JPH09316629A - アークイオンプレーティング装置 - Google Patents

アークイオンプレーティング装置

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Publication number
JPH09316629A
JPH09316629A JP8171592A JP17159296A JPH09316629A JP H09316629 A JPH09316629 A JP H09316629A JP 8171592 A JP8171592 A JP 8171592A JP 17159296 A JP17159296 A JP 17159296A JP H09316629 A JPH09316629 A JP H09316629A
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JP
Japan
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power source
electrode
target
discharge
ion plating
Prior art date
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Pending
Application number
JP8171592A
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English (en)
Inventor
Akira Suzuki
明 鈴木
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NIPPON SEIMITSU KK
Original Assignee
NIPPON SEIMITSU KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】定電圧アークイオンプレーティングにおける定
電流電源による低電圧放電の影響を無くすこと。 【構成】定電流電源による放電のかわりに、電流値の小
さい高周波放電を引き金として、直流パルス電源による
放電を発生させるようにした、定電圧アークイオンプレ
ーティング装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、切削工具等の上にＴｉ
Ｎ（窒化チタン）等の皮膜を形成する為の、アークイオ
ンプレーティング装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】平成３年出願の特許願３−２０４９７７
の内容が示すように、パルス電源のみでは放電を持続さ
せることが難しい為、定電流電源による放電を引き金と
して、パルス電源による放電を発生させていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】１９９５年度精密工学
会春期学術講演会講演論文集８７５ページの中で述べて
いるように、パルス電圧を使う目的は、放電電圧を上げ
ることにあり、定電流電源を引き金として使用する場
合、この低い電圧による放電の影響が避けられない。定
電流電源は普通３０Ａ以上の電流で使用する為、この電
流による蒸発金属の影響がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】図によって説明する。図
１のようにターゲットと第１の電極間に直流パルス電源
を接続し、ターゲットと第２の電極間に高周波電圧を供
給する。この高周波電圧は、連続であるか、叉は図２の
ように直流パルス電圧の立ち上がりより０．１〜１ｍｓ
ｅｃ（ミリ秒）早くスタートし、必要とする直流パルス
電圧のパルス巾の時間だけ供給され、これを繰り返す。
通常直流パルスの周期は５０Ｈｚ〜１０００Ｈｚであ
る。また図３のように第２の電極を真空槽と同電位にす
る、即ち真空槽を電極とする、叉は図４の第１の電極と
第２の電極を共通にすることも可能である。図３と図４
から、電極を全て真空槽で代用することも可能である。
真空槽はアース電位である。高周波電流は数アンペア以
下であり、この放電による蒸発金属は非常に少ない。
【０００５】
【実施例】定電圧アークイオンプレーティング装置にＴ
ｉターゲットを取付け、窒素ガスを１００ＣＣ毎分導入
し、高周波電流を流しながら、ピーク電圧８０ボルトの
パルスで、１００アンペアの放電により、第１のスロー
アウェイチップ工具上に、３ミクロンのＴｉＮ膜を得
た。この膜のビッカース硬さは約２８００であった。次
に定電流電源による４０Ａの放電を引き金とし、窒素ガ
スを１００ＣＣ毎分導入し、ピーク電圧８０Ｖのパルス
で、１００Ａの放電により、第２のスローアウェイチッ
プ工具上に、３ミクロンのＴｉＮ膜を得た。この膜のビ
ッカース硬さは約２６００であった。
【０００６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
定電流電源による電圧の低い放電の影響を無くすことが
できるのである。
【図面の簡単な説明】
【図１】ターゲットと第１の電極間に直流パルス電源を
接続し、ターゲットと第２の電極間に高周波電圧を接続
した図。
【図２】縦軸を電圧、横軸を時間として、高周波と直流
パルスの時間的な関係を示した図。
【図３】第２の電極を真空槽と同電位にした図。
【図４】第１の電極と第２の電極を共通にした図。
【符号の説明】
１、ターゲット ２、第１の電極 ３、第２の電極 ４、直流パルス電源 ５、高周波電源 ６、真空槽 ７、高周波の波形 ８、直流パルスの波形

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 アークイオンプレーティング装置に於い
    て、ターゲットと第１の電極間に直流パルス電源を接続
    し、ターゲットと第２の電極間に高周波電源を接続した
    ことを特徴とするアークイオンプレーティング装置。
  2. 【請求項２】 前記第２の電極と真空槽が同電位である
    請求項１記載のアークイオンプレーティング装置。
  3. 【請求項３】 前記第１の電極と前記第２の電極が共通
    である請求項１記載のアークイオンプレーティング装
    置。
JP8171592A 1996-05-28 1996-05-28 アークイオンプレーティング装置 Pending JPH09316629A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103981493A (zh) * 2014-05-30 2014-08-13 大连理工常州研究院有限公司 一种等离子镀膜设备用引弧装置

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