JPH09324098A - Elastomer composition and thermoplastic resin composition modified therewith - Google Patents

Elastomer composition and thermoplastic resin composition modified therewith

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JPH09324098A
JPH09324098A JP9031007A JP3100797A JPH09324098A JP H09324098 A JPH09324098 A JP H09324098A JP 9031007 A JP9031007 A JP 9031007A JP 3100797 A JP3100797 A JP 3100797A JP H09324098 A JPH09324098 A JP H09324098A
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monomers
units derived
weight
repeating units
composition
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JP9031007A
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Japanese (ja)
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Roger W Avakian
ロジャー・ダブリュー・アバキアン
Roman W Wypart
ローマン・ダブリュー・ワイパート
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General Electric Co
Original Assignee
General Electric Co
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L51/00Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L51/04Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to rubbers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an elastomer which has a low hardness, a high elongation, and excellent tear and tensile characteristics by compounding a vinylarom.- conjugated diene block copolymer and a specific high-rubber graft copolymer.
SOLUTION: This compsn. comprises a vinylarom.-conjugated diene block copolymer (e.g. a PS-polybutadiene block copolymer) and 5wt.% high-rubber graft copolymer comprising 60-95wt.% rubbery polymer substrate layer (e.g. a polybutadiene rubber) which has a glass transition point lower than 0°C and repeating units derived from at least one monoethylenically unsatd. monomer and 40-5wt.% upper hard polymer layer which is grafted at least partly onto the substrate layer, has a glass transition point of 0°C or higher, and has repeating units derived from at least one monomer selected from among an alkyl (meth)acrylate, a vinylarom. compd., and a monoethylenically unsatd. nitrile compd. (e.g. styrene and acrylonitrile).
COPYRIGHT: (C)1997,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】発明の分野 本発明はエラストマー組成物およびこれにより改質され
た熱可塑性樹脂組成物に係わり、特にグラフト共重合体
とブロック共重合体とからなるエラストマーブレンドお
よびこれにより改質された熱可塑性樹脂組成物に係わ
る。発明の背景 Davidson等の米国特許第3,975,460号明細書に
はアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABA)
グラフト共重合体と選択的に水素添加されたスチレン−
共役ジエンブロック共重合体との重合体ブレンドが開示
されており、このブレンドは改善された加工性および高
い引張強さを示すと言われている。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an elastomer composition and a thermoplastic resin composition modified thereby, and more particularly to an elastomer blend comprising a graft copolymer and a block copolymer and a heat modified thereby. It relates to a plastic resin composition. BACKGROUND OF THE INVENTION In US Pat. No. 3,975,460 to Davidson et al., Acrylonitrile-butadiene-styrene (ABA).
Graft copolymer and selectively hydrogenated styrene-
Polymer blends with conjugated diene block copolymers have been disclosed and are said to exhibit improved processability and high tensile strength.

【0002】特公昭50−006222号公報には85
−95重量%(wt%)のABS共重合体およびスチレ
ン含量30−70wt%のスチレン−ブタジエンブロッ
ク共重合体の混合物からなるコーティング組成物が開示
されている。英国特許第1,428,974号明細書に
は懸濁重合されたABS共重合体とスチレン−ブタジエ
ン−スチレンブロック共重合体とのブレンドが開示され
ている。
In Japanese Patent Publication No. 50-006222, 85
A coating composition is disclosed which comprises a mixture of -95 wt% (wt%) ABS copolymer and styrene-butadiene block copolymer having a styrene content of 30-70 wt%. British Patent 1,428,974 discloses blends of suspension polymerized ABS copolymers with styrene-butadiene-styrene block copolymers.

【0003】上記に開示された組成物はゴム含有量が比
較的低くそしてこれらの組成物はエラストマー特性に欠
けている。従って今ここに、改善された特性例えば比較
的に低い硬さおよび高い伸びを示す熱可塑性エラストマ
ー組成物が必要とされている。発明の要約 第一の観点においては、本発明は (a)ビニル芳香族−共役ジエンブロック共重合体、お
よび (b)エラストマー組成物の合計重量に基づいて少なく
とも5重量%の高ゴムグラフト共重合体を含んでなり、
前記グラフト共重合体が(i)0℃未満のガラス転移温
度を有しそして一種以上のモノ−エチレン性不飽和単量
体から誘導された反復単位を含んだゴム質重合体基質層
60重量%−95重量%、および(ii)0℃以上のガラ
ス転移温度を有しそして(C1 −C12)アルキル(メ
タ)アクリレート単量体、ビニル芳香族単量体およびモ
ノ−エチレン性不飽和ニトリル単量体からなる群から選
択される一種以上の単量体から誘導された反復単位を含
んだ硬質重合体上部層5重量%−40重量%を含み、そ
して前記硬質重合体上部層の少なくとも一部が前記ゴム
質重合体基質層にグラフトされてなっている、エラスト
マー組成物に係わる。
The compositions disclosed above have a relatively low rubber content and these compositions lack elastomeric properties. Therefore, there is now a need for thermoplastic elastomer compositions that exhibit improved properties such as relatively low hardness and high elongation. SUMMARY OF THE INVENTION In a first aspect, the present invention relates to (a) a vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer, and (b) at least 5% by weight of a high rubber graft copolymer based on the total weight of the elastomer composition. Comprising coalescing,
60% by weight of a rubbery polymer matrix layer in which the graft copolymer (i) has a glass transition temperature of less than 0 ° C. and contains repeating units derived from one or more mono-ethylenically unsaturated monomers. -95% by weight, and (ii) having a glass transition temperature above 0 ° C. and (C 1 -C 12 ) alkyl (meth) acrylate monomers, vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitriles. 5% -40% by weight of a rigid polymer upper layer comprising repeating units derived from one or more monomers selected from the group consisting of monomers, and at least one of said rigid polymer upper layers. Parts relating to the elastomeric composition, the parts being grafted to the rubbery polymer matrix layer.

【0004】第二の観点においては、本発明は (1)プロピレンおよび1−メチルペンテンからなる群
から選択される一種以上の単量体から誘導された反復単
位を有する熱可塑性樹脂60−98重量%、および (2)(a)ビニル芳香族−共役ジエンブロック共重合
体、および (b)エラストマー組成物の合計重量に基づいて少なく
とも5重量%の高ゴムグラフト共重合体を含んでなり、
前記グラフト共重合体が(i)0℃未満のガラス転移温
度を有しそして一種以上のモノ−エチレン性不飽和単量
体から誘導された反復単位を含んだゴム質重合体基質層
60重量%−95重量%、および(ii)0℃以上のガラ
ス転移温度を有しそして(C1 −C12)アルキル(メ
タ)アクリレート単量体、ビニル芳香族単量体およびモ
ノ−エチレン性不飽和ニトリル単量体からなる群から選
択される一種以上の単量体から誘導された反復単位を含
んだ硬質重合体上部層5重量%−40重量%を含み、そ
して前記硬質重合体上部層の少なくとも一部が前記ゴム
質重合体基質層にグラフトされてなっている、エラスト
マー組成物2−40重量%を含んでなる熱可塑性樹脂組
成物に係わる。
In a second aspect, the present invention provides: (1) 60-98 wt.% Thermoplastic resin having repeating units derived from one or more monomers selected from the group consisting of propylene and 1-methylpentene. %, And (2) (a) a vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer, and (b) at least 5% by weight, based on the total weight of the elastomer composition, of a high rubber graft copolymer,
60% by weight of a rubbery polymer matrix layer in which the graft copolymer (i) has a glass transition temperature of less than 0 ° C. and contains repeating units derived from one or more mono-ethylenically unsaturated monomers. -95% by weight, and (ii) having a glass transition temperature above 0 ° C. and (C 1 -C 12 ) alkyl (meth) acrylate monomers, vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitriles. 5% -40% by weight of a rigid polymer upper layer comprising repeating units derived from one or more monomers selected from the group consisting of monomers, and at least one of said rigid polymer upper layers. A thermoplastic resin composition comprising 2-40% by weight of an elastomeric composition, parts of which are grafted to the rubbery polymer matrix layer.

【0005】本発明のエラストマー組成物は比較的低い
硬さと比較的高い伸び並びに改善された引き裂きおよび
引張特性を示し、また本発明の熱可塑性樹脂組成物は改
善された衝撃強さおよび改善された摩耗抵抗を示す。発明の詳細な記載 I:エラストマー組成物 好ましい実施の態様においては、本発明のエラストマー
組成物は20−80wt%、より好ましくは30−70
wt%そして更に好ましくは40−70wt%のビニル
芳香族−共役ジエンブロック共重合体および20−80
wt%、より好ましくは30−70wt%そして更に好
ましくは30−60wt%のグラフト共重合体を含む。
The elastomeric compositions of the present invention exhibit relatively low hardness and relatively high elongation as well as improved tear and tensile properties, and the thermoplastic resin compositions of the present invention have improved impact strength and improved. Shows abrasion resistance. Detailed Description of the Invention I: Elastomer Composition In a preferred embodiment, the elastomer composition of the present invention is 20-80 wt%, more preferably 30-70.
wt% and more preferably 40-70 wt% vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer and 20-80.
wt%, more preferably 30-70 wt% and even more preferably 30-60 wt% graft copolymer.

【0006】A:ビニル芳香族−共役ジエンブロック共
重合体 好ましい実施の態様においては、ビニル芳香族−共役ジ
エンブロック共重合体は以下に示される式1または2に
よって表されるものである。 A−B (1) または A−B−A (2) ここに、Aは一種以上のビニル芳香族単量体から誘導さ
れる反復単位からなる数平均分子量1,000−10
0,000を有するブロックであり、そしてBは共役ジ
エン単量体から誘導される反復単位からなる数平均分子
量10,000−500,000を有するブロックであ
る。
A: Vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer
In the polymer preferred embodiment, the vinyl aromatic - conjugated diene block copolymer is represented by Formula 1 or 2 shown below. AB (1) or ABA (2) where A is a number average molecular weight of 1,000-10 consisting of repeating units derived from one or more vinyl aromatic monomers.
B is a block having a number average molecular weight of 10,000-500,000 consisting of repeating units derived from conjugated diene monomers.

【0007】更により好ましい実施の態様においては、
ブロック共重合体のAブロックは2,000−50,0
00もしくはもっと好ましくは10,000−40,0
00の数平均分子量を有し、そしてこれとは独立してブ
ロック共重合体のBブロックは20,000−250,
000もしくはもっと好ましくは50,000−20
0,000の数平均分子量を有する。
In an even more preferred embodiment,
The A block of the block copolymer is 2,000-50,0
00 or more preferably 10,000-40,0
Independently of this, the B block of the block copolymer has a number average molecular weight of 00,
000 or more preferably 50,000-20
It has a number average molecular weight of 000.

【0008】適当なビニル芳香族単量体には、例えばス
チレンおよび芳香族環に一個以上のアルキル、アルコキ
シ、ヒドロキシルまたはハロ置換基が結合された置換さ
れたスチレン例えばα−メチルスチレン、p−メチルス
チレン、ビニルトルエン、ビニルキシレン、トルメチル
スチレン、ブチルスチレン、クロロスチレン、ジクロロ
スチレン、ブロモスチレン、p−ヒドロキシスチレン、
メトキシスチレン、ビニル置換縮合芳香族環構造体例え
ばビニルナフタレン、ビニルアントラセン、並びにこれ
らビニル芳香族単量体の混合物が包含される。好ましい
実施の態様では、ビニル芳香族−共役ジエンブロック共
重合体のビニル芳香族単量体はスチレンまたはα−メチ
ルスチレンである。
Suitable vinyl aromatic monomers include, for example, styrene and substituted styrenes having one or more alkyl, alkoxy, hydroxyl or halo substituents attached to the aromatic ring such as α-methylstyrene, p-methyl. Styrene, vinyltoluene, vinylxylene, tolmethylstyrene, butylstyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, p-hydroxystyrene,
Included are methoxystyrene, vinyl substituted fused aromatic ring structures such as vinylnaphthalene, vinylanthracene, as well as mixtures of these vinylaromatic monomers. In a preferred embodiment, the vinyl aromatic monomer of the vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer is styrene or α-methylstyrene.

【0009】適当な共役ジエン単量体には、例えば1,
3−ブタジエン、イソプレン、1,3−ヘプタジエン、
メチル−1,3−ペンタジエン、2,3−ジメチルブタ
ジエン、2−エチル−1,3−ペンタジエン、1,3−
ヘキサジエン、2,4−ヘキサジエン、ジクロロブタジ
エン、ブロモブタジエンおよびジブロモブタジエン並び
にこれら共役ジエン単量体の混合物が包含される。好ま
しい実施の態様においては、ビニル芳香族−共役ジエン
ブロック共重合体の共役ジエン単量体は1,3−ブタジ
エンである。
Suitable conjugated diene monomers include, for example, 1,
3-butadiene, isoprene, 1,3-heptadiene,
Methyl-1,3-pentadiene, 2,3-dimethylbutadiene, 2-ethyl-1,3-pentadiene, 1,3-
Hexadiene, 2,4-hexadiene, dichlorobutadiene, bromobutadiene and dibromobutadiene and mixtures of these conjugated diene monomers are included. In a preferred embodiment, the conjugated diene monomer of the vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer is 1,3-butadiene.

【0010】ブロック共重合体のBブロックは残留不飽
和部位を含んでいてもよいしあるいは重合後の水素添加
によってほぼ完全に飽和されていてもよい。好ましい実
施の態様においては、ビニル芳香族−共役ジエンブロッ
ク共重合体は低い量の残留不飽和例えば20%未満、よ
り好ましくは10%未満、更に好ましくは5%未満の不
飽和を含む。
The B block of the block copolymer may contain residual unsaturated sites or may be almost completely saturated by hydrogenation after polymerization. In a preferred embodiment, the vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer contains a low amount of residual unsaturation, for example less than 20%, more preferably less than 10%, even more preferably less than 5%.

【0011】適当なビニル芳香族−共役ジエンブロック
共重合体例えばポリスチレン−ポリブタジエンブロック
共重合体、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレ
ンブロック共重合体、ポリスチレン−イソプレン−ポリ
スチレンブロック共重合体、ポリスチレン−ポリ(エチ
レン−ブチレン)−ポリスチレンブロック共重合体(即
ち、水素添加されたポリスチレン−ポリブタジエン−ポ
リスチレンブロック共重合体)およびかかるビニル芳香
族−共役ジエンブロック共重合体の製造方法は当業界で
周知であり、そしてこのような共重合体は例えばShell
Chemical CompanyからKRATON(登録商標)Dシリ
ーズのゴムおよびKRATON(登録商標)Gシリーズ
の水素添加ゴムが市販されている。
Suitable vinyl aromatic-conjugated diene block copolymers such as polystyrene-polybutadiene block copolymers, polystyrene-polybutadiene-polystyrene block copolymers, polystyrene-isoprene-polystyrene block copolymers, polystyrene-poly (ethylene- Butylene) -polystyrene block copolymers (i.e. hydrogenated polystyrene-polybutadiene-polystyrene block copolymers) and methods for making such vinyl aromatic-conjugated diene block copolymers are well known in the art, and Such copolymers are for example Shell
KRATON® D series rubbers and KRATON® G series hydrogenated rubbers are commercially available from Chemical Company.

【0012】好ましい実施の態様においては、ビニル芳
香族−共役ジエンブロック共重合体はポリスチレン−ポ
リブタジエンブロック共重合体、ポリスチレン−ポリブ
タジエン−ポリスチレンブロック共重合体またはポリス
チレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレンブ
ロック共重合体である。B:グラフト共重合体 好ましい実施の態様においては、ゴム質重合体基質層は
−20℃未満のガラス転移温度”Tg”を持つ。本明細
書においていは、重合体のTgは示差走査熱量測定(加
熱速度20℃/分において、変曲点においてTg値を測
定)によって測定されたTg値である。
In a preferred embodiment, the vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer is a polystyrene-polybutadiene block copolymer, polystyrene-polybutadiene-polystyrene block copolymer or polystyrene-poly (ethylene-butylene) -polystyrene block. It is a copolymer. B: Graft Copolymer In a preferred embodiment, the rubbery polymer matrix layer has a glass transition temperature "Tg" of less than -20 ° C. In the present specification, the Tg of a polymer is the Tg value measured by differential scanning calorimetry (at a heating rate of 20 ° C./min, the Tg value is measured at the inflection point).

【0013】好ましい実施の態様においては、グラフト
共重合体は65wt%−90wt%、更に好ましくは6
5wt%−80wt%のゴム質重合体基質層および10
wt%−35wt%、更に好ましくは20wt%−35
wt%の硬質重合体上部層を含む。i:ゴム質重合体基質層 本明細書において使用される用語「モノ−エチレン性不
飽和」とは分子に唯一のエチレン性不飽和部位を有する
ことを意味する。好ましい実施の態様においては、ゴム
質重合体基質層は共役ジエン単量体、非共役ジエン単量
体、(C1 −C 12)アルキルアクリレート単量体および
ビニル芳香族単量体から選ばれた一種以上のモノ−エチ
レン性不飽和単量体から誘導された反復単位を含む。
In a preferred embodiment, the graft
The copolymer is 65 wt% -90 wt%, more preferably 6
5 wt% -80 wt% rubbery polymer matrix layer and 10
wt% -35 wt%, more preferably 20 wt% -35
Includes wt% hard polymer top layer.i: rubbery polymer substrate layer As used herein, the term "mono-ethylenic
"Saturated" has only one ethylenically unsaturated site in the molecule
Means that. In a preferred embodiment, rubber
Polymeric polymer substrate layer is conjugated diene monomer, non-conjugated diene monomer
Body, (C1-C 12) Alkyl acrylate monomer and
One or more mono-ethyl compounds selected from vinyl aromatic monomers
It contains repeating units derived from lenically unsaturated monomers.

【0014】適当なビニル芳香族単量体および共役ジエ
ン単量体は本発明のビニル芳香族−共役ジエンブロック
共重合体の記載の際に既に開示したものである。適当な
非共役ジエン単量体には例えばエチリデンノルボルネ
ン、ジシクロペンタジエン、ヘキサジエンまたはフェニ
ルノルボルネンが含まれる。本明細書において使用され
る用語「(C2 −C8 )オレフィン単量体」は分子に2
−8個の炭素原子を含みそして分子に唯一のエチレン性
不飽和部位を含む化合物を意味する。適当な(C 2 −C
8 )オレフィン単量体には、例えばエチレン、プロペ
ン、1−ブテン、1−ペンテン、ヘプテンが含まれる。
本明細書において使用される用語「(C1 −C12)アル
キル」は基中に1−12個の炭素原子を含有する直鎖ま
たは分岐アルキル置換基を意味しそして例えばメチル、
エチル、n−ブチル、sec −ブチル、t−ブチル、n−
プロピル、iso −プロピル、ペンチル、ヘキシル、へプ
チル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシルおよびド
デシルを含む。適当な(C1 −C12)アルキルアクリレ
ートには例えばエチルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、iso −ペンチルアクリレート、n−ヘキシルアクリ
レート、2−エチルヘキシルアクリレートが含まれる。
本明細書において使用される用語「モノ−エチレン性不
飽和ニトリル単量体」は分子に唯一のニトリル基と唯一
のエチレン性不飽和部位を含むアクリル化合物を意味し
そして例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリルを
含む。
Suitable vinyl aromatic monomers and conjugated die
The monomer is a vinyl aromatic-conjugated diene block of the present invention.
It was already disclosed in the description of the copolymer. Appropriate
Non-conjugated diene monomers include, for example, ethylidene norbornene.
, Dicyclopentadiene, hexadiene or phenyl
Includes Renorbornene. Used herein
Term "(CTwo-C8) "Olefin monomer" has 2 molecules
-8 carbon atoms and unique ethylenic in the molecule
It means a compound containing an unsaturated site. Appropriate (C Two-C
8) Examples of olefin monomers include ethylene and propene.
And 1-butene, 1-pentene and heptene.
As used herein, the term "(C1-C12) Al
"Kill" refers to a straight chain containing from 1 to 12 carbon atoms in the group.
Or branched alkyl substituents and for example methyl,
Ethyl, n-butyl, sec-butyl, t-butyl, n-
Propyl, iso-propyl, pentyl, hexyl, hep
Chill, octyl, nonyl, decyl, undecyl and do
Including decyl. Appropriate (C1-C12) Alkyl acryl
For example, ethyl acrylate, butyl acrylate
, Iso-pentyl acrylate, n-hexyl acrylate
Rate, including 2-ethylhexyl acrylate.
As used herein, the term "mono-ethylenic
"Saturated nitrile monomer" is the only nitrile group and only one in the molecule
Means an acrylic compound containing an ethylenically unsaturated moiety of
And, for example, acrylonitrile, methacrylonitrile
Including.

【0015】好ましい実施の態様においては、ゴム質重
合体基質層は一種以上の共役ジエン単量体から誘導され
た反復単位30−90wt%およびビニル芳香族単量体
およびモノ−エチレン性不飽和ニトリル単量体から選択
される一種以上の単量体から誘導される反復単位10−
70wt%を含む。ゴム質重合体基質層は随意に、例え
ばブチレンジアクリレート、ジビニルベンゼン、ブタン
ジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレートのようなポリ−エチレン性不飽
和「架橋性」単量体から誘導された反復単位を少量例え
ば5wt%まで含むことができる。本明細書において使
用される用語「ポリ−エチレン性不飽和」とは分子にエ
チレン性不飽和部位を二つ以上有することを意味する。
In a preferred embodiment, the rubbery polymer matrix layer comprises 30-90 wt% of repeating units derived from one or more conjugated diene monomers and vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitriles. Repeating units derived from one or more monomers selected from monomers 10-
Contains 70 wt%. The rubbery polymer matrix layer is optionally derived from poly-ethylenically unsaturated "crosslinkable" monomers such as butylene diacrylate, divinylbenzene, butanediol dimethacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate. Repeating units may be included in small amounts, eg up to 5 wt%. As used herein, the term “poly-ethylenically unsaturated” means having two or more sites of ethylenic unsaturation in the molecule.

【0016】ゴム質重合体基質層は、特にゴム質基質層
がアルキル(メタ)アクリレート単量体から誘導された
反復単位を有する場合には、例えばアリルメタクリレー
ト、ジアリルマレエート、トリアリルシアヌレートのよ
うな、基質層あるいは上部層をそれぞれ誘導するモノ−
エチレン性不飽和単量体とはエチレン性不飽和部位の反
応性が実質的に異なるところの、ポリ−エチレン性不飽
和「グラフト結合性」単量体から誘導される反復単位を
少量例えば3wt%まで含むことができる。
The rubbery polymer matrix layer is, for example, of allyl methacrylate, diallyl maleate, triallyl cyanurate, especially when the rubbery matrix layer has repeating units derived from alkyl (meth) acrylate monomers. , Which induces the substrate layer or the upper layer, respectively.
A small amount of repeating units derived from a poly-ethylenically unsaturated "graft-bonding" monomer, such as 3 wt%, where the reactivity of the ethylenically unsaturated site is substantially different from the ethylenically unsaturated monomer. Can be included.

【0017】第一の大いに好ましい実施の態様において
は、基質層は一種以上の共役ジエン単量体から誘導され
た反復単位を含み例えば実質的に単独重合体であるポリ
ブタジエンゴムである。第二の大いに好ましい実施の態
様においては、基質層は一種以上の共役ジエン単量体お
よびビニル芳香族単量体とモノ−エチレン性不飽和ニト
リル単量体とから選ばれる一種以上の共重合可能な共重
合単量体から誘導される反復単位を含み、例えばスチレ
ン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体およびスチレン−ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体である。非常に好ましい実施の態様におい
ては、基質層は一種以上の共役ジエン単量体から誘導さ
れた反復単位を60−95wt%含む。
In a first highly preferred embodiment, the substrate layer is a polybutadiene rubber which contains repeating units derived from one or more conjugated diene monomers, eg is a substantially homopolymer. In a second highly preferred embodiment, the substrate layer is one or more copolymerizable one or more selected from conjugated diene monomers and vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers. It contains repeating units derived from various copolymerizable monomers, such as styrene-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer and styrene-butadiene-acrylonitrile copolymer. In a highly preferred embodiment, the matrix layer comprises 60-95 wt% repeat units derived from one or more conjugated diene monomers.

【0018】第三の大いに好ましい実施の態様において
は、基質層は一種以上の(C1 −C 12)アルキルアクリ
レート単量体から誘導された反復単位を含む。更に大い
に好ましい実施の態様においては、ゴム質重合体基質層
は一種以上の(C1 −C12)アルキルアクリレート単量
体より好ましくはエチルアクリレート、ブチルアクリレ
ートおよびn−ヘキシルアクリレートから選択される一
種以上の単量体から誘導される反復単位を40−95w
t%含む。
In a third highly preferred embodiment
Has one or more substrate layers (C1-C 12) Alkyl acrylate
It contains repeating units derived from rate monomers. Greater
In a preferred embodiment for the rubbery polymer matrix layer
Is more than one (C1-C12) Alkyl acrylate unit
More preferably body, ethyl acrylate, butyl acrylate
And one selected from n-hexyl acrylate.
40-95w repeating units derived from more than one monomer
Includes t%.

【0019】第四の大いに好ましい実施の態様において
は、基質層は一種以上のオレフィン単量体から誘導され
た第一の反復単位および一種以上の非共役ジエン単量体
から誘導された第二の反復単位を含み、例えばエチレン
/プロピレン共重合体、エチレン/プロピレン/非共役
ジエン単量体ターポリマーである。適当なゴム質重合体
基質層は例えば乳化重合や塊状重合のような既知の方法
により製造される。
In a fourth highly preferred embodiment, the substrate layer comprises a first repeating unit derived from one or more olefin monomers and a second repeating unit derived from one or more non-conjugated diene monomers. It contains repeating units, for example ethylene / propylene copolymers, ethylene / propylene / non-conjugated diene monomer terpolymers. Suitable rubbery polymer matrix layers are prepared by known methods such as emulsion polymerization and bulk polymerization.

【0020】好ましい実施の態様においては、ゴム質重
合体基質層は、遊離基開始剤例えば有機過酸化物あるい
は過硫酸塩開始剤またはレドックス開始剤系の存在下
で、そして随意には連鎖移動剤例えばアルキルメルカプ
タンの存在下で水性乳化重合することにより製造され
る。好ましい態様では、乳化重合されたゴム質重合体基
質層は粒状の形態をしており、光透過で測定して50−
1000ナノメートル(nm)、より好ましくは50−
600nmの重量平均粒度を有している。ゴム質重合体
基質層は単一モードの粒度分布あるいは多モード例えば
二モードの粒度分布を示すことができる。二モードの粒
度分布の例としては例えば80−180nmの範囲内の
粒度を有する粒子を50−80wt%、そして例えば2
50−1000nmの範囲内の粒度を有する粒子を20
−50wt%含んでなる。
In a preferred embodiment, the rubbery polymeric substrate layer is in the presence of a free radical initiator such as an organic peroxide or persulfate initiator or redox initiator system, and optionally a chain transfer agent. For example, it is produced by aqueous emulsion polymerization in the presence of alkyl mercaptan. In a preferred embodiment, the emulsion polymerized rubbery polymer matrix layer is in the form of particles and has a 50-
1000 nanometers (nm), more preferably 50-
It has a weight average particle size of 600 nm. The rubbery polymer matrix layer may exhibit a monomodal particle size distribution or a multimodal, eg bimodal particle size distribution. An example of a bimodal particle size distribution is, for example, 50-80 wt% particles having a size in the range 80-180 nm, and for example 2
20 particles having a particle size in the range of 50-1000 nm
-50 wt% is included.

【0021】ゴム質重合体基質層が塊状重合によって製
造される別の好ましい実施の態様においては、ゴム質重
合体基質層は粒状の形態をしていて50−1000n
m、より好ましくは50−500nmの重量平均粒度を
有している。ii:硬質重合体上部層 硬質重合体上部層は(C1 −C12)アルキル(メタ)ア
クリレート単量体、ビニル芳香族単量体およびモノ−エ
チレン性不飽和ニトリル単量体からなる群から選ばれる
単量体から誘導された反復単位を含む。適当なビニル芳
香族単量体およびモノ−エチレン性不飽和ニトリル単量
体については既に上記に示した。本明細書に使用される
用語「(C1 −C12)アルキル(メタ)アクリレート単
量体」とはアクリレート単量体とメタクリレート単量体
を集約して指す。適当なアルキル(メタ)アクリレート
単量体には、上記に開示したアクリレート単量体並びに
これらのメタクリレート類似体例えばメチルメタクリレ
ート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレー
ト、iso −プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレ
ート、ヘキシルメタクリレート、デシルメタクリレート
が含まれる。
In another preferred embodiment in which the rubbery polymer matrix layer is produced by bulk polymerization, the rubbery polymer matrix layer is in the form of particles and has a thickness of 50-1000 n.
m, more preferably 50-500 nm weight average particle size. ii: Hard Polymer Top Layer The hard polymer top layer is from the group consisting of (C 1 -C 12 ) alkyl (meth) acrylate monomers, vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers. It contains repeating units derived from the monomer of choice. Suitable vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers have already been mentioned above. As used herein, the term “(C 1 -C 12 ) alkyl (meth) acrylate monomer” refers collectively to acrylate and methacrylate monomers. Suitable alkyl (meth) acrylate monomers include the acrylate monomers disclosed above as well as their methacrylate analogs such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, iso-propyl methacrylate, butyl methacrylate, hexyl methacrylate, decyl methacrylate. Is included.

【0022】大いに好ましい実施の態様においては、上
部層はスチレン、α−メチルスチレンおよびアクリロニ
トリルから選択される一種以上の単量体から誘導された
反復単位を含む。より好ましい実施の態様においては、
上部層はスチレンから誘導された反復単位60−90w
t%およびアクリロニトリルから誘導された反復単位1
0−40wt%を含む。
In a highly preferred embodiment, the top layer comprises repeating units derived from one or more monomers selected from styrene, α-methylstyrene and acrylonitrile. In a more preferred embodiment,
The upper layer is a repeating unit 60-90w derived from styrene.
Repeating unit 1 derived from t% and acrylonitrile
Including 0-40 wt%.

【0023】別の大いに好ましい実施の態様において
は、上部層は一種以上の(C1 −C12)アルキル(メ
タ)アクリレート単量体から誘導された反復単位を含
み、随意には更にビニル芳香族単量体およびモノ−エチ
レン性不飽和ニトリル単量体から選択される一種以上の
単量体から誘導された反復単位を含むことができる。特
に好ましい実施の態様においては、硬質重合体上部層は
一種以上の(C1 −C12)アルキル(メタ)アクリレー
ト単量体より好ましくはメチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピ
ルメタクリレートおよびブチルメタクリレートから選ば
れた一種以上の単量体から誘導された反復単位を50w
t%以上含む。
In another highly preferred embodiment, the top layer comprises repeating units derived from one or more (C 1 -C 12 ) alkyl (meth) acrylate monomers, optionally further vinyl aromatic. It may include repeating units derived from one or more monomers selected from monomers and mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers. In a particularly preferred embodiment, the hard polymer top layer comprises one or more (C 1 -C 12 ) alkyl (meth) acrylate monomers, more preferably methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate and butyl methacrylate. 50 w of repeating units derived from one or more selected monomers
Contains t% or more.

【0024】それぞれのTgの制限が満たされる限りに
おいては、ゴム質基質層および硬質上部層はそれぞれ独
立して一種以上のその他の共重合可能なエチレン性不飽
和単量体から誘導された反復単位を、少量例えば基質層
または上部層それぞれの合計重量の15wt%まで含ん
でもよい。上述した単量体と共重合しうる適当なモノ−
エチレン性不飽和単量体には例えば、モノ−エチレン性
不飽和カルボン酸例えばアクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸;ヒドロキシ(C1 −C12)アルキル(メタ)
アクリレート単量体例えばヒドロキシエチルメタクリレ
ート;(C4 −C12)シクロアルキル(メタ)アクリレ
ート単量体例えばシクロヘキシルメタクリレート;(メ
タ)アクリルアミド単量体例えばアクリルアミドおよび
メタクリルアミド;ビニルエステル例えば酢酸ビニルお
よびプロピオン酸ビニルが含まれる。本明細書に使用さ
れる用語「(C4 −C12)シクロアルキル」は基中に4
−12個の炭素原子を有する環式アルキル置換基を意味
し、そして用語「(メタ)アクリルアミド」はアクリル
アミドとメタクリルアミドとを集約して指す。
As long as the respective Tg limits are met, the rubbery substrate layer and the hard top layer are each independently a repeating unit derived from one or more other copolymerizable ethylenically unsaturated monomers. May be included in small amounts, for example up to 15 wt% of the total weight of each of the substrate layer or the top layer. Suitable Monomers Copolymerizable with the Monomers Above
Examples of ethylenically unsaturated monomers include mono-ethylenically unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid; hydroxy (C 1 -C 12 ) alkyl (meth)
Acrylate monomers such as hydroxyethyl methacrylate; (C 4 -C 12 ) cycloalkyl (meth) acrylate monomers such as cyclohexyl methacrylate; (meth) acrylamide monomers such as acrylamide and methacrylamide; vinyl esters such as vinyl acetate and propionic acid. Contains vinyl. As used herein, the term “(C 4 -C 12 ) cycloalkyl” includes 4
A cyclic alkyl substituent having -12 carbon atoms is meant, and the term "(meth) acrylamide" refers collectively to acrylamide and methacrylamide.

【0025】硬質重合体上部層は随意に、一種以上のポ
リ−エチレン性不飽和架橋性単量体から誘導された反復
単位を少量例えば3wt%まで、より好ましくは1.5
wt%まで含むことができる。適当な架橋性単量体につ
いては既に上記に記載した。グラフト共重合体は既知の
方法に従って、硬質重合体上部層の少なくとも一部が共
有結合を介してゴム質重合体基質層に化学的にグラフト
されるような条件下において、ゴム質重合体基質層の粒
子の存在下で、所望のTgを有する硬質重合体上部層を
与えるために選ばれた一種以上の単量体を重合すること
により製造される。好ましい実施の態様においては、基
質層粒子および重合開始剤系例えば熱またはレドックス
開始剤系の存在下において水性乳化または水性懸濁重合
反応により上部層単量体を重合する。これにより、上部
層単量体の重合過程の連鎖の一部が基質層内の不飽和部
位との反応を介して基質層に化学結合即ちグラフとされ
る。基質層内の不飽和部位は例えば共役ジエンから誘導
された反復単位中の残留不飽和部位によるかまたはグラ
フト結合性単量体から誘導された反復単位中の残留不飽
和部位によって提供される。好ましい実施の態様におい
ては、硬質重合体上部層の30wt%以上好ましくは6
0wt%以上がゴム質重合体基質層に化学的にグラフト
され、そして硬質重合体上部層の70wt%未満好まし
くは40wt%未満がグラフトされずに残る。
The hard polymer top layer is optionally a small amount of repeating units derived from one or more poly-ethylenically unsaturated crosslinkable monomers, for example up to 3 wt%, more preferably 1.5.
It can be included up to wt%. Suitable crosslinkable monomers have already been mentioned above. The graft copolymer may be prepared according to known methods under conditions such that at least a portion of the hard polymer top layer is chemically grafted to the rubber polymer substrate layer via covalent bonds. Prepared by polymerizing one or more monomers selected to provide a hard polymer top layer having the desired Tg in the presence of the particles. In a preferred embodiment, the upper layer monomers are polymerized by an aqueous emulsion or aqueous suspension polymerization reaction in the presence of substrate layer particles and a polymerization initiator system such as heat or a redox initiator system. Accordingly, a part of the chain of the polymerization process of the upper layer monomer is chemically bonded or graphed to the substrate layer through the reaction with the unsaturated site in the substrate layer. Unsaturation sites in the substrate layer are provided, for example, by residual unsaturation sites in the repeating unit derived from the conjugated diene or by residual unsaturation sites in the repeating unit derived from the graft-linking monomer. In a preferred embodiment, at least 30 wt% of the hard polymer top layer, preferably 6
Greater than 0 wt% is chemically grafted to the rubbery polymer matrix layer, and less than 70 wt%, preferably less than 40 wt% of the hard polymer top layer remains ungrafted.

【0026】上部層は適当な単量体あるいは適当な単量
体混合物から単一工程で重合することができるし、ある
いは異なる組成の二つ以上の硬質重合体上部層の相を別
個に重合して形成、例えばメチルメタクリレート相とこ
れと別個に重合したスチレン相とから形成することがで
きる。第一の好ましい実施の態様では、基質層は一種以
上の共役ジエン単量体から誘導された反復単位を含みそ
して随意には更にビニル芳香族単量体およびモノ−エチ
レン性不飽和ニトリル単量体から選ばれた一種以上の単
量体から誘導された反復単位を含むことができ、そして
上部層はビニル芳香族単量体およびモノ−エチレン性不
飽和ニトリル単量体から選ばれた一種以上の単量体から
誘導された反復単位を含み、例えばアクリロニトリル−
ブタジエン−スチレン(ABS)高ゴムグラフト共重合
体が例示される。適当なABSタイプの高ゴムグラフト
共重合体はGE Specialty Chemicals,Inc. から例えばB
LENDEX(登録商標)336およびBLENDEX
(登録商標)338改質剤として市販されている。
The top layer can be polymerized from a suitable monomer or mixture of suitable monomers in a single step, or the phases of two or more hard polymer top layers of different composition can be polymerized separately. Can be formed by, for example, a methyl methacrylate phase and a separately polymerized styrene phase. In a first preferred embodiment, the substrate layer comprises repeating units derived from one or more conjugated diene monomers and optionally further vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers. May include repeating units derived from one or more monomers selected from, and the upper layer comprises one or more monomers selected from vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers. Containing repeating units derived from monomers such as acrylonitrile-
An example is a butadiene-styrene (ABS) high rubber graft copolymer. Suitable ABS type high rubber graft copolymers are commercially available from GE Specialty Chemicals, Inc. as eg B
LENDEX® 336 and BLENDEX
It is commercially available as (registered trademark) 338 modifier.

【0027】第二の好ましい実施の態様においては、基
質層は一種以上の(C1 −C12)アルキルアクリレート
単量体から誘導された反復単位を含みそして上部層はビ
ニル芳香族単量体およびモノ−エチレン性不飽和ニトリ
ル単量体から選ばれた一種以上の単量体から誘導された
反復単位を含み、例えばスチレンーアクリレート(S
A)高ゴムグラフト共重合体およびアクリロニトリルー
スチレンーアクリレート(ASA)高ゴムグラフト共重
合体が例示される。適当なASAタイプのグラフト共重
合体はGE Specialty Chemicals,Inc. から例えばBLE
NDEX(登録商標)980改質剤として市販されてい
る。
In a second preferred embodiment, the substrate layer comprises repeating units derived from one or more (C 1 -C 12 ) alkyl acrylate monomers and the top layer comprises vinyl aromatic monomers and It contains repeating units derived from one or more monomers selected from mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers, such as styrene-acrylate (S
A) high rubber graft copolymer and acrylonitrile-styrene-acrylate (ASA) high rubber graft copolymer are exemplified. Suitable ASA type graft copolymers are commercially available from GE Specialty Chemicals, Inc., such as BLE.
It is commercially available as NDEX® 980 modifier.

【0028】第三の好ましい実施の態様においては、基
質層は一種以上の共役ジエン単量体から誘導された反復
単位を含みそして随意には更に(C1 −C12)アルキル
(メタ)アクリレート単量体、ビニル芳香族単量体およ
びモノ−エチレン性不飽和ニトリル単量体から選ばれる
一種以上の単量体から誘導された反復単位を含むことが
でき、そして上部層は一種以上の(C1 −C12)アルキ
ル(メタ)アクリレート単量体から誘導された反復単位
を含みそして随意には更にビニル芳香族単量体およびモ
ノ−エチレン性不飽和ニトリル単量体から選ばれる一種
以上の単量体から誘導された反復単位を含むことがで
き、例えばメチルメタクリレートーアクリロニトリルー
ブタジエンースチレン(MABS)高ゴムグラフト共重
合体およびメタクリレートーブタジエンースチレン(M
BS)高ゴムグラフト共重合体が例示される。適当なM
BSタイプのグラフト共重合体はRohm and Hass Compan
y から市販されているPARALOID(登録商標)B
TA−733およびBTA−753およびKaneka Texas
から市販されているKane Ace B−56であ
る。
In a third preferred embodiment, the substrate layer comprises repeating units derived from one or more conjugated diene monomers and optionally further comprises (C 1 -C 12 ) alkyl (meth) acrylate monomers. Monomers, repeating units derived from one or more monomers selected from vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers, and the top layer comprises one or more (C 1 -C 12) alkyl (meth) include repeating units derived from acrylate monomers and optionally further vinyl aromatic monomers and mono - ethylenically least one single selected from unsaturated nitrile monomer It may contain repeating units derived from a polymer such as methylmethacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene (MABS) high rubber graft copolymer and methacryl. Rate-butadiene-styrene (M
BS) high rubber graft copolymer is exemplified. Suitable M
BS type graft copolymer is Rohm and Hass Compan
PARALOID® B commercially available from y
TA-733 and BTA-753 and Kaneka Texas
Kane Ace B-56, commercially available from

【0029】第四の好ましい実施の態様においては、基
質層は一種以上のオレフィン単量体から誘導された反復
単位を含みそして随意には更に一種以上の非共役ジエン
単量体から誘導された反復単位を含むことができそして
上部層はビニル芳香族単量体およびモノ−エチレン性不
飽和ニトリル単量体から選ばれる一種以上の単量体から
誘導された反復単位を含み、例えばアクリロニトリル−
エチレン−プロピレン−スチレン(AES)高ゴムグラ
フト共重合体が例示される。
In a fourth preferred embodiment, the substrate layer comprises repeating units derived from one or more olefinic monomers and optionally further repeating units derived from one or more non-conjugated diene monomers. Units and the top layer comprises repeating units derived from one or more monomers selected from vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers, such as acrylonitrile-
An example is an ethylene-propylene-styrene (AES) high rubber graft copolymer.

【0030】第五の好ましい実施の態様においては、基
質層は一種以上の(C1 −C12)アルキルアクリレート
単量体から誘導された反復単位を含みそして上部層は一
種以上の(C1 −C12)アルキル(メタ)アクリレート
単量体から誘導された反復単位を含み、例えばアクリル
系「コア−シェル」グラフト共重合体が例示される。適
当なアクリル系タイプのグラフト共重合体はRohm and H
ass Company から市販されているPARALOID(登
録商標)KM334およびKM355改質剤である。
In a fifth preferred embodiment, the substrate layer comprises repeat units derived from one or more (C 1 -C 12 ) alkyl acrylate monomers and the top layer comprises one or more (C 1 -C 1-). include C 12) alkyl (meth) repeating units derived from acrylate monomers, for example acrylic "core - shell" graft copolymers. Suitable acrylic type graft copolymers are Rohm and H
PARALOID® KM334 and KM355 modifiers commercially available from ass Company.

【0031】例えばASAタイプ、SAタイプ、アクリ
ル系タイプおよびAESタイプのグラフト共重合体のよ
うな実質的に完全に飽和されたゴム質重合体基質層に基
づくグラフト共重合体は、例えばブタジエンゴムをベー
スとするグラフト共重合体のような残留不飽和を高度に
含むゴム質重合体基質層に基づくグラフト共重合体に比
べて、耐候性に優れ、太陽光への露出や温度および湿度
水準の循環する変化への露出による劣化に対して高い抵
抗性を示し、従って屋外環境への露出を伴うことが予期
されるような用途に対して好ましい。
Graft copolymers based on a substantially fully saturated rubbery polymer matrix layer, such as, for example, ASA type, SA type, acrylic type and AES type graft copolymers, include, for example, butadiene rubber. Compared to graft copolymers based on rubbery polymer matrix layers containing a high degree of residual unsaturation such as the base graft copolymers, they have better weather resistance, exposure to sunlight and cycling of temperature and humidity levels. It is highly resistant to degradation by exposure to changes in water and is therefore preferred for applications where it is expected to be associated with exposure to the outdoor environment.

【0032】エラストマー組成物の非常に好ましい実施
の態様においては、ビニル芳香族−共役ジエンブロック
共重合体は例えばこの共重合体の重合後に残留不飽和を
水素添加することにより実質的に完全に飽和しそしてグ
ラフト共重合体のゴム質基質層をアルキルアクリレート
好ましくはブチルアクリレートから誘導し上部層をビニ
ル芳香族単量体好ましくはスチレンおよびニトリル単量
体好ましくはアクリロニトリルから誘導する。
In a highly preferred embodiment of the elastomeric composition, the vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer is substantially fully saturated by, for example, hydrogenating residual unsaturation after polymerization of the copolymer. And the rubbery substrate layer of the graft copolymer is derived from an alkyl acrylate, preferably butyl acrylate, and the upper layer is derived from vinyl aromatic monomers, preferably styrene and nitrile monomers, preferably acrylonitrile.

【0033】II.熱可塑性樹脂組成物 好ましい実施の態様においては、本発明の熱可塑性樹脂
組成物は熱可塑性樹脂60−90wt%およびエラスト
マー組成物10−40wt%を含む。適当な熱可塑性樹
脂並びに熱可塑性樹脂の製造方法は当業界に知られてお
り、そしてこのような樹脂にはポリプロピレンおよびポ
リ(1−メチルペンテン)の単独重合体およびプロピレ
ンまたは1−メチルペンテンと他の単量体好ましくは他
のオレフィン単量体との共重合体例えばポリ(プロピレ
ン−エチレン)、ポリ(プロピレン−ブテン)が含まれ
る。大いに好ましい実施の態様では、熱可塑性樹脂はポ
リプロピレン単独重合体である。
II. Thermoplastic Resin Composition In a preferred embodiment, the thermoplastic resin composition of the present invention comprises 60-90 wt% thermoplastic resin and 10-40 wt% elastomer composition. Suitable thermoplastics and methods of making thermoplastics are known in the art, and such resins include homopolymers of polypropylene and poly (1-methylpentene) and propylene or 1-methylpentene and others. Monomers, preferably copolymers with other olefin monomers such as poly (propylene-ethylene) and poly (propylene-butene) are included. In a highly preferred embodiment, the thermoplastic resin is polypropylene homopolymer.

【0034】本発明のエラストマー組成物および熱可塑
性樹脂組成物は随意には更に組成物の加熱歪み温度を上
昇させるのに有効な例えばそれぞれの組成物の全重量の
40wt%までの量のポリフェニレンエーテル樹脂を含
むことができる。適当なポリフェニレンエーテル樹脂は
参考までに米国特許第4,404,125号明細書およ
び米国特許第4,771,096号明細書に開示されて
いる。好ましい実施の態様においては、ポリフェニレン
エーテル樹脂は2,6−ジメチルフェノールおよび2,
3,6−トリメチルフェノールの一種以上から誘導され
た反復単位を含んでいる。
The elastomeric and thermoplastic resin compositions of the present invention are optionally effective to further increase the heat distortion temperature of the composition, eg, polyphenylene ether in an amount up to 40 wt% of the total weight of each composition. It may include a resin. Suitable polyphenylene ether resins are disclosed by reference in U.S. Pat. No. 4,404,125 and U.S. Pat. No. 4,771,096. In a preferred embodiment, the polyphenylene ether resin is 2,6-dimethylphenol and 2,6-dimethylphenol.
It contains repeating units derived from one or more of 3,6-trimethylphenol.

【0035】本発明のエラストマーおよび熱可塑性樹脂
のそれぞれの組成物は当業界に知られたその他の添加剤
例えば強化充填剤、顔料、着色剤、難燃剤、静電防止
剤、可塑剤、オイル類、潤滑剤、酸化防止剤、紫外線安
定剤、熱安定剤および共安定剤を随意に含むことができ
る。本発明のエラストマーおよび熱可塑性樹脂のそれぞ
れの組成物はそれぞれ例えば二ロールミル、バンバリー
ミキサあるいは混練素子の装備された一軸または二軸配
合機内で諸成分を例えば溶融混合することにより製造さ
れる。本発明に記載した材料は射出、押出、回転および
吹き込み成形あるいは熱成形などの種々の手段によって
有用な物品に成形することができる。
The respective compositions of the elastomers and thermoplastics of the present invention may include other additives known in the art such as reinforcing fillers, pigments, colorants, flame retardants, antistatic agents, plasticizers, oils. , Lubricants, antioxidants, UV stabilizers, heat stabilizers and costabilizers. The respective compositions of elastomers and thermoplastics according to the invention are produced, for example, by melt-mixing the components, for example in a uniaxial or biaxial compounder equipped with a two-roll mill, a Banbury mixer or kneading elements. The materials described in this invention can be formed into useful articles by various means such as injection, extrusion, spin and blow molding or thermoforming.

【0036】本発明のエラストマー組成物は靴底、ガス
ケットのような物品に低い硬度および高い伸びを必要と
する用途に特に良く適している。本発明の熱可塑性樹脂
組成物は熱成形した自動車の内装パネル、吹き込み成形
したコンテナのような物品に衝撃強さを必要とする用途
に特に良く適している。ビニル芳香族−共役ジエンブロ
ック共重合体が実質的に完全に飽和されておりそしてグ
ラフト共重合体のゴム質重合体基質層がアクリレートゴ
ム、エチレン−プロピレンゴムまたはエチレン−プロピ
レン−非共役ジエンゴム、即ちグラフト共重合体がAS
Aタイプ、SAタイプ、アクリル系タイプおよびAES
タイプのグラフト共重合体であるような本発明のエラス
トマー組成物の大いに好ましい実施の態様の場合並びに
このようなエラストマー組成物を含んだ本発明の熱可塑
性樹脂組成物の実施の態様はこのような組成物が優れた
耐候性を発揮することから屋外の用途を意図された物品
への用途に特に良く適している。
The elastomeric compositions of the present invention are particularly well suited for applications requiring low hardness and high elongation in articles such as shoe soles, gaskets. The thermoplastic resin composition of the present invention is particularly well suited for applications requiring impact strength in articles such as thermoformed automotive interior panels and blow molded containers. The vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer is substantially fully saturated and the rubbery polymeric substrate layer of the graft copolymer is an acrylate rubber, ethylene-propylene rubber or ethylene-propylene-non-conjugated diene rubber, i.e. Graft copolymer is AS
A type, SA type, acrylic type and AES
In the case of the highly preferred embodiment of the elastomer composition of the present invention, which is a graft copolymer of the type described, as well as the embodiment of the thermoplastic resin composition of the present invention including such an elastomer composition, The composition exhibits excellent weatherability and is therefore particularly well suited for use in articles intended for outdoor use.

【0037】実施例 ビニル芳香族−共役ジエンブロック共重合体をグラフト
共重合体と実験室用の二ロールミルで171℃にて5分
間溶融混合することにより実施例1−9および比較例A
のABSグラフト共重合体/SBSブロック共重合体お
よびABSグラフト共重合体/SBブロック共重合体の
ブレンドを調製した。試験用の試料は174℃でプレス
した。
[0037] Example vinylaromatic - conjugated diene block copolymer Examples 1-9 and Comparative Examples by mixing 5 minutes melt at 171 ° C. in a two roll mill for laboratory and graft copolymer A
Blends of ABS graft copolymer / SBS block copolymer and ABS graft copolymer / SB block copolymer were prepared. The test sample was pressed at 174 ° C.

【0038】実施例1−9および比較例Aの組成物の試
料を以下の試験にかけた。ASTMD−412による引
張強さ、引張伸びおよび引張モジュラス;ダイCを使用
したASTM D−624による引き裂き抵抗;AST
M D−2240による硬さ(ショアAおよびショア
D)。以下の表1に、実施例1−9および比較例Aそれ
ぞれの比較組成を重量部(pbw)で表し、引張強さお
よび引張降伏強さをポンド/平方インチ(PSI)で表
し、引張伸びをパーセント(%)で表し、引き裂き強さ
および引き裂き降伏強さをポンド/直線インチ(lbs
/in)で表し、幾つかの異なる剪断速度で測定した毛
細管粘度をポイズで表して示す。
Samples of the compositions of Examples 1-9 and Comparative Example A were subjected to the following tests. Tensile Strength, Tensile Elongation and Tensile Modulus by ASTM D-412; Tear Resistance by ASTM D-624 using Die C; AST
Hardness according to MD-2240 (Shore A and Shore D). In Table 1 below, the comparative compositions of Examples 1-9 and Comparative Example A, respectively, are expressed in parts by weight (pbw), tensile strength and tensile yield strength are expressed in pounds per square inch (PSI), and tensile elongation is Expressed in percent (%), tear strength and tear yield strength are reported in pounds per linear inch (lbs).
/ In) and the capillary viscosities measured at several different shear rates, expressed in poise.

【0039】実施例10−21および比較例Bの熱可塑
性樹脂組成物は、ビニル芳香族−共役ジエンブロック共
重合体およびグラフト共重合体を上記に記載したように
二ロールミルを使った方法によって組み合わせてからこ
うして得られたブレンドを二ロールミルを使って250
℃で5分間熱可塑性重合体と溶融混合して調製した。こ
の熱可塑性樹脂組成物は衝撃試験(1/8インチアイゾ
ット)にかけた。以下の表2に、実施例10−21およ
び比較例Bの組成物の比較組成およびフート・ポンド/
インチ(ft−lb/in)で表した衝撃試験の結果を
示す。
The thermoplastic resin compositions of Examples 10-21 and Comparative Example B were combined by combining a vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer and a graft copolymer by the two roll mill method as described above. Then the blend thus obtained is subjected to 250 using a two-roll mill.
It was prepared by melt mixing with a thermoplastic polymer for 5 minutes at 0 ° C. This thermoplastic resin composition was subjected to an impact test (1/8 inch Izod). In Table 2 below, the comparative compositions and foot pounds / of the compositions of Examples 10-21 and Comparative Example B are shown.
The results of the impact test in inches (ft-lb / in) are shown.

【0040】実施例22−24および比較例C、Dおよ
びEのASAグラフト共重合体/水素添加SBSブロッ
ク共重合体ブレンドを上記に記載した二ロールミルを使
用した方法により調製した。この組成物の引張性能はA
STM D−412によりクロスヘッド速度20インチ
/分で試験した。以下の表3に、実施例22−24およ
び比較例C、DおよびEの組成物の比較組成をpbwで
表し、そして試験結果即ち、最大応力をポンド/平方イ
ンチ(PSI)で表し、降伏歪みおよび破断歪みを%で
表し、ヤング率をPSIで表し、100%歪みでの応力
をPSIで表して示した。
The ASA graft copolymer / hydrogenated SBS block copolymer blends of Examples 22-24 and Comparative Examples C, D and E were prepared by the two roll mill method described above. The tensile performance of this composition is A
Tested according to STM D-412 at a crosshead speed of 20 inches / minute. In Table 3 below, the comparative composition of the compositions of Examples 22-24 and Comparative Examples C, D and E is expressed in pbw and the test results, ie maximum stress in pounds per square inch (PSI), yield strain The breaking strain was expressed in%, Young's modulus was expressed in PSI, and stress at 100% strain was expressed in PSI.

【0041】実施例25−26のMBSグラフト共重合
体/水素添加SBSブロック共重合体ブレンドは上記に
記載した二ロールミルを使用した方法により調製した。
実施例25−26の組成物の試料を以下の試験にかけ
た。ASTM D−412による引張強さ、引張伸びお
よび引張モジュラス;ASTM D−624によるダイ
Cを使った引き裂き抵抗;ASTM D−2240によ
る硬さ(ショアAおよびショアD)。
The MBS graft copolymer / hydrogenated SBS block copolymer blends of Examples 25-26 were prepared by the method using the two roll mill described above.
Samples of the compositions of Examples 25-26 were subjected to the following tests. Tensile Strength, Tensile Elongation and Tensile Modulus according to ASTM D-412; Tear resistance using Die C according to ASTM D-624; Hardness according to ASTM D-2240 (Shore A and Shore D).

【0042】以下の表4に、実施例25−26の組成物
の比較組成をpbwで表し、そして試験結果即ち、引張
強さをポンド/平方インチ(PSI)で表し、引張伸び
をパーセント(%)で表し、引き裂き強さおよび引き裂
き降伏強さをポンド/直線インチ(lbs/in)で表
して示した。 表1 実施例 A 1 2 3 4 5 6 7 8 9 SBS1 100 70 50 30 70 50 -- -- -- -- SBS2 -- -- -- -- -- -- 70 50 30 70 ABS1 -- 30 50 70 -- -- 30 50 70 -- ABS2 -- -- -- -- 30 50 -- -- -- 30 硬さ ショアA 70 77 80 85 74 76 68 75 83 65 ショアD 24 29 33.5 38 26 29 21 25 32 19.5 引張強さ PSI 1720 2646 2032 1422 1944 1857 475 693 979 564 伸び % 1598 1197 677 325 1325 934 681 409 264 1276 降伏強さ PSI 257 376 447 586 308 337 217 317 501 182 伸び % 23 18 14 9 25 20 14 12 9 14 引裂強さ lbs/in 224 337 391 384 301 333 159 205 284 145 破断歪み % 491 265 114 717 360 437 146 94 552 降伏強さ lbs/in 449 674 782 769 602 665 171 163 239 184 毛細管粘 度ポイズ 100/秒 48747 43475 44490 46552 47598 50682 18252 24049 35487 17846 500/秒 11984 10759 10267 11823 11535 12323 6506 7819 10343 6450 1000/秒 6396 5804 5843 6486 6152 6598 4079 4766 6093 4042 「SBS1」はShell Chemical Companyから商標名Kr
aton1101として市販されているポリスチレン−
ポリブタジエン−ポリスチレントリブロック共重合体で
ある。
In Table 4 below, the comparative compositions of the compositions of Examples 25-26 are expressed in pbw and the test results, tensile strength in pounds per square inch (PSI), tensile elongation in percent (%). ) And the tear strength and tear yield strength are expressed in pounds / linear inch (lbs / in). Table 1 Example A 1 2 3 4 5 6 7 8 9 SBS1 100 70 50 30 70 50 ---- ---- SBS2 ---- ---- ---- 70 50 30 70 ABS1 --30 50 70 ---- 30 50 70 --ABS2 ---- ---- 30 50 ---- --30 Hardness Shore A 70 77 80 85 74 76 68 75 83 65 Shore D 24 29 33.5 38 26 29 21 25 32 19.5 Tensile strength PSI 1720 2646 2032 1422 1944 1857 475 693 979 564 Elongation% 1598 1197 677 325 1325 934 681 409 264 1276 Yield strength PSI 257 376 447 586 308 337 217 317 501 501 182 Elongation% 23 18 14 9 25 20 14 12 9 14 Tear strength lbs / in 224 337 391 384 301 333 159 205 284 145 Break strain% 491 265 114 717 360 437 146 94 552 Yield strength lbs / in 449 674 782 769 602 665 171 163 239 184 Capillary viscosity poise 100 / sec 48747 43475 44490 46552 47598 50682 18252 24049 35487 17846 500 / sec 11984 10759 10267 11823 11535 12323 6506 7819 10343 6450 1000 / sec 6396 5804 5843 6486 6152 6598 4079 4766 6093 4042 `` SBS1 '' is Shell Chemical Trade name from Company Kr
Polystyrene commercially available as aton1101
It is a polybutadiene-polystyrene triblock copolymer.

【0043】「SBS2」はShell Chemical Companyか
ら商標名Kraton1118として市販されているポ
リスチレン−ポリブタジエンジブロック共重合体であ
る。「ABS1」はGeneral Electlic companyから商標
名Blendex338として市販されているポリブタ
ジエンゴムをグラフト共重合体の70重量%有するアク
リロニトリル−ブタジエン−スチレングラフト共重合体
である。
"SBS2" is a polystyrene-polybutadiene diblock copolymer commercially available from Shell Chemical Company under the trade name Kraton 1118. "ABS1" is an acrylonitrile-butadiene-styrene graft copolymer having 70% by weight of the polybutadiene rubber of polybutadiene rubber sold under the tradename Blendex 338 from the General Electlic company.

【0044】「ABS2」はGeneral Electlic company
から商標名Blendex336として市販されている
ポリブタジエン−スチレンゴムをグラフト共重合体の6
5重量%有するアクリロニトリル−ブタジエン−スチレ
ングラフト共重合体である。 表2 実施例 B 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 PP 100 81 81 76 76 76 71 75 70 75 70 71 66 ABS1 -- 15 -- 20 -- -- -- -- -- -- -- -- -- ABS2 -- -- 15 -- 20 15 20 25 30 -- -- 25 30 SBS1 -- 4 4 4 4 -- -- -- -- 25 30 4 4 SBS2 -- -- -- -- -- 4 4 -- -- -- -- -- -- 1/8inア イゾット (ft-lbs 0.93 0.91 1.42 1.01 2.28 1.49 1.37 0.95 0.96 5.88 10.4 2.84 3.2 /in) 「PP」はMontell から商標名Profax6501で
市販されているポリプロピレン樹脂である。
"ABS2" is a General Electlic company
Polybutadiene-styrene rubber, commercially available under the tradename Blendex 336 from
It is an acrylonitrile-butadiene-styrene graft copolymer having 5% by weight. Table 2 Example B 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 PP 100 81 81 76 76 76 71 75 70 75 70 71 66 ABS1 --15 --20 ---- ---- ---- ---- --ABS2 ---- 15 --20 15 20 25 30 ---- 25 30 SBS1 --4 4 4 4 ---- ---- 25 30 4 4 SBS2 ----- ----- 4 4 --------1 / 8in izotto (ft-lbs 0.93 0.91 1.42 1.01 2.28 1.49 1.37 0.95 0.96 5.88 10.4 2.84 3.2 / in) "PP" is from Montell It is a polypropylene resin commercially available under the trade name Profax6501.

【0045】組成物Bおよび10−15はヒンダードフ
ェノール系化合物(0.05wt%−Irganox1
010抗酸化剤)、ホスファイト(0.1wt%−Ul
tranox626)、ステアリン酸カルシウム(0.
1wt%)およびEBSワックス(0.1Wt%)を含
有していた。 表3 実施例 D E 22 23 24 C BC3 70 50 70 50 30 100 ASA3 30 50 -- -- -- -- ASA4 - -- 30 50 70 -- EBSワックス 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 硬さ:ショアA 88 91 72 67 62 76 硬さ:ショアD 42 54 27 24 22 28 降伏歪み% 11 8 27 17 21 732 最大応力PSI 1551 1822 2877 1253 1088 4456 破断歪み% 302 76 1107 687 702 1173 ヤング率PSI 10817 27924 3388 2628 2181 3155 100%歪み応力PSI 1146 -- 352 316 282 404 「BC3」はShell Chemical Companyから商標名KRA
TON G1650として市販されているスチレン/エ
チレン−ブチレン/スチレンブロック共重合体(水素添
加スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体と
も呼ばれる)である。
Compositions B and 10-15 were hindered phenolic compounds (0.05 wt% -Irganox1).
010 antioxidant), phosphite (0.1 wt% -Ul)
transox 626), calcium stearate (0.
1 wt%) and EBS wax (0.1 Wt%). Table 3 Example D E 22 23 24 C BC3 70 50 70 50 30 30 100 ASA3 30 50 ---- ---- ASA4 ---- 30 50 70 --EBS wax 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 Hardness: Shore A 88 91 72 67 62 76 Hardness: Shore D 42 54 27 24 22 28 Yield strain% 11 8 27 17 21 732 Maximum stress PSI 1551 1822 2877 1253 1088 4456 Fracture strain% 302 76 1107 687 702 1173 Young's modulus PSI 10817 27924 3388 2628 2181 3155 100% strain stress PSI 1146 --352 316 282 404 "BC3" is trade name KRA from Shell Chemical Company
Styrene / ethylene-butylene / styrene block copolymer (also called hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer) commercially available as TON G1650.

【0046】「ASA3」は35重量%のゴムを含有す
るアクリロニトリル−スチレン−ブチルアクリレートグ
ラフト共重合体である。「ASA4」は75重量%のゴ
ムを含有するアクリロニトリル−スチレン−ブチルアク
リレートグラフト共重合体である。表4 実施例 25 26 SBS1 50 50 MBS1 50 -- MBS2 -- 50 硬さ:ショアD 26 24 硬さ:ショアA 78 80 引裂強さ lbs/in 258 246.9 降伏強さPSI 515.9 493.7 引張伸び% 33 797 引張強さPSI 1080 1060 「MBS1」は商標名Paraloid BTA753
として市販されているゴム少なくとも70重量%含有す
るメチルメタクリレート−ブタジエン−スチレングラフ
ト共重合体である。
"ASA3" is an acrylonitrile-styrene-butyl acrylate graft copolymer containing 35% by weight rubber. "ASA4" is an acrylonitrile-styrene-butyl acrylate graft copolymer containing 75% by weight rubber. Table 4 Example 25 26 SBS1 50 50 MBS1 50 --MBS2 --50 Hardness: Shore D 26 24 Hardness: Shore A 78 80 Tear strength lbs / in 258 246.9 Yield strength PSI 515.9 493.7 Tensile elongation% 33 797 Tensile strength PSI 1080 1060 "MBS1" is trade name Paraloid BTA753
Is a methyl methacrylate-butadiene-styrene graft copolymer containing at least 70% by weight of rubber.

【0047】「MBS2」は商標名Paraloid
BTA733として市販されているゴム少なくとも65
重量%含有するメチルメタクリレート−ブタジエン−ス
チレングラフト共重合体である。
"MBS2" is a trademark name Paraloid
At least 65 rubbers commercially available as BTA733
It is a methylmethacrylate-butadiene-styrene graft copolymer containing by weight.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 53:02 51:04) (72)発明者 ローマン・ダブリュー・ワイパート アメリカ合衆国、ウェスト・バージニア 州、パーカーズバーグ、サウス・レイク・ ドライブ、40番─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical indication location C08L 53:02 51:04) (72) Inventor Roman W. Wypert West Virginia, USA, Parkersburg, South Lake Drive, number 40

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)ビニル芳香族−共役ジエンブロッ
ク共重合体、および (b)エラストマー組成物の合計重量に基づいて少なく
とも5重量%の高ゴムグラフト共重合体を含んでなり、
前記グラフト共重合体が(i)0℃未満のガラス転移温
度を有しそして一種以上のモノ−エチレン性不飽和単量
体から誘導された反復単位を含んだゴム質重合体基質層
60重量%−95重量%、および(ii)0℃以上のガラ
ス転移温度を有しそしてアルキル(メタ)アクリレート
単量体、ビニル芳香族単量体およびモノ−エチレン性不
飽和ニトリル単量体からなる群から選択される一種以上
の単量体から誘導された反復単位を含んだ硬質重合体上
部層5重量%−40重量%を含み、そして前記硬質重合
体上部層の少なくとも一部が前記ゴム質重合体基質層に
グラフトされてなっている、エラストマー組成物。
1. A composition comprising (a) a vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer, and (b) at least 5% by weight, based on the total weight of the elastomer composition, of a high rubber graft copolymer,
60% by weight of a rubbery polymer matrix layer in which the graft copolymer (i) has a glass transition temperature of less than 0 ° C. and contains repeating units derived from one or more mono-ethylenically unsaturated monomers. -95% by weight, and (ii) having a glass transition temperature above 0 ° C. and from the group consisting of alkyl (meth) acrylate monomers, vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers. 5% -40% by weight of a rigid polymer upper layer comprising repeating units derived from one or more selected monomers, at least a portion of said rigid polymer upper layer comprising said rubbery polymer An elastomeric composition grafted to a matrix layer.
【請求項2】 ブロック共重合体がポリスチレン−ポリ
ブタジエンブロック共重合体、ポリスチレン−ポリブタ
ジエン−ポリスチレンブロック共重合体またはポリスチ
レン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレンブロ
ック共重合体である、請求項1記載の組成物。
2. The block copolymer according to claim 1, which is a polystyrene-polybutadiene block copolymer, a polystyrene-polybutadiene-polystyrene block copolymer or a polystyrene-poly (ethylene-butylene) -polystyrene block copolymer. Composition.
【請求項3】 基質層が一種以上の共役ジエン単量体か
ら誘導された反復単位を含み、そして上部層がビニル芳
香族単量体およびモノ−エチレン性不飽和ニトリル単量
体から選択された一種以上の単量体から誘導された反復
単位を含む、請求項1記載の組成物。
3. The substrate layer comprises repeating units derived from one or more conjugated diene monomers, and the upper layer is selected from vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers. The composition of claim 1 comprising repeat units derived from one or more monomers.
【請求項4】 基質層が一種以上の(C1 −C12)アル
キルアクリレート単量体から誘導された反復単位を含
み、そして上部層がビニル芳香族単量体およびモノ−エ
チレン性不飽和ニトリル単量体から選択された一種以上
の単量体から誘導された反復単位を含む、請求項1記載
の組成物。
4. The substrate layer comprises repeating units derived from one or more (C 1 -C 12 ) alkyl acrylate monomers, and the top layer is a vinyl aromatic monomer and a mono-ethylenically unsaturated nitrile. The composition of claim 1, comprising repeating units derived from one or more monomers selected from monomers.
【請求項5】 基質層が一種以上の共役ジエン単量体か
ら誘導された反復単位を含み、そして上部層が一種以上
の(C1 −C12)アルキル(メタ)アクリレート単量体
から誘導された反復単位を含む、請求項1記載の組成
物。
5. The substrate layer comprises repeating units derived from one or more conjugated diene monomers, and the upper layer is derived from one or more (C 1 -C 12 ) alkyl (meth) acrylate monomers. The composition of claim 1 comprising a repeating unit of:
【請求項6】 基質層が一種以上のオレフィン単量体か
ら誘導された反復単位を含み、そして上部層がビニル芳
香族単量体およびモノ−エチレン性不飽和ニトリル単量
体から選択された一種以上の単量体から誘導された反復
単位を含む、請求項1記載の組成物。
6. A substrate layer comprising repeating units derived from one or more olefin monomers, and an upper layer selected from vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers. The composition according to claim 1, comprising repeating units derived from the above monomers.
【請求項7】 基質層が一種以上の(C1 −C12)アル
キルアクリレート単量体から誘導された反復単位を含
み、そして上部層が一種以上の(C1 −C12)アルキル
(メタ)アクリレート単量体から誘導された反復単位を
含む、請求項1記載の組成物。
7. The substrate layer comprises repeating units derived from one or more (C 1 -C 12 ) alkyl acrylate monomers, and the top layer is one or more (C 1 -C 12 ) alkyl (meth). The composition of claim 1 comprising repeat units derived from an acrylate monomer.
【請求項8】 ブロック共重合体を20−80重量%お
よびグラフト共重合体を20−80重量%含む、請求項
1記載の組成物。
8. The composition according to claim 1, comprising 20-80% by weight of the block copolymer and 20-80% by weight of the graft copolymer.
【請求項9】 グラフト共重合体が基質層を65−90
重量%および上部層を10−35重量%含む、請求項1
記載の組成物。
9. A graft copolymer having a substrate layer of 65-90.
%, And 10-35% by weight of the top layer.
A composition as described.
【請求項10】 (1)プロピレンおよび1−メチルペ
ンテンからなる群から選択される一種以上の単量体から
誘導された反復単位を有する熱可塑性樹脂60−98重
量%、および (2)(a)ビニル芳香族−共役ジエンブロック共重合
体、および (b)エラストマー組成物の合計重量に基づいて少なく
とも5重量%の高ゴムグラフト共重合体を含んでなり、
前記グラフト共重合体が(i)0℃未満のガラス転移温
度を有しそして一種以上のモノ−エチレン性不飽和単量
体から誘導された反復単位を含んだゴム質重合体基質層
60重量%−95重量%、および(ii)0℃以上のガラ
ス転移温度を有しそしてアルキル(メタ)アクリレート
単量体、ビニル芳香族単量体およびモノ−エチレン性不
飽和ニトリル単量体からなる群から選択される一種以上
の単量体から誘導された反復単位を含んだ硬質重合体上
部層5重量%−40重量%を含み、そして前記硬質重合
体上部層の少なくとも一部が前記ゴム質重合体基質層に
グラフトされてなっている、エラストマー組成物2−4
0重量%を含んでなる熱可塑性樹脂組成物。
10. A thermoplastic resin 60-98% by weight having a repeating unit derived from at least one monomer selected from the group consisting of propylene and 1-methylpentene, and (2) (a). ) A vinyl aromatic-conjugated diene block copolymer, and (b) at least 5% by weight of a high rubber graft copolymer, based on the total weight of the elastomeric composition,
60% by weight of a rubbery polymer matrix layer in which the graft copolymer (i) has a glass transition temperature of less than 0 ° C. and contains repeating units derived from one or more mono-ethylenically unsaturated monomers. -95% by weight, and (ii) having a glass transition temperature above 0 ° C. and from the group consisting of alkyl (meth) acrylate monomers, vinyl aromatic monomers and mono-ethylenically unsaturated nitrile monomers. 5% -40% by weight of a rigid polymer upper layer comprising repeating units derived from one or more selected monomers, at least a portion of said rigid polymer upper layer comprising said rubbery polymer Elastomer composition 2-4 grafted on substrate layer
A thermoplastic resin composition comprising 0% by weight.
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