JPH095544A - 光ファイバグレーティング - Google Patents
光ファイバグレーティングInfo
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- JPH095544A JPH095544A JP7155658A JP15565895A JPH095544A JP H095544 A JPH095544 A JP H095544A JP 7155658 A JP7155658 A JP 7155658A JP 15565895 A JP15565895 A JP 15565895A JP H095544 A JPH095544 A JP H095544A
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- optical fiber
- core
- refractive index
- fiber grating
- grating
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光ファイバにおいて、クラッドへの放射モー
ドの影響を排除し、良好な波長選択性と反射及び透過特
性を有する光ファイバグレーティングを実現する。 【構成】 コア１とクラッド２との屈折率差を０.０１
５乃至０.０３にし、前記コアの径を４μｍ乃至６μｍ
にしたステップ型プロファイルの光ファイバに形成した
光ファイバグレーティングであって、前記コア１部分に
おいて紫外レーザ光によって長さ方向に屈折率を周期的
に変化させ、さらに、その周期自体が長さ方向に変化す
るようにしたものである。
ドの影響を排除し、良好な波長選択性と反射及び透過特
性を有する光ファイバグレーティングを実現する。 【構成】 コア１とクラッド２との屈折率差を０.０１
５乃至０.０３にし、前記コアの径を４μｍ乃至６μｍ
にしたステップ型プロファイルの光ファイバに形成した
光ファイバグレーティングであって、前記コア１部分に
おいて紫外レーザ光によって長さ方向に屈折率を周期的
に変化させ、さらに、その周期自体が長さ方向に変化す
るようにしたものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバの波長選択
性に優れる光フィルタに関し、特に、光ファイバのコア
にコヒーレントな紫外線を照射して長さ方向にコアの屈
折率を周期的に変調することにより形成する光ファイバ
グレーティングに関するものである。
性に優れる光フィルタに関し、特に、光ファイバのコア
にコヒーレントな紫外線を照射して長さ方向にコアの屈
折率を周期的に変調することにより形成する光ファイバ
グレーティングに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバのコアにコヒーレントな紫外
線を照射して長さ方向にコアの屈折率を周期的に変調す
ることにより形成する光ファイバグレーティングは、波
長選択性に優れるなどの特徴を有している。
線を照射して長さ方向にコアの屈折率を周期的に変調す
ることにより形成する光ファイバグレーティングは、波
長選択性に優れるなどの特徴を有している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来の反
射特性の優れたグレーティングを形成するためには水素
充填により光ファイバのファイバグレーティングでは、
光感度を向上させる必要がある。この場合、屈折率変化
が極めて大きくなり、クラッドへの放射モードによりグ
レーティング反射波長（ブラック反射波長）より短波長
の波長からさらに短波長側へ十数ｎｍにわたって損失領
域が形成される。チャープグレーティングの場合は、そ
の影響が大きく、反射率に傾きが生じていた（参考文
献：Y.Painchaud, A.Chandonnet and J.Lauzon, “Chir
ped fiber gratings produced by tilting the fibe
r”, Electron. Lett., vol.31, no.3, pp.171-172, 19
95）。
射特性の優れたグレーティングを形成するためには水素
充填により光ファイバのファイバグレーティングでは、
光感度を向上させる必要がある。この場合、屈折率変化
が極めて大きくなり、クラッドへの放射モードによりグ
レーティング反射波長（ブラック反射波長）より短波長
の波長からさらに短波長側へ十数ｎｍにわたって損失領
域が形成される。チャープグレーティングの場合は、そ
の影響が大きく、反射率に傾きが生じていた（参考文
献：Y.Painchaud, A.Chandonnet and J.Lauzon, “Chir
ped fiber gratings produced by tilting the fibe
r”, Electron. Lett., vol.31, no.3, pp.171-172, 19
95）。
【０００４】本発明の目的は、光ファイバにおいて、ク
ラッドへの放射モードの影響を排除し、良好な波長選択
性と反射及び透過特性を有する光ファイバグレーティン
グを提供することにある。
ラッドへの放射モードの影響を排除し、良好な波長選択
性と反射及び透過特性を有する光ファイバグレーティン
グを提供することにある。
【０００５】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
にする。
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
にする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以
下のとおりである。
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以
下のとおりである。
【０００７】（１）コアとクラッドとの屈折率差を０.
０１５乃至０.０３にし、前記コアの径を４μｍ乃至６
μｍにしたステップ型プロファイルの光ファイバに形成
した光ファイバグレーティングであって、前記コア部分
において紫外レーザ光によって長さ方向に屈折率を周期
的に変化させ、さらに、その周期自体が長さ方向に変化
するようにしたものである。
０１５乃至０.０３にし、前記コアの径を４μｍ乃至６
μｍにしたステップ型プロファイルの光ファイバに形成
した光ファイバグレーティングであって、前記コア部分
において紫外レーザ光によって長さ方向に屈折率を周期
的に変化させ、さらに、その周期自体が長さ方向に変化
するようにしたものである。
【０００８】（２）コアにゲルマニウムを添加し、か
つ、クラッドにフッ素を添加して前記コアとクラッドと
の屈折率差を０.０１５乃至０.０３にし、前記コアの径
を４μｍ乃至６μｍにしたステップ型プロファイルの光
ファイバに形成した光ファイバグレーティングであっ
て、前記コア部分において紫外レーザ光によって長さ方
向に屈折率を周期的に変化させ、さらに、その周期自体
が長さ方向に変化するようにしたものである。
つ、クラッドにフッ素を添加して前記コアとクラッドと
の屈折率差を０.０１５乃至０.０３にし、前記コアの径
を４μｍ乃至６μｍにしたステップ型プロファイルの光
ファイバに形成した光ファイバグレーティングであっ
て、前記コア部分において紫外レーザ光によって長さ方
向に屈折率を周期的に変化させ、さらに、その周期自体
が長さ方向に変化するようにしたものである。
【０００９】（３）前記（１）又は（２）の光ファイバ
グレーティングを同一の光ファイバに複数個連続して形
成した光ファイバグレーティングである。
グレーティングを同一の光ファイバに複数個連続して形
成した光ファイバグレーティングである。
【００１０】
【作用】前述の手段によれば、コアとクラッドとの屈折
率差を０.０１５乃至０.０３にし、前記コアの径を４μ
ｍ乃至６μｍにしたステップ型プロファイルの光ファイ
バに形成する〔光ファイバの高開口数（Ｎumerical Ａp
erture：ＮＡ）化する〕ことにより、前記光ファイバの
コア部分において紫外レーザ光によって長さ方向に屈折
率を周期的に変化させ、さらに、その周期自体が長さ方
向に変化するようにしたので、クラッド放射モードの影
響を極力避けられる光ファイバグレーティングが得られ
る。この光ファイバグレーティングにより任意の方向に
チャープした光パルスの圧縮や拡大が可能になり、ま
た、近接する多波長反射グレーティングも可能になる。
率差を０.０１５乃至０.０３にし、前記コアの径を４μ
ｍ乃至６μｍにしたステップ型プロファイルの光ファイ
バに形成する〔光ファイバの高開口数（Ｎumerical Ａp
erture：ＮＡ）化する〕ことにより、前記光ファイバの
コア部分において紫外レーザ光によって長さ方向に屈折
率を周期的に変化させ、さらに、その周期自体が長さ方
向に変化するようにしたので、クラッド放射モードの影
響を極力避けられる光ファイバグレーティングが得られ
る。この光ファイバグレーティングにより任意の方向に
チャープした光パルスの圧縮や拡大が可能になり、ま
た、近接する多波長反射グレーティングも可能になる。
【００１１】以下に、本発明の動作原理を説明する。
【００１２】光ファイバグレーティングの屈折率変化の
周期（ピッチ）は一定とする。クラッドへの結合モード
の最長波長をλLとし、グレーティングの反射波長をλB
とするとその波長差λoffは
周期（ピッチ）は一定とする。クラッドへの結合モード
の最長波長をλLとし、グレーティングの反射波長をλB
とするとその波長差λoffは
【００１３】
【数１】
【００１４】で与えられる（参考文献：V.Mizrahi and
J.E.Sipe, “Optical properties ofphotosensitive fi
ber phase gratings”, IEEE. J.Lightwave. Tech., vo
l.11,no.10, pp.1513-1517, 1993）。
J.E.Sipe, “Optical properties ofphotosensitive fi
ber phase gratings”, IEEE. J.Lightwave. Tech., vo
l.11,no.10, pp.1513-1517, 1993）。
【００１５】ただし、ｎcladはクラッドの屈折率であ
り、ｎeff及びλBは
り、ｎeff及びλBは
【００１６】
【数２】
【００１７】
【数３】
【００１８】で表される。ここでｎcoreはコアの屈折
率、ΔｎUVは紫外線によるコアの屈折率変化、Ａはグレ
ーティングのピッチである。数１〜数３の式（１）〜
（３）よりλoffは
率、ΔｎUVは紫外線によるコアの屈折率変化、Ａはグレ
ーティングのピッチである。数１〜数３の式（１）〜
（３）よりλoffは
【００１９】
【数４】
【００２０】で表される。従って、紫外線による屈折率
誘起変化を別にすればλoffは、コアとクラッドの屈折
率差Δｎが大きいほど、すなわち、ＮＡが高いほど大き
くなることがわかる。
誘起変化を別にすればλoffは、コアとクラッドの屈折
率差Δｎが大きいほど、すなわち、ＮＡが高いほど大き
くなることがわかる。
【００２１】チャープグレーティングは、長さ方向にピ
ッチが徐々に変化しているために反射波長が短波長から
長波長もしくは長波長から短波長へと変化している。こ
れを図１に示す。図１において、縦線は線と線の間隔が
長さ方向の屈折率変化の周期（ピッチ）であり、それが
徐々に変化していることを示し、つまり、これがチャー
プグレーティング３である。
ッチが徐々に変化しているために反射波長が短波長から
長波長もしくは長波長から短波長へと変化している。こ
れを図１に示す。図１において、縦線は線と線の間隔が
長さ方向の屈折率変化の周期（ピッチ）であり、それが
徐々に変化していることを示し、つまり、これがチャー
プグレーティング３である。
【００２２】このようなグレーティングにおいては、各
部分において誘起された屈折率変化が大きくて反射率が
高いときは入射の方向によってクラッドへの放射モード
が問題になる。すなわち、それぞれの部分は、本来の反
射波長よりもλoffだけ短い波長よりもさらに短波長の
光に対して損失を示すので、Ｂの方向からきた光は短波
長ほど光がクラッドモードへ結合され、全体としての反
射率は短波長へ行くほど小さくなっていく。一方、Ａの
方向で光が入射した場合は問題がない。
部分において誘起された屈折率変化が大きくて反射率が
高いときは入射の方向によってクラッドへの放射モード
が問題になる。すなわち、それぞれの部分は、本来の反
射波長よりもλoffだけ短い波長よりもさらに短波長の
光に対して損失を示すので、Ｂの方向からきた光は短波
長ほど光がクラッドモードへ結合され、全体としての反
射率は短波長へ行くほど小さくなっていく。一方、Ａの
方向で光が入射した場合は問題がない。
【００２３】また、十分近接した反射波長を持つグレー
ティングが図２のように短波長から長波長へ複数個書き
込まれているときにもやはりＢから入射した光のうち短
波長の光ほど損失をこうむることになる。
ティングが図２のように短波長から長波長へ複数個書き
込まれているときにもやはりＢから入射した光のうち短
波長の光ほど損失をこうむることになる。
【００２４】さらに、ある長さＬの中に複数の反射波長
が異なる同一長Ｌのグレーティングが書き込まれている
ときは、どの方向から入射しても短波長ほどみかけの反
射率が低下してしまう。
が異なる同一長Ｌのグレーティングが書き込まれている
ときは、どの方向から入射しても短波長ほどみかけの反
射率が低下してしまう。
【００２５】このようなクラッドへの放射モードの影響
を避けるためには、このモードの最長波長をできるだけ
本来のブラック反射波長から遠ざけることが考えられ
る。そのためには数４の式（４）よりコアとクラッドの
屈折率差Δｎを大きくすればよいことがわかる。例え
ば、チャープグレーティングの帯域よりもλoffを大き
くできれば高反射率のときも反射率は一定にできる。
を避けるためには、このモードの最長波長をできるだけ
本来のブラック反射波長から遠ざけることが考えられ
る。そのためには数４の式（４）よりコアとクラッドの
屈折率差Δｎを大きくすればよいことがわかる。例え
ば、チャープグレーティングの帯域よりもλoffを大き
くできれば高反射率のときも反射率は一定にできる。
【００２６】さらに、屈折率差Δｎを大きくすることに
より、伝搬光への閉じ込めが強くなりクラッドへの放射
モード自体が減少することが期待される。
より、伝搬光への閉じ込めが強くなりクラッドへの放射
モード自体が減少することが期待される。
【００２７】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。
に説明する。
【００２８】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。
【００２９】（実施例１）本発明の一実施例（実施例
１）の光ファイバグレーティングは、光ファイバのコア
に、例えば、ゲルマニウムをＧeＯ2の形で１０.０９モ
ル（mol）％添加し、クラッドにフッ素（Ｆ）を０.４５
モル％添加して、前記コアとクラッドとの屈折率差を
０.０１５乃至０.０３の間におさめ、前記コアの径を４
μｍ乃至６μｍの間におさめたステップ型プロファイル
である。このように高ＮＡ化した光ファイバのコア部分
において、紫外レーザ光によって長さ方向に屈折率を周
期的に変化させ、さらに、その周期自体が長さ方向に変
化するので、クラッド放射モードの影響を極力避けられ
る光ファイバグレーティングが得られる。この光ファイ
バグレーティングにより任意の方向にチャープした光パ
ルスの圧縮や拡大が可能になり、また、近接する多波長
反射グレーティングも可能になる。
１）の光ファイバグレーティングは、光ファイバのコア
に、例えば、ゲルマニウムをＧeＯ2の形で１０.０９モ
ル（mol）％添加し、クラッドにフッ素（Ｆ）を０.４５
モル％添加して、前記コアとクラッドとの屈折率差を
０.０１５乃至０.０３の間におさめ、前記コアの径を４
μｍ乃至６μｍの間におさめたステップ型プロファイル
である。このように高ＮＡ化した光ファイバのコア部分
において、紫外レーザ光によって長さ方向に屈折率を周
期的に変化させ、さらに、その周期自体が長さ方向に変
化するので、クラッド放射モードの影響を極力避けられ
る光ファイバグレーティングが得られる。この光ファイ
バグレーティングにより任意の方向にチャープした光パ
ルスの圧縮や拡大が可能になり、また、近接する多波長
反射グレーティングも可能になる。
【００３０】図３は通常の商業用分散シフトファイバ
（Δｎ＝０.８％）の屈折率プロファイルを示し、図４
は通常の分散シフトファイバにおいて形成した単一の高
反射率グレーティングの透過スペクトルである。
（Δｎ＝０.８％）の屈折率プロファイルを示し、図４
は通常の分散シフトファイバにおいて形成した単一の高
反射率グレーティングの透過スペクトルである。
【００３１】図５は、本実施例１の高ＮＡ化した分散シ
フトファイバ（Δｎ＝１.３％）の屈折率プロファイル
を示す図であり、図６はその高ＮＡ化した分散シフトフ
ァイバにおいて形成した光ファイバグレーティングの透
過スペクトルを示す図である。
フトファイバ（Δｎ＝１.３％）の屈折率プロファイル
を示す図であり、図６はその高ＮＡ化した分散シフトフ
ァイバにおいて形成した光ファイバグレーティングの透
過スペクトルを示す図である。
【００３２】本実施例１では、それぞれの光ファイバグ
レーティングは、位相マスクによりファイバ上に干渉縞
を形成して作製した（参照文献：K.O.Hill, B.Malo, F.
Bilodeau, D.C.Johnson, and J.Albert, “Bragg grati
ngs fabricated in monomodephotosensitive optical f
iber by UV exposure through a phase mask”,Appl. P
hys. Lett., vol.62, no.10, pp.1035-1037, 1993.）。
レーティングは、位相マスクによりファイバ上に干渉縞
を形成して作製した（参照文献：K.O.Hill, B.Malo, F.
Bilodeau, D.C.Johnson, and J.Albert, “Bragg grati
ngs fabricated in monomodephotosensitive optical f
iber by UV exposure through a phase mask”,Appl. P
hys. Lett., vol.62, no.10, pp.1035-1037, 1993.）。
【００３３】また、紫外線を照射する前に光感度を向上
させるため光ファイバを２００気圧の高圧水素雰囲気中
に約２週間放置した（参照文献：P.J.Lemaire, R.M.Atk
ins,V.Mizrahi and W.A.Reed, “High pressure H2 loa
ding as a technique for achieving ultra high UV ph
otosensitivity and thermal sensitivity in GeO2dope
d optical fibers”, Electron.Lett., vol.29, no.13,
pp.1191〜1193, 1993.）。紫外光による屈折率変化は
両者ともおよそ５×１／１０3である。
させるため光ファイバを２００気圧の高圧水素雰囲気中
に約２週間放置した（参照文献：P.J.Lemaire, R.M.Atk
ins,V.Mizrahi and W.A.Reed, “High pressure H2 loa
ding as a technique for achieving ultra high UV ph
otosensitivity and thermal sensitivity in GeO2dope
d optical fibers”, Electron.Lett., vol.29, no.13,
pp.1191〜1193, 1993.）。紫外光による屈折率変化は
両者ともおよそ５×１／１０3である。
【００３４】標準の分散シフトファイバのλoffは２.５
ｎｍであり、高ＮＡ化した分散シフトファイバのλoff
は６ｎｍである。高ＮＡ化した分散シフトファイバに作
製したグレーティングはクラッドへの放射による損失領
域が短波長側に大きくシフトしているのが確認できる。
ｎｍであり、高ＮＡ化した分散シフトファイバのλoff
は６ｎｍである。高ＮＡ化した分散シフトファイバに作
製したグレーティングはクラッドへの放射による損失領
域が短波長側に大きくシフトしているのが確認できる。
【００３５】前記数４の式（４）からは前者の場合は約
１０ｎｍであり、後者は約１２ｎｍとなり、前者は計算
値よりもかなり小さい。これは前者の光ファイバが２重
コア構造であることによると考えられる。したがって、
高ＮＡ化に加えて屈折率プロファイルが単純なステップ
型である必要がある。
１０ｎｍであり、後者は約１２ｎｍとなり、前者は計算
値よりもかなり小さい。これは前者の光ファイバが２重
コア構造であることによると考えられる。したがって、
高ＮＡ化に加えて屈折率プロファイルが単純なステップ
型である必要がある。
【００３６】また、図７は通常の分散シフトファイバに
チャープグレーティングを形成し、図１のＢの方向（長
波長側）から見た反射特性である。図８は前記実施例１
と同様の高ＮＡ化した分散シフトファイバに形成し、同
様にＢの方向から見た反射特性である。前記チャープグ
レーティングはピッチがチャープした位相マスクを用い
て作製した（R.Kashyap, P.F.McKee, R.J.Campbell and
D.L.Williams “Novel method producing all fiber p
hotoinduced chirped gratings", Electron. Lett., vo
l.30, no.12, pp.996-998, 1994.）。
チャープグレーティングを形成し、図１のＢの方向（長
波長側）から見た反射特性である。図８は前記実施例１
と同様の高ＮＡ化した分散シフトファイバに形成し、同
様にＢの方向から見た反射特性である。前記チャープグ
レーティングはピッチがチャープした位相マスクを用い
て作製した（R.Kashyap, P.F.McKee, R.J.Campbell and
D.L.Williams “Novel method producing all fiber p
hotoinduced chirped gratings", Electron. Lett., vo
l.30, no.12, pp.996-998, 1994.）。
【００３７】両方とも反射率は９５％以上である。前者
はみかけ帯域３ｎｍなのに対して後者は８ｎｍであり、
高ＮＡ化によるλoffを大きくした効果が確認できる。
はみかけ帯域３ｎｍなのに対して後者は８ｎｍであり、
高ＮＡ化によるλoffを大きくした効果が確認できる。
【００３８】（実施例２）本発明の他の実施例（実施例
２）は、前記実施例１の光ファイバグレーティングを、
同一光ファイバに複数個連続して形成したものである。
このように、反射波長が近接したグレーティングを複数
連結した場合にも反射率が高い場合にも、λoffを大き
くした効果が得られる。
２）は、前記実施例１の光ファイバグレーティングを、
同一光ファイバに複数個連続して形成したものである。
このように、反射波長が近接したグレーティングを複数
連結した場合にも反射率が高い場合にも、λoffを大き
くした効果が得られる。
【００３９】図９は通常の分散シフトファイバに形成し
た反射波長が近接したグレーティングを複数連結して形
成し、図１のＢの方向（長波長側）から見た反射特性で
あり、図１０は高ＮＡ化した分散シフトファイバに形成
した反射波長が近接したグレーティングを複数連結して
形成し、図１のＢの方向（長波長側）から見た反射特性
である。
た反射波長が近接したグレーティングを複数連結して形
成し、図１のＢの方向（長波長側）から見た反射特性で
あり、図１０は高ＮＡ化した分散シフトファイバに形成
した反射波長が近接したグレーティングを複数連結して
形成し、図１のＢの方向（長波長側）から見た反射特性
である。
【００４０】図９の場合、短波長側ほど反射率が著しく
低下している。また、反射スペクトルも歪んでいるのが
わかる。一方、図１０の場合は、そのようなことがなく
反射率がほぼ一定であり本発明の有効性が示されてい
る。
低下している。また、反射スペクトルも歪んでいるのが
わかる。一方、図１０の場合は、そのようなことがなく
反射率がほぼ一定であり本発明の有効性が示されてい
る。
【００４１】前記実施例１及び２において、高ＮＡ化す
ると、零分散波長と反射波長を一致させるためにはコア
をかなり細くする必要がある。このため接続が難しくな
る場合があるが、そのようなときには単にコアにゲルマ
ニウムを添加するだけでなく、クラッドにフッ素を添加
しておけば通常の光ファイバとの接続の際、低損失融着
が可能になる。
ると、零分散波長と反射波長を一致させるためにはコア
をかなり細くする必要がある。このため接続が難しくな
る場合があるが、そのようなときには単にコアにゲルマ
ニウムを添加するだけでなく、クラッドにフッ素を添加
しておけば通常の光ファイバとの接続の際、低損失融着
が可能になる。
【００４２】すなわち、接続した後、放電を繰り返すこ
とによりコアのゲルマニウムがクラッドへ拡散し、か
つ、クラッドのフッ素がコアへ拡散することにより、高
ＮＡ化した光ファイバのΔがしだいに小さくなりモード
フィールド径が大きくなって相手の光ファイバとの整合
性が良くなるためである。
とによりコアのゲルマニウムがクラッドへ拡散し、か
つ、クラッドのフッ素がコアへ拡散することにより、高
ＮＡ化した光ファイバのΔがしだいに小さくなりモード
フィールド径が大きくなって相手の光ファイバとの整合
性が良くなるためである。
【００４３】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能であることは勿論であ
る。
前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能であることは勿論であ
る。
【００４４】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以
下のとおりである。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以
下のとおりである。
【００４５】クラッド放射モードの影響を極力避けられ
る光ファイバグレーティングが得られる。この光ファイ
バグレーティングにより任意の方向にチャープした光パ
ルスの圧縮や拡大が可能になり、また、近接する多波長
反射グレーティングも可能になる。
る光ファイバグレーティングが得られる。この光ファイ
バグレーティングにより任意の方向にチャープした光パ
ルスの圧縮や拡大が可能になり、また、近接する多波長
反射グレーティングも可能になる。
【図１】本発明に係るチャープグレーティングの動作原
理を説明するための模式図である。
理を説明するための模式図である。
【図２】本発明に係る多波長反射グレーティングの動作
原理を説明するための図であり、近接した反射波長をも
つグレーティングが短波長から長波長の順番で書き込ま
れている場合の模式図である。
原理を説明するための図であり、近接した反射波長をも
つグレーティングが短波長から長波長の順番で書き込ま
れている場合の模式図である。
【図３】通常の商業用分散シフトファイバ（Δｎ＝０.
８％）の屈折率プロファイルを示す図である。
８％）の屈折率プロファイルを示す図である。
【図４】通常の分散シフトファイバにおいて形成した単
一の高反射率グレーティングの透過スペクトルである。
一の高反射率グレーティングの透過スペクトルである。
【図５】本実施例１の高ＮＡ化した分散シフトファイバ
（Δｎ＝１.３％）の屈折率プロファイルを示す図であ
る。
（Δｎ＝１.３％）の屈折率プロファイルを示す図であ
る。
【図６】本実施例１の高ＮＡ化した分散シフトファイバ
において形成した光ファイバグレーティングの透過スペ
クトルを示す図である。
において形成した光ファイバグレーティングの透過スペ
クトルを示す図である。
【図７】通常の分散シフトファイバにチャープグレーテ
ィングを形成し、図１のＢの方向（長波長側）から見た
反射特性である。
ィングを形成し、図１のＢの方向（長波長側）から見た
反射特性である。
【図８】実施例１と同様の高ＮＡ化した分散シフトファ
イバに形成し、同様にＢの方向（長波長側）から見た反
射特性である。
イバに形成し、同様にＢの方向（長波長側）から見た反
射特性である。
【図９】通常の分散シフトファイバに形成した反射波長
が近接したグレーティングを複数連結して形成し、図１
のＢの方向（長波長側）から見た反射特性である。
が近接したグレーティングを複数連結して形成し、図１
のＢの方向（長波長側）から見た反射特性である。
【図１０】高ＮＡ化した分散シフトファイバに形成した
反射波長が近接したグレーティングを複数連結して形成
し、図１のＢの方向（長波長側）から見た反射特性であ
る。
反射波長が近接したグレーティングを複数連結して形成
し、図１のＢの方向（長波長側）から見た反射特性であ
る。
１…コア、２…クラッド、３…チャープグレーティン
グ、４…波長の異なる単一グレーティング。
グ、４…波長の異なる単一グレーティング。
Claims (3)
- 【請求項１】 コアとクラッドとの屈折率差を０.０１
５乃至０.０３にし、前記コアの径を４μｍ乃至６μｍ
にしたステップ型プロファイルの光ファイバに形成した
光ファイバグレーティングであって、前記コア部分にお
いて紫外レーザ光によって長さ方向に屈折率を周期的に
変化させ、さらに、その周期自体が長さ方向に変化する
ようにしたことを特徴とする光ファイバグレーティン
グ。 - 【請求項２】 コアにゲルマニウムを添加し、かつ、ク
ラッドにフッ素を添加して前記コアとクラッドとの屈折
率差を０.０１５乃至０.０３にし、前記コアの径を４μ
ｍ乃至６μｍにしたステップ型プロファイルの光ファイ
バに形成した光ファイバグレーティングであって、前記
コア部分において紫外レーザ光によって長さ方向に屈折
率を周期的に変化させ、さらに、その周期自体が長さ方
向に変化するようにしたことを特徴とする光ファイバグ
レーティング。 - 【請求項３】 前記請求項１又は２に記載される光ファ
イバグレーティングを、同一の光ファイバに複数個連続
して形成したことを特徴とする光ファイバグレーティン
グ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7155658A JPH095544A (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 光ファイバグレーティング |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7155658A JPH095544A (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 光ファイバグレーティング |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH095544A true JPH095544A (ja) | 1997-01-10 |
Family
ID=15610782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7155658A Pending JPH095544A (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 光ファイバグレーティング |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH095544A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1172630A (ja) * | 1997-06-18 | 1999-03-16 | Pirelli Cavi & Syst Spa | チャープ型光ファイバ格子を製造する方法 |
| JP2000231029A (ja) * | 1999-02-12 | 2000-08-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フィルタ付光コネクタ |
| JP2000295185A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-10-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光線路監視システム |
| JP2002277673A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ伝送路 |
-
1995
- 1995-06-22 JP JP7155658A patent/JPH095544A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1172630A (ja) * | 1997-06-18 | 1999-03-16 | Pirelli Cavi & Syst Spa | チャープ型光ファイバ格子を製造する方法 |
| JP2000231029A (ja) * | 1999-02-12 | 2000-08-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フィルタ付光コネクタ |
| JP2000295185A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-10-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光線路監視システム |
| JP2002277673A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ伝送路 |
| JP4617587B2 (ja) * | 2001-03-22 | 2011-01-26 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ伝送路 |
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