JPH0944969A - Magnetic disk holding member and magnetic disk device - Google Patents
Magnetic disk holding member and magnetic disk deviceInfo
- Publication number
- JPH0944969A JPH0944969A JP19529895A JP19529895A JPH0944969A JP H0944969 A JPH0944969 A JP H0944969A JP 19529895 A JP19529895 A JP 19529895A JP 19529895 A JP19529895 A JP 19529895A JP H0944969 A JPH0944969 A JP H0944969A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- holding member
- film
- conductive ceramic
- ceramics
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Holding Or Fastening Of Disk On Rotational Shaft (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスクを所
定位置に保持するための磁気ディスク保持部材およびこ
れを用いてハブに一枚または複数枚の磁気ディスクを保
持してなる磁気ディスク装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk holding member for holding a magnetic disk in a predetermined position, and a magnetic disk device in which one or more magnetic disks are held in a hub using the magnetic disk holding member. Is.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、磁気ディスク装置は、図4に示す
ように、回転軸13に固定されたハブ14に、複数枚の
磁気ディスク15とスペーサ11とを交互に挿入し、最
後にシム10およびクランプ12で押さえ付け、ネジ1
6で締め付けることにより固定するようになっていた。
そして、上記回転軸13の回転により磁気ディスク15
を回転させながら、磁気ヘッド17が磁気ディスク15
の表面上を非接触状態で移動することにより、磁気ディ
スク15の所定位置で情報の書き込みや読み取りを行う
ようになっていた。2. Description of the Related Art Conventionally, as shown in FIG. 4, in a magnetic disk device, a plurality of magnetic disks 15 and spacers 11 are alternately inserted into a hub 14 fixed to a rotary shaft 13, and finally a shim 10 is inserted. And press it with clamp 12, screw 1
It was fixed by tightening with 6.
The magnetic disk 15 is rotated by the rotation of the rotary shaft 13.
While rotating the magnetic head 17, the magnetic head 17
By moving on the surface of the magnetic disk in a non-contact state, information is written or read at a predetermined position of the magnetic disk 15.
【0003】また、近年、このような磁気ディスク装置
50は情報が高密度で大容量化するに伴って、磁気ヘッ
ド17と磁気ディスク15との距離の極小化、磁気ディ
スク15のより高度な平面化と表面の平滑化等が要求さ
れており、その為、磁気ディスク15を表面強度および
平滑面化が極めて効果的に得られるセラミックスやガラ
スを用いた磁気ディスク15が提案されており、該磁気
ディスク15を固定・保持するスペーサ11、シム1
0、およびクランプ12などの保持部材は熱膨張差に伴
う磁気ディスク15の歪みを防止するために、セラミッ
クスやガラスで形成したものがあった(特公平5−80
745号公報、特開昭61−148667号公報)。Further, in recent years, in such a magnetic disk device 50, the distance between the magnetic head 17 and the magnetic disk 15 has been minimized and the magnetic disk 15 has a higher plane as the information density and capacity have increased. Therefore, it is required to make the magnetic disk 15 smoother and smoother. Therefore, there has been proposed a magnetic disk 15 made of ceramics or glass which can very effectively obtain the surface strength and smoothness of the magnetic disk 15. Spacer 11 and shim 1 for fixing and holding the disk 15
The holding members such as 0 and the clamp 12 were made of ceramics or glass in order to prevent the distortion of the magnetic disk 15 due to the difference in thermal expansion (Japanese Patent Publication No. 5-80).
745 and JP-A-61-148667).
【0004】しかしながら、上記保持部材を構成するセ
ラミックスやガラスは一般的に絶縁性材料であるため、
これらの保持部材で磁気ディスク15を保持すると、磁
気ディスク15が帯電し、情報の読み込みや書き込みの
際にノイズが発生して、記録内容を破壊してしまう恐れ
があることが近年知られており、その為、磁気ディスク
15との当接面にアルミニウムや亜鉛等の金属膜を被覆
した保持部材を用いて、磁気ディスク15の帯電を防止
するようにしたものがあった(特開平2−226566
号公報)。However, since the ceramics and glass constituting the holding member are generally insulating materials,
It has been known in recent years that when the magnetic disk 15 is held by these holding members, the magnetic disk 15 is charged, noise is generated during reading or writing of information, and the recorded contents may be destroyed. For this reason, there has been one in which a magnetic disk 15 is prevented from being charged by using a holding member in which a contact surface with the magnetic disk 15 is coated with a metal film such as aluminum or zinc (JP-A-2-226566).
Issue).
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところが、当接面に金
属膜を被覆した保持部材では、基体をなすセラミックス
やガラスと金属膜との間の熱膨張差が大きいことから、
高速回転に伴う熱により当接面の平面度が損なわれると
いった課題あった。その為、この保持部材を用いて磁気
ディスク装置50を構成すると、磁気ディスク15に歪
みを生じ、また、磁気ディスク15間の平行度が損なわ
れるために、磁気ヘッド17の浮上量を小さくすること
ができず、場合によっては磁気ヘッド17が磁気ディス
ク15と接触して傷損させてしまうといった恐れがあっ
た。However, in the holding member having the contact surface covered with the metal film, the difference in thermal expansion between the metal film and the ceramics or glass forming the base is large.
There is a problem that the flatness of the contact surface is impaired by the heat generated by the high speed rotation. Therefore, when the magnetic disk device 50 is configured using this holding member, the magnetic disks 15 are distorted and the parallelism between the magnetic disks 15 is impaired, so that the flying height of the magnetic head 17 is reduced. However, in some cases, the magnetic head 17 may come into contact with the magnetic disk 15 and damage the magnetic disk 15.
【0006】その上、基体をなすセラミックスやガラス
との熱膨張差により被覆した金属膜が剥がれる恐れもあ
り、その結果、磁気ディスク15に帯電する静電気を逃
がすことができなくなるといった課題もあった。In addition, the coated metal film may be peeled off due to the difference in thermal expansion from the ceramics or glass forming the substrate, and as a result, static electricity charged on the magnetic disk 15 cannot escape.
【0007】また、上記金属膜は当接面の平面度を損な
わないようにするために薄膜状としてあるが、高速回転
に伴い磁気ディスク15と保持部材との間に引っ掻きが
生じて硬度の小さい金属膜が摩耗したり剥がれることか
ら、磁気ディスク15に帯電する静電気を逃がすことが
できないといった恐れもあった。The metal film is formed in a thin film so as not to impair the flatness of the contact surface, but scratches occur between the magnetic disk 15 and the holding member due to high speed rotation, and the hardness is small. Since the metal film is worn or peeled off, there is a fear that static electricity charged on the magnetic disk 15 cannot be released.
【0008】さらに、保持部材の内外のエッジ部がシャ
ープエッジであると、該エッジ部に被覆した金属膜の膜
厚が薄くなり、場合によっては断線を生じて静電気を逃
がすことができなくなるといった課題があった。その
上、保持部材を構成するセラミックスやガラスは脆性材
料であることから、エッジ部がシャープエッジであると
クランプ時の応力により欠けを生じる恐れがあり、この
破片が磁気ディスク15とその上を浮上する磁気ヘッド
17との間隙に入り込むと、磁気ディスク15に傷を付
けたり、磁気ヘッド17を破損させるといった課題があ
った。Further, when the inner and outer edges of the holding member are sharp edges, the film thickness of the metal film coated on the edges becomes thin, and in some cases, disconnection occurs and static electricity cannot escape. was there. In addition, since the ceramics and glass that constitute the holding member are brittle materials, if the edge portion is a sharp edge, there is a risk of chipping due to stress during clamping, and the fragments float above the magnetic disk 15 and above it. If it enters the gap between the magnetic head 17 and the magnetic head 17, the magnetic disk 15 may be scratched or the magnetic head 17 may be damaged.
【0009】その為、これらの保持部材により磁気ディ
スク15を保持した磁気ディスク装置50では、十分な
情報の高密度化、大容量化を実現することが難しく、ま
た、磁気ディスク15に静電気が帯電し、情報の読み込
みや書き込みの際にノイズを生じて、記録内容を破壊し
てしまう恐れがあった。Therefore, in the magnetic disk device 50 holding the magnetic disk 15 by these holding members, it is difficult to realize a sufficiently high density and large capacity of information, and the magnetic disk 15 is charged with static electricity. However, there is a risk that noise may occur during reading or writing of information and the recorded contents may be destroyed.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】そこで、本発明では上記
問題に鑑み、セラミックスまたはガラスからなるシム、
クランプ、およびスペーサなどの保持部材のうち、該保
持部材の内外のエッジ部に幅が0.04〜0.5mmの
テーパ面または曲面を設けるとともに、少なくとも磁気
ディスクとの当接面および内周面に膜厚0.1〜3μm
の導電性セラミック膜を被覆したことを特徴とするもの
である。In view of the above problems, a shim made of ceramics or glass,
Of holding members such as clamps and spacers, a tapered surface or a curved surface having a width of 0.04 to 0.5 mm is provided on the inner and outer edge portions of the holding member, and at least the contact surface with the magnetic disk and the inner peripheral surface. Thickness of 0.1 to 3 μm
It is characterized in that it is coated with a conductive ceramic film.
【0011】また、本発明は、回転軸に固定した導電性
材料からなるハブに、セラミックスまたはガラスからな
るリング体であって、内外のエッジ部に幅が0.04〜
0.5mmのテーパ面または曲面を備え、かつ少なくと
も磁気ディスクとの当接面および内周面に膜厚0.1〜
3μmの導電性セラミック膜を被覆してなるスペーサお
よび/またはシムを介して一枚または複数枚のセラミッ
クスあるいはガラスからなる磁気ディスクを保持して磁
気ディスク装置を構成したものである。Further, according to the present invention, a hub made of a conductive material is fixed to a rotating shaft, and a ring body made of ceramics or glass is used.
It has a taper surface or curved surface of 0.5 mm, and has a film thickness of 0.1 to at least on the contact surface with the magnetic disk and the inner peripheral surface.
A magnetic disk device is constructed by holding one or a plurality of magnetic disks made of ceramics or glass via a spacer and / or a shim covering a conductive ceramic film of 3 μm.
【0012】さらに、本発明は、上記導電性セラミック
膜としてTiC、TiN、ZrN、HfC、TaC、Z
rC、WC、VC、NbC、TiB2 、In2 O3 のう
ち1種を被覆したものである。Furthermore, the present invention provides TiC, TiN, ZrN, HfC, TaC, Z as the conductive ceramic film.
It is coated with one of rC, WC, VC, NbC, TiB 2 , and In 2 O 3 .
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明実施例を説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.
【0014】図1〜図3は本発明に係る保持部材を示す
図であり、図1(a)はスペーサ11の斜視図、(b)
はその断面図、図2(a)はシム10の斜視図、(b)
はその断面図、図3(a)はクランプ12’の斜視図、
(b)はその断面図である。まず、図1に示すスペーサ
11はセラミックスまたはガラスからなるリング体11
2であって、その内外のエッジ部114a,114bに
はテーパ面(C面を含む)または曲面を形成してある。
また、このスペーサ11の当接面113は、固定した磁
気ディスクが高速回転に伴って回動しないようにするた
めに中心線平均粗さ(Ra)で0.1〜2.0μmの面
粗さとするととも、固定した際に磁気ディスクに歪みを
生じさせないようにするために当接面113の平面度を
3μm以下とし、さらに、磁気ディスクを所定の位置に
保持するために上下の当接面113の平行度を5μm以
下としてある。そして、リング体112の全面には体積
固有抵抗値が1×107 Ω・cm以下で、かつ熱膨張係
数が6〜10×10-6/℃である導電性セラミック膜1
15を膜厚0.1〜3μmの範囲で被覆してある。1 to 3 are views showing a holding member according to the present invention, FIG. 1 (a) is a perspective view of a spacer 11, and FIG.
Is a sectional view thereof, FIG. 2A is a perspective view of the shim 10, and FIG.
Is a sectional view thereof, FIG. 3 (a) is a perspective view of the clamp 12 ',
(B) is the sectional view. First, the spacer 11 shown in FIG. 1 is a ring body 11 made of ceramics or glass.
2, the inner and outer edge portions 114a and 114b are formed with a tapered surface (including a C surface) or a curved surface.
The contact surface 113 of the spacer 11 has a center line average roughness (Ra) of 0.1 to 2.0 μm in order to prevent the fixed magnetic disk from rotating due to high speed rotation. At the same time, the flatness of the contact surface 113 is set to 3 μm or less to prevent the magnetic disk from being distorted when fixed, and the upper and lower contact surfaces 113 to hold the magnetic disk at a predetermined position. Has a parallelism of 5 μm or less. The conductive ceramic film 1 having a volume resistivity of 1 × 10 7 Ω · cm or less and a thermal expansion coefficient of 6 to 10 × 10 −6 / ° C. is formed on the entire surface of the ring body 112.
15 is coated in a film thickness range of 0.1 to 3 μm.
【0015】なお、シム10は図2に示すように、上記
スペーサ11と同じ形状で、やや薄型のものである。As shown in FIG. 2, the shim 10 has the same shape as the spacer 11 and is slightly thin.
【0016】また、図3に示すクランプ12’は、セラ
ミックスまたはガラスからなる円板状をした板状体12
2’であって、一方の表面中央にはハブの先端部分と係
合する凹部127’とハブに固定するためのネジ穴12
8’を設けてあり、板状体122’の内外のエッジ部1
24’a,124’bにはテーパ面(C面を含む)また
は曲面を形成してある。The clamp 12 'shown in FIG. 3 is a disk-shaped plate 12 made of ceramics or glass.
2 ', in the center of one surface, a recess 127' for engaging the tip portion of the hub and a screw hole 12 for fixing to the hub.
8'is provided, and the inner and outer edge portions 1 of the plate-like body 122 'are provided.
24'a and 124'b are formed with tapered surfaces (including C surface) or curved surfaces.
【0017】また、このクランプ12’の当接面12
3’は、前記スペーサ11と同様に磁気ディスクの歪み
を防止するとともに、回動しないようにするために中心
線平均粗さ(Ra)で0.1〜2.0μmの面粗さとす
るとともに、平面度を3μm以下としてある。そして、
この板状体122’全面には体積固有抵抗値が1×10
7 Ω・cm以下で、かつ熱膨張係数が6〜10×10-6
/℃である導電性セラミック膜125’を膜厚0.1〜
3μmの範囲で被覆してある。Further, the contact surface 12 of the clamp 12 'is
3 ′ has a center line average roughness (Ra) of 0.1 to 2.0 μm in order to prevent the magnetic disk from being distorted and to prevent the disk from rotating like the spacer 11. The flatness is 3 μm or less. And
The volume resistivity value is 1 × 10 on the entire surface of this plate 122 ′.
7 Ω · cm or less and a thermal expansion coefficient of 6 to 10 × 10 -6
The conductive ceramic film 125 'having a thickness of 0.1 / ° C.
It is coated in the range of 3 μm.
【0018】このように、本発明は、シム10、スペー
サ11、およびクランプ12’などの保持部材を構成す
る基体をセラミックスまたはガラスにより形成してある
ため、当接面103,113,123’を非常に滑らか
で、かつ優れた平面精度に仕上げることができる。ま
た、本発明は、少なくとも当接面103,113,12
3’および内壁面106,116,126’に高硬度の
導電性セラミック膜105、115、125’を被覆す
るとともに、その膜厚を0.1〜3μmと薄肉としてあ
るため、当接面103、113、123’の平面度や平
行度を損なうことなく耐摩耗性に優れた面とすることが
できる。しかも、上記導電性セラミック膜105、11
5、125’は体積固有抵抗値が1×107 Ω・cm以
下であることから、磁気ディスクに帯電する静電気を効
率良く逃がすことができる。As described above, according to the present invention, since the base body constituting the holding member such as the shim 10, the spacer 11 and the clamp 12 'is formed of ceramics or glass, the contact surfaces 103, 113, 123' are formed. It is very smooth and can be finished with excellent flatness. In addition, the present invention is at least the contact surfaces 103, 113, 12
3'and the inner wall surfaces 106, 116, 126 'are coated with high-hardness conductive ceramic films 105, 115, 125', and the thickness thereof is as thin as 0.1 to 3 .mu.m. Therefore, the contact surface 103, It is possible to make the surface excellent in wear resistance without impairing the flatness and parallelism of 113 and 123 '. Moreover, the conductive ceramic films 105, 11
Since 5, 125 'have a volume resistivity value of 1 × 10 7 Ω · cm or less, static electricity charged on the magnetic disk can be efficiently released.
【0019】また、本発明では、熱膨張係数が6〜10
×10-6/℃である導電性セラミック膜105、11
5、125’を被覆してあるため、基体をなすセラミッ
クスやガラスの熱膨張係数と近似しているとともに、磁
気ディスクを構成するセラミックスやガラスの熱膨張係
数(8.0〜10.0×10-6/℃)とも近似している
ことから、高速回転に伴う熱による導電性セラミック膜
105、115、125の剥離や変形を防ぎ、磁気ディ
スクを非常に高い平面精度でもって保持することができ
る。In the present invention, the coefficient of thermal expansion is 6-10.
Conductive ceramic films 105, 11 having a density of × 10 -6 / ° C.
Since it is coated with 5, 125 ', it is close to the coefficient of thermal expansion of the ceramics or glass that forms the base, and the coefficient of thermal expansion of the ceramics or glass that forms the magnetic disk (8.0 to 10.0x10). -6 / ° C.), it is possible to prevent the conductive ceramic films 105, 115, 125 from peeling or deforming due to heat associated with high-speed rotation, and to hold the magnetic disk with extremely high plane accuracy. .
【0020】さらに、本発明は、各保持部材の内外のエ
ッジ部104,114,124’にテーパ面またはR面
を形成してあるため、クランプ時の欠けを防止できると
ともに、エッジ部104,114,124’に被覆する
導電性セラミック膜105,115,125’の膜厚を
確保し、断線を防ぐことができる。Further, according to the present invention, since the taper surface or the R surface is formed on the inner and outer edge portions 104, 114, 124 'of each holding member, it is possible to prevent chipping at the time of clamping and also to prevent the edge portions 104, 114 from being formed. , 124 'can be ensured and the thickness of the conductive ceramic films 105, 115, 125' can be secured to prevent disconnection.
【0021】次に、上記保持部材により磁性膜を備えた
ガラス製の磁気ディスク15を保持した磁気ディスク装
置50を図4に示す。Next, FIG. 4 shows a magnetic disk device 50 holding the glass magnetic disk 15 having a magnetic film by the holding member.
【0022】回転軸13にフランジ部14aを備えた金
属製の略円筒体14をしたハブ14を固定し、該ハブ1
4のフランジ部14aに、磁気ディスク15と図1に示
したスペーサ11とを交互に複数個挿入し、最後に図1
に示したシム10を挿入したあと金属またはアルミナな
どのセラミックスからなるクランプ12で押さえ付け、
ネジ16でもってクランプ12をハブ14に締め付ける
ことで磁気ディスク15を固定するようにしてある。A hub 14 having a metal-made substantially cylindrical body 14 having a flange portion 14a is fixed to the rotary shaft 13, and the hub 1 is fixed.
4, a plurality of magnetic disks 15 and the spacers 11 shown in FIG. 1 are alternately inserted into the flange portion 14a of FIG.
After inserting the shim 10 shown in, press it with a clamp 12 made of metal or ceramics such as alumina.
The magnetic disk 15 is fixed by fastening the clamp 12 to the hub 14 with the screw 16.
【0023】本発明に係る磁気ディスク装置50は、磁
気ディスク15と保持部材(スペーサ11,シム10)
の熱膨張係数が近似しているため、高速回転時に高温に
なっても熱膨張差に伴う不都合を生じることがない。従
って、磁気ヘッド17の磁気ディスク15に対する浮上
量を極めて小さくすることができ、情報記録密度を高く
することが可能となる。しかも、上記保持部材(スペー
サ11,シム10)は導電性を有しているため、磁気デ
ィスク15に帯電した静電気を金属製のハブ14および
回転軸13を介して逃がすことができ、記録内容が破壊
されることを防止することができる。A magnetic disk device 50 according to the present invention includes a magnetic disk 15 and a holding member (spacer 11, shim 10).
Since the coefficients of thermal expansion are similar, there will be no inconvenience due to the difference in thermal expansion even if the temperature becomes high during high speed rotation. Therefore, the flying height of the magnetic head 17 with respect to the magnetic disk 15 can be made extremely small, and the information recording density can be increased. Moreover, since the holding members (the spacers 11 and the shims 10) have conductivity, the static electricity charged on the magnetic disk 15 can be released through the metal hub 14 and the rotary shaft 13, and the recorded contents It can be prevented from being destroyed.
【0024】なお、上記磁気ディスク15としてはガラ
ス基板以外に、セラミック基板の表面にガラスグレーズ
層を形成し、その上に磁性膜を被覆したものであっても
構わない。As the above-mentioned magnetic disk 15, a glass glaze layer may be formed on the surface of a ceramic substrate and a magnetic film may be coated on the glass substrate instead of the glass substrate.
【0025】また、図4に示す磁気ディスク装置50で
は、最上部の磁気ディスク15とクランプ12との間に
シム10を介して保持してあるが、他の実施例としてク
ランプ12を最上部の磁気ディスク15と直接当接させ
て保持する構造としても良く、この場合には図3に示す
クランプ12’を用いれば、精度良く磁気ディスク15
を保持することができるとともに、最上部の磁気ディス
ク15に帯電する静電気を効果的に逃がすことができ
る。Further, in the magnetic disk device 50 shown in FIG. 4, the shim 10 is held between the uppermost magnetic disk 15 and the clamp 12, but as another embodiment, the clamp 12 is arranged at the uppermost part. The magnetic disk 15 may be directly held in contact with the magnetic disk 15, and in this case, by using the clamp 12 'shown in FIG.
Can be held, and static electricity charged on the uppermost magnetic disk 15 can be effectively released.
【0026】さらに、磁気ディスク装置50の他の例と
して、ハブ14のフランジ部14aと磁気ディスク15
との間に配置するスペーサ11を取り除き直接当接させ
て保持したものでも良く、この場合、磁気ディスク15
との熱膨張差をなくすために、基体がセラミックスやガ
ラスからなり、その表面に導電性セラミック膜を被覆し
たハブ14を用いれば効果的である。Further, as another example of the magnetic disk device 50, the flange portion 14a of the hub 14 and the magnetic disk 15 are provided.
The spacer 11 disposed between the magnetic disk 15 and the spacer may be removed by directly abutting and holding the spacer.
In order to eliminate the difference in thermal expansion between the hub and the substrate, it is effective to use the hub 14 whose base is made of ceramics or glass and whose surface is coated with a conductive ceramic film.
【0027】ところで、上記スペーサ11、シム10、
およびクランプ12などの保持部材をなす基体の材質と
しては、熱膨張係数が20×10-6/℃以下、好ましく
は12×10-6/℃以下のセラミックスまたはガラスを
用いることができ、例えば、セラミックスとしてはアル
ミナセラミックス、ジルコニアセラミックス、炭化珪素
質セラミックス、窒化珪素質セラミックス、Al2 O3
−TiC系セラミックス、フォルステライト質セラミッ
クスなどが好適である。By the way, the spacer 11, the shim 10,
As the material of the base body forming the holding member such as the clamp 12, ceramics or glass having a thermal expansion coefficient of 20 × 10 −6 / ° C. or less, preferably 12 × 10 −6 / ° C. or less can be used. As ceramics, alumina ceramics, zirconia ceramics, silicon carbide ceramics, silicon nitride ceramics, Al 2 O 3
-TiC ceramics, forsterite ceramics, etc. are suitable.
【0028】特に、これらのセラミックスは熱膨張係数
が上記範囲にあるとともに、比剛性が大きいため、クラ
ンプ時に変形を生じることなく、当接面103,11
3,123’を非常に滑らかで、かつ優れた平面精度に
仕上げることができる。In particular, these ceramics have a coefficient of thermal expansion in the above range and a large specific rigidity, so that the contact surfaces 103, 11 do not deform during clamping.
It is possible to finish 3,123 'with extremely smooth and excellent plane accuracy.
【0029】そして、磁気ディスク15の材質に応じ
て、上記保持部材の材質の中から熱膨張係数の近似した
ものを用いれば良い。例えば、セラミック製の磁気ディ
スク15を用いる場合には、保持部材として熱膨張係数
が10×10-6/℃以下のセラミックスを用いれば良
く、同様にガラス(熱膨張係数8.0〜9×10-6/
℃)製の磁気ディスク15を用いる場合には、保持部材
として熱膨張係数が8.0×10-6/℃以上のフォルス
テライト質セラミックスやガラスを用いれば良い。Then, depending on the material of the magnetic disk 15, a material having a thermal expansion coefficient close to that of the material of the holding member may be used. For example, when the magnetic disk 15 made of ceramic is used, ceramic having a coefficient of thermal expansion of 10 × 10 −6 / ° C. or less may be used as the holding member, and similarly, glass (coefficient of thermal expansion of 8.0 to 9 × 10) is used. -6 /
When the magnetic disk 15 made of (.degree. C.) is used, forsterite ceramics or glass having a thermal expansion coefficient of 8.0.times.10.sup.- 6 / .degree. C. or more may be used as the holding member.
【0030】また、上記スペーサ11、シム10、およ
びクランプ12などの保持部材の内外のエッジ部10
4,114,124’にはクランプ時の応力による欠け
を防止するためにテーパ面(C面含む)または曲面を形
成してあるが、このテーパ面または曲面が小さすぎる
と、上記エッジ部104,114,124’で断線を生
じ、導通がとれなくなる。Further, the inside and outside edge portions 10 of the holding member such as the spacer 11, the shim 10 and the clamp 12 described above.
4, 114, 124 'are formed with a tapered surface (including C surface) or a curved surface to prevent chipping due to stress during clamping. If the tapered surface or curved surface is too small, the edge portion 104, A disconnection occurs at 114 and 124 ', and conduction is lost.
【0031】その為、本発明では、保持部材の内外のエ
ッジ部104,114,124’に幅が0.04mm以
上のテーパ面または曲面を形成してある。Therefore, in the present invention, the inner and outer edge portions 104, 114, 124 'of the holding member are formed with tapered surfaces or curved surfaces having a width of 0.04 mm or more.
【0032】即ち、エッジ部104,114,124’
に形成するテーパ面または曲面の幅が0.04mm未満
であると前述したように、保持部材のエッジ部104,
114,124’がシャープエッジであるため、そこに
被覆した導電性セラミック膜105、115、125’
の膜厚が薄くなり断線する恐れがあるからである。ただ
し、テーパ面または曲面の幅が0.5mmより大きくな
ると、当接面103,113,123’の磁気ディスク
15との接触面積が小さくなるために、クランプ時に磁
気ディスク15に歪みを生じることから、保持部材の内
外のエッジ部104,114,124’には0.04〜
0.5mmの範囲でテーパ面または曲面を形成すること
が望ましい。That is, the edge portions 104, 114, 124 '
As described above, when the width of the tapered surface or the curved surface formed in the above is less than 0.04 mm, the edge portion 104 of the holding member,
Since 114 and 124 'have sharp edges, the conductive ceramic films 105, 115 and 125' coated on them are sharp edges.
This is because there is a possibility that the thickness of the film becomes thin and the wire is broken. However, if the width of the tapered surface or the curved surface is larger than 0.5 mm, the contact area of the contact surfaces 103, 113, 123 ′ with the magnetic disk 15 becomes small, so that the magnetic disk 15 is distorted during clamping. , 0.04 to the inner and outer edge portions 104, 114, and 124 'of the holding member.
It is desirable to form a tapered surface or a curved surface in the range of 0.5 mm.
【0033】なお、本発明で言う、テーパ面または曲面
の幅とは、スペーサ11を例にとって説明すると図5に
その主要部の拡大図を示すように当接面113側のエッ
ジ部114aの端面からの幅Lのことである。The width of the tapered surface or the curved surface referred to in the present invention will be explained by taking the spacer 11 as an example. As shown in the enlarged view of the main portion of FIG. 5, the end surface of the edge portion 114a on the contact surface 113 side. Is the width L from.
【0034】また、これらの保持部材のうち、少なくと
も当接面103,113,123は中心線平均粗さ(R
a)で0.1〜2.0μmの面粗さとすることが必要で
ある。これは、当接面103,113,123’の中心
線平均粗さ(Ra)が0.1μm未満であると、被覆し
た導電性セラミック膜105、115、125’を十分
なアンカー効果でもって密着させることができなくなる
とともに、導電性セラミック膜105、115、12
5’の表面が滑らかになり過ぎることから、高速回転に
伴い磁気ディスク15に滑りを生じるからであり、逆
に、当接面103,113,123’の中心線平均粗さ
(Ra)が2.0μmより大きくなると、磁気ディスク
15の平面度が損なわれるとともに、磁気ディスク15
に傷を付けてしまうからである。Of these holding members, at least the contact surfaces 103, 113, 123 have center line average roughness (R
It is necessary that the surface roughness of a) is 0.1 to 2.0 μm. This is because when the center line average roughness (Ra) of the contact surfaces 103, 113, 123 'is less than 0.1 μm, the coated conductive ceramic films 105, 115, 125' are adhered with a sufficient anchor effect. And the conductive ceramic films 105, 115, 12
This is because the surface of 5'becomes too smooth and slips on the magnetic disk 15 with high-speed rotation. Conversely, the center line average roughness (Ra) of the contact surfaces 103, 113, 123 'is 2 If it is larger than 0.0 μm, the flatness of the magnetic disk 15 is impaired and the magnetic disk 15
Because it will scratch the.
【0035】一方、保持部材に被覆する導電性セラミッ
ク膜105、115、125’としては、TiC、Ti
N、ZrN、HfC、TaC、ZrC、WC、VC、N
bC、TiB2 のうち1種が好適である。On the other hand, as the conductive ceramic films 105, 115, 125 ′ covering the holding member, TiC, Ti
N, ZrN, HfC, TaC, ZrC, WC, VC, N
One of bC and TiB 2 is suitable.
【0036】これらの導電性セラミックス膜105、1
15、125’は表1に示すように、体積固有抵抗値が
1×107 Ω・cm未満であるため、磁気ディスク15
に帯電した静電気を効果的に除去することができ、しか
も、熱膨張係数が6〜10×10-6/℃程度と、保持部
材を構成するセラミックスやガラス、および磁気ディス
ク15を構成するセラミックスやガラスと熱膨張係数が
同等あるいは近似していることから、高速回転に伴う熱
により導電性セラミックス膜105、115、125’
の剥離や変形がなく、磁気ディスク15を非常に高い平
面精度でもって保持することができる。なお、上記した
導電性セラミックス膜105、115、125’以外に
も例えば、SnをドープしたIn2 O3 からなるITO
(IndiumTin Oxide) 膜などを用いることもできる。These conductive ceramic films 105, 1
As shown in Table 1, Nos. 15 and 125 ′ have a volume specific resistance value of less than 1 × 10 7 Ω · cm, the magnetic disk 15
The static electricity charged in the inside can be effectively removed, and further, the coefficient of thermal expansion is about 6 to 10 × 10 −6 / ° C., and the ceramics or glass constituting the holding member, the ceramics constituting the magnetic disk 15, or the like. Since the coefficient of thermal expansion of glass is the same as or similar to that of glass, the conductive ceramic films 105, 115, 125 ′ are heated by the heat accompanying high-speed rotation.
The magnetic disk 15 can be held with very high plane accuracy without peeling or deformation. In addition to the above-described conductive ceramic films 105, 115, 125 ′, for example, ITO made of In 2 O 3 doped with Sn is used.
(Indium Tin Oxide) film or the like can also be used.
【0037】ただし、被覆する導電性セラミックス膜1
05、115、125’の膜厚は0.1〜3.0μmの
範囲で設けることが重要である。However, the conductive ceramic film 1 to be coated
It is important that the film thicknesses of 05, 115 and 125 'are provided in the range of 0.1 to 3.0 μm.
【0038】これは、膜厚が0.1μm未満であると、
高硬度の導電性セラミックス膜105、115、12
5’と言えども摩耗する恐れがあるからであり、逆に、
膜厚が3.0μmより厚くなると、当接面103,11
3,123’の平面度を3μm以下とすることができな
いからである。When the film thickness is less than 0.1 μm,
High hardness conductive ceramics film 105, 115, 12
This is because even if it is 5 ', it may be worn, and conversely,
When the film thickness becomes thicker than 3.0 μm, the contact surfaces 103, 11
This is because the flatness of 3,123 ′ cannot be set to 3 μm or less.
【0039】なお、上記導電性セラミック膜105、1
15、125’はPVD法やCVD法などの通常の成膜
手段により形成すれば良いが、ガラス製の保持部材に上
記導電性セラミック膜105、115、125’を被覆
する時には低温で成膜できるPVD法を用いれば、保持
部材の平面度を損なうことがなく最適である。The conductive ceramic films 105, 1
15, 125 'may be formed by a usual film forming means such as a PVD method or a CVD method, but when the glass-made holding member is coated with the conductive ceramic film 105, 115, 125', it can be formed at a low temperature. If the PVD method is used, it is optimum without impairing the flatness of the holding member.
【0040】[0040]
【表1】 [Table 1]
【0041】[0041]
(実験例1)ここで、図1に示すスペーサ11を用意
し、該スペーサ11の当接面113の面粗さを変化させ
た時の導電性セラミック膜15の密着具合および平面度
について測定した。(Experimental Example 1) Here, the spacer 11 shown in FIG. 1 was prepared, and the degree of contact and the flatness of the conductive ceramic film 15 when the surface roughness of the contact surface 113 of the spacer 11 was changed were measured. .
【0042】測定方法としては、面粗さをそれぞれ変化
させたスペーサ11の当接面113に膜厚1μmのTi
N膜を被覆し、その平面度を測定するとともに、上記T
iN膜にセロハンテープを張り付け、これを引っ張った
時に膜の剥離を生じるかどうかにより密着具合を測定し
た。As a measuring method, a Ti film having a film thickness of 1 μm is formed on the contact surface 113 of the spacer 11 having a different surface roughness.
The N film is coated, the flatness of the film is measured, and the T
A cellophane tape was attached to the iN film, and the degree of adhesion was measured depending on whether the film peeled off when the iN film was pulled.
【0043】なお、本実験では膜の剥離を生じることが
なく、かつ平面度が3μm以下のものを優れたものとし
た。In this experiment, a film that did not peel off and had a flatness of 3 μm or less was regarded as excellent.
【0044】当接面113の面粗さおよびその結果は表
2に示す通りである。The surface roughness of the contact surface 113 and the result thereof are as shown in Table 2.
【0045】[0045]
【表2】 [Table 2]
【0046】表2より判るように、試料No.1では、
被覆したTiN膜の膜厚が薄いために平面度を3μm以
下とできたものの、面粗さが中心線平均粗さ(Ra)で
0.1μm未満であるため、TiN膜が簡単に剥がれて
しまった。As can be seen from Table 2, the sample No. In 1,
Although the flatness could be set to 3 μm or less because of the thin film thickness of the covered TiN film, the TiN film was easily peeled off because the surface roughness was less than 0.1 μm in the center line average roughness (Ra). It was
【0047】また、試料No.6では、面粗さが中心線
平均粗さ(Ra)で3.0μmと大きいことからTiN
膜の剥離はなかったものの、当接面113の面粗さが粗
すぎるために、平面度を3μm以下とすることができな
かった。The sample No. In No. 6, the surface roughness is as large as 3.0 μm in terms of center line average roughness (Ra).
Although the film was not peeled off, the flatness could not be set to 3 μm or less because the surface roughness of the contact surface 113 was too rough.
【0048】これに対し、本発明に係る試料No.2〜
5は、面粗さが中心線平均粗さ(Ra)で0.1〜2.
0μmの範囲にあるため、膜剥離を生じることがなく、
また、平面度が3μm以下とすることができ、基準を満
足することができた。On the other hand, the sample No. Two
In No. 5, the surface roughness is the center line average roughness (Ra) of 0.1 to 2.
Since it is in the range of 0 μm, film peeling does not occur,
Further, the flatness could be set to 3 μm or less, and the standard could be satisfied.
【0049】(実験2)次に、導電性セラミック膜15
の膜厚を変化させた図1のスペーサ11を用意し、該ス
ペーサ11の平面度および導電性セラミック膜15の密
着具合を測定した。(Experiment 2) Next, the conductive ceramic film 15
The spacers 11 of FIG. 1 having different thicknesses were prepared, and the flatness of the spacers 11 and the degree of close contact with the conductive ceramic film 15 were measured.
【0050】なお、測定方法は実験例1と同様に導電性
セラミック膜15としてTiN膜をスペーサ11の当接
面113に被覆してその平面度を想定するとともに、上
記TiN膜にセロハンテープを張り付けて、これを引っ
張った時の膜剥離の有無を見た。ただし、当接面113
の面粗さは中心線平均粗さ(Ra)で0.2μmとし、
平面度は1μmとした。As in the case of Experimental Example 1, a TiN film was coated on the contact surface 113 of the spacer 11 as the conductive ceramic film 15 to assume its flatness, and a cellophane tape was attached to the TiN film. Then, the presence or absence of film peeling when pulled was checked. However, the contact surface 113
The surface roughness of the center line average roughness (Ra) is 0.2 μm,
The flatness was 1 μm.
【0051】そして、本実験では膜剥離を生じることが
なく、かつ平面度が3μm以下のものを優れたものとし
た。In this experiment, a film having no flatness and having a flatness of 3 μm or less was regarded as excellent.
【0052】導電性セラミック膜15の膜厚およびその
結果は表3に示す通りである。The film thickness of the conductive ceramic film 15 and the result thereof are as shown in Table 3.
【0053】[0053]
【表3】 [Table 3]
【0054】表3より判るように、試料Aでは、膜厚が
0.05μmと薄肉であるため、スペーサ11の平面度
を3μm以下とできたものの、十分な密着強度が得られ
ず、簡単にTiN膜の剥離を生じた。As can be seen from Table 3, in the sample A, since the film thickness is as thin as 0.05 μm, the flatness of the spacer 11 can be set to 3 μm or less, but sufficient adhesion strength cannot be obtained, and it is easy to obtain. Peeling of the TiN film occurred.
【0055】また、試料Gでは、膜厚が4.0μmと厚
くバラツキを生じたことから平面度が3.6μmと、3
μm以下にすることができなかった。Further, in the sample G, the film thickness was as thick as 4.0 μm, so that the flatness was 3.6 μm and 3 μm.
It could not be reduced to less than μm.
【0056】これに対し、本発明に係る試料No.B〜
Fは、膜厚が0.1〜3.0μmであるために膜の剥離
を生じることがなく、また、保持部材の平面度を3.0
μm以下に抑えることができた。On the other hand, the sample No. B ~
Since F has a film thickness of 0.1 to 3.0 μm, peeling of the film does not occur, and the flatness of the holding member is 3.0.
It could be suppressed to less than μm.
【0057】(実験3)さらに、スペーサ11のエッジ
部114に形成するC面の幅Lを変えた時の導通性につ
いて測定を行った。(Experiment 3) Further, the conductivity was measured when the width L of the C surface formed on the edge portion 114 of the spacer 11 was changed.
【0058】なお、当接面113の面粗さは中心線平均
粗さ(Ra)で0.2μmとし、導電性セラミック膜1
5としてTiN膜をスペーサ11の全面に膜厚1.0μ
mとして被覆した。そして、当接面113から内周面1
16までの導通性を確認した。The surface roughness of the contact surface 113 is 0.2 μm in terms of center line average roughness (Ra).
5, a TiN film is formed on the entire surface of the spacer 11 with a thickness of 1.0 μm.
coated as m. Then, from the contact surface 113 to the inner peripheral surface 1
Conductivity up to 16 was confirmed.
【0059】それぞれの結果は表4に示す通りである。The respective results are shown in Table 4.
【0060】[0060]
【表4】 [Table 4]
【0061】表4より判るように、C面の幅Lが0.0
3mm以下では、エッジ部114にC面加工を施したと
してもシャープエッジと変わらないために、この箇所で
の膜厚が薄くなり導通が取れず、C面の幅Lが0.04
mmより導通が取れた。このことから保持部材の内外の
エッジ部114に形成するC面の幅Lは0.04mm以
上とすれば良いことが判る。As can be seen from Table 4, the width L of the C surface is 0.0
If the thickness is 3 mm or less, even if the C-plane processing is performed on the edge portion 114, the edge is the same as the sharp edge.
Continuity was obtained from mm. From this, it is understood that the width L of the C surface formed on the inner and outer edge portions 114 of the holding member should be 0.04 mm or more.
【0062】なお、本実験ではスペーサ11のエッジ部
114にC面を形成した例を示したが、テーパ面または
曲面であっても同様の結果が得られた。In this experiment, an example in which the C surface is formed on the edge portion 114 of the spacer 11 is shown, but the same result is obtained even if the surface is a tapered surface or a curved surface.
【0063】[0063]
【発明の効果】以上のように、本発明は、セラミックス
またはガラスからなるシム、クランプ、およびスペーサ
などの保持部材のうち、該保持部材の内外のエッジ部に
幅が0.04〜0.5μmのテーパ面または曲面を備
え、かつ少なくとも磁気ディスクとの当接面および内周
面に膜厚0.1〜3μmの導電性セラミック膜を被覆し
たことにより、磁気ディスクに帯電した静電気を効率良
く逃がすことができるとともに、当接面を殆ど摩耗させ
ることがない。しかも、本発明では、上記導電性セラミ
ック膜としてTiC、TiN、ZrN、HfC、Ta
C、ZrC、WC、VC、NbC、TiB2 、In2 O
3 のうち1種を被覆してあることから、保持部材および
磁気ディスクの熱膨張係数と同じあるいは近似させるこ
とができるため、高速回転に伴う熱により膜の剥離を生
じることがなく、その結果、磁気ディスクに歪みを生じ
させることがないため、非常に高い平坦精度でもって磁
気ディスクを保持することができる。As described above, according to the present invention, among the holding members such as shims, clamps and spacers made of ceramics or glass, the width of 0.04 to 0.5 μm is provided at the inner and outer edge portions of the holding members. By providing a taper surface or a curved surface and coating at least the contact surface with the magnetic disk and the inner peripheral surface with a conductive ceramic film having a thickness of 0.1 to 3 μm, the static electricity charged on the magnetic disk can be efficiently released. In addition, the contact surface is hardly worn. Moreover, in the present invention, as the conductive ceramic film, TiC, TiN, ZrN, HfC, Ta is used.
C, ZrC, WC, VC, NbC, TiB 2 , In 2 O
Since one of the three is coated, the coefficient of thermal expansion of the holding member and the magnetic disk can be equal to or approximate to that of the holding member, so that the film is not peeled off by the heat accompanying the high speed rotation. Since the magnetic disk is not distorted, the magnetic disk can be held with extremely high flatness accuracy.
【0064】また、本発明では、回転軸に固定した導電
性材料からなるハブに、セラミックスまたはガラスから
なるリング体であって、内外のエッジ部に幅が0.04
〜0.5μmのテーパ面または曲面を備え、かつ少なく
とも磁気ディスクとの当接面および内周面に膜厚0.1
〜3μmの導電性セラミック膜を被覆してなる保持部材
を介して一枚または複数枚のセラミックスあるいはガラ
スからなる磁気ディスクを保持して磁気ディスク装置を
構成したことにより、磁気ヘッドの磁気ディスクに対す
る浮上量を極めて小さくすることができ、高密度記録
(大容量化)を実現できるとともに、磁気ディスクに帯
電する静電気を保持部材、ハブを介して効率良く逃がす
ことができるため、記録内容の破壊を防止することがで
きる。Further, according to the present invention, the hub made of a conductive material is fixed to the rotating shaft, and the ring body is made of ceramics or glass.
A taper surface or a curved surface of 0.5 μm, and a film thickness of 0.1 at least on the contact surface with the magnetic disk and the inner peripheral surface.
The magnetic head floats above the magnetic disk by constructing the magnetic disk device by holding one or more magnetic disks made of ceramics or glass via a holding member formed by coating a conductive ceramic film of 3 .mu.m. The amount can be made extremely small, high-density recording (large capacity) can be realized, and the static electricity charged on the magnetic disk can be efficiently dissipated via the holding member and hub, preventing the recorded contents from being destroyed. can do.
【図1】本発明に係る保持部材の一例であるスペーサを
示す図であり、(a)は斜視図、(b)は断面図であ
る。1A and 1B are views showing a spacer which is an example of a holding member according to the present invention, in which FIG. 1A is a perspective view and FIG. 1B is a sectional view.
【図2】本発明に係る保持部材の一例であるシムを示す
図であり、(a)は斜視図、(b)は断面図である。2A and 2B are diagrams showing a shim which is an example of a holding member according to the present invention, in which FIG. 2A is a perspective view and FIG. 2B is a sectional view.
【図3】本発明に係る保持部材の一例であるクランプを
示す図であり、(a)は斜視図、(b)は断面図であ
る。3A and 3B are views showing a clamp which is an example of a holding member according to the present invention, in which FIG. 3A is a perspective view and FIG. 3B is a sectional view.
【図4】図1の主要部を示す拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view showing a main part of FIG.
【図5】本発明に係る磁気ディスク装置を示す縦断面図
である。FIG. 5 is a vertical cross-sectional view showing a magnetic disk device according to the present invention.
11:スペーサ 112:リング体 113:当接面 114:エッジ部 115:導電性セラミック膜 116:内周面 10:シム 12:クランプ 13:回転軸 14:ハブ 15:磁気ディスク 17:磁気ヘッド 11: Spacer 112: Ring body 113: Contact surface 114: Edge part 115: Conductive ceramic film 116: Inner peripheral surface 10: Shim 12: Clamp 13: Rotating shaft 14: Hub 15: Magnetic disk 17: Magnetic head
Claims (3)
リング状をしたセラミックスまたはガラスからなる保持
部材であって、該保持部材の内外のエッジ部に幅が0.
04〜0.5mmのテーパ面または曲面を備え、かつ少
なくとも磁気ディスクとの当接面および内周面に膜厚
0.1〜3μmの導電性セラミック膜を被覆してなる磁
気ディスク保持部材。1. A holding member made of ring-shaped ceramics or glass for holding a magnetic disk at a predetermined position, the inner and outer edges of the holding member having a width of 0.
A magnetic disk holding member having a tapered surface or a curved surface of 04 to 0.5 mm and having at least a contact surface with a magnetic disk and an inner peripheral surface coated with a conductive ceramic film having a film thickness of 0.1 to 3 μm.
に、セラミックスまたはガラスからなるリング体であっ
て、内外のエッジ部に幅が0.04〜0.5mmのテー
パ面または曲面を備え、かつ少なくとも磁気ディスクと
の当接面および内周面に膜厚0.1〜3μmの導電性セ
ラミック膜を被覆してなる保持部材を介して一枚または
複数枚のセラミックスまたはガラスからなる磁気ディス
クを保持してなる磁気ディスク装置。2. A hub made of a conductive material fixed to a rotating shaft, which is a ring body made of ceramics or glass, and has tapered surfaces or curved surfaces with a width of 0.04 to 0.5 mm at inner and outer edge portions. And a magnetic disk made of one or more ceramics or glass via a holding member having a conductive ceramic film having a thickness of 0.1 to 3 μm coated on at least the contact surface with the magnetic disk and the inner peripheral surface. A magnetic disk device that holds the.
N、HfC、ZrN、TaC、ZrC、WC、VC、N
bC、TiB2 、In2 O3 のうち1種からなる請求項
1に記載の磁気ディスク保持部材乃至請求項2に記載の
磁気ディスク装置。3. The conductive ceramic film comprises TiC, Ti
N, HfC, ZrN, TaC, ZrC, WC, VC, N
The magnetic disk holding member according to claim 1 or the magnetic disk device according to claim 2, wherein the magnetic disk holding member is formed of one of bC, TiB 2 , and In 2 O 3 .
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19529895A JP2941691B2 (en) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | Magnetic disk holding member and magnetic disk device |
US08/609,136 US5969902A (en) | 1995-03-15 | 1996-02-29 | Support magnetic disk substrate and magnetic disk unit using the support member composed of Forsterite and an iron based component |
US09/262,892 US6215617B1 (en) | 1995-03-15 | 1999-03-08 | Support member for magnetic disk substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19529895A JP2941691B2 (en) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | Magnetic disk holding member and magnetic disk device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0944969A true JPH0944969A (en) | 1997-02-14 |
JP2941691B2 JP2941691B2 (en) | 1999-08-25 |
Family
ID=16338834
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19529895A Expired - Fee Related JP2941691B2 (en) | 1995-03-15 | 1995-07-31 | Magnetic disk holding member and magnetic disk device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2941691B2 (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002015977A (en) * | 2000-06-29 | 2002-01-18 | Kyocera Corp | Wafer holder |
US7179550B2 (en) | 2002-03-28 | 2007-02-20 | Kyocera Corporation | Member for supporting magnetic disc substrates, process of producing the same, and magnetic disc device using the same |
US20110128651A1 (en) * | 2008-09-11 | 2011-06-02 | Takako Hayakawa | Electrically conductive spacer and disk drive including the electrically conductive spacer |
JP2019125413A (en) * | 2017-09-29 | 2019-07-25 | Hoya株式会社 | Glass spacer and hard disk drive device |
WO2019151459A1 (en) * | 2018-02-01 | 2019-08-08 | Hoya株式会社 | Glass spacer, hard disk drive device, and method for producing glass spacer |
CN115176310A (en) * | 2020-03-06 | 2022-10-11 | 豪雅株式会社 | Method for manufacturing glass spacer, and hard disk drive device |
-
1995
- 1995-07-31 JP JP19529895A patent/JP2941691B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002015977A (en) * | 2000-06-29 | 2002-01-18 | Kyocera Corp | Wafer holder |
US7179550B2 (en) | 2002-03-28 | 2007-02-20 | Kyocera Corporation | Member for supporting magnetic disc substrates, process of producing the same, and magnetic disc device using the same |
US7584631B2 (en) | 2002-03-28 | 2009-09-08 | Kyocera Corporation | Member for supporting magnetic disc substrates, process of producing the same, and magnetic disc device using the same |
US20110128651A1 (en) * | 2008-09-11 | 2011-06-02 | Takako Hayakawa | Electrically conductive spacer and disk drive including the electrically conductive spacer |
US8189289B2 (en) * | 2008-09-11 | 2012-05-29 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Electrically conductive spacer and disk drive including the electrically conductive spacer |
US11705158B2 (en) | 2017-09-29 | 2023-07-18 | Hoya Corporation | Method for manufacturing ring-shaped glass spacer |
JP2019125413A (en) * | 2017-09-29 | 2019-07-25 | Hoya株式会社 | Glass spacer and hard disk drive device |
WO2019151459A1 (en) * | 2018-02-01 | 2019-08-08 | Hoya株式会社 | Glass spacer, hard disk drive device, and method for producing glass spacer |
US11031038B2 (en) | 2018-02-01 | 2021-06-08 | Hoya Corporation | Glass spacer, hard disk drive apparatus, and method for manufacturing glass spacer |
US11682425B2 (en) | 2018-02-01 | 2023-06-20 | Hoya Corporation | Glass spacer, hard disk drive apparatus, and method for manufacturing glass spacer |
JPWO2019151459A1 (en) * | 2018-02-01 | 2020-04-23 | Hoya株式会社 | Glass spacer, hard disk drive device, and glass spacer manufacturing method |
CN115176310A (en) * | 2020-03-06 | 2022-10-11 | 豪雅株式会社 | Method for manufacturing glass spacer, and hard disk drive device |
US11869538B2 (en) | 2020-03-06 | 2024-01-09 | Hoya Corporation | Method for manufacturing glass spacer, glass spacer, and hard disk drive device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2941691B2 (en) | 1999-08-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5336550A (en) | Carbon overcoat for magnetic head sliders | |
US5939133A (en) | Method of manufacturing a slider having a carbon overcoat and an electrically conductive adhesive layer | |
US5969902A (en) | Support magnetic disk substrate and magnetic disk unit using the support member composed of Forsterite and an iron based component | |
JPH0944969A (en) | Magnetic disk holding member and magnetic disk device | |
US6122148A (en) | Magnetic head slider and method of production thereof | |
JP3220288B2 (en) | Magnetic disk substrate holding member and magnetic disk device using the same | |
JP3140276B2 (en) | Magnetic disk substrate holding member and magnetic disk device using the same | |
JPH0320812B2 (en) | ||
JPH08315533A (en) | Holding member for magnetic disc substrate and magnetic disc employing it | |
JPH1049850A (en) | Magnetic disc recording apparatus | |
JPH07182628A (en) | Magnetic head, magnetic memory, and magnetic disc memory | |
JP2785650B2 (en) | Protective layer for magnetic head slider | |
JP4312916B2 (en) | Substrate support device for film formation | |
JPH0626012B2 (en) | Magnetic disk substrate | |
JP2943952B2 (en) | optical disk | |
JP3302551B2 (en) | Tape cleaner | |
JPH07101502B2 (en) | Magnetic recording medium | |
JPH10188506A (en) | Protective layer for magnetic head slider | |
JPH0746421B2 (en) | Magnetic disk | |
JPS62289913A (en) | Magnetic recording medium | |
EP0618573A1 (en) | Video cassette recorder with an improved head drum | |
JPH0696441A (en) | Magnetic recording medium | |
JP3287063B2 (en) | Ceramic material for floating magnetic head and floating magnetic head using the same | |
JPH0451889B2 (en) | ||
JPH07121853A (en) | Magnetic recording medium |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |