JPH0950650A - Production of substrate of optical card with magnetic stripe - Google Patents
Production of substrate of optical card with magnetic stripeInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光学的に情報の記
録／再生を行う光カード用基板に係り、更に、耐擦傷性
保護層及び磁気情報を記録再生する磁気ストライプが基
板に埋め込まれた複合カード用基板に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical card substrate for optically recording / reproducing information, and further, a scratch-resistant protective layer and a magnetic stripe for recording / reproducing magnetic information are embedded in the substrate. The present invention relates to a composite card substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】光カードは、アクリル樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂等の透明性に優れた樹脂基板を、押し出し成
形、射出成形、注型成形等で製造し、樹脂基板上に光記
録層を設け、その上を保護層で被覆してラミネートする
方法等が行われている。また、光記録層が設けられてい
る側と反対側の樹脂基板上には耐擦傷性保護層が設けら
れている。2. Description of the Related Art Optical cards are manufactured by extrusion molding, injection molding, cast molding or the like of a resin substrate having excellent transparency such as acrylic resin or polycarbonate resin, and an optical recording layer is formed on the resin substrate. A method of covering the upper part with a protective layer and laminating it has been carried out. Further, a scratch-resistant protective layer is provided on the resin substrate opposite to the side on which the optical recording layer is provided.
【０００３】保護層側には所有者に関する個人情報や顔
写真等の印刷が施されたり、カードセキュリティーのた
めのホログラムシールや、指紋のように所有者本人であ
ることを確認できるための照合シールが貼りつけられた
り、各種クレジットカードのような磁気ストライプが埋
め込まれているのが一般的である。On the protective layer side, personal information about the owner, a facial photograph, etc. are printed, a hologram sticker for card security, and a collation sticker for confirming the owner's identity like a fingerprint. It is generally attached to or embedded with a magnetic stripe like various credit cards.
【０００４】近年、これらの可視情報やセキュリティー
のための領域を、カード上により多く盛り込むために、
光情報記録面に磁気情報として記録再生のための磁気ス
トライプを設けることが望まれつつある。In recent years, in order to incorporate more of these visible information and security areas on a card,
It is desired to provide a magnetic stripe for recording / reproducing magnetic information on the optical information recording surface.
【０００５】磁気情報の記録再生は接触式の磁気ヘッド
で行われるため、磁気ストライプの耐磨耗性、傷に対す
る耐久性を上げるためには、磁気ストライプ面が、カー
ド面、即ち耐擦傷性保護層面と同一であることが望まし
い。Recording and reproduction of magnetic information is performed by a contact type magnetic head. Therefore, in order to improve wear resistance and scratch resistance of the magnetic stripe, the magnetic stripe surface is a card surface, that is, scratch resistance protection. It is desirable to be the same as the layer surface.
【０００６】一方、光記録層側の表面には、傷やクラッ
クを防止するための耐擦傷性保護層を形成するのが一般
的である。On the other hand, a scratch-resistant protective layer for preventing scratches and cracks is generally formed on the surface of the optical recording layer side.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】この様に光情報記録面
に磁気情報記録部を設ける場合、図１０に示す様に、基
板３４の表面に設けられた耐擦傷性保護層３３上に接着
層３１を介して磁気ストライプ３２を設けると、磁気ス
トライプの部分の厚みは接着層を含めて２０μｍ程度あ
るためカードに段差が生じてしまう。When the magnetic information recording portion is provided on the optical information recording surface as described above, as shown in FIG. 10, an adhesive layer is formed on the scratch-resistant protective layer 33 provided on the surface of the substrate 34. When the magnetic stripe 32 is provided via the magnetic stripe 31, the thickness of the magnetic stripe portion including the adhesive layer is about 20 μm, which causes a step in the card.
【０００８】また、図９に示す様に、磁気ストライプ３
２を耐擦傷性保護層３３に埋めた場合でも、耐擦傷性保
護層の厚みは一般的に３〜１０μｍであり、磁気ストラ
イプ３２の厚みは一般的に１５〜３０μｍであるために
段差が取りきれなかった。As shown in FIG. 9, the magnetic stripe 3
Even when 2 is buried in the scratch-resistant protective layer 33, the scratch-resistant protective layer generally has a thickness of 3 to 10 μm, and the magnetic stripe 32 has a thickness of 15 to 30 μm. I couldn't finish it.
【０００９】また、耐擦傷性保護層を２０μｍ程度の厚
みにして基板上に設けた場合、膜質が固いために、カー
ドが曲げられると耐擦傷性保護層がひび割れるといった
欠点があった。膜質を柔らかくすることで保護層のひび
割れは防止できるが十分な硬度が得られなくなる欠点が
あった。Further, when the scratch-resistant protective layer is provided on the substrate with a thickness of about 20 μm, there is a drawback that the scratch-resistant protective layer is cracked when the card is bent because the film quality is hard. By softening the film quality, cracking of the protective layer can be prevented, but there is a drawback that sufficient hardness cannot be obtained.
【００１０】また、基板に磁気ストライプを埋め込んだ
後、埋め込んだ表面に耐擦傷性保護層を設ける方法も考
えられるが、磁気ストライプ上に５μｍを越えるような
保護層を形成すると、充分な磁気特性が得られず、又そ
れ以下の場合には磁気ストライプと基板の濡れ性が著し
く異なるため、均一に保護層を形成することができない
といった問題があった。A method of burying a magnetic stripe on a substrate and then providing a scratch-resistant protective layer on the embedded surface is also conceivable. However, when a protective layer having a thickness of more than 5 μm is formed on the magnetic stripe, sufficient magnetic characteristics can be obtained. However, if it is less than that, the wettability between the magnetic stripe and the substrate is remarkably different, so that there is a problem that the protective layer cannot be formed uniformly.
【００１１】更に、切削加工等により、片面に微細なプ
リフォーマットパターンが設けられた基板の他方の面に
磁気ストライプを埋め込むための凹形状を精度良く設け
ることは加工上非常に煩雑であった。Further, it is very complicated in terms of processing to accurately provide a concave shape for embedding the magnetic stripe on the other surface of the substrate having a fine preformat pattern on one surface by cutting or the like.
【００１２】本発明は、この様な従来技術の欠点を改善
するためになされたものであり、磁気ストライプが耐擦
傷性保護層の内部に埋め込まれ、磁気ストライプと耐擦
傷性保護膜とを同一面に形成することにより、磁気ヘッ
ド等により磁気ストライプに傷が付くのを防止すること
ができる磁気ストライプ付き光カード基板の製造方法を
提供することを目的とするものである。The present invention has been made to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art. The magnetic stripe is embedded inside the scratch-resistant protective layer, and the magnetic stripe and the scratch-resistant protective film are the same. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe, which can prevent the magnetic stripe from being scratched by a magnetic head or the like by forming the optical card substrate on the surface.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ストライプ
付き光カード基板の製造方法は、下記の第一および第二
の発明により達成される。The method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe of the present invention is achieved by the following first and second inventions.
【００１４】即ち、本発明の第一の発明は、注型成形法
により基板の一方の面にプリフォーマットパターンを他
方の面に磁気ストライプを有する光カード基板を製造す
る方法において、鏡面型の所定位置に磁気ストライプを
仮止めし、その上に紫外線硬化性樹脂を塗布して磁気ス
トライプを被覆し、次いで紫外線を照射して樹脂を硬化
又は半硬化させた後、プリフォーマットパターンを有す
る原版と前記鏡面型を対向させて鋳型を組み立て、該鋳
型内に合成樹脂原料液を注入し、重合させて一体に成形
することを特徴とする磁気ストライプ付き光カード基板
の製造方法である。That is, the first invention of the present invention is a method for producing an optical card substrate having a preformat pattern on one surface of the substrate and a magnetic stripe on the other surface by a casting method, and a predetermined mirror surface type. Temporarily fix the magnetic stripe at the position, coat the magnetic stripe by applying an ultraviolet curable resin on it, then irradiate ultraviolet rays to cure or semi-cure the resin, and then the original plate having a preformat pattern and the above. A method of manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe, comprising assembling a mold with mirror-faced molds facing each other, injecting a synthetic resin raw material liquid into the mold, polymerizing the liquid, and integrally molding.
【００１５】また、本発明の第二の発明は、注型成形法
により基板の一方の面にプリフォーマットパターンを他
方の面に磁気ストライプを有する光カード基板を製造す
る方法において、鏡面型に第一の紫外線硬化性樹脂を塗
布して紫外線を照射して硬化又は半硬化させた後、所定
位置に磁気ストライプを仮止めし、次いで前記第一の紫
外線硬化性樹脂及び磁気ストライプ上に第二の紫外線硬
化性樹脂を塗布し、紫外線を照射して硬化又は半硬化さ
せた後、プリフォーマットパターンを有する原版と前記
鏡面型を対向させて鋳型を組み立て、該鋳型内に合成樹
脂原料液を注入し、重合させて一体に成形することを特
徴とする磁気ストライプ付き光カード基板の製造方法で
ある。The second aspect of the present invention is a method for producing an optical card substrate having a preformat pattern on one surface of the substrate and a magnetic stripe on the other surface by a casting method, which is a mirror surface type. After applying one ultraviolet-curable resin and irradiating it with ultraviolet rays to cure or semi-cure it, the magnetic stripe is temporarily fixed at a predetermined position, and then the second ultraviolet-curable resin and the second magnetic stripe on the magnetic stripe. After applying an ultraviolet curable resin and curing or semi-curing by irradiating with ultraviolet rays, a master having a preformat pattern and the mirror surface mold are opposed to assemble a mold, and a synthetic resin raw material liquid is injected into the mold. A method of manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe, which is characterized by being polymerized and integrally molded.
【００１６】上記の第一の発明および第二の発明におい
て、紫外線硬化性樹脂を半硬化させた場合には、合成樹
脂原料液を注入して重合させる前、又は重合時、または
重合後に半硬化の紫外線硬化性樹脂を完全に硬化させ
る。In the above-mentioned first and second inventions, when the ultraviolet curable resin is semi-cured, it is semi-cured before injecting the synthetic resin raw material liquid for polymerization, during polymerization, or after polymerization. The UV curable resin is completely cured.
【００１７】[0017]
○第一の発明 以下、本発明を詳細に説明する。本発明の第一の発明
は、注型成形法により基板の一方の面にプリフォーマッ
トパターンを他方の面に磁気ストライプを有する光カー
ド基板を製造する方法において、鏡面型の所定位置に磁
気ストライプを仮止めし、その上に紫外線硬化性樹脂を
塗布して磁気ストライプを被覆し、次いで紫外線を照射
して樹脂を硬化又は半硬化させた後、プリフォーマット
パターンを有する原版と前記鏡面型を対向させて鋳型を
組み立て、該鋳型内に合成樹脂原料液を注入し、重合さ
せて一体に成形することを特徴とする磁気ストライプ付
き光カード基板の製造方法である。○ First Invention Hereinafter, the present invention will be described in detail. A first invention of the present invention is a method for manufacturing an optical card substrate having a preformat pattern on one surface of a substrate and a magnetic stripe on the other surface by a casting method, in which a magnetic stripe is formed at a predetermined position of a mirror surface type. Temporarily fix, apply an ultraviolet curable resin on it to cover the magnetic stripe, then irradiate ultraviolet rays to cure or semi-cure the resin, and then make the original plate having a preformat pattern and the mirror surface mold face each other. A method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe is characterized in that a mold is assembled by assembling, a synthetic resin raw material liquid is injected into the mold, and the mixture is polymerized to be integrally molded.
【００１８】本発明の磁気ストライプ付き光カード基板
の製造方法は、基板表面に光学的に読み取り可能なプリ
フォーマットパターンを有する光カード基板を製造する
ための注型成形により製造される。The method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe of the present invention is manufactured by cast molding for manufacturing an optical card substrate having an optically readable preformat pattern on the surface of the substrate.
【００１９】図１は本発明の磁気ストライプ付き光カー
ド基板の製造方法の一例を示す工程図である。本発明
は、まず、プリフォーマットパターンを有する原版９と
鏡面型１を対向させて鋳型を組み立てる前に、鏡面型１
の所定位置に磁気ストライプ２を仮止めする。（図１
（ａ）参照）FIG. 1 is a process chart showing an example of a method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe according to the present invention. In the present invention, first, before the master 9 having a preformat pattern and the mirror surface mold 1 are opposed to each other to assemble the mold, the mirror surface mold 1
The magnetic stripe 2 is temporarily fixed to the predetermined position. (Figure 1
(See (a))
【００２０】次に、磁気ストライプを仮止めした鏡面型
１に紫外線硬化性樹脂を塗布して未硬化の紫外線硬化性
樹脂層３を形成し、樹脂で磁気ストライプ２を被覆し、
次いで紫外線照射機構７により紫外線を照射して樹脂を
硬化又は半硬化させる。（図１（ｂ）参照）Next, an ultraviolet curable resin is applied to the mirror surface mold 1 to which the magnetic stripe is temporarily fixed to form an uncured ultraviolet curable resin layer 3, and the magnetic stripe 2 is covered with the resin.
Next, the resin is cured or semi-cured by irradiating it with ultraviolet rays by the ultraviolet ray irradiation mechanism 7. (See FIG. 1 (b))
【００２１】その後、プリフォーマットパターンを有す
る原版９と紫外線硬化性樹脂層４を有する鏡面型１とを
対向させて鋳型の注型成形用セル８を組み立て、該注型
成形用セル８内にエチレン性不飽和単官能単量体、エチ
レン性不飽和多官能単量体及びラジカル重合開始剤を含
有する合成樹脂原料液６を注入する。（図１（ｃ）参
照） 次いで、合成樹脂原料液６を重合させて一体に成形する
ことにより硬化した基板５を得ることができる。（図１
（ｄ）参照）After that, the master 9 having the preformat pattern and the mirror surface mold 1 having the ultraviolet curable resin layer 4 are opposed to each other to assemble the casting cell 8 of the casting mold, and ethylene is placed in the casting cell 8. A synthetic resin raw material liquid 6 containing a polyunsaturated monofunctional monomer, an ethylenically unsaturated polyfunctional monomer and a radical polymerization initiator is injected. (See FIG. 1C) Next, the cured substrate 5 can be obtained by polymerizing the synthetic resin raw material liquid 6 and integrally molding. (Figure 1
(See (d))
【００２２】なお、上記の方法において、紫外線硬化性
樹脂を半硬化させた場合には、注型成形用セル内に合成
樹脂原料液を注入して重合させる前、又は重合時、また
は重合後に半硬化の紫外線硬化性樹脂を完全に硬化させ
る。In the above method, when the ultraviolet curable resin is semi-cured, the synthetic resin raw material liquid is injected into the casting cell before polymerization, during polymerization, or after polymerization. The curing UV curable resin is completely cured.
【００２３】図２は本発明により得られる光カード基板
の一例を示す概略断面図である。光カード基板１１は、
光情報の記録再生を行う面に磁気情報の記録再生が可能
な複合カード用の基板であり、一方の表面に紫外線硬化
性樹脂層４からなる薄い耐擦傷性保護層を有し、更に耐
擦傷性保護層が磁気ストライプ２と同一面となるように
設けられ、他方の面には凹凸パタ−ン１０が設けられた
基板である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing an example of an optical card substrate obtained by the present invention. The optical card board 11 is
A substrate for a composite card capable of recording and reproducing magnetic information on a surface for recording and reproducing optical information, having a thin scratch-resistant protective layer composed of an ultraviolet curable resin layer 4 on one surface, and further having scratch resistance The protective layer is provided on the same surface as the magnetic stripe 2, and the concavo-convex pattern 10 is provided on the other surface.
【００２４】磁気ストライプは紫外線硬化性樹脂層の硬
化により一本化されるため、接着剤層を設けて貼り付け
る必要がない。又、磁気ストライプのバインダー成分と
して、該紫外線硬化性樹脂と相溶性の良い樹脂を選択的
に含有させるか、或いは、磁気ストライプのベースフィ
ルムと、該紫外線硬化性樹脂が互いに相溶性の良い樹脂
を選択的に用いることにより、磁気ストライプと紫外線
硬化性樹脂の密着性が向上し、磁気ストライプが紫外線
硬化性樹脂からなる耐擦傷性保護層から剥離しにくくな
る。Since the magnetic stripe is unified by curing the ultraviolet curable resin layer, it is not necessary to provide an adhesive agent layer and attach it. Further, as the binder component of the magnetic stripe, a resin having good compatibility with the ultraviolet curable resin is selectively contained, or a resin having good compatibility with the base film of the magnetic stripe and the ultraviolet curable resin is used. The selective use improves the adhesion between the magnetic stripe and the ultraviolet curable resin, and makes it difficult for the magnetic stripe to peel from the scratch-resistant protective layer made of the ultraviolet curable resin.
【００２５】本発明に用いられる注型成形型は、対向す
る２枚の板とガスケットからなるセルが挙げられる。こ
のうち一方の板は凹凸プリフォーマットパターンを有す
る光カード用のスタンパー型であり、もう一方の板は鏡
面板であり、表面には磁気ストライプを仮止めした後に
紫外線硬化性樹脂層が設けられる。The casting mold used in the present invention may be a cell composed of two plates facing each other and a gasket. One of these plates is a stamper type for an optical card having a concavo-convex preformat pattern, and the other plate is a mirror plate, and an ultraviolet curable resin layer is provided on the surface after temporarily fixing the magnetic stripe.
【００２６】本発明の磁気ストライプを設ける方法とし
ては、鏡面板上にベースフィルムから磁気層を転写して
設ける方法や、鏡面板上に直接塗布、蒸着等で設ける方
法、又は電着、無電解メッキで設ける方法等がある。
又、従来公知のポリエチレンテレフタレート等のベース
シート上に設けた磁気テープを用い、磁気層側を鏡面板
側にして、鏡面板上に仮止めして設けても良い。As the method of providing the magnetic stripe of the present invention, a method of providing a magnetic layer from a base film on a mirror surface plate by transfer, a method of directly coating or vapor deposition on the mirror surface plate, or electrodeposition or electroless plating There are methods such as plating.
Alternatively, a magnetic tape provided on a conventionally known base sheet such as polyethylene terephthalate may be used, and the magnetic layer side may be the mirror surface plate side, and the magnetic tape may be temporarily fixed on the mirror surface plate.
【００２７】磁気ストライプのバインダーに用いる樹脂
としては、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩ビ・ビ
ニルアルコール・酢ビ共重合体、塩化ビニル・塩化ビニ
リデン共重合体、塩化ビニル・アクリロニトリル共重合
体、ビニルブチラール、ビニルホルマール等のビニル重
合体系、ニトロセルロース、セルロースアセトブチレー
ト等の繊維素系、飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂等の縮重合系、ブ
タジエン・アクリロニトリル等の合成ゴム系等を単独、
或いは複数をブレンドして用いるのが一般的であり、更
にイソシアネート化合物等の架橋剤を添加しても良い。The resin used for the binder of the magnetic stripe is a vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, a vinyl chloride / vinyl alcohol / vinyl acetate copolymer, a vinyl chloride / vinylidene chloride copolymer, a vinyl chloride / acrylonitrile copolymer, Vinyl polymer systems such as vinyl butyral and vinyl formal, fibrin system such as nitrocellulose and cellulose acetobutyrate, polycondensation system such as saturated polyester resin, polyurethane resin, polyamide resin and epoxy resin, synthetic rubber system such as butadiene and acrylonitrile. Etc. alone,
Alternatively, it is generally used by blending a plurality of them, and a crosslinking agent such as an isocyanate compound may be further added.
【００２８】磁気ストライプを直接鏡面板上に設ける場
合、上記バインダー樹脂のうち紫外線硬化性樹脂層と相
溶性の良い樹脂を含有するように選択して用いるのが良
い。When the magnetic stripe is directly provided on the mirror surface plate, it is preferable to select and use a resin having a high compatibility with the ultraviolet curable resin layer among the above binder resins.
【００２９】又、磁気ストライプをベースシートごと鏡
面板上に仮止めする場合には、ベースシートと紫外線硬
化性樹脂層が接するので、これらの相溶性の良い材料を
選択して用いるのが良い。When the magnetic stripe together with the base sheet is temporarily fixed on the mirror surface plate, the base sheet and the ultraviolet curable resin layer are in contact with each other, and therefore it is preferable to select and use materials having good compatibility with each other.
【００３０】本発明の紫外線硬化性樹脂層（耐擦傷性保
護層）として用いることができる硬化性樹脂材料は、例
えば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、
ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート
等のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに溶解さ
せた紫外線硬化性樹脂系を用いることができる。The curable resin material that can be used as the ultraviolet curable resin layer (scratch-resistant protective layer) of the present invention is, for example, epoxy acrylate, urethane acrylate,
An ultraviolet curable resin system in which an oligomer such as polyester acrylate or polyether acrylate is dissolved in a polyfunctional acrylate monomer can be used.
【００３１】具体的には空気中で硬化させることができ
る、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の
ポリペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、
２，２−ビス（４−アクリロイルオキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−アクリロイルエトキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロイルオキシ
プロポキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ア
クリロイルオキシ（２−ヒドロキシプロポキシ）フェニ
ル）プロパン等のなかから１種又は２種以上を用いるの
が好ましい。これらの樹脂を磁気ストライプの付いた鏡
面板上に塗布して硬化させる。Specifically, pentaerythritol tri (meth) acrylate, which can be cured in air,
Polypentaerythritol poly (meth) acrylate such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate,
2,2-bis (4-acryloyloxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-acryloylethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-acryloyloxypropoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4 It is preferable to use one or more of acryloyloxy (2-hydroxypropoxy) phenyl) propane and the like. These resins are applied and cured on a mirror plate with a magnetic stripe.
【００３２】注型用型に塗布するために上記の樹脂を有
機溶剤と混合して粘度を調整する。用いる有機溶剤は、
これらの樹脂と混合できるものであれば、いずれの溶剤
でも用いることができる。例えば、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、ノルマルプロパノール、イソブチル
アルコール、ノルマルブチルアルコール等のアルコール
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等
の芳香族炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン類、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢
酸ｎ−ブチル、プロピオン酸エチル等の酸エステル類、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等を用いることができ
る。The above resin is mixed with an organic solvent to adjust the viscosity in order to apply it to a casting mold. The organic solvent used is
Any solvent can be used as long as it can be mixed with these resins. For example, alcohols such as ethanol, isopropyl alcohol, normal propanol, isobutyl alcohol, and normal butyl alcohol, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, ethers such as dioxane, acetic acid. Acid esters such as ethyl, n-butyl acetate and ethyl propionate,
N, N-dimethylformamide or the like can be used.
【００３３】注型用型に紫外線硬化性樹脂液を塗布する
方法としては、スピンコート、バーコート、ロールコー
ト、スプレーコート、デッピングコートあるいは刷毛塗
り等が挙げられる。Examples of the method of applying the ultraviolet curable resin liquid to the casting mold include spin coating, bar coating, roll coating, spray coating, depping coating and brush coating.
【００３４】紫外線硬化性樹脂液の塗膜の厚さは、樹脂
基板の硬化物層の必要硬度から選択することができる。
好ましい膜厚は１〜３０μｍ、より好ましくは３〜１０
μｍの範囲である。The thickness of the coating film of the ultraviolet curable resin liquid can be selected from the required hardness of the cured product layer of the resin substrate.
The preferred film thickness is 1 to 30 μm, more preferably 3 to 10 μm.
It is in the range of μm.
【００３５】紫外線硬化性樹脂に紫外線照射を行って硬
化させる時に、一般的に用いられている光増感剤を添加
することができる。具体的には、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、アセトイン、プチロイン、
トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ−クロルベ
ンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン等のカルボ
ニル化合物、テトラメチルフラムジスルフィド等の硫黄
化合物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−２，
４−ジメチルバレロニトリル等のアゾ化合物、ベンゾイ
ルパーオキサイド、ジターシャリーブチルパーオキサイ
ド等のパーオキサイド化合物等が挙げられる。光増感剤
の混合量は樹脂に対して０、０１〜１０重量％が好まし
い。又、２種類以上の光増感剤を同時に用いても良い。When the ultraviolet curable resin is irradiated with ultraviolet rays to be cured, a generally used photosensitizer can be added. Specifically, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, acetoin, ptyroin,
Carbonyl compounds such as toluoin, benzyl, benzophenone, p-chlorobenzophenone and p-methoxybenzophenone, sulfur compounds such as tetramethylfram disulfide, azobisisobutyronitrile, azobis-2,
Examples thereof include azo compounds such as 4-dimethylvaleronitrile, and peroxide compounds such as benzoyl peroxide and ditertiary butyl peroxide. The amount of the photosensitizer mixed is preferably 0,01 to 10% by weight based on the resin. Also, two or more types of photosensitizers may be used at the same time.
【００３６】紫外線硬化性樹脂以外に、本発明では電子
線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を適宜選択して使用しても
良い。In addition to the ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin or a thermosetting resin may be appropriately selected and used in the present invention.
【００３７】本発明の紫外線照射には、高圧水銀ラン
プ、メタルハライドランプ、低波長ＵＶランプ、キセノ
ンランプ、クリプトアークランプ、キセノンフラッシュ
ランプ、フラッシュＵＶランプ等の一般的な紫外線照射
機で良い。紫外線照射量は１００〜５０００ｍＪ／ｃｍ
2 程度であるが、使用する光源の強度、塗膜の厚み、光
重合開始剤の種類と濃度等によって定まる。The ultraviolet irradiation of the present invention may be a general ultraviolet irradiation machine such as a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a low wavelength UV lamp, a xenon lamp, a crypto arc lamp, a xenon flash lamp, a flash UV lamp. Ultraviolet irradiation dose is 100-5000 mJ / cm
Although it is about 2, it depends on the strength of the light source used, the thickness of the coating film, the type and concentration of the photopolymerization initiator, and the like.
【００３８】本発明における合成樹脂原料液は、エチレ
ン性不飽和単官能単量体とエチレン性不飽和多官能単量
体及びラジカル重合開始剤を含有する。The synthetic resin raw material liquid in the present invention contains an ethylenically unsaturated monofunctional monomer, an ethylenically unsaturated polyfunctional monomer and a radical polymerization initiator.
【００３９】本発明のエチレン性不飽和単官能単量体と
しては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル
酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリ
ル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ボルニル、（メ
タ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジ
シクロペンタニル等の炭素数１〜２５の脂肪族アルコー
ル、脂環式アルコールの（メタ）アクリル酸エステル
類；スチレンのごとき芳香族ビニル化合物；酢酸ビニル
等のビニルエステル類；等が挙げられる。なかでも入手
の容易さ、重合硬化性、該重合体の透明性、強度の面か
ら、メタアクリル酸メチルやスチレンを主体とした単量
体が一般的である。Examples of the ethylenically unsaturated monofunctional monomer of the present invention include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic. (Meth) acrylic acid esters of aliphatic alcohols and alicyclic alcohols having 1 to 25 carbon atoms such as bornyl acid ester, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate; aromatic vinyl such as styrene Compounds; vinyl esters such as vinyl acetate; and the like. Among them, monomers mainly composed of methyl methacrylate and styrene are common in view of easy availability, polymerization curability, transparency of the polymer, and strength.
【００４０】エチレン性不飽和多官能単量体としては、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート等のエチレン
グリコール類又はそのオリゴマーの両末端水酸基を（メ
タ）アクリル酸でエステル化したもの；ネオペンチルグ
リコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ
（メタ）アクリレート等の他の２価アルコールの水酸基
を（メタ）アクリル酸でエステル化したもの；ビスフェ
ノールＡのアルキレンオキサイド付加物又はこれらのハ
ロゲン置換体の両末端水素基を、（メタ）アクリル酸で
エステル化したもの；トリメチロールプロパン、ペンタ
エリスリトール等の多価アルコールを（メタ）アクリル
酸でエステル化したもの；及び、前記の２価アルコール
又は多価アルコールのグリシジル（メタ）アクリル酸エ
ステルのグリシジル基を開環付加させたもの；アリル
（メタ）アクリレート、ジアリルフタレート、ジアリル
マレエート、ジビニルベンゼン等が挙げられる。As the ethylenically unsaturated polyfunctional monomer,
Ethylene glycols such as ethylene glycol di (meth) acrylate and tetraethylene glycol di (meth) acrylate or oligomers thereof having both terminal hydroxyl groups esterified with (meth) acrylic acid; neopentyl glycol di (meth) acrylate, hexane A hydroxyl group of another dihydric alcohol such as diol di (meth) acrylate is esterified with (meth) acrylic acid; both end hydrogen groups of the alkylene oxide adduct of bisphenol A or these halogen-substituted compounds are (meth) Esterified with acrylic acid; Polyhydric alcohol such as trimethylolpropane and pentaerythritol esterified with (meth) acrylic acid; and glycidyl (meth) acrylic acid ester of the above dihydric alcohol or polyhydric alcohol The Grisi Those groups was allowed to ring-opening addition; allyl (meth) acrylate, diallyl phthalate, diallyl maleate, divinyl benzene and the like.
【００４１】前記エチレン性不飽和多官能単量体は、成
形体の機械的強度、耐熱性を向上させるために有用であ
り、そのために含有量は、該原料液中０．１〜３０重量
％、好ましくは０．１〜１０重量％が望ましい。The above-mentioned ethylenically unsaturated polyfunctional monomer is useful for improving the mechanical strength and heat resistance of the molded product, and therefore the content thereof is 0.1 to 30% by weight in the raw material liquid. , Preferably 0.1 to 10% by weight is desirable.
【００４２】ラジカル重合開始剤としては、ベンゾイル
パーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ジサクシ
ニックアシッドパーオキサイド等のジアシルパーオキサ
イド；ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミ
ルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド等のジアル
キルパーオキサイド；ｔ−ブチルパーオキシアセテー
ト、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパー
オキシベンゾエート、ｔ−ブチルマイレン酸ヘミパーエ
ステル等のパーオキシエステル；ｔ−ブチルハイドロパ
ーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の
ケトンパーオキサイド等の有機過酸化物及び、２，２−
アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ
系化合物が挙げられる。As the radical polymerization initiator, diacyl peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, and disuccinic acid peroxide; di-t-butyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide and the like. Dialkyl peroxides; peroxyesters such as t-butylperoxyacetate, t-butylperoxypivalate, t-butylperoxybenzoate, t-butylmaleic acid hemiperester; t-butylhydroperoxide, methyl ethyl ketone peroxide And organic peroxides such as ketone peroxides and 2,2-
Examples thereof include azo compounds such as azobis (2,4-dimethylvaleronitrile).
【００４３】かかるラジカル重合開始剤の含有量は、原
液中に０．０１〜５重量％含有するのが好ましい。原料
液混合物には必要に応じて各種の添加剤、例えばアクリ
ルゴム、安定剤、可塑剤、重合調節剤、難燃剤、充填
剤、染料、顔料等を添加しても良い。The content of the radical polymerization initiator is preferably 0.01 to 5% by weight in the stock solution. If necessary, various additives such as acrylic rubber, stabilizers, plasticizers, polymerization regulators, flame retardants, fillers, dyes and pigments may be added to the raw material liquid mixture.
【００４４】鋳型に原料液を注入する方法としては、鋳
型に原料液が充填できればいかなる方法でも良い。鋳型
中に於ける原料液の重合は、鋳型を加熱して、原料液に
用いた重合開始剤に適した温度に昇温し、重合硬化させ
る。加熱方法としては、エアーオーブン、温浴による方
法、或いは遠赤外線やマイクロ波による方法等がある。The method of injecting the raw material liquid into the mold may be any method as long as the raw material liquid can be filled in the mold. In the polymerization of the raw material liquid in the mold, the mold is heated and the temperature is raised to a temperature suitable for the polymerization initiator used in the raw material liquid to polymerize and cure. As a heating method, there is an air oven, a method using a warm bath, a method using far infrared rays or microwaves, or the like.
【００４５】重合硬化の時間は、未反応の単量体が少な
い程望ましく、用いる重合開始剤の種類と成形品の形状
によっても異なるが、約５分〜１０時間である。又、重
合硬化の間、熱による成形品の反りや変形を防ぎ、重合
による体積吸収を補う目的で、０．０１〜５ｋｇ／ｃｍ
2 程度加圧しても良い。重合硬化が完了後、冷却して該
鋳型を開き、紫外線硬化性樹脂層の耐擦傷性保護層と磁
気ストライプを有し、かつ他方の面には光カード用の凹
凸プリフォーマットパターンを有する光カード用基板が
得られる。The time for polymerization and curing is preferably about 5 minutes to 10 hours, although the less unreacted monomer is desirable and it depends on the type of polymerization initiator used and the shape of the molded article. Further, during the polymerization and curing, 0.01 to 5 kg / cm 2 for the purpose of preventing the warp or deformation of the molded article due to heat and compensating for the volume absorption by the polymerization.
You may pressurize about 2 . An optical card having a scratch-resistant protective layer of an ultraviolet-curable resin layer and a magnetic stripe after the completion of polymerization and curing, and opening the mold, and an uneven preformat pattern for an optical card on the other surface. A substrate for use is obtained.
【００４６】図３は本発明の製造方法により得られる磁
気ストライプ付き光カード基板を用いた光カードの一例
を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing an example of an optical card using an optical card substrate with a magnetic stripe obtained by the manufacturing method of the present invention.
【００４７】図３において、本発明に係る光カードは、
凹凸プリフォーマットパタ−ンを有する基板５上に光記
録層２１を設け、該光記録層２１が接着剤層２２を介し
て保護層２３と貼り合され、該保護層２３の接着剤層２
２と面する側と反対の外側には可視情報印刷層２４が設
けられ、また基板５の凹凸プリフォーマットパタ−ンが
設けられた側とは反対側には磁気ストライプ２が紫外線
硬化性樹脂層４と一体化され同一平面を示し、磁気スト
ライプ２の部分は基板５に埋設された状態で設けられて
いる。In FIG. 3, the optical card according to the present invention is
An optical recording layer 21 is provided on a substrate 5 having a concavo-convex preformat pattern, the optical recording layer 21 is bonded to a protective layer 23 via an adhesive layer 22, and the adhesive layer 2 of the protective layer 23 is provided.
A visible information printed layer 24 is provided on the outer side opposite to the side facing 2, and a magnetic stripe 2 is provided on the side opposite to the side of the substrate 5 on which the concavo-convex preformat pattern is provided. 4, the magnetic stripe 2 is provided so as to be embedded in the substrate 5.
【００４８】可視情報印刷層は、保護層にデザイン印刷
が施されていたり、保護層の地色印刷のほか、イニシア
ライズ情報受容層を設てもよく、その上に顔写真、個人
情報等のイニシアライズ情報が設けてもよい。The visible information printing layer may have design printing on the protective layer, ground color printing on the protective layer, or an initializing information receiving layer provided on the protective layer. Initialization information may be provided.
【００４９】光記録層としては、レーザービームによっ
て記録再生および消去が行える光記録材料に用いられる
材料であれば何れでも良く、有機染料系記録材料、金属
系記録材料が使用できる。また、反射層、下引き層等他
の層構成があってもよい。The optical recording layer may be any material used in an optical recording material capable of recording / reproducing and erasing with a laser beam, and an organic dye recording material or a metal recording material can be used. Further, there may be other layer configurations such as a reflective layer, an undercoat layer, and the like.
【００５０】接着剤層としては、従来知られている通常
の接着剤が使用できる。例えば、酢酸ビニル、アクリル
酸エステル、塩化ビニル、エチレン、アクリル酸、アク
リルアミド等のビニルモノマーの重合体及び共重合体、
ポリアミド、ポリエステル、エポキシ系等の熱可塑性接
着剤、アミノ樹脂（ユアリ樹脂、メラミン樹脂）、フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、熱硬化性ビ
ニル樹脂等の接着剤、天然ゴム、ニトリルゴム、クロロ
ゴム、シリコンゴム等のゴム系接着剤が使用される。As the adhesive layer, a conventionally known ordinary adhesive can be used. For example, vinyl acetate, acrylic acid ester, vinyl chloride, ethylene, acrylic acid, polymers and copolymers of vinyl monomers such as acrylamide,
Polyamide, polyester, epoxy-based thermoplastic adhesives, amino resins (urea resins, melamine resins), phenolic resins, epoxy resins, urethane resins, thermosetting vinyl resin adhesives, natural rubber, nitrile rubber, chloro rubber, A rubber adhesive such as silicon rubber is used.
【００５１】保護層は、光記録層を機械的化学的に保護
できるものが好ましく、たとえば、プラスチック、ガラ
ス板、金属、セラミックス、紙あるいはこれらの複合材
料を使用することができる。The protective layer is preferably one capable of mechanically and chemically protecting the optical recording layer, and for example, plastic, glass plate, metal, ceramics, paper or a composite material thereof can be used.
【００５２】○第二の発明 以下、本発明を詳細に説明する。即ち、本発明の第二の
発明は、注型成形法により基板の一方の面にプリフォー
マットパターンを他方の面に磁気ストライプを有する光
カード基板を製造する方法において、鏡面型に第一の紫
外線硬化性樹脂を塗布して紫外線を照射して硬化又は半
硬化させた後、所定位置に磁気ストライプを仮止めし、
次いで前記第一の紫外線硬化性樹脂及び磁気ストライプ
上に第二の紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線を照射し
て硬化又は半硬化させた後、プリフォーマットパターン
を有する原版と前記鏡面型を対向させて鋳型を組み立
て、該鋳型内に合成樹脂原料液を注入し、重合させて一
体に成形することを特徴とする磁気ストライプ付き光カ
ード基板の製造方法である。Second Invention Hereinafter, the present invention will be described in detail. That is, the second invention of the present invention is a method for producing an optical card substrate having a preformat pattern on one surface of the substrate and a magnetic stripe on the other surface by a casting method, wherein After applying a curable resin and irradiating it with ultraviolet rays to cure or semi-cure it, temporarily fix the magnetic stripe at a predetermined position,
Then, the second UV-curable resin is applied on the first UV-curable resin and the magnetic stripe, and after curing or semi-curing by irradiating with ultraviolet rays, the original plate having a preformat pattern is opposed to the mirror surface mold. Then, the mold is assembled, a synthetic resin raw material liquid is injected into the mold, and the mixture is polymerized to be integrally molded, which is a method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe.
【００５３】本発明の磁気ストライプ付き光カード基板
の製造方法は、基板表面に光学的に読み取り可能なプリ
フォーマットパターンを有する光カード基板を製造する
ための注型成形により製造される。The method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe according to the present invention is manufactured by casting for manufacturing an optical card substrate having an optically readable preformat pattern on the surface of the substrate.
【００５４】図４は本発明の磁気ストライプ付き光カー
ド基板の製造方法の前半の工程を示す工程図、図５は後
半の工程を示す工程図である。本発明は、まず、プリフ
ォーマットパターンを有する原版４８と鏡面型４１を対
向させて鋳型を組み立てる前に、鏡面型４１の所定位置
に第一の紫外線硬化性樹脂を塗布して第一の紫外線硬化
性樹脂層４２を形成する。（図４（ａ）参照）FIG. 4 is a process drawing showing the first half of the method of manufacturing the optical card substrate with a magnetic stripe according to the present invention, and FIG. 5 is a process drawing showing the latter half of the process. According to the present invention, first, before the master 48 having a preformat pattern and the mirror surface mold 41 are opposed to each other to assemble a mold, a first ultraviolet curable resin is applied to a predetermined position of the mirror surface mold 41 to cure the first ultraviolet light. The resin layer 42 is formed. (See Fig. 4 (a))
【００５５】次に、紫外線照射機構４３により紫外線を
照射して第一の紫外線硬化性樹脂を硬化又は半硬化させ
る。（図４（ｂ）参照） 次に、硬化又は半硬化させた第一の紫外線硬化性樹脂層
の所定位置に磁気ストライプ４４を仮止めする。（図４
（ｃ）参照）Next, ultraviolet rays are irradiated by the ultraviolet ray irradiation mechanism 43 to cure or semi-cure the first ultraviolet curable resin. (See FIG. 4B) Next, the magnetic stripe 44 is temporarily fixed to a predetermined position of the cured or semi-cured first ultraviolet curable resin layer. (Fig. 4
(See (c))
【００５６】次に、前記第一の紫外線硬化性樹脂及び磁
気ストライプ上に第二の紫外線硬化性樹脂を塗布して第
二の紫外線硬化性樹脂層４５を形成し、紫外線照射機構
４３により紫外線を照射して第二の紫外線硬化性樹脂を
硬化又は半硬化させる。（図４（ｄ）参照） その後、プリフォーマットパターンを有する原版４８
と、磁気ストライプ、第一及び第二の紫外線硬化性樹脂
層を有する鏡面型４１とを対向させ、スペーサー４９を
介して鋳型の注型成形用セル４６を組み立て、該注型成
形用セル４６内にエチレン性不飽和単官能単量体、エチ
レン性不飽和多官能単量体及びラジカル重合開始剤を含
有する合成樹脂原料液４７を注入する。（図５（ｅ）参
照）Next, a second ultraviolet curable resin is applied on the first ultraviolet curable resin and the magnetic stripe to form a second ultraviolet curable resin layer 45, and ultraviolet rays are irradiated by the ultraviolet irradiation mechanism 43. Irradiation is performed to cure or semi-cure the second ultraviolet curable resin. (See FIG. 4D) After that, the original plate 48 having the pre-format pattern
And the magnetic stripe and the mirror surface mold 41 having the first and second UV-curable resin layers are opposed to each other, the casting cell 46 of the casting mold is assembled through the spacer 49, and the casting cell 46 is placed in the casting molding cell 46. Then, a synthetic resin raw material liquid 47 containing an ethylenically unsaturated monofunctional monomer, an ethylenically unsaturated polyfunctional monomer and a radical polymerization initiator is injected. (See FIG. 5 (e))
【００５７】次いで、合成樹脂原料液６を重合させて一
体に成形することにより硬化した基板５０を得ることが
できる。（図５（ｄ）参照） なお、上記の方法において、紫外線硬化性樹脂を半硬化
させた場合には、注型成形用セル内に合成樹脂原料液を
注入して重合させる前、又は重合時、または重合後に半
硬化の紫外線硬化性樹脂を完全に硬化させる。Next, the hardened substrate 50 can be obtained by polymerizing the synthetic resin raw material liquid 6 and integrally molding it. (See FIG. 5 (d)) In the above method, when the ultraviolet curable resin is semi-cured, before injection of the synthetic resin raw material liquid into the casting cell and polymerization, or during polymerization. Alternatively, the semi-cured UV curable resin is completely cured after the polymerization.
【００５８】得られた光カード基板は、光情報の記録再
生を行う面に磁気情報の記録再生が可能な複合カード用
の基板であり、表面に第一の紫外線硬化性樹脂層４２か
らなる薄い耐擦傷性保護層を有し、更にその内面に同一
平面を形成した異なる第二の紫外線硬化性樹脂層４５か
らなる耐擦傷性保護層と磁気ストライプ４４が設けら
れ、他方の面には凹凸パタ−ン５１が設けられた基板で
ある。The obtained optical card substrate is a substrate for a composite card capable of recording and reproducing magnetic information on the surface for recording and reproducing optical information, and has a thin UV-curable resin layer 42 on the surface. A scratch-resistant protective layer having a scratch-resistant protective layer and a different second UV-curable resin layer 45 having the same plane formed on the inner surface thereof and a magnetic stripe 44 are provided, and the other surface has an uneven pattern. It is a substrate provided with a fan 51.
【００５９】図６は本発明の製造方法により得られる磁
気ストライプ付き光カード基板の一例を示す断面図であ
り、磁気ストライプ４４が第二の紫外線硬化性樹脂層４
５に埋設され同一平面を形成し、その上に第一の紫外線
硬化性樹脂層４２が一体化された状態で設けられてい
る。FIG. 6 is a sectional view showing an example of an optical card substrate with a magnetic stripe obtained by the manufacturing method of the present invention, in which the magnetic stripe 44 is the second ultraviolet curable resin layer 4.
5 is embedded in the same plane to form the same plane, and the first ultraviolet curable resin layer 42 is provided in an integrated state on the same plane.
【００６０】図７は本発明の製造方法により得られる磁
気ストライプ付き光カード基板の他の例を示す断面図で
あり、基板５０の一方の面に磁気ストライプ４４が第二
の紫外線硬化性樹脂層４５に埋設され同一平面を形成す
ると共に、磁気ストライプ４４の反対側の部分は基板５
０に突出された状態で設けられ、その同一平面上に第一
の紫外線硬化性樹脂層４２が一体化された状態で設けら
れている。FIG. 7 is a cross-sectional view showing another example of the optical card substrate with a magnetic stripe obtained by the manufacturing method of the present invention. The magnetic stripe 44 is provided on one surface of the substrate 50 with the second ultraviolet curable resin layer. 45 is embedded in the same plane to form the same plane, and the portion on the opposite side of the magnetic stripe 44 is the substrate 5
It is provided in a state of being projected to 0, and the first ultraviolet curable resin layer 42 is provided in an integrated state on the same plane.
【００６１】本発明における第一の紫外線硬化性樹脂層
は磁気ストライプ及び第二の紫外線硬化性樹脂を覆う極
めて耐擦傷性に優れた保護層である。The first UV-curable resin layer in the present invention is a protective layer which covers the magnetic stripe and the second UV-curable resin and has extremely excellent scratch resistance.
【００６２】第一の紫外線硬化性樹脂は磁気ストライプ
を覆うように形成されるが、十分な磁気特性を得るため
に、その厚みは、磁気ストライプの磁気層を埋め込むた
めの第二の紫外線硬化性樹脂の厚みよりも薄く形成さ
れ、通常は３〜１０μｍ、好ましくは３〜５μｍであ
る。The first UV-curable resin is formed so as to cover the magnetic stripe, but in order to obtain sufficient magnetic characteristics, the thickness of the first UV-curable resin is the second UV-curable resin for embedding the magnetic layer of the magnetic stripe. It is formed thinner than the thickness of the resin, and is usually 3 to 10 μm, preferably 3 to 5 μm.
【００６３】第一の紫外線硬化性樹脂は、磁気ストライ
プの磁気層及び第二の紫外線硬化性樹脂の表面に塗布す
るのではなく、これらよりも先に形成されるため、磁気
ストライプと第二の紫外線硬化性樹脂の塗れ性によらず
均一な厚みで形成することができる。The first UV-curable resin is not applied to the magnetic layer of the magnetic stripe and the surface of the second UV-curable resin, but is formed before these, so that the magnetic stripe and the second UV-curable resin are formed. It can be formed with a uniform thickness regardless of the wettability of the ultraviolet curable resin.
【００６４】第二の紫外線硬化性樹脂層は磁気ストライ
プを埋め込む層であると同時に、硬い第一の紫外線硬化
性樹脂層を形成するための下地層であり、第一の紫外線
硬化性樹脂層と基板の密着力を上げる層でもある。The second UV-curable resin layer is a layer for embedding the magnetic stripe and at the same time is an underlayer for forming the hard first UV-curable resin layer, and is the same as the first UV-curable resin layer. It is also a layer that enhances the adhesion of the substrate.
【００６５】一般に柔らかい樹脂の表面に硬い保護層を
形成した場合、硬い保護層が割れてしまったり、剥がれ
てしまうといった問題があるが、本発明では上記の第二
の紫外線硬化性樹脂層によって、段階的に硬さを硬くで
きるため紫外線硬化性樹脂層が割れたり、剥がれたりす
る問題を解決することができる。In general, when a hard protective layer is formed on the surface of a soft resin, there is a problem that the hard protective layer is cracked or peeled off. However, in the present invention, the second ultraviolet curable resin layer described above is used. Since the hardness can be gradually increased, the problem that the ultraviolet curable resin layer is cracked or peeled off can be solved.
【００６６】第二の紫外線硬化性樹脂の厚みは、磁気ス
トライプを埋め込むための厚みが必要であり、通常１０
〜３０μｍ、好ましくは１０〜２０μｍが望ましい。The thickness of the second ultraviolet curable resin is required to fill the magnetic stripe, and is usually 10
-30 μm, preferably 10-20 μm is desirable.
【００６７】第二の紫外線硬化性樹脂の硬度は、第一の
紫外線硬化性樹脂の硬度を維持できる硬さがあれば良
く、第一の紫外線硬化性樹脂よりも柔らかく形成する。
このため樹脂の厚さが１０〜３０μｍあっても、カード
の曲げによるひび割れ等が防止できる。The hardness of the second ultraviolet curable resin is sufficient if it can maintain the hardness of the first ultraviolet curable resin, and is formed softer than the first ultraviolet curable resin.
Therefore, even if the resin has a thickness of 10 to 30 μm, cracks and the like due to bending of the card can be prevented.
【００６８】磁気ストライプは紫外線硬化性樹脂層の硬
化により一本化されるため、接着剤層を設けて貼り付け
る必要がない。又、磁気ストライプのバインダー成分と
して、該紫外線硬化性樹脂と相溶性の良い樹脂を選択的
に含有させるか、或いは、磁気ストライプのベースフィ
ルムと、該紫外線硬化性樹脂が互いに相溶性の良い樹脂
を選択的に用いることにより、磁気ストライプと紫外線
硬化性樹脂の密着性が非常に良くなり、機械的強度を向
上させることができる。Since the magnetic stripe is unified by curing the ultraviolet-curable resin layer, it is not necessary to provide an adhesive layer and attach it. Further, as the binder component of the magnetic stripe, a resin having good compatibility with the ultraviolet curable resin is selectively contained, or a resin having good compatibility with the base film of the magnetic stripe and the ultraviolet curable resin is used. By selectively using it, the adhesion between the magnetic stripe and the ultraviolet curable resin becomes very good, and the mechanical strength can be improved.
【００６９】本発明に用いられる注型成形型は、対向す
る２枚の板とガスケットからなるセルが挙げられる。こ
のうち一方の板は凹凸プリフォーマットパターンを有す
る光カード用のスタンパー型であり、もう一方の板は鏡
面板であり、表面には磁気ストライプと紫外線硬化性樹
脂層が設けられる。The casting mold used in the present invention may be a cell composed of two plates facing each other and a gasket. One of these plates is a stamper type for an optical card having a concavo-convex preformat pattern, the other plate is a mirror plate, and a magnetic stripe and an ultraviolet curable resin layer are provided on the surface.
【００７０】本発明の紫外線硬化性樹脂層として用いる
ことができる硬化性樹脂材料は、例えば、エポキシアク
リレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリ
レート、ポリエーテルアクリレート等のオリゴマーを多
官能アクリレートモノマーに溶解させた紫外線硬化性樹
脂系を用いることができる。The curable resin material that can be used as the UV curable resin layer of the present invention is, for example, a UV curable resin obtained by dissolving an oligomer such as epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, or polyether acrylate in a polyfunctional acrylate monomer. Resin systems can be used.
【００７１】具体的には空気中で硬化させることができ
る、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の
ポリペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、
２，２−ビス（４−アクリロイルオキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−アクリロイルエトキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロイルオキシ
プロポキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ア
クリロイルオキシ（２−ヒドロキシプロポキシ）フェニ
ル）プロパン等のなかから１種又は２種以上を用いるの
が好ましい。これらの樹脂を鏡面型上に塗布して硬化さ
せる。Specifically, pentaerythritol tri (meth) acrylate, which can be cured in air,
Polypentaerythritol poly (meth) acrylate such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate,
2,2-bis (4-acryloyloxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-acryloylethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-acryloyloxypropoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4 It is preferable to use one or more of acryloyloxy (2-hydroxypropoxy) phenyl) propane and the like. These resins are applied on a mirror surface mold and cured.
【００７２】注型用型に塗布するために上記の樹脂を有
機溶剤と混合して粘度を調整する。用いる有機溶剤は、
これらの樹脂と混合できるものであれば、いずれの溶剤
でも用いることができる。例えば、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、ノルマルプロパノール、イソブチル
アルコール、ノルマルブチルアルコール等のアルコール
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等
の芳香族炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン類、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢
酸ｎ−ブチル、プロピオン酸エチル等の酸エステル類、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等を用いることができ
る。To apply to a casting mold, the above resin is mixed with an organic solvent to adjust the viscosity. The organic solvent used is
Any solvent can be used as long as it can be mixed with these resins. For example, alcohols such as ethanol, isopropyl alcohol, normal propanol, isobutyl alcohol, and normal butyl alcohol, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, ethers such as dioxane, acetic acid. Acid esters such as ethyl, n-butyl acetate and ethyl propionate,
N, N-dimethylformamide or the like can be used.
【００７３】注型用型に紫外線硬化性樹脂液を塗布する
方法としては、スピンコート、バーコート、ロールコー
ト、スプレーコート、デッピングコートあるいは刷毛塗
り等が挙げられる。Examples of the method of applying the ultraviolet curable resin liquid to the casting mold include spin coating, bar coating, roll coating, spray coating, depping coating and brush coating.
【００７４】紫外線硬化性樹脂に紫外線照射を行って硬
化させる時に、一般的に用いられている光増感剤を添加
することができる。具体的には、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、アセトイン、プチロイン、
トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ−クロルベ
ンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン等のカルボ
ニル化合物、テトラメチルフラムジスルフィド等の硫黄
化合物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−２，
４−ジメチルバレロニトリル等のアゾ化合物、ベンゾイ
ルパーオキサイド、ジターシャリーブチルパーオキサイ
ド等のパーオキサイド化合物等が挙げられる。光増感剤
の混合量は樹脂に対して０．０１〜１０重量％が好まし
い。又、２種類以上の光増感剤を同時に用いても良い。When the ultraviolet curable resin is irradiated with ultraviolet rays to be cured, a photosensitizer generally used can be added. Specifically, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, acetoin, ptyroin,
Carbonyl compounds such as toluoin, benzyl, benzophenone, p-chlorobenzophenone and p-methoxybenzophenone, sulfur compounds such as tetramethylfram disulfide, azobisisobutyronitrile, azobis-2,
Examples thereof include azo compounds such as 4-dimethylvaleronitrile, and peroxide compounds such as benzoyl peroxide and ditertiary butyl peroxide. The mixing amount of the photosensitizer is preferably 0.01 to 10% by weight with respect to the resin. Also, two or more types of photosensitizers may be used at the same time.
【００７５】紫外線硬化性樹脂以外に、本発明では電子
線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を適宜選択して使用しても
良い。In addition to the ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin or a thermosetting resin may be appropriately selected and used in the present invention.
【００７６】本発明の紫外線照射には、高圧水銀ラン
プ、メタルハライドランプ、低波長ＵＶランプ、キセノ
ンランプ、クリプトアークランプ、キセノンフラッシュ
ランプ、フラッシュＵＶランプ等の一般的な紫外線照射
機で良い。The ultraviolet irradiation of the present invention may be a general ultraviolet irradiation machine such as a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a low wavelength UV lamp, a xenon lamp, a crypto arc lamp, a xenon flash lamp, a flash UV lamp.
【００７７】紫外線照射量は１００〜５０００ｍＪ／ｃ
ｍ2 程度であるが、使用する光源の強度、塗膜の厚み、
光重合開始剤の種類と濃度等によって定まる。The ultraviolet irradiation dose is 100 to 5000 mJ / c.
Although it is about m 2 , the intensity of the light source used, the thickness of the coating film,
It depends on the type and concentration of the photopolymerization initiator.
【００７８】本発明の磁気ストライプを設ける方法とし
ては、第一の紫外線硬化性樹脂層を設けた鏡面型上にベ
ースフィルムから磁気ストライプを転写して設ける方法
や、鏡面型の第一の紫外線硬化性樹脂層上に直接塗布、
蒸着等で設ける方法、又は、電着、無電解メッキで設け
る方法等がある。The magnetic stripe of the present invention may be provided by transferring the magnetic stripe from a base film onto a mirror surface type having a first ultraviolet curable resin layer, or a mirror surface type first ultraviolet curing. Coating directly on the resin layer,
There are a method of providing by vapor deposition, a method of providing by electrodeposition, electroless plating, and the like.
【００７９】又、従来公知のポリエチレンテレフタレー
ト等のベースシート上に設けた磁気テープを用い、磁気
ストライプ側を第一の紫外線硬化性樹脂層側にして、仮
止めして設けても良い。第一の紫外線硬化性樹脂層を半
硬化させた後、磁気ストライプを圧着し、ガラス等の透
明な鏡面型側から更に紫外線を照射して完全に硬化させ
ると、より強固に磁気ストライプを密着させることがで
きる。Alternatively, a magnetic tape provided on a conventionally known base sheet of polyethylene terephthalate or the like may be used, with the magnetic stripe side being the first UV-curable resin layer side and temporarily fixed. After the first UV curable resin layer is semi-cured, the magnetic stripe is pressure-bonded, and further ultraviolet rays are radiated from the transparent mirror surface side of glass etc. to completely cure it, and the magnetic stripe is adhered more firmly. be able to.
【００８０】磁気ストライプのバインダーに用いる樹脂
としては、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩ビ・ビ
ニルアルコール・酢ビ共重合体、塩化ビニル・塩化ビニ
リデン共重合体、塩化ビニル・アクリロニトリル共重合
体、ビニルブチラール、ビニルホルマール等のビニル重
合体系、ニトロセルロース、セルロースアセトブチレー
ト等の繊維素系、飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂等の縮重合系、ブ
タジエン・アクリロニトリル等の合成ゴム系等を単独、
或いは複数をブレンドして用いるのが一般的であり、更
にイソシアネート化合物等の架橋剤を添加しても良い。The resin used for the binder of the magnetic stripe is a vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, a vinyl chloride / vinyl alcohol / vinyl acetate copolymer, a vinyl chloride / vinylidene chloride copolymer, a vinyl chloride / acrylonitrile copolymer, Vinyl polymer systems such as vinyl butyral and vinyl formal, fibrin system such as nitrocellulose and cellulose acetobutyrate, polycondensation system such as saturated polyester resin, polyurethane resin, polyamide resin and epoxy resin, synthetic rubber system such as butadiene and acrylonitrile. Etc. alone,
Alternatively, it is generally used by blending a plurality of them, and a crosslinking agent such as an isocyanate compound may be further added.
【００８１】磁気ストライプを、直接鏡面板上に形成し
た第一の紫外線硬化性樹脂層上に設ける場合、上記バイ
ンダー樹脂のうち紫外線硬化性樹脂層と相溶性の良い樹
脂を含有するように選択して用いるのが好ましい。When the magnetic stripe is provided directly on the first UV-curable resin layer formed on the mirror plate, the binder resin is selected so as to contain a resin having good compatibility with the UV-curable resin layer. It is preferable to use.
【００８２】又、磁気ストライプをベースシートごと第
一の紫外線硬化性樹脂層上に仮止めする場合には、ベー
スシートと紫外線硬化性樹脂層が接するので、これらの
相溶性の良い材料を選択して用いるのが良い。When the magnetic stripe together with the base sheet is temporarily fixed on the first UV-curable resin layer, the base sheet and the UV-curable resin layer are in contact with each other. Therefore, materials having good compatibility with each other are selected. It is good to use.
【００８３】本発明の第二の紫外線硬化性樹脂にも、先
に述べた紫外線硬化性樹脂を用いることができ、上述の
塗布方法で磁気ストライプを形成した第一の紫外線硬化
性樹脂上に形成することができる。The second UV-curable resin of the present invention may also be the above-mentioned UV-curable resin, which is formed on the first UV-curable resin having the magnetic stripe formed by the above-mentioned coating method. can do.
【００８４】本発明の合成樹脂原料液は、エチレン性不
飽和単官能単量体とエチレン性不飽和多官能単量体及び
ラジカル重合開始剤を含有する。The synthetic resin raw material liquid of the present invention contains an ethylenically unsaturated monofunctional monomer, an ethylenically unsaturated polyfunctional monomer and a radical polymerization initiator.
【００８５】本発明のエチレン性不飽和単官能単量体と
しては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル
酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリ
ル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ボルニル、（メ
タ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジ
シクロペンタニル等の炭素数１〜２５の脂肪族アルコー
ル、脂環式アルコールの（メタ）アクリル酸エステル
類；スチレンのごとき芳香族ビニル化合物；酢酸ビニル
等のビニルエステル類；等が挙げられる。なかでも入手
の容易さ、重合硬化性、該重合体の透明性、強度の面か
ら、メタアクリル酸メチルやスチレンを主体とした単量
体が好ましい。Examples of the ethylenically unsaturated monofunctional monomer of the present invention include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic. (Meth) acrylic acid esters of aliphatic alcohols and alicyclic alcohols having 1 to 25 carbon atoms such as bornyl acid ester, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate; aromatic vinyl such as styrene Compounds; vinyl esters such as vinyl acetate; and the like. Among them, monomers mainly containing methyl methacrylate and styrene are preferable from the viewpoints of easy availability, polymerization curability, transparency of the polymer, and strength.
【００８６】エチレン性不飽和多官能単量体としては、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート等のエチレン
グリコール類又はそのオリゴマーの両末端水酸基を（メ
タ）アクリル酸でエステル化したもの；ネオペンチルグ
リコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ
（メタ）アクリレート等の他の２価アルコールの水酸基
を（メタ）アクリル酸でエステル化したもの；ビスフェ
ノールＡのアルキレンオキサイド付加物又はこれらのハ
ロゲン置換体の両末端水素基を、（メタ）アクリル酸で
エステル化したもの；トリメチロールプロパン、ペンタ
エリスリトール等の多価アルコールを（メタ）アクリル
酸でエステル化したもの；及び、前記の２価アルコール
又は多価アルコールのグリシジル（メタ）アクリル酸エ
ステルのグリシジル基を開環付加させたもの；アリル
（メタ）アクリレート、ジアリルフタレート、ジアリル
マレエート、ジビニルベンゼン等が挙げられる。As the ethylenically unsaturated polyfunctional monomer,
Ethylene glycols such as ethylene glycol di (meth) acrylate and tetraethylene glycol di (meth) acrylate or oligomers thereof having both terminal hydroxyl groups esterified with (meth) acrylic acid; neopentyl glycol di (meth) acrylate, hexane A hydroxyl group of another dihydric alcohol such as diol di (meth) acrylate is esterified with (meth) acrylic acid; both end hydrogen groups of the alkylene oxide adduct of bisphenol A or these halogen-substituted compounds are (meth) Esterified with acrylic acid; Polyhydric alcohol such as trimethylolpropane and pentaerythritol esterified with (meth) acrylic acid; and glycidyl (meth) acrylic acid ester of the above dihydric alcohol or polyhydric alcohol The Grisi Those groups was allowed to ring-opening addition; allyl (meth) acrylate, diallyl phthalate, diallyl maleate, divinyl benzene and the like.
【００８７】前記エチレン性不飽和多官能単量体は、成
形体の機械的強度、耐熱性を向上させるために有用であ
り、そのために含有量は、該原料液中０．１〜３０重量
％、好ましくは０．１〜１０重量％が望ましい。The ethylenically unsaturated polyfunctional monomer is useful for improving the mechanical strength and heat resistance of the molded product, and therefore the content thereof is 0.1 to 30% by weight in the raw material liquid. , Preferably 0.1 to 10% by weight is desirable.
【００８８】ラジカル重合開始剤としては、ベンゾイル
パーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ジサクシ
ニックアシッドパーオキサイド等のジアシルパーオキサ
イド；ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミ
ルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド等のジアル
キルパーオキサイド；ｔ−ブチルパーオキシアセテー
ト、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパー
オキシベンゾエート、ｔ−ブチルマイレン酸ヘミパーエ
ステル等のパーオキシエステル；ｔ−ブチルハイドロパ
ーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の
ケトンパーオキサイド等の有機過酸化物及び、２，２−
アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ
系化合物が挙げられる。As the radical polymerization initiator, diacyl peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide and disuccinic acid peroxide; di-t-butyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide and the like. Dialkyl peroxides; peroxyesters such as t-butylperoxyacetate, t-butylperoxypivalate, t-butylperoxybenzoate, t-butylmaleic acid hemiperester; t-butylhydroperoxide, methyl ethyl ketone peroxide And organic peroxides such as ketone peroxides and 2,2-
Examples thereof include azo compounds such as azobis (2,4-dimethylvaleronitrile).
【００８９】かかるラジカル重合開始剤の含有量は、原
液中に０．０１〜５重量％含有するのが好ましい。原料
液混合物には必要に応じて各種の添加剤、例えばアクリ
ルゴム、安定剤、可塑剤、重合調節剤、難燃剤、充填
剤、染料、顔料等を添加しても良い。The content of the radical polymerization initiator is preferably 0.01 to 5% by weight in the stock solution. If necessary, various additives such as acrylic rubber, stabilizers, plasticizers, polymerization regulators, flame retardants, fillers, dyes and pigments may be added to the raw material liquid mixture.
【００９０】鋳型に原料液を注入する方法としては、鋳
型に原料液が充填できればいかなる方法でも良い。鋳型
中に於ける原料液の重合は、鋳型を加熱して、原料液に
用いた重合開始剤に適した温度に昇温し、重合硬化させ
る。加熱方法としては、エアーオーブン、温浴による方
法、或いは遠赤外線やマイクロ波による方法等がある。The method of injecting the raw material liquid into the mold may be any method as long as the raw material liquid can be filled in the mold. In the polymerization of the raw material liquid in the mold, the mold is heated and the temperature is raised to a temperature suitable for the polymerization initiator used in the raw material liquid to polymerize and cure. As a heating method, there is an air oven, a method using a warm bath, a method using far infrared rays or microwaves, or the like.
【００９１】重合硬化の時間は、未反応の単量体が少な
い程望ましく、用いる重合開始剤の種類と成形品の形状
によっても異なるが、約５分〜１０時間である。又、重
合硬化の間、熱による成形品の反りや変形を防ぎ、重合
による体積吸収を補う目的で、０．０１〜５ｋｇ／ｃｍ
2 程度加圧しても良い。重合硬化が完了後、冷却して該
鋳型を開き、紫外線硬化性樹脂層の耐擦傷性保護層と磁
気ストライプを有し、かつ他方の面には光カード用の凹
凸プリフォーマットパターンを有する光カード用基板が
得られる。The time of polymerization and curing is preferably about 5 minutes to 10 hours, though it is desirable that the amount of unreacted monomer is small, and it depends on the type of the polymerization initiator used and the shape of the molded product. Further, during the polymerization and curing, 0.01 to 5 kg / cm 2 for the purpose of preventing the warp or deformation of the molded article due to heat and compensating for the volume absorption by the polymerization.
You may pressurize about 2 . An optical card having a scratch-resistant protective layer of an ultraviolet-curable resin layer and a magnetic stripe after the completion of polymerization and curing, and opening the mold, and an uneven preformat pattern for an optical card on the other surface. A substrate for use is obtained.
【００９２】図８は本発明の製造方法により得られる磁
気ストライプ付き光カード基板を用いた光カードの一例
を示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing an example of an optical card using the optical card substrate with a magnetic stripe obtained by the manufacturing method of the present invention.
【００９３】図８において、本発明に係る光カードは、
凹凸プリフォーマットパタ−ンを有する基板５０上に光
記録層２１を設け、該光記録層２１が接着剤層２２を介
して保護層２３と貼り合され、該保護層２３の接着剤層
２２と面する側と反対の外側には可視情報印刷層２４が
設けられ、また基板５の凹凸プリフォーマットパタ−ン
が設けられた側とは反対側には磁気ストライプ４４が第
二の紫外線硬化性樹脂層４５に埋設され同一平面を形成
し、その同一平面上に第一の紫外線硬化性樹脂層４２が
一体化された状態で設けられている。In FIG. 8, the optical card according to the present invention is
An optical recording layer 21 is provided on a substrate 50 having a concavo-convex preformat pattern, the optical recording layer 21 is bonded to a protective layer 23 via an adhesive layer 22, and the adhesive layer 22 of the protective layer 23 is bonded to the protective layer 23. A visible information printing layer 24 is provided on the outer side opposite to the facing side, and a magnetic stripe 44 is provided on the side opposite to the side of the substrate 5 on which the concave-convex preformat pattern is provided, as a second ultraviolet curable resin. It is embedded in the layer 45 to form the same plane, and the first ultraviolet curable resin layer 42 is provided in an integrated state on the same plane.
【００９４】可視情報印刷層は、保護層にデザイン印刷
が施されていたり、保護層の地色印刷のほか、イニシア
ライズ情報受容層を設てもよく、その上に顔写真、個人
情報等のイニシアライズ情報が設けてもよい。The visible information printing layer may have design printing on the protective layer, ground color printing on the protective layer, or an initializing information receiving layer provided on the protective layer. Initialization information may be provided.
【００９５】光記録層としては、レーザービームによっ
て記録再生および消去が行える光記録材料に用いられる
材料であれば何れでも良く、有機染料系記録材料、金属
系記録材料が使用できる。また、反射層、下引き層等他
の層構成があってもよい。The optical recording layer may be any material used for an optical recording material capable of recording / reproducing and erasing with a laser beam, and an organic dye recording material or a metal recording material can be used. Further, there may be other layer configurations such as a reflective layer, an undercoat layer, and the like.
【００９６】接着剤層としては、従来知られている通常
の接着剤が使用できる。例えば、酢酸ビニル、アクリル
酸エステル、塩化ビニル、エチレン、アクリル酸、アク
リルアミド等のビニルモノマーの重合体及び共重合体、
ポリアミド、ポリエステル、エポキシ系等の熱可塑性接
着剤、アミノ樹脂（ユアリ樹脂、メラミン樹脂）、フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、熱硬化性ビ
ニル樹脂等の接着剤、天然ゴム、ニトリルゴム、クロロ
ゴム、シリコンゴム等のゴム系接着剤が使用される。As the adhesive layer, a conventionally known ordinary adhesive can be used. For example, vinyl acetate, acrylic acid ester, vinyl chloride, ethylene, acrylic acid, polymers and copolymers of vinyl monomers such as acrylamide,
Polyamide, polyester, epoxy-based thermoplastic adhesives, amino resins (urea resins, melamine resins), phenolic resins, epoxy resins, urethane resins, thermosetting vinyl resin adhesives, natural rubber, nitrile rubber, chloro rubber, A rubber adhesive such as silicon rubber is used.
【００９７】保護層は、光記録層を機械的化学的に保護
できるものが好ましく、たとえば、プラスチック、ガラ
ス板、金属、セラミックス、紙あるいはこれらの複合材
料を使用することができる。The protective layer is preferably one capable of mechanically and chemically protecting the optical recording layer, and for example, plastic, glass plate, metal, ceramics, paper or a composite material thereof can be used.
【００９８】[0098]
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples.
【００９９】○第一の発明の実施例 実施例１ 飽和ポリエステル樹脂５０ｗｔ％、ポリウレタン樹脂４
０ｗｔ％、及びブタジエン・アクリロニトリル８ｗｔ％
をブレンドし、更に耐久性、耐熱性を向上させるために
副バインダーとして三次元架橋するポリウレタン樹脂１
ｗｔ％、エポキシ樹脂０．９ｗｔ％、更にイソシアネー
ト架橋剤０．１ｗｔ％を加えたものを磁性材料のバイン
ダーとして用い、磁性粒子を４５重量％加え、更にシリ
コーンオイル及びフッ素系オイルの潤滑剤と、テープ表
面の電気抵抗を下げるためのカーボンブラックを分散さ
せた磁気塗料を用意した。Example of First Invention Example 1 Saturated polyester resin 50 wt%, polyurethane resin 4
0 wt% and butadiene-acrylonitrile 8 wt%
Polyurethane resin that blends three-dimensionally and is three-dimensionally crosslinked as an auxiliary binder to further improve durability and heat resistance
wt%, 0.9 wt% of epoxy resin, and 0.1 wt% of isocyanate cross-linking agent are used as the binder of the magnetic material, 45 wt% of magnetic particles are added, and a lubricant of silicone oil and fluorine-based oil is further added. A magnetic paint in which carbon black was dispersed to reduce the electric resistance of the tape surface was prepared.
【０１００】次に、鏡面を有する厚み１０ｍｍ、３００
ｍｍ×３００ｍｍのガラス板の所定位置に図１に示すよ
うに上記の磁気塗料をグラビア塗布し、乾燥させて７ｍ
ｍ幅の磁気ストライプを設けた。Next, a mirror surface having a thickness of 10 mm and 300
As shown in FIG. 1, the above magnetic paint is gravure-coated on a glass plate (mm × 300 mm) at a predetermined position and dried to 7 m.
An m-wide magnetic stripe was provided.
【０１０１】このガラス板に耐擦傷性保護層として、ウ
レタンアクリレート系紫外線硬化性塗装剤（ユニディッ
ク１７−８２４−９、大日本インキ（株）製）の溶液を
上記の磁気ストライプを塗布した鏡面板上に、５μｍの
厚みにロールコートした後、１２０Ｗのメタルハイライ
ドランプを２００ｍｍの距離から空気中で約１０秒間、
１０００ｍＪ／ｃｍ2 照射して、紫外線硬化性樹脂層を
形成した。As a scratch-resistant protective layer, a solution of a urethane acrylate-based UV-curable coating agent (Unidick 17-824-9, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was applied to the glass plate as a mirror coated with the above magnetic stripe. After roll coating to a thickness of 5 μm on the face plate, a 120 W metal high-ride lamp was placed in the air from a distance of 200 mm for about 10 seconds,
Irradiation was performed at 1000 mJ / cm 2 to form an ultraviolet curable resin layer.
【０１０２】次に、上記の磁気ストライプ及び紫外線硬
化性樹脂層を設けたガラス板と、フォトリソ法で作製し
た幅３μｍ、ピッチ１２μｍの直線状の凹凸を有する光
カード用トラッキングトラックのパターンを有するガラ
ス型を用意し、磁気ストライプ及び紫外線硬化性樹脂層
を設けた側と、光カード用の凹凸プリフォーマットパタ
ーンを有する側が共に内側となるように対向させ、間隔
が０．４ｍｍとなるように軟質塩化ビニル樹脂ガスケッ
トを挟みセルを組み立てた。該セルにｔ−ブチルパーオ
キシ−２−エチルヘキサノエート０．６重量％、ジメチ
ルオクチルアンモニウムクロライド０．０６重量％、グ
リコールジメルカプトアセテート０．０６重量％、ナフ
テン酸銅（銅含有量１０重量％）６ｐｐｍを含むメタク
リル酸メチル部分重合体９０重量部、テトラエチレング
リコールジメタクリレート１０重量部の混合物を注入
し、８０℃のプレスで０．１ｋｇ／ｃｍ2 の加圧下で１
０分間加熱重合させた。冷却後、セルを開いて磁気スト
ライプ及び紫外線硬化性樹脂層を有し、他方の面に凹凸
プリフォーマットパターンを有する光カード用アクリル
基板を得た。Next, a glass plate provided with the above-mentioned magnetic stripe and an ultraviolet curable resin layer, and a glass having a pattern of a tracking track for an optical card having a linear irregularity with a width of 3 μm and a pitch of 12 μm manufactured by a photolithography method. Prepare a mold and place it so that the side with the magnetic stripe and the UV-curable resin layer and the side with the concave / convex preformat pattern for the optical card are both inside, and soft chloride is added so that the interval is 0.4 mm. A cell was assembled by sandwiching a vinyl resin gasket. In the cell, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate 0.6% by weight, dimethyloctylammonium chloride 0.06% by weight, glycol dimercaptoacetate 0.06% by weight, copper naphthenate (copper content 10% by weight) %) 6 ppm of a methyl methacrylate partial polymer (90 parts by weight) and tetraethylene glycol dimethacrylate (10 parts by weight) were added to the mixture, and the mixture was pressed at 80 ° C. under a pressure of 0.1 kg / cm 2 to give 1: 1.
It was polymerized by heating for 0 minutes. After cooling, the cell was opened to obtain an acrylic substrate for an optical card having a magnetic stripe and an ultraviolet curable resin layer and having an uneven preformat pattern on the other surface.
【０１０３】紫外線硬化性樹脂層の硬さは鉛筆硬度試験
でＨであり、スチールウールの耐擦傷性も十分であっ
た。また、紫外線硬化性樹脂層及び磁気ストライプの基
板への密着性も十分であった。The hardness of the ultraviolet curable resin layer was H in the pencil hardness test, and the scratch resistance of steel wool was also sufficient. Also, the adhesion of the ultraviolet curable resin layer and the magnetic stripe to the substrate was sufficient.
【０１０４】実施例２ 厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートをベースフ
ィルムとする７ｍｍ幅の磁気ストライプを、実施例１で
用いたガラス板の所定の位置に磁気層側がガラス板と接
するようにして配置し、カードの領域外で接着した。Example 2 A magnetic stripe having a width of 7 mm and having a base film of polyethylene terephthalate having a thickness of 12 μm was arranged at a predetermined position of the glass plate used in Example 1 so that the magnetic layer side was in contact with the glass plate. Glued outside the area of the card.
【０１０５】次に、耐擦傷性保護層として、ウレタンア
クリレート系紫外線硬化性塗装剤（ユニディック Ｖ−
４２０５、大日本インキ（株）製）の溶液を磁気ストラ
イプの付いたガラス板表面にロールコートした後、紫外
線硬化性樹脂層の形成方向から２ｋＷの高圧水銀灯を用
いて、２０ｃｍの距離から紫外線を１０秒間照射して、
空気雰囲気中で硬化させて、磁気ストライプのベースシ
ートと紫外線硬化性樹脂層とを一体化させた。Next, as a scratch-resistant protective layer, a urethane acrylate-based UV-curable coating agent (UNIDIC V-
4205, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) was roll-coated on the surface of a glass plate with a magnetic stripe, and then UV rays were emitted from a distance of 20 cm from a direction of forming the UV-curable resin layer using a high pressure mercury lamp of 2 kW. Irradiate for 10 seconds,
By curing in an air atmosphere, the magnetic stripe base sheet and the ultraviolet curable resin layer were integrated.
【０１０６】以下、実施例１と同様の手順でセル組みし
て樹脂を注入、硬化させて実施例１と同様の光カード用
アクリル基板を得た。紫外線硬化性樹脂層の硬さは鉛筆
硬度試験でＨであり、スチールウールの耐擦傷性も十分
であった。また、紫外線硬化性樹脂層及び磁気ストライ
プの基板への密着性も十分であった。Thereafter, cells were assembled in the same procedure as in Example 1 and resin was injected and cured to obtain an acrylic substrate for an optical card similar to that in Example 1. The hardness of the ultraviolet curable resin layer was H in the pencil hardness test, and the scratch resistance of the steel wool was also sufficient. Also, the adhesion of the ultraviolet curable resin layer and the magnetic stripe to the substrate was sufficient.
【０１０７】○第二の発明の実施例 実施例３ 鏡面を有する厚み１０ｍｍ、たて３００ｍｍ×よこ３０
０ｍｍのガラス板を用意し、このガラス板に第一の紫外
線硬化性樹脂として、ウレタンアクリレート系紫外線硬
化性塗装剤（ユニディック １７−８０６、大日本イン
キ（株）製）の溶液を滴下し、２０００ｒｐｍの速さで
スピンコートした。塗膜の厚みは２μｍであった。Example of the Second Invention Example 3 Mirror-like thickness 10 mm, vertical 300 mm × width 30
A 0 mm glass plate was prepared, and a solution of a urethane acrylate-based UV-curable coating agent (Unidick 17-806, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was dropped on the glass plate as a first UV-curable resin. Spin coating was performed at a speed of 2000 rpm. The thickness of the coating film was 2 μm.
【０１０８】次に１２０Ｗのメタルハライドランプを２
００ｍｍの距離から空気中で約１０秒間、１０００ｍＪ
／ｃｍ2 照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させた。Next, two 120 W metal halide lamps were used.
1000mJ for about 10 seconds in air from a distance of 00mm
/ Cm 2 was irradiated to cure the ultraviolet curable resin.
【０１０９】次に、磁気層を形成するために、飽和ポリ
エステル樹脂５０ｗｔ％、ポリウレタン樹脂４０ｗｔ
％、及びブタジエン・アクリロニトリル８ｗｔ％をブレ
ンドし、更に耐久性、耐熱性を向上させるために副バイ
ンダーとして三次元架橋するポリウレタン樹脂１ｗｔ
％、エポキシ樹脂０．９ｗｔ％、更にイソシアネート架
橋剤０．１ｗｔ％を加えたものを磁性材料のバインダー
として用い、磁性粒子を４５重量％加え、更にシリコー
ンオイル及びフッ素系オイルの潤滑剤と、テープ表面の
電気抵抗を下げるためのカーボンブラックを分散させた
磁気塗料を用意した。Next, in order to form a magnetic layer, saturated polyester resin 50 wt% and polyurethane resin 40 wt
% And butadiene / acrylonitrile 8 wt% are blended, and three-dimensionally cross-linked polyurethane resin 1 wt as a sub-binder to further improve durability and heat resistance.
%, Epoxy resin 0.9 wt%, and isocyanate cross-linking agent 0.1 wt% are used as a binder of the magnetic material, 45 wt% of magnetic particles are added, and a lubricant of silicone oil and fluorine-based oil and tape are used. A magnetic coating in which carbon black was dispersed to reduce the electric resistance of the surface was prepared.
【０１１０】ガラス板の第一の紫外線硬化性樹脂層面の
所定位置に上記の磁気塗料をグラビア塗布し、乾燥させ
て厚み１０μｍ、幅７ｍｍの磁気ストライプを設けた。The above magnetic paint was gravure-coated at a predetermined position on the surface of the first ultraviolet-curable resin layer of the glass plate and dried to form a magnetic stripe having a thickness of 10 μm and a width of 7 mm.
【０１１１】次に、第二の紫外線硬化性樹脂として、ウ
レタンアクリレート系紫外線硬化性塗装剤（ユニディッ
ク Ｖ−４００１、大日本インキ（株）製）の溶液をロ
ールコートした。塗膜の厚みは２０μｍであり、磁気ス
トライプは第二の紫外線硬化性樹脂層に埋まった。Next, a solution of a urethane acrylate-based UV-curable coating agent (Unidick V-4001, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was roll-coated as a second UV-curable resin. The thickness of the coating film was 20 μm, and the magnetic stripe was embedded in the second ultraviolet curable resin layer.
【０１１２】これを１２０Ｗのメタルハライドランプを
２００ｍｍの距離から空気中で約３０秒間、３０００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 照射して、第二の紫外線硬化性樹脂を硬化さ
せた。A 120 W metal halide lamp was placed in air at a distance of 200 mm for about 30 seconds for 3000 m.
The second UV curable resin was cured by irradiation with J / cm 2 .
【０１１３】次に上記の磁気ストライプ及び紫外線硬化
性樹脂層を設けたガラス板と、フォトリソ法で作製した
幅３μｍ、ピッチ１２μｍの直線状の凹凸を有する光カ
ード用トラッキングトラックのパターンを有するガラス
型を用意し、磁気ストライプ及び紫外線硬化性樹脂層を
設けた側と、光カード用の凹凸プリフォーマットパター
ンを有する側が共に内側となるように対向させ、間隔が
０．４ｍｍとなるように軟質塩化ビニル樹脂ガスケット
を挟みセルを組み立てた。Next, a glass plate provided with the above-mentioned magnetic stripe and an ultraviolet curable resin layer, and a glass mold having a pattern of a tracking track for an optical card having a linear unevenness with a width of 3 μm and a pitch of 12 μm manufactured by a photolithography method. Prepared so that the side on which the magnetic stripe and the ultraviolet curable resin layer are provided and the side having the concave-convex preformat pattern for the optical card are both inward, and soft vinyl chloride is provided so that the interval is 0.4 mm. A cell was assembled by sandwiching a resin gasket.
【０１１４】該セルにｔ−ブチルパーオキシ−２−エチ
ルヘキサノエート０．６重量％、ジメチルオクチルアン
モニウムクロライド０．０６重量％、グリコールジメル
カプトアセテート０．０６重量％、ナフテン酸銅（銅含
有量１０重量％）６ｐｐｍを含むメタクリル酸メチル部
分重合体９０重量部、テトラエチレングリコールジメタ
クリレート１０重量部の混合物を注入し、８０℃のプレ
スで０．１ｋｇ／ｃｍ2 の加圧下で１０分間加熱重合さ
せた。冷却後セルを開いて一方の面に磁気ストライプ及
び紫外線硬化性樹脂層を有し、他方の面に凹凸プリフォ
ーマットパターンを有する光カード用アクリル基板を得
た。In the cell, 0.6% by weight of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 0.06% by weight of dimethyloctyl ammonium chloride, 0.06% by weight of glycol dimercaptoacetate, copper naphthenate (containing copper) A mixture of 90 parts by weight of a methyl methacrylate partial polymer containing 6 ppm of 10 ppm by weight and 10 parts by weight of tetraethylene glycol dimethacrylate is injected, and the mixture is heated with a press at 80 ° C. under a pressure of 0.1 kg / cm 2 for 10 minutes. Polymerized. After cooling, the cell was opened to obtain an acrylic substrate for an optical card having a magnetic stripe and an ultraviolet curable resin layer on one surface and an uneven preformat pattern on the other surface.
【０１１５】紫外線硬化性樹脂膜の硬さは鉛筆硬度試験
で２Ｈであり、スチールウールの耐擦傷性も十分であっ
た。また、紫外線硬化性樹脂膜からなる保護膜及び磁気
ストライプの基板への密着性も十分であった。また、カ
ードを曲げた際、基板の割れない範囲では紫外線硬化性
樹脂よりなる保護膜にひび割れは発生しなかった。The hardness of the ultraviolet curable resin film was 2H in the pencil hardness test, and the scratch resistance of steel wool was also sufficient. Further, the adhesion of the protective film made of the ultraviolet curable resin film and the magnetic stripe to the substrate was sufficient. Further, when the card was bent, cracks did not occur in the protective film made of the ultraviolet curable resin within the range where the substrate did not crack.
【０１１６】実施例４ 実施例３で用いた鏡面を有するガラス板に、第一の紫外
線硬化性樹脂層として、ウレタンアクリレート系紫外線
硬化性塗装剤（ユニディック Ｖ−９００５、大日本イ
ンキ（株）製）の溶液を滴下し、１５００ｒｐｍの速さ
でスピンコートした。塗膜の厚みは２μｍであった。Example 4 On the glass plate having a mirror surface used in Example 3, a urethane acrylate-based ultraviolet curable coating agent (Unidick V-9005, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was used as a first ultraviolet curable resin layer. Manufactured) and was spin-coated at a speed of 1500 rpm. The thickness of the coating film was 2 μm.
【０１１７】これを１２０Ｗのメタルハライドランプを
２００ｍｍの距離から空気中で約５秒間、５００ｍＪ／
ｃｍ2 照射して、紫外線硬化性樹脂を半硬化させた。A 120 W metal halide lamp was applied in the air from a distance of 200 mm for about 5 seconds at 500 mJ /
The UV curable resin was semi-cured by irradiation with cm 2 .
【０１１８】次に、厚さ１２μｍのポリブチレンテレフ
タレートをベースフィルムとする７ｍｍ幅の磁気ストラ
イプを、上記半硬化させた第一の紫外線硬化性樹脂層
に、磁気層側が第一の紫外線硬化性樹脂層と接するよう
にして配置して半硬化の樹脂に接着した。Next, a 7 mm wide magnetic stripe having a thickness of 12 μm of polybutylene terephthalate as a base film was applied to the semi-cured first UV-curable resin layer and the magnetic layer side was the first UV-curable resin. It was placed in contact with the layer and adhered to the semi-cured resin.
【０１１９】次に、第二の紫外線硬化性樹脂層として、
ウレタンアクリレート系紫外線硬化性塗装剤（ユニディ
ック Ｖ−５５０２、大日本インキ（株）製）の溶液を
磁気ストライプの付いた第一の紫外線硬化性樹脂層上に
ロールコートした後、第二の紫外線硬化性樹脂層を形成
した方向から２ｋＷの高圧水銀灯を用いて２０ｃｍの距
離から紫外線を１０秒間照射して、空気雰囲気中で第一
および第二の紫外線硬化性樹脂を完全に硬化させて、磁
気ストライプのベースシートと紫外線硬化性樹脂層とを
一体化させた。Next, as the second ultraviolet curable resin layer,
A urethane acrylate-based UV-curable coating agent (Unidick V-5502, manufactured by Dainippon Ink & Co., Inc.) is roll-coated on the first UV-curable resin layer with a magnetic stripe, and then the second UV-ray is applied. Ultraviolet rays are irradiated for 10 seconds from a distance of 20 cm using a high-pressure mercury lamp of 2 kW from the direction in which the curable resin layer is formed, and the first and second ultraviolet curable resins are completely cured in an air atmosphere, so that the magnetic The striped base sheet and the ultraviolet curable resin layer were integrated.
【０１２０】以下、実施例３と同様の手順でセル組みし
て樹脂を注入、硬化させて実施例３と同様の光カード用
アクリル基板を得た。紫外線硬化性樹脂膜の硬さは鉛筆
硬度試験でＨであり、スチールウールの耐擦傷性も十分
であった。また、紫外線硬化性樹脂よりなる保護膜及び
磁気ストライプの基板への密着性も十分であった。Then, a cell was assembled in the same procedure as in Example 3 and a resin was injected and cured to obtain an acrylic substrate for an optical card similar to that in Example 3. The hardness of the ultraviolet curable resin film was H in the pencil hardness test, and the scratch resistance of steel wool was also sufficient. Further, the adhesion of the protective film made of the ultraviolet curable resin and the magnetic stripe to the substrate was sufficient.
【０１２１】[0121]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の第一の発
明によれば、光情報記録面に磁気情報を記録再生のため
の磁気ストライプを設け、かつ磁気ストライプと耐擦傷
性保護膜の紫外線硬化性樹脂層が同一面を形成できるた
め、磁気ヘッド等により磁気ストライプや光記録面に傷
が付くのを防止することができる。As described above, according to the first aspect of the present invention, a magnetic stripe for recording and reproducing magnetic information is provided on the optical information recording surface, and the magnetic stripe and the scratch-resistant protective film are formed. Since the ultraviolet curable resin layer can form the same surface, it is possible to prevent the magnetic stripe or the optical recording surface from being scratched by the magnetic head or the like.
【０１２２】また、紫外線硬化性樹脂層の厚みを厚くし
て磁気ストライプを埋め込む必要もないため、カードが
曲げられても紫外線硬化性樹脂層にひび割れの恐れがな
い。更に、磁気ストライプのバインダー成分に、紫外線
硬化性樹脂層との相溶性が良い材料を用いるため、磁気
ストライプが紫外線硬化性樹脂層から剥離するのを防止
できる。Further, since it is not necessary to increase the thickness of the ultraviolet curable resin layer to embed the magnetic stripe, there is no fear of cracking of the ultraviolet curable resin layer even when the card is bent. Furthermore, since a material having good compatibility with the ultraviolet curable resin layer is used for the binder component of the magnetic stripe, it is possible to prevent the magnetic stripe from peeling from the ultraviolet curable resin layer.
【０１２３】本発明の第二の発明によれば、光情報記録
面に磁気情報を記録再生のための磁気ストライプを設
け、かつ磁気ストライプと耐擦傷性保護膜の第一の紫外
線硬化性樹脂層が同一面を形成できるため、磁気ヘッド
等により磁気ストライプや光記録面に傷が付くのを防止
することができる。According to the second aspect of the present invention, a magnetic stripe for recording and reproducing magnetic information is provided on the optical information recording surface, and the magnetic stripe and the first UV-curable resin layer of the scratch-resistant protective film are provided. Since the same surface can be formed, it is possible to prevent the magnetic stripe or the like from scratching the magnetic stripe or the optical recording surface.
【０１２４】また、磁気ストライプが耐擦傷性保護層の
紫外線硬化性樹脂層の内部に完全に埋め込まれているた
め、磁気ストライプが耐擦傷性保護層から剥離すること
が防止できる。また、第二の紫外線硬化性樹脂に第一の
紫外線硬化性樹脂と比較して柔らかい樹脂を用いている
ため、厚みが１０〜３０μｍあっても、カードが曲げら
れてもひび割れの恐れがない。Further, since the magnetic stripe is completely embedded inside the ultraviolet curable resin layer of the scratch resistant protective layer, it is possible to prevent the magnetic stripe from peeling off from the scratch resistant protective layer. Further, since the second ultraviolet curable resin is a softer resin than the first ultraviolet curable resin, there is no fear of cracking even if the thickness is 10 to 30 μm or the card is bent.
【０１２５】更に、磁気ストライプのバインダー成分
に、紫外線硬化性樹脂との相溶性が良い材料を用いるた
め、磁気ストライプと紫外線硬化性樹脂との間の機械的
強度が向上するといった効果がある。Furthermore, since a material having a good compatibility with the ultraviolet curable resin is used for the binder component of the magnetic stripe, there is an effect that the mechanical strength between the magnetic stripe and the ultraviolet curable resin is improved.
【図１】第一の発明の磁気ストライプ付き光カード基板
の製造方法の一例を示す工程図である。FIG. 1 is a process drawing showing an example of a method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe of the first invention.
【図２】第一の発明により得られる光カード基板の一例
を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing an example of an optical card substrate obtained by the first invention.
【図３】第一の発明により得られる磁気ストライプ付き
光カード基板を用いて作製した光カードの一例を示した
断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of an optical card manufactured using the optical card substrate with a magnetic stripe obtained by the first invention.
【図４】第二の発明の磁気ストライプ付き光カード基板
の製造方法の前半の工程を示す工程図である。FIG. 4 is a process drawing showing the first half of the method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe of the second invention.
【図５】第二の発明の磁気ストライプ付き光カード基板
の製造方法の後半の工程を示す工程図である。FIG. 5 is a process diagram showing a latter half of the method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe according to the second invention.
【図６】第二の発明の製造方法により得られる磁気スト
ライプ付き光カード基板の一例を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of an optical card substrate with a magnetic stripe obtained by the manufacturing method of the second invention.
【図７】第二の発明の製造方法により得られる磁気スト
ライプ付き光カード基板の他の例を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing another example of an optical card substrate with a magnetic stripe obtained by the manufacturing method of the second invention.
【図８】第二の発明の製造方法により得られる磁気スト
ライプ付き光カード基板を用いた光カードの一例を示す
断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing an example of an optical card using an optical card substrate with a magnetic stripe obtained by the manufacturing method of the second invention.
【図９】従来の方法によって基板表面に磁気ストライプ
と紫外線硬化性樹脂層を設けた光カード基板を示す説明
図である。FIG. 9 is an explanatory diagram showing an optical card substrate in which a magnetic stripe and an ultraviolet curable resin layer are provided on the surface of the substrate by a conventional method.
【図１０】従来の方法によって基板表面に磁気ストライ
プと紫外線硬化性樹脂層を設けた光カード基板を示す説
明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram showing an optical card substrate in which a magnetic stripe and an ultraviolet curable resin layer are provided on the surface of the substrate by a conventional method.
１ 鏡面型 ２ 磁気ストライプ ３ 未硬化の紫外線硬化性樹脂層 ４ 紫外線硬化性樹脂層 ５ 硬化した基板 ６ 合成樹脂原料液 ７ 紫外線照射機構 ８ 注型成形用セル ９ 原版 １０ 凹凸パタ−ン １１ カード基板 １２ スペーサー ２１ 光記録層 ２２ 接着剤層 ２３ 保護層 ２４ 可視情報印刷層 ３１ 接着層 ３２ 磁気ストライプ ３３ 耐擦傷性保護層 ３４ 基板 ４１ 鏡面型 ４２ 第一の紫外線硬化性樹脂層 ４３ 紫外線照射機構 ４４ 磁気ストライプ ４５ 第二の紫外線硬化性樹脂層 ４６ 注型成形用セル ４７ 合成樹脂原料液 ４８ 原版 ４９ スペーサー ５０ 硬化した基板 ５１ 凹凸パターン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Mirror surface type 2 Magnetic stripe 3 Uncured UV curable resin layer 4 UV curable resin layer 5 Cured substrate 6 Synthetic resin raw material liquid 7 UV irradiation mechanism 8 Casting molding cell 9 Original plate 10 Uneven pattern 11 Card substrate 12 Spacer 21 Optical Recording Layer 22 Adhesive Layer 23 Protective Layer 24 Visible Information Printing Layer 31 Adhesive Layer 32 Magnetic Stripe 33 Scratch Resistant Protective Layer 34 Substrate 41 Mirror Type 42 First UV Curable Resin Layer 43 UV Irradiation Mechanism 44 Magnetic Stripe 45 Second UV curable resin layer 46 Cast molding cell 47 Synthetic resin raw material liquid 48 Original plate 49 Spacer 50 Cured substrate 51 Concavo-convex pattern
Claims (12)
フォーマットパターンを他方の面に磁気ストライプを有
する光カード基板を製造する方法において、鏡面型の所
定位置に磁気ストライプを仮止めし、その上に紫外線硬
化性樹脂を塗布して磁気ストライプを被覆し、次いで紫
外線を照射して樹脂を硬化又は半硬化させた後、プリフ
ォーマットパターンを有する原版と前記鏡面型を対向さ
せて鋳型を組み立て、該鋳型内に合成樹脂原料液を注入
し、重合させて一体に成形することを特徴とする磁気ス
トライプ付き光カード基板の製造方法。1. A method for manufacturing an optical card substrate having a preformat pattern on one surface of a substrate and a magnetic stripe on the other surface by a casting method, wherein the magnetic stripe is temporarily fixed at a predetermined position of a mirror surface type, An ultraviolet curable resin is applied on it to cover the magnetic stripe, and then the resin is irradiated with ultraviolet rays to cure or semi-cure the resin. A method for producing an optical card substrate with a magnetic stripe, which comprises injecting a synthetic resin raw material liquid into the mold, polymerizing it, and integrally molding.
単官能単量体、エチレン性不飽和多官能単量体及びラジ
カル重合開始剤を含有する請求項１記載の磁気ストライ
プ付き光カード基板の製造方法。2. The optical card substrate with a magnetic stripe according to claim 1, wherein the synthetic resin raw material liquid contains an ethylenically unsaturated monofunctional monomer, an ethylenically unsaturated polyfunctional monomer and a radical polymerization initiator. Production method.
して、紫外線硬化性樹脂と相溶性の良い樹脂を選択的に
含有させて用いる請求項１記載の磁気ストライプ付き光
カード基板の製造方法。3. The method of manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe according to claim 1, wherein a resin having a high compatibility with an ultraviolet curable resin is selectively contained as a binder component of the magnetic stripe.
紫外線硬化性樹脂が互いに相溶性の良い樹脂を選択的に
用いる請求項１記載の磁気ストライプ付き光カード基板
の製造方法。4. The method of manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe according to claim 1, wherein the base film of the magnetic stripe and the ultraviolet curable resin selectively use a resin having a good compatibility with each other.
フォーマットパターンを他方の面に磁気ストライプを有
する光カード基板を製造する方法において、鏡面型に第
一の紫外線硬化性樹脂を塗布して紫外線を照射して硬化
又は半硬化させた後、所定位置に磁気ストライプを仮止
めし、次いで前記第一の紫外線硬化性樹脂及び磁気スト
ライプ上に第二の紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線を
照射して硬化又は半硬化させた後、プリフォーマットパ
ターンを有する原版と前記鏡面型を対向させて鋳型を組
み立て、該鋳型内に合成樹脂原料液を注入し、重合させ
て一体に成形することを特徴とする磁気ストライプ付き
光カード基板の製造方法。5. A method for producing an optical card substrate having a preformatted pattern on one surface of a substrate and a magnetic stripe on the other surface by a casting method, wherein a mirror surface mold is coated with a first ultraviolet curable resin. After irradiating with ultraviolet rays to cure or semi-cure, temporarily fix the magnetic stripe at a predetermined position, then apply the second ultraviolet curable resin on the first ultraviolet curable resin and the magnetic stripe, After curing and semi-curing by irradiating with, a mold is assembled by facing the original plate having a pre-format pattern and the mirror surface mold, and a synthetic resin raw material liquid is injected into the mold and polymerized to integrally mold. And a method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe.
単官能単量体、エチレン性不飽和多官能単量体及びラジ
カル重合開始剤を含有する請求項５記載の磁気ストライ
プ付き光カード基板の製造方法。6. The optical card substrate with a magnetic stripe according to claim 5, wherein the synthetic resin raw material liquid contains an ethylenically unsaturated monofunctional monomer, an ethylenically unsaturated polyfunctional monomer and a radical polymerization initiator. Production method.
第二の紫外線硬化性樹脂の硬度よりも大である請求項５
記載の磁気ストライプ付き光カード基板の製造方法。7. The hardness of the first ultraviolet curable resin is:
The hardness is higher than the hardness of the second ultraviolet curable resin.
A method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe according to the above.
第二の紫外線硬化性樹脂の厚みよりも薄い請求項５記載
の磁気ストライプ付き光カード基板の製造方法。8. The thickness of the first ultraviolet curable resin is:
The method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe according to claim 5, wherein the thickness is smaller than that of the second ultraviolet curable resin.
〜１０μｍである請求項５または８記載の磁気ストライ
プ付き光カード基板の製造方法。9. The thickness of the first ultraviolet curable resin is 3
The method for producing an optical card substrate with a magnetic stripe according to claim 5, wherein the optical card substrate has a thickness of 10 μm.
１０〜３０μｍである請求項５または８記載の磁気スト
ライプ付き光カード基板の製造方法。10. The method for manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe according to claim 5, wherein the thickness of the second ultraviolet curable resin is 10 to 30 μm.
として、紫外線硬化性樹脂と相溶性の良い樹脂を選択的
に含有させて用いる請求項５記載の磁気ストライプ付き
光カード基板の製造方法。11. The method of manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe according to claim 5, wherein a resin having a good compatibility with an ultraviolet curable resin is selectively contained as a binder component of the magnetic stripe.
と紫外線硬化性樹脂が互いに相溶性の良い樹脂を選択的
に用いる請求項５記載の磁気ストライプ付き光カード基
板の製造方法。12. The method of manufacturing an optical card substrate with a magnetic stripe according to claim 5, wherein the base film of the magnetic stripe and the ultraviolet curable resin selectively use a resin having a good compatibility with each other.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21655395A JPH0950650A (en) | 1995-08-03 | 1995-08-03 | Production of substrate of optical card with magnetic stripe |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21655395A JPH0950650A (en) | 1995-08-03 | 1995-08-03 | Production of substrate of optical card with magnetic stripe |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0950650A true JPH0950650A (en) | 1997-02-18 |
Family
ID=16690246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21655395A Pending JPH0950650A (en) | 1995-08-03 | 1995-08-03 | Production of substrate of optical card with magnetic stripe |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0950650A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1001367A1 (en) * | 1998-11-11 | 2000-05-17 | ESEC Management SA | Method for producing a plastic object containing an electrically conducting structure |
| KR100720077B1 (en) * | 2005-09-09 | 2007-05-18 | (주)티이에스 | Method of manufacturing to memory card |
-
1995
- 1995-08-03 JP JP21655395A patent/JPH0950650A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1001367A1 (en) * | 1998-11-11 | 2000-05-17 | ESEC Management SA | Method for producing a plastic object containing an electrically conducting structure |
| KR100720077B1 (en) * | 2005-09-09 | 2007-05-18 | (주)티이에스 | Method of manufacturing to memory card |
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