JPH09318832A - 短パルス光源 - Google Patents

短パルス光源

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JPH09318832A
JPH09318832A JP8131953A JP13195396A JPH09318832A JP H09318832 A JPH09318832 A JP H09318832A JP 8131953 A JP8131953 A JP 8131953A JP 13195396 A JP13195396 A JP 13195396A JP H09318832 A JPH09318832 A JP H09318832A
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裕之 津田
Akira Hirano
章 平野
Tomoyoshi Kataoka
智由 片岡
Akihide Sano
明秀 佐野
Kazuo Hagimoto
和男 萩本
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 パルス幅の安定した所望の光波形を出力する
短パルス光源を実現する。 【解決手段】 光共振器および共振器内に配置された光
利得媒質および共振器内に配置されたモードロック変調
器から構成されるモードロック型レーザを用いた短パル
ス光源である。この短パルス光源はモードロック型レー
ザの出力光を透過または反射する波長フィルタを具備し
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、短光パルス列を発
生する短パルス光源に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の技術を図4に示す。ここで、20
1は光変調器、202はクロック発生器、203は利得
媒質、204は励起回路、205はミラーであり、モー
ドロック型レーザを構成している。2個のミラー205
より構成される光共振器の共振モード間隔にほぼ等しい
周波数(あるいはそのほぼ整数倍の周波数)のクロック
により光変調器201を駆動するとクロック周波数(あ
るいは整数倍の周波数)の光短パルス列を発生できるこ
とは公知の事実である。また、光共振器構成をリンク構
成とした別の従来技術を図5に示す。ここで、206は
光カップラ、207は希土類ドープファイバ、208は
WDMカップラ、209は励起光源、210は光終端器
(反射を極力抑えた終端器)、211は光アイソレー
タ、212は光フィルタ、213は光変調器、214は
クロック発生器、215は光ファイバ(207とは融着
接続されている)である。この従来の技術においても、
リング光共振器の共振モード間隔にほぼ等しい周波数
(あるいはそのほぼ整数倍の周波数)のクロックにより
光変調器213を駆動するとクロック周波数(あるいは
整数倍の周波数)の光短パルス列を発生できることは公
知の事実である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
技術には以下のような問題点があった。
【0004】(1)モードロック型レーザ構成の設計で
光波形(パルス幅)を設計することがほぼ不可能であ
る。これは、モードロック型レーザから発生される光パ
ルス波形(パルス幅)は利得媒質の利得スペクトル、共
振器の共振特性を反映して決定されるが、レーザの動作
は非線形な多モードのファンデルポール方程式で記述さ
れていて多くのパラメータを含み、解析が極めて困難で
あるからである。このため、モードロック型レーザは、
実測しない限り光パルス波形(パルス幅)が分からず、
多数のモードロック型レーザを製作し適当なものを選択
する必要があり、実用に供するためには問題があった。
【0005】(2)また、光波形(パルス幅)が動作条
件に対して非線形に変動するので光波形(パルス幅)の
制御が困難である。
【0006】本発明は、このような背景の下になされた
もので、光波形(パルス幅)の安定した所望の光波形
(パルス幅)を出力する短パルス光源を得ることを第一
の目的とする。また、光波形(パルス幅)の制御の容易
な短パルス光源を得ることを第二の目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による短パルス光源は、光共振器および共振
器内に配置された光利得媒質および共振器内に配置され
たモードロック変調器から構成されるモードロック型レ
ーザを用いた短パルス光源において、前記モードロック
型レーザの出力光を透過または反射する波長フィルタを
具備したことを特徴とする。
【0008】ここで、前記波長フィルタの透過帯域の半
値全幅が前記モードロック型レーザの光スペクトルの包
絡線の半値全幅以下であることが好適である。
【0009】前記波長フィルタの中心周波数の前記モー
ドロック型レーザの出力スペクトル中の最大強度のモー
ド周波数に対する離調が、前記出力スペクトルの包絡線
半値全幅の3倍以内であるとよい。
【0010】さらに、複数の波長フィルタを具備するこ
とが好適である。
【0011】前記波長フィルタが透過中心波長が可変で
ある波長フィルタであり、前記波長フィルタの光出力強
度を測定する光出力強度測定手段と、前記可変波長フィ
ルタの透過波長を制御するフィルタ制御手段とを具備す
るとよい。
【0012】さらに、前記波長フィルタからの出力光パ
ルスのパルス形状を測定するパルス形状測定手段と、前
記可変波長フィルタの透過波長を制御するフィルタ制御
手段とを具備するとよい。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明の短パルス光源の一実施形
態は、光変調器と利得媒質およびそれらを挟む二つのミ
ラーからなる光共振器、利得媒質を励起する励起回路お
よび光変調器にクロック信号を入力するクロック発生器
を含むモードロック型レーザの出力光を透過する波長フ
ィルタを具えている。光スペクトルは主として波長フィ
ルタの透過スペクトルによって決定されるので、モード
ロック型レーザの光波形が多少変化しても短パルス光源
の出力波形はほとんど変化しない。モードロック型レー
ザは光共振器の構成をリング構成としたモードロック型
レーザでもよく、あるいはモードロック型半導体レーザ
でもよい。
【0014】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例を説
明する。
【0015】図1に本発明の第1の実施例を示す。初め
に実施例の構成について説明する。ここで、101は光
変調器、102はクロック発生器、103は利得媒質、
104は励起回路、105はミラーでこの部分はモード
ロック型レーザ(116)を構成している。120は光
アイソレータ、121は光フィルタ(波長フィルタ)で
ある。
【0016】あるいは、図2に示すように、モードロッ
ク型レーザ116の代わりにリング構成モードロック型
レーザ(117)を用いても良い。ここで、106は光
カップラ、107は希土類ドープファバ、108はWD
Mカップラ、109は励起光源、110は光終端器、1
11は光アイソレータ、112は光フィルタ、113は
光変調器、114はクロック発生器、115は光ファイ
バである。
【0017】また、図3に示すように、モードロック型
半導体レーザ(118)を用いることもできる。ここ
で、122はレンズ、130は電極、131はオーミッ
ク合金層、132はn−InP基板、133はフォトル
ミネッセンス波長が1.49μmのInGaAsP−歪
みMQW層、134はInP層、135はフォトルミネ
ッセンス波長が1.57μmのInGaAsP−歪みM
QW層、136はポリイミド、137はn−InP層、
138はn−InPクラッド層、139はn+ −InG
aAsPコンタクト層、140A,140Bは電極、1
41は分離溝でコンタクト層とクラッド層の一部が削り
取られている。電極140Aには図示しないクロック発
生器102からクロック信号が入力され、電極140
B,130には図示しない励起回路104から電圧が印
加される。高周波で駆動する側の端面には高反射コーテ
ィングがされている。モードロック型半導体レーザは、
光共振器が小型なのでクロック周波数と光共振器のモー
ド間隔を一致させて駆動できるのでジッタが少なく比較
的安定に短光パルス列を出力することができる。モード
ロック型半導体レーザ118の出力光は、図1および図
2に示した例と同様に光アイソレータ120を通して光
フィルタ121に導かれる。InP半導体をベースとす
る構成を示したが、GaAs系など他の半導体をベース
とする構成でも良いことは言うまでもない。また、MQ
WとしてInGaAs/InAlAs、InP/InG
aAsP、GaAs/AlGaAs等他のMQWを用い
ても良いことは言うまでもない。
【0018】光アイソレータ120は光フィルタ121
からの反射戻り光によりモードロック型レーザの動作が
不安定にならないように挿入される。また、モードロッ
ク型半導体レーザとして共振器構造がファブリペロー型
の構成を示したが、DBR型、DFB型、リング型の共
振器構造を用いても良いことは言うまでもない。
【0019】次に実施例の動作について説明する。
【0020】従来の技術の項で述べたように素子設計段
階でモードロック型レーザの光出力波形(パルス幅)を
決定することはできない。しかしながら、動作条件を選
べば各モードの位相関係を揃えて、トランスフォームリ
ミテッドないしほぼトランスフォームリミテッドとみな
せる光出力波形(パルス幅)を得ることが可能である。
光電界(振幅、位相)と光周波数(振幅、位相)は互い
にフーリエ変換の関係で結びついているが、一般には光
出力波形(パルス幅)と光スペクトルは1:1に対応し
ない。特別な場合として、トランスフォームリミテッド
な光出力波形の場合は、光電界に位相変調がかかってい
ないので光出力波形(パルス幅)と光スペクトルはフー
リエ変換で結びつけられ、1:1に対応する。この場合
には光スペクトルを周波数領域で制御するとこれに対応
して光出力波形(パルス幅)を制御することが可能であ
る。モードロック型レーザが完全にトランスフォームリ
ミテッドでない場合には、不完全さに応じて光スペクト
ルの制御に対する光出力波形(パルス幅)の制御性が低
下する。
【0021】図6にモードロック型レーザの出力光の光
スペクトルの一例を示す。ここで、Δfm をモード周波
数間隔、Δfs を光スペクトルの半値全幅、mi (i=
…,−2,−1,0,1,2,…)をモード番号(0番
を最大モード)とする。Δfm は、モードロック型レー
ザのクロック発生器のクロック周波数に等しい。図7に
対応する光波形を示す。tr は繰り返し周期でΔfm
逆数、Δtはパルス幅である。トランスフォームリミテ
ッドで光波形がsech2 型である場合、ΔtとΔfs
は次式を満たす。
【0022】
【数1】 Δt×Δfs =0.315 (1) すなわち、Δfs を制御することでΔtを制御すること
ができる。
【0023】図8に同じ光パルス列を光フィルタを通し
た場合の、パルス幅の光フィルタ半値幅依存性を示す。
Δfs は160GHzと仮定している。このとき、光フ
ィルタの中心周波数は光スペクトルの中心周波数と一致
しているとする。光フィルタの半値全幅が光スペクトル
の半値全幅より大きい場合、フィルタ透過に際して光ス
ペクトルがほとんど変化しないので光波形(パルス幅)
も変化が少ない。光フィルタの半値全幅が光スペクトル
の半値全幅より小さい場合、光スペクトルは主として光
フィルタの透過スペクトルによって決定されるので光波
形(パルス幅)は大きく広がる。光波形(パルス幅)は
主として光フィルタにより決定される。このため、モー
ドロック型レーザの光波形が多少変化しても本実施例の
短パルス光源の出力波形はほとんど変化しない。モード
ロック型レーザの光出力がトランスフォームリミテッド
になっていない場合、(1)式は、
【0024】
【数2】 Δt×Δfs >0.315 (2) となり、同じスペクトル形状が必ずしも同じ光波形(パ
ルス幅)には対応することはない。しかしながら、モー
ドロック型レーザの光出力の光スペクトルを操作するこ
とである程度光波形(パルス幅)を制御することが可能
である。また、この場合にも、光波形(パルス幅)は主
として光フィルタにより決定される。このため、モード
ロック型レーザの光波形が多少変化しても本実施例の短
パルス光源の出力波形はほとんど変化しない。
【0025】図9にはΔfs が66GHz、Δfm が1
9.1GHz、パルス幅が7.1psの半導体モードロ
ック型レーザの出力光を光フィルタを透過させた後のパ
ルス幅を(○印)示す。実線がトランスフォームリミテ
ッドの場合の理論曲線である。出力光はトランスフォー
ムリミテッドではないが、フィルタを透過させることで
パルス幅を7.1ps(フィルタ無し)から10.0p
sまで制御することができた。
【0026】本実施例の構成では、上記の動作の仕組み
に鑑み、光フィルタの透過帯域の半値全幅はモードロッ
ク型レーザの光スペクトルの半値全幅より小さく設定さ
れる。光フィルタとしては誘電体多層膜を用いた干渉フ
ィルタを用いている。ファイバ中にファブリペロー型の
共振器を構成したフィルタ、ロッドレンズ内にファブリ
ペロー型の共振器を構成したフィルタなど、同様のロー
レンツ型の透過特性を持つフィルタを用いることができ
ることは言うまでもない。
【0027】本発明の第2の実施例を図10および図1
1に示す。
【0028】光ファイバ中にグレーティングを形成した
ファイバグレーティング502を波長フィルタとして用
いた点が第1の実施例と異なる。ファイバグレーティン
グを用いると干渉フィルタよりも反射(透過)スペクト
ルが矩形に近い。このため、短パルス光源の光スペクト
ル(すなわち光波形)はモードロック型レーザの光スペ
クトルよりも光フィルタの反射(透過)スペクトルで決
定される。以上の理由でモードロック型レーザの光出力
変動を押さえる観点からはファイバグレーティングの方
が望ましい。しかしながら、構成はやや複雑になる。図
10(a)に示したのは反射型の構成で、500は図
1,図2または図3に示したモードロック型レーザであ
り、光サーキュレータ501でファイバグレーティング
502からの反射光を取り出す構成である。図10
(b)にファイバグレーティング502の反射率の周波
数特性を示す。
【0029】図11(a)に示したのは透過型の構成で
不必要なスペクトル成分をファイバ外に反射するファイ
バグレーティング(503,504)を用いる構成であ
る。図11(b)および図11(c)にファイバグレー
ティング503およびファイバグレーティング504の
透過率の周波数特性を示す。ファイバグレーティング5
03と504は一体化できることは言うまでもない。ま
た、ファイバグレーティングの個数を3個以上としても
良いことは言うまでもない。反射光をファイバ内に出力
するファイバグレーティング502と同様のファイバグ
レーティングを用いる場合には、ファイバグレーティン
グ間にさらに別の光アイソレータを挿入する。また、光
アイソレータの性能が高いものを用いる必要がある。
【0030】本発明の第3の実施例はフィルタの透過
(反射)帯域の中心周波数をモードロック型レーザの中
心周波数(最大モードの周波数)から離調した短パルス
光源である。この場合、最大のモードが抑圧されるので
光スペクトルの包絡線の半値全幅が増大する。すなわ
ち、モードロック型レーザの光出力のパルス幅を制御す
るだけでなく、さらに低減することが可能である。
【0031】図12に前述のモードロック型レーザ(Δ
s が66GHz、Δfm が19.1GHzが7.1p
sの半導体モードロック型レーザ)の出力光を半値全幅
が51GHzのフィルタを透過させた場合のパルス幅の
離調依存性を測定した結果を示す。測定結果が示すよう
に元々のパルス幅(7.1ps)よりも短いパルスを得
ることが可能である。出力スペクトル中の最大強度のモ
ード周波数に対する離調は通常出力スペクトルの包絡線
半値全幅の2倍以内設定される。例えば、スペクトルの
包絡線形状がローレンツ型であれば、包絡線半値全幅の
3倍の離調における包絡線上のスペクトル強度はピーク
スペクトル強度の値よりも約16dB低い。波長1.5
μm帯において光増幅器を用いて増幅する場合にS/N
の観点から1ビット当たり1fJ程度の光強度が必要で
ある。離調を3倍以内にしなければならない理由は、一
般に半導体レーザのファイバ光出力は1mWであるの
で、20GHzの信号に対して1ビット当りのエネルギ
ーは50fJなので、フィルタによる損失はS/N制限
に近づき、短パルス光の品質が悪くなるからである。ま
た、中心から離れているモードはレーザ内の非線形効
果、分散等により十分に位相関係が揃っていない場合が
あるため、短パルス光がモードロック状態とならなくな
るからである。
【0032】本発明の第4の実施例を図13に示す。本
実施例の特徴は複数のファブリペロー型光フィルタを用
いる点である。ここで、700は図1,図2または図3
に示したモードロック型レーザであり、701は光アイ
ソレータ、702は光フィルタ、703は光フィルタで
ある。この場合には以下のような利点がある。第1に1
段のフィルタでは不可能な狭帯域の透過特性、あるいは
矩形に近い透過特性を得ることができる点である。これ
は、ファブリペロー型光フィルタの透過特性の半値幅お
よび最大透過率はある程度素子設計で可変であるが、透
過スペクトルの関数型は設計パラメータで変更できない
からである。また、同じ半値幅を得るために一つのフィ
ルタで構成するよりも多段に構成する方が要求されるミ
ラーの反射率、基板精度等が緩和されるからである。第
2の利点は複数のフィルタの中心波長・帯域を適当に設
定してモードロック型の光スペクトルの加工を柔軟に行
うことが可能であることである。すなわち、光出力波形
(パルス幅)の制御性が高まる。反射が大きいフィルタ
を用いる場合には光フィルタ702と703の間にも光
アイソレータが挿入される。また、同一フィルタ内に複
数のファブリペロー型共振器を構成する多数キャビティ
型のフィルタを用いても良いことは言うまでもない。
【0033】本発明の第5の実施例を図14および図1
5に示す。本実施例では少なくとも1台の光フィルタを
可変波長光フィルタとしたことを特徴とする短パルス光
源である。図14に示す構成では可変波長フィルタの離
調を制御することでパルス幅を制御する構成である。8
00は図1,図2または図3に示したモードロック型レ
ーザであり、801は光アイソレータ、802が可変波
長フィルタ、804が可変波長フィルタ制御装置であ
る。図15(a)に示す構成では二つの可変波長フィル
タ802,803を用いることで出力スペクトルの中心
周波数を一定に保つ構成である。二つの可変波長フィル
タの中心周波数は、図15(b)に示すように、モード
ロック型レーザの中心周波数から中心周波数より低い側
と高い側に同じだけ離調(Δfx )するように制御され
る。モードロック型レーザの光スペクトルが非対称の場
合は、それに応じて出力スペクトルが対称になるように
するため、二つの可変波長フィルタの離調は異なる。一
つのフィルタしか使用しない場合に比較して、モードロ
ック型の光スペクトルの中心部分を有効に用いることが
できるので、同じ光スペクトル幅を得る場合でもS/N
を高くすることが可能である。また、出力光スペクトル
も一定以上のS/Nを得る条件で広くすることが可能
で、一層の短パルス化が可能である。
【0034】本発明の第6の実施例を図16に示す。本
実施例では可変波長光フィルタの透過光出力を常に最大
に保つように可変波長フィルタの中心周波数が制御され
る。ここで、900は図1,図2または図3に示したモ
ードロック型レーザであり、901は光アイソレータ、
902は可変波長フィルタ、903は光分岐素子、90
4は光パワーメータ、905は可変波長フィルタ制御装
置である。具体的な制御方法としては、遅い周波数(〜
Hz)で微小にフィルタの中心周波数を変調して光パワ
ーメータからの光出力強度変動をロックイン検出し、変
動が最小になるようにフィルタの中心周波数を制御す
る。この構成では、モードロック型レーザの光出力の変
動に対する短パルス光源の光出力波形(パルス幅)変動
をさらに低減することが可能である。
【0035】本発明の第7の実施例を図17に示す。本
実施例は第5の実施例にパルス幅測定手段を付加したも
のである。ここで、1000は図1,図2または図3に
示したモードロック型レーザであり、1001は光アイ
ソレータ、1002および1003は可変波長フィル
タ、1004は光分岐素子、1005はオートコリレー
タ(自己相関波形計測装置:パルス幅が非同期で測定可
能な装置)、1006はフィルタ制御装置である。本実
施例では、パルス幅を常時測定し、パルス幅の変動が最
小になるように可変波長フィルタが制御される。第6の
実施例と異なるのは直接にパルス幅を測定するので、短
パルスがトランスフォームリミテッドでない場合にも、
所望のパルス幅の短パルス列を安定に得ることが可能で
ある点である。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
所望の光波形(パルス幅)の短光パルス列を発生するこ
とが可能である。また、内蔵されるモードロック型レー
ザの変動に対して耐力のある短パルス光源である。さら
に、半導体モードロック型レーザを用いれば小型にモジ
ュール化できるため、取扱も容易となるとともに、他の
装置への組み込みも可能となるなどの利点があり、高速
の光信号処理装置、伝送装置等に使用することができ
る。
【0037】短パルス光源を伝送装置の光源に用いる場
合、パルス幅が変化すると伝送路中での非線形効果によ
るパルス形状の変化の度合いも変化する。すなわち、パ
ルス幅の変化によって波形の変化が生じて伝送システム
の設計のマージンが減少する。本発明により安定なパル
ス幅の光源を構成すれば、伝送システムの設計が容易に
なり、超大容量・超スパンの伝送システムを構築するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のモードロック型レーザを用いた第1の
実施例の説明図である。
【図2】本発明のリング構成モードロック型レーザを用
いた第1の実施例の説明図である。
【図3】本発明のモードロック型半導体レーザを用いた
第1の実施例の説明図である。
【図4】従来技術の説明図である。
【図5】従来技術の説明図である。
【図6】本発明の第1の実施例の説明図である。
【図7】本発明の第1の実施例の説明図である。
【図8】本発明の第1の実施例の説明図である。
【図9】パルス幅の光フィルタ半値全幅依存性測定結果
を示す特性図である。
【図10】本発明の第2の実施例の説明図である。
【図11】本発明の第2の実施例の説明図である。
【図12】パルス幅の光フィルタ離調依存性測定結果を
示す特性図である。
【図13】本発明の第4の実施例の説明図である。
【図14】本発明の第5の実施例の説明図である。
【図15】本発明の第5の実施例の説明図である。
【図16】本発明の第6の実施例の説明図である。
【図17】本発明の第7の実施例の説明図である。
【符号の説明】
101 光変調器 102 クロック発生器 103 利得媒質 104 励起回路 105 ミラー 106 光カップラ 107 希土類ドープファイバ 108 WDMカップラ 109 励起光源 110 光終端器 111 光アイソレータ 112 光フィルタ 113 光変調器 114 クロック発生器 115 光ファイバ 116 モードロック型レーザ 117 リング構成モードロック型レーザ 118 モードロック型半導体レーザ 120 光アイソレータ 121 光フィルタ 122 レンズ 130 電極 131 オーミック合金層 132 n−InP基板 133 InGaAsP−歪みMQW層 134 InP層 135 InGaAsP−歪みMQW層 136 ポリイミド 137 n−InP層 138 n−InPクラッド層 139 n+ −InGaAsPコンタクト層 140 電極 141 分離溝 201 光変調器 202 クロック発生器 203 利得媒質 204 励起回路 205 ミラー 206 光カップラ 207 希土類ドープファイバ 208 WDMカップラ 209 励起光源 210 光終端器 211 光アイソレータ 212 光フィルタ 213 光変調器 214 クロック発生器 215 光ファイバ 500 モードロック型レーザ 501 光サーキュレータ 502 ファイバグレーティング 503 ファイバグレーティング 504 ファイバグレーティング 700 モードロック型レーザ 701 光アイソレータ 702 光フィルタ 703 光フィルタ 800 モードロック型レーザ 801 光アイソレータ 802 可変波長フィルタ 803 可変波長フィルタ 804 可変波長フィルタ制御装置 900 モードロック型レーザ 901 光アイソレータ 902 可変波長フィルタ 903 光分岐素子 904 光パワーメータ 905 可変波長フィルタ制御装置 1000 モードモック型レーザ 1001 光アイソレータ 1002 可変波長フィルタ 1003 可変波長フィルタ 1004 光分岐素子 1005 オートコリレータ 1006 フィルタ制御装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01S 3/07 H01S 3/07 3/098 3/098 3/10 3/10 A 3/18 3/18 (72)発明者 佐野 明秀 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 萩本 和男 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光共振器および共振器内に配置された光
    利得媒質および共振器内に配置されたモードロック変調
    器から構成されるモードロック型レーザを用いた短パル
    ス光源において、 前記モードロック型レーザの出力光を透過または反射す
    る波長フィルタを具備したことを特徴とする短パルス光
    源。
  2. 【請求項2】 前記波長フィルタの透過帯域の半値全幅
    が前記モードロック型レーザの光スペクトルの包絡線の
    半値全幅以下であることを特徴とする請求項1に記載の
    短パルス光源。
  3. 【請求項3】 前記波長フィルタの中心周波数の前記モ
    ードロック型レーザの出力スペクトル中の最大強度のモ
    ード周波数に対する離調が、前記出力スペクトルの包絡
    線半値全幅の3倍以内であることを特徴とする請求項1
    または2に記載の短パルス光源。
  4. 【請求項4】 複数の波長フィルタを具備することを特
    徴とする請求項1から3のいずれかに記載の短パルス光
    源。
  5. 【請求項5】 前記波長フィルタが透過中心波長が可変
    である波長フィルタであり、 前記波長フィルタの光出力強度を測定する光出力強度測
    定手段と、 前記可変波長フィルタの透過波長を制御するフィルタ制
    御手段とを具備することを特徴とする請求項1から4の
    いずれかに記載の短パルス光源。
  6. 【請求項6】 前記波長フィルタからの出力光パルスの
    パルス形状を測定するパルス形状測定手段と、 前記可変波長フィルタの透過波長を制御するフィルタ制
    御手段とを具備することを特徴とする請求項1から5の
    いずれかに記載の短パルス光源。
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