JPH08315533A - Holding member for magnetic disc substrate and magnetic disc employing it - Google Patents
Holding member for magnetic disc substrate and magnetic disc employing itInfo
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- JPH08315533A JPH08315533A JP28422195A JP28422195A JPH08315533A JP H08315533 A JPH08315533 A JP H08315533A JP 28422195 A JP28422195 A JP 28422195A JP 28422195 A JP28422195 A JP 28422195A JP H08315533 A JPH08315533 A JP H08315533A
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- Holding Or Fastening Of Disk On Rotational Shaft (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータの外
部記憶装置として用いられる磁気ディスク装置、および
これに用いる磁気ディスク基板用保持部材に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk device used as an external storage device of a computer and a magnetic disk substrate holding member used for the magnetic disk device.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、磁気ディスク装置は、図5に示す
ように、回転軸10に固定されたハブ11に、複数枚の
磁気ディスク基板12とスペーサ20とを交互に挿入
し、最後にシム30およびクランプ40で押さえ付け、
ネジ13で締め付けることにより固定するようになって
いる。そして、上記回転軸10の回転により磁気ディス
ク基板12を回転させながら、磁気ヘッド14が磁気デ
ィスク基板12の表面上を非接触状態で移動することに
より、磁気ディスク基板12の所定位置に情報の書き込
みや読み取りを行うようになっていた。2. Description of the Related Art Conventionally, as shown in FIG. 5, in a magnetic disk device, a plurality of magnetic disk substrates 12 and spacers 20 are alternately inserted into a hub 11 fixed to a rotary shaft 10, and finally a shim is inserted. 30 and clamp 40,
It is fixed by tightening with a screw 13. Then, while the magnetic disk substrate 12 is rotated by the rotation of the rotating shaft 10, the magnetic head 14 moves on the surface of the magnetic disk substrate 12 in a non-contact state, thereby writing information at a predetermined position on the magnetic disk substrate 12. I was supposed to read.
【0003】また、近年、このような磁気ディスク装置
50は情報の高密度化に伴い磁気ヘッド14と磁気ディ
スク基板12との距離を極めて微小な浮上量とすること
が要求されており、その為、磁気ディスク基板12は高
剛性でかつ変形を生じ難いセラミックスやガラスにより
形成され、また、磁気ディスク基板12を固定するスペ
ーサ20、シム30、およびクランプ40などの保持部
材は熱膨張差に伴う磁気ディスク基板12の変形を生じ
させないようにするために、磁気ディスク基板12と同
じセラミックスやガラスで形成されたものがあった(特
公平5−80745号公報、特開昭61−148667
号公報)。In recent years, such a magnetic disk device 50 is required to make the distance between the magnetic head 14 and the magnetic disk substrate 12 extremely small as the information density increases. The magnetic disk substrate 12 is made of ceramics or glass that has high rigidity and does not easily deform, and the holding members such as the spacers 20, the shims 30, and the clamps 40 that fix the magnetic disk substrate 12 are magnetic due to the difference in thermal expansion. In order to prevent the disk substrate 12 from being deformed, there has been one formed of the same ceramic or glass as the magnetic disk substrate 12 (Japanese Patent Publication No. 5-80745, Japanese Patent Laid-Open No. 61-148667).
Issue).
【0004】例えば、磁気ディスク基板12を所定間隔
に保持するスペーサ20は、図8に示すようにアルミナ
セラミックスからなり、リング体21に形成したもので
あった。For example, the spacer 20 for holding the magnetic disk substrate 12 at a predetermined interval was made of alumina ceramics and formed on the ring body 21 as shown in FIG.
【0005】一方、特開昭51−118408号公報に
は、クランプ時に磁気ディスク基板12に加わる応力を
緩和するために、磁気ディスク基板12との当接面に複
数の空気溝を放射状に刻設し、該空気溝に空気層を形成
するようにしたスペーサやシムなどの保持部材も開示さ
れている。On the other hand, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-118408, a plurality of air grooves are radially formed on the contact surface with the magnetic disk substrate 12 in order to relieve the stress applied to the magnetic disk substrate 12 during clamping. However, a holding member such as a spacer or a shim configured to form an air layer in the air groove is also disclosed.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記スペー
サ20、シム30、およびクランプ40などの保持部材
を構成するセラミックスまたはガラスは脆性材料である
ために、クランプ時の応力によりエッジ部に欠けを生じ
る恐れがあった。そして、この破片が磁気ディスク基板
12とその上を浮上する磁気ヘッド14との間隙に入り
込むと、磁気ディスク基板12に傷を付けたり、磁気ヘ
ッド14を破損させる恐れがあった。However, since the ceramics or glass forming the holding member such as the spacer 20, the shim 30, and the clamp 40 is a brittle material, the edge portion is chipped due to the stress during clamping. I was afraid. If the fragments enter the gap between the magnetic disk substrate 12 and the magnetic head 14 floating above the magnetic disk substrate 12, the magnetic disk substrate 12 may be scratched or the magnetic head 14 may be damaged.
【0007】一方、クランプ時に磁気ディスク基板12
に加わる応力を緩和するために、当接面に空気溝を形成
し、そこに空気層を形成するようにした保持部材では、
当接面に占める上記空気溝の割合が大きいと磁気ディス
ク基板12との接触面積が小さくなり過ぎるために、磁
気ディスク基板12に歪みを生じる恐れがあった。その
為、クランプ時における磁気ディスク基板12の平面度
を小さくすることができず、磁気ヘッド14の浮上量を
微小量とすることができなかった。特に、磁気ディスク
基板12がV字状に歪むと、磁気ヘッド14が磁気ディ
スク基板12と衝突して破損してしまうといった課題が
あった。On the other hand, at the time of clamping, the magnetic disk substrate 12
In order to relieve the stress applied to the holding member, an air groove is formed on the contact surface, and an air layer is formed on the air groove.
If the ratio of the air grooves to the contact surface is large, the contact area with the magnetic disk substrate 12 becomes too small, which may cause distortion in the magnetic disk substrate 12. Therefore, the flatness of the magnetic disk substrate 12 at the time of clamping cannot be reduced, and the flying height of the magnetic head 14 cannot be made minute. In particular, when the magnetic disk substrate 12 is distorted in a V shape, the magnetic head 14 collides with the magnetic disk substrate 12 and is damaged.
【0008】また、近年、情報の読み取りや書き込みの
際に磁気ディスク基板12に静電気が帯電し、ノイズを
生じて記録内容を破壊してしまう恐れがあることが知ら
れているが、セラミックスやガラスは一般的に絶縁性材
料であることから、磁気ディスク基板12の帯電を防ぐ
ことができなかった。In recent years, it has been known that static electricity is charged on the magnetic disk substrate 12 at the time of reading and writing information, which may cause noise and destroy recorded contents. Since it is generally an insulating material, it was not possible to prevent the magnetic disk substrate 12 from being charged.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】そこで、本発明では上記
問題に鑑み、シム、クランプ、およびスペーサなどの保
持部材をセラミックスまたはガラスにより形成するとと
もに、磁気ディスク基板との実当接面積率を50〜95
%とし、かつ当接面の平坦度を3μm以下としたもので
ある。In view of the above problems, the present invention forms holding members such as shims, clamps, and spacers from ceramics or glass, and has an actual contact area ratio with a magnetic disk substrate of 50. ~ 95
%, And the flatness of the contact surface is 3 μm or less.
【0010】また、本発明は、回転軸に固定する略円筒
状をしたハブにリング状のスペーサおよびシムを介して
一枚または複数枚の磁気ディスク基板を配置し、クラン
プにより保持してなる磁気ディスク装置において、上記
磁気ディスク基板をセラミックスまたはガラスからな
り、磁気ディスク基板との実当接面積率を50〜95%
とし、かつ当接面の平坦度を3μm以下としたスペーサ
およびシムにより保持して磁気ディスク装置を構成した
ものである。Further, according to the present invention, one or a plurality of magnetic disk substrates are arranged on a hub having a substantially cylindrical shape which is fixed to a rotating shaft through a ring-shaped spacer and a shim, and the magnetic disk substrates are held by a clamp. In the disk device, the magnetic disk substrate is made of ceramics or glass, and the actual contact area ratio with the magnetic disk substrate is 50 to 95%.
In addition, the magnetic disk device is constituted by holding the contact surface with a spacer and a shim having a flatness of 3 μm or less.
【0011】さらに、本発明は、上記シムやクランプな
どの保持部材の当接面に鉛直方向の貫通孔を穿設し、該
貫通孔の内部にバネを配設するか、あるいは貫通孔に導
電性材料を充填、またはその表面に被覆して上下当接面
間の導通をとり、磁気ディスク基板の帯電を防止するよ
うにしたものである。Further, according to the present invention, a vertical through hole is formed in the contact surface of the holding member such as the shim or clamp, and a spring is provided inside the through hole, or the through hole is electrically conductive. A magnetic material is filled or coated on the surface of the magnetic material so as to establish continuity between the upper and lower contact surfaces to prevent the magnetic disk substrate from being charged.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明実施例を説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.
【0013】図1(a)および(b)は本発明に係る保
持部材を示す斜視図であり、(a)はスペーサ、(b)
はクランプである。1A and 1B are perspective views showing a holding member according to the present invention, wherein FIG. 1A is a spacer, and FIG.
Is a clamp.
【0014】まず、図1(a)に示すように、スペーサ
20はセラミックスまたはガラスからなるリング体21
であって、その内外のエッジ部23a,23bには欠け
を防止するために面取り部として焼成したままのC面を
形成してある。First, as shown in FIG. 1A, the spacer 20 is a ring body 21 made of ceramics or glass.
In order to prevent chipping, the inner and outer edge portions 23a and 23b have chamfered C faces as they are baked.
【0015】また、当接面22は固定した磁気ディスク
基板が高速回転に伴い回動しないようにするために中心
線平均粗さ(Ra)で0.2〜2.0μmの面粗さとす
るとともに、クランプした際に磁気ディスク基板に歪み
を生じさせないようにするために当接面22の平坦度を
3μm以下としてあり、さらに磁気ディスク基板を所定
の間隔に保持させるために上下の当接面22の平行度を
5μm以下としてある。The contact surface 22 has a center line average roughness (Ra) of 0.2 to 2.0 .mu.m so that the fixed magnetic disk substrate does not rotate with high speed rotation. The flatness of the contact surface 22 is set to 3 μm or less to prevent the magnetic disk substrate from being distorted when clamped, and the upper and lower contact surfaces 22 are used to hold the magnetic disk substrate at a predetermined interval. Has a parallelism of 5 μm or less.
【0016】なお、シム30については図示していない
が、上記スペーサ20と同じ形状で、やや薄型のもので
ある。Although the shim 30 is not shown, it has the same shape as the spacer 20 and is slightly thin.
【0017】次に、図1(b)に示すように、クランプ
40はセラミックスまたはガラスからなる円板状をした
板状体41であって、その当接面42はスペーサ20と
同様に磁気ディスク基板が歪むことを防止するととも
に、回動しないようにするために中心線平均粗さ(R
a)で0.2〜2.0μmの面粗さとするとともに、平
坦度を3μm以下としてある。また、当接面42の中央
にはハブの先端部分と係合する凹部44が設けてあり、
該凹部44のエッジ部43aおよび板状体41の外周エ
ッジ部43bには面取り部として焼成したままのC面を
形成してある。Next, as shown in FIG. 1B, the clamp 40 is a disk-shaped plate 41 made of ceramics or glass, and its abutting surface 42 is the same as the spacer 20 in the magnetic disk. In order to prevent the substrate from distorting and prevent it from rotating, the center line average roughness (R
In a), the surface roughness is 0.2 to 2.0 μm, and the flatness is 3 μm or less. In addition, a concave portion 44 that engages with the tip portion of the hub is provided at the center of the contact surface 42,
An edge portion 43a of the recessed portion 44 and an outer peripheral edge portion 43b of the plate-like body 41 have chamfered portions which are C-planes as they are baked.
【0018】また、上述したスペーサ20、シム30、
およびクランプ40などの保持部材の他の例として貫通
孔や溝を設けたものであっても良い。The spacer 20, shim 30, and
As another example of the holding member such as the clamp 40, a through hole or a groove may be provided.
【0019】例えば、図2(a)に示すスペーサ20
は、当接面22に4つの貫通孔22aを穿設してあり、
このような構造とすることでスペーサ20の重量を低減
することができる。そして、このスペーサ20を用いて
磁気ディスク基板12を保持すれば、回転軸10にかか
る重量を大幅に低減することができるため、小さなトル
クで磁気ディスク基板12を高速回転させることができ
る。なお、当接面22に穿設する貫通孔22aは少なく
とも2つ以上を等間隔で穿設してあれば良い。For example, the spacer 20 shown in FIG.
Has four through holes 22a formed in the contact surface 22,
With such a structure, the weight of the spacer 20 can be reduced. If the spacer 20 is used to hold the magnetic disk substrate 12, the weight applied to the rotating shaft 10 can be significantly reduced, and therefore the magnetic disk substrate 12 can be rotated at high speed with a small torque. In addition, at least two or more through holes 22a formed in the contact surface 22 may be formed at equal intervals.
【0020】また、図2(b)に示すスペーサ20は、
図2(a)に示すスペーサ20と同様に当接面22に4
つの上記貫通孔22aを穿設してあり、さらに該貫通孔
22aには両端が各当接面22より若干突出するように
金属など導電性を有する材質からなるバネ25を配設し
てある。その為、このスペーサ20を用いて磁気ディス
ク基板12を保持すれば、バネ25の両端は弾性作用に
より貫通孔22a内に収納することができるために磁気
ディスク基板12を変形させることがなく、また、バネ
25の両端はスペーサ20の上下当接面22に配置する
磁気ディスク基板12と接触しているため、磁気ディス
ク基板12に帯電する静電気を逃がし、記録内容が破壊
されることを防ぐことができる。Further, the spacer 20 shown in FIG.
As with the spacer 20 shown in FIG.
The two through holes 22a are bored, and the through holes 22a are provided with springs 25 made of a conductive material such as metal so that both ends thereof slightly project from the contact surfaces 22. Therefore, if the spacer 20 is used to hold the magnetic disk substrate 12, both ends of the spring 25 can be housed in the through holes 22a by the elastic action, so that the magnetic disk substrate 12 is not deformed. Since both ends of the spring 25 are in contact with the magnetic disk substrate 12 arranged on the upper and lower abutting surfaces 22 of the spacer 20, static electricity charged on the magnetic disk substrate 12 can be released to prevent the recorded contents from being destroyed. it can.
【0021】なお、バネ25は、磁気ディスク装置50
の組み立て時に、スペーサ20の貫通孔22aに挿入す
るようにしても良く、また、組み立て作業効率を高める
ために、貫通孔22a内にバネ25を配設するととも
に、接着剤等により固着させても良い。The spring 25 is used for the magnetic disk device 50.
May be inserted into the through hole 22a of the spacer 20 at the time of assembling, and the spring 25 may be disposed in the through hole 22a and fixed by an adhesive or the like in order to improve the efficiency of the assembly work. good.
【0022】図2(c)に示すスペーサ20は、バネ2
5の代わりに貫通孔22a内に導電性材料26を充填
し、上下の当接面22の導通がとれるようにしたもので
ある。なお、導電性材料26の表面は全面が当接面22
と同一平面上にある必要はなく、一部が上下の各当接面
22と同一平面上にあれば良い。なお、導電性材料26
としては、アルミニウム、亜鉛、カーボンなどの金属
や、導電性を有する樹脂などを使用すれば良い。The spacer 20 shown in FIG.
Instead of 5, the through hole 22a is filled with a conductive material 26 so that the upper and lower contact surfaces 22 can be electrically connected. The entire surface of the conductive material 26 is the contact surface 22.
Does not have to be on the same plane as that of the above, but a part thereof may be on the same plane as the upper and lower contact surfaces 22. The conductive material 26
For this, a metal such as aluminum, zinc, or carbon, or a resin having conductivity may be used.
【0023】また、図2(d)に示すスペーサ20は、
貫通孔22aの内壁面に導電膜27を被覆したものであ
り、軽量でかつ上下の当接面22の導通がとれるように
してある。なお、上記貫通孔22aのエッジ部にはC面
等の面取りを施してあり、該C面にも導電膜27を被覆
してある。Further, the spacer 20 shown in FIG.
The inner wall surface of the through hole 22a is coated with a conductive film 27, which is lightweight and allows the upper and lower contact surfaces 22 to be electrically connected. The edge portion of the through hole 22a is chamfered such as a C surface, and the C surface is also covered with the conductive film 27.
【0024】従って、上記図2(c)、(d)に示すス
ペーサ20を用いても磁気ディスク基板12に帯電する
静電気を逃がすことができる。Therefore, even if the spacer 20 shown in FIGS. 2C and 2D is used, the static electricity charged on the magnetic disk substrate 12 can be released.
【0025】また、図2(e)に示すスペーサ20のよ
うに、上下の当接面22にそれぞれ複数の空気溝22b
を放射状に形成したものであり、このような構造とする
ことで、スペーサ20の重量低減は勿論のこと、上記空
気溝22bに空気層を形成することで、クランプ時に磁
気ディスク基板12に加わる応力を緩和して磁気ディス
ク基板12に生じる歪みを軽減することができる。Further, like the spacer 20 shown in FIG. 2 (e), a plurality of air grooves 22b are provided on the upper and lower contact surfaces 22, respectively.
Is formed in a radial shape. With such a structure, not only the weight of the spacer 20 is reduced, but also by forming an air layer in the air groove 22b, the stress applied to the magnetic disk substrate 12 at the time of clamping is reduced. Can be alleviated to reduce the distortion generated in the magnetic disk substrate 12.
【0026】次に、これらのスペーサ20、シム30、
クランプ40により磁気ディスク基板12を保持した磁
気ディスク装置50を図5に示す。Next, these spacers 20, shims 30,
A magnetic disk device 50 holding the magnetic disk substrate 12 by the clamp 40 is shown in FIG.
【0027】回転軸10にフランジ部11aを備えた金
属製の略円筒体15をしたハブ11を固定し、該ハブ1
1のフランジ部11aに、複数の磁気ディスク基板12
とスペーサ20とを交互に挿入し、最後にシム30およ
びクランプ40で押さえ付けることにより、ハブ11の
フランジ部11aとクランプ40とで磁気ディスク基板
12を挾持するとともに、スペーサ20(シム30)に
より磁気ディスク基板12を所定間隔に保持してあり、
さらに、ネジ13でもってクランプ40をハブ11に締
め付けることで磁気ディスク基板12を固定するように
してある。そして、回転軸10を介して磁気ディスク基
板12を高速回転させながら、磁気ディスク基板12の
表面上に微小距離を隔てて浮上させた磁気ヘッド14で
もって、情報の書き込みおよび読み出しを行うようにな
っている。A hub 11 having a substantially cylindrical metal body 15 having a flange portion 11a is fixed to the rotary shaft 10, and the hub 1 is fixed.
A plurality of magnetic disk substrates 12 on the flange portion 11a of
And the spacer 20 are alternately inserted, and finally, the shim 30 and the clamp 40 hold the magnetic disk substrate 12 between the flange portion 11a of the hub 11 and the clamp 40, and the spacer 20 (the shim 30) is used. The magnetic disk substrate 12 is held at a predetermined interval,
Further, the magnetic disk substrate 12 is fixed by fastening the clamp 40 to the hub 11 with the screw 13. Then, while the magnetic disk substrate 12 is rotated at a high speed via the rotary shaft 10, the magnetic head 14 floated above the surface of the magnetic disk substrate 12 with a minute distance to write and read information. ing.
【0028】また、上記磁気ディスク装置50に備える
磁気ディスク基板12としては、情報の高密度化に伴い
軽量かつ高剛性で、しかも変形を生じ難いアルミナなど
のセラミックスまたはガラスにより形成してあり、セラ
ミック製の基板においては、表面にグレーズ層を形成
し、該グレーズ層上に磁性膜を形成することで磁気ディ
スク基板12を得ることができ、ガラス製の基板では、
その表面に磁性膜を形成することにより磁気ディスク基
板12を得ることができる。さらに他の基板材料として
チタン、シリコン、YAG、カーボン等を用いることも
できる。The magnetic disk substrate 12 provided in the magnetic disk device 50 is made of ceramics such as alumina or glass which is lightweight and has high rigidity and is hard to be deformed as information density is increased. In a substrate made of glass, a magnetic disk substrate 12 can be obtained by forming a glaze layer on the surface and forming a magnetic film on the glaze layer.
The magnetic disk substrate 12 can be obtained by forming a magnetic film on the surface thereof. Furthermore, titanium, silicon, YAG, carbon or the like can be used as another substrate material.
【0029】特に、上記磁気ディスク基板12を本発明
に係る保持部材を用いて保持すれば、磁気ディスク基板
12の熱膨張係数と同じあるいは近似させることができ
るため、熱膨張差に伴う磁気ディスク基板12の歪みを
解消し、磁気ヘッド14の浮上量を極めて小さくするこ
とができ、情報記録密度を向上させることができる。な
お、図3に示す磁気ディスク装置50では、最上部の磁
気ディスク基板12とクランプ40との間にシム30を
介して保持させてあるが、この他にクランプ40を最上
部の磁気ディスク基板12と直接当接させて保持する構
造としても良く、この場合には図1(b)に示すクラン
プ40を用いれば、精度良く磁気ディスク基板12を保
持することができる。また、ハブ11のフランジ部11
aと磁気ディスク基板12との間に配置するスペーサ2
0を取り除き直接当接させて保持する構造としても良
く、この場合、磁気ディスク基板12との熱膨張差をな
くすためにハブ11もセラミックスまたはガラスで形成
することが好ましい。In particular, if the magnetic disk substrate 12 is held by using the holding member according to the present invention, the coefficient of thermal expansion of the magnetic disk substrate 12 can be made equal to or approximate to that of the magnetic disk substrate 12. The distortion of No. 12 can be eliminated, the flying height of the magnetic head 14 can be made extremely small, and the information recording density can be improved. In the magnetic disk device 50 shown in FIG. 3, the shim 30 is held between the uppermost magnetic disk substrate 12 and the clamp 40, but in addition to this, the clamp 40 is held on the uppermost magnetic disk substrate 12. The magnetic disk substrate 12 can be accurately held by using the clamp 40 shown in FIG. 1B in this case. In addition, the flange portion 11 of the hub 11
spacer 2 arranged between a and the magnetic disk substrate 12
It is also possible to have a structure in which 0 is removed and directly contacted and held. In this case, it is preferable that the hub 11 is also made of ceramics or glass in order to eliminate the difference in thermal expansion from the magnetic disk substrate 12.
【0030】ここで、上記スペーサ20、シム30、お
よびクランプ40などの保持部材をなす材質は、熱膨張
係数が20×10-6/℃以下、好ましくは12×10-6
/℃以下の表1に示すようなセラミックスまたはガラス
を用いることができる。The material forming the holding member such as the spacer 20, the shim 30, and the clamp 40 has a coefficient of thermal expansion of 20 × 10 −6 / ° C. or less, preferably 12 × 10 −6.
Ceramics or glass as shown in Table 1 below / ° C. can be used.
【0031】そして、磁気ディスク基板12の材質に応
じて、上記保持部材の材質の中から熱膨張係数の近似し
たものを用いれば良い。例えば、セラミック製の磁気デ
ィスク基板12を用いる場合には、保持部材として表1
中の熱膨張係数が10×10-6/℃以下のセラミックス
を用いれば良く、同様にガラス(熱膨張係数8.0〜9
×10-6/℃)製の磁気ディスク基板12を用いる場合
には、保持部材として表1中のフォルステライト等の熱
膨張係数8.0×10-6/℃以上のセラミックスやガラ
スを用いれば好適である。Then, depending on the material of the magnetic disk substrate 12, a material having a thermal expansion coefficient close to that of the material of the holding member may be used. For example, in the case of using the magnetic disk substrate 12 made of ceramic, as a holding member,
It suffices to use ceramics having a coefficient of thermal expansion of 10 × 10 −6 / ° C. or less, similarly to glass (coefficient of thermal expansion 8.0 to
When a magnetic disk substrate 12 made of (× 10 −6 / ° C.) is used, if ceramics or glass having a thermal expansion coefficient of 8.0 × 10 −6 / ° C. or more such as forsterite in Table 1 is used as the holding member. It is suitable.
【0032】[0032]
【表1】 [Table 1]
【0033】ところで、上記スペーサ20、シム30、
およびクランプ40などの保持部材のエッジ部23,4
3には、クランプ時の応力による欠けを防止する目的
で、保持部材のエッジ部23,43にC面やR面、ある
いはC面よりテーパ角が大きいテーパ面などの面取り部
を形成するのであるが、本発明ではこの面取り部を焼成
したままの面とすることを特徴としたものである。即
ち、焼成した保持部材のエジ23,43に面取り部を形
成しようとすると、一つの保持部材を加工するのに非常
に長い時間を要するとともに、研摩した面取り部の表面
にマイクロクラックを生じるため、クランプ時の応力に
より欠けを生じる恐れがあるのであるが、本発明のよう
に焼成したままの面取り部であれば、焼結体のもつ本来
の強度を有しているためにクランプ時の応力による欠け
を完全に防止することができる。By the way, the spacer 20, the shim 30,
And edge portions 23, 4 of the holding member such as the clamp 40
In No. 3, a chamfered portion such as a C surface, an R surface, or a tapered surface having a larger taper angle than the C surface is formed on the edge portions 23 and 43 of the holding member for the purpose of preventing chipping due to stress during clamping. However, the present invention is characterized in that the chamfered portion is a surface as it is baked. That is, if it is attempted to form a chamfered portion on the edges 23 and 43 of the fired holding member, it takes a very long time to process one holding member and microcracks are generated on the surface of the polished chamfered portion. Although there is a possibility that chipping may occur due to the stress during clamping, the chamfered part as fired as in the present invention has the original strength of the sintered body, so that the stress due to clamping causes It is possible to completely prevent chipping.
【0034】ここで、本発明で言う焼成したままの面取
り部とは、一軸加圧成形法や等圧加圧成形法、さらには
鋳込成形法などの通常の成形方法により予め所定の形状
をした面取り部を形成したあとに焼成し、焼成後には上
記面取り部に研摩や研削加工を施していない面のことで
ある。Here, the chamfered as-fired portion referred to in the present invention has a predetermined shape in advance by an ordinary molding method such as a uniaxial pressure molding method, an isobaric pressure molding method, and a cast molding method. The chamfered portion is formed and then fired, and the chamfered portion is not subjected to polishing or grinding after firing.
【0035】例えば、メカプレスなどの一軸加圧成形機
によりC面を成形する場合、図3に示すように、保持部
材のエッジ部23,43にテーパ面Tと平面Hとからな
る面取り部を一体的に成形し、そのあと焼成して外周面
を所定寸法に研摩する。この時、保持部材のエッジ部2
3,43には平面Hが切除され、C面部分が残ることに
なる。そして、このC面が本発明で言う焼成したままの
面取り部となる。なお、上述の例では平面Hを切除した
ものを示したが、平面部2が若干のこっていたり、ある
いは平面Hを全部残した保持部材であっても面取り部の
強度が低下するわけではないためになんら問題を生じる
ことはない。For example, when the C-face is formed by a uniaxial pressure forming machine such as a mechanical press, as shown in FIG. 3, the chamfered portion consisting of the tapered surface T and the flat surface H is integrally formed with the edge portions 23 and 43 of the holding member. And then fired to polish the outer peripheral surface to a predetermined size. At this time, the edge portion 2 of the holding member
The plane H is cut off at 3,43, and the C-plane portion remains. Then, the C surface becomes the chamfered portion as it is baked in the present invention. Although the flat surface H is cut off in the above example, the strength of the chamfered portion does not decrease even if the flat surface portion 2 is slightly curved or the holding member that leaves the flat surface H entirely. Will not cause any problems.
【0036】一方、上記保持部材に形成する面取り部の
量が多くなると、固定した磁気ディスク基板12に大き
な歪みを生じる恐れがある。また、当接面22,42に
形成する貫通孔22aや空気溝22bなどの占める割合
が多くなっても磁気ディスク基板12に歪みを生じる恐
れがある。On the other hand, if the amount of chamfer formed on the holding member is large, the fixed magnetic disk substrate 12 may be greatly distorted. Further, even if the ratio of the through holes 22a and the air grooves 22b formed in the contact surfaces 22 and 42 increases, the magnetic disk substrate 12 may be distorted.
【0037】その為、本発明では保持部材の実当接面積
率を50〜95%、好ましくは70〜95%の範囲で設
けてある。Therefore, in the present invention, the actual contact area ratio of the holding member is set in the range of 50 to 95%, preferably 70 to 95%.
【0038】実当接面積率とは、保持部材のエッジ部2
3,43に面取り部および貫通孔22aや空気溝22b
が形成される前の当接面22,42全体の面積に対し、
エッジ部23,43に面取り部および貫通孔22aや空
気溝22bを形成したあとの当接面22,42が占める
割合のことであり、例えば、図1(a)に示すスペーサ
20の各寸法を図4に示すように設定した場合、下式で
算出される値である。The actual contact area ratio is the edge portion 2 of the holding member.
Chamfers, through holes 22a and air grooves 22b
With respect to the total area of the contact surfaces 22 and 42 before the formation of
It is the ratio of the contact surfaces 22, 42 after the chamfered portions and the through holes 22a and the air grooves 22b are formed in the edge portions 23, 43. For example, each dimension of the spacer 20 shown in FIG. When set as shown in FIG. 4, it is a value calculated by the following equation.
【0039】式 実当接面積率(%)=(R2 −S2 )
/(P2 −Q2 )×100 そして、実当接面積率が50%未満であると、磁気ディ
スク基板12との接触面積が小さ過ぎるために、クラン
プ時に磁気ディスク基板12が歪み、磁気ヘッド14の
浮上量を小さくすることができず、さらにひどくなると
磁気ディスク基板12がV字状に歪むため、この歪みの
発生により磁気ヘッド14が接触して破損しまうからで
ある。Formula Actual contact area ratio (%) = (R 2 −S 2 ).
/ (P 2 −Q 2 ) × 100 If the actual contact area ratio is less than 50%, the contact area with the magnetic disk substrate 12 is too small, so the magnetic disk substrate 12 is distorted during clamping, and the magnetic head This is because the flying height of the magnetic head 14 cannot be reduced, and if it becomes worse, the magnetic disk substrate 12 is distorted into a V-shape, and the magnetic head 14 is contacted and damaged due to this distortion.
【0040】なお、実当接面積率の値は高ければ高い
程、磁気ディスク基板12の平面度を高めることができ
るが、実当接面積率が95%を越えると面取り量が少な
すぎるために、面取り部を設けてあったとしてもクラン
プ時の応力により欠けを生じる恐れがある。その為、実
当接面積率の上限は95%とすることが重要であり、こ
の範囲でエッジ部23,43に面取り部を形成しておけ
ばクランプ時の応力により欠けを生じることがない。The higher the actual contact area ratio, the higher the flatness of the magnetic disk substrate 12. However, if the actual contact area ratio exceeds 95%, the chamfering amount is too small. Even if the chamfered portion is provided, the chipping may occur due to the stress at the time of clamping. Therefore, it is important to set the upper limit of the actual contact area ratio to 95%, and if chamfered portions are formed in the edge portions 23 and 43 within this range, chipping will not occur due to stress during clamping.
【0041】また、本発明に係る保持部材では、実当接
面積率と同様にクランプした磁気ディスク基板12に歪
みを生じさせないようにするために当接面22,42の
平坦度を3μm以下、好ましくは1μm以下、さらに好
ましくは0.3μm以下とすることが重要である。Further, in the holding member according to the present invention, the flatness of the contact surfaces 22 and 42 is 3 μm or less in order to prevent the clamped magnetic disk substrate 12 from being distorted in the same manner as the actual contact area ratio. It is important that the thickness is preferably 1 μm or less, more preferably 0.3 μm or less.
【0042】さらに、当接面22,42は適度に粗い面
とすることが重要である。Further, it is important that the contact surfaces 22 and 42 are appropriately rough surfaces.
【0043】即ち、当接面22,42の面粗さが中心線
平均粗さ(Ra)で0.2μm未満であると、当接面2
2,42が滑らか過ぎるために高速回転する磁気ディス
ク基板12の滑りを防止できないからであり、逆に、中
心線平均粗さ(Ra)で2.0μmより大きくなると磁
気ディスク基板12に大きな歪みを生じ、平面度を2μ
m以下とすることができなくなるとともに、磁気ディス
ク基板12に傷を付ける恐れがあるからである。That is, when the surface roughness of the contact surfaces 22 and 42 is less than 0.2 μm in the center line average roughness (Ra), the contact surface 2
This is because slippage of the magnetic disk substrate 12 rotating at a high speed cannot be prevented because 2, 42 are too smooth, and conversely, when the center line average roughness (Ra) is greater than 2.0 μm, the magnetic disk substrate 12 is greatly distorted. Occurs and flatness is 2μ
This is because the magnetic disk substrate 12 cannot be set to m or less and the magnetic disk substrate 12 may be damaged.
【0044】その為、当接面22,42は、中心線平均
粗さ(Ra)で0.2μm〜2.0μmの面粗さとする
ことが良い。Therefore, it is preferable that the contact surfaces 22 and 42 have a center line average roughness (Ra) of 0.2 μm to 2.0 μm.
【0045】このように、本発明では、磁気ディスク基
板12を所定間隔に保持する保持部材をセラミックスま
たはガラスにより形成してあるため、熱膨張差に起因す
る磁気ディスク基板12の歪みを大幅に防止することが
でき、その実当接面積率を50〜95%とするととも
に、平面度を3μm以下としてあるため、磁気ディスク
基板12にV字状の歪みを生じることがなく、歪みを生
じたとしても滑らかに歪ませることができるため、安定
した情報の書き込みおよび読み取りを行うことができ
る。しかも、保持部材のエッジ部に形成する面取り部
は、焼成したままの面としてあるため、クランプ時の応
力により生じる欠けを完全に防止することができる。As described above, according to the present invention, since the holding member for holding the magnetic disk substrate 12 at a predetermined interval is made of ceramics or glass, the distortion of the magnetic disk substrate 12 due to the difference in thermal expansion is largely prevented. Since the actual contact area ratio is 50 to 95% and the flatness is 3 μm or less, no V-shaped distortion is generated on the magnetic disk substrate 12, and even if distortion is generated. Since it can be distorted smoothly, stable writing and reading of information can be performed. Moreover, since the chamfered portion formed at the edge portion of the holding member is the surface as it is baked, it is possible to completely prevent the chipping caused by the stress during clamping.
【0046】その為、上記保持部材により磁気ディスク
基板12を保持して磁気ディスク装置を構成すれば、磁
気ディスク基板12の平坦度を2μm以下とすることが
できるため、磁気ヘッドの浮上量を0.1μm以下とす
ることができ、高密度記録を実現することができる。Therefore, when the magnetic disk substrate 12 is held by the holding member to form a magnetic disk device, the flatness of the magnetic disk substrate 12 can be set to 2 μm or less, and the flying height of the magnetic head is 0. It can be set to 1 μm or less, and high density recording can be realized.
【0047】ここで、スペーサ20の実当接面積率を変
化させて、これらのスペーサ20で保持した時の磁気デ
ィスク基板12の平面度および歪み具合を光干渉計を用
いて測定した。Here, the actual contact area ratio of the spacers 20 was changed, and the flatness and distortion of the magnetic disk substrate 12 held by these spacers 20 were measured using an optical interferometer.
【0048】本測定で使用したスペーサ20は外径24
mm、内径20mmのリング体21で、内外のエッジ部
23に焼成したままの面取り部としてC面を形成したも
のであり、該スペーサ20でもって図3に示すように直
径20.97mmのセラミックス製の磁気ディスク基板
12を保持した状態での磁気ディスク基板12の平面度
および歪み具合を測定した。The spacer 20 used in this measurement has an outer diameter of 24.
mm, an inner diameter of 20 mm, a C-face is formed on the inner and outer edge portions 23 as the chamfered as-fired portion, and the spacer 20 is made of a ceramic material having a diameter of 20.97 mm as shown in FIG. The flatness and the degree of distortion of the magnetic disk substrate 12 with the magnetic disk substrate 12 being held were measured.
【0049】変化させた実当接面積率の値およびその時
の平面度は表2に示す通りであり、それぞれの歪み具合
は図6に示す通りである。The value of the changed actual contact area ratio and the flatness at that time are as shown in Table 2, and the degree of distortion of each is as shown in FIG.
【0050】また、本測定での評価基準は、磁気ディス
ク基板12にV字状の歪みがなく、かつ平面度が2μm
以下のものを優れたものとした。The evaluation criteria in this measurement are that the magnetic disk substrate 12 has no V-shaped distortion and the flatness is 2 μm.
The following were considered excellent:
【0051】[0051]
【表2】 [Table 2]
【0052】表2より判るように、試料6および7では
実当接面積率が40%以下であるために、磁気ディスク
基板12の平面度が2.1〜3.9μmと大きく歪み、
2μm以下とすることができなかった。また、図6の
(6)および(7)より判るように細長い楕円状の干渉
縞が多数見られ、その間隔は非常に狭くなっていること
から、楕円状干渉縞の長軸上の両端部には局部的な尖点
が形成され、V字状の歪みが形成されていた。As can be seen from Table 2, in Samples 6 and 7, since the actual contact area ratio is 40% or less, the flatness of the magnetic disk substrate 12 is greatly distorted to 2.1 to 3.9 μm.
It could not be set to 2 μm or less. Further, as can be seen from (6) and (7) of FIG. 6, a large number of elongated elliptical interference fringes are seen, and the intervals are very narrow. A local cusp was formed on the surface, and a V-shaped strain was formed.
【0053】これに対し、本発明に係る試料1〜5で
は、実当接面積率が50%以上であるため、磁気ディス
ク基板12の平面度を1.5μm以下とすることがで
き、基準値を満足することができた。また、図6の
(1)〜(5)を見ても判るように、干渉縞の間隔が大
きく、また、その干渉縞は細長い楕円状ではなく滑らか
な円を描いており、局部的な尖点はなかった。On the other hand, in the samples 1 to 5 according to the present invention, since the actual contact area ratio is 50% or more, the flatness of the magnetic disk substrate 12 can be set to 1.5 μm or less, which is a reference value. Was able to be satisfied. Further, as can be seen from (1) to (5) of FIG. 6, the intervals of the interference fringes are large, and the interference fringes are not elliptical elliptical but draw smooth circles. There were no points.
【0054】特に、試料1〜3の実当接面積率が70%
以上のものでは、図6の(1)〜(3)より判るように
滑らかな円を描いた干渉縞が見られることから、非常に
滑らかな円錐状に歪んでいることが判る。その為、この
磁気ディスク基板12上に磁気ヘッド14を浮上させれ
ば、所定のトラックで常に一定の距離を保って位置させ
ることができ、安定した高密度な記録が可能である。In particular, the actual contact area ratio of Samples 1 to 3 is 70%.
In the above, since interference fringes that draw a smooth circle are seen as can be seen from (1) to (3) of FIG. 6, it can be seen that the distortion is a very smooth conical shape. Therefore, if the magnetic head 14 is levitated on the magnetic disk substrate 12, the magnetic head 14 can be always positioned at a predetermined track with a constant distance, and stable and high-density recording is possible.
【0055】次に、実当接面積率が90%のスペーサ2
0を用いて当接面22の平坦度を変化させ、このスペー
サ20で保持した時の磁気ディスク基板12の周縁部で
の変位量を測定した。図7に示すように、半径rで当接
面22の平坦度Fのスペーサ20を用い、半径Rの磁気
ディスク基板12を保持して最大の撓みが発生した場
合、磁気ディスク基板12の反り角度θは、 θ=tan-1(2Fr/(r2 −F2 )) で表され、L=R−rとすると、磁気ディスク基板12
の周縁部での変位量Δgは、 Δg=Ltanθ+F=
(2Fr/(r2 −F2 ))L+Fで表される。Next, the spacer 2 having an actual contact area ratio of 90%
The flatness of the contact surface 22 was changed by using 0, and the displacement amount at the peripheral portion of the magnetic disk substrate 12 when held by the spacer 20 was measured. As shown in FIG. 7, when the spacer 20 having the radius r and the flatness F of the contact surface 22 is used to hold the magnetic disk substrate 12 having the radius R and the maximum bending occurs, the warp angle of the magnetic disk substrate 12 is increased. θ is represented by θ = tan −1 (2Fr / (r 2 −F 2 )), and when L = R−r, the magnetic disk substrate 12
The amount of displacement Δg at the peripheral portion of Δg = Ltan θ + F =
It is represented by (2Fr / (r 2 −F 2 )) L + F.
【0056】ここで、r=11.53mm、L=20.
97mmとし、平坦度Fの値を変化させた時のΔgは表
3に示す通りである。Here, r = 11.53 mm, L = 20.
Table 3 shows Δg when the value of the flatness F was changed to 97 mm.
【0057】[0057]
【表3】 [Table 3]
【0058】この表3から明らかなように、平坦度Fを
3μm以下、好ましくは1μm以下とすることで、Δg
を極端に小さくできることが判る。As is apparent from Table 3, the flatness F is set to 3 μm or less, preferably 1 μm or less.
It turns out that can be made extremely small.
【0059】[0059]
【発明の効果】以上のように本発明は、シム、クラン
プ、およびスペーサなどの保持部材をセラミックスまた
はガラスにより形成するとともに、磁気ディスク基板と
の実当接面積率を50〜95%とし、かつ当接面の平面
度を3μm以下としたことにより、クランプ時の応力に
よりエッジ部に生じる欠けを完全に防止することができ
るとともに、磁気ディスク基板の平面度を高め、磁気ヘ
ッドの浮上量を微小量とすることができる。As described above, according to the present invention, holding members such as shims, clamps, and spacers are made of ceramics or glass, and the actual contact area ratio with the magnetic disk substrate is 50 to 95%, and By setting the flatness of the contact surface to 3 μm or less, it is possible to completely prevent the chipping that occurs at the edge portion due to the stress during clamping, increase the flatness of the magnetic disk substrate, and reduce the flying height of the magnetic head. It can be quantity.
【0060】また、本発明は上記保持部材からなるスペ
ーサおよびシムで磁気ディスク基板を保持して磁気ディ
スク装置を構成したことにより、情報の記録密度を高め
ることができる。特に、セラミックスまたはガラスから
なる磁気ディスク基板とを組み合わせて磁気ディスク装
置を構成すれば、クランプ時に磁気ディスク基板の歪み
を生じることがなく、また、保持部材と磁気ディスク基
板の熱膨張係数を一致させることができるため、情報の
高密度記録が可能である。Further, according to the present invention, the recording density of information can be increased by forming the magnetic disk device by holding the magnetic disk substrate with the spacer and the shim which are the holding members. In particular, when the magnetic disk device is configured by combining the magnetic disk substrate made of ceramics or glass, the magnetic disk substrate is not distorted during clamping, and the holding member and the magnetic disk substrate have the same thermal expansion coefficient. Therefore, high-density recording of information is possible.
【0061】さらに、本発明は、上記シムやクランプな
どの保持部材の当接面に鉛直方向の貫通孔を穿設し、該
貫通孔の内部に導電性材料からなるバネを配設したり、
上記貫通孔に導電性材料を充填したり、あるいは上記貫
通孔の内壁面に導電性膜を被覆して上下当接面間の導通
がとれるようにしてあるため、磁気ディスク基板に帯電
する静電気を効果的に逃がし、記録内容が破壊されるこ
とを防止することができる。Further, according to the present invention, a vertical through hole is formed in the contact surface of the holding member such as the shim or clamp, and a spring made of a conductive material is arranged inside the through hole.
Since the through hole is filled with a conductive material, or the inner wall surface of the through hole is covered with a conductive film so as to establish continuity between the upper and lower contact surfaces, static electricity charged on the magnetic disk substrate is prevented. It is possible to effectively escape and prevent the recorded contents from being destroyed.
【図1】本発明に係る保持部材の一例を示す斜視図であ
り、(a)はスペーサ、(b)はクランプである。FIG. 1 is a perspective view showing an example of a holding member according to the present invention, in which (a) is a spacer and (b) is a clamp.
【図2】(a)〜(e)は本発明に係るスペーサの他の
実施例を示す斜視図である。2A to 2E are perspective views showing another embodiment of the spacer according to the present invention.
【図3】本発明に係る保持部材を一軸加圧成形機により
形成した成形体の周縁部の構造を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a structure of a peripheral portion of a molded body in which the holding member according to the present invention is formed by a uniaxial pressure molding machine.
【図4】図1(a)に示すスペーサの縦断面図である。FIG. 4 is a vertical sectional view of the spacer shown in FIG.
【図5】本発明に係る磁気ディスク装置を示す縦断面図
である。FIG. 5 is a vertical cross-sectional view showing a magnetic disk device according to the present invention.
【図6】実当接面積率の異なるスペーサで磁気ディスク
基板を保持した時の磁気ディスク基板に見られる干渉縞
を示す写真である。FIG. 6 is a photograph showing interference fringes observed on a magnetic disk substrate when the magnetic disk substrate is held by spacers having different actual contact area ratios.
【図7】本発明に係る磁気ディスク装置における磁気デ
ィスク基板の歪み量を示す概略図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing a distortion amount of a magnetic disk substrate in a magnetic disk device according to the present invention.
【図8】従来の保持部材の一例であるスペーサ示す斜視
図である。FIG. 8 is a perspective view showing a spacer which is an example of a conventional holding member.
10:回転軸 11:ハブ 12:磁気ディスク基板 14:磁気ヘッド 20:スペーサ 21:リング体 22:当接面 23:エッジ部 10: Rotating shaft 11: Hub 12: Magnetic disk substrate 14: Magnetic head 20: Spacer 21: Ring body 22: Contact surface 23: Edge part
Claims (3)
定間隔に保持するためのセラミックスまたはガラスから
なる保持部材であって、該保持部材の磁気ディスク基板
との実当接面積率を50〜95%とし、かつ当接面の平
坦度を3μm以下としてなる磁気ディスク基板用保持部
材。1. A holding member made of ceramics or glass for holding one or a plurality of magnetic disk substrates at a predetermined interval, and the actual contact area ratio of the holding member with the magnetic disk substrate is 50 to 50. A holding member for a magnetic disk substrate having a flatness of 95% and a contact surface of 3 μm or less.
ング状のスペーサおよび/またはシムを介して一枚また
は複数枚の磁気ディスク基板を配置し、クランプにより
保持してなる磁気ディスク装置において、上記磁気ディ
スク基板をセラミックスまたはガラスからなり、磁気デ
ィスク基板との実当接面積率を50〜95%とし、かつ
当接面の平坦度を3μm以下としたスペーサおよびシム
などの保持部材で保持してなる磁気ディスク装置。2. A magnetic disk device in which one or more magnetic disk substrates are arranged on a hub having a substantially cylindrical shape fixed to a rotary shaft via a ring-shaped spacer and / or shim and held by a clamp. In the above, the magnetic disk substrate is made of ceramics or glass, and a holding member such as a spacer or a shim having an actual contact area ratio with the magnetic disk substrate of 50 to 95% and a flatness of the contact surface of 3 μm or less. A magnetic disk device that holds it.
を穿設し、該貫通孔に導電性材料からなるバネを配設す
るか、上記貫通孔に導電性材料を充填するか、あるいは
上記貫通孔の内壁面に導電性膜を被覆して上下の当接面
において導通をとるようにしたことを特徴とする請求項
1に記載の保持部材乃至請求項2に記載の磁気ディスク
装置。3. A vertical through hole is formed in the contact surface of the holding member, and a spring made of a conductive material is provided in the through hole, or the through hole is filled with a conductive material. 3. The magnetic disk according to claim 1, wherein the inner wall surface of the through hole is coated with a conductive film so that electrical conduction is established at upper and lower contact surfaces. apparatus.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28422195A JPH08315533A (en) | 1995-03-15 | 1995-10-31 | Holding member for magnetic disc substrate and magnetic disc employing it |
US08/609,136 US5969902A (en) | 1995-03-15 | 1996-02-29 | Support magnetic disk substrate and magnetic disk unit using the support member composed of Forsterite and an iron based component |
US09/262,892 US6215617B1 (en) | 1995-03-15 | 1999-03-08 | Support member for magnetic disk substrate |
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JP5607595 | 1995-03-15 | ||
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Family Applications (1)
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JP28422195A Pending JPH08315533A (en) | 1995-03-15 | 1995-10-31 | Holding member for magnetic disc substrate and magnetic disc employing it |
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