JPH09297906A - Production of thin-film magnetic head - Google Patents

Production of thin-film magnetic head

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JPH09297906A
JPH09297906A JP10974996A JP10974996A JPH09297906A JP H09297906 A JPH09297906 A JP H09297906A JP 10974996 A JP10974996 A JP 10974996A JP 10974996 A JP10974996 A JP 10974996A JP H09297906 A JPH09297906 A JP H09297906A
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Japan
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magnetic head
film magnetic
thin film
substrate
thin
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Application number
JP10974996A
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Japanese (ja)
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Tsuyoshi Sakata
強 坂田
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process for producing a thin-film magnetic head of a low production cost capable of efficiently and exactly obtaining the gap depths of plural thin-film magnetic head elements without deforming the blocks formed with the plural thinfilm magnetic head elements. SOLUTION: The plural thin-film magnetic head elements 2 are arrayed and formed longitudinally and laterally on a substrate 1 in such a manner that the gaps of the respective thin-film magnetic head elements 2 face one side 1a of this substrate 1. The formation of the depths of the respective thin- film magnetic head elements 2 is executed by each of columns (1A, 1B) by polishing the substrate 1 successively from the columns 1A on one side 1a of the substrate. The substrate is cut to the blocks aligned with the thin-film magnetic head elements 2 successively from the columns 1A with which the polishing ends.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスク等
の磁気記録媒体に対して記録再生を行う薄膜磁気ヘッド
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a thin film magnetic head for recording / reproducing on / from a magnetic recording medium such as a hard disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、ハードディスク等に対して記録
再生を行う薄膜磁気ヘッドは、ディスク面に対して微小
間隙をもって浮上走査させる必要があることから、図5
及び図6に示すように、スライダー102と薄膜磁気ヘ
ッド素子103とが一体構造とされた浮上型とされるの
が一般である。
2. Description of the Related Art For example, a thin-film magnetic head for recording / reproducing data on / from a hard disk or the like needs to be levitated and scanned with a minute gap on the disk surface.
Further, as shown in FIG. 6, the slider 102 and the thin film magnetic head element 103 are generally of a flying type in which they are integrally structured.

【0003】すなわち、このような浮上型的の薄膜磁気
ヘッドは、薄膜磁気ヘッド素子103のギャップがハー
ドディスク面に対向するようにして、例えば、一端が自
由端とされたヘッドアームの先端に弾性変形可能とされ
たヘッド取付け板を介して取り付けられる。このように
して取り付けられた薄膜磁気ヘッド101は、ハードデ
ィスクが回転すると、発生する空気流をスライダー10
2のハードディスク面と対向する面104、すなわちエ
ア・ベアリング・サーフェス(Air Bearing Sureface;
ABS)に受けて走行方向前方部が後方部よりも若干高
位置となるような勾配をもって浮上することになる。
That is, in such a floating thin-film magnetic head, the gap of the thin-film magnetic head element 103 faces the hard disk surface, and for example, the tip of a head arm whose one end is a free end is elastically deformed. It is mounted via a possible head mounting plate. The thin-film magnetic head 101 attached in this way causes the slider 10 to generate an air flow when the hard disk rotates.
The surface 104 facing the hard disk surface of 2, that is, the air bearing surface (Air Bearing Sureface;
It will be levitated by the ABS so that the front part in the traveling direction is slightly higher than the rear part in the traveling direction.

【0004】この薄膜磁気ヘッド101は、図5に示す
ように、浮上面101bにスライダー溝101aを機械
加工やエッチング加工によって形成してなるものであ
り、浮上面101bには面取り101cがなされるとと
もに、薄膜磁気ヘッド素子103となる磁性層が真空薄
膜形成技術によって成膜されている。
As shown in FIG. 5, this thin-film magnetic head 101 has a slider groove 101a formed in the air bearing surface 101b by machining or etching, and the air bearing surface 101b is chamfered 101c. A magnetic layer to be the thin film magnetic head element 103 is formed by a vacuum thin film forming technique.

【0005】このような薄膜磁気ヘッド101を作成す
るには、図7及び図8に示に示すように、スライダーと
なる硬質の基板102の表面102aに真空薄膜形成技
術を用いて複数の薄膜磁気ヘッド素子103が縦横に配
列形成される。
To make such a thin film magnetic head 101, as shown in FIGS. 7 and 8, a plurality of thin film magnetic heads are formed on a surface 102a of a hard substrate 102 which will be a slider by using a vacuum thin film forming technique. The head elements 103 are arranged vertically and horizontally.

【0006】次に、この基板102を、図9に示すよう
に、上記加工用治具105に接着させた状態で切断する
ことにより(図中符号「S」で示す。)、図10に示す
ように、複数の薄膜磁気ヘッド素子103が形成された
ブロック106の状態にする。
Next, as shown in FIG. 9, this substrate 102 is cut in a state in which it is adhered to the above-mentioned processing jig 105 (indicated by a symbol "S" in the figure), and as shown in FIG. Thus, the state of the block 106 in which the plurality of thin film magnetic head elements 103 are formed is set.

【0007】次に、各々のブロック106を複数の薄膜
磁気ヘッド素子103が形成される面106aを上にし
て、図6に示すようにギャップgが所定のデプス長dに
なるように研磨する。
Next, each block 106 is polished with the surface 106a on which the plurality of thin film magnetic head elements 103 are formed facing upward so that the gap g has a predetermined depth length d as shown in FIG.

【0008】その後は、図5に示すように、ヘッドの側
面101a,101b,101c等を加工して各ヘッド
チップに切断し、薄膜磁気ヘッド1を作製する。
After that, as shown in FIG. 5, the side surfaces 101a, 101b, 101c, etc. of the head are processed and cut into respective head chips to manufacture the thin film magnetic head 1.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年のドラ
イブの小型化等に伴いヘッドも小型化しており、又、生
産性の向上も含めて、各ヘッドチップのピッチの間隔が
狭くなり、薄膜化している。すなわち、図8及び図10
中の各ピッチP1,P2,P3は、いずれも狭くなる傾
向にある。
By the way, with the recent miniaturization of the drive, the head is also miniaturized, and the pitch interval of each head chip is narrowed to reduce the film thickness in order to improve the productivity. ing. That is, FIG. 8 and FIG.
Each of the inner pitches P1, P2 and P3 tends to become narrower.

【0010】このため、従来の薄膜磁気ヘッドの製造方
法においては、基板102からブロック106の状態に
切断する際や、加工用治具105がブロック106に接
着する際の加工歪や接着歪にて、上記ブロック106が
変形を生じるという問題を有する。
Therefore, in the conventional method of manufacturing a thin film magnetic head, processing strain or adhesive strain is caused when the substrate 102 is cut into the block 106 or when the processing jig 105 is bonded to the block 106. However, there is a problem that the block 106 is deformed.

【0011】すなわち、図11は、この加工歪や接着歪
を説明するための模式図であるが、図11(a)は上記
ブロック106の歪みがない場合であり、薄膜磁気ヘッ
ド素子103のデプス長dは同じである。すなわち、複
数の薄膜磁気ヘッド素子103が整列されたブロック1
06の両端側の薄膜磁気ヘッド素子103a,103c
のデプス長dも、中央の薄膜磁気ヘッド素子103bの
デプス長dも同じに形成される。
That is, FIG. 11 is a schematic diagram for explaining the processing strain and the adhesive strain, and FIG. 11A shows the case where the block 106 has no strain, and the depth of the thin film magnetic head element 103. The length d is the same. That is, the block 1 in which a plurality of thin film magnetic head elements 103 are arranged
Thin film magnetic head elements 103a and 103c on both end sides of 06.
And the depth length d of the thin film magnetic head element 103b at the center are formed to be the same.

【0012】しかし、図11(b)に示すように、ブロ
ック106が凸状態に変形した場合、複数の薄膜磁気ヘ
ッド素子103の整列状態が非直線になり、各薄膜磁気
ヘッド素子103のデプス長dが一定とならない。他
方、図11(c)に示すように、ブロック106が凹状
態に変形した場合も、各薄膜磁気ヘッド素子103の整
列状態が非直線になり、各薄膜磁気ヘッド素子103の
デプス長dが一定とならない。
However, as shown in FIG. 11B, when the block 106 is deformed into a convex state, the alignment state of the plurality of thin film magnetic head elements 103 becomes non-linear, and the depth length of each thin film magnetic head element 103 is increased. d is not constant. On the other hand, as shown in FIG. 11C, even when the block 106 is deformed into a concave state, the alignment state of each thin film magnetic head element 103 becomes non-linear, and the depth length d of each thin film magnetic head element 103 is constant. It does not become.

【0013】このように、複数の薄膜磁気ヘッド素子1
03が形成されたブロック106に変形が発生すると、
このブロック106上の各ヘッドチップのデプス長dが
一定とならず、その結果、デプス長dを精度良く形成で
きず、記録・再生特性の劣化及び歩留まりの低下という
不都合が生じる。
Thus, the plurality of thin film magnetic head elements 1
When deformation occurs in the block 106 in which 03 is formed,
The depth length d of each head chip on the block 106 is not constant, and as a result, the depth length d cannot be formed with high accuracy, which causes the disadvantages of deterioration of recording / reproducing characteristics and reduction of yield.

【0014】このため、ブロックの変形を矯正しながら
加工する加工治具や補強治具が開発されている。
For this reason, processing jigs and reinforcing jigs for processing while correcting the deformation of the blocks have been developed.

【0015】例えば、図12に示すものは、各ブロック
106の接着面112と平行となるようなスリット11
3が設けれた加工治具111であり、このスリット11
3によって加工治具111にたわみ(図中符号「R」で
示す。)を発生させるものである。また、図13及び図
14に示すものは、中央に一方の面が接着面116aと
された凸状の固定部116が設けられた補強治具115
であり、この補強治具115の接着面116aに各ブロ
ック106の一方の面106bを接着した状態で、各ヘ
ッドチップのデプス長dが一定となるように研磨するも
のである。
For example, as shown in FIG. 12, the slit 11 that is parallel to the bonding surface 112 of each block 106 is used.
3 is a processing jig 111 provided with the slit 11
3 causes the working jig 111 to bend (indicated by a symbol “R” in the drawing). In addition, as shown in FIGS. 13 and 14, the reinforcing jig 115 is provided with a convex fixing portion 116 having one surface serving as an adhesive surface 116a in the center.
In this state, one head surface 106b of each block 106 is bonded to the bonding surface 116a of the reinforcing jig 115, and polishing is performed so that the depth length d of each head chip becomes constant.

【0016】これらの方法は、ブロック106に変形が
生じるのは、ブロック106の薄板化に伴う剛性の低下
から生じることを考慮し、上記薄板状のブロック106
を加工治具等に接着させ、この加工治具にたわみを発生
させて、ブロックの変形を矯正したり、又、補強材介し
て研磨等するものである。
In these methods, considering that the deformation of the block 106 is caused by the decrease in rigidity due to the thinning of the block 106, the thin plate-shaped block 106.
Is adhered to a processing jig or the like, and bending is generated in the processing jig to correct the deformation of the block or to polish the reinforcing material through a reinforcing material.

【0017】しかしながら、このような加工治具や補強
治具を用いると、今度は、デプス精度を考慮したブロッ
クの切断や、接着等に高精度が要求されるのみならず、
複雑で製造コストが高価となる。
However, when such a processing jig and a reinforcing jig are used, not only high precision is required for cutting and adhering blocks in consideration of the depth precision, but
Complex and expensive to manufacture.

【0018】そこで、本発明は、複数の薄膜磁気ヘッド
素子が形成されたブロックの変形を生じさせることな
く、複数の薄膜磁気ヘッド素子のギャップのデプス出し
を効率良く正確に行うことができ、しかも、製造コスト
が安価な薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供することを課
題とする。
Therefore, according to the present invention, the depth of the gap of the plurality of thin film magnetic head elements can be efficiently and accurately performed without causing deformation of the block in which the plurality of thin film magnetic head elements are formed. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a thin film magnetic head that is inexpensive to manufacture.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
の製造方法は、上記の課題を解決するため、基板上に形
成された複数の薄膜磁気ヘッド素子のギャップデプス出
しを同時に行う薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、基
板の一方側に各薄膜磁気ヘッド素子のギャップが向くよ
うに複数の薄膜磁気ヘッド素子を縦横に基板上に配列形
成する工程と、上記基板の一方側の列から順に研磨して
各薄膜磁気ヘッド素子のデプス出しを列ごとに行う工程
と、研磨が終了した列から順に薄膜磁気ヘッド素子が整
列されたブロックに切断する工程とを備えたことを特徴
とする。
In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention is a thin film magnetic head for simultaneously performing gap depth formation of a plurality of thin film magnetic head elements formed on a substrate. A method of manufacturing a plurality of thin film magnetic head elements arranged vertically and horizontally on the substrate so that the gap of each thin film magnetic head element faces one side of the substrate; The method is characterized by including a step of polishing and performing depth formation of each thin film magnetic head element for each row, and a step of cutting the thin film magnetic head elements into aligned blocks in order from the row where polishing is completed.

【0020】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、上
記基板の一方側の列から順に研磨して各薄膜磁気ヘッド
素子のデプス出しを列ごとに行うものであり、硬質の基
板の状態で研磨するものである。したがって、従来のよ
うに薄い板状のブロックでデプス出しを行うものとは異
なり、ブロックの変形が生じることがなくなる。
In the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention, the depth of each thin film magnetic head element is sequentially polished by polishing from one row of the substrate, and polishing is performed in a hard substrate state. To do. Therefore, unlike the conventional one in which the depth is obtained with a thin plate-shaped block, the block is not deformed.

【0021】したがって、研磨が終了した列から順に薄
膜磁気ヘッド素子が整列されたブロックに切断した後
に、このブロックを各ヘッドチップごとに切断すれば、
効率良く正確なデプス長の薄膜磁気ヘッドが安価な製造
コストで安定して製造されることとなる。
Therefore, if the thin-film magnetic head element is cut into blocks in which the thin-film magnetic head elements are arranged in order from the row in which polishing is completed, and then this block is cut into each head chip,
A thin film magnetic head having an efficient and accurate depth length can be stably manufactured at a low manufacturing cost.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した具体的な
実施の形態について図面を参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described below with reference to the drawings.

【0023】本発明により製造される薄膜磁気ヘッド
は、ハードディスク等の磁気記録媒体に対して記録再生
を行うものであり、スライダーと薄膜磁気ヘッド素子が
一体構造とされた浮上型のもので、2トラックのもので
ある。
The thin film magnetic head manufactured according to the present invention is for performing recording and reproduction on a magnetic recording medium such as a hard disk, and is a flying type in which a slider and a thin film magnetic head element are integrally formed. It's a truck.

【0024】この薄膜磁気ヘッドの製造方法は、先ず、
図1に示すように、Al2 3 −TiCよりなる硬質の
基板1上に縦横に複数の薄膜磁気ヘッド素子2を所定の
間隔で製造するヘッドの数に応じて形成する。
The method of manufacturing the thin film magnetic head is as follows.
As shown in FIG. 1, a plurality of thin-film magnetic head elements 2 are formed vertically and horizontally on a hard substrate 1 made of Al 2 O 3 —TiC according to the number of heads to be manufactured at predetermined intervals.

【0025】上記薄膜磁気ヘッド素子2を形成するに
は、従来より採用されている真空薄膜形成技術を用いて
形成する。また、ここで形成する薄膜磁気ヘッド素子2
としては、特に限定されることはなく、従来公知の構造
がいずれも適用することができ、その磁気回路部を構成
する下部磁性体や上部磁性体、或いは、導体コイルその
他の構成部材も同様に、従来公知の材料がいずれも採用
できる。
To form the thin film magnetic head element 2, the vacuum thin film forming technique which has been conventionally used is used. In addition, the thin film magnetic head element 2 formed here
The structure is not particularly limited, and any conventionally known structure can be applied, and the lower magnetic body and the upper magnetic body forming the magnetic circuit section, or the conductor coil and other constituent members are also the same. Any conventionally known material can be adopted.

【0026】そして、この薄膜形成工程では、基板2の
一方側1aに各薄膜磁気ヘッド素子2のギャップが向く
ように配列形成する。
In this thin film forming step, the thin film magnetic head elements 2 are arrayed and formed on one side 1a of the substrate 2 so that the gaps of the thin film magnetic head elements 2 face each other.

【0027】次に、前記基板1に設けられた薄膜磁気ヘ
ッド素子2のデプス出しを行う。このデプス出しを行う
には、図2に示すような研磨装置5を用いる。
Next, the depth of the thin film magnetic head element 2 provided on the substrate 1 is determined. To perform this depth setting, a polishing device 5 as shown in FIG. 2 is used.

【0028】この研磨装置5は、図2中矢印方向に回転
するようになされた装置のラップ盤6上に前記基板1を
押し当てて、当該基板1ごと研磨して前記薄膜磁気ヘッ
ド素子2のデプス出しを行う研磨装置5である。
This polishing apparatus 5 presses the substrate 1 on a lapping plate 6 of an apparatus which is adapted to rotate in the direction of the arrow in FIG. 2, and polishes the substrate 1 together with the thin film magnetic head element 2. It is a polishing device 5 for performing depth setting.

【0029】この研磨装置5には、図示しないが、上記
ラップ盤6のラップ面6aに対して直交する方向に上下
動自在とされ、基板1を固定する固定部材が設けられて
いる。
Although not shown, the polishing apparatus 5 is provided with a fixing member which is vertically movable in a direction orthogonal to the lap surface 6a of the lapping machine 6 and which fixes the substrate 1.

【0030】本実施の形態では、この研磨装置5を用い
て前記基板1に設けられた薄膜磁気ヘッド素子2のデプ
ス出しを行う。すなわち、縦横に配列された薄膜磁気ヘ
ッド素子2に対して上記基板1の一方側1aから列1A
ごとに研磨してデプス出しを行うものである。
In this embodiment, the depth of the thin film magnetic head element 2 provided on the substrate 1 is measured by using the polishing apparatus 5. That is, for the thin film magnetic head elements 2 arranged vertically and horizontally, one side 1a of the substrate 1 to the row 1A
The depth is obtained by polishing each.

【0031】したがって、従来のように、薄い板状のブ
ロックでデプス出しを行うものではなく、硬質の基板1
のまま、その一方側1aから列ごと(例えば、列1A)
に研磨してデプス出しを行うことにより、列1Aに整列
された複数の薄膜磁気ヘッド素子2のデプス出しを同時
に行うことができる。このように基板1の状態でデプス
出しを行っても、基板1は硬質の材料で構成されている
ので、変形が生じることなく、安定したデプス長d(図
6参照)を得ることができる。
Therefore, unlike the prior art, the depth is not obtained by a thin plate-shaped block, but the hard substrate 1 is used.
As is, row by row from one side 1a (eg row 1A)
By polishing to depth and performing depth measurement, it is possible to simultaneously perform depth measurement of the plurality of thin film magnetic head elements 2 arranged in the row 1A. Even if the depth is obtained in the state of the substrate 1 as described above, since the substrate 1 is made of a hard material, a stable depth length d (see FIG. 6) can be obtained without deformation.

【0032】本実施の形態においては、複数の薄膜磁気
ヘッド素子2が形成された基板1のまま研磨装置の固定
部材に保持させる。そして、固定部材をラップ盤6側に
下降させ、基板1をラップ面6aに接触させる。する
と、ラップ盤6が回転し始め、研磨が開始される。この
場合、デプス長dをコントロールするために、上記固定
部材による降下量(図中、符号「T」で示す。)を調節
する。
In the present embodiment, the substrate 1 on which the plurality of thin film magnetic head elements 2 are formed is held as it is on the fixing member of the polishing apparatus. Then, the fixing member is lowered toward the lapping board 6 to bring the substrate 1 into contact with the lapping surface 6a. Then, the lapping machine 6 starts to rotate and polishing is started. In this case, in order to control the depth length d, the descending amount by the fixing member (indicated by the symbol "T" in the figure) is adjusted.

【0033】そして、この状態で一定時間研磨し、目標
とするデプス長dとなったところで、研磨を終了する。
この結果、図3に示すように、基板1の一方の側1aに
形成されている各薄膜磁気ヘッド素子2のデプス長d
は、すべて均一なものとなり、その精度も極めて高いも
のとなる。
Then, polishing is carried out for a certain time in this state, and when the target depth length d is reached, the polishing is terminated.
As a result, as shown in FIG. 3, the depth length d of each thin film magnetic head element 2 formed on one side 1a of the substrate 1 is increased.
Are all uniform and their accuracy is extremely high.

【0034】次に、研磨が終了した列1Aから順に、薄
膜磁気ヘッド素子2が整列されたブロック3の状態に切
断する。
Next, the thin film magnetic head elements 2 are cut into blocks 3 arranged in order from the row 1A where polishing is completed.

【0035】すなわち、本実施の形態においては、基板
1の一方側1aから列1Aごとに順に研磨してデプス出
しを行うが、この研磨が終了した後は、図4に示すよう
に、基板1の一方側1aである研磨が終了した列1Aか
ら順に、1A,1B,1Cというように、ブロック3,
3,3の状態に切断する。
That is, in the present embodiment, the depth is obtained by sequentially polishing from one side 1a of the substrate 1 for each row 1A. After the polishing is completed, as shown in FIG. The row 1A, which is the one side 1a, which has been completely polished, is arranged in order from the row 1A, 1B, 1C to the block 3,
Cut into 3 and 3 states.

【0036】そして、この切断が終了した後は、再び、
上記研磨装置5により、基板1の次の列1Bの複数の薄
膜磁気ヘッド素子のギャップのデプス出しを同時に行っ
た後に、この列1Bをブロック3の状態に切断する。本
実施の形態においては、このような操作を繰り返すこと
となる。
After the cutting is completed,
After the depths of the gaps of the plurality of thin film magnetic head elements in the next row 1B of the substrate 1 are simultaneously obtained by the polishing apparatus 5, the row 1B is cut into the block 3. In the present embodiment, such an operation is repeated.

【0037】ここで、各ブロック3の状態に切断するた
めには、図4に示すように、ダイヤモンドスラリーが供
給された円板状のラップ盤8を回転させることにより、
研磨が終了した列1Aを分断する。
Here, in order to cut each block 3 into a state, as shown in FIG. 4, by rotating the disc-shaped lapping plate 8 to which the diamond slurry is supplied,
The row 1A after polishing is divided.

【0038】その後は、このブロック3に整列された複
数の薄膜磁気ヘッド素子2を各ヘッドチップごとに切断
して、薄膜磁気ヘッドを形成する。なお、しかる後、具
体的に図示しないが、ヘッド端子電極にリード線をはん
だ付けしてサスペンション機構にスライダーを取り付け
て完成する。
After that, the plurality of thin film magnetic head elements 2 arranged in the block 3 are cut into each head chip to form a thin film magnetic head. After that, although not specifically shown, lead wires are soldered to the head terminal electrodes and sliders are attached to the suspension mechanism to complete the process.

【0039】以上のように、本実施の形態では、複数の
薄膜磁気ヘッド素子2が整列されたブロック3が変形せ
ず、しかも、複雑、高価な補強治具や加工治具を必要と
せずに、安定したデプス出しが行われる。
As described above, in the present embodiment, the block 3 in which a plurality of thin film magnetic head elements 2 are arranged is not deformed, and a complicated and expensive reinforcing jig or processing jig is not required. , Depth is stable.

【0040】[0040]

【発明の効果】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、
複数の薄膜磁気ヘッド素子のデプス出しを上記基板の一
方側から列ごとに研磨して、研磨が終了した列から順に
ブロックに切断するものであるから、従来のように薄い
板状のブロックでデプス出しを行うものとは異なり、ブ
ロックの変形が生じることがなくなる。
The method of manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention comprises:
The depth of a plurality of thin-film magnetic head elements is polished row by row from one side of the substrate, and is cut into blocks in order from the row where polishing has been completed. Unlike the case where the block is put out, the block is not deformed.

【0041】したがって、このように製造された薄膜磁
気ヘッドは、デプスの精度が良く、記録再生特性の向上
と歩留まりの向上が図られる。
Therefore, the thin-film magnetic head manufactured as described above has good depth accuracy, and can improve the recording / reproducing characteristics and the yield.

【0042】また、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法
は、硬質の基板の状態でデプス出しを行うものであるか
ら、別個に加工のための設備や補強治具を設けたり、補
強治具等へ正確に接着するような工程の必要がなくな
り、製造コストを安価にすることが可能となる。
Further, in the method of manufacturing the thin film magnetic head of the present invention, since the depth is produced in the state of the hard substrate, the equipment for the processing and the reinforcing jig are separately provided, and the reinforcing jig is used. It is possible to reduce the manufacturing cost because the step of accurately adhering to is unnecessary.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態の薄膜磁気ヘッドの製造
工程を示すもので、複数の薄膜磁気ヘッド素子が形成さ
れた基板を示す模式的な斜視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a substrate on which a plurality of thin film magnetic head elements are formed, showing a manufacturing process of a thin film magnetic head according to an embodiment of the present invention.

【図2】上記薄膜磁気ヘッドの製造工程を示すもので、
複数の薄膜磁気ヘッド素子が形成された基板を研磨する
状態を示す斜視図である。
FIG. 2 shows a manufacturing process of the thin film magnetic head,
It is a perspective view showing a state where a substrate on which a plurality of thin film magnetic head elements are formed is polished.

【図3】上記薄膜磁気ヘッドの製造工程を示すもので、
複数の薄膜磁気ヘッド素子が形成された基板の一方側か
ら列ごとに研磨してデプス出しを行った状態を示す斜視
図である。
FIG. 3 shows a manufacturing process of the thin film magnetic head,
FIG. 6 is a perspective view showing a state in which one side of a substrate on which a plurality of thin film magnetic head elements are formed is polished and depth is obtained for each row.

【図4】上記薄膜磁気ヘッドの製造工程を示すもので、
複数の薄膜磁気ヘッド素子が整列されたブロックに切断
する工程を示す斜視図である。
FIG. 4 shows a manufacturing process of the thin film magnetic head,
It is a perspective view showing a process of cutting a plurality of thin film magnetic head elements into aligned blocks.

【図5】薄膜磁気ヘッドの一構成例を示す斜視図であ
る。
FIG. 5 is a perspective view showing a configuration example of a thin film magnetic head.

【図6】上記薄膜磁気ヘッドの磁気ギャップの部分を拡
大して示す斜視図である。
FIG. 6 is an enlarged perspective view showing a magnetic gap portion of the thin film magnetic head.

【図7】従来の薄膜磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、加工用治具に基板を接着した状態を示す斜視図であ
る。
FIG. 7 is a perspective view showing a manufacturing process of a conventional thin-film magnetic head, showing a state in which a substrate is bonded to a processing jig.

【図8】上記基板上に縦横に配列された複数の薄膜磁気
ヘッド素子を模式的に示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view schematically showing a plurality of thin film magnetic head elements vertically and horizontally arranged on the substrate.

【図9】従来の薄膜磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、上記基板をブロックに切断する状態を示す斜視図で
ある。
FIG. 9 is a perspective view showing a process of manufacturing a conventional thin film magnetic head, showing a state in which the substrate is cut into blocks.

【図10】従来の薄膜磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、上記基板をブロックに切断した状態を示す斜視図で
ある。
FIG. 10 is a perspective view showing a manufacturing process of a conventional thin film magnetic head, showing a state in which the substrate is cut into blocks.

【図11】上記ブロックの加工歪や接着歪を説明するた
めの模式図である。
FIG. 11 is a schematic diagram for explaining processing strain and adhesive strain of the block.

【図12】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法に使用され
る加工治具を示す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view showing a processing jig used in a conventional method of manufacturing a thin film magnetic head.

【図13】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法に使用され
る補強治具と各ブロックを示す斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view showing a reinforcing jig and blocks used in a conventional method of manufacturing a thin film magnetic head.

【図14】上記補強治具とブロックが接着された状態を
示す斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view showing a state in which the reinforcing jig and the block are bonded together.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板(スライダ)、1a 基板の一方側、1A,1
B 基板の列、2 薄膜ヘッド素子、3 ブロック、5
研磨装置、d デプス長
1 substrate (slider), 1a one side of substrate, 1A, 1
B substrate row, 2 thin film head elements, 3 blocks, 5
Polishing device, d depth length

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に形成された複数の薄膜磁気ヘッ
ド素子のギャップのデプス出しを同時に行う薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法であって、 基板の一方側に各薄膜磁気ヘッド素子のギャップが向く
ように複数の薄膜磁気ヘッド素子を縦横に基板上に配列
形成する工程と、 上記基板の一方側の列から順に研磨して各薄膜磁気ヘッ
ド素子のデプス出しを列ごとに行う工程と、 研磨が終了した列から順に薄膜磁気ヘッド素子が整列さ
れたブロックに切断する工程とを備えたことを特徴とす
る薄膜磁気ヘッドの製造方法。
1. A method of manufacturing a thin film magnetic head in which the depths of the gaps of a plurality of thin film magnetic head elements formed on a substrate are simultaneously obtained, wherein the gap of each thin film magnetic head element faces one side of the substrate. , A step of forming a plurality of thin film magnetic head elements on a substrate vertically and horizontally, a step of sequentially polishing from one side row of the substrate to perform depth-deposition of each thin film magnetic head element, and polishing is completed. And a step of cutting the thin film magnetic head elements into blocks in which the thin film magnetic head elements are arranged in order from the row.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6757964B2 (en) 1998-05-06 2004-07-06 Tdk Corporation Apparatus for manufacturing sliders

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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