JPH09297124A - Micro capsule evaluation method - Google Patents
Micro capsule evaluation methodInfo
- Publication number
- JPH09297124A JPH09297124A JP8135751A JP13575196A JPH09297124A JP H09297124 A JPH09297124 A JP H09297124A JP 8135751 A JP8135751 A JP 8135751A JP 13575196 A JP13575196 A JP 13575196A JP H09297124 A JPH09297124 A JP H09297124A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microcapsule
- solution
- semiconductor substrate
- micro capsule
- contact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Medicinal Preparation (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、イオンや化合物
を放出する微小な物質であるマイクロカプセルの評価方
法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for evaluating microcapsules, which are minute substances that release ions and compounds.
【0002】[0002]
【従来の技術】マイクロカプセルは、医療の分野などに
おいて、薬品の適切な投与を行うために広く用いられて
いる。このマイクロカプセルの内部からのイオンや化合
物の放出量の計測は、マイクロカプセルの性能の指標と
して重要である。2. Description of the Related Art Microcapsules are widely used in the medical field and the like for appropriate administration of drugs. The measurement of the amount of released ions or compounds from the inside of the microcapsule is important as an index of the performance of the microcapsule.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、1mm
以下といった微小なマイクロカプセルからのイオンや化
合物の放出を計測するには、イオン電極、ガラス電極を
用いる測定や分光測定など既存の分析手法では、前記イ
オンや化合物の十分な放出があるまで、その放出を検出
することができないので、大量のサンプルが必要である
とともに、長時間を要するといった問題があるほか、分
光測定においては、そのための装置を必要とするといっ
た問題がある。However, 1 mm
In order to measure the release of ions and compounds from minute microcapsules such as the following, existing analysis methods such as measurement using an ion electrode and a glass electrode and spectroscopic measurement, until the sufficient release of the ions and compounds, Since the emission cannot be detected, there are problems that a large amount of sample is required and that it takes a long time, and that there is a problem that a device therefor is required for spectroscopic measurement.
【0004】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、マイクロカプセルにおけるイオ
ンや化合物を放出する能力を迅速かつ簡便に求めること
ができるマイクロカプセルの評価方法を提供することで
ある。The present invention has been made in view of the above matters, and an object thereof is to provide a method for evaluating a microcapsule capable of quickly and simply determining the ability of the microcapsule to release an ion or a compound. That is.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明のマイクロカプセルの評価方法は、半導体
基板の一方の面にセンサ面を有し、前記半導体基板に対
してプローブ光を照射するように構成された光走査型二
次元濃度分布測定装置の前記センサ面に接するように溶
液を設け、この溶液内にマイクロカプセルを浸し、その
ときマイクロカプセルから放出されるイオンの放出量や
放出速度を求め、これを指標とすることを特徴としてい
る。In order to achieve the above object, a method for evaluating a microcapsule according to the present invention has a sensor surface on one surface of a semiconductor substrate and irradiates the semiconductor substrate with probe light. A solution is provided so as to be in contact with the sensor surface of the optical scanning two-dimensional concentration distribution measuring device configured as described above, and the microcapsules are immersed in the solution, and the release amount and release rate of the ions released from the microcapsules at that time. And is used as an index.
【0006】この場合、マイクロカプセルから放出され
るイオンの放出量や放出速度を、マイクロカプセル近傍
に生じたイオン濃度の変動した領域がセンサ面と接する
部分の面積の時間的変化またはこの当接面のある点にお
けるイオン濃度の時間的変化に基づいて求めるようにし
てもよい。In this case, the amount or rate of release of the ions released from the microcapsules is determined by the temporal change of the area of the portion where the region where the ion concentration fluctuates near the microcapsule is in contact with the sensor surface or this contact surface. It may be obtained based on the temporal change of the ion concentration at a certain point.
【0007】この発明のマイクロカプセルの評価方法に
よれば、大量のサンプルを用いる必要がなく、例えばイ
オン交換樹脂一粒の単位で、そのイオン交換容量やイオ
ン交換速度を自動的、かつ、迅速簡便に求めることがで
きる。According to the method for evaluating a microcapsule of the present invention, it is not necessary to use a large amount of sample, and the ion exchange capacity and the ion exchange rate can be automatically, quickly and simply measured in units of one ion exchange resin. You can ask.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下、この発明の好ましい実施例
を、図を参照しながら説明する。まず、この発明のマイ
クロカプセルの評価方法を実施するための光走査型二次
元濃度分布測定装置について、図2を参照しながら説明
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, an optical scanning two-dimensional concentration distribution measuring apparatus for carrying out the method for evaluating microcapsules of the present invention will be described with reference to FIG.
【0009】図2において、1は測定装置本体で、セン
サ部2とこれにプローブ光3を照射するための光照射部
4とからなる。In FIG. 2, reference numeral 1 denotes a measuring apparatus main body, which comprises a sensor section 2 and a light irradiation section 4 for irradiating the sensor section 2 with probe light 3.
【0010】前記センサ部2は、例えばシリコンなどの
半導体よりなる基板5の一方の面(図示例では上面)に
SiO2 層6、Si3 N4 層7を熱酸化、CVDなどの
手法によって順次形成してなるもので、水素イオンに応
答するように形成されている。8はセンサ部2のセンサ
面(この場合、Si3 N4 層7)を含み、これに臨むよ
うにして設けられるセルで、樹脂材料あるいは他の適宜
の材料よりなり、内部に溶液やゲルなどの試料9が収容
される。そして、CE、REはセル8内の試料9に接触
するようにして設けられる対極、比較電極で、後述する
ポテンショスタット13に接続されている。また、OC
は半導体基板5に設けられる電流信号取出し用のオーミ
ック電極で、後述する電流−電圧変換器14および演算
増幅回路15を介してポテンショスタット13に接続さ
れている。In the sensor section 2, a SiO 2 layer 6 and a Si 3 N 4 layer 7 are sequentially formed on one surface (an upper surface in the illustrated example) of a substrate 5 made of a semiconductor such as silicon by a method such as thermal oxidation and CVD. It is formed so as to respond to hydrogen ions. Reference numeral 8 denotes a cell that includes the sensor surface of the sensor unit 2 (in this case, the Si 3 N 4 layer 7) and is provided so as to face the sensor surface, and is made of a resin material or another appropriate material and contains a sample such as a solution or gel. 9 are accommodated. CE and RE are counter electrodes and reference electrodes provided so as to come into contact with the sample 9 in the cell 8 and are connected to a potentiostat 13 described later. Also, OC
Is an ohmic electrode for extracting a current signal provided on the semiconductor substrate 5, and is connected to the potentiostat 13 via a current-voltage converter 14 and an operational amplifier circuit 15 described later.
【0011】そして、10はセンサ部2を二次元方向、
つまり、X方向(図示例では左右方向)とY方向(図示
例では、紙面に垂直な方向)に走査するセンサ部走査装
置で、走査制御装置11からの信号によって制御され
る。Reference numeral 10 denotes the sensor unit 2 in the two-dimensional direction,
That is, the sensor section scanning device scans in the X direction (the left-right direction in the illustrated example) and the Y direction (in the illustrated example, the direction perpendicular to the paper surface), and is controlled by a signal from the scanning control device 11.
【0012】前記光照射部4は、例えばレーザ光源から
なるとともに、半導体基板5の下面側(センサ面7とは
反対側)に設けられており、後述するインターフェイス
ボード16を介してコンピュータ17の制御信号によっ
て断続光を発するとともに、センサ部走査装置10によ
って二次元方向に走査されるセンサ部2の半導体基板5
に対して最適なビーム径になるように調整されたプロー
ブ光3を照射するように構成されている。The light irradiation unit 4 is composed of, for example, a laser light source, is provided on the lower surface side of the semiconductor substrate 5 (the side opposite to the sensor surface 7), and controls the computer 17 via an interface board 16 described later. The semiconductor substrate 5 of the sensor unit 2 which emits intermittent light in response to a signal and is scanned in the two-dimensional direction by the sensor unit scanning device 10.
The probe light 3 adjusted to have an optimum beam diameter is emitted.
【0013】12は測定装置本体1を制御するための制
御ボックスであって、半導体基板5に適宜のバイアス電
圧を印加するためのポテンショスタット13、半導体基
板5に形成されたオーミック電極OCから取り出される
電流信号を電圧信号に変換する電流−電圧変換器14、
この電流−電圧変換器14からの信号が入力される演算
増幅回路15、この演算増幅回路15と信号を授受した
り、走査制御装置11に対する制御信号を出力するイン
ターフェイスボード16などよりなる。Reference numeral 12 denotes a control box for controlling the measuring device body 1, which is taken out from a potentiostat 13 for applying an appropriate bias voltage to the semiconductor substrate 5 and an ohmic electrode OC formed on the semiconductor substrate 5. A current-voltage converter 14 for converting a current signal into a voltage signal,
It is composed of an operational amplifier circuit 15 to which a signal from the current-voltage converter 14 is input, an interface board 16 which transmits / receives a signal to / from the operational amplifier circuit 15 and outputs a control signal to the scanning control device 11.
【0014】17は各種の制御や演算を行うとともに、
画像処理機能を有する制御・演算部としてのコンピュー
タ、18は例えばキーボードなどの入力装置、19はカ
ラーディスプレイなどの表示装置、20はメモリ装置で
ある。Reference numeral 17 performs various controls and calculations, and
A computer as a control / arithmetic unit having an image processing function, 18 is an input device such as a keyboard, 19 is a display device such as a color display, and 20 is a memory device.
【0015】上記構成の光走査型二次元濃度分布測定装
置を用いて、溶液の水素イオン濃度(pH)を測定する
場合について説明すると、セル8内に溶液9を入れる。
これにより、センサ面7に溶液9が接する。そして、対
極CEおよび比較電極REを溶液9に浸漬する。The case where the hydrogen ion concentration (pH) of the solution is measured by using the optical scanning type two-dimensional concentration distribution measuring device having the above-mentioned structure will be described. The solution 9 is put in the cell 8.
Thus, the solution 9 comes into contact with the sensor surface 7. Then, the counter electrode CE and the reference electrode RE are immersed in the solution 9.
【0016】上記の状態で、半導体基板5に空乏層が発
生するように、ポテンショスタット13からの直流電圧
を比較電極REとオーミック電極OCとの間に印加し
て、半導体基板5に所定のバイアス電圧を印加する。こ
の状態で半導体基板5に対してプローブ光3を一定周期
(例えば、10kHz)で断続的に照射することによっ
て半導体基板5に交流光電流を発生させる。このプロー
ブ光3の断続照射は、コンピュータ17の制御信号がイ
ンターフェイスボード16を介して入力されることによ
って行われる。前記光電流は、半導体基板5の照射点に
対向する点で、センサ面7に接している溶液9における
pHを反映した値であり、その値を測定することによ
り、この部分でのpH値を知ることができる。In the above state, a direct current voltage from the potentiostat 13 is applied between the comparison electrode RE and the ohmic electrode OC so that a depletion layer is generated in the semiconductor substrate 5, and a predetermined bias is applied to the semiconductor substrate 5. Apply voltage. In this state, the semiconductor substrate 5 is intermittently irradiated with the probe light 3 at a constant period (for example, 10 kHz) to generate an AC photocurrent in the semiconductor substrate 5. The intermittent irradiation of the probe light 3 is performed by inputting a control signal from the computer 17 through the interface board 16. The photocurrent is a value that reflects the pH of the solution 9 in contact with the sensor surface 7 at a point facing the irradiation point of the semiconductor substrate 5, and by measuring the value, the pH value at this portion can be determined. I can know.
【0017】さらに、センサ部走査装置10によって、
センサ部2をX,Y方向に移動させることにより、半導
体基板5にはプローブ光3が二次元方向に走査されるよ
うにして照射され、溶液9における位置信号(X,Y)
と、その場所で観測された交流光電流値により、表示装
置19の画面上にpHを表す二次元画像が表示される。Further, by the sensor unit scanning device 10,
By moving the sensor unit 2 in the X and Y directions, the semiconductor substrate 5 is irradiated with the probe light 3 so as to be scanned in a two-dimensional direction, and the position signal (X, Y) in the solution 9 is obtained.
Then, a two-dimensional image representing pH is displayed on the screen of the display device 19 by the AC photocurrent value observed at that location.
【0018】なお、上記二次元イオン濃度測定装置にお
いて、比較電極REを省略し、対極CEを介してバイア
ス電圧を印加してもよい。但し、比較電極REを設けて
いた場合の方が半導体基板5にバイアス電圧をより安定
に印加することができる。In the two-dimensional ion concentration measuring device, the reference electrode RE may be omitted and the bias voltage may be applied via the counter electrode CE. However, the bias voltage can be more stably applied to the semiconductor substrate 5 when the comparative electrode RE is provided.
【0019】そして、上記光走査型二次元濃度分布測定
装置において、センサ部2をX,Y方向に移動させるの
に代えて、光照射部4に光照射部走査装置を設け、光照
射部4をX,Y方向に移動させるようにしてもよく、ま
た、光照射部4とセンサ部2との間にプローブ光走査装
置を設け、プローブ光3をX,Y方向に移動させるよう
にしてもよい。In the above-mentioned optical scanning type two-dimensional concentration distribution measuring apparatus, instead of moving the sensor section 2 in the X and Y directions, a light irradiation section scanning device is provided in the light irradiation section 4, and the light irradiation section 4 is provided. May be moved in the X and Y directions, or a probe light scanning device may be provided between the light irradiation unit 4 and the sensor unit 2 to move the probe light 3 in the X and Y directions. Good.
【0020】さらに、上記光走査型二次元濃度分布測定
装置においては、光照射部4によるプローブ光3を半導
体基板5のセンサ面7とは反対側から照射するようにし
ていたが、これに代えて、センサ面7側から照射するよ
うにしてもよい。そして、光照射部4として、例えば特
願平7−39114号に示すように、半導体基板5に組
み込まれた光照射部を採用してもよい。Further, in the above-mentioned optical scanning type two-dimensional concentration distribution measuring apparatus, the probe light 3 by the light irradiating section 4 is radiated from the side opposite to the sensor surface 7 of the semiconductor substrate 5, but instead of this. Then, the irradiation may be performed from the sensor surface 7 side. As the light irradiating section 4, for example, as shown in Japanese Patent Application No. 7-39114, a light irradiating section incorporated in the semiconductor substrate 5 may be employed.
【0021】このように、溶液などにおけるpHの二次
元分布を測定し表示する光走査型二次元濃度分布測定装
置については、この出願人の一人が例えば特願平7−3
9112号、特願平7−39114号、特願平7−32
9837号など多数特許出願している。As for the optical scanning type two-dimensional concentration distribution measuring device for measuring and displaying the two-dimensional distribution of pH in a solution as described above, one of the applicants of the present invention, for example, Japanese Patent Application No. 7-3
No. 9112, Japanese Patent Application No. 7-39114, Japanese Patent Application No. 7-32
Numerous patent applications such as 9837 have been filed.
【0022】次に、上述の光走査型二次元濃度分布測定
装置を用いて、マイクロカプセルを評価する方法につい
て詳細に説明する。Next, a method for evaluating the microcapsules using the above-mentioned optical scanning type two-dimensional concentration distribution measuring apparatus will be described in detail.
【0023】〔第1実施例〕マイクロカプセルとして、
内部にKOHを含んだものを用いる。光走査型二次元濃
度分布測定装置のセル8内に0.1MのKCl溶液9を
満たし、その中に一粒のマイクロカプセル21を入れ
る。[First Embodiment] As a microcapsule,
The one containing KOH inside is used. The cell 8 of the optical scanning two-dimensional concentration distribution measuring apparatus is filled with a 0.1 M KCl solution 9, and one microcapsule 21 is put therein.
【0024】前記マイクロカプセル21を浸漬した直後
に、上述したようにして、光走査型二次元濃度分布測定
装置によって、マイクロカプセル21が存在する近傍の
KCl溶液9のpH分布画像を測定する。この場合、図
1(A)に示すように、マイクロカプセル21近傍にp
Hが高くなる領域(アルカリ化領域)22が現れる。こ
のアルカリ化領域22がセンサ面7と接した部分(当接
面)23の形状は、図1(B)に示すように、円形(ま
たは楕円形)であり、当接面23の面積をコンピュータ
17において画像処理によって算出する。Immediately after the microcapsules 21 are dipped, a pH distribution image of the KCl solution 9 in the vicinity of the microcapsules 21 is measured by the optical scanning two-dimensional concentration distribution measuring apparatus as described above. In this case, as shown in FIG.
A region 22 in which H is high (alkalized region) appears. The portion (contact surface) 23 in which the alkalized region 22 contacts the sensor surface 7 has a circular shape (or an elliptical shape) as shown in FIG. It is calculated by image processing in 17.
【0025】そして、前記測定から例えば3分後に、マ
イクロカプセル21が存在する近傍のKCl溶液9のp
H分布画像を測定し、そのときの当接面23をマイクロ
コンピュータ17において画像処理によって算出して、
先に求めた面積から後に求めた面積を引算し、その差を
経過時間(この場合、3分)で割ることにより、当接面
23の面積の変動速度を求める。この変動速度の大小
は、マイクロカプセル21の放出能力の指標となる。Then, for example, 3 minutes after the measurement, the p of the KCl solution 9 near the microcapsules 21 is present.
The H distribution image is measured, and the contact surface 23 at that time is calculated by image processing in the microcomputer 17,
By subtracting the area obtained later from the area obtained earlier and dividing the difference by the elapsed time (in this case, 3 minutes), the variation speed of the area of the contact surface 23 is obtained. The magnitude of this fluctuation speed serves as an index of the release capability of the microcapsules 21.
【0026】上記実施例では、pH分布画像の測定は2
回だけであるが、3分間隔で同様の測定を繰り返し、ア
ルカリ化領域22がセンサ面7と当接する部分(当接
面)23の面積の変動を記録し、マイクロカプセル21
の放出能力の指標とすることもできる。In the above embodiment, the measurement of the pH distribution image is 2
Although only once, the same measurement was repeated at intervals of 3 minutes, and the variation of the area of the portion (contact surface) 23 where the alkalized region 22 contacts the sensor surface 7 was recorded.
It can also be used as an indicator of the release capacity of the compound.
【0027】〔第2実施例〕上述の第1実施例において
は、マイクロカプセル21を中心とするアルカリ化領域
22がセンサ面7と当接する部分(当接面)23の面積
の変動速度を求めるようにしていたが、これに代えて、
図1(B)に示すように、当接面23におけるある点、
例えば中心部24におけるpH値の変化を2回の測定で
画像処理によって求めるようにしてもよい。[Second Embodiment] In the above-described first embodiment, the variation speed of the area of the portion (contact surface) 23 where the alkalized region 22 centered on the microcapsule 21 contacts the sensor surface 7 is obtained. However, instead of this,
As shown in FIG. 1B, a certain point on the contact surface 23,
For example, the change in pH value in the central portion 24 may be obtained by performing image processing by measuring twice.
【0028】すなわち、上記と同様に、0.1MのKC
l溶液9を満たし、その中に一粒のマイクロカプセル2
1を入れ、その直後および3分経過後におけるマイクロ
カプセル21のpHを測定するのである。つまり、マイ
クロカプセル21からは、水酸イオンが放出されるの
で、その部分のpHは、一定の時間範囲内においては、
時間の経過とともに増大する。したがって、その増大速
度を、マイクロカプセル21の放出能力の指標とするこ
とができる。That is, the same as above, 0.1M KC
1 solution 9 filled with one microcapsule 2
The pH of the microcapsules 21 is measured immediately after the addition of 1 and after 3 minutes have elapsed. That is, since hydroxide ions are released from the microcapsules 21, the pH of the portion is within a certain time range,
Increases over time. Therefore, the increasing speed can be used as an index of the release capability of the microcapsule 21.
【0029】〔第3実施例〕上述の各実施例は、マイク
ロカプセル21から放出される物質の計測を、水素イオ
ン濃度の変動によって求めるようにしていたが、カリウ
ムイオン濃度の変動によって求めるようにしてもよい。
すなわち、この場合、光走査型二次元濃度分布測定装置
のセンサ面7を、カリウムイオンに応答する物質、例え
ば、バリノマイシンやクラウンエーテルによって修飾す
ることにより、溶液9におけるカリウムイオン濃度を測
定するのである。[Third Embodiment] In each of the above-described embodiments, the measurement of the substance released from the microcapsules 21 is made by the fluctuation of the hydrogen ion concentration, but it is made by the fluctuation of the potassium ion concentration. May be.
That is, in this case, the potassium ion concentration in the solution 9 is measured by modifying the sensor surface 7 of the optical scanning two-dimensional concentration distribution measuring device with a substance that responds to potassium ions, such as valinomycin or crown ether. .
【0030】この発明は、上述の実施例に限られるもの
ではなく、マイクロカプセル21として、内部にイオン
や生化学物質、薬剤を含有したものの評価を行うことが
できる。この場合、光走査型二次元濃度分布測定装置の
センサ面7を、イオンや生化学物質、薬剤に対し選択的
に応答する物質で修飾することが必要である。The present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and it is possible to evaluate the microcapsules 21 that contain ions, biochemical substances, or drugs inside. In this case, it is necessary to modify the sensor surface 7 of the optical scanning two-dimensional concentration distribution measuring device with a substance that selectively responds to ions, biochemical substances, and drugs.
【0031】[0031]
【発明の効果】この発明は、以上のような形態で実施さ
れ、以下のような効果を奏する。The present invention is embodied in the above-described embodiment and has the following effects.
【0032】上述のように、この発明のマイクロカプセ
ルの評価方法は、マイクロカプセルを、所定の溶液に入
れ、そのとき溶液におけるイオン濃度の二次元分布画像
を光走査型二次元濃度分布測定装置によって測定するだ
けであるので、イオン電極、ガラス電極を用いる測定や
分光測定など既存の分析手法に比べて、測定操作が簡単
であり、短時間に行うことができる。また、複雑な装置
などを必要としない。そして、サンプルとしてのマイク
ロカプセルは少量でよく、また、マイクロカプセルの評
価を再現性よく行うことができる。As described above, the method for evaluating a microcapsule of the present invention is such that the microcapsule is placed in a predetermined solution, and a two-dimensional distribution image of ion concentration in the solution is then measured by an optical scanning two-dimensional concentration distribution measuring device. Since only the measurement is performed, the measurement operation is simple and can be performed in a short time as compared with existing analysis methods such as measurement using an ion electrode and a glass electrode and spectroscopic measurement. Moreover, no complicated device is required. A small amount of microcapsules as a sample may be used, and the microcapsules can be evaluated with good reproducibility.
【図1】この発明のマイクロカプセルの評価方法を説明
するための図である。FIG. 1 is a diagram for explaining a microcapsule evaluation method of the present invention.
【図2】この発明のマイクロカプセルの評価方法で用い
る光走査型二次元濃度分布測定装置の一例を示す図であ
る。FIG. 2 is a diagram showing an example of an optical scanning two-dimensional concentration distribution measuring apparatus used in the microcapsule evaluation method of the present invention.
3…プローブ光、5…半導体基板、7…センサ面、9…
溶液、21…マイクロカプセル、22…イオン濃度の変
動した領域、23…領域がセンサ面と当接する部分、2
4…当接面のある点。3 ... Probe light, 5 ... Semiconductor substrate, 7 ... Sensor surface, 9 ...
Solution, 21 ... Microcapsule, 22 ... Area where ion concentration fluctuates, 23 ... Area where the area contacts the sensor surface, 2
4 ... A point with a contact surface.
フロントページの続き (72)発明者 冨田 勝彦 京都府京都市南区吉祥院宮の東町2番地 株式会社堀場製作所内Front page continuation (72) Inventor Katsuhiko Tomita 2 Higashimachi, Kichijoin Miya, Minami-ku, Kyoto-shi, Kyoto Inside HORIBA, Ltd.
Claims (2)
し、前記半導体基板に対してプローブ光を照射するよう
に構成された光走査型二次元濃度分布測定装置の前記セ
ンサ面に接するように溶液を設け、この溶液内にマイク
ロカプセルを浸し、そのときマイクロカプセルから放出
されるイオンの放出量や放出速度を求め、これを指標と
することを特徴とするマイクロカプセルの評価方法。1. A semiconductor substrate has a sensor surface on one surface, and is in contact with the sensor surface of an optical scanning type two-dimensional concentration distribution measuring apparatus configured to irradiate the semiconductor substrate with probe light. A method for evaluating a microcapsule, characterized in that a solution is provided in the microcapsule, the microcapsule is dipped in the solution, and the amount and rate of release of ions released from the microcapsule at that time are obtained and used as an index.
の放出量や放出速度を、マイクロカプセル近傍に生じた
イオン濃度の変動した領域がセンサ面と接する部分の面
積の時間的変化またはこの当接面のある点におけるイオ
ン濃度の時間的変化に基づいて求めるようにした請求項
1に記載のマイクロカプセルの評価方法。2. The amount or rate of release of ions released from the microcapsule is determined by the temporal change of the area of the portion where the region where the ion concentration fluctuates near the microcapsule is in contact with the sensor surface or the contact surface of the contact surface. The microcapsule evaluation method according to claim 1, wherein the evaluation is performed based on a temporal change in ion concentration at a certain point.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13575196A JP3434124B2 (en) | 1996-05-01 | 1996-05-01 | Evaluation method of microcapsules |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13575196A JP3434124B2 (en) | 1996-05-01 | 1996-05-01 | Evaluation method of microcapsules |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09297124A true JPH09297124A (en) | 1997-11-18 |
JP3434124B2 JP3434124B2 (en) | 2003-08-04 |
Family
ID=15159023
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13575196A Expired - Fee Related JP3434124B2 (en) | 1996-05-01 | 1996-05-01 | Evaluation method of microcapsules |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3434124B2 (en) |
-
1996
- 1996-05-01 JP JP13575196A patent/JP3434124B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3434124B2 (en) | 2003-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002005888A (en) | Mobility and effect caused by surface charge | |
JPS6125094B2 (en) | ||
WO2006025158A1 (en) | Optical measuring device and method, nanoparticle measuring method and device | |
US20100220327A1 (en) | Measurement Device for the Distribution of Chemical Concentration | |
JP3434124B2 (en) | Evaluation method of microcapsules | |
JP4513982B2 (en) | Viscosity measuring device using particles | |
JP3688096B2 (en) | Material evaluation method | |
JPH09297106A (en) | Ion exchanger evaluation method | |
JPH1123533A (en) | Light scanning type two-dimensional concentration distribution measuring device | |
JP3058588B2 (en) | pH image color display method and apparatus | |
JP3229812B2 (en) | Calibration method of optical scanning type two-dimensional pH distribution measuring device | |
JP3667566B2 (en) | Ion exchange membrane evaluation method | |
JP3965714B2 (en) | Capillary electrophoresis chip | |
JPH09297123A (en) | Calibration method for light scanning type twodimensional concentration distribution measuring device | |
JP3098429B2 (en) | Optical scanning type two-dimensional concentration distribution measuring device | |
JPS6362693B2 (en) | ||
JPH10113199A (en) | Optoscanning two-dimensional concentration distribution measurement | |
JPH0650314B2 (en) | Immune reaction measuring device | |
JP2000162080A (en) | Evaluation method for leak of liquid or gas in material | |
JPH09292358A (en) | Zeta-potential measuring method using optical-scanning type two-dimensional concentration-distribution measuring device | |
JP2008170353A (en) | Substance detector, substance detection, substance detecting plate, and measuring cell | |
JPH1010087A (en) | Calibrating method for optical scanning type two-dimensional concentration distribution measuring device | |
JPH05288752A (en) | Subject measuring apparatus | |
JP2000055875A (en) | Light scan type apparatus for measuring second dimensional concentration distribution | |
JPH09318595A (en) | Apparatus for measuring two-dimensional concentration distribution and method therefor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |