夜放置す
る作業を繰り返して、重合体を膨潤させ臭化カリウムを
溶出除去した。膨潤後の体積は約１０倍にとなり、臭化
カリウムが含まれていた部分が空隙となって多孔性の高
分子ゲル材料となった。該高分子ゲル材料は、水溶液の
イオン濃度やｐＨによって伸縮した。

【００８２】次にイオン濃度による高分子ゲル材料の伸
縮特性について検討した。

【００８３】該高分子ゲル材料をイオン交換水中で平衡
状態としてから３ミリ角に切り出し、次に０．０１Ｍの
塩化ナトリウム溶液中に浸漬して高分子ゲル材料が平衡
収縮状態に達するまでの時間を測定した。また、比較の
ため、同じ条件で臭化カリウムを混合せずに製造した多
孔質化していない高分子ゲル材料についても同様の測定
を行った。比較の結果、多孔質化した高分子ゲル材料は
多孔質化していないものに比べ、約２倍の速さで収縮し
平衡状態に達することがわかった。

【００８４】以上のように、本実施例の配合組成物に超
高圧水銀灯から光を照射すると、２−（３−ジメチルア
ミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル
−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロライドがラ
ジカルを発生し２−アクリロイルオキシエチルトリメチ
ルアンモニウムクロライドとＮ，Ｎ′−メチレンビスア
クリルアミドが３次元架橋した高分子が重合される。配
合組成物に含まれた臭化カリウムは不活性であるため、
重合された高分子に物理的に含まれた状態の重合体が製
造される。また、臭化カリウムは紫外光を吸収するが可
視光の透過性に優れ、２−（３−ジメチルアミノ−２−
ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チ
オキサントン−９−オンメソクロライドは３６０ｎｍ以
上の波長の光でもラジカルを発生するため、ラジカル重
合の阻害性は小さい。該重合体を水に浸漬すると、重合
体は３次元架橋されているため膨潤するだけで溶解せ
ず、臭化カリウムが重合体から溶出する。臭化カリウム
が全て溶出されると、重合体は臭化カリウムが含まれて
いた部分が空隙となり、多孔質となる。この重合体は高
分子ゲル材料から構成されているため、多孔質の高分子
ゲル材料を得ることができる。

【００８５】本発明の方法および配合組成物により、光
照射によって多孔性の高分子ゲル材料を得ることが可能
となる。

【００８６】本発明の方法および配合組成物により、応
答速度が速く加工性に優れた高分子ゲル材料を製造でき
る。また、実施例１〜３の方法に比べ、配合組成物に水
を含有しているため、常温で固体の単量体を用いること
ができ、材料の選択の幅が広がる。また、水の混合率に
よって高分子ゲル材料の３次元架橋構造を変えることが
可能となる。

【００８７】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ができ
るので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水溶
性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅
も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【００８８】なお、この実施例は、当然、各種の変形、
変更が可能である。

【００８９】この実施例には次のような特徴がある。

【００９０】（ｉ）ラジカル重合性の官能基を１つ以上
有する水溶性の単量体として２−アクリロイルオキシエ
チルトリメチルアンモニウムクロライドを、ラジカル重
合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の
単量体としてＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド
を、光重合開始剤として２−（３−ジメチルアミノ−２
−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−
チオキサントン−９−オンメソクロライドを、溶媒とし
てイオン交換水を含有した組成物に、該組成物に可溶な
粒子状物質として臭化カリウムを飽和量以上混合した配
合組成物を調製し、光照射を行って該単量体をラジカル
重合せしめた後、水に浸漬して臭化カリウムを溶解除去
したことにより、多孔質の高分子ゲル材料を光重合によ
って製造でき、しかも高分子ゲル材料の応答速度を高速
化することができる。

【００９１】実施例５ 本実施例は、ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤、溶
媒を含有する組成物と該組成物に可溶な粒子状物質を用
いる高分子ゲル材料の光重合の例である。

【００９２】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体として３−アクリルアミドプロピルトリ
メチルアンモニウムクロライド（興人）を、ラジカル重
合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の
単量体としてＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド
（和光純薬工業）を、光重合開始剤として２−（３−ジ
メチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−
ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロラ
イド（日本化薬）を、溶媒としてイオン交換水を含有す
る組成物と、該組成物に可溶な粒子状物質として粒径約
１００μｍのポリ塩化ビニル（呉羽化学）を用い、以下
の方法で高分子ゲル材料の光重合を検討した。

【００９３】本実施例の多孔性高分子ゲル製造方法のフ
ローチャートを図５に示す。

【００９４】３−アクリルアミドプロピルトリメチルア
ンモニウムクロライド０．１ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ′−メチレ
ンビスアクリルアミド０．００１ｍｏｌ、２−（３−ジ
メチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−
ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロラ
イド０．００３ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエタノ
ールアミン０．００３ｍｏｌ（重合促進剤）、イオン交
換水１５ｇ、ポリ塩化ビニル１８ｇを混合した配合組成
物５を調製した。ポリ塩化ビニルは該配合組成物に溶解
するが、飽和量以上混合しているため不溶物が残留し
た。該配合組成物５を良く撹拌した後、ポリエチレン性
の０．３ｍｌの容器に入れ、容器の上部からキセノンラ
ンプを用い５０ｍＷ／ｃｍ² の照度で光を照射した。６
０秒の照射により、配合組成物は重合し硬化物となっ
た。該硬化物を水道水によって３時間流水洗浄した後、
テトラヒドロフランに浸漬して１時間超音波洗浄し、さ
らに多量のテトラヒドロフランに浸漬して一昼夜放置す
る作業を繰り返して、重合体を膨潤させポリ塩化ビニル
を溶出除去した。次に再びイオン交換水に浸漬してテト
ラヒドロフランとイオン交換水とを置換した。膨潤後の
体積は約１２倍にとなり、ポリ塩化ビニルが含まれてい
た部分が空隙となって多孔性の高分子ゲル材料となっ
た。該高分子ゲル材料は、水溶液のイオン濃度によって
伸縮した。

【００９５】次に、イオン濃度による高分子ゲル材料の
伸縮特性について検討した。

【００９６】該高分子ゲル材料をイオン交換水中で平衡
状態としてから３ミリ角に切り出し、次に０．０１Ｍの
塩化ナトリウム溶液中に浸漬して高分子ゲル材料が平衡
収縮状態に達するまでの時間を測定した。また、比較の
ため、同じ条件でポリ塩化ビニルを混合せずに製造した
多孔質化していない高分子ゲル材料についても同様の測
定を行った。比較の結果、多孔質化した高分子ゲル材料
は多孔質化していないものに比べ、約２倍の速さで収縮
し平衡状態に達することがわかった。

【００９７】以上のように、本発明の配合組成物に超高
圧水銀灯から光を照射すると、２−（３−ジメチルアミ
ノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル−
９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロライドがラジ
カルを発生し３−アクリルアミドプロピルトリメチルア
ンモニウムクロライドとＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリ
ルアミドが３次元架橋した高分子が重合される。配合組
成物に含まれたポリ塩化ビニルは不活性であるため、重
合された高分子に物理的に含まれた状態の重合体が製造
される。また、ポリ塩化ビニルは紫外光を吸収するが、
２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキ
シ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−
オンメソクロライドは３６０ｎｍ以上の波長の光でもラ
ジカルを発生するため、ラジカル重合の阻害性は小さ
い。該重合体を水に浸漬すると、重合体は３次元架橋さ
れているため膨潤するだけで溶解せず、ポリ塩化ゴニル
が重合体から溶出する。ポリ塩化ビニルが全て溶出され
ると、重合体はポリ塩化ビニルが含まれていた部分が空
隙となり、多孔質となる。この重合体は高分子ゲル材料
から構成されているため、多孔質の高分子ゲル材料を得
ることができる。

【００９８】本発明の方法および配合組成物により、光
照射によって多孔性の高分子ゲル材料を得ることが可能
となる。

【００９９】本発明の方法および配合組成物によって、
応答速度が速く加工性に優れた高分子ゲル材料を製造で
きる。また、実施例１〜３の方法に比べ、配合組成物に
水を含有しているため、常温で固体の単量体を用いるこ
とができ、材料の選択の幅が広がる。また、水の混合率
によって高分子ゲル材料の３次元架橋構造を変えること
が可能となる。

【０１００】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ができ
るので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水溶
性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅
も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【０１０１】なお、この実施例は、当然、各種の変形、
変更が可能である。

【０１０２】この実施例には次のような特徴がある。

【０１０３】（ｉ）ラジカル重合性の官能基を１つ以上
有する水溶性の単量体として３−アクリルアミドプロピ
ルトリメチルアンモニウムクロライドを、ラジカル重合
性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単
量体としてＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドを、
光重合開始剤として２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒ
ドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオ
キサントン−９−オンメソクロライドを、溶媒としてイ
オン交換水を含有した組成物に、該組成物に可溶な粒子
状物質としてポリ塩化ビニルを飽和量以上混合した配合
組成物を調製し、光照射を行って該単量体をラジカル重
合せしめた後、テトラヒドロフランに浸漬してポリ塩化
ビニルを溶解除去したことにより、多孔質の高分子ゲル
材料を光重合によって製造でき、しかも高分子ゲル材料
の応答速度を高速化することができる。

【０１０４】実施例６ 本実施例は、ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤、溶
媒を含有する組成物と該組成物に可溶な繊維状物質を用
いる例である。

【０１０５】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体として２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート（共栄社化学）を、ラジカル重合性の官能基を２つ
以上有する水溶性若しくは親水性の単量体としてエチレ
ングリコールジアクリレート（日本油脂）を、光重合開
始剤として２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシ
プロポキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサント
ン−９−オンメソクロライド（日本化薬）を、溶媒とし
てイオン交換水を含有した組成物と、該組成物に可溶な
繊維状物質としてナイロン繊維を用い、以下の方法で高
分子ゲル材料の光重合を検討した。

【０１０６】本実施例の多孔性高分子ゲル製造方法のフ
ローチャートを図６に示す。

【０１０７】２−ヒドロキシエチルメタクリレート０．
１ｍｏｌ、エチレングリコールジアクリレート０．００
１ｍｏｌ、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシ
プロポキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサント
ン−９−オンメソクロライド０．００３ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノエタノールアミン０．００３ｍｏｌ
（重合促進剤）、イオン交換水８ｇ、ナイロン繊維を混
合した配合組成物６を調製した。ナイロン繊維は該配合
組成物に溶解するが、飽和量以上混合しているため不溶
物が残留した。該配合組成物６を良く撹拌した後、ポリ
エチレン性の０．３ｍｌの容器に入れ、容器の上部から
キセノンランプを用い５０ｍＷ／ｃｍ² の照度で光を照
射した。６０秒の照射により、配合組成物は重合し硬化
物となった。該硬化物を水道水によって３時間流水洗浄
した後、テトラヒドロフランに浸漬して１時間超音波洗
浄し、さらに多量のテトラヒドロフランに浸漬して一昼
夜放置する作業を繰り返して、重合体を膨潤させナイロ
ン繊維を溶出除去した。次に再びイオン交換水に浸漬し
てテトラヒドロフランとイオン交換水とを置換した。膨
潤後の体積は約１２倍にとなり、ナイロン繊維が含まれ
ていた部分が空隙となっＷて多孔性の高分子ゲル材料と
なった。該高分子ゲル材料は、水溶液のイオン濃度によ
って伸縮した。

【０１０８】次に、イオン濃度による高分子ゲル材料の
伸縮特性について検討した。

【０１０９】該高分子ゲル材料をイオン交換水中で平衡
状態としてから３ミリ角に切り出し、次に０．０１Ｍの
塩化ナトリウム溶液中に浸漬して高分子ゲル材料が平衡
収縮状態に達するまでの時間を測定した。また、比較の
ため、同じ条件でナイロン繊維を混合せずに製造した多
孔質化していない高分子ゲル材料についても同様の測定
を行った。比較の結果、多孔質化した高分子ゲル材料は
多孔質化していないものに比べ、約３倍の速さで収縮し
平衡状態に達することがわかった。

【０１１０】以上のように、本実施例の配合組成物に超
高圧水銀灯から光を照射すると、２−（３−ジメチルア
ミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル
−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロライドがラ
ジカルを発生し２−ヒドロキシエチルメタクリレートと
エチレングリコールジアクリレートが３次元架橋した高
分子が重合される。配合組成物に含まれたナイロン繊維
は不活性であるため、重合された高分子に物理的に含ま
れた状態の重合体が製造される。また、ナイロン繊維は
紫外光を吸収するが、２−（３−ジメチルアミノ−２−
ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チ
オキサントン−９−オンメソクロライドは３６０ｎｍ以
上の波長の光でもラジカルを発生するため、ラジカル重
合の阻害性は小さい。該重合体を水に浸漬すると、重合
体は３次元架橋されているため膨潤するだけで溶解せ
ず、ナイロン繊維が重合体から溶出する。ナイロン繊維
が全て溶出されると、重合体はナイロン繊維が含まれて
いた部分が空隙となり、多孔質となる。この重合体は高
分子ゲル材料から構成されているため、多孔質の高分子
ゲル材料を得ることができる。

【０１１１】本発明の方法および配合組成物により、光
照射によって多孔性の高分子ゲル材料を得ることが可能
となる。また、繊維状物質が含まれていた部分が空隙と
なり多孔質化するため、連続空孔の開いた高分子ゲル材
料を光照射によって製造できる。

【０１１２】本発明の方法に従えば、応答速度が速く加
工性に優れた高分子ゲル材料を製造できる。また、高分
子ゲル材料に連続空孔が開いているため、応答速度がさ
らに高速化できる。また、実施例１〜３の方法に比べ、
配合組成物に水を含有しているため、常温で固体の単量
体を用いることができ、材料の選択の幅が広がる。ま
た、水の混合率によって高分子ゲル材料の３次元架橋構
造を変えることが可能となる。

【０１１３】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ができ
るので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水溶
性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅
も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【０１１４】なお、この実施例は、当然、各種の変形、
変更が可能である。

【０１１５】この実施例には次のような特徴がある。

【０１１６】（ｉ）ラジカル重合性の官能基を１つ以上
有する水溶性の単量体として２−ヒドロキシエチルメタ
クリテートを、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有す
る水溶性若しくは親水性の単量体としてエチレングリコ
ールジアクリレートを、光重合開始剤として２−（３−
ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４
−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロ
ライドを、溶媒としてイオン交換水を含有した組成物
に、該組成物に可溶な繊維状物質としてナイロン繊維を
飽和量以上混合した配合組成物を調製し、光照射を行っ
て該単量体をラジカル重合せしめた後、テトラヒドロフ
ランに浸漬してナイロン繊維を溶解除去したことによ
り、連続空孔の開いた多孔質の高分子ゲル材料を光重合
によって製造でき、しかも高分子ゲル材料の応答速度を
高速化することができる。

【０１１７】実施例７ 本実施例は、ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤、紫
外光によって分解する化合物を用る例である。

【０１１８】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル
アクリルアミド（興人）を、ラジカル重合性の官能基を
２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体として
Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド（和光純薬工
業）を、光重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−フェニルプロパン−１−オン（チバガイギー）
を、紫外光によって分解する化合物としてポリ（ｏ−ニ
トロベンズアルデヒドグリコールアセタール）を用いて
高分子ゲル材料の光重合を検討した。

【０１１９】本実施例の多孔性高分子ゲル製造方法のフ
ローチャートを図７に示す。

【０１２０】Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリル
アミド０．１ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリル
アミド０．００１ｍｏｌ、２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−フェニルプロパン−１−オン０．００３ｍｏｌ、
ポリ（ｏ−ニトロベンズアルデヒドグリコールアセター
ル）６ｇを混合した配合組成物７を調製した。該配合組
成物７を良く混合した後ポリエチレン性の０．３ｍｌの
容器に入れ、容器の上部からｄｅｅｐＵＶランプを用い
５０ｍＷ／ｃｍ² の照度で光を照射した。６０秒の照射
により、配合組成物中の単量体が重合し硬化物となっ
た。また、それと同時にポリ（ｏ−ニトロベンズアルデ
ヒドグリコールアセタール）が光分解し、低分子化し
た。該硬化物を水道水によって３時間流水洗浄した後、
メタノール／２−メトキシエタノール（１：１）混合溶
液に浸漬して１時間超音波洗浄し、さらに多量の該混合
溶液に浸漬して一昼夜放置する作業を繰り返して、重合
体を膨潤させ分解物質を溶出除去した。次に再びイオン
交換水に浸漬して混合溶液とイオン交換水とを置換し
た。水で膨潤した後の体積は約１０倍にとなり、ポリ
（ｏ−ニトロベンズアルデヒドグリコールアセタール）
が含まれていた部分が空隙となって多孔性の高分子ゲル
材料となった。該高分子ゲル材料は、水溶液のイオン濃
度やｐＨによって伸縮した。

【０１２１】次にｐＨによる高分子ゲル材料の伸縮特性
について検討した。

【０１２２】該高分子ゲル材料をｐＨ１１の水酸化ナト
リウム溶液中で平衡状態としてから３ミリ角に切り出
し、次に溶液をｐＨ３の塩酸溶液に交換して高分子ゲル
材料が平衡膨潤状態に達するまでの時間を測定した。ま
た、比較のため、同じ条件でポリ（ｏ−ニトロベンズア
ルデヒドグリコールアセタール）を混合せずに製造した
多孔質化していない高分子ゲル材料についても同様の測
定を行った。比較の結果、多孔質化した高分子ゲル材料
は多孔質化していないものに比べ、約２倍の速さで膨潤
し平衡状態に達することがわかった。

【０１２３】以上のように、本実施例の配合組成物に超
高圧水銀灯から光を照射すると、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オンがラジカルを
発生しＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド
とＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドが３次元架橋
した高分子が重合される。また、配合組成物に含まれた
ポリ（ｏ−ニトロベンズアルデヒドグリコールアセター
ル）は、紫外光によって分解され低分子化する。該重合
体をメタノール／２−メトキシエタノール（１：１）混
合溶液に浸漬すると、重合体は３次元架橋されているた
め膨潤するだけで溶解せず、分解した低分子化合物が重
合体から溶出する。分解物が全て溶出されると、重合体
はポリ（ｏ−ニトロベンズアルデヒドグリコールアセタ
ール）が含まれていた部分が空隙となり、多孔質とな
る。この重合体は高分子ゲル材料から構成されているた
め、多孔質の高分子ゲル材料を得ることができる。

【０１２４】本発明の方法および配合組成物により、光
照射によって多孔性の高分子ゲル材料を得ることが可能
となる。

【０１２５】本発明の方法および配合組成物により、応
答速度が速く加工性に優れた高分子ゲル材料を製造でき
る。また、紫外光によって分解する化合物は、固形の微
粒子を混合した場合に比べ、高分子ゲル材料を構成する
単量体との相溶性・分散性に優れているため、沈殿物が
生じにくく取り扱いが容易となる。

【０１２６】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ラジカ
ル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅も広い。ま
た、製造に用いる装置も安価である。

【０１２７】なお、この実施例は、当然、各種の変形、
変更が可能である。

【０１２８】この実施例には次のような特徴がある。

【０１２９】（ｉ）ラジカル重合性の官能基を１つ以上
有する水溶性の単量体としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミドを、ラジカル重合性の官能基を２
つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体としてＮ，
Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドを、光重合開始剤と
して２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オンを、紫外光によって分解する化合物として
ポリ（ｏ−ニトロベンズアルデヒドグリコールアセター
ル）を混合した配合組成物を調製し、光照射を行って該
単量体をラジカル重合せしめると同時に、ポリ（ｏ−ニ
トロベンズアルデヒドグリコールアセタール）を分解・
低分子化させ、メタノール／２−メトキシエタノール
（１：１）混合溶液に浸漬して分解物質を溶解除去した
ことにより、多孔質の高分子ゲル材料を光重合によって
製造でき、しかも多孔質化によって高分子ゲル材料の応
答速度を高速化することができる。

【０１３０】実施例８ 本実施例は、ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤、紫
外光によって分解する化合物を用いる例である。

【０１３１】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル
アクリルアミド（興人）を、ラジカル重合性の官能基を
２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体として
Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド（和光純薬工
業）を、光重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−フェニルプロパン−１−オン（チバガイギー）
を、紫外光によって分解する化合物としてナフトキノン
ジアジドを用い、以下の方法で高分子ゲル材料の光重合
を検討した。

【０１３２】本実施例の多孔性高分子ゲル製造方法のフ
ローチャートを図８に示す。

【０１３３】Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリル
アミド０．１ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリル
アミド０．００１ｍｏｌ、２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−フェニルプロパン−１−オン０．００３ｍｏｌ、
ナフトキノンジアジド５ｇを混合した配合組成物８を調
製した。該配合組成物８を良く混合した後ポリエチレン
性の０．３ｍｌの容器に入れた。容器の上部からｄｅｅ
ｐＵＶランプを用い５０ｍＷ／ｃｍ² の照度で光を照射
した。６０秒の照射により、配合組成物中の単量体が重
合し硬化物となった。また、それと同時にナフトキノン
ジアジドが光分解し、窒素ガスを発生した。該硬化物を
水道水によって３時間流水洗浄した後、アルカリ溶液に
浸漬して１時間超音波洗浄し、さらに多量のアルカリ溶
液に浸漬して一昼夜放置する作業を繰り返して、重合体
を膨潤させ分解物質を溶出除去した。次に再びイオン交
換水に浸漬してアルカリ溶液とイオン交換水とを置換し
た。水で膨潤した後の体積は約１０倍にとなり、窒素ガ
スおよびナフトキノンジアジドが含まれていた部分が空
隙となって多孔性の高分子ゲル材料となった。該高分子
ゲル材料は、水溶液のイオン濃度やｐＨによって伸縮し
た。

【０１３４】次にｐＨによる高分子ゲル材料の伸縮特性
について検討した。

【０１３５】該高分子ゲル材料をｐＨ１１の水酸化ナト
リウム溶液中で平衡状態としてから３ミリ角に切り出
し、次に溶液をｐＨ３の塩酸溶液に交換して高分子ゲル
材料が平衡膨潤状態に達するまでの時間を測定した。ま
た、比較のため、同じ条件でナフトキノンジアジドを混
合せずに製造した多孔質化していない高分子ゲル材料に
ついても同様の測定を行った。比較の結果、多孔質化し
た高分子ゲル材料は多孔質化していないものに比べ、約
２倍の速さで膨潤し平衡状態に達することがわかった。

【０１３６】以上のように、本実施例の配合組成物に超
高圧水銀灯から光を照射すると、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オンがラジカルを
発生し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミ
ドとＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドが３次元架
橋した高分子が重合される。また、配合組成物に含まれ
たナフトキノンジアジドは、紫外光によって分解され窒
素ガスを発生し、アルカリ可溶のインデンカルボン酸と
なる。該重合体をアルカリ溶液に浸漬すると、重合体は
３次元架橋されているため膨潤するだけで溶解せず、分
解したナフトキノンジアジドが重合体から溶出する。分
解物が全て溶出されると、重合体は窒素ガスおよびナフ
トキノンジアジドが含まれていた部分が空隙となり、多
孔質となる。この重合体は高分子ゲル材料から構成され
ているため、多孔質の高分子ゲル材料を得ることができ
る。

【０１３７】本発明の方法および配合組成物により、光
照射によって多孔性の高分子ゲル材料を得ることが可能
となる。

【０１３８】本発明の方法および配合組成物により、応
答速度が速く加工性に優れた高分子ゲル材料を製造でき
る。また、紫外光によって化合物は、固形の微粒子を混
合した場合に比べ、高分子ゲル材料を構成する単量体と
の相溶性・分散性に優れているため、沈殿物が生じにく
く取り扱いが容易となる。

【０１３９】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ができ
るので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水溶
性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅
も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【０１４０】なお、この実施例は、当然、各種の変形、
変更が可能である。

【０１４１】この実施例には次のような特徴がある。

【０１４２】（ｉ）ラジカル重合性の官能基を１つ以上
有する水溶性の単量体としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミドを、ラジカル重合性の官能基を２
つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体としてＮ，
Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドを、光重合開始剤と
して２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オンを、紫外光によって分解する化合物として
ナフトキノンジアジドを含有した配合組成物を調製し、
光照射を行って該単量体をラジカル重合せしめると同時
に、ナフトキノンジアジドを分解・ガス発生させ、アル
カリ溶液に浸漬して分解物質を溶解除去したことによ
り、多孔質の高分子ゲル材料を光重合によって製造で
き、多孔質化によって高分子ゲル材料の応答速度をが高
速化することができる。

【０１４３】実施例９ 本実施例は、ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤、紫
外光によって分解する化合物を用いる例である。

【０１４４】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル
アクリルアミド（興人）を、ラジカル重合性の官能基を
２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体として
Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド（和光純薬工
業）を、光重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−フェニルプロパン−１−オン（チバガイギー）
を、紫外光によって分解する化合物としてポリメチルイ
ソプロペニルケトンを用い、以下の方法で高分子ゲル材
料の光重合を検討した。

【０１４５】本実施例の多孔性高分子ゲル製造方法のフ
ローチャートを図９に示す。

【０１４６】Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリル
アミド０．１ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリル
アミド０．００１ｍｏｌ、２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−フェニルプロパン−１−オン０．００３ｍｏｌ、
ポリメチルイソプロペニルケトン５ｇを混合した配合組
成物９を調製した。該配合組成物９を良く混合した後ポ
リエチレン性の０．３ｍｌの容器に入れ、容器の上部か
らｄｅｅｐＵＶランプを用い５０ｍＷ／ｃｍ² の照度で
光を照射した。６０秒の照射により、配合組成物中の単
量体が重合し硬化物となった。また、それと同時にポリ
メチルイソプロペニルケトンが光分解し、炭酸ガスを発
生して低分子化した。該硬化物を水道水によって３時間
流水洗浄した後、エタノールに浸漬して１時間超音波洗
浄し、さらに多量のエタノールに浸漬して一昼夜放置す
る作業を繰り返して、重合体を膨潤させ分解物質を溶出
除去した。次に再びイオン交換水に浸漬してエタノール
とイオン交換水とを置換した。水で膨潤した後の体積は
約１０倍にとなり、炭酸ガスおよびポリメチルイソプロ
ペニルケトンが含まれていた部分が空隙となって多孔性
の高分子ゲル材料となった。該高分子ゲル材料は、水溶
液のイオン濃度やｐＨによって伸縮した。

【０１４７】次にｐＨによる高分子ゲル材料の伸縮特性
について検討した。

【０１４８】該高分子ゲル材料をｐＨ１１の水酸化ナト
リウム溶液中で平衡状態としてから３ミリ角に切り出
し、次に溶液をｐＨ３の塩酸溶液に交換して高分子ゲル
材料が平衡膨潤状態に達するまでの時間を測定した。ま
た、比較のため、同じ条件でポリメチルイソプロペニル
ケトンを混合せずに製造した多孔質化していない高分子
ゲル材料についても同様の測定を行った。比較の結果、
多孔質化した高分子ゲル材料は多孔質化していないもの
に比べ、約２倍の速さで膨潤し平衡状態に達することが
わかった。

【０１４９】以上のように、本実施例の配合組成物に超
高圧水銀灯から光を照射すると、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オンがラジカルを
発生しＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド
とＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドが３次元架橋
した高分子が重合される。また、配合組成物に含まれた
ポリメチルイソプロペニルケトンは、紫外光によって分
解され炭酸ガスを発生し、高分子鎖が切断され低分子化
する。該重合体をアルコールに浸漬すると、重合体は３
次元架橋されているため膨潤するだけで溶解せず、分解
したポリメチルイソプロペニルケトンが重合体から溶出
する。分解物が全て溶出されると、重合体は炭酸ガスお
よびポリメチルイソプロペニルケトンが含まれていた部
分が空隙となり、多孔質となる。この重合体は高分子ゲ
ル材料から構成されているため、多孔質の高分子ゲル材
料を得ることができる。

【０１５０】本発明の方法および配合組成物により、光
照射によって多孔性の高分子ゲル材料を得ることが可能
となる。

【０１５１】以上のように、本発明の方法および配合組
成物によって、応答速度が速く加工性に優れた高分子ゲ
ル材料を製造できる。また、紫外光によって分解する化
合物は、固形の微粒子を混合した場合に比べ、高分子ゲ
ル材料を構成する単量体との相溶性・分散性に優れてい
るため、沈殿物が生じにくく取り扱いが容易となる。

【０１５２】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ができ
るので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水溶
性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅
も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【０１５３】なお、この実施例は、当然、各種の変形、
変更が可能である。

【０１５４】この実施例には次のような特徴がある。

【０１５５】（ｉ）ラジカル重合性の官能基を１つ以上
有する水溶性の単量体としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミドを、ラジカル重合性の官能基を２
つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体としてＮ，
Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドを、光重合開始剤と
して２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オンを、紫外光によって分解する化合物として
ポリメチルイソプロペニルケトンを含有した配合組成物
を調製し、光照射を行って該単量体をラジカル重合せし
めると同時に、ポリメチルイソプロペニルケトンを分解
・ガス発生させ、アルカリ溶液に浸漬して分解物質を溶
解除去したことにより、多孔質の高分子ゲル材料を光重
合によって製造でき、多孔質化によって高分子ゲル材料
の応答速度を高速化することができる。

【０１５６】実施例１０ 本実施例は、 ラジカル重合性の官能基を１つ以上有す
る水溶性の単量、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤、７
００ｎｍ以上の波長領域に吸収極大を有する色素、１０
０℃より低温で熱分解し、気体を発生する分解型発泡剤
用いる例である。

【０１５７】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル
アクリルアミド（興人）を、ラジカル重合性の官能基を
２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体として
Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド（和光純薬工
業）を、光重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−フェニルプロパン−１−オン（チバガイギー）
を、７００ｎｍ以上の波長領域に吸収極大を有する色素
としてシアニン系色素ＩＲ−１４０（日本感光色素）
を、１００℃より低温で熱分解し気体を発生する分解型
発泡剤として炭酸アンモニウムを用い、以下の方法で高
分子ゲル材料の光重合を検討した。

【０１５８】本実施例の多孔性高分子ゲル製造方法のフ
ローチャートを図１０に示す。

【０１５９】Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリル
アミド０．１ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリル
アミド０．００１ｍｏｌ、２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−フェニルプロパン−１−オン０．００３ｍｏｌ、
シアニン系色素０．００１ｍｏｌ、炭酸アンモニウム
０．１ｇを混合した配合組成物１０を調製した。該配合
組成物１０を良く混合した後ポリエチレン性の０．３ｍ
ｌの容器に入れ、容器の上部からキセノンランプを用い
５０ｍＷ／ｃｍ² の照度で光を照射した。６０秒の照射
により、配合組成物中の単量体が重合し硬化物となっ
た。また、それと同時に光源からの反応熱によって炭酸
アンモニウムが熱分解し、アンモニアガスと炭酸ガスを
発生した。該硬化物を水道水によって３時間流水洗浄し
た後、イオン交換水に浸漬して１時間超音波洗浄し、さ
らに多量のイオン交換水に浸漬して一昼夜放置する作業
を繰り返して、重合体を膨潤させ分解物質を溶出除去し
た。水で膨潤した後の体積は約１０倍にとなり、発生し
たガスによって空隙が生じて多孔性の高分子ゲル材料と
なった。該高分子ゲル材料は、水溶液のイオン濃度やｐ
Ｈによって伸縮した。

【０１６０】次にｐＨによる高分子ゲル材料の伸縮特性
について検討した。

【０１６１】該高分子ゲル材料をｐＨ１１の水酸化ナト
リウム溶液中で平衡状態としてから３ミリ角に切り出
し、次に溶液をｐＨ３の塩酸溶液に交換して高分子ゲル
材料が平衡膨潤状態に達するまでの時間を測定した。ま
た、比較のため、同じ条件でシアニン系色素ＩＲ−１４
０と炭酸アンモニウムを混合せずに製造した多孔質化し
ていない高分子ゲル材料についても同様の測定を行っ
た。比較の結果、多孔質化した高分子ゲル材料は多孔質
化していないものに比べ、約２倍の速さで膨潤し平衡状
態に達することがわかった。

【０１６２】以上のように、本実施例の配合組成物に超
高圧水銀灯から光を照射すると、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オンがラジカルを
発生しＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド
とＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドが３次元架橋
した高分子が重合される。また、配合組成物に含まれた
シアニン系色素ＩＲ−１４０は８２３ｎｍに吸収極大を
有するため、近赤外域の光を吸収して熱エネルギーに変
える働きをする。また、配合組成物に含まれた炭酸アン
モニウムは、近赤外域の光を色素が吸収したことによっ
て生じた熱と反応熱によって熱分解されアンモニアガス
および炭酸ガスを発生する。炭酸アンモニウムは約５０
℃で分解するため、低温での発泡を可能とする。該重合
体をイオン交換水に浸漬すると、重合体は３次元架橋さ
れているため膨潤するだけで溶解せず、発生したガスに
よって空隙が生じ、多孔質となる。この重合体は高分子
ゲル材料から構成されているため、多孔質の高分子ゲル
材料を得ることができる。

【０１６３】本発明の方法および配合組成物により、光
照射によって多孔性の高分子ゲル材料を得ることが可能
となる。

【０１６４】このように、本発明の方法および配合組成
物によって応答速度が速く加工性に優れた高分子ゲル材
料を製造できる。また、重合体に含まれた微粒子を溶出
して多孔質とする方法に比べ、重合と同時に多孔質とす
ることが可能となる。

【０１６５】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ができ
るので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水溶
性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅
も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【０１６６】なお、この実施例は、当然、各種の変形、
変更が可能である。

【０１６７】この実施例には次のような特徴がある。

【０１６８】（ｉ）ラジカル重合性の官能基を１つ以上
有する水溶性の単量体としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミドを、ラジカル重合性の官能基を２
つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体としてＮ，
Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドを、光重合開始剤と
して２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オンを、７００ｎｍ以上の波長領域に吸収極大
を有する色素としてシアニン系色素ＩＲ−１４０を、１
００℃より低温で熱分解し気体を発生する分解型発泡剤
として炭酸アンモニウムを含有した配合組成物を調製
し、光照射を行って該単量体をラジカル重合せしめると
同時に、炭酸アンモニウムを分解・発泡させたことによ
り、多孔質の高分子ゲル材料を光重合によって製造で
き、しかも多孔質化によって高分子ゲル材料の応答速度
を高速化することができる。

【０１６９】実施例１１ 本実施例は、ラジカル重合性の官能基を１つ以上有し且
つイオン基を１つ以上有する単量体、ラジカル重合性の
官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量
体、光重合開始剤、前記イオン基を１つ以上有する単量
体のイオン基と反対電荷のイオン基を有する界面活性剤
を用いる例である。

【０１７０】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有し且
つイオン基を１つ以上有する単量体としてＮ，Ｎ−ジメ
チルアミノプロピルアクリルアミド（興人）を、ラジカ
ル重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水
性の単量体としてＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミ
ド（和光純薬工業）を、光重合開始剤として２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
（チバガイギー）を、前記イオン基を１つ以上有する単
量体のイオン基と反対電荷のイオン基を有する界面活性
剤としてステアリン酸を用い、以下の方法で高分子ゲル
材料の光重合を検討した。

【０１７１】本実施例の多孔性高分子ゲル製造方法のフ
ローチャートを図１１に示す。

【０１７２】Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリル
アミド０．１ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリル
アミド０．００１ｍｏｌ、２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−フェニルプロパン−１−オン０．００３ｍｏｌ、
ステアリン酸２ｇ、イオン交換水５ｇを混合した配合組
成物１１を調製した。該配合組成物１１を良く混合して
ミセルを形成させ、ポリエチレン性の０．３ｍｌの容器
に入れた。容器の上部から超高圧水銀灯を用い５０ｍＷ
／ｃｍ² の照度で光を照射した。６０秒の照射により、
配合組成物中の単量体が重合し硬化物となった。該硬化
物を水道水によって３時間流水洗浄した後、０．１Ｍの
塩酸水溶液に浸漬して１時間超音波洗浄し、さらに多量
の０．１Ｍの塩酸水溶液に浸漬して一昼夜放置する作業
を繰り返して、重合体を膨潤させステアリン酸を重合体
から溶出除去した。次に再びイオン交換水に浸漬して塩
酸水溶液とイオン交換水とを置換した。水で膨潤した後
の体積は約１０倍にとなり、発生したガスによって空隙
が生じて多孔性の高分子ゲル材料となった。該高分子ゲ
ル材料は、水溶液のイオン濃度やｐＨによって伸縮し
た。

【０１７３】次にｐＨによる高分子ゲル材料の伸縮特性
について検討した。

【０１７４】該高分子ゲル材料をｐＨ１１の水酸化ナト
リウム溶液中で平衡状態としてから３ミリ角に切り出
し、次に溶液をｐＨ３の塩酸溶液に交換して高分子ゲル
材料が平衡膨潤状態に達するまでの時間を測定した。ま
た、比較のため、同じ条件でステアリン酸を混合せずに
製造した多孔質化していない高分子ゲル材料についても
同様の測定を行った。比較の結果、多孔質化した高分子
ゲル材料は多孔質化していないものに比べ、約２倍の速
さで膨潤し平衡状態に達することがわかった。

【０１７５】以上のように本実施例の配合組成物を良く
撹拌することにより、ステアリン酸はＮ，Ｎ−ジメチル
アミノプロピルアクリルアミドとコンプレックスを形成
し、さらに配合組成物中でミセルを形成する。この配合
組成物に超高圧水銀灯から光を照射すると、２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンが
ラジカルを発生しＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアク
リルアミドとＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミドが
３次元架橋した高分子が重合される。配合組成物に含ま
れたステアリン酸は不活性であるため、重合された高分
子にミセルのまま含まれた状態の重合体が製造される。
該重合体を０．１Ｍの塩酸に浸漬すると、コンプレック
スが解離され、ステアリン酸が重合体から溶出する。重
合体は３次元架橋されているため膨潤するだけで溶解せ
ず、重合体はステアリン酸がミセルとして含まれていた
部分が空隙となり、多孔質となる。この重合体は高分子
ゲル材料から構成されているため、多孔質の高分子ゲル
材料を得ることができる。

【０１７６】本発明の方法および配合組成物により、光
照射によって多孔性の高分子ゲル材料を得ることが可能
となる。

【０１７７】本発明の方法および配合組成物によって、
応答速度が速く加工性に優れた高分子ゲル材料を製造で
きる。また、界面活性剤は液体であるため、固形の微粒
子を混合した場合に比べ、高分子ゲル材料を構成する単
量体との相溶性・分散性に優れており、均一な多孔質の
形成を可能とする。

【０１７８】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ができ
るので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水溶
性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅
も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【０１７９】なお、この実施例は、当然、各種の変形、
変更が可能である。

【０１８０】この実施例には次のような特徴がある。

【０１８１】（ｉ）ラジカル重合性の官能基を１つ以上
有し且つイオン基を１つ以上有する単量体としてＮ，Ｎ
−ジメチルアミノプロピルアクリルアミドを、ラジカル
重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性
の単量体としてＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド
を、光重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オンを、該イオン基を１つ
以上有する単量体のイオン基と反対電荷のイオン基を有
する界面活性剤としてステアリン酸を混合して、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノプロピルアクリルアミドとコンプレッ
クスを形成したステアリン酸がミセルを形成して存在す
る配合組成物を調製し、光照射を行って該単量体をラジ
カル重合せしめた後、強酸溶液に浸漬してコンプレック
スを解離させステアリン酸を溶解除去したことにより、
多孔質の高分子ゲル材料を光重合によって製造でき、し
かも多孔質化によって高分子ゲル材料の応答速度を高速
化することができる。

【０１８２】実施例１２ 本実施例は、ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤、溶
媒を含有する組成物と、該組成物に可溶な粒子状物、微
粒子二酸化ケイ素を用いる例である。

【０１８３】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体として２−アクリロイルオキシエチルト
リメチルアンモニウムクロライド（興人）を、ラジカル
重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性
の単量体としてＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド
（和光純薬工業）を、光重合開始剤として２−（３−ジ
メチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−
ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロラ
イド（日本化薬）を、溶媒としてイオン交換水を、配合
組成物に可溶な粒子状物質として臭化カリウム（和光純
薬工業）を、微粒子二酸化ケイ素として粒径約１２ｎｍ
のアエロジル２００（日本アエロジル）を用い、以下の
方法で高分子ゲル材料の光重合を検討した。なお、アエ
ロジル２００は、側鎖にビニル基を有するシランカップ
リング剤で表面処理したものを用いた。

【０１８４】アエロジルの表面処理は以下の方法で行っ
た。ビニルトリクロロシランの１０Ｍのトルエン溶液を
調製し、該溶液にアエロジルを入れ撹拌しながら１２時
間放置した。該アエロジルを溶液から取り出し、トルエ
ンでの洗浄を繰り返して、表面処理を終了した。ビニル
トリクロロシランは、ビニルトリクロロシランのクロル
基がアエロジル表面のＯＨ基と加水分解反応して共有結
合で強固に結合し、アエロジル表面に自発的に単分子膜
を製造する。したがって、ビニルトリクロロシランのビ
ニル基が表面にならんだ被覆処理を施すことができる。

【０１８５】本実施例の多孔性高分子ゲル製造方法のフ
ローチャートを図１２に示す。

【０１８６】２−アクリロイルオキシエチルトリメチル
アンモニウムクロライド０．１ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ′−メチ
レンビスアクリルアミド０．００１ｍｏｌ、２−（３−
ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４
−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロ
ライド０．００３ｍｏｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエタ
ノールアミン０．００３ｍｏｌ（重合促進剤）、イオン
交換水４ｇ、臭化カリウム１２ｇ、アエロジル０．１９
ｇを混合した配合組成物１２を調製した。臭化カリウム
は、メッシュを用いて粒径が５０〜２００μｍのものを
振るい分けして混合した。臭化カリウムは該配合組成物
に溶解するが、飽和量以上混合しているため不溶物が残
留した。該配合組成物１２を良く撹拌した後、ポリエチ
レン性の０．３ｍｌの容器に入れ、容器の上部からキセ
ノンランプを用い５０ｍＷ／ｃｍ² の照度で光を照射し
た。６０秒の照射により、配合組成物は重合し硬化物と
なった。該硬化物を水道水によって３時間流水洗浄した
後、イオン交換水に浸漬して１時間超音波洗浄し、さら
に多量のイオン交換水に浸漬して一昼夜放置する作業を
繰り返して、重合体を膨潤させ臭化カリウムを溶出除去
した。アエロジルは水に不溶であるため、重合体からは
溶出しなかった。膨潤後の体積は約６倍にとなり、臭化
カリウムが含まれていた部分が空隙となって多孔性の高
分子ゲル材料となった。該高分子ゲル材料は、水溶液の
イオン濃度やｐＨによって伸縮した。

【０１８７】次にイオン濃度による高分子ゲル材料の伸
縮特性と、高分子ゲル材料の材料強度について検討し
た。

【０１８８】該高分子ゲル材料をイオン交換水中で平衡
状態としてから３ミリ角に切り出し、次に０．０１Ｍの
塩化ナトリウム溶液中に浸漬して高分子ゲル材料が平衡
膨潤状態に達するまでの時間と、膨潤状態における耐圧
縮強度を測定した。また、比較のため、同じ条件でアエ
ロジルを混合せずに製造した多孔性高分子ゲル材料につ
いても同様の測定を行った。比較の結果、収縮する速度
はほとんど同じであり、耐圧縮強度はアエロジルを混合
した高分子ゲル材料は混合していないものに比べ、約３
倍の強度を示すことがわかった（表２参照）。

【０１８９】

【表２】

【０１９０】以上のように、本実施例の配合組成物に超
高圧水銀灯から光を照射すると、２−（３−ジメチルア
ミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル
−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロライドがラ
ジカルを発生し２−アクリロイルオキシエチルトリメチ
ルアンモニウムクロライドとＮ，Ｎ′−メチレンビスア
クリルアミドおよびアエロジルに表面処理されたシラン
カップリング剤のビニル基が３次元架橋した高分子が重
合される。配合組成物に含まれたアエロジルは表面処理
したシランカップリング剤によって重合体と化学結合し
た状態で存在する。一方、配合組成物に含まれた臭化カ
リウムは不活性であるため、重合された高分子に物理的
に含まれた状態で存在する。アエロジルは二酸化ケイ素
であるため、光透過性に優れており、ラジカル重合の阻
害性は小さい。また、臭化カリウムは紫外光を吸収する
が、可視光の透過性に優れ、２−（３−ジメチルアミノ
−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル−９
Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロライドは３６０
ｎｍ以上の波長の光でもラジカルを発生するため、ラジ
カル重合の阻害性は小さい。該重合体を水に浸漬する
と、重合体は３次元架橋されているため膨潤するだけで
溶解せず、重合体中に物理的に取り込まれた状態で存在
する臭化カリウムのみが重合体から溶出する。臭化カリ
ウムが全て溶出されると、重合体は臭化カリウムが含ま
れていた部分が空隙となり、多孔質となる。アエロジル
は重合体中に化学結合された状態で存在し、材料強度を
補強する働きをする。この重合体は高分子ゲル材料から
構成されているため、多孔質で且つ材料強度の強い高分
子ゲル材料を得ることができる。

【０１９１】本発明の方法および配合組成物および配合
組成物により、光照射によって多孔性の高分子ゲル材料
を得ることが可能となる。

【０１９２】本発明の方法および配合組成物によって応
答速度が速く加工性に優れ材料強度の強い高分子ゲル材
料を製造できる。

【０１９３】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ができ
るので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水溶
性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅
も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【０１９４】なお、この実施例は、当然、各種の変形、
変更が可能である。

【０１９５】この実施例には次のような特徴がある。

【０１９６】（ｉ）ラジカル重合性の官能基を１つ以上
有する水溶性の単量体として２−アクリロイルオキシエ
チルトリメチルアンモニウムクロライドを、ラジカル重
合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の
単量体としてＮ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド
を、光重合開始剤として２−（３−ジメチルアミノ−２
−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−
チオキサントン−９−オンメソクロライドを、溶媒とし
てイオン交換水を含有した組成物に、該組成物に可溶な
粒子状物質として臭化カリウムを飽和量以上混合し、さ
らに側鎖にビニル基を有する微粒子二酸化ケイ素として
ビニルトリクロロシランで表面処理したアエロジル２０
０を混合した配合組成物を調製し、光照射を行って該単
量体をラジカル重合せしめた後、水に浸漬して臭化カリ
ウムを溶解除去したことにより、多孔質で材料強度の強
い高分子ゲル材料を光重合によって製造でき、しかも高
分子ゲル材料の応答速度を高速化することができる。

【０１９７】表３に上述した実施例と従来例の多孔性高
分子ゲルの製法としての比較を示す。

【０１９８】

【表３】

【０１９９】従来例１：特開昭６３−２２３０４５に開
示された方法で調製した。

【０２００】分子量７５０００のポリビニルアルコール
の７．６重量％水溶液（Ａ）に分子量が１７万の酸性の
高分子電解質の１．９重量％の水溶液（Ｂ）と、分子量
が６００００の塩基性高分子電解質の１．５重量％の溶
液（Ｃ）を混合した混合材料（Ｄ）を多数の突起を形成
した感光性樹脂板上に塗布し、−５０℃の環境下で凍結
することと、常温で回答することとを１０回繰り返した
後、風乾して多孔性高分子材料を得た。

【０２０１】従来例２：「荻野一善、長田義仁、伏見隆
夫、山内愛造：ゲル、産業図書、ｐ６７〜６８」に開示
された方法で調製した。

【０２０２】ポリビニルメチルエーテル（ＰＭＶＥ）水
溶液と少量のアルギン酸ナトリウム水溶液の混合溶液
を、４０℃に加熱した塩化カルシウム水溶液の紡糸浴に
ノズルより押出し、湿式紡糸し、２０％塩化カルシウム
水溶液に浸析したままγ線を照射する。アルギン酸カル
シウムは、ガンマ線照射により分解するため除去され、
多孔質ゲル材料が得られる。

【０２０３】表３に示したように、本実施例による多孔
性高分子ゲルの製造方法は、光の照射パターンによって
重合物の製造ができるので複雑な加工や微小化に適す
る。また、材料に水溶性のラジカル重合性単量体を用い
るので材料の選択の幅も広い。また、製造に用いる装置
も安価である。

【０２０４】以下に、本発明の更なる側面を上記題意の
側面および第二の側面と併せて記載する。なお、上記第
一の側面および第二の側面は、それぞれ、下記（１）お
よび（１−１）に対応する。

【０２０５】（１） 化学エネルギーを力学エネルギー
に変換するケモメカニカル材料に用いられる多孔性高分
子ゲル材料の製造方法において、少なくともラジカル重
合性の官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカ
ル重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水
性の単量体と光重合開始剤とを含有した組成物に、前記
組成物に不溶で溶媒に可溶な粒子状物質であり、且つ前
記光重合開始剤がラジカルを発生する光に透過性を有す
る粒子状物質を混合した配合組成物を用い、該配合組成
物に光照射を行って前記単量体をラジカル重合させ、重
合体を得る行程；前記粒子状物質が可溶で且つ重合体が
膨潤する溶媒に浸漬して該粒子状物質を溶解除去する行
程；を具備することを特徴とする多孔性高分子ゲル材料
の製造方法。（構成）実施例１、２、３が該当する。

【０２０６】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体とは、不飽和炭化水素を１個以上有する
水溶性の単量体の中から選択され、イオン基を有する単
量体とイオン基を有さない単量体がある。イオン基を有
するラジカル重合性単量体としては、カルボキシル基、
スルホン酸基、リン酸基、３級アミン、水酸化４級アミ
ン、スルホニウム基などのイオン基を有し、少なくとも
１個以上のラジカル重合性官能基を有する単量体の中か
ら選択される。例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル酢
酸、スチレンスルホン酸、無水マレイン酸、２−アクリ
ルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノプロピルアクリルアミド、２−アクリロイルオ
キシドエチルトリメチルアンモニウムクロライド、３−
アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロラ
イドなどがそれに値する。イオン基を持たない水溶性の
ラジカル重合性単量体としては、例えば、アクリロイル
モルフォリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート、エチレングリコール（メタ）アクリレート、アク
リルアミド、グリセロール（メタ）アクリレート、ビニ
ルピロリドン、Ｎ，Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレート、モルフォリノエ
チル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸メチ
ル、（メタ）アクリル酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアク
リルアミドなどがそれに値する。ラジカル重合性の官能
基を１つ以上有する水溶性の単量体は、上記単量体のう
ち一種または複数を用いて構成される。イオン基を有す
る単量体を用いる場合は、酸またはアルカリによってイ
オン基を中和して用いた方が重合しやすくなる。

【０２０７】ラジカル重合性の官能基を２つ以上有する
水溶性若しくは親水性の単量体とは、不飽和炭化水素を
２個以上有する単量体の中から選択される。例えば、
Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド、エチレングリ
コールジアクリレート、エチレングルコールジメタクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリ
エチレングリコールジメタクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレ
ート、２，２−ビス［４−（アクリロキシジエトキシ）
フェニル］プロパン、グリセロールジアクリレート、グ
リセロールジメタクリレート、１，４−ブタンジオール
ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレートなどがそ
れに値する。

【０２０８】光重合開始剤は、光照射によってラジカル
を発生する作用を有する化合物から選択される。例え
ば、紫外光によってラジカルを発生する化合物として
は、ベンゾフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジ
フェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキ
シルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチ
ルベンゾイルジフェニルフォスフォンオキサイド、１−
［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンなど
がそれに値する。また、３６０ｎｍ以上の波長の光によ
ってラジカルを発生する化合物としては、例えば、２，
４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサン
トン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２
−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）
−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オン
メソクロライド、２−メチル−１［４−（メチルチオ）
フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１、２−ベン
ジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフ
ェニル）−ブタノン−１、ビス（シクロペンタジエニ
ル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イ
ル）チタニウム、などがそれに値する。また、１，３−
ジ（ｔ−ブチルジオキシカルボニル）ベンゼンや３，
３′，４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルペルオキシカル
ボニル）ベンゾフェノンなどのパーオキシエステルに、
チオピリリウム塩、メロシアニン、キノリン、スチルキ
ノリン系色素を混合した物質を用いることもできる。特
に、水溶性の光重合開始剤か常温で液体状の光重合開始
剤の方が望ましい。

【０２０９】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体とラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体と光重合開始剤とを
含有した組成物の配合比は、ラジカル重合性の官能基を
１つ以上有する水溶性の単量体に対してラジカル重合性
の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量
体は０．５〜５ｍｏｌ％、光重合開始剤は０．０１〜５
ｍｏｌ％の範囲であることが望ましい。ラジカル重合性
の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量
体が０．５ｍｏｌ％未満の場合では、多孔性ゲル材料の
材料強度が非常に弱くなる。一方、５ｍｏｌ％よりも多
量の場合は多孔性ゲル材料の伸縮率が小さくなる、膨潤
する際多孔性ゲル材料に亀裂が入り崩壊しやすくなる、
などの問題が生じる。また、光重合開始剤が０．００１
ｍｏｌ％未満の場合は重合速度が遅く、５ｍｏｌ％より
多量の場合は重合度が低下する。

【０２１０】粒子状物質は、前記組成物に不溶で溶媒に
可溶であって、ラジカル重合に使用する光の波長の透過
性が高い粒子状物質から選択される。一般に、ラジカル
重合には紫外線が用いられるため、紫外線の透過性の高
い物質が望ましい。例えば、二酸化ケイ素やフッ化カル
シウムなどがそれに値する。また、粒子状物質として臭
化カリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウムなどの無機
塩を用いることもできるが、無機塩の結晶は紫外光を吸
収するため、３６０ｎｍ以上の光によってラジカルを発
生する光重合開始剤と組み合わせて用いることが望まし
い。無機塩としては、光透過性に優れた臭化カリウムが
最も適している。粒子状物質の粒径は１０〜１０００μ
ｍの範囲の物が望ましく、特に５０〜２００μｍの物が
望ましい。粒径が１０μｍ未満の場合では、製造したゲ
ル材料の孔が小さすぎて多孔質化する効果が小さくな
る、配合組成物の粘度が高くなる、などの問題が生じ
る。粒径が１０００μｍよりも大きい場合は、孔が大き
すぎて材料強度が弱くなるという問題が生じる。粒子状
物質の含有率は、１０〜５０ｖｏｌ％で有ることが望ま
しく、特に２０〜４０ｖｏｌ％が望ましい。１０ｖｏｌ
％以下の場合は孔と孔がつながらないため多孔質化する
効果が小くなる。５０ｖｏｌ％よりも多量の場合は孔が
多量すぎて材料強度が弱くなるという問題が生じる。

【０２１１】ラジカル重合に用いる光は、光重合開始剤
がラジカルを発生する波長を含んだ光が照射できる光源
から照射する。一般の光重合開始剤は紫外線によってラ
ジカルを発生する物がほとんどであるため、紫外線を照
射できる光源が望ましい。例えば、高圧水銀灯、キセノ
ンランプ、Ｈｅ−Ｃｄレーザーなどがそれに値する。

【０２１２】該粒子状物質が可溶で且つ重合体が膨潤す
る溶媒は、用いる粒子状物質の性質によって選択する。
該粒子状物質が二酸化ケイ素やフッ化カルシウムの場合
はフッ酸や強アルカリ水溶液を、無機塩の場合は水を用
いることが望ましい。

【０２１３】（作用）上記配合組成物に光を照射する
と、光重合開始剤がラジカルを発生しラジカル重合性の
官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合
性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単
量体が３次元架橋した高分子が重合される。配合組成物
に含まれた粒子状物質は不活性であるため、重合された
高分子に物理的に含まれた状態の重合体が製造される。
また、粒子状物質は重合に使用する光の波長を透過する
ため、ラジカル重合の阻害性は小さい。該重合体を該粒
子状物質が可溶で且つ重合体が膨潤する溶媒に浸漬する
と、重合体は３次元架橋されているため膨潤するだけで
溶解せず、粒子状化合物および光重合開始剤が重合体か
ら溶出する。粒子状化合物が全て溶出されると、重合体
は粒子状化合物が含まれていた部分が空隙となり、多孔
質となる。この重合体は高分子ゲルとなる材料から構成
されているため、多孔質の高分子ゲル材料を得ることが
できる。

【０２１４】つまり、この手段によって光照射によって
多孔性の高分子ゲル材料を製造することが可能となる。

【０２１５】（効果）高分子ゲル材料が多孔質化される
ことによって、高分子ゲル材料の表面積が大きくなる。
高分子ゲル材料は溶液の吸収・放出によって膨潤・収縮
し、機械的変形を生じるため、表面積が大きくなると溶
液の交換が容易となり応答速度が向上する。

【０２１６】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンによって重合物の製造がで
きるので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水
溶性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の
幅も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【０２１７】（１−１） 少なくともラジカル重合性の
官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合
性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単
量体と光重合開始剤とを含有した組成物に、前記組成物
に不溶で溶媒に可溶な粒子状物質であり、且つ前記光重
合開始剤がラジカルを発生する光に透過性を有する粒子
状物質を混合したことを特徴とする多孔性高分子ゲル材
料製造用の配合組成物。

【０２１８】（構成）実施例１、２、３が該当する。

【０２１９】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤を含
有する組成物と、該組成物に不溶で溶媒に可溶な粒子状
物質であり、且つ該光重合開始剤がラジカルを発生する
光の透過性を有する粒子状物質の構成は（１）と同様で
ある。

【０２２０】（作用）（１）と同様である。

【０２２１】（効果）（１）同様である。また、この配
合組成物を用いることによって（１）記載の方法で光照
射によって多孔性の高分子ゲル材料を製造することが可
能となる。

【０２２２】（１−２） 該粒子状物質の粒径が１０〜
１０００μｍであって、その含有量が１０〜５０ｖｏｌ
％であることを特徴とする（１）記載の多孔性高分子ゲ
ル材料製造方法。

【０２２３】（構成）実施例１、２、３が該当する。

【０２２４】（１）の粒子状物質を粒径が１０〜１００
０μｍの物から選択し、その含有量を１０〜５０ｖｏｌ
％とする。

【０２２５】（作用）（１）と同様である。

【０２２６】（効果）（１）と同様である。

【０２２７】（１−２−１） 該粒子状物質の粒径が１
０〜１０００μｍであって、その含有量が１０〜５０ｖ
ｏｌ％であることを特徴とする（１−１）記載の多孔性
高分子ゲル材料製造用配合組成物。

【０２２８】（構成）実施例１、２、３が該当する。

【０２２９】（１−１）の粒子状物質を粒径が１０〜１
０００μｍの物から選択し、その含有量を１０〜５０ｖ
ｏｌ％とする。

【０２３０】（作用）（１−１）と同様である。

【０２３１】（効果）（１−１）と同様である。

【０２３２】（１−３） 該粒子状物質が二酸化ケイ素
またはフッ化カルシウムであることを特徴とする（１）
記載の多孔性高分子ゲル材料製造方法。

【０２３３】（構成）実施例１が該当する。

【０２３４】（１）の粒子状物質を二酸化ケイ素または
フッ化カルシウムを用いて構成し、粒子状物質を溶解す
る溶媒にフッ酸や強アルカリ水溶液を用いる。

【０２３５】（作用）（１）と同様。

【０２３６】（効果）（１）と同様である。また、二酸
化ケイ素とフッ化カルシウムは光透過性に優れているた
め、重合反応が円滑に進む。特に、二酸化ケイ素は粒径
を調製しやすいので、孔の大きさが均一な高分子ゲル材
料を製造することが可能となる。

【０２３７】（１−３−１） 該粒子状物質が二酸化ケ
イ素またはフッ化カルシウムであることを特徴とする
（１−１）記載の多孔性高分子ゲル材料製造用配合組成
物。

【０２３８】（構成）実施例１が該当する。

【０２３９】（１−１）の粒子状物質を二酸化ケイ素ま
たはフッ化カルシウムを用いて構成し、粒子状物質を溶
解する溶媒には、フッ酸や強アルカリ水溶液を用いる。

【０２４０】（作用）（１−１）と同様である。

【０２４１】（効果）（１−１）と同様である。また、
二酸化ケイ素とフッ化カルシウムは光透過性に優れてい
るため、重合反応が円滑に進む。特に、二酸化ケイ素は
粒径を調製しやすいので、孔の大きさが均一な高分子ゲ
ル材料を製造することが可能となる。

【０２４２】（１−４） （１−３）記載の粒子状の二
酸化ケイ素の代わりに、繊維状の二酸化ケイ素を用いた
ことを特徴とする（１−３）記載の多孔性高分子ゲル材
料製造方法。

【０２４３】（構成）実施例２が該当する。

【０２４４】（１−３）の粒子状物質を二酸化ケイ素の
代わりに、繊維状の二酸化ケイ素を用いて配合組成物を
構成する。ここで繊維状とは、細い糸状構造を有するこ
とをいい、太さに対して長さが１０倍以上であるものを
指す。用いる繊維状の二酸化ケイ素としては、太さが５
μｍ以上であることが望ましい。繊維状の二酸化ケイ素
を溶解する溶媒には、フッ酸や強アルカリ水溶液を用い
る。

【０２４５】（作用）（１）に記載した処理によって、
重合体から繊維状の二酸化ケイ素が溶出し、多孔質の高
分子ゲル材料が製造できる。繊維状物質が含まれていた
部分が空隙となり多孔質化するため、連続空孔の開いた
高分子ゲル材料となる。

【０２４６】（効果）（１−３）と同様である。また、
高分子ゲル材料に連続空孔が開いているため、応答速度
がさらに高速化できる。

【０２４７】（１−４−１） （１−３）記載の粒子状
の二酸化ケイ素の代わりに、繊維状の二酸化ケイ素を用
いたことを特徴とする（１−３−１）記載の多孔性高分
子ゲル材料製造用配合組成物。

【０２４８】（構成）実施例２が該当する。

【０２４９】（１−３−１）の粒子状の二酸化ケイ素の
代わりに繊維状の二酸化ケイ素を用いて配合組成物を構
成する。

【０２５０】（作用）（１−４）と同様である。

【０２５１】（効果）（１−１）と同様である。また、
高分子ゲル材料に連続空孔が開いているため、応答速度
がさらに高速化できる。

【０２５２】（１−５） 該二酸化ケイ素が側鎖にビニ
ル基を有するシランカップリング剤で表面処理された二
酸化ケイ素であることを特徴とする（１−３）または
（１−４）記載の多孔性高分子ゲル材料製造方法。

【０２５３】（構成）実施例１が該当する。

【０２５４】（１−３）および（１−４）の二酸化ケイ
素を側鎖にビニル基を有するシランカップリング剤で表
面処理された二酸化ケイ素を用いて構成し、粒子状物質
を溶解する溶媒には、フッ酸を用いる。

【０２５５】（作用）上記配合組成物に光を照射する
と、光重合開始剤がラジカルを発生しラジカル重合性の
官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合
性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単
量体および二酸化ケイ素に表面処理されたシランカップ
リング剤のビニル基が３次元架橋した高分子が重合され
る。配合組成物に含まれた二酸化ケイ素は表面処理した
シランカップリング剤によって重合体と化学結合した状
態で存在する。また、二酸化ケイ素は重合に使用する光
の波長の透過率が高いため、ラジカル重合の阻害性は小
さい。該重合体をフッ酸水溶液に浸漬すると、重合体は
３次元架橋されているため膨潤するだけで溶解せず、二
酸化ケイ素が重合体から溶出する。二酸化ケイ素が全て
溶出されると、重合体は二酸化ケイ素が含まれていた部
分が空隙となり、多孔質となる。この重合体は高分子ゲ
ルとなる材料から構成されているため、多孔質の高分子
ゲル材料を得ることができる。

【０２５６】つまり、本発明の方法により、光照射によ
って多孔性の高分子ゲル材料を得ることが可能となる。
また、二酸化ケイ素は配合組成物の主成分である単量体
に比べ比重が重く沈殿しやすいが、側鎖にビニル基を有
するシランカップリング剤で表面処理することによって
単量体との相溶性が上がり、且つ側鎖にあるビニル基が
単量体と重合するため、二酸化ケイ素が重合体に化学結
合した重合物が形成できる。

【０２５７】（効果）（１）と同様である。また、二酸
化ケイ素の沈殿が軽減され、均一に孔の開いた高分子ゲ
ル材料となる。

【０２５８】（１−５−１） 該二酸化ケイ素が側鎖に
ビニル基を有するシランカップリング剤で表面処理され
た二酸化ケイ素であることを特徴とする（１−３−１）
または（１−４−１）記載の多孔性高分子ゲル材料製造
用配合組成物。

【０２５９】（構成）実施例１が該当する。

【０２６０】（１−３−１）および（１−４−１）の二
酸化ケイ素を側鎖にビニル基を有するシランカップリン
グ剤で表面処理された二酸化ケイ素を用いて構成する。

【０２６１】（作用）（１−５）と同様である。

【０２６２】（効果）（１−３）および（１−４）と同
様である。また、二酸化ケイ素の沈殿が軽減され、均一
に孔の開いた高分子ゲル材料となる。

【０２６３】（１−６） 該粒子状物質の無機塩であ
り、該光重合開始剤が３６０ｎｍ以上の波長の光によっ
てラジカルを発生する化合物であることを特徴とする
（１）記載の多孔性高分子ゲル材料製造方法。

【０２６４】（構成）実施例３が該当する。

【０２６５】（１）の粒子状物質を無機塩の中の１種あ
るいは複数種を用いて構成し、光重合開始剤を３６０ｎ
ｍ以上の波長の光によってラジカルを発生する化合物と
する。無機塩としては、臭化カリウム、塩化ナトリウ
ム、塩化カリウムなどがそれに値する。とくに、光透過
性の優れている臭化カリウムを用いることが望ましい。
また、３６０ｎｍ以上の波長の光によってラジカルを発
生する化合物としては、例えば、２，４−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、１−クロロ
−４−プロポキシチオキサントン、２−（３−ジメチル
アミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチ
ル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロライド、
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２
−モルフォリノプロパン−１、２−ベンジル−２−ジメ
チルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタ
ノン−１、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，
６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）チタニウム、
などがそれに値する。また、１，３−ジ（ｔ−ブチルジ
オキシカルボニル）ベンゼンや３，３′，４，４′−テ
トラ−（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェ
ノンなどのパーオキシエステルに、チオピリリウム塩、
メロシアニン、キノリン、スチルキノリン系色素を混合
した物質を用いることもできる。

【０２６６】粒子状物質を溶解する溶媒には、水を用い
る。

【０２６７】ラジカル重合に用いる光は、３６０ｎｍ以
上の波長を含んだ光が照射できる光源から照射する。例
えば、高圧水銀灯、キセノンランプなどがそれに値す
る。

【０２６８】（作用）（１）と同様である。

【０２６９】（効果）（１）と同様である。また、粒子
状物質が無機塩であるため、安価な材料で製造できる。
また、多孔質化に用いる溶媒が水であるため人体に害が
無く、安価での処理が可能となる。

【０２７０】（１−６−１） 該粒子状物質が無機塩で
あり、該光重合開始剤が３６０ｎｍ以上の波長の光によ
ってラジカルを発生する化合物であることを特徴とする
（１−１）記載の多孔性高分子ゲル材料製造用配合組成
物。

【０２７１】（構成）実施例３が該当する。

【０２７２】（１−１）の粒子状物質を無機塩の中の１
種あるいは複数種を用いて構成し、光重合開始剤を３６
０ｎｍ以上の波長の光によってラジカルを発生する化合
物とする。

【０２７３】（作用）（１−１）と同様である。

【０２７４】（効果）（１−１）と同様である。また、
粒子状物質が無機塩であるため、安価な材料で製造でき
る。また、多孔質化に用いる溶媒が水であるため人体に
害が無く、安価での処理が可能となる。

【０２７５】（１−７） 該無機塩が臭化カリウムであ
ることを特徴とする（１−６）記載の多孔性高分子ゲル
材料製造方法。

【０２７６】（構成）実施例３が該当する。

【０２７７】（１−６）の無機塩を臭化カリウムとす
る。

【０２７８】（作用）（１−６）と同様である。

【０２７９】（効果）（１−６）と同様である。

【０２８０】（１−７−１） 該無機塩が臭化カリウム
であることを特徴とする（１−６−１）記載の多孔性高
分子ゲル材料製造用配合組成物。

【０２８１】（構成）実施例３が該当する。

【０２８２】（１−６−１）の無機塩を臭化カリウムと
する。

【０２８３】（作用）（１−６−１）と同様である。

【０２８４】（効果）（１−６−１）と同様である。

【０２８５】（２） 化学エネルギーを力学エネルギー
に変換するケモメカニカル材料に用いられる多孔性高分
子ゲル材料の製造方法において、少なくともラジカル重
合性の官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカ
ル重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水
性の単量体と水と光重合開始剤とを含有した組成物に、
前記組成物に可溶な粒子状物質を飽和量以上混合した配
合組成物を用い、該配合組成物に光照射を行って前記単
量体をラジカル重合させ、重合体を得る行程；前記粒子
状物質が可溶で且つ重合体が膨潤する溶媒に浸漬して該
粒子状物質を溶解除去する行程；を具備することを特徴
とする多孔性高分子ゲル材料の製造方法。

【０２８６】（構成）実施例４、５、６が該当する。

【０２８７】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体の構成は（１−１）
と同様である。

【０２８８】光重合開始剤は、３６０ｎｍ以上の波長の
光によってラジカルを発生する化合物が望ましい。例え
ば、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチ
オキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサン
トン、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロ
ポキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−
９−オンメソクロライド、２−メチル−１−［４−（メ
チルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−
１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ビス（シクロペ
ンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピ
ル−１−イル）チタニウム、などがそれに値する。ま
た、１，３−ジ（ｔ−ブチルジオキシカルボニル）ベン
ゼンや３，３′，４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルペル
オキシカルボニル）ベンゾフェノンなどのパーオキシエ
ステルに、チオピリリウム塩、メロシアニン、キノリ
ン、スチルキノリン系色素を混合した物質を用いること
もできる。特に、水溶性の光重合開始剤か常温で液体状
の光重合性開始剤の方が望ましい。

【０２８９】水は特に限定されないが、蒸溜水やイオン
交換水の方が望ましい。水の配合比は、ラジカル重合性
の官能基を１つ以上有する水溶性の単量体に対して８０
ｗｔ％以下であることが望ましく、特に、５０ｗｔ％以
下が望ましい、８０ｗｔ％より多量の場合は、重合体の
材料強度が弱くなるという問題が生じる。

【０２９０】配合組成物に可溶な粒子状物質は特に限定
されないが、中性の無機塩や光透過性を有する高分子が
望ましい。中性の無機塩としては、臭化カリウム、臭化
ナトリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、などの水
に溶解した際に一価のイオンになる無機塩が望ましい。
二価のイオンになる無機塩は、イオン基を有する単量体
を用いた場合、二価のイオン一つに対して二つの単量体
のイオン基がコンプレックスを形成する可能性があり、
重合体が膨潤しにくくなるという問題が生じる。酸性や
アルカリ性を示す無機物は、ｐＨの影響によって重合が
阻害される可能性があるため、適した無機物ではない。
光透過性を有する高分子としては、紫外光の透過率の高
い樹脂が望ましい。

【０２９１】粒子状物質の粒径は１０〜１０００μｍの
範囲の物が望ましく、特に５０〜２００μｍの物が望ま
しい。粒径が１０μｍ未満の場合では、製造した高分子
ゲル材料の孔が小さすぎて多孔質化する効果が小さくな
る、配合組成物の粘度が高くなる、などの問題が生じ
る。粒径が１０００μｍよりも大きい場合は、孔が大き
すぎて材料強度が弱くなるという問題も生じる。粒子状
物質は、樹脂材料配合組成物に対して飽和量以上の量を
混合する。粒子状物質の混合量は、配合組成物の主な原
料である単量体の種類や配合している水の量によって異
なる。粒子状物質として無機塩は水への溶解度が高く、
高分子は単量体への溶解度が高いため、含有する水の量
が少ない場合は無機塩を、多い場合は高分子を用いるこ
とが望ましい。粒子状物質を混合する割合は、飽和量以
上混合することによって生じた不溶な粒子状物質の量
が、１０〜５０ｖｏｌ％になるよう粒子状物質を混合す
ることが望ましく、特に２０〜４０ｖｏｌ％が望まし
い。１０ｖｏｌ％以下の場合は孔と孔がつながらないた
め多孔質化する効果が小さくなる。５０ｖｏｌ％よりも
多量の場合は孔が多量すぎて材料強度が弱くなるという
問題が生じる。

【０２９２】ラジカル重合に用いる光は、３６０ｎｍ以
上の波長を含んだ光が望ましい。例えば、高圧水銀灯、
キセノンランプなどを光源とした光がそれに値する。

【０２９３】該粒子状物質が可溶で且つ重合体が膨潤す
る溶媒は、用いる粒子状物質によって選択する。該粒子
状物質が無機塩の場合は水を、高分子の場合は有機溶媒
を用いる。有機溶媒としては、テトラヒドロフランが最
も適しているが、その他、該高分子が可溶であれば、ア
ルコール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、などの有機溶媒を用いることもできる。しかし、ア
セトンは重合体が膨潤しないため適した溶媒ではない。

【０２９４】（作用）上記配合組成物に光を照射する
と、光重合開始剤がラジカルを発生しラジカル重合性の
官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合
性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単
量体が３次元架橋した高分子が重合される。配合組成物
に含まれた粒子状物質は不活性であるため、重合された
高分子に物理的に含まれた状態の重合体が製造される。
また、粒子状物質は重合に使用する光の波長の透過率の
高いものを用いているため、ラジカル重合の阻害性は小
さい。該重合体を粒子状物質が可溶な溶媒に浸漬する
と、重合体は３次元架橋されているため膨潤するだけで
溶解せず、粒子状物質および光重合開始剤が重合体から
溶出する。粒子状物質が全て溶出されると、重合体は粒
子状物質が含まれていた部分が空隙となり、多孔質とな
る。この重合体は高分子ゲルとなる材料から構成されて
いるため、多孔質の高分子ゲル材料を得ることができ
る。

【０２９５】つまり、この手段によって光照射によって
多孔性の高分子ゲル材料を製造することが可能となる。

【０２９６】（効果）（１）と同様である。また、
（１）の方法に比べ、配合組成物に水を含有しているた
め、常温で固体の単量体を用いることができ、材料の選
択の幅が広がる。また、水の混合率によって高分子ゲル
材料の３次元架橋構造を変えることが可能となる。

【０２９７】（２−１） 少なくともラジカル重合性の
官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合
性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単
量体と水と光重合開始剤とを含有した組成物に、該組成
物に可溶な粒子状物質を飽和量以上混合したことを特徴
とする多孔性高分子ゲル材料製造用の配合組成物。

【０２９８】（構成）実施例４、５、６が該当する。

【０２９９】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、水、光重合開始剤
を含有した組成物と、該組成物に可溶な粒子状物質の構
成は（２）と同様である。

【０３００】（作用）（２）と同様である。

【０３０１】（効果）（２）と同様である。また、この
配合組成物を用い、（２）記載の方法で光照射すること
によって多孔性の高分子ゲル材料を製造することが可能
となる。

【０３０２】（２−２） 該粒子状物質の粒径が１０〜
１０００μｍであることを特徴とする、（２）記載の多
孔性高分子ゲル材料製造方法。

【０３０３】（構成）実施例４、５、６が該当する。

【０３０４】（２）の粒子状物質を粒径が１０〜１００
０μｍの物から選択する。

【０３０５】（作用）（２）と同様である。

【０３０６】（効果）（２）と同様。

【０３０７】（２−２−１） 該粒子状物質の粒径が１
０〜１０００μｍであることを特徴とする（２−１）記
載の多孔性高分子ゲル材料製造用配合組成物。

【０３０８】（構成）実施例４、５、６が該当する。

【０３０９】（２−１）の粒子状物質を粒径が１０〜１
０００μｍの物から選択する。

【０３１０】（作用）（２−１）と同様である。

【０３１１】（効果）（２−１）と同様である。

【０３１２】（２−３） 該粒子状物質が水溶性で且つ
中性の無機塩であり、該光重合開始剤が３６０ｎｍ以上
の波長の光によってラジカルを発生する化合物であるこ
とを特徴とする（２）記載の多孔性高分子ゲル材料製造
方法。

【０３１３】（構成）実施例４が該当する。

【０３１４】（２）の粒子状物質を中性の無機塩の中の
１種あるいは複数種を用いて構成し、光重合開始剤を３
６０ｎｍ以上の波長の光によってラジカルを発生する化
合物で構成する。粒子状物質を溶解する溶媒には水を用
いる。

【０３１５】（作用）（２）と同様である。また、無機
塩は３５０ｎｍ以下の紫外域に吸収を有するが、３６０
ｎｍ以上のに仮によってラジカルを発生する光重合開始
剤を用いているため、ラジカル重合の阻害性は小い。

【０３１６】（効果）（２）と同様である。無機塩は３
６０ｎｍより短い波長域に吸収を有するため、光重合開
始剤を３６０ｎｍ以上の波長の光によってラジカルを発
生する化合物にすることによって、重合の阻害を軽減で
きる。また、粒子状物質が無機塩であるため、安価な材
料で製造できる。また、多孔質化に用いる溶媒が水であ
るため人体に害が無く、安価での処理が可能となる。

【０３１７】（２−３−１） 該粒子状物質が水溶性で
且つ中性の無機塩であり、該光重合開始剤が３６０ｎｍ
以上の波長の光によってラジカルを発生する化合物であ
ることを特徴とする（２−１）記載の多孔性高分子ゲル
材料製造用配合組成物。

【０３１８】（構成）実施例４が該当する。

【０３１９】（２−１）の粒子状物質を中性の無機塩の
中の１種あるいは複数種を用いて構成し、光重合開始剤
を３６０ｎｍ以上の波長の光によってラジカルを発生す
る化合物で構成する。

【０３２０】（作用）（２−１）と同様である。また、
無機塩は３５０ｎｍ以下の紫外域に吸収を有するが、３
６０ｎｍ以上のに仮によってラジカルを発生する光重合
開始剤を用いているため、ラジカル重合の阻害性は小
い。

【０３２１】（効果）（２−１）と同様である。無機塩
は３６０ｎｍより短い波長域に吸収を有するため、光重
合開始剤を３６０ｎｍ以上の波長の光によってラジカル
を発生する化合物にすることによって、重合の阻害を軽
減できる。また、粒子状物質が無機塩であるため、安価
な材料で製造できる。また、多孔質化に用いる溶媒が水
であるため人体に害が無く、安価での処理が可能とな
る。

【０３２２】（２−４） 該粒子状物質が高分子であ
り、該光重合開始剤が３６０ｎｍ以上の波長の光によっ
てラジカルを発生する化合物であることを特徴とする、
（２）記載の多孔性高分子ゲル材料製造方法。

【０３２３】（構成）実施例５が該当する。

【０３２４】（２）の粒子状物質を光透過性を有する高
分子の中の１種あるいは複数種を用いて構成し、光重合
開始剤を３６０ｎｍ以上の波長の光によってラジカルを
発生する化合物で構成する。光透過性を有する高分子と
しては、３６０ｎｍ以上の波長の光の透過率が高く、有
機溶媒に溶解する物質の中から選択される。例えば、ア
クリル樹脂、ポリスチレン、透明ＡＢＳ樹脂、透明ナイ
ロン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、などがそれ
に値する。

【０３２５】粒子状物質を溶解する溶媒には、有機溶媒
を用いる。

【０３２６】ラジカル重合に用いる光は、光重合開始剤
がラジカルを発生する３６０ｎｍ以上の波長の光を含ん
だ光が照射できる光源から照射する。例えば、高圧水銀
灯、キセノンランプなどがそれに値する。

【０３２７】（作用）（２）と同様である。また、高分
子は３５０ｎｍ以下の紫外域に吸収を有するが、３６０
ｎｍ以上のに仮によってラジカルを発生する光重合開始
剤を用いているため、ラジカル重合の阻害性は小い。

【０３２８】（効果）（２）と同様である。高分子は３
６０ｎｍより短い波長域に吸収を有するため、光重合開
始剤を３６０ｎｍ以上の波長の光によってラジカルを発
生する化合物にすることによって、粒子状物質として用
いる高分子の選択の幅が広がり、微粒子を混合すること
による重合の阻害を軽減できる。また、配合組成物の水
の含有量が多い場合、（２−３）の無機塩に比べ混合す
る高分子の量が微量であっても飽和状態に達するため、
混合する粒子状物質の量が少なくできる。

【０３２９】（２−４−１） 該粒子状物質が高分子で
あり、該光重合開始剤が３６０ｎｍ以上の波長の光によ
ってラジカルを発生する化合物であることを特徴とする
（２−１）記載の多孔性高分子ゲル材料製造用配合組成
物。

【０３３０】（構成）実施例５が該当する。

【０３３１】（２−１）の粒子状物質を透過性を有する
高分子の中の１種あるいは複数種を用いて構成し、光重
合開始剤を３６０ｎｍ以上の波長の光によってラジカル
を発生する化合物で構成する。

【０３３２】（作用）（２−１）と同様である。また、
高分子は３５０ｎｍ以下の紫外域に吸収を有するが、３
６０ｎｍ以上のに仮によってラジカルを発生する光重合
開始剤を用いているため、ラジカル重合の阻害性は小
い。

【０３３３】（効果）（２−１）と同様である。高分子
は、３６０ｎｍより短い波長域に大きな吸収を有するた
め、光重合開始剤を３６０ｎｍ以上の波長の光によって
ラジカルを発生する化合物にすることによって、粒子状
物質として用いる高分子の選択の幅が広がり、微粒子を
混合することによる重合の阻害を軽減できる。また、配
合組成物の水の含有量が多い場合、（２−３−１）の無
機塩に比べ混合する高分子の量が微量であっても飽和状
態に達するため、混合する粒子状物質の量が少なくでき
る。

【０３３４】（２−５） （２−４）記載の粒子状高分
子の代わりに、繊維状高分子を用いたことを特徴とする
（２−４）記載の多孔性高分子ゲル材料製造方法。

【０３３５】（構成）実施例６が該当する。

【０３３６】（２−４）記載の粒子状高分子の代わり
に、繊維状高分子を用いて配合組成物を構成する。ここ
で繊維状とは、細い糸状のことであり、太さに対して長
さが１０倍以上であるものを指す。用いる繊維状の高分
子としては、太さが５μｍ以上であることが望ましい。
該高分子を溶解する溶媒には、有機溶媒を用いる。

【０３３７】（作用）（２）に記載した処理によって、
重合体から繊維状高分子が溶出し、多孔質の高分子ゲル
材料が製造できる。繊維状物質が含まれていた部分が空
隙となり多孔質化するため、連続空孔の開いた高分子ゲ
ル材料となる。

【０３３８】（効果）（２−４）と同様である。また、
高分子ゲル材料に連続空孔が開いているため、応答速度
がさらに高速化できる。

【０３３９】（２−５−１） （２−４−１）記載の粒
子状高分子の代わりに、繊維状高分子を用いたことを特
徴とする、（２−４−１）記載の多孔性高分子ゲル材料
製造用配合組成物。

【０３４０】（構成）実施例６が該当する。

【０３４１】（２−４−１）記載の粒子状高分子の代わ
りに、繊維状高分子を用いて配合組成物を構成する。

【０３４２】（作用）（２−４）と同様である。

【０３４３】（効果）（２−４−１）と同様である。ま
た、高分子ゲル材料に連続空孔が開いているため、応答
速度がさらに高速化できる。

【０３４４】（３） 化学エネルギーを力学エネルギー
に変換するケモメカニカル材料に用いられる多孔性高分
子ゲル材料の製造方法において、少なくともラジカル重
合性の官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカ
ル重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水
性の単量体と光重合開始剤とを含有した組成物に、紫外
光によって分解する化合物を混合した配合組成物を用
い、該配合組成物に紫外光照射を行って、前記単量体を
ラジカル重合せしめる工程と；該ラジカル重合と同時に
紫外線照射によって該紫外光によって分解する化合物を
分解させる工程；を具備した多孔性高分子ゲル材料の製
造方法。

【０３４５】（構成）実施例７、８、９が該当する。

【０３４６】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤の構
成は（１−１）と同様である。

【０３４７】紫外光によって分解する化合物には、紫外
光の照射によって分解して低分子化する有機高分子化合
物、または、紫外光によって分解して気体を発生する化
合物、または、紫外光の照射によって分解して低分子化
し且つ気体を発生する有機高分子化合物の中から選択さ
れる。紫外光の照射によって分解して低分子化する有機
高分子化合物としては、例えば、ポリ（ｏ−ニトロベン
ズアルデヒドグリコールアセタール）がそれに値する。
紫外光の照射によって分解して気体を発生する化合物と
しては、例えば、ナフトキノンジアジド誘導体、テトラ
ジアゾニウム塩、などがそれに値する。紫外光の照射に
よって分解して低分子化し且つ気体を発生する有機高分
子化合物としては、例えば、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリメチルイソプロペニルケトンなどがそれに値す
る。

【０３４８】紫外線によって分解する化合物の含有量は
２０〜５０ｖｏｌ％であることが望ましく、特に２０〜
４０ｖｏｌ％が望ましい。２０ｖｏｌ％以下の場合は孔
と孔がつながらないため多孔質化する効果が小さくな
る。５０ｖｏｌ％よりも多量の場合は孔が多量すぎて材
料強度が弱くなるという問題が生じる。

【０３４９】ラジカル重合に用いる光は、光重合開始剤
がラジカルを発生する波長と、紫外光によって分解する
化合物を分解できる波長とを共に含んだ光が照射できる
光源から照射する。一般の光重合開始剤は紫外線によっ
てラジカル発生する物がほとんどであるため、紫外線を
照射できる光源が望ましい。例えば、ｄｅｅｐＵＶラン
プ、高圧水銀灯がそれに値する。

【０３５０】紫外線によって分解された化合物は、溶媒
によって溶出除去する。分解された化合物を溶解する溶
媒には、テトラヒドロフランやアルコールなどの有機溶
媒、または、強酸性や強アルカリ性を示す水溶液を用い
る。

【０３５１】（作用）上記配合組成物に光を照射する
と、光重合開始剤がラジカルを発生しラジカル重合性の
官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合
性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単
量体が３次元架橋した高分子が重合される。それと同時
に、配合組成物に含まれた紫外光によって分解する化合
物が分解される。

【０３５２】紫外光の照射によって分解して低分子化す
る有機高分子化合物を用いた場合、分解することによっ
て溶媒への溶解性が高くなり、分解された化合物が可溶
で且つ重合体が膨潤する溶媒に浸漬すると重合体から溶
出する。重合体は３次元架橋されているため膨潤するだ
けで溶解しないため、分解された化合物が含まれていた
部分が空隙となり、多孔質となる。

【０３５３】紫外光の照射によって分解して気体を発生
する化合物を用いた場合、生じた気体が重合体に空隙を
作り、多孔質となる。

【０３５４】紫外光の照射によって分解して低分子化し
且つ気体を発生する有機高分子化合物を用いた場合は、
上記二つの作用によって、発生した気体によってできた
空隙と分解された化合物が溶出してできた空隙とによっ
て、重合体が多孔質となる。

【０３５５】この重合体は高分子ゲルとなる材料から構
成されているため、多孔質の高分子ゲル材料を得ること
ができる。

【０３５６】つまり、この手段によって光照射によって
多孔性の高分子ゲル材料を製造することが可能となる。

【０３５７】（効果）（１）と同様である。また、紫外
光によって分解する化合物は、（１）および（２）のよ
うな固形の微粒子に比べ、高分子ゲル材料を構成する単
量体との相溶性・分散性に優れているため、沈殿物が生
じにくく取り扱いが容易となる。

【０３５８】（３−１） 少なくともラジカル重合性の
官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合
性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単
量体と光重合開始剤とを含有した組成物に、紫外光によ
って分解する化合物を混合したことを特徴とする多孔性
高分子ゲル材料製造用の配合組成物。

【０３５９】（構成）実施例７、８、９が該当する。

【０３６０】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤、紫
外光によって分解する化合物の構成は（３）と同様であ
る。

【０３６１】（作用）（３）と同様である。

【０３６２】（効果）（３）と同様である。また、この
配合組成物を用いて（３）記載の方法で光照射すること
によって多孔性の高分子ゲル材料を製造することが可能
となる。

【０３６３】（３−２） 該紫外線によって分解する化
合物の含有量は２０〜５０ｖｏｌ％であることを特徴と
する（３）記載の多孔性高分子ゲル材料製造方法。

【０３６４】（構成）実施例７、８、９が該当する。

【０３６５】（３）の紫外線によって分解する化合物の
含有量を２０〜５０ｖｏｌ％とする。

【０３６６】（作用）（３）と同様である。

【０３６７】（効果）（３）と同様である。

【０３６８】（３−２−１） 該紫外線によって分解す
る化合物の含有量は２０〜５０ｖｏｌ％であることを特
徴とする（３−１）記載の多孔性高分子ゲル材料製造用
配合組成物。

【０３６９】（構成）実施例７、８、９が該当する。

【０３７０】（３−１）の紫外線によって分解する化合
物の含有量を２０〜５０ｖｏｌ％とする。

【０３７１】（作用）（３−１）と同様である。

【０３７２】（効果）（３−１）と同様である。

【０３７３】（３−３） 該紫外線によって分解する化
合物が、紫外線照射によって高分子の分子鎖が切断され
低分子化する有機高分子であることを特徴とする（３）
記載の多孔性高分子ゲル材料製造方法。

【０３７４】（構成）実施例７、９が該当する。

【０３７５】（３）の紫外線によって分解する化合物を
紫外線照射によって高分子の分子鎖が切断され低分子化
する有機高分子を用いて構成する。

【０３７６】（作用）（３）と同様である。

【０３７７】（効果）（３）と同様である。

【０３７８】（３−３−１） 該紫外線によって分解す
る化合物が、紫外線照射によって高分子の分子鎖が切断
され低分子化する有機高分子であることを特徴とする
（３−１）記載の多孔性高分子ゲル材料製造用配合組成
物。

【０３７９】（構成）実施例７、９が該当する。

【０３８０】（３−１）の紫外線によって分解する化合
物を紫外線照射によって高分子の分子鎖が切断され低分
子化する有機高分子を用いて構成する。

【０３８１】（作用）（３−１）と同様である。

【０３８２】（効果）（３−１）と同様である。

【０３８３】（３−４） 該紫外線によって分解する化
合物が、紫外線照射によって気体を発生する化合物であ
ることを特徴とする（３）記載の多孔性高分子ゲル材料
製造方法。

【０３８４】（構成）実施例８、９が該当する。

【０３８５】（３）の紫外線によって分解する化合物を
紫外線照射によって気体を発生する化合物を用いて構成
する。

【０３８６】（作用）（３）と同様である。

【０３８７】（効果）（３）と同様である。

【０３８８】（３−４−１） 該紫外線によって分解す
る化合物が、紫外線照射によって気体を発生する化合物
であることを特徴とする（３−１）記載の多孔性高分子
ゲル材料製造用配合組成物。

【０３８９】（構成）実施例８、９が該当する。

【０３９０】（３−１）の紫外線によって分解する化合
物を紫外線照射によって気体を発生する化合物を用いて
構成する。

【０３９１】（作用）（３−１）と同様である。

【０３９２】（効果）（３−１）と同様である。

【０３９３】（３−５） 該紫外線によって分解する化
合物が、紫外線照射によって高分子の分子鎖が切断され
低分子化し、且つ気体を発生する有機高分子であること
を特徴とする（３）記載の多孔性高分子ゲル材料製造方
法。

【０３９４】（構成）実施例９が該当する。

【０３９５】（３）の紫外線によって分解する化合物を
紫外線照射によって高分子の分子鎖が切断され低分子化
し、且つ気体を発生する有機高分子を用いて構成する。

【０３９６】（作用）（３）と同様である。

【０３９７】（効果）（３）と同様。

【０３９８】（３−５−１） 該紫外線によって分解す
る化合物が、紫外線照射によって高分子の分子鎖が切断
され低分子化し、且つ気体を発生する有機高分子である
ことを特徴とする（３−１）記載の多孔性高分子ゲル材
料製造用配合組成物。

【０３９９】（構成）実施例９が該当する。

【０４００】（３−１）の紫外線によって分解する化合
物を紫外線照射によって高分子の分子鎖が切断され低分
子化し、且つ気体を発生する有機高分子を用いて構成す
る。

【０４０１】（作用）（３−１）と同様である。

【０４０２】（効果）（３−１）と同様である。

【０４０３】（４） 化学エネルギーを力学エネルギー
に変換するケモメカニカル材料に用いられる多孔性高分
子ゲル材料の製造方法において、少なくともラジカル重
合性の官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカ
ル重合性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水
性の単量体と光重合開始剤とを含有した組成物に、７０
０ｎｍ以上の波長領域に吸収極大を有する色素と１００
℃より低温で熱分解し気体を発生する分解型発泡剤とを
混合した配合組成物を用い、該配合組成物に光照射を行
って前記単量体をラジカル重合させる工程と；該重合と
同時に光の照射熱および／または重合の反応熱によって
前記発泡剤を発泡させる工程；を具備したことを特徴と
する多孔性高分子ゲル材料の製造方法。

【０４０４】（構成）実施例１０が該当する。

【０４０５】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤の構
成は（１−１）と同様である。

【０４０６】７００ｎｍ以上の波長領域に吸収極大を有
する色素は、配合組成物に可溶な色素の中から選択され
る。例えば、シアニン系色素、ピリリウム系色素、チオ
ピリリウム系色素、スクワリウム系色素、クロコニウム
系色素、アズレニウム系色素、フタロシアニン系色素、
ジチオール金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アン
トラキノン系色素、インドフェノール系色素、アゾ系色
素、などの色素の中から選択される。色素の含有量は、
１〜５ｗｔ％の範囲であることが望ましい。

【０４０７】１００℃より低温で熱分解し気体を発生す
る分解型発泡剤は、例えば、アゾビスイソブチロニトリ
ル、ジアゾアミノベンゼン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，
Ｎ′−ジニトロソテレフタルアミド、ベンゼンスルホニ
ルヒドラジド、重炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウム、
などから選択される。熱によって沸騰させ気体を発生さ
せる溶剤型発泡剤は、溶媒の蒸発によって配合組成物の
溶媒組成が変化するため、均一な３次元網目構造が製造
しにくいので適した発泡剤ではない。また、高分子ゲル
材料の配合組成物は水を混合して調製する場合が多いた
め、発泡剤の分解温度は水が蒸発しない温度、つまり１
００℃より低い温度とする必要がある。発泡剤の含有量
は０．５〜５ｗｔ％で有ることが望ましい。

【０４０８】ラジカル重合に用いる光は、光重合開始剤
がラジカルを発生する波長と、色素が吸収性を有する７
００ｎｍ以上の波長とを共に含んだ光が照射できる光源
から照射する。例えば、高圧水銀灯、キセノンランプ等
が望ましい。

【０４０９】（作用）上記配合組成物に光を照射する
と、光重合開始剤がラジカルを発生しラジカル重合性の
官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合
性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単
量体が３次元架橋した高分子が重合される。色素は、近
赤外域の光を吸収して熱エネルギーに変える働きをす
る。配合組成物に含まれた発泡剤は、近赤外域の光を吸
収したことによって生じた熱と反応熱によって熱分解さ
れ気体を発生し、生じた気体が重合体に空隙を作り多孔
質となる。

【０４１０】この重合体は高分子ゲルとなる材料から構
成されているため、多孔質の高分子ゲル材料を得ること
ができる。

【０４１１】つまり、この手段によって光照射によって
多孔性の高分子ゲル材料を製造することが可能となる。

【０４１２】（効果）（１）と同様。また、（１）およ
び（２）のように重合体に含まれた微粒子を溶出して多
孔質とする方法に比べ、重合と同時に多孔質とすること
が可能となる。

【０４１３】（４−１） 少なくともラジカル重合性の
官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合
性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単
量体と光重合開始剤とを含有した組成物に、近赤外域に
吸収を有する色素と発泡剤とを混合したことを特徴とす
る多孔性高分子ゲル材料製造用の配合組成物。

【０４１４】（構成）実施例１０が該当する。

【０４１５】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有する
水溶性の単量体、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体、近赤外域に吸収を
有する色素、発泡剤、の構成は（４）と同様である。

【０４１６】（作用）（４）と同様である。

【０４１７】（効果）（４）と同様である。また、この
配合組成物を用いて（４）に記載の方法で光照射するこ
とによって多孔性の高分子ゲル材料を製造することが可
能となる。

【０４１８】（４−２） 該色素の含有量が１〜５ｗｔ
％であり、該発泡剤の含有量が０．５〜２ｗｔ％で有る
ことを特徴とする（４）記載の多孔性高分子ゲル材料製
造方法。

【０４１９】（構成）実施例１０が該当する。

【０４２０】（４）の色素の含有量を１〜５ｗｔ％、発
泡剤の含有量が０．５〜５ｗｔ％とする。

【０４２１】（作用）（４）と同様である。

【０４２２】（効果）（４）と同様である。

【０４２３】（４−２−１） 該色素の含有量が１〜５
ｗｔ％であり、該発泡剤の含有量が０．５〜２ｗｔ％で
有ることを特徴とする（４−１）記載の多孔性高分子ゲ
ル材料製造用配合組成物。

【０４２４】（構成）実施例１０が該当する。

【０４２５】（４−１）の色素の含有量を１〜５ｗｔ
％、発泡剤の含有量を０．５〜５ｗｔ％とする。

【０４２６】（作用）（４−１）と同様である。

【０４２７】（効果）（４−１）と同様である。

【０４２８】（５） 化学エネルギーを力学エネルギー
に変換するケモメカニカル材料に用いられる多孔性高分
子ゲル材料の製造方法において、少なくともラジカル重
合性の官能基を１つ以上有し、且つイオン基を１つ以上
有する単量体と、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有
する水溶性若しくは親水性の単量体と、光重合開始剤と
を含有した組成物に、前記イオン基を１つ以上有する単
量体のイオン基と反対電荷のイオン基を有する界面活性
剤を混合し、ミセルを形成させる工程；該ミセルに光照
射を行い、前記単量体をラジカル重合させ、重合体を得
る工程；得られた重合体を強酸あるいは強塩基性の水溶
液に浸漬して前記界面活性剤を溶出除去する工程；を具
備したことを特徴とする多孔性高分子ゲル材料の製造方
法。

【０４２９】（構成）実施例１１が該当する。

【０４３０】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有し且
つイオン基を１つ以上有する単量体は、カルボキシル
基、スルホン酸基、リン酸基、３級アミン、水酸化４級
アミン、スルホニウム基などのイオン基を有し、少なく
とも１個以上のラジカル重合性官能基を有する単量体の
中から選択される。例えば、（メタ）アクリル酸、ビニ
ル酢酸、スチレンスルホン酸、無水マレイン酸、２−ア
クリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノプロピルアクリルアミド、２−アクリロイ
ルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、３
−アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロ
ライドなどがそれに値する。

【０４３１】ラジカル重合性の官能基を２つ以上有する
水溶性若しくは親水性の単量体、光重合開始剤の構成、
および、配合比は（１）と同様である。

【０４３２】単量体のイオン基と反対電荷のイオン基を
有する界面活性剤は、単量体のイオン基がカチオン性の
場合はアニオン性の界面活性剤を、単量体のイオン基が
アニオン性で有ればカチオン性の界面活性剤を用いる。
アニオン性の界面活性剤としては、例えば、ミリスチン
酸カリウム、オレイン酸カリウム、ステアリン酸カリウ
ム、などの側鎖にカルボキシル基を有する界面活性剤
や、アルキルサルフェート、ドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム、などの側鎖にスルホン酸基を有する界面
活性剤がそれに値する。カチオン性の界面活性剤として
は、例えば、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロ
ライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、
などの側鎖に４級アンモニウム塩を有する界面活性剤が
それに値する。界面活性剤の含有量は、ラジカル重合性
の官能基を１つ以上有し且つイオン基を１つ以上有する
単量体よりも微量であることが望ましく、特に、０．０
１〜２０ｗｔ％であることが望ましい。単量体よりも微
量の界面活性剤の混合によって、界面活性剤はミセルを
形成する。

【０４３３】ラジカル重合に用いる光は、（１）と同様
である。

【０４３４】該界面活性剤を溶出除去する溶液は、強酸
または強アルカリの水溶液を用いる。

【０４３５】（作用）上記組成物中には、イオン基を有
する単量体とコンプレックスを形成した界面活性剤がミ
セルを形成して存在する。

【０４３６】上記配合組成物に光を照射すると、光重合
開始剤がラジカルを発生しラジカル重合性の官能基を１
つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合性の官能基
を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体が３次
元架橋した高分子が重合される。配合組成物に含まれた
界面活性剤は不活性であるため、重合された高分子にミ
セルのまま含まれた状態の重合体が製造される。該重合
体を強酸または強アルカリの水溶液に浸漬すると、コン
プレックスが解離され、界面活性剤が重合体から溶出す
る。重合体は３次元架橋されているため膨潤するだけで
溶解せず、重合体は界面活性剤がミセルとして含まれて
いた部分が空隙となり、多孔質となる。この重合体は高
分子ゲルとなる材料から構成されているため、多孔質の
高分子ゲル材料を得ることができる。

【０４３７】つまり、この手段によって光照射によって
多孔性の高分子ゲル材料を製造することが可能となる。

【０４３８】（効果）（１）と同様である。また、界面
活性剤は液体であるため、（１）および（２）のような
固形の微粒子に比べ、高分子ゲル材料を構成する単量体
との相溶性・分散性に優れており、均一な多孔質の形成
が可能である。

【０４３９】（５−１） 少なくともラジカル重合性の
官能基を１つ有し、且つイオン基を１つ以上有する単量
体と、ラジカル重合性の官能基を２つ以上有する水溶性
若しくは親水性の単量体と、光重合開始剤とを含有した
組成物に、前記イオン基を１つ以上有する単量体のイオ
ン基と反対電荷のイオン基を有する界面活性剤を混合し
たことを特徴とする多孔性高分子ゲル材料製造用の配合
組成物。

【０４４０】（構成）実施例１１が該当する。

【０４４１】ラジカル重合性の官能基を１つ以上有し、
且つイオン基を１つ以上有する単量体、ラジカル重合性
の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量
体、イオン基を１つ以上有する単量体のイオン基と反対
電荷のイオン基を有する界面活性剤の構成は（５）と同
様である。

【０４４２】（作用）（５）と同様である。

【０４４３】（効果）（５）と同様である。また、この
配合組成物を用いて（５）記載の方法で光照射すること
によって多孔性の高分子ゲル材料を製造することが可能
となる。

【０４４４】（５−２） 該界面活性剤の含有量が０．
０１〜２０ｗｔ％であることを特徴とする（５）記載の
多孔性高分子ゲル材料製造方法。

【０４４５】（構成）実施例１１が該当する。

【０４４６】（５）の界面活性剤の含有量が０．０１〜
２０ｗｔ％とする。

【０４４７】（作用）（５）と同様である。

【０４４８】（効果）（５）と同様である。

【０４４９】（５−２−１） 該界面活性剤の含有量が
０．０１〜２０ｗｔ％であることを特徴とする（５−
１）記載の多孔性高分子ゲル材料製造用配合組成物。

【０４５０】（構成）実施例１１が該当する。

【０４５１】（５−１）の界面活性剤の含有量が０．０
１〜２０ｗｔ％とする。

【０４５２】（作用）（５−１）と同様である。

【０４５３】（効果）（５−１）と同様である。

【０４５４】（６） 上記（１）から（５−１）までに
記載（（１−３）と（１−４）と（１−５）、および配
合組成物に関するものを除く）の多孔性高分子ゲル材料
製造方法であって、該方法に用いる配合組成物に、さら
に粒径が５〜５０ｎｍの微粒子二酸化ケイ素を混合した
ことを特徴とする多孔性高分子ゲル材料製造方法。

【０４５５】（構成）実施例１２が該当する。

【０４５６】（１）から（５−１）までに記載（（１−
３）と（１−４）と（１−５）を除く）の高分子ゲル材
料製造方法に用いる配合組成物に、さらに粒径が５〜５
０ｎｍの微粒子二酸化ケイ素を混合して配合組成物を調
製する。微粒子二酸化ケイ素の含有量は０．１〜１０ｗ
ｔ％であることが望ましい。

【０４５７】該配合組成物を用いて、（１）から（５−
１）までに記載（（１−３）と（１−４）と（１−５）
を除く）の高分子ゲル材料製造方法で、光重合および多
孔質化処理を行う。ただし、無機塩や高分子などの粒子
状物質を重合体から溶解除去する際に用いる溶媒は、二
酸化ケイ素は不溶で該粒子状物質が可溶な溶媒を用い
る。例えば、水やテトラヒドロフランなどが望ましく、
フッ酸やアルカリ水溶液は適していない。

【０４５８】（作用）二酸化ケイ素が不溶な溶媒を用い
て、（１）から（５−１）までに記載（（１−３）と
（１−４）と（１−５）を除く）の高分子ゲル材料製造
方法によって多孔性ゲル材料を製造すると、微粒子二酸
化ケイ素は重合体から流出せずに残留する。つまり微粒
子二酸化ケイ素を含んだ多孔性の高分子ゲル材料が製造
される。高分子ゲル材料は多孔質化することによって強
度が弱くなるという問題点が生ずるが、微粒子二酸化ケ
イ素は樹脂の材料強度を向上する特性を有するため、材
料を補強する働きを有する。

【０４５９】（効果）応答速度が速く、材料強度の強い
高分子ゲル材料となる。また、この配合組成物を用いる
ことによって（６）記載の方法で光照射によって多孔性
で材料強度の強い高分子ゲル材料を製造することが可能
となる。

【０４６０】（６−１） （１）から（５−１）までに
記載（（１−３）と（１−４）と（１−５）および多孔
性高分子ゲル材料製造方法に関するものを除く）の高分
子ゲル材料製造用配合組成物において、該多孔性高分子
ゲル材料製造用配合組成物に、さらに粒径が５〜５０ｎ
ｍの微粒子二酸化ケイ素を混合したことを特徴とする多
孔性高分子ゲル材料製造用配合組成物。

【０４６１】（構成）実施例１２が該当する。

【０４６２】（６）の微粒子二酸化ケイ素の含有量を
０．１〜１０ｗｔ％とする。

【０４６３】（作用）（６）と同様である。

【０４６４】（効果）（６）と同様である。

【０４６５】（６−２） 該微粒子二酸化ケイ素の含有
量が０．１〜１０ｗｔ％であることを特徴とする（６）
記載の多孔性高分子ゲル材料製造方法。

【０４６６】（構成）実施例１２が該当する。

【０４６７】（６）の微粒子二酸化ケイ素の含有量が
０．１〜１０ｗｔ％とする。

【０４６８】（作用）（６）と同様。

【０４６９】（効果）（６）と同様。

【０４７０】（６−２−１） 該微粒子二酸化ケイ素の
含有量が０．１〜１０ｗｔ％であることを特徴とする
（６−１）記載の多孔性高分子ゲル材料製造用配合組成
物。

【０４７１】（構成）実施例１２が該当する。

【０４７２】（６−１）記載の微粒子二酸化ケイ素の含
有量を０．１〜１０ｗｔ％とする。

【０４７３】（作用）（６−１）と同様である。

【０４７４】（効果）（６−１）と同様である。

【０４７５】（６−３） 該微粒子二酸化ケイ素が側鎖
にビニル基を有するシランカップリング剤で表面処理さ
れた二酸化ケイ素であることを特徴とする（６）記載の
多孔性高分子ゲル材料製造方法。

【０４７６】（構成）実施例１２が該当する。

【０４７７】（６）の微粒子二酸化ケイ素を側鎖にビニ
ル基を有するシランカップリング剤で表面処理された微
粒子二酸化ケイ素を用いて構成する。

【０４７８】（作用）（６）と同様である。また、二酸
化ケイ素は配合組成物の主成分である単量体に比べ比重
が重く沈殿しやすいが、側鎖にビニル基を有するシラン
カップリング剤で表面処理することによって単量体との
相溶性が上がり、且つ側鎖にあるビニル基が単量体と重
合するため、二酸化ケイ素が重合体に化学結合した重量
物が形成できる。

【０４７９】（効果）（６）と同様。また、二酸化ケイ
素の沈殿が軽減され、シランカップリング剤の結合によ
ってさらに材料強度の強い高分子ゲル材料の製造が可能
となる。

【０４８０】（６−３−１） 該微粒子二酸化ケイ素が
側鎖にビニル基を有するシランカップリング剤で表面処
理された二酸化ケイ素であることを特徴とする、（６−
１）記載の多孔性高分子ゲル材料製造用配合組成物。

【０４８１】（構成）実施例１２が該当する。

【０４８２】（６−１）の微粒子二酸化ケイ素を側鎖に
ビニル基を有するシランカップリング剤で表面処理され
た微粒子二酸化ケイ素を用いて構成する。

【０４８３】（作用）（６）と同様である。

【０４８４】（効果）（６−１）と同様である。また、
二酸化ケイ素の沈殿が軽減され、シランカップリング剤
の結合によってさらに材料強度の強い高分子ゲル材料の
製造が可能となる。

【０４８５】

【発明の効果】本実施例の方法により応答速度が速く加
工性に優れた高分子ゲル材料を製造でる。また、粒子状
物質の沈殿が軽減され、均一に孔の開いた高分子ゲル材
料となる。

【０４８６】また、光照射によって高分子ゲルを製造す
る方法は、光の照射パターンよって重合物の製造ができ
るので複雑な加工や微小化に適する。また、材料に水溶
性のラジカル重合性単量体を用いるので材料の選択の幅
も広い。また、製造に用いる装置も安価である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の多孔性高分子ゲル製造方法の一例を
示したフロー図である。

【図２】 本発明の多孔性高分子ゲル製造方法の一例を
示したフロー図である。

【図３】 本発明の多孔性高分子ゲル製造方法の一例を
示したフロー図である。

【図４】 本発明の多孔性高分子ゲル製造方法の一例を
示したフロー図である。

【図５】 本発明の多孔性高分子ゲル製造方法の一例を
示したフロー図である。

【図６】 本発明の多孔性高分子ゲル製造方法の一例を
示したフロー図である。

【図７】 本発明の多孔性高分子ゲル製造方法の一例を
示したフロー図である。

【図８】 本発明の多孔性高分子ゲル製造方法の一例を
示したフロー図である。

【図９】 本発明の多孔性高分子ゲル製造方法の一例を
示したフロー図である。

【図１０】 本発明の多孔性高分子ゲル製造方法の一例
を示したフロー図である。

【図１１】 本発明の多孔性高分子ゲル製造方法の一例
を示したフロー図である。

【図１２】 本発明の多孔性高分子ゲル製造方法の一例
を示したフロー図である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 化学エネルギーを力学エネルギーに変換
   するケモメカニカル材料に用いられる多孔性高分子ゲル
   材料の製造方法において、少なくともラジカル重合性の
   官能基を１つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合
   性の官能基を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単
   量体と光重合開始剤とを含有した組成物に、前記組成物
   に不溶で溶媒に可溶な粒子状物質であり、且つ前記光重
   合開始剤がラジカルを発生する光に透過性を有する粒子
   状物質を混合した配合組成物を用い、 該配合組成物に光照射を行って前記単量体をラジカル重
   合させ、重合体を得る行程；前記粒子状物質が可溶で且
   つ重合体が膨潤する溶媒に浸漬して該粒子状物質を溶解
   除去する行程；を具備することを特徴とする多孔性高分
   子ゲル材料の製造方法。
2. 【請求項２】 少なくともラジカル重合性の官能基を１
   つ以上有する水溶性の単量体とラジカル重合性の官能基
   を２つ以上有する水溶性若しくは親水性の単量体と光重
   合開始剤とを含有した組成物に、前記組成物に不溶で溶
   媒に可溶な粒子状物質であり、且つ前記光重合開始剤が
   ラジカルを発生する光に透過性を有する粒子状物質を混
   合したことを特徴とする多孔性高分子ゲル材料製造用の
   配合組成物。