JPH0951669A - Booster circuit - Google Patents

Booster circuit

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JPH0951669A
JPH0951669A JP7221109A JP22110995A JPH0951669A JP H0951669 A JPH0951669 A JP H0951669A JP 7221109 A JP7221109 A JP 7221109A JP 22110995 A JP22110995 A JP 22110995A JP H0951669 A JPH0951669 A JP H0951669A
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    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M3/00Conversion of dc power input into dc power output
    • H02M3/02Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac
    • H02M3/04Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters
    • H02M3/06Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using resistors or capacitors, e.g. potential divider
    • H02M3/07Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using resistors or capacitors, e.g. potential divider using capacitors charged and discharged alternately by semiconductor devices with control electrode, e.g. charge pumps
    • H02M3/073Charge pumps of the Schenkel-type

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a booster circuit which can obtain step-up voltage without causing a voltage drop of threshold component and realize high reliability without causing a rise in the cost. SOLUTION: In the first booster clock generating circuit 2, a clock CK1 is supplied to a terminal N1 of a capacitor C1, and a terminal N2 is charged with VDD, when the CK1 is 'L', through the first PMOS transistor MP11. As the use for controlling the first PMOS transistor MP11, the first NMOS transistor MN11 connecting the source to VSS, second PMOS transistor MP12 connecting the source to the terminal N2 and further the second NMOS transistor MN12 between these transistor MN11, MP11 are interposed. In order to take out step-up voltage when the CK1 is 'H', the third PMOS transistor MP13 is provided, and in order to drive a gate of this transistor MP13, the second booster clock generating circuit 3, having a similar constitution to the first booster clock generating circuit 2, is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、大規模半導体集積回
路(LSI)等に用いられる昇圧回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a booster circuit used in a large scale semiconductor integrated circuit (LSI) or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】LSIは近年、素子の微細化、高集積化
が進み、それにともなって電源電圧を従来の5Vから3
Vに下げたものも作られている。3V/5V混載LSI
では、3V−5Vインターフェース回路が必要である。
しかしこの様なインターフェース回路を実現するため
に、基板レイアウトの関係で外部電源5Vを供給するこ
とができない場合には、内部に昇圧回路を作って5Vを
発生させることが必要になる。
2. Description of the Related Art In recent years, LSIs have been miniaturized and highly integrated, and the power supply voltage has been increased from the conventional 5V to 3V.
Some are made down to V. 3V / 5V mixed LSI
Then, a 3V-5V interface circuit is required.
However, in order to realize such an interface circuit, when the external power supply of 5V cannot be supplied due to the substrate layout, it is necessary to form a booster circuit inside to generate 5V.

【0003】従来より知られている基本昇圧回路は、図
5に示すように、キャパシタCとダイオード接続された
二つのnチャネルMOSトランジスタM1,M2から構
成される。キャパシタCの一端にクロックが供給される
と、クロックが“L”のとき電源VDDからMOSトラン
ジスタM1を介してキャパシタCに充電がなされ、クロ
ックが“H”になると、MOSトランジスタM1はオフ
になって、VCC=2VDDなる昇圧電圧がMOSトランジ
スタM2を介して出力される。
As shown in FIG. 5, a conventionally known basic boosting circuit is composed of a capacitor C and two diode-connected n-channel MOS transistors M1 and M2. When the clock is supplied to one end of the capacitor C, the capacitor C is charged from the power supply VDD through the MOS transistor M1 when the clock is "L", and the MOS transistor M1 is turned off when the clock becomes "H". As a result, a boosted voltage Vcc = 2VDD is output via the MOS transistor M2.

【0004】図5の昇圧回路を基本として、これを例え
ば図6に示すように多段に構成すると、2倍電圧に限ら
れず必要な昇圧倍率を得ることができる。但し図6にお
いて、クロックφ1とφ2は互いに逆相である。
Based on the booster circuit of FIG. 5, if it is constructed in multiple stages as shown in FIG. 6, for example, a necessary boosting factor can be obtained without being limited to the double voltage. However, in FIG. 6, the clocks φ1 and φ2 are in opposite phases to each other.

【0005】図5の基本昇圧回路は、キャパシタの充電
電圧及び出力昇圧電圧にはMOSトランジスタのしきい
値Vth分の低下が存在するため、電源電圧VDDに対して
完全な倍電圧2VDDを得ることができない。このしきい
値分の低下による損失がないようにした昇圧回路とし
て、図7に示す回路が考えられる。この昇圧回路の構成
原理は、特開昭52−39119号公報に示されてい
る。
In the basic booster circuit of FIG. 5, since the charging voltage of the capacitor and the boosting voltage of the output have a decrease corresponding to the threshold value Vth of the MOS transistor, a complete double voltage 2VDD with respect to the power supply voltage VDD can be obtained. I can't. A circuit shown in FIG. 7 is conceivable as a booster circuit in which there is no loss due to the decrease in the threshold value. The configuration principle of this booster circuit is shown in Japanese Patent Laid-Open No. 52-39119.

【0006】図7において、pチャネルMOSトランジ
スタ(以下、PMOSトランジスタという)MP0とn
チャネルMOSトランジスタ(以下、NMOSトランジ
スタという)MN0からなるインバータにより、入力ク
ロックCK0からこれと逆相のクロックCK1が作られ
る。クロックCK1はキャパシタC1の第1の端子に供
給される。キャパシタC1の第2の端子はPMOSトラ
ンジスタMP1を介して電源VDDに接続される。PMO
SトランジスタMP1は電源VDD側がドレインであり、
ソース及びバルクがキャパシタC1側に接続される。
In FIG. 7, p-channel MOS transistors (hereinafter referred to as PMOS transistors) MP0 and n
An inverter composed of a channel MOS transistor (hereinafter referred to as an NMOS transistor) MN0 produces a clock CK1 having a phase opposite to that of the input clock CK0. The clock CK1 is supplied to the first terminal of the capacitor C1. The second terminal of the capacitor C1 is connected to the power supply VDD through the PMOS transistor MP1. PMO
The S-transistor MP1 has a drain on the side of the power supply VDD,
The source and bulk are connected to the capacitor C1 side.

【0007】一方、ソースが接地VSSに接続され、ゲー
トにクロックCK0が供給されるNMOSトランジスタ
MN1が用意され、そのドレインはPMOSトランジス
タMP1のゲートに接続される。また、NMOSトラン
ジスタMN1のドレインとキャパシタC1の第2の端子
に間にPMOSトランジスタMP2が介挿される。PM
OSトランジスタMP2は、NMOSトランジスタMN
1側がドレインであり、ゲートは電源VDDに接続され
る。
On the other hand, an NMOS transistor MN1 whose source is connected to the ground VSS and whose clock is supplied with the clock CK0 is prepared, and its drain is connected to the gate of the PMOS transistor MP1. Further, the PMOS transistor MP2 is interposed between the drain of the NMOS transistor MN1 and the second terminal of the capacitor C1. PM
The OS transistor MP2 is an NMOS transistor MN
The first side is the drain, and the gate is connected to the power supply VDD.

【0008】キャパシタC1の第2の端子と昇圧電圧の
出力端子の間に、昇圧電圧を取り出す為に、キャパシタ
C1側をドレインとしたPMOSトランジスタMP3が
設けられる。このPMOSトランジスタMP3を選択的
に駆動するため、NMOSトランジスタMN1,PMO
SトランジスタMP2と対応させて、NMOSトランジ
スタMN2,PMOSトランジスタMP4が設けられ
る。NMOSトランジスタMN2は、NMOSトランジ
スタMN1とは逆相のクロックCK1によりゲートが駆
動される。昇圧電圧出力端にはキャパシタC2が設けら
れる。
A PMOS transistor MP3 having a drain on the side of the capacitor C1 is provided between the second terminal of the capacitor C1 and the output terminal for the boosted voltage in order to take out the boosted voltage. In order to selectively drive the PMOS transistor MP3, the NMOS transistors MN1 and PMO are
An NMOS transistor MN2 and a PMOS transistor MP4 are provided corresponding to the S transistor MP2. The gate of the NMOS transistor MN2 is driven by the clock CK1 having a phase opposite to that of the NMOS transistor MN1. A capacitor C2 is provided at the boosted voltage output end.

【0009】この昇圧回路の動作は、次の通りである。
クロックがCK0=“H”、CK1=“L”のとき、N
MOSトランジスタMN1がオンしてそのドレイン電圧
が低下し、これによりPMOSトランジスタMP1がオ
ンして、キャパシタC1にVDDから充電される。このと
きPMOSトランジスタMP1ではしきい値による電圧
低下はないから、VDDまで充電電圧が得られる。その
間、NMOSトランジスタMN2がオフ、従ってPMO
SトランジスタMP3はオフである。
The operation of this booster circuit is as follows.
When the clock is CK0 = "H" and CK1 = "L", N
The MOS transistor MN1 is turned on and the drain voltage thereof is lowered, whereby the PMOS transistor MP1 is turned on and the capacitor C1 is charged from VDD. At this time, since the PMOS transistor MP1 has no voltage drop due to the threshold value, the charging voltage can be obtained up to VDD. Meanwhile, the NMOS transistor MN2 is turned off, and thus the PMO
The S transistor MP3 is off.

【0010】CK0=“L”、CK1=“H”になる
と、キャパシタC1の第2の端子は瞬間的に、2VDDま
で上昇する。同時に、NMOSトランジスタMN1がオ
フになり、PMOSトランジスタMP2がオンになっ
て、PMOSトランジスタMP1はゲートに2VDDが与
えられてオフする。このとき、NMOSトランジスタM
N2がオン、従ってPMOSトランジスタMP3がオン
になって、キャパシタC1の電荷がキャパシタC2に転
送される。このときも、PMOSトランジスタMP3で
のしきい値による低下はない。以下、同様の動作が繰り
返されて、一定の昇圧電圧VCC=2VDDが得られること
になる。
When CK0 = "L" and CK1 = "H", the second terminal of the capacitor C1 instantaneously rises to 2VDD. At the same time, the NMOS transistor MN1 is turned off, the PMOS transistor MP2 is turned on, and 2VDD is given to the gate of the PMOS transistor MP1 to turn it off. At this time, the NMOS transistor M
N2 is turned on, and thus the PMOS transistor MP3 is turned on, and the charge of the capacitor C1 is transferred to the capacitor C2. Also at this time, there is no decrease due to the threshold value of the PMOS transistor MP3. After that, the same operation is repeated to obtain a constant boosted voltage VCC = 2VDD.

【0011】図8に示す昇圧回路は、図7を僅かに変形
して、PMOSトランジスタMP2のゲート駆動をクロ
ックCK0により行い、PMOSトランジスタMP4の
ゲート駆動を前段のNMOSトランジスタMN1のドレ
イン出力により行うようにしたものである。この昇圧回
路の構成原理は、特開昭51−90416号公報に示さ
れている。
In the booster circuit shown in FIG. 8, the gate drive of the PMOS transistor MP2 is performed by the clock CK0, and the gate drive of the PMOS transistor MP4 is performed by the drain output of the preceding NMOS transistor MN1 by slightly modifying FIG. It is the one. The configuration principle of this booster circuit is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 51-90416.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】図7及び図8の昇圧回
路においては、NMOSトランジスタMN1,MN2の
ゲートがVSSのとき、これらのゲート・ドレイン間に
は、2VDDなる電圧がかかる。また、PMOSトランジ
スタMP3がオンしてキャパシタC1の電荷をキャパシ
タC2に転送する際には、このPMOSトランジスタM
P3のドレイン・ゲート間にやはり2VDDなる電圧がか
かる。例えばVDD=3VのLSIでは、素子は極めて微
細化されて、ゲート酸化膜は薄く、ゲート耐圧が5V程
度となるから、ゲート・ドレイン間に2VDD=6Vがか
かると、これらのトランジスタの耐圧が保たれなくな
る。これらの高電圧が印加されるトランジスタのみゲー
ト酸化膜を厚くすることは、コスト高の原因となる。
In the booster circuits of FIGS. 7 and 8, when the gates of the NMOS transistors MN1 and MN2 are at VSS, a voltage of 2 VDD is applied between their gates and drains. Further, when the PMOS transistor MP3 is turned on to transfer the charge of the capacitor C1 to the capacitor C2, the PMOS transistor M3
A voltage of 2 VDD is still applied between the drain and gate of P3. For example, in an LSI with VDD = 3V, the element is extremely miniaturized, the gate oxide film is thin, and the gate breakdown voltage is about 5V. I will not drip. Making the gate oxide film thick only in the transistors to which these high voltages are applied causes a high cost.

【0013】この発明は、上記事情を考慮してなされた
もので、しきい値分の電圧低下をもたらすことなく昇圧
電圧を得ることができ、しかもコスト高をもたらすこと
なく高い信頼性を実現した昇圧回路を提供することを目
的としている。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and it is possible to obtain a boosted voltage without causing a voltage drop corresponding to a threshold value, and realize high reliability without increasing a cost. It is intended to provide a booster circuit.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】この発明に係る昇圧回路
は、第1に、(a)第1,第2の端子を有し、第1の端
子に第1のクロックが供給されるキャパシタと、ソース
が前記キャパシタの第2の端子に接続され、ドレインが
電源の高電位側端子に接続された第1のpチャネルMO
Sトランジスタと、ソースが前記キャパシタの第2の端
子に接続され、ゲートが前記電源の高電位側端子に接続
され、ドレインが前記第1のpチャネルMOSトランジ
スタのゲートに接続された第2のpチャネルMOSトラ
ンジスタと、前記第1のクロックとは位相反転された第
2のクロックがゲートに供給され、ソースが前記電源の
低電位側端子に接続された第1のnチャネルMOSトラ
ンジスタと、ゲートが前記電源の高電位側端子に接続さ
れ、ドレインが前記第2のpチャネルMOSトランジス
タのドレインに接続され、ソースが前記第1のnチャネ
ルMOSトランジスタのドレインに接続された第2のn
チャネルMOSトランジスタとを有し、前記キャパシタ
の第2の端子に前記第1のクロックをレベルシフトした
第1の昇圧クロックを得る第1の昇圧クロック生成回路
と、(b)前記第1の昇圧クロック生成回路と同様の構
成を有し、前記第1の昇圧クロックとは位相反転した第
2の昇圧クロックを得る第2の昇圧クロック生成回路
と、(c)前記第1の昇圧クロックが得られる前記キャ
パシタの第2の端子にドレインが接続され、ソースが昇
圧電圧出力端子に接続され、ゲートに前記第2の昇圧ク
ロック生成回路から得られる第2の昇圧クロックが与え
られる第3のpチャネルMOSトランジスタとを備えた
ことを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION A booster circuit according to the present invention comprises, firstly, (a) a capacitor having first and second terminals, a first terminal supplied with a first clock; , A first p-channel MO whose source is connected to the second terminal of the capacitor and whose drain is connected to the high potential side terminal of the power supply.
An S-transistor and a second p-channel transistor whose source is connected to the second terminal of the capacitor, whose gate is connected to the high-potential side terminal of the power source, and whose drain is connected to the gate of the first p-channel MOS transistor. A channel MOS transistor and a first n-channel MOS transistor whose gate is supplied with a second clock whose phase is inverted from that of the first clock and whose source is connected to the low potential side terminal of the power source A second n connected to the high potential side terminal of the power supply, a drain connected to the drain of the second p-channel MOS transistor, and a source connected to the drain of the first n-channel MOS transistor.
A first boosted clock generation circuit having a channel MOS transistor, which obtains a first boosted clock obtained by level-shifting the first clock at a second terminal of the capacitor; and (b) the first boosted clock. A second boost clock generation circuit having a configuration similar to that of the generation circuit, the second boost clock generation circuit obtaining a second boost clock that is phase-inverted from the first boost clock; and (c) the first boost clock obtained. A third p-channel MOS transistor in which the drain is connected to the second terminal of the capacitor, the source is connected to the boosted voltage output terminal, and the gate is supplied with the second boosted clock obtained from the second boosted clock generation circuit. It is characterized by having and.

【0015】この発明に係る昇圧回路は、第2に、
(a)第1,第2の端子を有し、第1の端子に第1のク
ロックが供給されるキャパシタと、ソースが前記キャパ
シタの第2の端子に接続され、ドレインが電源の低電位
側端子に接続された第1のnチャネルMOSトランジス
タと、ソースが前記キャパシタの第2の端子に接続さ
れ、ゲートが前記電源の高電位側端子に接続され、ドレ
インが前記第1のnチャネルMOSトランジスタのゲー
トに接続された第2のnチャネルMOSトランジスタ
と、前記第1のクロックとは位相反転された第2のクロ
ックがゲートに供給され、ソースが前記電源の高電位側
端子に接続された第1のpチャネルMOSトランジスタ
と、ゲートが前記電源の低電位側端子に接続され、ドレ
インが前記第2のnチャネルMOSトランジスタのドレ
インに接続され、ソースが前記第1のpチャネルMOS
トランジスタのドレインに接続された第2のpチャネル
MOSトランジスタとを有し、前記キャパシタの第2の
端子に前記第1のクロックをレベルシフトした第1の昇
圧クロックを得る第1の昇圧クロック生成回路と、
(b)前記第1の昇圧クロック生成回路と同様の構成を
有し、前記第1の昇圧クロックとは位相反転した第2の
昇圧クロックを得る第2の昇圧クロック生成回路と、
(c)前記第1の昇圧クロックが得られる前記キャパシ
タの第2の端子にドレインが接続され、ソースが昇圧電
圧出力端子に接続され、ゲートに前記第2の昇圧クロッ
ク生成回路から得られる第2の昇圧クロックが与えられ
る第3のnチャネルMOSトランジスタとを備えたこと
を特徴としている。
Secondly, the booster circuit according to the present invention comprises:
(A) A capacitor having first and second terminals, the first clock being supplied to the first terminal, a source connected to the second terminal of the capacitor, and a drain on the low potential side of the power supply. A first n-channel MOS transistor connected to the terminal, a source connected to the second terminal of the capacitor, a gate connected to the high potential side terminal of the power supply, and a drain connected to the first n-channel MOS transistor A second n-channel MOS transistor connected to the gate of the first clock and a second clock whose phase is inverted from that of the first clock are supplied to the gate, and the source is connected to the high potential side terminal of the power supply. 1 p-channel MOS transistor, the gate is connected to the low potential side terminal of the power source, the drain is connected to the drain of the second n-channel MOS transistor, There the first p-channel MOS
A first boosted clock generation circuit having a second p-channel MOS transistor connected to the drain of the transistor, and obtaining a first boosted clock obtained by level-shifting the first clock to the second terminal of the capacitor. When,
(B) a second boost clock generation circuit that has a configuration similar to that of the first boost clock generation circuit, and that obtains a second boost clock that is phase-inverted from the first boost clock;
(C) A drain connected to the second terminal of the capacitor from which the first boost clock is obtained, a source connected to the boost voltage output terminal, and a second gate obtained from the second boost clock generation circuit at the gate. And a third n-channel MOS transistor to which the boosting clock is applied.

【0016】[0016]

【作用】第1の発明の昇圧回路は、先の図7の昇圧回路
と同様に、第1の昇圧クロック生成回路では、クロック
制御されるキャパシタに対して電源の高電位側端子(以
下、VDD側端子という)から、第1のPMOSトランジ
スタを利用して充電を行い、キャパシタの第2の端子に
第1の昇圧クロックを得る。この昇圧クロックから第3
のPMOSトランジスタを利用して2VDDなる昇圧電圧
を得ることができる。これら第1,第3のPMOSトラ
ンジスタが通常のEタイプ、即ちしきい値が負(または
零)であれば、これらのトランジスタによる正電圧転送
には、しきい値による電圧低下はない。また、第1のP
MOSトランジスタのゲート制御を行う第1のNMOS
トランジスタと第2のPMOSトランジスタの間には、
ゲートにVDDが与えられた第2のNMOSトランジスタ
を介在させている。これにより、第1のNMOSトラン
ジスタがオフになるときにそのドレイン・ゲート間には
VDD以上の電圧がかからないようにしている。
In the booster circuit of the first invention, like the booster circuit of FIG. 7, the first boosted clock generation circuit has a high potential side terminal (hereinafter VDD) of the clock-controlled capacitor. Charging from the side terminal) using the first PMOS transistor to obtain the first boost clock at the second terminal of the capacitor. 3rd from this boost clock
A boosted voltage of 2 VDD can be obtained by using the PMOS transistor of. If these first and third PMOS transistors are of a normal E type, that is, the threshold value is negative (or zero), there is no threshold voltage drop for positive voltage transfer by these transistors. Also, the first P
First NMOS for controlling gate of MOS transistor
Between the transistor and the second PMOS transistor,
A second NMOS transistor whose gate is supplied with VDD is interposed. This prevents a voltage higher than VDD from being applied between the drain and the gate of the first NMOS transistor when it is turned off.

【0017】一方、昇圧電圧を取り出す第3のPMOS
トランジスタのゲートを駆動するために、第1の昇圧ク
ロック生成回路とは逆相の第2の昇圧クロックを生成す
る、第1の昇圧クロック生成回路と同様の構成の第2の
昇圧クロック生成回路を用いて、その第2の昇圧クロッ
クを第3のPMOSトランジスタのゲートに与えてい
る。これにより、この第3のPMOSトランジスタのド
レイン・ゲート間にも、VDDを越える電圧がかからない
ようにすることができる。以上により、使用トランジス
タの一部にゲート酸化膜の厚いものを用いることなく、
十分な信頼性を得ることができる。
On the other hand, the third PMOS for extracting the boosted voltage
A second boost clock generation circuit having a configuration similar to that of the first boost clock generation circuit for generating a second boost clock having a phase opposite to that of the first boost clock generation circuit for driving the gate of the transistor is provided. The second boosting clock is applied to the gate of the third PMOS transistor. As a result, it is possible to prevent a voltage exceeding VDD from being applied between the drain and gate of the third PMOS transistor. From the above, without using a thick gate oxide film for some of the transistors used,
It is possible to obtain sufficient reliability.

【0018】第2の発明にかかる昇圧回路は、第1の発
明にかかる昇圧回路と逆に、電源の低電位側端子(以
下、VSS側端子という)によるキャパシタ充電を利用し
て、負方向に倍加した昇圧電圧を得るもの、即ち、VSS
=0Vの場合には、−VDDなる電圧を得るものであり、
第1の発明の昇圧回路とは各部のトランジスタを逆導電
型とし、且つ電源関係を逆にした完全にコンプリメンタ
リーな構成としている。この場合も同様に、しきい値分
の降下がない昇圧電圧を得ることができ、またコスト高
をもたらすことなく高い信頼性を得ることができる。
Contrary to the booster circuit according to the first aspect of the invention, the booster circuit according to the second aspect of the invention uses the capacitor charging by the low potential side terminal of the power source (hereinafter referred to as the VSS side terminal) in the negative direction. One that obtains doubled boosted voltage, that is, VSS
In the case of = 0V, the voltage -VDD is obtained,
The booster circuit according to the first aspect of the present invention has a completely complementary structure in which the transistors of the respective parts are of opposite conductivity type and the power supply relationship is reversed. In this case as well, a boosted voltage that does not drop by the threshold value can be obtained, and high reliability can be obtained without increasing the cost.

【0019】[0019]

【実施例】以下、図面を参照して、この発明の実施例を
説明する。図1は、この発明の一実施例にかかる昇圧回
路である。EタイプのPMOSトランジスタMP10とE
タイプのNMOSトランジスタMN10からなるCMOS
インバータ1は、入力クロックCK0から補のクロック
CK1を作るために設けられている。これらのクロック
CK0,CK1を用いてこれらを正方向にレベルシフト
した昇圧クロックを得るために、第1,第2の昇圧クロ
ック生成回路2,3が設けられている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a booster circuit according to an embodiment of the present invention. E type PMOS transistor MP10 and E
Type NMOS transistor MN10 CMOS
The inverter 1 is provided to generate a complementary clock CK1 from the input clock CK0. First and second boosted clock generation circuits 2 and 3 are provided to obtain boosted clocks obtained by level-shifting these clocks CK0 and CK1 in the positive direction.

【0020】第1の昇圧クロック生成回路2は、第1の
クロックCK1をレベルシフトした第1の昇圧クロック
を得るもので、第1のクロックCK1が第1の端子N1
に入力されるキャパシタC1を有し、キャパシタC1の
第2の端子N2はキャパシタ充電用のEタイプの第1の
PMOSトランジスタMP11を介してVDD端子に接続さ
れている。PMOSトランジスタMP11はVDD側がドレ
インであり、ソースとバルクが共通に第2の端子側N2
に接続される。キャパシタC1の第2の端子N2にはま
た、Eタイプの第2のPMOSトランジスタMP12のソ
ースとバルクが接続され、このPMOSトランジスタM
P12のゲートはVDD端子に接続されている。
The first boosted clock generation circuit 2 obtains a first boosted clock obtained by level-shifting the first clock CK1, and the first clock CK1 is the first terminal N1.
Is connected to the VDD terminal through the E-type first PMOS transistor MP11 for charging the capacitor. The drain of the PMOS transistor MP11 is on the VDD side, and the source and the bulk are common to the second terminal side N2.
Connected to. The source and the bulk of the E-type second PMOS transistor MP12 are also connected to the second terminal N2 of the capacitor C1.
The gate of P12 is connected to the VDD terminal.

【0021】キャパシタ充電用の第1のPMOSトラン
ジスタMP11のゲート制御を行う為に、第2のクロック
CK0がゲートに入力され、ソースがVSS端子に接続さ
れたEタイプの第1のNMOSトランジスタMN11が設
けられている。このNMOSトランジスタMN11のドレ
インと第2のPMOSトランジスタMP12のドレインと
の間には、Eタイプの第2のNMOSトランジスタMN
12を介在させている。このNMOSトランジスタMN12
のゲートはVDD端子に接続されている。これらNMOS
トランジスタMN11,MN12のバルクは共通にVSSに接
続される。
In order to control the gate of the first PMOS transistor MP11 for charging the capacitor, the second clock CK0 is input to the gate and the E-type first NMOS transistor MN11 whose source is connected to the VSS terminal is connected. It is provided. Between the drain of the NMOS transistor MN11 and the drain of the second PMOS transistor MP12, an E-type second NMOS transistor MN is provided.
12 are intervening. This NMOS transistor MN12
Has its gate connected to the VDD terminal. These NMOS
The bulks of the transistors MN11 and MN12 are commonly connected to VSS.

【0022】第2の昇圧クロック生成回路3は、第1の
昇圧クロック生成回路2と同様の構成を有する。即ち、
キャパシタC1に対応してキャパシタC3が、PMOS
トランジスタMP11,MP12にそれぞれ対応してPMO
SトランジスタMP14,MP15が設けられ、NMOSト
ランジスタMN11,MN12にそれぞれ対応してNMOS
トランジスタMN13,MN14が設けられている。この第
2の昇圧クロック生成回路3には、第1の昇圧クロック
生成回路2とは互いに逆相となるようにクロックCK
0,CK1が与えられる。これにより、第1の昇圧クロ
ック生成回路2の端子N2に得られる第1の昇圧クロッ
クに対して、対応する端子N6に逆相の第2の昇圧クロ
ックが得られるようになっている。
The second boost clock generation circuit 3 has the same structure as the first boost clock generation circuit 2. That is,
The capacitor C3 corresponds to the capacitor C1
PMO corresponding to each of the transistors MP11 and MP12
S-transistors MP14 and MP15 are provided, and NMOS transistors corresponding to the NMOS transistors MN11 and MN12, respectively.
Transistors MN13 and MN14 are provided. The second boost clock generation circuit 3 has a clock CK that is in a phase opposite to that of the first boost clock generation circuit 2.
0 and CK1 are given. As a result, with respect to the first boosting clock obtained at the terminal N2 of the first boosting clock generating circuit 2, the second boosting clock having the opposite phase can be obtained at the corresponding terminal N6.

【0023】第1の昇圧クロック生成回路2に得られる
第1の昇圧クロックから一定の昇圧電圧出力を取り出す
ために、キャパシタC1の第2の端子N2と出力端子N
3の間に、Eタイプの第3のPMOSトランジスタMP
13が介挿されている。このPMOSトランジスタMP13
はキャパシタC1の第2の端子N2側がドレインであ
り、ソースとバルクが共通に出力端子N3に接続され
る。このPMOSトランジスタMP13のゲートには、第
2の昇圧クロック生成回路3の端子N6に得られる第2
の昇圧クロックが与えられる。出力端子には昇圧電圧保
持用のキャパシタC2が設けられている。
In order to extract a constant boosted voltage output from the first boosted clock obtained by the first boosted clock generation circuit 2, the second terminal N2 and the output terminal N of the capacitor C1 are output.
3 between E-type third PMOS transistor MP
13 are inserted. This PMOS transistor MP13
Has a drain on the side of the second terminal N2 of the capacitor C1, and a source and a bulk are commonly connected to the output terminal N3. The gate of this PMOS transistor MP13 has a second voltage obtained at the terminal N6 of the second boost clock generation circuit 3.
The boost clock of is given. A capacitor C2 for holding the boosted voltage is provided at the output terminal.

【0024】この様に構成された昇圧回路の動作を、次
に説明する。クロックCK0が“H”の時に第1のPM
OSトランジスタMP11を介してキャパシタC1にVDD
の充電がなされ、クロックCK0が“L”になると、キ
ャパシタC1の第2の端子N2に2VDDが得られると同
時に、第3のPMOSトランジスタMP13がオンして、
キャパシタC1から出力端のキャパシタC2に電荷転送
がなされる。その基本動作は、先の図6の昇圧回路と同
じである。
The operation of the booster circuit thus constructed will be described below. First PM when clock CK0 is "H"
VDD is applied to the capacitor C1 through the OS transistor MP11.
Is charged and the clock CK0 becomes "L", 2VDD is obtained at the second terminal N2 of the capacitor C1 and at the same time, the third PMOS transistor MP13 is turned on,
The charge is transferred from the capacitor C1 to the capacitor C2 at the output end. The basic operation is the same as that of the booster circuit shown in FIG.

【0025】図2は、回路の定常状態での各部電圧波形
を、VDD=3Vの場合について示している。その定常状
態での動作を具体的に説明すると次のようになる。第1
の昇圧クロック生成回路2側に着目すると、クロックC
K0が“H”、従ってクロックCK1が“L”のとき、
第1のNMOSトランジスタMN11がオンとなり、第2
のNMOSトランジスタMN12はゲートにVDDが与えら
れて常時オンであるから、端子N4が“L”となる。こ
れにより第1のPMOSトランジスタMP11がオン、第
2のPMOSトランジスタMP12がオフとなる。
FIG. 2 shows the voltage waveform of each part in the steady state of the circuit in the case of VDD = 3V. The operation in the steady state will be specifically described as follows. First
Focusing on the boost clock generation circuit 2 side of
When K0 is "H" and therefore clock CK1 is "L",
The first NMOS transistor MN11 is turned on and the second NMOS transistor MN11 is turned on.
Since the NMOS transistor MN12 is always turned on with VDD given to its gate, the terminal N4 becomes "L". This turns on the first PMOS transistor MP11 and turns off the second PMOS transistor MP12.

【0026】このとき、キャパシタC1の第1の端子N
1は“L”(=VSS)であるため、第1のPMOSトラ
ンジスタMP11を介してキャパシタC1にVDDの充電が
なされる。この第1のPMOSトランジスタMP11によ
る充電動作では、しきい値が負であるため、従来のよう
にダイオード接続したNMOSトランジスタを用いた場
合と異なり、しきい値分の電圧降下は生じない。
At this time, the first terminal N of the capacitor C1
Since 1 is "L" (= Vss), the capacitor C1 is charged with VDD through the first PMOS transistor MP11. In the charging operation by the first PMOS transistor MP11, since the threshold value is negative, unlike the conventional case where the diode-connected NMOS transistor is used, a voltage drop corresponding to the threshold value does not occur.

【0027】一方、第2の昇圧クロック生成回路3側で
は、クロックの半サイクル前に、上述した第1の昇圧ク
ロック生成回路2と同様の動作でキャパシタC3にVDD
の充電がなされ、クロックCK0が“H”の間、端子N
6には昇圧クロック2VDDが得られ、これが第3のPM
OSトランジスタMP13のゲートに与えられる。従っ
て、クロックCK0が“L”の間、第3のPMOSトラ
ンジスタMP13はオフである。
On the other hand, on the side of the second boost clock generation circuit 3, before the clock half cycle, by the same operation as that of the first boost clock generation circuit 2 described above, VDD is applied to the capacitor C3.
Is charged, and the terminal N while the clock CK0 is "H"
Boosted clock 2VDD is obtained at 6, and this is the third PM
It is given to the gate of the OS transistor MP13. Therefore, the third PMOS transistor MP13 is off while the clock CK0 is "L".

【0028】そして、クロックCK0が“L”になる
と、クロックCK1が“H”、即ちキャパシタC1の第
1の端子N1にVDDが与えられるから、第2の端子N2
は2VDDまで昇圧される。このとき第1の昇圧クロック
生成回路2側では第1のNMOSトランジスタMN11が
オフになり、従って端子N4が“H”になって、第2の
PMOSトランジスタMP12がオン、第1のPMOSト
ランジスタMP11がオフとなり、VDD端子に電荷が流れ
ることはない。
Then, when the clock CK0 becomes "L", the clock CK1 becomes "H", that is, VDD is given to the first terminal N1 of the capacitor C1, and therefore the second terminal N2.
Is boosted to 2 VDD. At this time, on the side of the first boost clock generation circuit 2, the first NMOS transistor MN11 is turned off, the terminal N4 is turned to "H", the second PMOS transistor MP12 is turned on, and the first PMOS transistor MP11 is turned on. It is turned off and no charge flows to the VDD terminal.

【0029】またこのとき、第2の昇圧クロック生成回
路3側の端子N6は、充電サイクルであってVDDであ
り、これが第3のPMOSトランジスタMP13のゲート
に与えられる。定常状態では既に出力キャパシタC2に
は2VDDが充電されているから、第3のPMOSトラン
ジスタMP13はオンになり、キャパシタC1からこのP
MOSトランジスタMP13を介してキャパシタC2に電
荷が転送される。以上の動作の繰り返しによって、キャ
パシタC2には一定の昇圧電圧2VDDが得られる。この
第3のPMOSトランジスタMP13による電荷転送動作
においても、しきい値分の電圧低下が生じることはな
い。
At this time, the terminal N6 on the side of the second boost clock generating circuit 3 is in the charging cycle and is VDD, which is supplied to the gate of the third PMOS transistor MP13. In the steady state, the output capacitor C2 is already charged with 2V DD, so the third PMOS transistor MP13 is turned on, and the capacitor C1 outputs the P
The charges are transferred to the capacitor C2 via the MOS transistor MP13. By repeating the above operation, a constant boosted voltage 2VDD is obtained in the capacitor C2. Even in the charge transfer operation by the third PMOS transistor MP13, the voltage drop by the threshold value does not occur.

【0030】以上の動作において、第1のPMOSトラ
ンジスタMP11のオンオフ制御用の第1のNMOSトラ
ンジスタMN11、及び昇圧電圧取り出し用の第3のPM
OSトランジスタMP13には、従来のような高電圧はか
からない。このことを次に説明する。図2に示すよう
に、端子N2には、VSS〜VDDのクロックに対して、V
DD〜2VDDにレベルシフトされた昇圧クロックが得られ
る。クロックCK0が“L”であって第1のNMOSト
ランジスタMN11がオフになるとき、第2のPMOSト
ランジスタMP12がオンして、そのドレイン側の端子N
4は図2に示すように、2VDDまで上がる。
In the above operation, the first NMOS transistor MN11 for controlling the on / off of the first PMOS transistor MP11 and the third PM for extracting the boosted voltage.
No high voltage is applied to the OS transistor MP13 as in the conventional case. This will be described below. As shown in FIG. 2, the terminal N2 has V
A boosted clock level-shifted from DD to 2 VDD can be obtained. When the clock CK0 is "L" and the first NMOS transistor MN11 is turned off, the second PMOS transistor MP12 is turned on and its drain-side terminal N
4 goes up to 2 VDD as shown in FIG.

【0031】しかし、第2のNMOSトランジスタMN
12はゲートにVDDが与えられていて、そのソース側の端
子N5は、第2のNMOSトランジスタMN12のしきい
値をVthとすれば、VDD−Vthまでしか上昇できない。
従って、第1のNMOSトランジスタMN11のゲート・
ドレイン間には、VDD−Vth以上の電圧はかからないこ
とになる。
However, the second NMOS transistor MN
Reference numeral 12 has its gate supplied with VDD, and its source-side terminal N5 can only rise to VDD-Vth, where Vth is the threshold value of the second NMOS transistor MN12.
Therefore, the gate of the first NMOS transistor MN11
No voltage higher than VDD-Vth is applied between the drains.

【0032】次に、昇圧電圧取り出し用の第3のPMO
SトランジスタMP13について見ると、図2に示すよう
に、端子N2に得られるVDD〜2VDDの第1の昇圧クロ
ックがドレインに与えられ、ゲートには端子N6に得ら
れる第1の昇圧クロックとは逆相の、VDD〜2VDDの間
で変化する第2の昇圧クロックが与えられる。従って、
この第3のPMOSトランジスタMP13のドレイン・ゲ
ート間にはVDDを越える電圧がかかることはない。これ
ら以外のトランジスタについても、VDDを越える電圧は
ゲート酸化膜にかからない。
Next, a third PMO for extracting the boosted voltage
Looking at the S-transistor MP13, as shown in FIG. 2, the first boosting clock of VDD to 2VDD obtained at the terminal N2 is applied to the drain, and the gate is opposite to the first boosting clock obtained at the terminal N6. A second boost clock of the phase, varying between VDD and 2VDD, is provided. Therefore,
No voltage exceeding VDD is applied between the drain and gate of the third PMOS transistor MP13. With respect to the transistors other than these, no voltage exceeding VDD is applied to the gate oxide film.

【0033】以上にようにこの実施例によると、トラン
ジスタのしきい値分の電圧降下のない昇圧電圧を得るこ
とができる。しかも使用トランジスタのゲート酸化膜に
VDD以上の電圧がかかることはないから、格別にゲート
酸化膜の厚い素子を作るといったことを要せず、従って
コスト高をもたらすことなく、十分高い信頼性を得るこ
とができる。図1に示す回路を基本として、これを複数
段配置すれば、3倍、4倍等の任意昇圧倍率の電圧を得
ることが可能である。
As described above, according to this embodiment, it is possible to obtain a boosted voltage without a voltage drop corresponding to the threshold value of the transistor. Moreover, since a voltage higher than VDD is not applied to the gate oxide film of the transistor used, it is not necessary to form a device having a particularly thick gate oxide film, and therefore a sufficiently high reliability is obtained without increasing the cost. be able to. By arranging a plurality of stages based on the circuit shown in FIG. 1, it is possible to obtain a voltage of arbitrary boosting ratio such as 3 times or 4 times.

【0034】図3はこの発明の他の実施例の昇圧回路で
ある。この昇圧回路は、図1の実施例と逆に、電源電圧
をVSS側に2倍にした昇圧電圧、つまり−VDDなる昇圧
電圧を得る例である。第1の昇圧クロック生成回路2及
び第2の昇圧クロック生成回路3は、図1の実施例とは
完全にコンプリメンタリーな構成としている。即ち、第
1,第2,第3のPMOSトランジスタMP11,MP1
2,MP13にそれぞれ対応して、第1,第2,第3のN
MOSトランジスタMN21,MN22,MN23が設けられ
ている。NMOSトランジスタMN21のドレイン及びN
MOSトランジスタMN23のゲートは、VSS端子に接続
される。
FIG. 3 shows a booster circuit according to another embodiment of the present invention. Contrary to the embodiment of FIG. 1, this booster circuit is an example of obtaining a boosted voltage obtained by doubling the power supply voltage to the VSS side, that is, a boosted voltage of -VDD. The first boosting clock generation circuit 2 and the second boosting clock generation circuit 3 have a completely complementary configuration to the embodiment of FIG. That is, the first, second and third PMOS transistors MP11, MP1
2, 1st, 2nd and 3rd N corresponding to MP13
MOS transistors MN21, MN22, MN23 are provided. The drain and N of the NMOS transistor MN21
The gate of the MOS transistor MN23 is connected to the VSS terminal.

【0035】また、図1の第1,第2のNMOSトラン
ジスタMN11,MN12にそれぞれ対応して、第1,第2
のPMOSトランジスタMP23,MP24が設けられてい
る。PMOSトランジスタMP23のソースはVDD端子に
接続される。
Further, the first and second NMOS transistors MN11 and MN12 of FIG.
PMOS transistors MP23 and MP24 are provided. The source of the PMOS transistor MP23 is connected to the VDD terminal.

【0036】この実施例の昇圧回路の定常状態での動作
波形を図2に対応させて示すと、図4のようになる。簡
単に説明すればこの実施例では、クロックCK0が
“L”の時に、第1のPMOSトランジスタMP21がオ
ン、第1のNMOSトランジスタMN21がオンとなっ
て、キャパシタC1には、第1の端子N1がVDD、第2
の端子N2がVSSとなるように充電がなされる。この
時、第1のNMOSトランジスタMN21のしきい値は正
であるから、この第1のNMOSトランジスタMN21を
介してのVSSの転送に際して電圧降下は生じない。
The operation waveforms of the booster circuit of this embodiment in the steady state are shown in FIG. 4 in correspondence with FIG. In brief, in this embodiment, when the clock CK0 is "L", the first PMOS transistor MP21 is turned on and the first NMOS transistor MN21 is turned on, so that the capacitor C1 has the first terminal N1. Is VDD, second
The terminal N2 is charged to VSS. At this time, since the threshold value of the first NMOS transistor MN21 is positive, no voltage drop occurs during the transfer of VSS through the first NMOS transistor MN21.

【0037】クロックCK0が“H”になると、キャパ
シタC1の第2の端子N2には−VDDが得られる。同時
に第1のNMOSトランジスタMN21がオフ、第3のN
MOSトランジスタMN22がオンであるから、第2の端
子N2の電荷が出力端のキャパシタC2に転送される。
このときも第3のNMOSトランジスタMN23による電
圧降下はない。以上の動作の繰り返しによって、−VDD
なる昇圧電圧が得られる。この実施例によっても、先の
実施例と同様の効果が得られる。
When the clock CK0 becomes "H", -VDD is obtained at the second terminal N2 of the capacitor C1. At the same time, the first NMOS transistor MN21 is turned off and the third NMOS transistor MN21 is turned off.
Since the MOS transistor MN22 is on, the charge of the second terminal N2 is transferred to the capacitor C2 at the output end.
Also at this time, there is no voltage drop due to the third NMOS transistor MN23. By repeating the above operation, -VDD
A boosted voltage is obtained. Also in this embodiment, the same effect as in the previous embodiment can be obtained.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、キ
ャパシタへのVDDの充電及びVDD側に昇圧された電圧の
転送にはPMOSトランジスタを用い、逆にVSSの充電
及びVSS側に昇圧された電圧の転送にはNMOSトラン
ジスタを用いることによって、しきい値分の電圧低下を
もたらすことなく昇圧電圧を得ることができ、使用トラ
ンジスタのゲート酸化膜に昇圧された過大な電圧がかか
らないようにして、コスト高をもたらすことなく高い信
頼性を実現した昇圧回路を得ることができる。
As described above, according to the present invention, the PMOS transistor is used for charging VDD to the capacitor and transferring the voltage boosted to the VDD side, while conversely charging VSS and boosting the voltage to the VSS side. By using an NMOS transistor for voltage transfer, a boosted voltage can be obtained without causing a voltage drop corresponding to a threshold value, and an excessive boosted voltage is not applied to the gate oxide film of the transistor used. Therefore, it is possible to obtain a booster circuit that realizes high reliability without increasing cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の一実施例に係る昇圧回路を示す。FIG. 1 shows a booster circuit according to an embodiment of the present invention.

【図2】 同実施例の昇圧回路の動作波形を示す。FIG. 2 shows operation waveforms of the booster circuit according to the embodiment.

【図3】 この発明の他の実施例に係る昇圧回路を示
す。
FIG. 3 shows a booster circuit according to another embodiment of the present invention.

【図4】 同実施例の昇圧回路の動作波形を示す。FIG. 4 shows operation waveforms of the booster circuit of the embodiment.

【図5】 従来の昇圧回路を示す。FIG. 5 shows a conventional booster circuit.

【図6】 従来の昇圧回路を示す。FIG. 6 shows a conventional booster circuit.

【図7】 従来の昇圧回路を示す。FIG. 7 shows a conventional booster circuit.

【図8】 従来の昇圧回路を示す。FIG. 8 shows a conventional booster circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…CMOSインバータ、2…第1の昇圧クロック生成
回路、3…第2の昇圧クロック生成回路、C1,C2,
C3…キャパシタ、MP11…第1のPMOSトランジス
タ、MP12…第2のPMOSトランジスタ、MP13…第
3のPMOSトランジスタ、MN11…第1のNMOSト
ランジスタ、MN12…第2のNMOSトランジスタ、M
N21…第1のNMOSトランジスタ、MN22…第2のN
MOSトランジスタ、MN23…第3のNMOSトランジ
スタ、MP21…第1のPMOSトランジスタ、MP22…
第2のPMOSトランジスタ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... CMOS inverter, 2 ... 1st step-up clock generation circuit, 3 ... 2nd step-up clock generation circuit, C1, C2
C3 ... Capacitor, MP11 ... First PMOS transistor, MP12 ... Second PMOS transistor, MP13 ... Third PMOS transistor, MN11 ... First NMOS transistor, MN12 ... Second NMOS transistor, M
N21 ... first NMOS transistor, MN22 ... second N
MOS transistor, MN23 ... Third NMOS transistor, MP21 ... First PMOS transistor, MP22 ...
Second PMOS transistor.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)第1,第2の端子を有し、第1の
端子に第1のクロックが供給されるキャパシタと、 ソースが前記キャパシタの第2の端子に接続され、ドレ
インが電源の高電位側端子に接続された第1のpチャネ
ルMOSトランジスタと、 ソースが前記キャパシタの第2の端子に接続され、ゲー
トが前記電源の高電位側端子に接続され、ドレインが前
記第1のpチャネルMOSトランジスタのゲートに接続
された第2のpチャネルMOSトランジスタと、 前記第1のクロックとは位相反転された第2のクロック
がゲートに供給され、ソースが前記電源の低電位側端子
に接続された第1のnチャネルMOSトランジスタと、 ゲートが前記電源の高電位側端子に接続され、ドレイン
が前記第2のpチャネルMOSトランジスタのドレイン
に接続され、ソースが前記第1のnチャネルMOSトラ
ンジスタのドレインに接続された第2のnチャネルMO
Sトランジスタとを有し、前記キャパシタの第2の端子
に前記第1のクロックをレベルシフトした第1の昇圧ク
ロックを得る第1の昇圧クロック生成回路と、 (b)前記第1の昇圧クロック生成回路と同様の構成を
有し、前記第1の昇圧クロックとは位相反転した第2の
昇圧クロックを得る第2の昇圧クロック生成回路と、 (c)前記第1の昇圧クロックが得られる前記キャパシ
タの第2の端子にドレインが接続され、ソースが昇圧電
圧出力端子に接続され、ゲートに前記第2の昇圧クロッ
ク生成回路から得られる第2の昇圧クロックが与えられ
る第3のpチャネルMOSトランジスタとを備えたこと
を特徴とする昇圧回路。
1. (a) A capacitor having first and second terminals, a first clock being supplied to the first terminal, a source connected to a second terminal of the capacitor, and a drain A first p-channel MOS transistor connected to the high potential side terminal of the power supply, a source connected to the second terminal of the capacitor, a gate connected to the high potential side terminal of the power supply, and a drain of the first A second p-channel MOS transistor connected to the gate of the p-channel MOS transistor, and a second clock whose phase is inverted from that of the first clock are supplied to the gate, and the source is the low potential side terminal of the power supply. A first n-channel MOS transistor connected to the power source, a gate connected to the high potential side terminal of the power source, and a drain connected to the drain of the second p-channel MOS transistor. Is connected, a second n-channel MO having a source connected to a drain of said first n-channel MOS transistor
A first boost clock generation circuit having an S-transistor to obtain a first boost clock generated by level-shifting the first clock at a second terminal of the capacitor; and (b) the first boost clock generation circuit. A second boost clock generation circuit that has a configuration similar to that of the circuit, and that obtains a second boost clock that is a phase inversion of the first boost clock; and (c) the capacitor that obtains the first boost clock. A third p-channel MOS transistor having a drain connected to the second terminal, a source connected to the boosted voltage output terminal, and a gate to which the second boosted clock obtained from the second boosted clock generation circuit is applied. A booster circuit comprising:
【請求項2】 (a)第1,第2の端子を有し、第1の
端子に第1のクロックが供給されるキャパシタと、 ソースが前記キャパシタの第2の端子に接続され、ドレ
インが電源の低電位側端子に接続された第1のnチャネ
ルMOSトランジスタと、 ソースが前記キャパシタの第2の端子に接続され、ゲー
トが前記電源の高電位側端子に接続され、ドレインが前
記第1のnチャネルMOSトランジスタのゲートに接続
された第2のnチャネルMOSトランジスタと、 前記第1のクロックとは位相反転された第2のクロック
がゲートに供給され、ソースが前記電源の高電位側端子
に接続された第1のpチャネルMOSトランジスタと、 ゲートが前記電源の低電位側端子に接続され、ドレイン
が前記第2のnチャネルMOSトランジスタのドレイン
に接続され、ソースが前記第1のpチャネルMOSトラ
ンジスタのドレインに接続された第2のpチャネルMO
Sトランジスタとを有し、前記キャパシタの第2の端子
に前記第1のクロックをレベルシフトした第1の昇圧ク
ロックを得る第1の昇圧クロック生成回路と、 (b)前記第1の昇圧クロック生成回路と同様の構成を
有し、前記第1の昇圧クロックとは位相反転した第2の
昇圧クロックを得る第2の昇圧クロック生成回路と、 (c)前記第1の昇圧クロックが得られる前記キャパシ
タの第2の端子にドレインが接続され、ソースが昇圧電
圧出力端子に接続され、ゲートに前記第2の昇圧クロッ
ク生成回路から得られる第2の昇圧クロックが与えられ
る第3のnチャネルMOSトランジスタとを備えたこと
を特徴とする昇圧回路。
2. (a) A capacitor having first and second terminals, a first clock being supplied to the first terminal, a source connected to a second terminal of the capacitor, and a drain A first n-channel MOS transistor connected to the low potential side terminal of the power supply, a source connected to the second terminal of the capacitor, a gate connected to the high potential side terminal of the power supply, and a drain of the first A second n-channel MOS transistor connected to the gate of the n-channel MOS transistor, and a second clock whose phase is inverted from that of the first clock are supplied to the gate, and the source is a high potential side terminal of the power supply. A first p-channel MOS transistor connected to the second power supply, a gate connected to a low potential side terminal of the power supply, and a drain connected to the drain of the second n-channel MOS transistor. Is connected, a second p-channel MO having a source connected to the drain of said first p-channel MOS transistor
A first boost clock generation circuit having an S-transistor to obtain a first boost clock generated by level-shifting the first clock at a second terminal of the capacitor; and (b) the first boost clock generation circuit. A second boost clock generation circuit that has a configuration similar to that of the circuit, and that obtains a second boost clock that is a phase inversion of the first boost clock; and (c) the capacitor that obtains the first boost clock. A third n-channel MOS transistor to which a drain is connected to the second terminal, a source is connected to the boosted voltage output terminal, and a second boosted clock obtained from the second boosted clock generation circuit is applied to the gate. A booster circuit comprising:
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