JPH093283A - Conductor paste composition and its cured material - Google Patents
Conductor paste composition and its cured materialInfo
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- JPH093283A JPH093283A JP7172982A JP17298295A JPH093283A JP H093283 A JPH093283 A JP H093283A JP 7172982 A JP7172982 A JP 7172982A JP 17298295 A JP17298295 A JP 17298295A JP H093283 A JPH093283 A JP H093283A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、回路製造工程などにお
いて好適に用いられ、紫外線による露光および弱アルカ
リ水溶液による現像後に、400〜1000℃で焼成す
ることにより導電性の良好な回路を形成する導体ペース
ト組成物及びその硬化物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention is preferably used in a circuit manufacturing process and the like, and after exposure with ultraviolet rays and development with a weak alkaline aqueous solution, baking at 400 to 1000 ° C. forms a circuit having good conductivity. The present invention relates to a conductor paste composition and a cured product thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より導体ペースト(銅粉、銀粉など
の導電物質をペースト状にしたもの)としては、印刷方
式、例えばスクリーン印刷等により回路パターンを印刷
し、次いで焼成することにより回路を形成するものが知
られている。しかし、これらは近年の、回路基板の小型
化、より高密度のパターン形成には対応できない。2. Description of the Related Art Conventionally, as a conductor paste (a conductive material such as copper powder or silver powder is made into a paste), a circuit pattern is printed by a printing method such as screen printing, and then baked to form a circuit. What is known is. However, these cannot cope with the recent miniaturization of circuit boards and formation of higher density patterns.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の欠点
を改良し、細密なパターン作成が可能で、紫外線で硬化
後、弱アルカリ水溶液で現像し、回路パターンを形成
し、焼成後、優れた導電性を有する回路を形成する。導
体ペースト組成物及びその硬化物を提供する。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention improves the above-mentioned drawbacks and enables fine pattern formation, and after curing with ultraviolet rays, development with a weak alkaline aqueous solution to form a circuit pattern, firing, and excellent A circuit having high conductivity is formed. Provided are a conductor paste composition and a cured product thereof.
【課題を解決するための手段】本発明は、スチレンと無
水マレイン酸の共重合物(a)と水酸基含有モノ(メ
タ)アクリレート(b)の反応物(A)、希釈剤
(B)、光重合開始剤(C)及び導体粉(D)を含有す
ることを特徴とする導体ペースト組成物及びその組成物
に関する。The present invention comprises a reaction product (A) of a copolymer (a) of styrene and maleic anhydride and a mono (meth) acrylate having a hydroxyl group (b), a diluent (B), and a light source. The present invention relates to a conductor paste composition containing a polymerization initiator (C) and a conductor powder (D) and a composition thereof.
【0004】以下本発明を詳細に説明する。本発明で用
いるスチレンと無水マレイン酸の共重合物(a)と水酸
基含有モノ(メタ)アクリレート(b)の反応物(A)
は、(a)成分と(b)成分を反応させることにより得
ることができる。スチレンと無水マレイン酸の共重合物
(a)は市場より容易に入手することができる。例え
ば、EIf Atochem North America, Inc. 製 SMA Resin,
SMA-1000、SMA-2000、SMA-3000等を挙げることができ
る。水酸基含有モノ(メタ)アクリレート(b)の具体
例としては、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート
等を挙げることができる。共重合物(a)中の無水物基
1当量に対して水酸基含有モノ(メタ)アクリレート
(b)の水酸基0.5〜2当量を反応させるのが好まし
く、反応時に、希釈剤として、エチルメチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン、テ
トラメチルベンゼンなどの芳香族、炭化水素類、ジプロ
ピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリ
コールジエチルエーテルなどのグリコールエーテル類、
酢酸エチル、酢酸ブチル、ブチルセロソルブアセテー
ト、カルビトールアセテートなどのエステル類、オクタ
ン、デカンなどの脂肪族炭化水素、石油エーテル、石油
ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油
系溶剤等の有機溶剤類又はカルビトール(メタ)アクリ
レート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリンポリプ
ロポキシトリ(メタ)アクリレート、等の反応性単量体
類を使用するのが好ましい。更に、反応を促進するため
に触媒(例えは、トリエチルアミン、ベンジルジメチル
アミン、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビ
ン等)を使用することが好ましく、該触媒の使用量は、
反応原料混合物に対して好ましくは0.1〜10重量%
である。反応中の重合を防止するために、重合防止剤
(例えは、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ハ
イドロキノンモノメチルエーテル、カテコール、ピロガ
ロール等)を使用するのが好ましく、その使用量は、反
応原料混合物に対して、好ましくは0.01〜1重量%
である。反応温度は、好ましくは60〜150℃であ
る。又、反応時間は好ましくは5〜30時間である。こ
のようにして反応物(A)を得ることができる。(B)
成分の具体例としては、例えば、エチル(メタ)アクリ
レート、ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、スチレン、α−アルキルスチレン、
カルビトロル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル
酸などのモノ(メタ)アクリレート類、エチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリプ
ロポキシトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプ
ロパントリエチキシトリ(メタ)アクリレート、グリセ
リンポリプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールポリプロポキシテトラ(メタ)アクリレー
ト等の多官能(メタ)アクリレート等の反応性希釈剤
(B−1)、エチレングリコールモノアルキルエーテル
類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、エ
チレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレング
リコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモ
ノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコー
ルモノアルキルエーテルアセテート類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン
類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ソルベントナフ
サ類等の有機溶剤類(B−2)等を挙げることができ
る。Hereinafter, the present invention will be described in detail. Reaction product (A) of a copolymer (a) of styrene and maleic anhydride and a hydroxyl group-containing mono (meth) acrylate (b) used in the present invention
Can be obtained by reacting the component (a) with the component (b). The copolymer (a) of styrene and maleic anhydride can be easily obtained from the market. For example, EIf Atochem North America, Inc. SMA Resin,
SMA-1000, SMA-2000, SMA-3000, etc. can be mentioned. Specific examples of the hydroxyl group-containing mono (meth) acrylate (b) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate and the like. You can It is preferable to react 0.5 to 2 equivalents of the hydroxyl group of the hydroxyl group-containing mono (meth) acrylate (b) with 1 equivalent of the anhydride group in the copolymer (a), and ethyl methyl is used as a diluent during the reaction. Ketones, ketones such as cyclohexanone, aromatics such as toluene, xylene and tetramethylbenzene, hydrocarbons, glycol ethers such as dipropylene glycol dimethyl ether and dipropylene glycol diethyl ether,
Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, butyl cellosolve acetate and carbitol acetate, aliphatic hydrocarbons such as octane and decane, organic solvents such as petroleum ethers such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha and solvent naphtha. Or carbitol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-
It is preferable to use reactive monomers such as hydroxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate and glycerin polypropoxytri (meth) acrylate. Further, in order to accelerate the reaction, it is preferable to use a catalyst (eg, triethylamine, benzyldimethylamine, triphenylphosphine, triphenylstibine, etc.), and the amount of the catalyst used is
Preferably 0.1 to 10% by weight with respect to the reaction raw material mixture
It is. In order to prevent polymerization during the reaction, it is preferable to use a polymerization inhibitor (eg, hydroquinone, methylhydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, catechol, pyrogallol, etc.), and the amount thereof is, relative to the reaction raw material mixture, Preferably 0.01 to 1% by weight
It is. The reaction temperature is preferably 60 to 150 ° C. The reaction time is preferably 5 to 30 hours. In this way, the reaction product (A) can be obtained. (B)
Specific examples of the component include, for example, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxy (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, styrene, α-alkylstyrene,
Carbitol (meth) acrylate, mono (meth) acrylates such as (meth) acrylic acid, ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane polypropoxy Tri (meth) acrylate, trimethylolpropane triethoxytri (meth) acrylate, glycerin polypropoxytri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol polypropoxytetra (meth) ) Reactive diluents (B-1) such as polyfunctional (meth) acrylates such as acrylates, ethylene glycol monoalkyl ethers, diethylene glycol Monoalkyl ethers, ethylene glycol dialkyl ethers, diethylene glycol dialkyl ethers, ethylene glycol monoalkyl ether acetates, diethylene glycol monoalkyl ether acetates, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, etc. Of the above, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, organic solvents (B-2) such as solvent naphtha, and the like.
【0005】(C)成分の具体例としては、例えば、
2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサ
ントン、イソプロピルチオキサントン、2−メチル−1
−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ
プロパン−1,2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1
−(4−モルフォリノフェニル−1−ブタノン、4−ベ
ンゾイル4′−メチルジフェニルスルフィド、2,4,
6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ド、ミヒラーズケトン、ベンジルジメチルケタールを挙
げることができる。又、これら光重合開始剤(C)とア
ミン類などの光重合促進剤との併用することもできる。
アミン類などの光重合促進剤としては、例えは、2−ジ
メチルアミノエチルベンゾエート、ジメチルアミノアセ
トフェノン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−
ジメチルアミノ安息香酸イソアミルなどを挙げることが
できる。Specific examples of the component (C) include, for example:
2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, isopropylthioxanthone, 2-methyl-1
-[4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1,2-benzyl-2-dimethylamino-1
-(4-morpholinophenyl-1-butanone, 4-benzoyl 4'-methyldiphenyl sulfide, 2,4
Mention may be made of 6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, Michler's ketone and benzyl dimethyl ketal. Further, these photopolymerization initiator (C) and a photopolymerization accelerator such as amines may be used in combination.
Examples of the photopolymerization accelerator such as amines include 2-dimethylaminoethylbenzoate, dimethylaminoacetophenone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, p-
Examples thereof include isoamyl dimethylaminobenzoate.
【0006】(D)成分の具体例としては、好ましくは
粒径が10μm以下の銅粉、銀粉、パラジュウム粉、銀
とパラジュウムの混合粉、表面処理された金粉、銀粉、
酸化ルテニウムその他等を挙げることができる。Specific examples of the component (D) are preferably copper powder having a particle size of 10 μm or less, silver powder, palladium powder, mixed powder of silver and palladium, surface-treated gold powder, silver powder,
Examples thereof include ruthenium oxide and others.
【0007】本発明の導体ペースト組成物は、(A)
(B:B−1、B−2)(C)及び(D)成分を、溶
解、混合、混練することにより調製することができる。
本発明の導体ペースト組成物中、各成分の使用割合は以
下のようにすることができる(%は重量%)。 (A)成分+(B−1)成分+(C)成分を合計した使
用量は組成物に対し5〜25%が好ましく、特に好まし
くは、8〜30%であり、(D)成分は、50〜95%
が好ましく、特に好ましくは、70〜92%である。
又、(A)+(B−1)+(C)の合計の量の中に占め
る各成分の好ましい、使用量は以下のようになる。すな
わち(A)成分の使用量は、50〜90%、(B−1)
成分の使用量は、6〜45%、(C)成分の使用量は、
5〜30%である。有機溶剤(B−2)の使用量は、本
説明の組成物を使用するために適当な粘度調整などの目
的のために任意の割合で使用することができる。The conductor paste composition of the present invention comprises (A)
(B: B-1, B-2) (C) and (D) components can be prepared by dissolving, mixing and kneading.
In the conductor paste composition of the present invention, the use ratio of each component can be as follows (% is weight%). The total amount of the component (A) + the component (B-1) + the component (C) is preferably 5 to 25% of the composition, particularly preferably 8 to 30%, and the component (D) is 50-95%
Is preferable, and particularly preferably 70 to 92%.
Further, the preferable and used amount of each component in the total amount of (A) + (B-1) + (C) is as follows. That is, the amount of the component (A) used is 50 to 90%, (B-1)
The amount of the component used is 6 to 45%, and the amount of the component (C) used is
5 to 30%. The amount of the organic solvent (B-2) used may be any ratio for the purpose of adjusting the viscosity suitable for using the composition of the present description.
【0008】本発明の導体ペースト組成物には、その性
能を阻害しない範囲で、レベリンク剤、消泡剤、重合禁
止剤、ワックス類、非反応性ポリマー、あるいはエポキ
シ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレー
ト、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メ
タ)アクリレートと多塩基酸無水物の反応物等を使用す
ることもできる。本発明の導体ペースト組成物は、スク
リーン印刷、ロールコート、カーテンフローコート、ス
プレーコートなどの方法によりガラス、セラミック基板
等の基板上の全面に印刷塗布される。印刷塗布後、必要
に応じて遠赤外線または温風により50〜80℃軽度に
プリベークされ有機溶剤が除去され、回路部分だけが紫
外線を通すようにしたネガマスクを用いて紫外線による
露光が行なわれる。紫外線の露光量としては、500〜
5000mJ/cm2が好ましい。次に、炭酸ナトリウム水溶
液、苛性ソーダ水溶液等の希アルカリ水溶液の現像液に
よりスプレーなどの手段で現像され、次いで400〜1
000℃で焼成され回路基板が得られる。The conductor paste composition of the present invention contains a leveling agent, a defoaming agent, a polymerization inhibitor, waxes, a non-reactive polymer, an epoxy (meth) acrylate, a urethane (meth) as long as its performance is not impaired. ) Acrylate, polyester (meth) acrylate, a reaction product of epoxy (meth) acrylate and polybasic acid anhydride, and the like can also be used. The conductor paste composition of the present invention is printed and applied on the entire surface of a substrate such as a glass or ceramic substrate by a method such as screen printing, roll coating, curtain flow coating, spray coating and the like. After printing and coating, if necessary, the organic solvent is removed by prebaking at 50-80 ° C with far infrared rays or warm air to remove the organic solvent, and exposure with ultraviolet rays is performed using a negative mask that allows ultraviolet rays to pass through only the circuit portion. The amount of UV exposure is 500-
5000 mJ / cm 2 is preferred. Next, it is developed by means of a spray or the like with a developing solution of a dilute alkaline aqueous solution such as an aqueous solution of sodium carbonate or an aqueous solution of caustic soda, and then 400 to 1
A circuit board is obtained by firing at 000 ° C.
【0009】[0009]
【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。例
中、部とは重量部を、%とは重量%をそれぞれ表わす。 (反応物(A)の合成例) 合成例1 SMA-1000(EIf Atochen North America, Inc. 製、スチ
レンと無水マレイン酸の共重合物、酸価 480)50
0部、2−ヒドロキシエチルアクリレート272.9
部、メチルハイドロキノン0.6部、カルビトールアセ
テート519.9部を仕込み、90℃に加熱、攪拌し、
反応混合物を溶解した。次いで、反応液を冷却し、トリ
エチルアミン6.4部を仕込み、90℃に加熱し、約1
0時間反応し、酸価(mg/KOH/g) が154mgKOH/g)の固
形分の濃度60%の反応物(A−1)を得た。The present invention will be described below with reference to examples. In the examples, “parts” means “parts by weight” and “%” means “% by weight”. (Synthesis Example of Reactant (A)) Synthesis Example 1 SMA-1000 (manufactured by EIf Atochen North America, Inc., copolymer of styrene and maleic anhydride, acid value 480) 50
0 part, 2-hydroxyethyl acrylate 272.9
Parts, 0.6 parts of methylhydroquinone, 519.9 parts of carbitol acetate, and heated to 90 ° C. and stirred,
The reaction mixture was dissolved. Then, the reaction solution was cooled, charged with 6.4 parts of triethylamine, and heated to 90 ° C. to about 1
The reaction was carried out for 0 hours to obtain a reaction product (A-1) having an acid value (mg / KOH / g) of 154 mgKOH / g and a solid content of 60%.
【0010】合成例2 SMA-1000(EIf Atochen North America, Inc. 製、スチ
レンと無水マレイン酸の共重合物、酸価 480)50
0部、1,4−ブタンジオールモノアクリレート339
部、メチルハイドロキノン0.7部、カルビトールアセ
テート564.5部を仕込み、90℃に加熱、攪拌し、
反応混合物を溶解した。次いで、反応液を冷却し、トリ
エチルアミン7部を仕込み、90℃に加熱し、約10時
間反応し、酸価(mgKOH/g)が142mgKOH/g の固形分の
濃度60%の反応物(A−2)を得た。Synthesis Example 2 SMA-1000 (manufactured by EIf Atochen North America, Inc., copolymer of styrene and maleic anhydride, acid value 480) 50
0 parts, 1,4-butanediol monoacrylate 339
Parts, 0.7 parts of methylhydroquinone, 564.5 parts of carbitol acetate, and heated to 90 ° C. and stirred,
The reaction mixture was dissolved. Then, the reaction solution was cooled, charged with 7 parts of triethylamine, heated to 90 ° C., reacted for about 10 hours, and a reaction product (A- having a solid content of 60% with an acid value (mgKOH / g) of 142 mgKOH / g) (A- 2) was obtained.
【0011】実施例1〜4 表1に示す組成にしたがって導体ペースト組成物を調製
した。得られた導体ペースト組成物を150メッシュの
ポリエステル製スクリーン版を用いて、セラミック基板
上の金面に膜厚35μmでスクリーン印刷し、80℃で
30分間プリベークした後、ネガフィルムを接触させ、
超高圧水銀灯により、露光量3J/cm2 を照射し、次いで
未露光部を1.0%水酸化ナトリウム水溶液(液温30
℃)を用いてスプレー圧3kg/cm2で1分間、現像した。
現像性及び現像後のパターンの状態を評価した。現像
後、N2 ガス中900℃で10分間焼成し回路を形成し
た。回路の導体抵抗値、セラミック基板への回路の密着
性を評価した。Examples 1 to 4 Conductor paste compositions were prepared according to the compositions shown in Table 1. The obtained conductor paste composition was screen-printed on a gold surface of a ceramic substrate with a film thickness of 35 μm using a 150-mesh polyester screen plate, prebaked at 80 ° C. for 30 minutes, and then contacted with a negative film,
An ultrahigh pressure mercury lamp was used to irradiate an exposure dose of 3 J / cm 2 , and then the unexposed area was exposed to a 1.0% aqueous sodium hydroxide solution (solution temperature 30
° C.) 1 minute at a spray pressure 3 kg / cm 2 was used to developed.
The developability and the state of the pattern after development were evaluated. After development, it was baked in N 2 gas at 900 ° C. for 10 minutes to form a circuit. The conductor resistance of the circuit and the adhesion of the circuit to the ceramic substrate were evaluated.
【0012】[0012]
【表1】 表1 実 施 例 1 2 3 4 合成例1で得た反応物(A−1) 11.67 11.67 5.84 合成例2で得た反応物(A−2) 11.67 5.83 KAYARAD PEG400DA *1 1.32 1.32 KAYARAD T−2040 *2 1.32 KAYARAD GPO−303 *3 1.32 カルビトールアセテート 30 30 30 30 イルガキュアー969 *4 1 1 1 1 KAYACURE DETX−S *5 0.68 0.68 0.68 0.68 平均粒径 2.0μmの銅粉 40 40 40 40 現像性 ○ ○ ○ ○ 現像後のパターンの状態 ○ ○ ○ ○ 回路の導体抵抗値(mΩ/口) 0.9 1.5 1.0 0.9 密着性 ○ ○ ○ ○Table 1 Table 1 Example 1 2 3 4 Reaction product (A-1) obtained in Synthesis Example 1 11.67 11.67 5.84 Reaction product (A-2) obtained in Synthesis Example 2 11.67 5.83 KAYARAD PEG400DA * 1 1.32 1.32 KAYARAD T-2040 * 2 1.32 KAYARAD GPO-303 * 3 1.32 carbitol acetate 30 30 30 30 Irgacure 969 * 4 1 1 1 1 1 KAYACURE DETX-S * 5 0.68 0.68 0.68 0.68 Copper powder with an average particle size of 2.0 μm 40 40 40 40 Developability ○ ○ ○ ○ Pattern condition after development ○ ○ ○ ○ Conductor resistance of circuit (mΩ / port) 0.9 1.5 1.0 0.9 Adhesion ○ ○ ○ ○
【0013】注) *1 KAYARAD PEG 400DA:日本化
薬(株)製、ポリエチレングリコールジアクリレート。 *2 KAYARAD T−2040:日本化薬
(株)製、ジトリメチロールプロパンテトラプロポキシ
テトラアクリレート。 *3 KAYARAD GPO−303:日本化薬
(株)製、グリセリントリプロポキシトリアクリレー
ト。 *4 イルガキュアー369:チバ・ガイギー社製、
光重合開始剤、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1
−(4−モルフォリノ−フェニル)−1−ブタノン。 *5 KAYACURE DETX−S:日本化薬
(株)製、光重合開始剤、2,4−ジエチルチオキサン
トン。Note) * 1 KAYARAD PEG 400DA: polyethylene glycol diacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. * 2 KAYARAD T-2040: ditrimethylol propane tetrapropoxy tetraacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. * 3 KAYARAD GPO-303: Glycerin tripropoxy triacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. * 4 Irgacure 369: manufactured by Ciba Geigy,
Photopolymerization initiator, 2-benzyl-2-dimethylamino-1
-(4-morpholino-phenyl) -1-butanone. * 5 KAYACURE DETX-S: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., photopolymerization initiator, 2,4-diethylthioxanthone.
【0014】試験方法及び評価方法 (現像性) 下記の評価基準を使用した。 ○・・・・現像時、完全に現像できた。 △・・・・現像時、わずかに残渣のあるもの。 ×・・・・現像時、現像されない部分がある。Test Method and Evaluation Method (Developability) The following evaluation criteria were used. ○ ... ・ Completely developed during development. △ ... ・ Slight residue is left during development. X ...- Some areas are not developed during development.
【0015】(現像時のパターンの状態) ○・・・・パターンは、正確に維持されている。 △・・・・パターンの幅が細くなっている。 ×・・・・パターン部分の一部又は、全部が剥がれてい
る。(State of the pattern at the time of development) O ... The pattern is maintained accurately. Δ: The pattern width is narrow. X ...- Part or all of the pattern portion is peeled off.
【0016】(回路の導体抵抗値) 回路部分の抵抗を測定。(単位 mΩ/口)(Circuit conductor resistance value) The resistance of the circuit portion is measured. (Unit: mΩ / unit)
【0017】(密着性)回路部分に1mmのごばん目を
100ケ作りセロテープによりピーリング試験を行っ
た。ごばん目の剥離状態を観察し、次の基準で評価し
た。 ○・・・・100/100で剥れないもの △・・・・ 50/100〜30/100 ×・・・・ 0/100〜50/100(Adhesion) 100 pieces of 1 mm squares were made on the circuit portion, and a peeling test was conducted using a cellophane tape. The peeling state of the first eye was observed and evaluated according to the following criteria. ○ ・ ・ ・ ・ 100/100 that does not come off △ ・ ・ ・ ・ 50/100 to 30/100 × ・ ・ ・ ・ 0/100 to 50/100
【0018】表1の評価結果から明らかなように、本発
明の導体ペースト組成物及びその硬化物は、現像性に優
れ、現像後のパターン精度が良好で、抵抗値が低く、密
着性に優れている。As is clear from the evaluation results in Table 1, the conductor paste composition of the present invention and its cured product have excellent developability, good pattern accuracy after development, low resistance value, and excellent adhesion. ing.
【0019】[0019]
【発明の効果】本発明の導体ペースト組成物は、パター
ンを形成したフィルムを通して選択的に紫外線により露
光し、未露光部分を現像することによる回路パターンの
形成において、現像性に優れ、現像後のパターン精度が
良好で、形成された回路パターンの抵抗値が低く、密着
性に優れたものである。EFFECT OF THE INVENTION The conductor paste composition of the present invention is excellent in developability in the formation of a circuit pattern by selectively exposing it to ultraviolet rays through a film having a pattern formed thereon and developing an unexposed portion. The pattern accuracy is good, the resistance value of the formed circuit pattern is low, and the adhesion is excellent.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01B 1/22 H01B 1/22 A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location H01B 1/22 H01B 1/22 A
Claims (2)
(a)と水酸基含有モノ(メタ)アクリレート(b)の
反応物(A)、希釈剤(B)、光重合開始剤(C)及び
導体粉(D)を含有することを特徴とする導体ペースト
組成物。1. A reaction product (A) of a copolymer (a) of styrene and maleic anhydride and a hydroxyl group-containing mono (meth) acrylate (b), a diluent (B), a photopolymerization initiator (C) and a conductor. A conductor paste composition comprising powder (D).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7172982A JPH093283A (en) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | Conductor paste composition and its cured material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7172982A JPH093283A (en) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | Conductor paste composition and its cured material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH093283A true JPH093283A (en) | 1997-01-07 |
Family
ID=15951980
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7172982A Pending JPH093283A (en) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | Conductor paste composition and its cured material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH093283A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100328083B1 (en) * | 1997-12-22 | 2002-05-10 | 이구택 | Acrylate and 2-hydroxyethyl maleamic acid-based mixture resin composition with improved graphitization rate |
WO2005056674A1 (en) * | 2003-12-15 | 2005-06-23 | Tdk Corporation | Dielectric paste for spacer layer of multilayer ceramic electronic component |
-
1995
- 1995-06-16 JP JP7172982A patent/JPH093283A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100328083B1 (en) * | 1997-12-22 | 2002-05-10 | 이구택 | Acrylate and 2-hydroxyethyl maleamic acid-based mixture resin composition with improved graphitization rate |
WO2005056674A1 (en) * | 2003-12-15 | 2005-06-23 | Tdk Corporation | Dielectric paste for spacer layer of multilayer ceramic electronic component |
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