JPH09293753A - Electric circuit part, manufacture thereof, conductive ball, conductive connecting member, and manufacture thereof - Google Patents

Electric circuit part, manufacture thereof, conductive ball, conductive connecting member, and manufacture thereof

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JPH09293753A
JPH09293753A JP8102909A JP10290996A JPH09293753A JP H09293753 A JPH09293753 A JP H09293753A JP 8102909 A JP8102909 A JP 8102909A JP 10290996 A JP10290996 A JP 10290996A JP H09293753 A JPH09293753 A JP H09293753A
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Japan
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electric circuit
conductive
electrode
coating layer
electrode portion
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Hiroshi Kondo
浩史 近藤
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/11011Involving a permanent auxiliary member, i.e. a member which is left at least partly in the finished device, e.g. coating, dummy feature
    • H01L2224/11013Involving a permanent auxiliary member, i.e. a member which is left at least partly in the finished device, e.g. coating, dummy feature for holding or confining the bump connector, e.g. solder flow barrier
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/328Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by welding

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable an electric circuit part to be lessened in size, thickness, and manufacturing cost and enhanced in reliability by a method wherein an electric circuit element and an electric circuit board are connected together high in density, high in bonding properties, and low in connection resistance without additionally processing their electrodes. SOLUTION: An electric circuit part is equipped with an electric circuit element 1 with electrodes 2 and an electric circuit board 7 with electrodes 8 connected to the electric circuit element 1, wherein a conductive ball 6 composed of a nearly ball-shaped and rigid core 4 and a conductive coating layer 5 deposited around the surface of the core 4 is interposed between the electrodes 2 and 8. The conductive ball 6 is pressed against the electrode 2 of the electric circuit element 1 with the electrode 8 of the electric circuit board 7, and at least either the electrode 2 of the electric circuit element 1 or the electrode 8 of the electric circuit board 7 and the coating layer 5 of the conductive ball 6 are electrically and mechanically connected together.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電極部を有する電
気回路素子と前記電気回路素子と接続するための電極部
を有した電気回路基板を備えた電気回路部品、及び、こ
の電気回路部品の製造方法、及び、この電気回路部品の
両電極部を接続するために用いられる導電ボール及び導
電接続部材、及びこの導電接続部材の製造方法に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electric circuit component having an electric circuit element having an electrode portion and an electric circuit board having an electrode portion for connecting the electric circuit element, and an electric circuit component of the electric circuit component. The present invention relates to a manufacturing method, a conductive ball and a conductive connecting member used for connecting both electrode parts of the electric circuit component, and a manufacturing method of the conductive connecting member.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、電気回路素子を電気回路基板
に電気的に接続して構成される電気回路部品に関する製
造技術としては、以下に述べる方法が種々知られてい
る。先ず、これら製造技術を分説する。
2. Description of the Related Art Heretofore, various methods described below have been known as a manufacturing technique for an electric circuit component constituted by electrically connecting an electric circuit element to an electric circuit board. First, these manufacturing techniques will be divided.

【0003】(1)ワイヤボンディング方法 図20(a)は、ワイヤボンディング方法によって接続
された電気回路素子であるIC101と、電気回路基板
であるプリント基板102とからなる電気回路部品を模
式的に示す断面図である。このワイヤボンディング方法
では、まず、プリント基板102上にAgペースト10
4を用いて、IC101をプリント基板102上に固定
保持させ、次に、IC101表面に存在する電極部とプ
リント基板102上に設けられた配線パターン105と
を、線径が20〜100μmの金あるいはアルミからな
る極細金属線103を用いて電気的に接続するように構
成されている。
(1) Wire Bonding Method FIG. 20 (a) schematically shows an electric circuit component including an IC 101, which is an electric circuit element, and a printed circuit board 102, which is an electric circuit board, connected by the wire bonding method. FIG. In this wire bonding method, first, the Ag paste 10 is formed on the printed circuit board 102.
4, the IC 101 is fixedly held on the printed circuit board 102, and then the electrode portion existing on the surface of the IC 101 and the wiring pattern 105 provided on the printed circuit board 102 are connected with gold or a wire having a diameter of 20 to 100 μm. It is configured to be electrically connected by using an ultrafine metal wire 103 made of aluminum.

【0004】尚、接続後はポッティング方法等により樹
脂106をIC101上に滴下し、IC101及び極細
金属線103を外界より封止する。このようにして、最
終的に電気回路部品が得られるように設定されている。
After the connection, the resin 106 is dropped on the IC 101 by a potting method or the like to seal the IC 101 and the ultrafine metal wire 103 from the outside. In this way, the electric circuit components are finally set.

【0005】更に、この方法は、図20(b)に示すよ
うに電気回路基板としてリードフレーム107を用い、
各リードフレーム107上にIC101を極細金属線1
03を介して接続し、トランスファーモールド法により
樹脂106により封止する場合や、電気回路基板として
セラミックパッケージを用いる場合にも使用されてい
る。
Further, this method uses a lead frame 107 as an electric circuit board as shown in FIG.
An IC 101 is formed on each lead frame 107 with an ultrafine metal wire 1
It is also used in the case of connecting via the H.O.P.O.3 and sealing with the resin 106 by the transfer molding method, and in the case of using the ceramic package as the electric circuit board.

【0006】(2)CCB(Controlled Collapse Bond
ing)方法 図21(a)及び図21(b)と図22(a)及び図2
2(b)とは、それぞれ、米国特許第3,292,24
0号と3,303,393号とに記載されている電気回
路素子及び電気回路基板の電気的接続方法を示してい
る。
(2) CCB (Controlled Collapse Bond)
ing) method FIGS. 21 (a) and 21 (b) and FIGS. 22 (a) and 2
2 (b) means U.S. Pat. No. 3,292,24, respectively.
The electrical connection method of the electric circuit element and the electric circuit board described in No. 0 and 3,303,393 is shown.

【0007】先ず、図21(a)及び図21(b)に示
される電気的接続方法について説明する。この方法で
は、図21(a)に示すように、電気回路素子101の
表面に設けられている電極部に電極108を設け、次
に、電気回路素子表面を電極108を除いて全面的にガ
ラス保護膜109で被覆し、電極108の(配線)材料
及びガラス保護膜109と密着の良い金属膜110を電
極部に設ける。ここで、ガラス保護膜109に設けられ
た開口部の底部に電極108が露出している構造をもっ
ている。これにより、金属膜110は電極部の電極10
8及びこれの周囲のガラス保護膜109に渡り設けられ
ることになる。
First, the electrical connection method shown in FIGS. 21A and 21B will be described. In this method, as shown in FIG. 21A, an electrode 108 is provided on the electrode portion provided on the surface of the electric circuit element 101, and then the surface of the electric circuit element is entirely covered with glass except for the electrode 108. A metal film 110, which is covered with the protective film 109 and has good adhesion with the (wiring) material of the electrode 108 and the glass protective film 109, is provided in the electrode portion. Here, the electrode 108 is exposed at the bottom of the opening provided in the glass protective film 109. As a result, the metal film 110 becomes the electrode 10 of the electrode portion.
8 and the glass protective film 109 around it.

【0008】次に、この電極部に第1の合金ボール(例
えば、Au75wt%Sb25wt%:融点360℃)
を配置し、電極部を第1の合金ボールの融点を越えるま
で加熱して第1の合金ボールを溶融させ、電極部上に設
けられた金属膜110と第1の合金ボールとの接続を行
う。この後、電極部を冷却し、第1の合金ボールを凝固
させる。これにより、電極108上に第1の合金111
が突出した電気回路素子を得る。
Next, a first alloy ball (for example, Au 75 wt% Sb 25 wt%: melting point 360 ° C.) is formed on this electrode portion.
Is placed, and the electrode portion is heated until the melting point of the first alloy ball is exceeded to melt the first alloy ball, and the metal film 110 provided on the electrode portion is connected to the first alloy ball. . Then, the electrode portion is cooled to solidify the first alloy balls. As a result, the first alloy 111 is formed on the electrode 108.
To obtain an electric circuit element having a protrusion.

【0009】一方、図21(b)に示すように、回路基
板113の配線パターン105上に、第1の合金111
の融点より低い融点を有する第2の合金112(例え
ば、Pb90wt%Sn10wt%:融点258℃
(固)〜301℃(液))を設け、電極部に第1の合金
111が突出した電気回路素子101を図21(a)を
上下逆さまにした状態で、第1の合金111が対応する
配線パターン105に接触する状態で配置する。この
後、電極部を、第1の合金111の融点以下で、且つ、
第2の合金112の融点以上まで加熱することにより、
第1の合金111が溶融することなく第2の合金112
のみが溶融し、第2の合金112と第1の合金111と
が接続される。
On the other hand, as shown in FIG. 21B, the first alloy 111 is formed on the wiring pattern 105 of the circuit board 113.
The second alloy 112 having a melting point lower than the melting point of (eg, Pb 90 wt% Sn 10 wt%: melting point 258 ° C.
(Solid) to 301 ° C. (liquid) is provided, and the first alloy 111 corresponds in a state in which the electric circuit element 101 having the first alloy 111 protruding in the electrode portion is turned upside down in FIG. The wiring pattern 105 is arranged in contact with the wiring pattern 105. After that, the electrode portion is formed at a temperature equal to or lower than the melting point of the first alloy 111, and
By heating to above the melting point of the second alloy 112,
The second alloy 112 without melting of the first alloy 111
Only the first alloy melts and the second alloy 112 and the first alloy 111 are connected.

【0010】ここで、電気回路素子101は、第1の合
金111の突出している高さ分だけ電気回路基板113
の上方に持ち上げられた状態で接続及び固定配置されて
いる。このため、電気回路素子101と電気回路基板1
13との電気的短絡を確実に防ぐ事ができると共に、溶
融させた後のフラックスを除去する際に、洗浄液が接続
部に容易に進入できることから、フラックス洗浄を行っ
て汚染物質を確実に除去した電気回路部品を得る事がで
きる。
Here, the electric circuit element 101 has an electric circuit board 113 corresponding to the protruding height of the first alloy 111.
Connected and fixedly arranged in a state of being lifted above. Therefore, the electric circuit element 101 and the electric circuit board 1
It is possible to surely prevent an electrical short circuit with 13, and since the cleaning liquid can easily enter the connection portion when removing the flux after melting, flux cleaning was performed to reliably remove contaminants. Electric circuit parts can be obtained.

【0011】この方法の応用として、第2の合金112
を用いず、電気回路基板113上に第1の合金111が
溶融した際に流れ出ることを防止するダム(図示せず)
を設け、電気回路素子101の電極108上に第1の合
金111の最初の溶融時に表面張力によりその大きさを
制限する金属膜(BLM(Boll LimitedM
etal)層、例えばTi/Cu/Ni、Cr/Cu/
Au)を設け、その上に設けられた第1の合金111
(例えばPb95wt%SN5wt%)を溶融接続して
半田バンプ(高さ100〜200μm)を形成し、この
後、半田バンプを回路基板との接続時に再度溶融し、基
板113のダムにより横方向への広がりを制限された半
田の溶融時の表面張力により電気回路素子を持ち上げて
基板の電極部と接続する方法が、CCB方法である。
As an application of this method, the second alloy 112
A dam (not shown) that prevents the first alloy 111 from flowing out on the electric circuit board 113 without melting.
And a metal film (BLM (Ball Limited M) that limits the size of the first alloy 111 by surface tension when the first alloy 111 is first melted on the electrode 108 of the electric circuit element 101.
etal) layers, for example Ti / Cu / Ni, Cr / Cu /
Au) is provided, and the first alloy 111 provided thereon
(For example, Pb 95 wt% SN 5 wt%) is melt-bonded to form solder bumps (height 100 to 200 μm), and then the solder bumps are melted again at the time of connection with the circuit board, and are laterally moved by the dam of the board 113. The CCB method is a method in which the electric circuit element is lifted by the surface tension of the solder whose spread is limited when the solder is melted and connected to the electrode portion of the substrate.

【0012】更に、このCCB方法は、近年、BGA
(Boll Grid Array)方法と呼ばれて、
半導体素子パッケージの電極部とプリント基板の電極部
との接続方法としての、例えばPb40%Sn60%,
Pb36%Sn62%Ag2%,Pb81%In19
%,Pb90%Sn10%の半田バンプを、パッケージ
の電極に形成し、基板の電極との接続に応用されてい
る。
Further, this CCB method has been recently used in BGA.
(Ball Grid Array) method,
As a method of connecting the electrode portion of the semiconductor element package and the electrode portion of the printed circuit board, for example, Pb 40% Sn 60%,
Pb36% Sn62% Ag2%, Pb81% In19
%, Pb 90% Sn 10% solder bumps are formed on the electrodes of the package and are applied to the connection with the electrodes of the substrate.

【0013】次に、図22(a)及び図22(b)に示
す接続方法について説明する。この方法では、図22
(a)に示すように、電気回路素子の電極部の電極10
8に合金層115(例えば、Pb95wt%Sn5wt
%、融点300℃(固)〜314℃(液))を設け、そ
の上に合金層115の溶融温度で変形しない導電材料か
らなるボール114(例えば無酸素銅、直径127〜1
52.4μm)を配置し、合金層115の融点まで加熱
する事によりボール114と接続を行う。
Next, the connection method shown in FIGS. 22A and 22B will be described. In this method, as shown in FIG.
As shown in (a), the electrode 10 of the electrode portion of the electric circuit element
8 to the alloy layer 115 (for example, Pb 95 wt% Sn5 wt
%, Melting point 300 ° C. (solid) to 314 ° C. (liquid), and a ball 114 (for example, oxygen-free copper, diameter 127 to 1) made of a conductive material that does not deform at the melting temperature of the alloy layer 115 thereon.
52.4 μm) is placed and heated to the melting point of the alloy layer 115 to connect to the balls 114.

【0014】この後、図22(b)に示すように、回路
基板113上の配線部105に電気回路素子101に設
けられた合金層115より低い融点の第2の合金層11
6(例えば、Pb90%Sn10%、融点268℃
(固)〜301℃(液))を設ける。そして、ボール1
14が接続された電気回路素子101を、図22(a)
に示す状態とは上下逆さまの状態で回路基板113上
に、ボール114が対応する第2の合金層116に接触
する状態で配置する。そして、電極部を第2の合金層1
16の融点まで加熱して第2の合金層116を溶融さ
せ、ボール114と第2の合金層116とを接続し電気
回路部品を得る。
After that, as shown in FIG. 22B, the second alloy layer 11 having a lower melting point than the alloy layer 115 provided in the electric circuit element 101 on the wiring portion 105 on the circuit board 113.
6 (eg, Pb 90% Sn 10%, melting point 268 ° C.
(Solid) to 301 ° C. (liquid) is provided. And ball 1
22A shows the electric circuit element 101 to which 14 is connected.
It is arranged on the circuit board 113 in an upside-down state from the state shown in (1) so that the balls 114 contact the corresponding second alloy layer 116. Then, the electrode portion is provided with the second alloy layer 1
The second alloy layer 116 is melted by heating to the melting point of 16, and the balls 114 and the second alloy layer 116 are connected to obtain an electric circuit component.

【0015】この方法では、ボール114の融点(C
u:1083℃)が第1及び第2の合金層115,11
6の融点より大幅に高く、第2の合金層116を溶融さ
せるための加熱時に溶融するおそれがないため、各々の
合金層115,116との接続時の加熱温度制御範囲が
広くとれることで、接続が容易となる利点がある。
In this method, the melting point (C
u: 1083 ° C.) is the first and second alloy layers 115, 11
Since the melting point of the second alloy layer 116 is significantly higher than the melting point of No. 6 and there is no possibility of melting at the time of heating for melting the second alloy layer 116, the heating temperature control range at the time of connection with the respective alloy layers 115 and 116 can be widened There is an advantage that connection is easy.

【0016】(3)例えば、特開公昭59−13963
6号公報に開示されたTAB(TapeAutomated Bondin
g)方法 図23(b)及び図23(c)は、TAB方法により接
続された電気回路部品を模式的に夫々示す断面図であ
る。
(3) For example, JP-A-59-13963
TAB (Tape Automated Bondin) disclosed in Japanese Patent No. 6
g) Method FIGS. 23B and 23C are cross-sectional views schematically showing electric circuit components connected by the TAB method.

【0017】このTAB方法は、テープキャリア方式に
よる自動ボンディング方法である。以下に、このTAB
方法の代表例を順を追って説明する。
This TAB method is an automatic bonding method using a tape carrier method. Below, this TAB
A typical example of the method will be described step by step.

【0018】先ず、図23(a)に示すように、IC1
01が形成されている半導体ウェハー全面に多層のバリ
ヤメタル層118(例えば、Ti/W、Ti/Pt、C
r/Cu、Cr/Ni等)を蒸着により形成し、その上
にレジストを塗布し、電極部108上に開口を有する様
にレジストを露光現像する。次に、バリヤメタル層11
8を電極として電気メッキによりAuバンプ119を高
さが15〜30μm程度となる様にレジスト開口部に形
成し、この後、レジストを剥離する。更に、露出してい
るバリヤメタル層118をエッチングし、電極部108
上にAuバンプ119を形成する。そして、半導体ウェ
ハーを切断しバンプ付き半導体チップを得る。
First, as shown in FIG. 23 (a), IC1
No. 01 is formed on the entire surface of the semiconductor wafer. A multilayer barrier metal layer 118 (for example, Ti / W, Ti / Pt, C
(r / Cu, Cr / Ni, etc.) is formed by vapor deposition, a resist is applied thereon, and the resist is exposed and developed so as to have an opening on the electrode portion 108. Next, the barrier metal layer 11
Au bumps 119 are formed in the resist openings by electroplating using 8 as electrodes to a height of about 15 to 30 μm, and then the resist is peeled off. Further, the exposed barrier metal layer 118 is etched to form the electrode portion 108.
An Au bump 119 is formed on the top. Then, the semiconductor wafer is cut to obtain semiconductor chips with bumps.

【0019】ここで、キャリアテープは、図23(b)
に示すように、絶縁フィルム121(例えばポリイミド
フィルム厚み75〜125μm)上に銅からなるリード
パターン(厚み18〜35μm)が形成され、半導体チ
ップ101と接続される部分では、フィルムに開口部が
設けられリードが露出し、その表面を厚み0.3〜0.
5μmでSnメッキされたインナーリード120を持つ
様に形成される。
Here, the carrier tape is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, a lead pattern (thickness 18 to 35 μm) made of copper is formed on the insulating film 121 (for example, a polyimide film thickness 75 to 125 μm), and an opening is provided in the film at a portion connected to the semiconductor chip 101. The lead is exposed, and the surface has a thickness of 0.3 to 0.
It is formed to have an Sn-plated inner lead 120 of 5 μm.

【0020】このキャリアテープのインナーリード12
0と半導体チップ101の金バンプ119とを位置合わ
せした後、500℃前後の温度と30〜40g/リード
の圧力により熱圧着によりインナーリード120とAu
バンプ119とにAu−Sn共晶接合をおこさせて接続
する。尚、接続後に、樹脂を滴下し硬化することにより
半導体チップを封止する。
Inner leads 12 of this carrier tape
0 and the gold bump 119 of the semiconductor chip 101 are aligned, and then the inner lead 120 and Au are thermocompression bonded by a temperature of about 500 ° C. and a pressure of 30 to 40 g / lead.
Au-Sn eutectic bonding is performed on the bumps 119 for connection. After the connection, the resin is dropped and cured to seal the semiconductor chip.

【0021】次に、図23(c)に示すように、半導体
チップ101が接続されたキャリアテープから、アウタ
ーリード122を切断し、アウターリード122と基板
のランドとを半田123、異方性導電膜等により接続す
ることで、電気回路部品を得る。
Next, as shown in FIG. 23C, the outer lead 122 is cut from the carrier tape to which the semiconductor chip 101 is connected, and the outer lead 122 and the land of the substrate are soldered 123 and anisotropically conductive. An electric circuit component is obtained by connecting with a film or the like.

【0022】また、TAB方法とは異なるが、図24に
示す様に、TAB方法で使用されるAuバンプ119を
用いて、半導体チップ101のAuバンプ119を直接
回路基板113の電極部105と熱圧着により接続し、
電気回路部品を得る方法もある。
Although different from the TAB method, as shown in FIG. 24, by using the Au bump 119 used in the TAB method, the Au bump 119 of the semiconductor chip 101 is directly connected to the electrode portion 105 of the circuit board 113 by heat. Connect by crimping,
There is also a method of obtaining electric circuit components.

【0023】(4)樹脂ボール方法(HYBRIDS,
Vol.8,No.6,pp.3−25,1992) 図25(a)及び図25(b)は、樹脂ボールの表面に
導電性皮膜を設けた導電性樹脂ボールを用いた接続方法
を示している。以下に、この接続方法を説明する。
(4) Resin ball method (HYBRIDS,
Vol. 8, No. 6, pp. 3-25, 1992) FIGS. 25 (a) and 25 (b) show a connection method using a conductive resin ball in which a conductive coating is provided on the surface of the resin ball. The connection method will be described below.

【0024】図25(b)に示すように、導電性樹脂ボ
ール124は、直径が5〜10μmの樹脂ボール126
表面にAuを500〜数千オングストロームの膜厚でメ
ッキにより被覆し導電層127を形成したものである。
この導電ボール124を、図25(a)に示すように、
基板113の電極105上に配置し、その基板113上
に未硬化のエポキシ系接着剤125を介在させて半導体
チップ101を載せ、導電性樹脂ビール124が約10
〜20%程度変形する様に加圧した状態で、この接着剤
を硬化させて半導体チップ101を基板113と固着さ
せる。このとき、電気的接続は、半導体チップ101と
基板113とを導電性樹脂ボール124の変形後の間隔
で固着させたことにより、樹脂ボール126の変形に伴
う弾性反発力が、導電性樹脂ボール124の接続してい
るそれぞれの電極部108,105に働くことで、導電
性樹脂ボール124の表面のAu層127と各電極10
8,105とが機械的に接触することのみにより得られ
ている。
As shown in FIG. 25B, the conductive resin balls 124 are resin balls 126 having a diameter of 5 to 10 μm.
The surface is coated with Au to a thickness of 500 to several thousand angstroms by plating to form a conductive layer 127.
As shown in FIG. 25A, the conductive balls 124 are
The semiconductor chip 101 is placed on the electrode 105 of the substrate 113, and the uncured epoxy adhesive 125 is interposed on the substrate 113.
The adhesive is cured and the semiconductor chip 101 is fixed to the substrate 113 while being pressed so as to be deformed by about 20%. At this time, for electrical connection, the semiconductor chip 101 and the substrate 113 are fixed to each other at an interval after the conductive resin balls 124 are deformed, so that the elastic repulsion force due to the deformation of the resin balls 126 causes the conductive resin balls 124. By acting on the respective electrode portions 108 and 105 connected to each other, the Au layer 127 on the surface of the conductive resin ball 124 and each electrode 10
8 and 105 are obtained only by mechanical contact.

【0025】(5)異方性導電シート接続方法 図26(a)及び図26(b)並びに図27に示す方法
は、夫々、米国特許第3,320,658号及び第3,
541,222号に示される接続方法を示している。以
下に夫々の接続方法について説明する。
(5) Method for Connecting Anisotropic Conductive Sheets The methods shown in FIGS. 26 (a) and 26 (b) and FIG. 27 are the same as those in US Pat. Nos. 3,320,658 and 3,320,658, respectively.
The connection method shown in No. 541 and 222 is shown. The respective connection methods will be described below.

【0026】これらの方法は、いずれも絶縁性材料から
なるシートに導電材料がそのシート両面に露出する様に
保持された異方性導電シートを、互いに対向する電極間
に配置して電極間を接続するものである。
In each of these methods, an anisotropic conductive sheet in which a conductive material is held on a sheet made of an insulating material so that the conductive material is exposed on both sides of the sheet is arranged between the electrodes facing each other, and the electrodes are separated from each other. To connect.

【0027】図26(a)及び図26(b)に示される
方法は、熱可塑性の絶縁材料(例えば、ポリエチレンテ
レフタレート等)からなるシート129に、導電材料1
28(例えばCu80%Ag15%P5%)を埋設する
ことにより、電極108(例えばCu)上に導電材料を
1つずつ配置するのではなく、1つのシートに複数の導
電材料128を保持させることで、接続時の導電材料1
28のハンドリングの改善を図ったものである。このシ
ート129を導電材料128が電極108間に挟まれる
様に配置し、加熱することで、この導電材料128が溶
融し電極108と接続される。
In the method shown in FIGS. 26A and 26B, the conductive material 1 is applied to the sheet 129 made of a thermoplastic insulating material (eg, polyethylene terephthalate).
By embedding 28 (for example, Cu 80% Ag 15% P 5%), it is possible to hold a plurality of conductive materials 128 on one sheet instead of disposing one conductive material on each electrode 108 (for example, Cu). , Conductive material for connection 1
It is intended to improve the handling of 28. The sheet 129 is arranged so that the conductive material 128 is sandwiched between the electrodes 108 and heated, so that the conductive material 128 is melted and connected to the electrodes 108.

【0028】導電材料108の接続方式としては、溶
接、鑞付け(溶融温度450℃以上)、半田付け(溶融
温度450℃以下)のいずれかの方式で行われるが、い
ずれの方式も接続する導電材料128が液相状態で電極
108と接続される方式である。また、このときの熱に
より導電材料128を保持しているシート129が熱可
塑性であるため軟化し、導電材料128と電極108と
の接続される周囲を隙間なく覆い、加熱接続後にその状
態で硬化し、電極間を絶縁する。
The conductive material 108 may be connected by any of welding, brazing (melting temperature of 450 ° C. or higher), and soldering (melting temperature of 450 ° C. or lower). In this method, the material 128 is connected to the electrode 108 in a liquid phase. In addition, the sheet 129 holding the conductive material 128 is thermoplastic due to the heat at this time so that it is softened and covers the periphery where the conductive material 128 and the electrode 108 are connected without a gap, and is cured in that state after heating connection. And insulate between the electrodes.

【0029】この異方性導電シートは、図26(a)に
示すように、熱可塑性の絶縁材料からなるシート129
に、導電材料からなるボール128(直径25.4μm
〜127μm)を、熱可塑性樹脂のシート129が軟化
し、導電材料のボール128が軟化しない温度に加熱し
て、あらかじめ決められた場所(例えば、開口部を設け
ておく)に配置する。するとシート129が軟化し、ボ
ール128をシート129両面から突出した状態に配置
することができ、加熱をやめるとシート129が再び軟
化し、図26(b)に示すように、このボール128を
保持する。この工程を繰り返すことで、1つのシート1
29に複数の導電材料からなるボール128がシート1
29両面より突出した異方性導電シートを得ている。
As shown in FIG. 26A, this anisotropic conductive sheet is a sheet 129 made of a thermoplastic insulating material.
A ball 128 made of a conductive material (diameter 25.4 μm
˜127 μm) is heated to a temperature at which the thermoplastic resin sheet 129 does not soften and the conductive material balls 128 do not soften, and is placed at a predetermined location (for example, an opening is provided). Then, the seat 129 softens, and the ball 128 can be arranged so as to project from both sides of the seat 129. When the heating is stopped, the seat 129 softens again, and the ball 128 is retained as shown in FIG. 26 (b). To do. By repeating this process, one sheet 1
A ball 128 made of a plurality of conductive materials is attached to the seat 29.
29, anisotropic conductive sheets protruding from both sides are obtained.

【0030】図27に示す方法は、絶縁材料のシート1
31の中に配置される導電材料130が、1つの電極部
108に複数配置される様に小型でありかつ、隣接する
電極間を短絡しない大きさと配置を持つことにより、接
続する電極部108とこの異方性導電シートとの位置決
めを省くことを目指したものである。また、導電材料1
30が接続時の加圧により押し潰され電極との接触面積
を確保することにより電気的に接続するため、導電材料
130は加圧により変化しやすい鉛、金合金が用いられ
る。更に加圧により接続することで、電気回路部品の保
守や設計の変更時に取り付け、取り外しを行えるものと
したものである。
In the method shown in FIG. 27, the sheet 1 of insulating material is used.
The conductive material 130 arranged in 31 is so small that a plurality of conductive materials 130 are arranged in one electrode portion 108, and has a size and arrangement that does not short circuit between adjacent electrodes, so The purpose is to eliminate positioning with the anisotropic conductive sheet. In addition, the conductive material 1
Since the conductive material 130 is crushed by the pressure applied during connection and electrically connected by ensuring the contact area with the electrode, the conductive material 130 is made of lead or gold alloy, which is easily changed by pressure. Furthermore, by connecting by pressurization, it is possible to attach and detach the electric circuit component at the time of maintenance or design change.

【0031】この異方性導電シートは、絶縁性材料によ
り格子の畝を絶縁性材料のベースシート上に形成し、更
に、この格子の畝を鋳型として導電材料である金属を鋳
込む。そして、ベースシートと格子の畝の部分をエッチ
ング等により除去し、導電材料が突き出た異方性導電シ
ートを得ている。
In this anisotropic conductive sheet, the ridges of the grid are formed of an insulating material on the base sheet of the insulating material, and the metal of the conductive material is cast by using the ridges of the grid as a mold. Then, the base sheet and the ridges of the lattice are removed by etching or the like to obtain an anisotropic conductive sheet in which the conductive material is projected.

【0032】[0032]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た種々の従来例では、電気回路素子を電気回路基板に電
気的に接続して構成される電気回路部品に関する技術と
して、以下のような問題点がある。
However, the above-mentioned various conventional examples have the following problems as a technique relating to an electric circuit component constituted by electrically connecting an electric circuit element to an electric circuit board. is there.

【0033】(1)ワイヤボンディング方法 IC101の接続部をIC101の内側に至るように
に設計すると、その接続部からIC101の保持される
プリント基板102の表面上の配線パターン105まで
を接続する極細金属線103が、IC101の外周縁部
に接触し易くなる。接触した場合には、電気的に短絡し
電気特性を満たせないだけでなくICを破壊してしま
う。そこで、極細金属線103の長さを長く、また、接
続部からの立ち上げ高さ(h)を高くすると、極細金属
線103はその線径が非常に細く柔らかいため、製造工
程時の振動や封止樹脂の注入時の樹脂圧力により変形
し、極細金属線103同士が接触したり破断したりする
虞がある。
(1) Wire Bonding Method When the connection portion of the IC 101 is designed to reach the inside of the IC 101, an extra fine metal connecting the connection portion to the wiring pattern 105 on the surface of the printed circuit board 102 holding the IC 101. The line 103 easily contacts the outer peripheral edge portion of the IC 101. When they come into contact with each other, not only the electrical characteristics are not satisfied due to electrical short circuit, but also the IC is destroyed. Therefore, if the length of the ultrafine metal wire 103 is increased and the rising height (h) from the connection portion is increased, the diameter of the ultrafine metal wire 103 is very thin and soft, and vibration or vibration during the manufacturing process may occur. There is a risk of deformation due to the resin pressure at the time of injecting the sealing resin, and the ultrafine metal wires 103 contacting or breaking.

【0034】従って、IC101の接続部は、IC10
1の周辺に配置する必要が生じ、回路設計上の制限を受
けざるを得なくなる問題点がある。
Therefore, the connecting portion of the IC 101 is the IC 10
However, there is a problem in that it is necessary to place them around 1 and there is no choice but to be restricted by circuit design.

【0035】IC101の電極膜として通常使用され
ているAlは、大気中に露出しているためその表面に絶
縁性の酸化膜を形成する。更に、電極部が露出した状態
で、ウェハー裏面研磨、チップへの切断、基板上への固
定配置と様々な工程を経るため、その露出している表面
は汚染され、汚染層を形成している。通常は、接続時に
加圧及び超音波振動を用いることにより、この接続を妨
げる酸化膜、汚染層を破壊除去し、電極の真性面を露出
させ、これと極細金属線103の金属とを拡散すること
により金属的に接続する。そのため、接続時に加圧及び
超音波振動が加えられる強度を持った極細金属線103
の直径より大きいツール(キャピラリ)が必要である。
ツールが隣接する極細金属線103と接触すると、隣接
する極細金属線103を変形させたり、破断させたりす
る虞がある。そのため、ツールが隣接する極細金属線1
03と接触しない様に、接続部のピッチ寸法(隣接する
接続部の中心間距離)としてある程度の間隔をとらざる
を得ない制約がある。
Al, which is usually used as an electrode film of the IC 101, is exposed to the atmosphere and therefore forms an insulating oxide film on its surface. Further, with the electrode portion exposed, various processes such as wafer back surface polishing, cutting into chips, and fixing and placement on the substrate are performed, so the exposed surface is contaminated, forming a contaminated layer. . Normally, by applying pressure and ultrasonic vibration at the time of connection, the oxide film and the contamination layer that hinder this connection are destroyed and removed, the intrinsic surface of the electrode is exposed, and this and the metal of the ultrafine metal wire 103 are diffused. By doing so, they are connected metallically. Therefore, the ultrafine metal wire 103 having a strength to which pressure and ultrasonic vibration are applied at the time of connection.
A tool (capillary) larger than the diameter of is required.
When the tool comes into contact with the adjacent ultrafine metal wire 103, the adjacent ultrafine metal wire 103 may be deformed or broken. Therefore, the ultrafine metal wire 1 adjacent to the tool
There is a constraint that the pitch dimension of the connecting portion (distance between the centers of the adjacent connecting portions) must have a certain distance so as not to contact 03.

【0036】従って、ICの大きさが決まれば必然的に
接続部の最大数が決まることになる。ワイヤボンディン
グ方法では、このピッチ寸法が通常0.2mm程度と大
きいため、接続部の数は従って少なくならざるを得ない
問題点がある。
Therefore, if the size of the IC is determined, the maximum number of connection parts is inevitably determined. In the wire bonding method, since the pitch dimension is as large as about 0.2 mm, there is a problem that the number of connecting portions must be reduced accordingly.

【0037】IC101上の接続部から測った極細金
属線103の高さhは、通常0.2〜0.4mmである
が、この高さを0.2mm以下にすることは、極細金属
線103に接続用Auボールを形成する際の溶融温度に
よりAuボール近傍の極細金属線103が再結晶化し高
度が高くなることと、で述べたIC101との短絡の
点から比較的困難である問題点がある。
The height h of the ultrafine metal wire 103 measured from the connection portion on the IC 101 is usually 0.2 to 0.4 mm, but it is necessary to reduce this height to 0.2 mm or less. There is a problem that the ultrafine metal wire 103 in the vicinity of the Au ball is recrystallized due to the melting temperature at the time of forming the Au ball for connection and the height becomes high, and it is relatively difficult from the point of short-circuiting with the IC 101 described above. is there.

【0038】従って、IC101の実装厚みHを薄型化
することが難しい。
Therefore, it is difficult to reduce the mounting thickness H of the IC 101.

【0039】ワイヤボンディング方法では、極細金属
線103の強度が低く極細金属線103のみでIC10
1を保持できないため、極細金属線103をIC101
に接続する前に、IC101を基板102上に固定保持
しなければならない。そのため、IC101裏面と基板
102とを約10〜30μm程度の厚みのAgペースト
により接着している。Agペーストは通常ディスペンサ
ー等により基板102上に塗布されるが、Agペースト
の粘度、突出圧、ディスペンサーノズル形状、IC10
1のマウント圧力のばらつき、更には、硬化時にAgペ
ースト中の溶剤が揮発する際に発生する気泡の抜け方向
が不規則である等の様々な要因によりその接着層は均一
にならない。IC101は基板102上に最大θ(=s
in-1(a/L)、IC101の対角長さ:L、ペース
トの厚み:a)傾いて固定保持される。
In the wire bonding method, the strength of the ultrafine metal wire 103 is low, and the IC 10 is formed only by the ultrafine metal wire 103.
1 cannot be held, so the ultrafine metal wire 103 is
The IC 101 must be fixedly held on the substrate 102 before being connected to. Therefore, the back surface of the IC 101 and the substrate 102 are adhered by Ag paste having a thickness of about 10 to 30 μm. The Ag paste is usually applied on the substrate 102 by a dispenser or the like, but the viscosity of the Ag paste, the protrusion pressure, the shape of the dispenser nozzle, the IC 10
The adhesive layer is not uniform due to various factors such as variations in the mounting pressure of No. 1 and the irregular bubble escape direction generated when the solvent in the Ag paste volatilizes during curing. The IC 101 has a maximum θ (= s on the substrate 102.
in-1 (a / L), diagonal length of IC 101: L, paste thickness: a) Tilt and fixed.

【0040】IC101が受光素子の場合、この傾き
は、受光面に入射する光路長差にズレを生じさせ、特に
近年ICサイズが約10mm角から約5mm角へと小型
化しているエリア型のCCDの様に、ICサイズが小さ
く、非常に多くの受光部を有する受光素子においては、
傾斜角度が大きくなり受光特性を悪化させることにな
る。
When the IC 101 is a light receiving element, this inclination causes a deviation in the optical path length incident on the light receiving surface, and in particular, the area type CCD whose IC size has recently been reduced from about 10 mm square to about 5 mm square. In a light-receiving element having a small IC size and a large number of light-receiving parts, such as
The inclination angle becomes large and the light receiving characteristic is deteriorated.

【0041】従って、IC101が受光素子の場合に
は、接続して得られる電気回路部品に位置補正用の部品
を取り付ける領域を設ける必要があり、ICサイズが小
型化しても電気回路部品の小型化が難しくなる問題点が
ある。
Therefore, when the IC 101 is a light receiving element, it is necessary to provide a region for mounting the position correcting component in the electric circuit component obtained by connecting, and even if the IC size is reduced, the electric circuit component is downsized. There is a problem that becomes difficult.

【0042】ワイヤボンディング方法では、で述べ
た様にIC101上に約0.2〜0.4mmの高さまで
極細金属線103が存在する。IC101が受光素子の
場合、受光素子の受光部及びその他の素子表面に入射し
た光がそれら表面で反射し、極細金属線103によって
再度反射された受光部に入射し、受光信号にゴーストを
発生させる。そこで、ゴースト信号を発生させないため
には、受光部より接続部を遠ざける、あるいは、極細金
属線103の高さを低くしなければならない。しかしな
がら、極細金属線103の高さを低くすることはで述
べた様に比較的困難である。
In the wire bonding method, the ultrafine metal wire 103 is present on the IC 101 to a height of about 0.2 to 0.4 mm as described in the above. When the IC 101 is a light receiving element, the light incident on the light receiving portion of the light receiving element and the surface of other elements is reflected by those surfaces and is incident on the light receiving portion reflected again by the ultrafine metal wire 103, and a ghost is generated in the light receiving signal. . Therefore, in order to prevent generation of a ghost signal, it is necessary to separate the connecting portion from the light receiving portion or to reduce the height of the ultrafine metal wire 103. However, it is relatively difficult to reduce the height of the ultrafine metal wire 103, as described above.

【0043】従って、IC101が受光素子の場合に
は、接続部を受光部から離さざるを得ず、受光素子の小
型化を困難にする問題点がある。
Therefore, when the IC 101 is a light receiving element, the connecting portion must be separated from the light receiving portion, which makes it difficult to reduce the size of the light receiving element.

【0044】ワイヤボンディングでは、接続部毎に接
続を行っているため、接続部の数が増加すると増加した
分だけワイヤボンディングの作業時間が増加し、生産効
率が悪くなる。
In wire bonding, since connection is made for each connecting portion, the work time for wire bonding increases as the number of connecting portions increases, and production efficiency deteriorates.

【0045】(2)CCB方法 通常、電気回路素子であるICの電極材であるAlで
は、酸化膜により半田が濡れない、そのため、半田濡れ
の良い金属膜を電極上に形成しなければならず、更に電
極膜との密着性、半田の拡散防止といった機能をもたせ
るため、通常2〜3層の多層膜を蒸着、フォトリソ、エ
ッチングを用いて形成し、その上に半田バンプを形成す
る必要がある。
(2) CCB Method Normally, with Al, which is the electrode material of the IC, which is an electric circuit element, the solder does not get wet due to the oxide film. Therefore, a metal film with good solder wetting must be formed on the electrode. In addition, it is usually necessary to form a multilayer film of 2 to 3 layers by vapor deposition, photolithography, and etching, and to form solder bumps on it, in order to further have a function of adhesion to the electrode film and prevention of solder diffusion. .

【0046】従って、工程数が多くコストが高くなる問
題点がある。
Therefore, there is a problem that the number of steps is large and the cost is high.

【0047】半田バンプの形成は、溶融時の表面張力
を利用するため、半田量、溶融雰囲気、フラックス、B
LMサイズ、BLM表面状態、加熱温度及びその分布、
更に半田の合金比のばらつき(±10wt%)による融
点のばらつき等により形状特に高さが不均一となりやす
く、±10μm〜20μm程度は、通常、ばらついてい
る。更に、半田バンプをより小型化すると、これらの影
響がより現れやすくなり部分的に大きな半田バンプや小
さいバンプができ、回路基板との接続時に半田バンプ間
の短絡や、接続できない接続部を発生させたり、極端な
場合には、チップ部品のマンハッタン現象の様に不均一
な半田の表面張力によりICが浮き上がる。
Since the formation of the solder bumps utilizes the surface tension at the time of melting, the amount of solder, the melting atmosphere, the flux, the B
LM size, BLM surface condition, heating temperature and its distribution,
Further, the shape, especially the height, tends to become non-uniform due to variations in the melting point due to variations in the alloy ratio of the solder (± 10 wt%), and usually approximately ± 10 μm to 20 μm vary. Furthermore, if the solder bumps are made smaller, these effects are more likely to appear, and large solder bumps or small bumps can be created locally, causing a short circuit between solder bumps when connecting to the circuit board, or a connection part that cannot be connected. In extreme cases, the IC rises due to uneven surface tension of the solder, such as the Manhattan phenomenon of chip parts.

【0048】そこで、半田バンプのばらつきによる接続
できない接続部を荷重を加えることにより接続させるこ
とは、半田の表面張力によりICを基板上に支えている
ため、行うことができない。
Therefore, it is not possible to connect the connection portion, which cannot be connected due to the variation of the solder bump, by applying a load, because the IC is supported on the substrate by the surface tension of the solder.

【0049】従って、半田バンプの制御が難しいため、
接続部の小型化を行うことが難しい問題点がある。
Therefore, since it is difficult to control the solder bumps,
There is a problem that it is difficult to reduce the size of the connection portion.

【0050】半田バンプの形成時と接続時には半田を
溶融する際に濡れ性を上げるため、フラックスを使用す
る。そのため、ICの信頼性を確保するために接続後に
使用したフラックスを除去しなければならず、洗浄、乾
燥工程が必要となる。また、接続部をICの内部に設け
た場合には、フラックスあるいは、洗浄液が内部に残留
しやすくなり、信頼性を低下させるため、入念な洗浄が
必要となる。
A flux is used to improve wettability when the solder is melted at the time of forming the solder bumps and at the time of connection. Therefore, in order to secure the reliability of the IC, the flux used after connection must be removed, and cleaning and drying steps are required. Further, when the connecting portion is provided inside the IC, flux or cleaning liquid is likely to remain inside, which lowers reliability, and therefore careful cleaning is required.

【0051】従って、工程数が多くコスト高となる問題
点がある。
Therefore, there is a problem that the number of steps is large and the cost is high.

【0052】基板との接続時は、半田バンプの溶融時
の表面張力のみでIC101を支えているため、半田バ
ンプの大きさ、数と支えられるIC101の重量との間
に限界が存在する。(T.Kamei and M.N
akayama,“Hybrid IC Struct
ures Using Solder ReflowT
echnology”,28th Electorni
c Comp.Conf.Proc.,pp172−1
82,1978参照) 従って、接続数(半田バンプ数)及び半田バンプの大き
さとICの大きさ(重量)とに制限を受ける問題点があ
る。
Since the IC 101 is supported only by the surface tension when the solder bumps are melted during connection with the substrate, there is a limit between the size and number of the solder bumps and the weight of the IC 101 to be supported. (T. Kamei and MN
akayama, "Hybrid IC Struct"
ures Using Solder ReflowT
technology ", 28th Electrici
c Comp. Conf. Proc. , Pp172-1
82, 1978). Therefore, there is a problem that the number of connections (the number of solder bumps), the size of the solder bumps, and the size (weight) of the IC are limited.

【0053】図22に示される方法では、半田溶融温
度で変形しないボールを用いて接続を行っているが、こ
のボールを半導体素子上の電極上に前もって設けられた
半田と溶融接続し固定した後に、基板上の電極上に設け
られた半田(半導体素子上の半田より低い融点)と再度
溶融接続を行わないと、ボールを接続部間に保持するこ
とが難しい。更に、接続する電極数が増加するとボール
配置時間が長くなると共に、配置中の振動等により配置
されたボールがズレない様に低速で配置しなければなら
ない。そのため、生産効率が低下する。
In the method shown in FIG. 22, the connection is made by using a ball that does not deform at the solder melting temperature. However, after this ball is melted and connected with the solder previously provided on the electrode on the semiconductor element, the ball is fixed. It is difficult to hold the ball between the connecting portions unless the solder and the solder (melting point lower than that of the solder on the semiconductor element) provided on the electrodes on the substrate are melted again. Further, as the number of electrodes to be connected increases, the ball placement time becomes longer, and the placed balls must be placed at a low speed so that the placed balls do not shift due to vibration or the like during placement. Therefore, the production efficiency is reduced.

【0054】更に、フラックスの洗浄もそれぞれの接続
に対して必要となる。
Furthermore, cleaning of the flux is also required for each connection.

【0055】従って、工程数が多く、生産効率も低くな
るためコスト高となる。
Therefore, the number of steps is large and the production efficiency is low, resulting in high cost.

【0056】図22に示される方法では、非常に軽い
ボール自重(d=5μmの銅ボールの時、9.57μ
g)のみで電極108上の半田と溶融固定するため、溶
融後のボール高さは、電極108上の半田量及び合金比
のばらつき、ボール表面状態、ボールサイズ(重量)、
フラックス、溶融雰囲気、溶融温度及び分布等による溶
融時の半田の表面張力のばらつきによって不均一となり
やすい。この高さの不均一は、ボールが小型化するほど
顕著となる。
In the method shown in FIG. 22, the ball weight is very light (9.57 μ when the copper ball has d = 5 μm).
Since the solder is fused and fixed to the solder on the electrode 108 only by g), the height of the ball after the melting depends on the amount of solder and the alloy ratio on the electrode 108, the ball surface state, the ball size (weight),
Non-uniformity tends to occur due to variations in the surface tension of the solder during melting due to flux, melting atmosphere, melting temperature, distribution, and the like. This unevenness in height becomes more remarkable as the size of the ball becomes smaller.

【0057】一方、基板の電極108との接続は、IC
側の半田を溶融させない加熱温度と加熱時間(320℃
ー5min)で基板の電極108上の半田を溶融させて行
っている。そのため、基板の電極108上の半田は、こ
の高さのばらつきが存在してもボールと接触し接続が行
われるよう厚く(多量)に形成する必要がある。
On the other hand, the connection with the electrode 108 of the substrate is made by IC
Side heating temperature and heating time (320 ° C)
This is done by melting the solder on the electrode 108 of the substrate for -5 min). Therefore, the solder on the electrode 108 of the substrate needs to be formed thick (a large amount) so as to be in contact with the ball for connection even if the height variation exists.

【0058】よって、ボールを小型化すると、ボール重
量が小さくなり、自重に対し溶融時の半田の表面張力が
相対的に大きくなり、より高さばらつきが大きくなる。
そこで、基板の電極108上により厚く半田を設けなけ
ればならないが、アスペクト比1を越える様な厚膜を形
成することは通常多くの困難をともなうため、小型化す
ることが難しい。
Therefore, when the ball is made smaller, the weight of the ball becomes smaller, and the surface tension of the solder at the time of melting becomes relatively larger than its own weight, and the height variation becomes larger.
Therefore, thicker solder must be provided on the electrode 108 of the substrate, but it is usually difficult to form a thick film having an aspect ratio of more than 1, and it is difficult to reduce the size.

【0059】また、ボール材料の無酸素銅は、融点とし
ては、1083℃であるが軟化点は190℃であり、半
田溶融の温度のみではボールが溶融して変形することが
なくても加重に対しては、容易に変形してしまう。その
ため、溶融接続時に加圧することにより高さばらつきの
解消を図ることは、半導体素子と基板とが接触し半導体
素子側端部と基板配線との短絡を発生させたり、半導体
素子と基板との間隔が小さくなりその間にフラックスを
残留させてしまう。
Oxygen-free copper, which is a ball material, has a melting point of 1083 ° C. but a softening point of 190 ° C. Even if the ball is not melted and deformed only at the solder melting temperature, a weight is applied. On the other hand, it easily deforms. Therefore, to eliminate the height variation by applying pressure during fusion connection, the semiconductor element and the substrate may come into contact with each other to cause a short circuit between the semiconductor element side end portion and the substrate wiring, or a gap between the semiconductor element and the substrate. Becomes smaller and the flux remains in the meantime.

【0060】従って、ボールを小型化することのみによ
り、接続部を小型化することは困難である問題点があ
る。
Therefore, it is difficult to reduce the size of the connecting portion only by reducing the size of the ball.

【0061】また、図22に示される方法では、ボール
を接続するのに充分な半田を夫々の電極から供給しなけ
ればならないため、半田を盛る電極の大きさは、ボール
径以上の大きさが必要となる。例えば、ボール径が12
7〜152.7μmに対して、基板のランド幅は、25
4〜381μmも必要となる。
Further, in the method shown in FIG. 22, since sufficient solder to connect the balls must be supplied from each electrode, the size of the electrode on which the solder is placed is larger than the ball diameter. Will be needed. For example, if the ball diameter is 12
The land width of the substrate is 25 with respect to 7 to 152.7 μm.
4-381 μm is also required.

【0062】(3)TAB方法 半導体チップ101の接続部を半導体チップ101の
内部にくる様に設計すると、インナーリード部の長さが
長くなり、露出しているインナーリードが変形し易くな
る。従って、すべてのインナーリードを半導体チップの
各電極のAuバンプ上に配置することが困難になる。ま
た、インナーリードが長くなることにより、インナーリ
ードが自重により垂れ下がり接続部以外の半導体チップ
表面あるいは、半導体チップ側端部と接触したりする。
(3) TAB Method If the connecting portion of the semiconductor chip 101 is designed to be inside the semiconductor chip 101, the length of the inner lead portion becomes long, and the exposed inner lead is easily deformed. Therefore, it becomes difficult to arrange all the inner leads on the Au bumps of each electrode of the semiconductor chip. Further, since the inner lead becomes long, the inner lead hangs down due to its own weight and comes into contact with the surface of the semiconductor chip other than the connection portion or the end portion on the semiconductor chip side.

【0063】従って、インナーリード部の長さが不必要
に長くなることを避けるために、半導体チップの電極は
半導体チップの周辺部に持ってくる必要が生じ、回路設
計上の制限が生じる問題点がある。
Therefore, in order to prevent the length of the inner lead portion from becoming unnecessarily long, it is necessary to bring the electrodes of the semiconductor chip to the peripheral portion of the semiconductor chip, which causes a limitation in circuit design. There is.

【0064】TAB方法においても、接続ピッチ寸法
は、インナーリードのエッチング精度及び強度、接続時
の加熱によるキャリアテープの熱膨張に伴うインナーリ
ードズレ等の要因により0.08〜0.15mm程度で
ある。
Also in the TAB method, the connection pitch dimension is about 0.08 to 0.15 mm due to factors such as etching accuracy and strength of the inner leads and inner lead displacement due to thermal expansion of the carrier tape due to heating at the time of connection. .

【0065】従って、ワイヤボンディング方法の問題点
で述べたのと同様に、半導体チップサイズにより接続
できる電極数が制限される問題点がある。
Therefore, similarly to the problem of the wire bonding method, there is a problem that the number of electrodes that can be connected is limited depending on the size of the semiconductor chip.

【0066】半導体チップの電極上に、多層のバリア
メタル層とAuバンプを、蒸着、フォトリソ、メッキ、
エッチングといった複数の工程により形成する。更に、
半導体ウェハー状態でAuバンプを形成するため、特性
不良の半導体チップ上にもAuバンプが形成させてしま
う。
A multilayer barrier metal layer and Au bumps are formed on the electrodes of the semiconductor chip by vapor deposition, photolithography, plating,
It is formed by a plurality of steps such as etching. Furthermore,
Since the Au bumps are formed in the state of the semiconductor wafer, the Au bumps are also formed on the semiconductor chip having the defective characteristic.

【0067】従って、工程数が多く、更に不必要な部分
にもAuバンプを形成してしまうため、コスト高となる
問題点がある。
Therefore, the number of steps is large, and Au bumps are formed on unnecessary portions, which causes a problem of high cost.

【0068】半導体チップ上にAuバンプを電解メッ
キにより形成する際、バリアメタル層をメッキの共通電
極層として使用するが、その厚みは数μmと厚みが薄い
ため、シート抵抗値ガ大きく、半導体ウェハーが6イン
チから8インチへと大型化している近年では、中心部と
周辺部で大きな電位差を生じ、Auバンプの成長サイズ
にばらつきを生じさせる要因の1つとなっている。その
ため、通常6インチの半導体ウェハーにおけるAuバン
プは、±5〜10μm程度高さにばらつきを持ってお
り、半導体ウェハーの大型化に伴いばらつき幅は増大す
る。
When forming Au bumps on a semiconductor chip by electrolytic plating, a barrier metal layer is used as a common electrode layer for plating. Since the thickness thereof is as thin as several μm, the sheet resistance value is large, and the semiconductor wafer In recent years, the size has increased from 6 inches to 8 inches, which causes a large potential difference between the central portion and the peripheral portion, which is one of the factors that cause variations in the growth size of Au bumps. Therefore, Au bumps on a 6-inch semiconductor wafer usually have a variation in height of about ± 5 to 10 μm, and the variation width increases as the size of the semiconductor wafer increases.

【0069】そこで、バリアメタル層厚みを厚くする
と、メッキ後のエッチングによるAuバンプ下のアンダ
ーエッチングが増大し、エッチング中に半導体チップの
Al電極がエッチングされる問題がある。
Therefore, if the thickness of the barrier metal layer is increased, there is a problem that the under-etching under the Au bump due to the etching after plating increases, and the Al electrode of the semiconductor chip is etched during the etching.

【0070】このような高さばらつきが存在することに
より、接続当初は、高さの高いAuバンプのみがインナ
ーリードと接触し加圧治具(コレット)により加圧され
る。そのため、高さの高いバンプには、大きな加重が加
わり、半導体チップにクラックを発生させたり、つぶれ
すぎて隣接するバンプとショートしたりする。更に高さ
の低いバンプでは、加圧が不足し接続できずオープン不
良を発生させる。
Due to such height variations, only the high Au bumps come into contact with the inner leads and are pressed by the pressing jig (collet) at the beginning of connection. Therefore, a large weight is applied to the high-height bump, which causes a crack in the semiconductor chip, or is too crushed to short-circuit with an adjacent bump. In the case of a bump having a lower height, the pressure is insufficient and the bump cannot be connected, resulting in an open defect.

【0071】従って、今後半導体ウェハーサイズが大型
化し、Auバンプの高さばらつきが大きくなるため、接
続不良を発生させやすくなる問題点がある。
Therefore, the size of the semiconductor wafer will be increased in the future, and the variation in the height of the Au bumps will be large, so that there is a problem that connection failure is likely to occur.

【0072】更に、図24に示すように、直接、基板と
接続する場合、このようなAuバンプの高さばらつき
は、加圧コレットと基板との平行度がでていても、半導
体チップがコレットに対して傾斜するため、加重分布が
不均一となり、高加重領域において、半導体チップにク
ラックを発生させたり、隣接するバンプ間が短絡したり
する。また、低加重領域においては、接続が不十分とな
りオープン不良を発生させたりする問題点がある。加圧
コレットの平行度がでていない場合には、これらの問題
がより大きくなる。
Further, as shown in FIG. 24, when the Au bumps are directly connected to the substrate, such variation in height of the Au bumps causes the semiconductor chip to collet even if the pressure collet and the substrate are parallel to each other. Since it is inclined with respect to, the weight distribution becomes non-uniform, and cracks may occur in the semiconductor chip or short-circuit between adjacent bumps in the high load region. Further, in the low weight region, there is a problem that the connection becomes insufficient and an open defect occurs. These problems are exacerbated when the pressure collet is not parallel.

【0073】(4)樹脂ボール方法 この方法では、樹脂ボール124の弾性反発力により
接続を得ている。そのため、半導体チップ101と基板
113との間隔の変化は、接触圧力の変化となり、接触
抵抗値の変動となる。この間隔を維持しているのが、接
着剤(樹脂)であるため、主に無機材料である半導体チ
ップ101や基板113より熱膨張係数が大きく、温度
変化により全体が相似的にサイズを変化させるのではな
く、この間隔が、半導体チップ101及び基板113に
対して大きく変化することになる。
(4) Resin Ball Method In this method, connection is obtained by the elastic repulsive force of the resin balls 124. Therefore, a change in the distance between the semiconductor chip 101 and the substrate 113 results in a change in contact pressure and a change in contact resistance value. Since the adhesive (resin) maintains this space, the coefficient of thermal expansion is larger than that of the semiconductor chip 101 or the substrate 113, which is mainly an inorganic material, and the size of the whole changes in a similar manner due to temperature change. Rather, this distance changes greatly with respect to the semiconductor chip 101 and the substrate 113.

【0074】従って、温度変化に対して接触抵抗が変動
する不安定さをもっている。更に、接着剤として例えば
エポキシ樹脂を用いたものでは、Tg点が百数十℃であ
るため、特に高温環境においては、接着剤が軟化するた
め、接触部が開き接触抵抗が急激に上昇する問題点があ
る。
Therefore, there is instability in which the contact resistance fluctuates with respect to temperature changes. Further, in the case where an epoxy resin is used as the adhesive, the Tg point is 100 to tens of degrees Celsius, so that the adhesive softens especially in a high temperature environment, so that the contact portion opens and the contact resistance sharply increases. There is a point.

【0075】樹脂ボール124の変形に表面の導電層
127が追従する様に導電層の厚みは、非常に薄いもの
である。そのため導電経路の断面積は非常に小さくな
る。例えば、樹脂ボール124の直径7.5μm、Au
膜厚0.05μmのボールが15%変形して高さ6.4
6μm、横幅8.74μmで接続されている1つ導電性
樹脂ボール124の導電経路を近似的に上記サイズの円
柱として計算すると、114mΩにもなる。そのため、
通電できる電流値が大きくなると導電性樹脂ボール12
4が昇温しその周囲の接着剤を軟化させるだけでなく、
樹脂ボール124をも軟化させることにより接触圧力が
下がり、導電層127と電極との電気的接続ができなく
なる。
The thickness of the conductive layer is very thin so that the conductive layer 127 on the surface follows the deformation of the resin balls 124. Therefore, the cross-sectional area of the conductive path is very small. For example, the resin ball 124 has a diameter of 7.5 μm, Au
Ball with a thickness of 0.05 μm is deformed by 15% and height is 6.4
When the conductive path of one conductive resin ball 124 connected with 6 μm and a width of 8.74 μm is calculated approximately as a cylinder of the above size, it becomes 114 mΩ. for that reason,
If the value of the current that can be applied increases, the conductive resin ball 12
Not only does 4 heat up and soften the adhesive around it,
The softening of the resin balls 124 also lowers the contact pressure, making it impossible to electrically connect the conductive layer 127 to the electrodes.

【0076】そこで、導電層127の膜厚を厚くし抵抗
値をさげようとすると、導電層127である金属の塑性
変形が大きくなり、樹脂ボール124の弾性反発力を妨
げ、接触圧を下げ接触不良を発生させてしまうため、導
電層127を厚くすることが難しい。
Therefore, if the thickness of the conductive layer 127 is increased and the resistance value is reduced, the plastic deformation of the metal of the conductive layer 127 becomes large, which hinders the elastic repulsive force of the resin ball 124 and lowers the contact pressure. It is difficult to increase the thickness of the conductive layer 127 because it causes defects.

【0077】従って、接続の通電電流の値に制限が生じ
る。そのため、通常電流をほとんど流さない液晶ドライ
バーICの様に接続可能な電気回路素子が限定される問
題点がある。
Therefore, the value of the energizing current for connection is limited. Therefore, there is a problem that the connectable electric circuit elements such as a liquid crystal driver IC that normally supplies almost no current are limited.

【0078】また、通電電流を大きくする場合には、非
常に多くの導電性樹脂ボール124を接続に配置し、並
列接続とするため電極部の小型化が図れない問題点があ
る。
Further, when the energizing current is increased, a large number of conductive resin balls 124 are arranged in the connection and they are connected in parallel, so that there is a problem that the electrode portion cannot be downsized.

【0079】(5)異方性導電シート方法 図26(a)及び図26(b)に示す方法では、導電
材料からなるボールを128溶融し、電極108と接続
している。そのため、電極及108び導電材料表面の酸
化膜や汚染層を除去し真性面を露出させるフラックスが
接続に必要になる。しかし、シート129が熱可塑性で
あり、接続時の温度により軟化し、電極間を隙間なく覆
うため、接続後にフラックスの洗浄を行うことができな
い。従って、接続近傍にフラックスが残留し電極が腐蝕
するため、電気回路部品の信頼性が低下する。フラック
スを使用しない場合には、不活性ガス雰囲気または還元
性ガス雰囲気で作業することになり、作業性及びコスト
の点で好ましくない問題点がある。
(5) Anisotropic Conductive Sheet Method In the method shown in FIGS. 26A and 26B, 128 balls made of a conductive material are melted and connected to the electrodes 108. Therefore, a flux that removes the oxide film and the contaminated layer on the surface of the electrode and the conductive material and exposes the intrinsic surface is required for connection. However, since the sheet 129 is thermoplastic and softens due to the temperature at the time of connection and covers the electrodes without gaps, the flux cannot be washed after the connection. Therefore, since the flux remains near the connection and the electrodes are corroded, the reliability of the electric circuit component is reduced. When the flux is not used, the work is carried out in an inert gas atmosphere or a reducing gas atmosphere, which is not preferable in terms of workability and cost.

【0080】図26(a)及び図26(b)に示す方
法では、導電材料からなるボール128を1つずつ加熱
しシート129に配置固定するため、接続する導電ボー
ル128の数が増加すると1つのシート129に導電ボ
ール128を配置する時間がかかり、生産効率が悪い。
In the method shown in FIGS. 26 (a) and 26 (b), the balls 128 made of a conductive material are heated one by one and placed and fixed on the sheet 129. Therefore, when the number of conductive balls 128 to be connected increases, It takes time to dispose the conductive balls 128 on one sheet 129, and the production efficiency is poor.

【0081】従って、接続数が増大すると生産効率が悪
くなり、コスト高となる問題点がある。
Therefore, when the number of connections increases, there is a problem that the production efficiency becomes poor and the cost becomes high.

【0082】図27に示す方法では、異方性導電シー
ト131と電極108との位置あわせを行わなくて良い
様に、導電材料130は、接続する電極108以外の部
分にも配置されている。そのため、シート面より突出し
ている導電材料130は、電極108以外の部分にも接
触する事になる。
In the method shown in FIG. 27, the conductive material 130 is also arranged in a portion other than the electrode 108 to be connected so that the anisotropic conductive sheet 131 and the electrode 108 need not be aligned with each other. Therefore, the conductive material 130 protruding from the sheet surface comes into contact with a portion other than the electrode 108.

【0083】通常接続される電気回路基板113は、そ
の表面に電極108とつながった配線パターンをもち、
その配線パターンを保護するため、接続する電極108
以外は、通常絶縁性材料(例えば半田レジスト)により
コートされている。コートされている配線部の厚みは配
線厚み+絶縁コート層厚となり接続する電極108の配
線厚より大きくなる。
The normally connected electric circuit board 113 has a wiring pattern connected to the electrodes 108 on its surface,
In order to protect the wiring pattern, the connected electrode 108
Other than the above, it is usually coated with an insulating material (for example, solder resist). The thickness of the coated wiring portion is equal to the wiring thickness + the insulating coating layer thickness, which is larger than the wiring thickness of the electrode 108 to be connected.

【0084】そのため、接続時には、異方性導電シート
131の導電材料130と配線上の絶縁層とが一番最初
に接触する。接続を望んだ電極108間を接続するため
には、電極108以外の部分と接触している異方性導電
シート131の導電材料130をより大きく変形させ、
所望の電極108間に配置されている導電材料130を
電極108と接触させなければならない。
Therefore, at the time of connection, the conductive material 130 of the anisotropic conductive sheet 131 and the insulating layer on the wiring make the first contact. In order to connect between the electrodes 108 desired to be connected, the conductive material 130 of the anisotropic conductive sheet 131 in contact with a portion other than the electrodes 108 is deformed to a greater extent,
The conductive material 130 disposed between the desired electrodes 108 must be in contact with the electrodes 108.

【0085】従って、電極108以外と接触する導電材
料130は、常に接続部に設けられた導電材料131よ
り大きな力が加えられることにより、絶縁層を破壊した
り、1つの基板113の配線間及び接続する2つの基板
113の配線間で短絡を発生させたりする。
Therefore, the conductive material 130 in contact with parts other than the electrodes 108 is always applied with a force larger than that of the conductive material 131 provided in the connection portion, thereby destroying the insulating layer or between the wirings of one substrate 113 and A short circuit may occur between the wirings of the two substrates 113 to be connected.

【0086】これを防ぐには、絶縁層をやめ、異方性導
電シート131の導電材料130が存在する領域では、
基板113の接続部以外でも接続部と同じ配線間隔をと
り、更に異方性導電シート131面に対し、それぞれの
基板113が電極108だけでなく配線までも鏡面対称
配置にしなければならない。これは、接続する電極10
8が大型化したことと同じである。
To prevent this, the insulating layer is stopped, and in the region of the anisotropic conductive sheet 131 where the conductive material 130 exists,
In addition to the connecting portions of the substrate 113, the same wiring interval as that of the connecting portions is provided, and further, not only the electrodes 108 but also the wiring of each substrate 113 must be mirror-symmetrically arranged with respect to the surface of the anisotropic conductive sheet 131. This is the connecting electrode 10.
This is the same as the size of No. 8 becoming larger.

【0087】従って、配線パターンに制限が設けられる
ため、小型化を行うことが難しい問題点がある。
Therefore, there is a problem that miniaturization is difficult because the wiring pattern is limited.

【0088】図27に示す方式では、異方性導電シー
ト131と電極108との位置あわせを行い、そのた
め、電極108上に配置される導電材料130の数は、
ある幅をもって必ずふれることになる。
In the system shown in FIG. 27, the anisotropic conductive sheet 131 and the electrodes 108 are aligned with each other. Therefore, the number of conductive materials 130 arranged on the electrodes 108 is
You will always touch it with a certain width.

【0089】更に、接続する電極108のピッチ寸法が
小さくなると、電極108上に複数の導電材料130を
配置しなければならないため、最低でも電極108のピ
ッチ寸法の1/2以下の導電材料130のピッチ寸法を
実現しなければならない。そのため、電極108のパタ
ーニング精度の2倍以上のパターニング精度が要求さ
れ、接続可能なピッチ寸法に限界がある。
Further, when the pitch dimension of the electrodes 108 to be connected becomes smaller, a plurality of conductive materials 130 must be arranged on the electrodes 108, and therefore, at least half or less of the pitch dimension of the electrodes 108 is set. Pitch dimensions must be realized. Therefore, the patterning accuracy that is more than twice the patterning accuracy of the electrode 108 is required, and there is a limit to the connectable pitch dimension.

【0090】従って、電極108間の接続抵抗値及び許
容電流値は、必ずばらつきを持つと共に、接続ピッチ寸
法に限界があるため、小型化が困難である問題点があ
る。
Therefore, since the connection resistance value and the allowable current value between the electrodes 108 always have variations and the connection pitch size is limited, there is a problem that miniaturization is difficult.

【0091】図27に示す方法では、絶縁材料のベー
スシートの上に形成された絶縁性材料の格子の畝の中に
導電性材料130を鋳込み、絶縁性ベースシートと絶縁
性の格子の畝をエッチングすることで、格子の畝の部分
が絶縁性シートとなり、その両面より導電材料130を
露出させている。
In the method shown in FIG. 27, the conductive material 130 is cast into the ridges of the grid of insulating material formed on the base sheet of the insulating material to form the ridges of the insulating base sheet and the grid of insulation. By etching, the ridge portions of the lattice become an insulating sheet, and the conductive material 130 is exposed from both surfaces of the insulating sheet.

【0092】そのため、導電材料130は、絶縁性シー
ト面からは露出はしていても、シートの表面上に覆い被
さったり、導電材料130上にシートが覆い被さったり
させることは、鋳造時に隣接する導電材料間が短絡する
ことや、ベースシート側と開口側とが狭く中が広い開口
径を持つ格子状の畝の製造が難しいことから、困難であ
る。
Therefore, even if the conductive material 130 is exposed from the surface of the insulating sheet, covering the surface of the sheet and covering the conductive material 130 with the sheet are adjacent to each other during casting. It is difficult because the conductive materials are short-circuited and it is difficult to manufacture a grid-like ridge having a wide opening diameter with a narrow base sheet side and opening side.

【0093】よって、導電材料130のシート131へ
の保持は、シート側壁の摩擦力だけで行わざるを得ず、
異方性導電シート131の搬送及び配置時の振動等によ
り、容易に導電材料が脱落する。
Therefore, the conductive material 130 must be held on the sheet 131 only by the frictional force of the side wall of the sheet.
The conductive material is easily dropped off due to vibration or the like when the anisotropic conductive sheet 131 is transported and arranged.

【0094】従って、電極108上に確実に導電材料1
30を配置することが難しく、接続不良を発生させる問
題点がある。この出願に係る発明の第1の目的は、電気
回路素子と電気回路基板とを、それぞれの電極部に特殊
な追加工を施すことなく、接合性を上げ高密度に且つ低
接続抵抗で接続することにより、電気回路部品の小型、
薄型、高信頼性及びローコスト化を達成することであ
る。
Therefore, the conductive material 1 is surely deposited on the electrode 108.
It is difficult to dispose 30 and there is a problem that a connection failure occurs. A first object of the invention according to this application is to connect an electric circuit element and an electric circuit board at high density with a low connection resistance, without performing special additional processing on each electrode portion. This makes the electric circuit parts smaller,
Achieving thinness, high reliability, and cost reduction.

【0095】この出願に係る発明の第2の目的は、接合
性を上げることにより、電気回路部品の小型、薄型、高
信頼性及びローコスト化を達成することである。
A second object of the invention according to this application is to achieve small size, thin shape, high reliability and low cost of electric circuit parts by improving the bondability.

【0096】この出願に係る発明の第3の目的は、導電
ボールの小型化及び高密度化を図ることにより、電気回
路部品のさらなる小型、薄型化を達成することである。
A third object of the invention according to this application is to further reduce the size and thickness of electric circuit parts by reducing the size and density of the conductive balls.

【0097】この出願に係る発明の第4の目的は、半導
体素子を高密度に平行を保たせることにより、接続時に
加圧分布の不均一による接合不良の発生を防ぐことを達
成することである。
A fourth object of the invention according to this application is to prevent the occurrence of defective bonding due to uneven pressure distribution at the time of connection by keeping the semiconductor elements parallel to each other at a high density. .

【0098】この出願に係る発明の第5の目的は、発光
素子及び受光素子を高精度に接続することにより、電気
回路部品の取り付け調整を大幅に緩和させることを達成
することである。
A fifth object of the invention according to this application is to achieve the connection of the light-emitting element and the light-receiving element with high accuracy, whereby the mounting adjustment of the electric circuit parts can be significantly eased.

【0099】この出願に係わる発明の第6の目的は、光
学基準となる受光素子の受光面と組立基準となる基板と
を高精度に配置することにより、電気回路部品の小型化
と受光特性の向上及び安定性を達成することである。
A sixth object of the invention according to this application is to arrange the light receiving surface of the light receiving element serving as the optical reference and the substrate serving as the assembly reference with high accuracy, thereby reducing the size of the electric circuit component and the light receiving characteristics. To achieve improvement and stability.

【0100】この出願に係わる発明の第7の目的は、電
気回路素子及び電気回路基板の電極と接続する複数の導
電部材を高精度に配置し高密度化を図る事で、電気回路
部品の更なる小型化、薄型化を達成することである。
A seventh object of the invention according to this application is to improve the density by arranging a plurality of conductive members that are connected to the electrodes of the electric circuit element and the electric circuit board with high accuracy to increase the density. It is to achieve further miniaturization and thinning.

【0101】この出願に係わる発明の第8の目的は、受
光素子に入射するゴースト光を削減して、電気回路部品
の受光特性の向上を図ることである。
An eighth object of the invention according to this application is to reduce the ghost light incident on the light receiving element and improve the light receiving characteristics of the electric circuit component.

【0102】この出願に係わる発明の第9の目的は、電
気回路部品のより一層の小型化を実現させる電気回路部
品の製造方法を提供することである。
A ninth object of the invention according to this application is to provide a method of manufacturing an electric circuit component which realizes further miniaturization of the electric circuit component.

【0103】この出願に係わる発明の第10の目的は、
電気回路素子及び電気回路基板の電極とを接続する導電
部材とを個別に接続することにより、接続条件の異なる
電気回路部品の接続方法を提供することである。
The tenth object of the invention related to this application is to:
An object of the present invention is to provide a method of connecting electric circuit components having different connection conditions by individually connecting an electric circuit element and a conductive member that connects an electrode of an electric circuit board.

【0104】[0104]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明に係わる電気回路部品は、請求項1の記載
によれば、電極部を有する電気回路素子と、該電気回路
素子と接続するための電極部を有する電気回路基板とを
備える電気回路部品において、前記電気回路素子の電極
部と前記電気回路基板の電極部との間に介在され、略ボ
ール形状の剛性を有するコアの周囲に導電性の被覆層が
設けられた少なくとも1つの導電ボールを具備し、前記
導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記電気回
路基板の電極部により圧接されて、該電気回路素子の電
極部と該導電ボールの被覆層との間、及び、該電気回路
基板の電極部と該導電ボールの被覆層との間が電気的及
び機械的に接続されている事を特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, an electric circuit component according to the present invention is connected to an electric circuit element having an electrode portion and the electric circuit element. In an electric circuit component provided with an electric circuit board having an electrode portion for, the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board are interposed, and are provided around a core having a substantially ball-shaped rigidity. At least one conductive ball provided with a conductive coating layer is provided, and the conductive ball is pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board to form an electrode portion of the electric circuit element. And the coating layer of the conductive ball, and between the electrode portion of the electric circuit board and the coating layer of the conductive ball are electrically and mechanically connected.

【0105】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項2の記載によれば、電極部を有する電気回路素子
と、前記電気回路素子の電極部に対応する位置に設けら
れた電極部を有する電気回路基板とを互いに対向させ、
前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
との間に少なくとも1以上の導電ボールを介在させて両
電極部間を接続した電気回路部品において、前記導電ボ
ールは、剛性の高い金属材料及び無機材料の少なくとも
一方からなる略球状の形状を有するコアと、電導性を有
した材料により形成され、上記コアの周囲に被覆される
導電被覆層とを備え、該導電ボールは、前記電気回路素
子の電極部と前記電気回路基板の電極部により圧接され
て、前記電気回路素子の電極部と前記導電被覆層との
間、及び、前記電気回路基板の電極部と前記導電被覆層
との間が、夫々を構成している材料を金属化及び/又は
合金化して接続されている事を特徴としている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to the second aspect, the electric circuit element having the electrode portion and the electric circuit board having the electrode portion provided at a position corresponding to the electrode portion of the electric circuit element are opposed to each other,
In an electric circuit component in which at least one conductive ball is interposed between the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board to connect the both electrode portions, the conductive ball is a metal having high rigidity. A substantially spherical core made of at least one of a material and an inorganic material, and a conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and coated around the core. Between the electrode portion of the circuit element and the electrode portion of the electric circuit board, and between the electrode portion of the electric circuit element and the conductive coating layer, and between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive coating layer. The spaces are characterized by being connected by metalizing and / or alloying the materials forming each.

【0106】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項3の記載によれば、電極部を有する電気回路素子
と、前記電気回路素子の電極部に対応する位置に設けら
れた電極部を有する電気回路基板と、前記電気回路素子
及び電気回路基板が互いに対向した状態で、夫々の電極
部の間に挟持され、該両電極部間を、電気的及び機械的
に接続する少なくとも1以上の導電ボールとを具備し、
前記導電ボールは、剛性の高い金属材料及び無機材料の
少なくとも一方からなる略球状の形状を有するコアと、
電導性を有した材料により形成され、上記コアの周囲に
被覆される導電被覆層とを備え、該導電ボールは、前記
電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部によ
り圧接されて、前記電気回路素子の電極部と前記導電被
覆層との間、及び、前記電気回路基板の電極部と前記導
電被覆層との間が、夫々を構成している材料を金属化及
び/又は合金化して接続されている事を特徴としてい
る。
The electric circuit component according to the present invention is
According to claim 3, an electric circuit element having an electrode portion, an electric circuit board having an electrode portion provided at a position corresponding to the electrode portion of the electric circuit element, the electric circuit element and the electric circuit board. Are opposed to each other, and are sandwiched between respective electrode portions, and at least one or more conductive balls electrically and mechanically connecting the both electrode portions are provided.
The conductive ball, a core having a substantially spherical shape made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material,
The conductive ball is formed of a material having electrical conductivity, and is provided with a conductive coating layer that is coated around the core, wherein the conductive ball is pressure-contacted by the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board, Between the electrode portion of the electric circuit element and the conductive coating layer, and between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive coating layer, the materials constituting each are metalized and / or alloyed. It is characterized by being connected by.

【0107】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項4の記載によれば、電極部を有する光電変換素子
と、該光電変換素子と接続するための電極部を有する電
気回路基板とを備える電気回路部品において、前記光電
変換素子の電極部と前記電気回路基板の電極部との間に
介在され、略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に導
電性の被覆層が設けられた少なくとも1つの導電ボール
を具備し、前記導電ボールは、前記光電変換素子の電極
部と前記電気回路基板の電極部により圧接されて、該光
電変換素子の電極部と該導電ボールの被覆層との間、及
び、該電気回路基板の電極部と該導電ボールの被覆層と
の間が電気的及び機械的に接続されている事を特徴とし
ている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to claim 4, in an electric circuit component including a photoelectric conversion element having an electrode portion and an electric circuit board having an electrode portion for connecting to the photoelectric conversion element, the electrode portion of the photoelectric conversion element is provided. At least one conductive ball is provided between the electrode portion of the electric circuit board and a core having a substantially ball-shaped rigidity, and a conductive coating layer is provided around the core. The electrode portion of the conversion element and the electrode portion of the electric circuit board are pressure-contacted to each other, and between the electrode portion of the photoelectric conversion element and the coating layer of the conductive ball, and between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive ball. It is characterized in that it is electrically and mechanically connected to the coating layer.

【0108】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項5の記載によれば、電極部を有する電気回路素子
と、前記電気回路素子の電極部に対応する位置に設けら
れた電極部を有する電気回路基板とを互いに対向させ、
前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
との間に少なくとも1以上の導電ボールを介在させて両
電極部間を接続した電気回路部品において、前記電気回
路素子は、少なくとも1以上の光電変換素子を有し、前
記電気回路基板は、少なくとも一部に透光性を有し、前
記導電ボールは、剛性の高い金属材料及び無機材料の少
なくとも一方からなる略球状の形状を有するコアと、電
導性を有した材料により形成され、上記コアの周囲に被
覆される導電被覆層とを備え、該導電ボールは、前記電
気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部により
圧接されて、前記電気回路素子の電極部と前記導電被覆
層との間、及び、前記電気回路基板の電極部と前記導電
被覆層との間が、夫々を構成している材料を金属化及び
/又は合金化して接続されている事を特徴としている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to claim 5, an electric circuit element having an electrode portion and an electric circuit board having an electrode portion provided at a position corresponding to the electrode portion of the electric circuit element are opposed to each other,
In an electric circuit component in which at least one conductive ball is interposed between the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board to connect the two electrode portions, the electric circuit element is at least one or more. A photoelectric conversion element, the electric circuit board has a light-transmitting property in at least a part thereof, and the conductive balls have a substantially spherical shape made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material. And a conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and covering the periphery of the core, wherein the conductive ball is pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board. And metalizing and / or metalizing the materials forming the electrode portion of the electric circuit element and the conductive coating layer, and the electrode portion of the electric circuit substrate and the conductive coating layer, respectively. Alloyed Is characterized in that has been continued.

【0109】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項6の記載によれば、電極部を有する電気回路素子
と、前記電気回路素子の電極部に対応する位置に設けら
れた電極部を有する電気回路基板と、前記電気回路素子
及び電気回路基板が互いに対向した状態で、夫々の電極
部の間に挟持され、該両電極部間を、電気的及び機械的
に接続する少なくとも1以上の導電ボールとを具備し、
前記電気回路素子は、少なくとも1以上の光電変換素子
を有し、前記電気回路基板は、少なくとも一部に透光性
を有し、前記導電ボールは、剛性の高い金属材料及び無
機材料の少なくとも一方からなる略球状の形状を有する
コアと、電導性を有した材料により形成され、上記コア
の周囲に被覆される導電被覆層とを備え、該導電ボール
は、前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電
極部により圧接されて、前記電気回路素子の電極部と前
記導電被覆層との間、及び、前記電気回路基板の電極部
と前記導電被覆層との間が、夫々を構成している材料を
金属化及び/又は合金化して接続されている事を特徴と
している。
The electric circuit component according to the present invention is
According to claim 6, an electric circuit element having an electrode portion, an electric circuit board having an electrode portion provided at a position corresponding to the electrode portion of the electric circuit element, the electric circuit element and the electric circuit board. Are opposed to each other, and are sandwiched between respective electrode portions, and at least one or more conductive balls electrically and mechanically connecting the both electrode portions are provided.
The electric circuit element has at least one or more photoelectric conversion elements, the electric circuit board has a light-transmitting property in at least a part thereof, and the conductive ball is at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material. Comprising a core having a substantially spherical shape and a conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and covering the periphery of the core, wherein the conductive ball has an electrode portion of the electric circuit element and the The electrode portion of the electric circuit board is pressure-contacted, and the electrode portion of the electric circuit element and the conductive coating layer, and the electrode portion of the electric circuit board and the conductive coating layer respectively constitute. It is characterized in that the materials are connected by metalizing and / or alloying.

【0110】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項7の記載によれば、電極部を有する電気回路素子
と、該電気回路素子と接続するための電極部を有する電
気回路基板とを備える電気回路部品において、前記電気
回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部との間に
介在され、略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に導
電性の被覆層が設けられた少なくとも1つの導電ボール
と、前記導電ボールを埋設保持する保持シートであっ
て、電気的絶縁性を有する材料から形成され、一方の面
より該導電ボールの一部が突出して露出し、他方の面か
ら該導電ボールの一部が突出して露出するように、該導
電ボールを保持する保持シートとを具備し、前記導電ボ
ールは、前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板
の電極部により圧接されて、該電気回路素子の電極部と
前記保持シートの一方の面より突出する該導電ボールの
被覆層の一部との間、及び、該電気回路基板の電極部と
前記保持シートの他方の面より突出する該導電ボールの
被覆層の一部との間が電気的及び機械的に接続されてい
る事を特徴としている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to claim 7, in an electric circuit component including an electric circuit element having an electrode portion and an electric circuit board having an electrode portion for connecting to the electric circuit element, an electrode portion of the electric circuit element At least one conductive ball, which is interposed between the electrode portion of the electric circuit board and has a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity, and a holding sheet for embedding and holding the conductive ball. Which is formed of a material having an electrical insulation property, so that a part of the conductive ball projects and is exposed from one surface and a part of the conductive ball projects and is exposed from the other surface. A holding sheet for holding the conductive balls, wherein the conductive balls are pressed against each other by the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board, and one of the holding sheet and the electrode portion of the electric circuit element is pressed. Between a part of the coating layer of the conductive ball protruding from the surface of the electric circuit board, and between the electrode part of the electric circuit board and a part of the coating layer of the conductive ball protruding from the other surface of the holding sheet. Is characterized by being electrically and mechanically connected.

【0111】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項8の記載によれば、電極部を有する電気回路素子
と、前記電気回路素子の電極部に対応する位置に設けら
れた電極部を有する電気回路基板とを互いに対向させ、
前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
との間に少なくとも1以上の導電ボールを介在させて両
電極部間を接続した電気回路部品において、前記導電ボ
ールを埋設保持する保持シートであって、電気的絶縁性
を有する材料から形成され、一方の面より該導電ボール
の一部が突出して露出し、他方の面から該導電ボールの
一部が突出して露出するように、該導電ボールを保持す
る保持シートを備え、前記導電ボールは、剛性の高い金
属材料及び無機材料の少なくとも一方からなる略球状の
形状を有するコアと、電導性を有した材料により形成さ
れ、上記コアの周囲に被覆される導電被覆層とを備え、
該導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記電気
回路基板の電極部により圧接されて、前記電気回路素子
の電極部と前記保持シートの一方の面より突出した前記
導電ボールの前記導電被覆層の部分との間、及び、前記
電気回路基板の電極部と前記保持シートの他方の面より
突出した該導電ボールの前記導電被覆層の部分との間
が、夫々を構成している材料を金属化及び/又は合金化
して接続されている事を特徴としている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to claim 8, an electric circuit element having an electrode portion and an electric circuit substrate having an electrode portion provided at a position corresponding to the electrode portion of the electric circuit element are opposed to each other,
A holding sheet for embedding and holding the conductive ball in an electric circuit component in which at least one conductive ball is interposed between the electrode part of the electric circuit element and the electrode part of the electric circuit board to connect the two electrode parts. Which is formed of a material having an electrical insulation property, so that a part of the conductive ball projects and is exposed from one surface and a part of the conductive ball projects and is exposed from the other surface. A holding sheet for holding the conductive balls is provided, wherein the conductive balls are formed of a core having a substantially spherical shape made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material, and a material having electrical conductivity, With a conductive coating layer coated around,
The conductive ball is pressure-contacted by the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board, and the conductive coating of the conductive ball protruding from the electrode portion of the electric circuit element and one surface of the holding sheet. The material forming the respective portions between the layer portion and between the electrode portion of the electric circuit board and the portion of the conductive coating layer of the conductive ball protruding from the other surface of the holding sheet. It is characterized in that they are connected by being metallized and / or alloyed.

【0112】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項9の記載によれば、電極部を有する電気回路素子
と、前記電気回路素子の電極部に対応する位置に設けら
れた電極部を有する電気回路基板と、前記電気回路素子
及び電気回路基板が互いに対向した状態で、夫々の電極
部の間に挟持され、両電極部間を、電気的及び機械的に
接続する少なくとも1以上の導電ボールと、前記導電ボ
ールを埋設保持する保持シートであって、電気的絶縁性
を有する材料から形成され、一方の面より該導電ボール
の一部が突出して露出し、他方の面から該導電ボールの
一部が突出して露出するように、該導電ボールを保持す
る保持シートとを具備し、前記導電ボールは、剛性の高
い金属材料及び無機材料の少なくとも一方からなる略球
状の形状を有するコアと、電導性を有した材料により形
成され、上記コアの周囲に被覆される導電被覆層とを備
え、該導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記
電気回路基板の電極部により圧接されて、前記電気回路
素子の電極部と前記保持シートの一方の面より突出した
前記導電ボールの前記導電被覆層の部分との間、及び、
前記電気回路基板の電極部と前記保持シートの他方の面
より突出した該導電ボールの前記導電被覆層の部分との
間が、夫々を構成している材料を金属化及び/又は合金
化して接続されている事を特徴としている。
The electric circuit component according to the present invention is
According to claim 9, an electric circuit element having an electrode portion, an electric circuit board having an electrode portion provided at a position corresponding to the electrode portion of the electric circuit element, the electric circuit element and the electric circuit board. And at least one conductive ball which is sandwiched between the respective electrode parts in a state of facing each other and electrically and mechanically connects the both electrode parts, and a holding sheet which embeds and holds the conductive ball. A conductive ball formed of a material having electrical insulation so that a part of the conductive ball projects and is exposed from one surface and a part of the conductive ball projects and is exposed from the other surface. And a holding sheet for holding the conductive ball, wherein the conductive ball is formed of a core having a substantially spherical shape made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material, and a material having electrical conductivity. A conductive coating layer that is coated around the conductive ball, and the conductive balls are pressed against each other by the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board to form one of the electrode portion of the electric circuit element and the holding sheet. Between the portion of the conductive coating layer of the conductive ball protruding from the surface of,
The electrode portion of the electric circuit board and the portion of the conductive coating layer of the conductive ball protruding from the other surface of the holding sheet are connected by metallizing and / or alloying the material forming each of them. It is characterized by being done.

【0113】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項10の記載によれば、電極部を有する光電変換素
子と、該光電変換素子と接続するための電極部を有する
電気回路基板とを備える電気回路部品において、前記光
電変換素子の電極部と前記電気回路基板の電極部との間
に介在され、略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に
導電性の被覆層が設けられた少なくとも1つの導電ボー
ルと、前記導電ボールを埋設保持する保持シートであっ
て、電気的絶縁性を有する材料から形成され、一方の面
より該導電ボールの一部が突出して露出し、他方の面か
ら該導電ボールの一部が突出して露出するように、該導
電ボールを保持する保持シートとを具備し、前記導電ボ
ールは、前記光電変換素子の電極部と前記電気回路基板
の電極部により圧接されて、該光電変換素子の電極部と
前記保持シートの一方の面より突出する該導電ボールの
被覆層の部分との間、及び、該電気回路基板の電極部と
前記保持シートの他方の面より突出する該導電ボールの
被覆層の部分との間が電気的及び機械的に接続されてい
る事を特徴としている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to claim 10, in an electric circuit component including a photoelectric conversion element having an electrode section and an electric circuit board having an electrode section for connecting to the photoelectric conversion element, an electrode section of the photoelectric conversion element is provided. At least one conductive ball, which is interposed between the electrode portion of the electric circuit board and has a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity, and a holding sheet for embedding and holding the conductive ball. Which is formed of a material having an electrical insulation property, so that a part of the conductive ball projects and is exposed from one surface and a part of the conductive ball projects and is exposed from the other surface. A holding sheet for holding a conductive ball, wherein the conductive ball is pressed into contact with the electrode portion of the photoelectric conversion element and the electrode portion of the electric circuit board, the electrode portion of the photoelectric conversion element and the holding sheet Between the part of the coating layer of the conductive ball protruding from one surface, and between the electrode part of the electric circuit board and the part of the coating layer of the conductive ball protruding from the other surface of the holding sheet. It is characterized by being connected electrically and mechanically.

【0114】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項11の記載によれば、電極部を有する電気回路素
子と、前記電気回路素子の電極部に対応する位置に設け
られた電極部を有する電気回路基板とを互いに対向さ
せ、前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電
極部との間に少なくとも1以上の導電ボールを介在させ
て両電極部間を接続した電気回路部品において、該少な
くとも1以上の導電ボールを埋設保持する保持シートで
あって、電気的絶縁性を有する材料から形成され、一方
の面より前記導電ボールの一部が突出して露出し、他方
の面から該導電ボールの一部が突出して露出するよう
に、該導電ボールを保持する保持シートを備え、前記電
気回路素子は、少なくとも1以上の光電変換素子を有
し、前記電気回路基板は、少なくとも一部に透光性を有
し、前記保持シートは、空気又は封止樹脂よりも低い光
透過率を有し、前記光電変換素子に対応する部分に開口
部を有するように形成され、前記導電ボールは、剛性の
高い金属材料及び無機材料の少なくとも一方からなる略
球状の形状を有するコアと、電導性を有した材料により
形成され、上記コアの周囲に被覆される導電被覆層とを
備え、該導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前
記電気回路基板の電極部により圧接されて、前記電気回
路素子の電極部と前記保持シートの一方の面より突出し
た前記導電ボールの前記導電被覆層の部分との間、及
び、前記電気回路基板の電極部と前記保持シートの他方
の面より突出した該導電ボールの前記導電被覆層の部分
との間が、夫々を構成している材料を金属化及び/又は
合金化して接続されている事を特徴としている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to claim 11, the electric circuit element having the electrode portion and the electric circuit substrate having the electrode portion provided at a position corresponding to the electrode portion of the electric circuit element are opposed to each other, and the electric circuit element is provided. In an electric circuit component in which at least one conductive ball is interposed between the electrode part and the electrode part of the electric circuit board to connect the two electrode parts, a holding sheet for embedding and holding the at least one conductive ball Which is formed of a material having an electrical insulation property, so that a part of the conductive ball is projected and exposed from one surface and a part of the conductive ball is projected and exposed from the other surface. A holding sheet for holding the conductive balls is provided, the electric circuit element has at least one or more photoelectric conversion elements, the electric circuit board has a light-transmitting property at least in part, and the holding sheet is It has a light transmittance lower than that of air or a sealing resin, and is formed to have an opening in a portion corresponding to the photoelectric conversion element, and the conductive ball is made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material. And a conductive coating layer that is formed of a material having electrical conductivity and that is coated around the core, and the conductive ball includes an electrode portion of the electric circuit element and the electrical circuit. Between the electrode portion of the electric circuit element and the portion of the conductive coating layer of the conductive ball protruding from one surface of the holding sheet, which is pressed by the electrode portion of the circuit board, and the electrode of the electric circuit board. The portion and the portion of the conductive coating layer of the conductive ball protruding from the other surface of the holding sheet are connected by metalizing and / or alloying the material forming each of them. As .

【0115】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項12の記載によれば、電極部を有する電気回路素
子と、前記電気回路素子の電極部に対応する位置に設け
られた電極部を有する電気回路基板と、前記電気回路素
子及び電気回路基板が互いに対向した状態で、夫々の電
極部の間に挟持され、両電極部間を、電気的及び機械的
に接続する少なくとも1以上の導電ボールと、該少なく
とも1以上の導電ボールを埋設保持する保持シートであ
って、電気的絶縁性を有する材料から形成され、一方の
面より前記導電ボールの一部が突出して露出し、他方の
面から該導電ボールの一部が突出して露出するように、
該導電ボールを保持する保持シートとを具備し、前記電
気回路素子は、少なくとも1以上の光電変換素子を有
し、前記電気回路基板は、少なくとも一部に透光性を有
し、前記保持シートは、空気又は封止樹脂よりも低い光
透過率を有し、前記光電変換素子に対応する部分に開口
部を有するように形成され、前記導電ボールは、剛性の
高い金属材料及び無機材料の少なくとも一方からなる略
球状の形状を有するコアと、電導性を有した材料により
形成され、上記コアの周囲に被覆される導電被覆層とを
備え、該導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前
記電気回路基板の電極部により圧接されて、前記電気回
路素子の電極部と前記保持シートの一方の面より突出し
た前記導電ボールの前記導電被覆層の部分との間、及
び、前記電気回路基板の電極部と前記保持シートの他方
の面より突出した該導電ボールの前記導電被覆層の部分
との間が、夫々を構成している材料を金属化及び/又は
合金化して接続されている事を特徴としている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to claim 12, an electric circuit element having an electrode portion, an electric circuit board having an electrode portion provided at a position corresponding to the electrode portion of the electric circuit element, the electric circuit element and the electric circuit board. At least one conductive ball that is sandwiched between the respective electrode parts in a state of facing each other and electrically and mechanically connects the two electrode parts, and at least one conductive ball is embedded and held. A holding sheet, which is formed of a material having an electrical insulation property, such that a part of the conductive ball projects and is exposed from one surface and a part of the conductive ball projects and is exposed from the other surface. ,
A holding sheet for holding the conductive balls, the electric circuit element has at least one photoelectric conversion element, and the electric circuit board has a light-transmitting property in at least a part of the holding sheet. Has a light transmittance lower than that of air or sealing resin, and is formed to have an opening in a portion corresponding to the photoelectric conversion element, and the conductive ball is made of at least a metal material and an inorganic material having high rigidity. A core having a substantially spherical shape composed of one side, and a conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and covering the periphery of the core, the conductive ball being an electrode portion of the electric circuit element. Between the electrode portion of the electric circuit element and the portion of the conductive coating layer of the conductive ball that is pressed against the electrode portion of the electric circuit board and protrudes from one surface of the holding sheet, and the electric circuit board The electrode portion and the portion of the conductive coating layer of the conductive ball protruding from the other surface of the holding sheet are connected by metallizing and / or alloying the material forming each of them. It has a feature.

【0116】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項13の記載によれば、前記導電ボールにより接続
される電極部間の距離が、前記コアの直径と実質的に等
しい距離であることを特徴としている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to the thirteenth aspect, the distance between the electrode portions connected by the conductive balls is substantially equal to the diameter of the core.

【0117】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項14の記載によれば、前記導電被覆層の外周面
は、滑らかな曲面状に形成されていることを特徴として
いる。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to claim 14, the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed into a smooth curved surface.

【0118】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項15の記載によれば、前記コアの外周面は、滑ら
かな曲面状に形成されていることを特徴としている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to the fifteenth aspect, the outer peripheral surface of the core is formed into a smooth curved surface.

【0119】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項16の記載によれば、前記導電被覆層の外周面
は、凸凹状に形成されている事を特徴としている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to a sixteenth aspect, the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.

【0120】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項17の記載によれば、前記導電被覆層の内周面
は、凸凹状に形成されていることを特徴としている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to a seventeenth aspect, the inner peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.

【0121】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項18の記載によれば、前記コアの外周面は、凸凹
状に形成されていることを特徴としている。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to the eighteenth aspect, the outer peripheral surface of the core is formed in an uneven shape.

【0122】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項19の記載によれば、前記両電極部間には、複数
の導電ボールが介設されている事を特徴としている。
The electric circuit component according to the present invention is
According to a nineteenth aspect, a plurality of conductive balls are provided between the both electrode portions.

【0123】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項20の記載によれば、前記基板と素子との間は、
樹脂封止されている事を特徴としている。
The electric circuit component according to the present invention is
According to the description of claim 20, between the substrate and the element,
It is characterized by being resin-sealed.

【0124】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項21の記載によれば、前記保持シートには、ノッ
チ及び/又はスリットが形成されており、引き裂き可能
になされていることを特徴としている。
The electric circuit component according to the present invention is
According to a twenty-first aspect of the present invention, the holding sheet is formed with a notch and / or a slit so that it can be torn.

【0125】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項22の記載によれば、前記導電被覆層は、電気抵
抗率が1.6E−8乃至10E−8Ω・mの物質から形
成されていることを特徴としている。
The electric circuit component according to the present invention is
According to a twenty-second aspect, the conductive coating layer is formed of a substance having an electric resistivity of 1.6E-8 to 10E-8Ω · m.

【0126】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項23の記載によれば、前記導電被覆層は、その膜
厚を1乃至50μmに設定されていることを特徴として
いる。
The electric circuit component according to the present invention is
According to a twenty-third aspect, the conductive coating layer has a film thickness set to 1 to 50 μm.

【0127】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項24の記載によれば、前記導電被覆層は、その膜
厚を3乃至20μmに設定されていることを特徴として
いる。
The electric circuit component according to the present invention is
According to a twenty-fourth aspect, the conductive coating layer has a thickness set to 3 to 20 μm.

【0128】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項25の記載によれば、前記コアは、その直径を3
乃至500μmに設定されていることを特徴としてい
る。
The electric circuit component according to the present invention is
According to claim 25, the core has a diameter of 3
To 500 μm.

【0129】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項26の記載によれば、前記コアは、その直径を1
0乃至200μmに設定されていることを特徴としてい
る。
Also, the electric circuit component according to the present invention is
According to claim 26, the core has a diameter of 1
It is characterized by being set to 0 to 200 μm.

【0130】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項27の記載によれば、前記コアは、両電極間での
接続に必要な荷重が加えられた場合に、その直径の変位
量が5%以下となるような剛性を有している事を特徴と
している。
The electric circuit component according to the present invention is
According to claim 27, the core has a rigidity such that the displacement amount of the diameter thereof is 5% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. Is characterized by.

【0131】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項28の記載によれば、前記コアは、両電極間での
接続に必要な荷重が加えられた場合に、その直径の変位
量が1%以下となるような剛性を有している事を特徴と
している。
The electric circuit component according to the present invention is
According to claim 28, the core has rigidity such that the displacement amount of the diameter thereof is 1% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. Is characterized by.

【0132】また、この発明に係わる電気回路部品は、
請求項29の記載によれば、前記導電被覆層の凸凹の大
きさが、Rmaxで接続される電極の膜厚の10%以上
であり、導電被覆層の膜厚の2倍以下であることを特徴
としている。
The electric circuit component according to the present invention is
According to claim 29, the size of the unevenness of the conductive coating layer is 10% or more of the film thickness of the electrodes connected at Rmax, and is not more than twice the film thickness of the conductive coating layer. It has a feature.

【0133】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項30の記載によれば、電極部を有する
電気回路素子と前記電気回路素子と接続するための電極
部を有した電気回路基板を備えた電気回路部品の製造方
法において、略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に
導電性を有する被覆層を有する導電ボールを、少なくと
も1以上、前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基
板の電極部との間に介在させる第1の工程と、前記電気
回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部とによ
り、前記導電ボールを加圧する第2の工程と、前記導電
ボールの導電被覆層を所定温度に加熱させる第3の工程
と、前記加圧及び加熱により、前記電気回路素子の電極
部及び前記導電ボール間の導電被覆層と、前記電気回路
基板の電極部及び前記導電ボール間の導電被覆層とを夫
々移動させて、前記コアと両電極部とを接触させる第4
の工程と、前記導電被覆層を冷却して、前記コアと両電
極部との接触を維持させて前記導電被覆層及び両電極部
を金属化又は合金化させる第5の工程とを具備すること
を特徴としている。
According to a thirtieth aspect of the present invention, there is provided an electric circuit component manufacturing method according to the present invention, which has an electric circuit element having an electrode section and an electrode section for connecting the electric circuit element. In the method of manufacturing an electric circuit component including a substrate, at least one or more conductive balls having a coating layer having conductivity around a core having a substantially ball-shaped rigidity, the electrode portion of the electric circuit element and the electric circuit. A first step of interposing it between the electrode part of the substrate and a second step of pressing the conductive ball by the electrode part of the electric circuit element and the electrode part of the electric circuit board; The third step of heating the conductive coating layer to a predetermined temperature, the conductive coating layer between the electrode portion of the electric circuit element and the conductive ball, and the electrode portion of the electric circuit board and the front by the pressing and heating. And a conductive coating layer between the conductive balls by respectively moving, fourth contacting said core and two electrode portions
And a fifth step of cooling the conductive coating layer to maintain contact between the core and both electrode portions to metallize or alloy the conductive coating layer and both electrode portions. Is characterized by.

【0134】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項31の記載によれば、電極部を有する
電気回路素子と前記電気回路素子と接続するための電極
部を有した電気回路基板を備えた電気回路部品の製造方
法において、略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に
導電性を有する被覆層を有する導電ボールを、前記電気
回路素子の電極部及び前記電気回路基板の電極部の一方
の上に少なくとも1以上載置させる第1の工程と、前記
電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部の他
方を、前記導電ボール上に重ねさせ、該導電ボールを両
電極により挟持させる第2の工程と、前記電気回路素子
の電極部と前記電気回路基板の電極部とにより、前記導
電ボールを加圧する第3の工程と、前記導電ボールの導
電被覆層を所定温度に加熱させる第4の工程と、前記加
圧及び加熱により、前記電気回路素子の電極部と前記導
電ボールとの間の導電被覆層と、前記電気回路基板の電
極部と前記導電ボールとの間の導電被覆層とを夫々移動
させて、前記コアと両電極部とを接触させる第5の工程
と、前記導電被覆層を冷却して、前記コアと両電極部と
の接触を維持させて前記導電被覆層及び両電極部を金属
化又は合金化させる第6の工程とを具備することを特徴
としている。
According to the 31st aspect of the present invention, there is provided an electric circuit device having an electrode part for connecting the electric circuit element having the electrode part and the electric circuit element. In a method of manufacturing an electric circuit component including a substrate, a conductive ball having a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity is provided in the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board. A first step of mounting at least one or more on one of the electrodes, and the other of the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board are overlapped on the conductive ball, and the conductive ball is placed on both electrodes. And a third step of pressing the conductive balls by the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board, and a predetermined temperature of the conductive coating layer of the conductive balls. And a conductive coating layer between the electrode portion of the electric circuit element and the conductive ball, and between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive ball by the pressing and heating. Moving the conductive coating layer respectively to contact the core and the electrode portions with each other; and cooling the conductive coating layer to maintain contact between the core and the electrode portions. And a sixth step of metallizing or alloying the conductive coating layer and both electrode portions.

【0135】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項32の記載によれば、電極部を有する
電気回路素子と前記電気回路素子と接続するための電極
部を有した電気回路基板を備えた電気回路部品の製造方
法において、前記電気回路素子及び電気回路基板の一方
の上に、略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に導電
性を有する被覆層を有する導電ボールの直径よりも薄く
形成され、前記電極に対応した位置に開口が形成された
マスク部材を、該開口が該電極に対応する状態で載置す
る第1の工程と、前記マスク部材の開口内に、前記導電
ボールを収納して、該導電ボールを、前記電気回路素子
及び電気回路基板の電極部の一方の上に少なくとも1以
上載置させる第2の工程と、前記電気回路素子及び電気
回路基板の他方を、これの電極部が前記導電ボール上に
重なるように載置して、該導電ボールを両電極により挟
持させる第3の工程と、前記電気回路素子の電極部と前
記電気回路基板の電極部とにより、前記導電ボールを加
圧する第4の工程と、前記導電ボールの導電被覆層を所
定温度に加熱させる第5の工程と、前記加圧及び加熱に
より、前記電気回路素子の電極部及び前記導電ボール間
の導電被覆層と、前記電気回路基板の電極部及び前記導
電ボール間の導電被覆層とを夫々移動させて、前記コア
と両電極部とを接触させる第6の工程と、前記導電被覆
層を冷却して、前記コアと両電極部との接触を維持させ
て前記導電被覆層及び両電極部を金属化又は合金化させ
る第7の工程と、前記マスク部材を取り除く第8の工程
とを具備することを特徴としている。
According to a thirty-second aspect of the present invention, there is provided an electric circuit component manufacturing method according to the present invention, wherein the electric circuit device has an electric circuit element having an electrode section and an electrode section for connecting the electric circuit element. In a method for manufacturing an electric circuit component including a substrate, a diameter of a conductive ball having a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity is provided on one of the electric circuit element and the electric circuit board. A thin film is formed, and a mask member having an opening formed at a position corresponding to the electrode is placed in a state in which the opening corresponds to the electrode; A second step of accommodating the balls and placing the conductive balls on at least one of the electrode portions of the electric circuit element and the electric circuit board; and the other step of the electric circuit element and the electric circuit board. The third step of placing the electrode part of the electric ball on the conductive ball so that the conductive ball is sandwiched between the electrodes, and the electrode part of the electric circuit element and the electrode part of the electric circuit board. A fourth step of pressing the conductive balls, a fifth step of heating the conductive coating layer of the conductive balls to a predetermined temperature, and an electrode portion of the electric circuit element and the conductive balls by the pressing and heating. A sixth step of moving the conductive coating layer between them and the conductive coating layer between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive balls to bring the core into contact with both electrode portions; and the conductive coating layer. Cooling the core to maintain the contact between the core and both electrode parts to metallize or alloy the conductive coating layer and both electrode parts, and an eighth process for removing the mask member. Characterized by having

【0136】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項33の記載によれば、電極部を有する
電気回路素子と前記電気回路素子と接続するための電極
部を有した電気回路基板を備えた電気回路部品の製造方
法において、前記電気回路素子及び電気回路基板の一方
の上に、略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に導電
性を有する被覆層を有する導電ボールの直径よりも薄く
形成され、前記電極に対応した位置に第1の開口が形成
された第1のマスク部材を、該開口が該電極に対応する
状態で載置する第1の工程と、この第1のマスク部材上
に、該第1のマスク部材との合計の厚さが、前記導電ボ
ールの直径の1.5倍よりも薄くなるように形成される
と共に、前記電極に対応した位置に第2の開口が形成さ
れた第2のマスク部材を、第1及び第2の開口が連通す
るように重ね合わせる第2の工程と、前記第1及び第2
のマスク部材の第1及び第2の開口内に、前記導電ボー
ルを収納して、該導電ボールを、前記電気回路素子及び
電気回路基板の電極部の一方の上に少なくとも1以上載
置させる第3の工程と、前記第2のマスク部材を取り除
く第4の工程と、前記電気回路素子及び電気回路基板の
他方を、これの電極部が前記導電ボール上に重なるよう
に載置して、該導電ボールを両電極によりる挟持させる
第5の工程と、前記電気回路素子の電極部と前記電気回
路基板の電極部とにより、前記導電ボールを加圧する第
6の工程と、前記導電ボールの導電被覆層を所定温度に
加熱させる第7の工程と、前記加圧及び加熱により、前
記電気回路素子の電極部及び前記導電ボール間の導電被
覆層と、前記電気回路基板の電極部及び前記導電ボール
間の導電被覆層とを夫々移動させて、前記コアと両電極
部とを接触させる第8の工程と、前記導電被覆層を冷却
して、前記コアと両電極部との接触を維持させて前記導
電被覆層及び両電極部を金属化又は合金化させる第9の
工程と、前記第1のマスク部材を取り除く第10の工程
とを具備することを特徴としている。
Further, according to a thirty-third aspect of the present invention, there is provided an electric circuit component manufacturing method, wherein an electric circuit element having an electrode portion and an electrode portion for connecting to the electric circuit element are provided. In a method for manufacturing an electric circuit component including a substrate, a diameter of a conductive ball having a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity is provided on one of the electric circuit element and the electric circuit board. A first step of placing a first mask member, which is also thin and has a first opening formed at a position corresponding to the electrode, in a state where the opening corresponds to the electrode; It is formed on the mask member so that the total thickness of the first mask member and the first mask member is less than 1.5 times the diameter of the conductive ball, and the second mask is formed at a position corresponding to the electrode. Second mask with openings formed The wood, a second step of the first and second openings superposed so as to communicate the first and second
A first electrically conductive ball is housed in the first and second openings of the mask member, and at least one electrically conductive ball is placed on one of the electrode portions of the electric circuit element and the electric circuit board. Step 3, the fourth step of removing the second mask member, and the other of the electric circuit element and the electric circuit board are placed so that their electrode portions overlap the conductive balls. A fifth step of sandwiching the conductive ball between both electrodes, a sixth step of pressing the conductive ball by the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board, and conductivity of the conductive ball A seventh step of heating the coating layer to a predetermined temperature, a conductive coating layer between the electrode portion of the electric circuit element and the conductive ball, and an electrode portion of the electric circuit board and the conductive ball by the pressing and heating. Between the conductive coating layer Eighth step of moving each to bring the core and the electrode portions into contact with each other; cooling the conductive coating layer to maintain contact between the core and the electrode portions to provide the conductive coating layer and the electrode portions. It is characterized by including a ninth step of metallizing or alloying the portion and a tenth step of removing the first mask member.

【0137】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項34の記載によれば、電極部を有する
電気回路素子と前記電気回路素子と接続するための電極
部を有した電気回路基板を備えた電気回路部品の製造方
法において、略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に
導電性を有する被覆層を備える導電ボールと、前記電気
回路素子の電極部及び前記電気回路基板の電極部の一方
とを接触させる第1の工程と、前記一方の電極部と、前
記導電ボールとを互いに加圧する第2の工程と、前記導
電ボールの導電被覆層を所定温度に加熱させる第3の工
程と、前記加圧及び加熱により、前記一方の電極部と前
記導電ボールとの間の導電被覆層を移動させて、前記コ
アと前記一方の電極部とを接触させる第4の工程と、前
記導電被覆層を冷却して、前記コアと前記一方の電極部
との接触を維持させて、該導電被覆層及び該一方の電極
部を金属化又は合金化させる第5の工程と、前記一方の
電極に接続された導電ボールと、前記電気回路素子の電
極部と前記電気回路基板の電極部の他方とを接触させ、
該導電ボールを両電極により挟持させる第6の工程と、
前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
とにより、前記導電ボールを加圧する第7の工程と、前
記導電ボールの導電被覆層を所定温度に加熱させる第8
の工程と、前記加圧及び加熱により、前記他方の電極部
と前記導電ボールとの間の導電被覆層を移動させて、前
記コアと該他方の電極部とを接触させる第9の工程と、
前記導電被覆層を冷却して、前記コアと前記他方の電極
部との接触を維持させて前記導電被覆層及び該他方の電
極部を金属化又は合金化させる第10の工程とを具備す
ることを特徴としている。
According to a thirty-fourth aspect of the present invention, there is provided an electric circuit component manufacturing method, wherein the electric circuit component has an electric circuit element having an electrode portion and an electrode portion for connecting the electric circuit element. In a method of manufacturing an electric circuit component including a substrate, a conductive ball including a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity, an electrode portion of the electric circuit element, and an electrode portion of the electric circuit board. A first step of bringing one of the electrodes into contact with each other, a second step of pressing the one electrode part and the conductive ball against each other, and a third step of heating the conductive coating layer of the conductive ball to a predetermined temperature. A fourth step of moving the conductive coating layer between the one electrode part and the conductive ball by the pressure and heating to bring the core and the one electrode part into contact with each other; Cold coating Then, a fifth step of metallizing or alloying the conductive coating layer and the one electrode portion while maintaining contact between the core and the one electrode portion was connected to the one electrode. A conductive ball, the electrode portion of the electric circuit element and the other of the electrode portion of the electric circuit board are brought into contact with each other,
A sixth step of sandwiching the conductive ball between both electrodes,
A seventh step of pressing the conductive balls with the electrode portions of the electric circuit element and the electrode portions of the electric circuit board; and an eighth step of heating the conductive coating layer of the conductive balls to a predetermined temperature.
And a ninth step of moving the conductive coating layer between the other electrode portion and the conductive ball by the pressure and heating to bring the core and the other electrode portion into contact with each other,
Cooling the conductive coating layer to maintain contact between the core and the other electrode portion to metallize or alloy the conductive coating layer and the other electrode portion. Is characterized by.

【0138】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項35の記載によれば、電極部を有する
電気回路素子と前記電気回路素子と接続するための電極
部を有した電気回路基板を備えた電気回路部品の製造方
法において、前記電極に対応した凹部を上面に有する型
の、前記凹部内に、略ボール形状の剛性を有するコアの
周囲に導電性を有する被覆層を備える導電ボールを一部
突出した状態で収納する第1の工程と、前記導電ボール
と、前記電気回路素子の電極部及び前記電気回路基板の
電極部の一方とを接触させる第2の工程と、前記一方の
電極部と前記凹部とにより、前記導電ボールを加圧する
第3の工程と、前記導電ボールの導電被覆層を所定温度
に加熱させる第4の工程と、前記加圧及び加熱により、
前記一方の電極部と前記導電ボールとの間の導電被覆層
を移動させて、前記コアと前記一方の電極部とを接触さ
せる第5の工程と、前記導電被覆層を冷却して、前記コ
アと前記一方の電極部との接触を維持させて、該導電被
覆層及び該一方の電極部を金属化又は合金化させる第6
の工程と、前記型から、前記導電ボールが接続された前
記電気回路素子及び電気回路基板の一方を取り出す第7
の工程と、前記一方の電極に接続された導電ボールと、
前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
の他方とを接触させ、該導電ボールを両電極により挟持
させる第8の工程と、前記電気回路素子の電極部と前記
電気回路基板の電極部とにより、前記導電ボールを加圧
する第9の工程と、前記導電ボールの導電被覆層を所定
温度に加熱させる第10の工程と、前記加圧及び加熱に
より、前記他方の電極部と前記導電ボールとの間の導電
被覆層を移動させて、前記コアと該他方の電極部とを接
触させる第11の工程と、前記導電被覆層を冷却して、
前記コアと前記他方の電極部との接触を維持させて前記
導電被覆層及び該他方の電極部を金属化又は合金化させ
る第12の工程とを具備することを特徴としている。
According to a thirty-fifth aspect of the present invention, there is provided an electric circuit device having an electric circuit element having an electrode section and an electrode section for connecting the electric circuit element. In a method of manufacturing an electric circuit component including a substrate, a mold having a concave portion corresponding to the electrode on an upper surface, wherein a conductive coating layer is provided in the concave portion around a core having a substantially ball-shaped rigidity. A first step of storing the ball in a partially projected state; a second step of bringing the conductive ball into contact with one of the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; A third step of pressurizing the conductive balls with the electrode part and the recess, a fourth step of heating the conductive coating layer of the conductive balls to a predetermined temperature, and the pressurization and heating,
A fifth step of moving the conductive coating layer between the one electrode portion and the conductive ball to bring the core into contact with the one electrode portion, and cooling the conductive coating layer to form the core. A metallization or alloying of the conductive coating layer and the one electrode part by maintaining contact between the one electrode part and the one electrode part.
And the step of taking out one of the electric circuit element and the electric circuit board to which the conductive ball is connected from the mold.
And a conductive ball connected to the one electrode,
An eighth step of bringing the electrode portion of the electric circuit element and the other of the electrode portions of the electric circuit board into contact with each other to sandwich the conductive ball between the electrodes, and the electrode portion of the electric circuit element and the electric circuit board. A ninth step of pressing the conductive ball with an electrode portion, a tenth step of heating the conductive coating layer of the conductive ball to a predetermined temperature, and the other electrode portion and the An eleventh step of moving the conductive coating layer between the conductive balls and bringing the core and the other electrode part into contact with each other, and cooling the conductive coating layer,
A twelfth step of maintaining the contact between the core and the other electrode part to metallize or alloy the conductive coating layer and the other electrode part.

【0139】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項36の記載によれば、前記電気回路素
子は、少なくとも1以上の光電変換素子を備えることを
特徴としている。
According to a thirty-sixth aspect of the method for manufacturing an electric circuit component of the present invention, the electric circuit element includes at least one photoelectric conversion element.

【0140】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項37の記載によれば、前記導電被覆層
の外周面は、滑らかな曲面状に形成されていることを特
徴としている。
According to a thirty-seventh aspect of the method for manufacturing an electric circuit component of the present invention, the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed into a smooth curved surface.

【0141】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項38の記載によれば、前記コアの外周
面は、滑らかな曲面状に形成されていることを特徴とし
ている。
According to a thirty-eighth aspect of the method for manufacturing an electric circuit component of the present invention, the outer peripheral surface of the core is formed into a smooth curved surface.

【0142】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項39の記載によれば、前記導電被覆層
の外周面は、凸凹状に形成されている事を特徴としてい
る。
According to a 39th aspect of the method for manufacturing an electric circuit component of the present invention, the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.

【0143】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項40の記載によれば、前記導電被覆層
の内周面は、凸凹状に形成されていることを特徴として
いる。
According to a 40th aspect of the method for manufacturing an electric circuit component according to the present invention, the inner peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.

【0144】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項41の記載によれば、前記コアの外周
面は、凸凹状に形成されていることを特徴としている。
Further, the manufacturing method of the electric circuit component according to the present invention is characterized in that, according to claim 41, the outer peripheral surface of the core is formed in an uneven shape.

【0145】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項42の記載によれば、前記第1の工程
において、複数の導電ボールを両電極部間に介設させる
事を特徴としている。
According to a forty-second aspect of the present invention, the method of manufacturing an electric circuit component is characterized in that, in the first step, a plurality of conductive balls are interposed between both electrode portions. There is.

【0146】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項43の記載によれば、前記第2の工程
において、複数の導電ボールを両電極部間に介設させる
事を特徴としている。
According to a forty-third aspect of the present invention, the method of manufacturing an electric circuit component is characterized in that, in the second step, a plurality of conductive balls are provided between both electrode portions. There is.

【0147】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項44の記載によれば、前記第3の工程
において、複数の導電ボールを両電極部間に介設させる
事を特徴としている。
Further, according to the method of manufacturing an electric circuit component according to the present invention, in the third step, a plurality of conductive balls are provided between both electrode portions. There is.

【0148】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項45の記載によれば、前記第1の工程
において、複数の導電ボールを前記一方の電極部に一度
に接触させる事を特徴としている。
Further, according to the method of manufacturing an electric circuit component according to the present invention, according to claim 45, in the first step, a plurality of conductive balls are brought into contact with the one electrode portion at a time. It has a feature.

【0149】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項46の記載によれば、前記第1の工程
において、複数の導電ボールを前記凹部内に一度に収納
する事を特徴としている。
According to a forty-sixth aspect of the present invention, the method of manufacturing an electric circuit component is characterized in that, in the first step, a plurality of conductive balls are housed in the recess at once. There is.

【0150】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項47の記載によれば、前記基板と素子
との間を、樹脂により封止する工程を更に具備する事を
特徴としている。
According to the forty-seventh aspect of the present invention, the method of manufacturing an electric circuit component further comprises a step of sealing the space between the substrate and the element with a resin. .

【0151】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項48の記載によれば、前記マスク部材
には、ノッチ及び/又はスリットが形成されており、引
き裂き可能になされていることを特徴としている。
According to a forty-eighth aspect of the method for manufacturing an electric circuit component according to the present invention, notches and / or slits are formed in the mask member so that the mask member can be torn. Is characterized by.

【0152】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項49の記載によれば、前記導電被覆層
は、電気抵抗率が1.6E−8乃至10E−8Ω・mの
物質から形成されていることを特徴としている。
According to the method of manufacturing an electric circuit component according to the present invention, the conductive coating layer is made of a material having an electric resistivity of 1.6E-8 to 10E-8Ω · m. It is characterized by being formed.

【0153】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項50の記載によれば、前記導電被覆層
は、その膜厚を1乃至50μmに設定されていることを
特徴としている。
The method of manufacturing an electric circuit component according to the present invention is characterized in that, in claim 50, the conductive coating layer has a thickness of 1 to 50 μm.

【0154】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項51の記載によれば、前記導電被覆層
は、その膜厚を3乃至20μmに設定されていることを
特徴としている。
According to a fifty-first aspect of the invention, the method of manufacturing an electric circuit component is characterized in that the conductive coating layer has a thickness of 3 to 20 μm.

【0155】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項52の記載によれば、前記コアは、そ
の直径を3乃至500μmに設定されていることを特徴
としている。
According to a 52nd aspect of the method for manufacturing an electric circuit component of the present invention, the core has a diameter set to 3 to 500 μm.

【0156】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項53の記載によれば、前記コアは、そ
の直径を10乃至200μmに設定されていることを特
徴としている。
[0156] Further, the manufacturing method of the electric circuit component according to the present invention is characterized in that, in the claim 53, the core has a diameter set to 10 to 200 µm.

【0157】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項54の記載によれば、前記コアは、両
電極間での接続に必要な荷重が加えられた場合に、その
直径の変位量が5%以下となるような剛性を有している
事を特徴としている。
[0157] Further, according to the method of manufacturing an electric circuit component according to the present invention, according to claim 54, the core has a diameter which is smaller than that of the core when a load required for connection between both electrodes is applied. It is characterized by having rigidity such that the displacement amount is 5% or less.

【0158】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項55の記載によれば、前記コアは、両
電極間での接続に必要な荷重が加えられた場合に、その
直径の変位量が1%以下となるような剛性を有している
事を特徴としている。
[0158] According to the 55th aspect of the present invention, in the method for manufacturing an electric circuit component, the core has the same diameter as that of the core when a load required for connection between both electrodes is applied. It is characterized by having rigidity such that the amount of displacement is 1% or less.

【0159】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項56の記載によれば、前記導電被覆層
の凸凹の大きさが、Rmaxで接続される電極の膜厚の
10%以上であり、導電被覆層の膜厚の2倍以下である
ことを特徴としている。
Further, in the method for manufacturing an electric circuit component according to the present invention, according to claim 56, the size of the unevenness of the conductive coating layer is 10% or more of the film thickness of the electrode connected with Rmax. And is less than or equal to twice the film thickness of the conductive coating layer.

【0160】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項57の記載によれば、前記第2の工程
における前記導電ボールの加圧は、前記電気回路素子と
前記電気回路基板とを互いに近接させることにより実行
し、該電気回路素子の電極と該電気回路基板の電極との
距離が、前記導電ボールのコアの直径と実質的に等しく
なった時点で、前記近接動作を停止して、前記加圧動作
を終了することを特徴としている。
According to a 57th aspect of the present invention, in the method of manufacturing an electric circuit component, the pressing of the conductive ball in the second step is performed by the electric circuit element and the electric circuit board. By bringing the electrodes of the electric circuit element and the electrode of the electric circuit board into contact with each other, the proximity operation is stopped when the distance between the electrode of the electric circuit element and the electrode of the electric circuit board becomes substantially equal to the diameter of the core of the conductive ball. Then, the pressurizing operation is finished.

【0161】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項58の記載によれば、前記第3の工程
における前記導電ボールの加圧は、前記電気回路素子と
前記電気回路基板とを互いに近接させることにより実行
し、該電気回路素子の電極と該電気回路基板の電極との
距離が、前記導電ボールのコアの直径と実質的に等しく
なった時点で、前記近接動作を停止して、前記加圧動作
を終了することを特徴としている。
According to a fifty-eighth aspect of the present invention, in the method of manufacturing an electric circuit component, the pressing of the conductive balls in the third step is performed by the electric circuit element and the electric circuit board. By bringing the electrodes of the electric circuit element and the electrode of the electric circuit board into contact with each other substantially at the same time as the diameter of the core of the conductive ball, the proximity operation is stopped Then, the pressurizing operation is finished.

【0162】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項59の記載によれば、前記第4の工程
における前記導電ボールの加圧は、前記電気回路素子と
前記電気回路基板とを互いに近接させることにより実行
し、該電気回路素子の電極と該電気回路基板の電極との
距離が、前記導電ボールのコアの直径と実質的に等しく
なった時点で、前記近接動作を停止して、前記加圧動作
を終了することを特徴としている。
Further, according to the manufacturing method of the electric circuit component according to the present invention, according to claim 59, the pressing of the conductive ball in the fourth step is performed by the electric circuit element and the electric circuit board. By bringing the electrodes of the electric circuit element and the electrode of the electric circuit board into contact with each other, the proximity operation is stopped when the distance between the electrode of the electric circuit element and the electrode of the electric circuit board becomes substantially equal to the diameter of the core of the conductive ball. Then, the pressurizing operation is finished.

【0163】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項60の記載によれば、前記第6の工程
における前記導電ボールの加圧は、前記電気回路素子と
前記電気回路基板とを互いに近接させることにより実行
し、該電気回路素子の電極と該電気回路基板の電極との
距離が、前記導電ボールのコアの直径と実質的に等しく
なった時点で、前記近接動作を停止して、前記加圧動作
を終了することを特徴としている。
According to a 60th aspect of the present invention, in the method of manufacturing an electric circuit component, the pressing of the conductive balls in the sixth step is performed by the electric circuit element and the electric circuit board. By bringing the electrodes of the electric circuit element and the electrode of the electric circuit board into contact with each other, the proximity operation is stopped when the distance between the electrode of the electric circuit element and the electrode of the electric circuit board becomes substantially equal to the diameter of the core of the conductive ball. Then, the pressurizing operation is finished.

【0164】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項61の記載によれば、前記第7の工程
における前記導電ボールの加圧は、前記電気回路素子と
前記電気回路基板とを互いに近接させることにより実行
し、該電気回路素子の電極と該電気回路基板の電極との
距離が、前記導電ボールのコアの直径と実質的に等しく
なった時点で、前記近接動作を停止して、前記加圧動作
を終了することを特徴としている。
According to a sixty-first aspect of the present invention, in the method of manufacturing an electric circuit component, the pressing of the conductive balls in the seventh step is performed by the electric circuit element and the electric circuit board. By bringing the electrodes of the electric circuit element and the electrode of the electric circuit board into contact with each other, the proximity operation is stopped when the distance between the electrode of the electric circuit element and the electrode of the electric circuit board becomes substantially equal to the diameter of the core of the conductive ball. Then, the pressurizing operation is finished.

【0165】また、この発明に係わる電気回路部品の製
造方法は、請求項62の記載によれば、前記第9の工程
における前記導電ボールの加圧は、前記電気回路素子と
前記電気回路基板とを互いに近接させることにより実行
し、該電気回路素子の電極と該電気回路基板の電極との
距離が、前記導電ボールのコアの直径と実質的に等しく
なった時点で、前記近接動作を停止して、前記加圧動作
を終了することを特徴としている。
According to the method of manufacturing an electric circuit component according to the present invention, according to claim 62, the pressing of the conductive ball in the ninth step is performed by the electric circuit element and the electric circuit board. By bringing the electrodes of the electric circuit element and the electrode of the electric circuit board into contact with each other, the proximity operation is stopped when the distance between the electrode of the electric circuit element and the electrode of the electric circuit board becomes substantially equal to the diameter of the core of the conductive ball. Then, the pressurizing operation is finished.

【0166】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項63の記載によれば、電極部を有する電気回路素子
と、電極部を有する電気回路基板との、互いの電極部を
接続するための導電ボールにおいて、略ボール形状の剛
性を有するコアと、このコアの周囲に被覆された導電性
の被覆層とを具備する事を特徴としている。
According to the sixty-third aspect, the conductive ball according to the present invention is for connecting the electrode portions of the electric circuit element having the electrode portion and the electric circuit board having the electrode portion to each other. The conductive ball is characterized by including a core having a substantially ball-shaped rigidity and a conductive coating layer coated around the core.

【0167】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項64の記載によれば、前記導電ボールの導電被覆層
は、前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電
極部により圧接されて、該電気回路素子の電極部及び該
電気回路基板の電極部と電気的及び機械的に夫々接続さ
れている事を特徴としている。
According to a sixty-fourth aspect of the present invention, in the conductive ball according to the sixty-fourth aspect, the conductive coating layer of the conductive ball is pressed against the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board. It is characterized in that it is electrically and mechanically connected to the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board, respectively.

【0168】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項65の記載によれば、電極部を有する電気回路素子
と、電極部を有する電気回路基板との、互いの電極部を
接続するための導電ボールにおいて、剛性の高い金属材
料及び無機材料の少なくとも一方からなる略球状の形状
を有するコアと、電導性を有した材料により形成され、
上記コアの周囲に被覆される導電被覆層とを具備するこ
とを特徴としている。
According to the sixty-fifth aspect, the conductive ball according to the present invention is for connecting the electrode portions of the electric circuit element having the electrode portion and the electric circuit board having the electrode portion to each other. In the conductive ball, a core having a substantially spherical shape made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material, and formed of a material having electrical conductivity,
And a conductive coating layer coated around the core.

【0169】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項66の記載によれば、前記導電ボールの導電被覆層
は、前記電気回路素子の電極部及び前記電気回路基板の
電極部と、夫々を構成している材料を金属化及び/又は
合金化して接続されている事を特徴としている。
According to a sixty-sixth aspect of the present invention, in the conductive ball, the conductive coating layer of the conductive ball includes an electrode portion of the electric circuit element and an electrode portion of the electric circuit board, respectively. It is characterized in that the constituent materials are metalized and / or alloyed to be connected.

【0170】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項67の記載によれば、前記導電被覆層の外周面は、
滑らかな曲面状に形成されていることを特徴としてい
る。
According to the sixty-seventh aspect of the present invention, in the conductive ball according to the present invention, the outer peripheral surface of the conductive coating layer is:
It is characterized by being formed into a smooth curved surface.

【0171】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項68の記載によれば、前記コアの外周面は、滑らか
な曲面状に形成されていることを特徴としている。
According to a sixty-eighth aspect of the present invention, the conductive ball according to the present invention is characterized in that the outer peripheral surface of the core is formed into a smooth curved surface.

【0172】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項69の記載によれば、前記導電被覆層の外周面は、
凸凹状に形成されている事を特徴としている。
According to a sixty-ninth aspect of the present invention, in the conductive ball according to the present invention, the outer peripheral surface of the conductive coating layer is:
The feature is that it is formed in an uneven shape.

【0173】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項70によれば、前記導電被覆層の内周面は、凸凹状
に形成されていることを特徴としている。
The conductive ball according to the present invention is characterized in that, according to claim 70, the inner peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.

【0174】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項71の記載によれば、前記コアの外周面は、凸凹状
に形成されていることを特徴としている。
According to a seventy-first aspect of the present invention, the conductive ball according to the present invention is characterized in that the outer peripheral surface of the core is formed in an uneven shape.

【0175】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項72の記載によれば、前記導電被覆層は、電気抵抗
率が1.6E−8乃至10E−8Ω・mの物質から形成
されていることを特徴としている。
In the conductive ball according to the present invention, according to claim 72, the conductive coating layer is made of a material having an electric resistivity of 1.6E-8 to 10E-8Ω · m. It is characterized by that.

【0176】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項73の記載によれば、前記導電被覆層は、その膜厚
を1乃至50μmに設定されていることを特徴としてい
る。
The conductive ball according to the present invention, according to claim 73, is characterized in that the conductive coating layer has a thickness of 1 to 50 μm.

【0177】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項74の記載によれば、前記導電被覆層は、その膜厚
を3乃至20μmに設定されていることを特徴としてい
る。
According to the seventy-fourth aspect of the present invention, the conductive ball according to the present invention is characterized in that the conductive coating layer has a thickness of 3 to 20 μm.

【0178】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項75の記載によれば、前記コアは、その直径を3乃
至500μmに設定されていることを特徴としている。
According to a seventy-fifth aspect of the present invention, in the conductive ball according to the present invention, the core has a diameter set to 3 to 500 μm.

【0179】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項76の記載によれば、前記コアは、その直径を10
乃至200μmに設定されていることを特徴としてい
る。
According to the 76th aspect of the present invention, in the conductive ball according to the present invention, the core has a diameter of 10 mm.
To 200 μm.

【0180】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項77の記載によれば、前記コアは、両電極間での接
続に必要な荷重が加えられた場合に、その直径の変位量
が5%以下となるような剛性を有している事を特徴とし
ている。
According to the 77th aspect of the present invention, in the conductive ball according to the 77th aspect, the core has a displacement amount of 5 when the load required for connection between the two electrodes is applied. It is characterized by having rigidity such that it is less than or equal to%.

【0181】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項78の記載によれば、前記コアは、両電極間での接
続に必要な荷重が加えられた場合に、その直径の変位量
が1%以下となるような剛性を有している事を特徴とし
ている。
According to the 78th aspect of the present invention, according to the 78th aspect of the present invention, the core has a displacement amount of 1 when the load required for connection between the two electrodes is applied. It is characterized by having rigidity such that it is less than or equal to%.

【0182】また、この発明に係わる導電ボールは、請
求項79の記載によれば、前記導電被覆層の凸凹の大き
さが、Rmaxで接続される電極の膜厚の10%以上で
あり、導電被覆層の膜厚の2倍以下であることを特徴と
している。
According to claim 79, in the conductive ball according to the present invention, the size of the unevenness of the conductive coating layer is 10% or more of the film thickness of the electrode connected at Rmax, It is characterized in that it is not more than twice the film thickness of the coating layer.

【0183】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項80の記載によれば、電極部を有する電気回路素
子と、電極部を有する電気回路基板との、互いの電極部
を接続するために用いられる導電接続部材において、略
ボール形状の剛性を有するコアの周囲に導電性の被覆層
が設けられた少なくとも1つの導電ボールと、前記導電
ボールを埋設保持する保持シートであって、電気的絶縁
性を有する材料から形成され、一方の面より該導電ボー
ルの一部が突出して露出し、他方の面から該導電ボール
の一部が突出して露出するように、該導電ボールを保持
する保持シートとを具備することを特徴としている。
The conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 80, in the conductive connection member used for connecting the electrode portions of the electric circuit element having the electrode portion and the electric circuit board having the electrode portion, a substantially ball-shaped rigidity is provided. At least one conductive ball having a conductive coating layer provided around the core, and a holding sheet for embedding and holding the conductive ball, the holding sheet being formed of a material having electrical insulation, A holding sheet for holding the conductive balls is provided so that a part of the conductive balls projects and is exposed and a part of the conductive balls projects and is exposed from the other surface.

【0184】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項81の記載によれば、前記導電ボールは、前記電
気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部により
圧接されて、該電気回路素子の電極部と前記保持シート
の一方の面より突出する該導電ボールの被覆層の部分と
の間、及び、該電気回路基板の電極部と前記保持シート
の他方の面より突出する該導電ボールの被覆層の部分と
の間が電気的及び機械的に接続される事を特徴としてい
る。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 81, the conductive ball is pressure-contacted by the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board, and the conductive ball is pressed from the electrode portion of the electric circuit element and one surface of the holding sheet. Electrically and mechanically between the protruding portion of the conductive ball covering layer and between the electrode portion of the electric circuit board and the protruding portion of the conductive ball covering layer from the other surface of the holding sheet. The feature is that they are connected to each other.

【0185】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項82の記載によれば、電極部を有する電気回路素
子と、電極部を有する電気回路基板との、互いの電極部
を接続するために用いられる導電接続部材において、剛
性の高い金属材料及び無機材料の少なくとも一方からな
る略球状の形状を有するコアと、電導性を有した材料に
より形成され、上記コアの周囲に被覆される導電被覆層
とを有する導電ボールと、前記導電ボールを少なくとも
1以上埋設保持する保持シートであって、電気的絶縁性
を有する材料から形成され、一方の面より該導電ボール
の一部が突出して露出し、他方の面から該導電ボールの
一部が突出して露出するように、該導電ボールを保持す
る保持シートとを具備することを特徴としている。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 82, in the conductive connecting member used for connecting the electrode portions of the electric circuit element having the electrode portion and the electric circuit board having the electrode portion, a metal material having high rigidity and A conductive ball having a substantially spherical core made of at least one of inorganic materials, and a conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and covering the core, and at least one conductive ball. A holding sheet for embedding and holding as described above, which is formed of a material having an electrical insulating property, in which a part of the conductive ball projects and is exposed from one surface, and a part of the conductive ball projects from the other surface. And a holding sheet for holding the conductive balls so as to be exposed.

【0186】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項83の記載によれば、前記導電ボールは、前記電
気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部により
圧接されて、該電気回路素子の電極部と前記保持シート
の一方の面より突出する該導電ボールの被覆層の部分と
の間、及び、該電気回路基板の電極部と前記保持シート
の他方の面より突出する該導電ボールの被覆層の部分と
の間が電気的及び機械的に接続される事を特徴としてい
る。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 83, the conductive ball is pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board, and the conductive ball is pressed from the electrode portion of the electric circuit element and one surface of the holding sheet. Electrically and mechanically between the protruding portion of the conductive ball covering layer and between the electrode portion of the electric circuit board and the protruding portion of the conductive ball covering layer from the other surface of the holding sheet. The feature is that they are connected to each other.

【0187】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項84の記載によれば、前記導電ボールの導電被覆
層は、前記電気回路素子の電極部及び前記電気回路基板
の電極部と、夫々を構成している材料を金属化及び/又
は合金化して接続されている事を特徴としている。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to the description of claim 84, the conductive coating layer of the conductive balls is formed by metallizing and / or alloying the material forming the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board. It is characterized by being connected by.

【0188】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項85の記載によれば、前記導電被覆層の外周面
は、滑らかな曲面状に形成されていることを特徴として
いる。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 85, the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed into a smooth curved surface.

【0189】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項86の記載によれば、前記コアの外周面は、滑ら
かな曲面状に形成されていることを特徴としている。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 86, the outer peripheral surface of the core is formed into a smooth curved surface.

【0190】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項87の記載によれば、前記導電被覆層の外周面
は、凸凹状に形成されている事を特徴としている。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 87, the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.

【0191】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項88の記載によれば、前記導電被覆層の内周面
は、凸凹状に形成されていることを特徴としている。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 88, the inner peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.

【0192】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項89の記載によれば、前記コアの外周面は、凸凹
状に形成されていることを特徴としている。
The conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 89, the outer peripheral surface of the core is formed in an uneven shape.

【0193】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項90の記載によれば、前記導電被覆層は、電気抵
抗率が1.6E−8乃至10E−8Ω・mの物質から形
成されていることを特徴としている。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to a 90th aspect, the conductive coating layer is formed of a material having an electric resistivity of 1.6E-8 to 10E-8Ω · m.

【0194】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項91の記載によれば、前記導電被覆層は、その膜
厚を1乃至50μmに設定されていることを特徴として
いる。
The conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 91, the conductive coating layer has a thickness set to 1 to 50 μm.

【0195】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項92の記載によれば、前記導電被覆層は、その膜
厚を3乃至20μmに設定されていることを特徴として
いる。
The conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 92, the conductive coating layer has a thickness set to 3 to 20 μm.

【0196】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項93の記載によれば、前記コアは、その直径を3
乃至500μmに設定されていることを特徴としてい
る。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 93, the core has a diameter of 3
To 500 μm.

【0197】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項94の記載によれば、前記コアは、その直径を1
0乃至200μmに設定されていることを特徴としてい
る。
The conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 94, the core has a diameter of 1
It is characterized by being set to 0 to 200 μm.

【0198】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項95の記載によれば、前記コアは、両電極間での
接続に必要な荷重が加えられた場合に、その直径の変位
量が5%以下となるような剛性を有している事を特徴と
している。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 95, the core has a rigidity such that the displacement amount of the diameter thereof is 5% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. Is characterized by.

【0199】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項96の記載によれば、前記コアは、両電極間での
接続に必要な荷重が加えられた場合に、その直径の変位
量が1%以下となるような剛性を有している事を特徴と
している。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 96, the core has rigidity such that the displacement amount of the diameter thereof is 1% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. Is characterized by.

【0200】また、この発明に係わる導電接続部材は、
請求項97の記載によれば、前記導電被覆層の凸凹の大
きさが、Rmaxで接続される電極の膜厚の10%以上
であり、導電被覆層の膜厚の2倍以下であることを特徴
としている。
Further, the conductive connecting member according to the present invention is
According to claim 97, the size of the unevenness of the conductive coating layer is 10% or more of the film thickness of the electrodes connected at Rmax, and is not more than twice the film thickness of the conductive coating layer. It has a feature.

【0201】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項98の記載によれば、電極部を有する
電気回路素子と、電極部を有する電気回路基板との、互
いの電極部を接続するために用いられる導電接続部材の
製造方法において、略ボール形状の剛性を有するコアの
周囲に導電性の被覆層が設けられた少なくとも1つの導
電ボールを、下型及び上型を両者が所定間隔だけ離間し
た状態で挟持する第1の工程と、前記下型及び上型の間
に、合成樹脂を充填する第2の工程と、前記下型及び上
型から成形材を離型させる第3の工程と、離型した成形
材の上下両面をエッチングして、合成樹脂製の保持シー
トの上下両面から、前記導電ボールの上部及び下部が夫
々突出して露出させる第4の工程とを具備することを特
徴としている。
Further, according to the method of manufacturing a conductive connecting member according to the present invention, the electric circuit element having the electrode portion and the electric circuit board having the electrode portion are provided with a mutual electrode portion. In a method of manufacturing a conductive connecting member used for connecting, at least one conductive ball provided with a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity, and a lower mold and an upper mold are both predetermined. A first step of sandwiching in a state of being separated by an interval, a second step of filling a synthetic resin between the lower mold and the upper mold, and a third step of releasing a molding material from the lower mold and the upper mold. And a fourth step of etching the upper and lower surfaces of the released molding material to expose the upper and lower portions of the conductive ball so as to project from the upper and lower surfaces of the synthetic resin holding sheet, respectively. Is characterized by.

【0202】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項99の記載によれば、電極部を有する
電気回路素子と、電極部を有する電気回路基板との、互
いの電極部を接続するために用いられる導電接続部材の
製造方法において、略ボール形状の剛性を有するコアの
周囲に導電性の被覆層が設けられた少なくとも1つの導
電ボールの下部を下型の第1の凹所内に載置する第1の
工程と、前記下型の第1の凹所に対応した第2の凹所が
形成された上型を、この第2の凹所内に前記導電ボール
の上部が収納されるように被せる第2の工程と、前記下
型及び上型の間に、合成樹脂を充填する第3の工程と、
前記下型及び上型から成形材を離型させる第4の工程
と、離型した成形材の上下両面をエッチングして、合成
樹脂製の保持シートの上下両面から、前記導電ボールの
上部及び下部が夫々突出して露出させる第5の工程とを
具備することを特徴としている。
According to the method of manufacturing a conductive connecting member according to the present invention, according to claim 99, the electric circuit element having the electrode portion and the electric circuit board having the electrode portion are provided with the respective electrode portions. In a method of manufacturing a conductive connecting member used for connecting, a lower portion of at least one conductive ball provided with a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity is placed in a first recess of a lower mold. A first step of mounting the upper mold on which a second recess corresponding to the first recess of the lower mold is formed, and the upper part of the conductive ball is housed in the second recess. And a third step of filling a synthetic resin between the lower mold and the upper mold,
A fourth step of releasing the molding material from the lower mold and the upper mold, and etching the upper and lower surfaces of the released molding material to form upper and lower parts of the conductive ball from the upper and lower surfaces of the synthetic resin holding sheet. And a fifth step of exposing each of them so as to be exposed.

【0203】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項100の記載によれば、前記第1及び
第2の凹部は、前記導電ボールの半径よりも小さい深さ
を有するように形成されていることを特徴としている。
According to the method of manufacturing a conductive connecting member according to the present invention, according to claim 100, the first and second recesses have a depth smaller than a radius of the conductive ball. It is characterized by being formed.

【0204】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項101の記載によれば、前記導電被覆
層の外周面は、滑らかな曲面状に形成されていることを
特徴としている。
According to the method of manufacturing a conductive connecting member of the present invention, the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed into a smooth curved surface.

【0205】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項102の記載によれば、前記コアの外
周面は、滑らかな曲面状に形成されていることを特徴と
している。
According to the method of manufacturing a conductive connecting member of the present invention, the outer peripheral surface of the core is formed into a smooth curved surface.

【0206】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項103の記載によれば、前記導電被覆
層の外周面は、凸凹状に形成されている事を特徴として
いる。
According to the method of manufacturing a conductive connecting member according to the present invention, according to claim 103, the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.

【0207】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項104の記載によれば、前記導電被覆
層の内周面は、凸凹状に形成されていることを特徴とし
ている。
Further, according to the method of manufacturing a conductive connecting member according to the present invention, the inner peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.

【0208】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項105の記載によれば、前記コアの外
周面は、凸凹状に形成されていることを特徴としてい
る。
Further, according to the method of manufacturing a conductive connecting member according to the present invention, the outer peripheral surface of the core is formed in an uneven shape.

【0209】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項106の記載によれば、前記導電被覆
層は、電気抵抗率が1.6E−8乃至10E−8Ω・m
の物質から形成されていることを特徴としている。
According to the method of manufacturing a conductive connecting member according to the present invention, according to claim 106, the conductive coating layer has an electric resistivity of 1.6E-8 to 10E-8Ω · m.
It is characterized by being formed from the substance of.

【0210】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項107の記載によれば、前記導電被覆
層は、その膜厚を1乃至50μmに設定されていること
を特徴としている。
[0210] The method for manufacturing a conductive connecting member according to the present invention is characterized in that, in claim 107, the conductive coating layer has a thickness of 1 to 50 µm.

【0211】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項108の記載によれば、前記導電被覆
層は、その膜厚を3乃至20μmに設定されていること
を特徴としている。
[0211] Further, the manufacturing method of the conductive connecting member according to the present invention is characterized in that, in claim 108, the conductive coating layer has a thickness of 3 to 20 µm.

【0212】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項109の記載によれば、前記コアは、
その直径を3乃至500μmに設定されていることを特
徴としている。
According to the method of manufacturing a conductive connecting member according to the present invention, the core is
The feature is that the diameter is set to 3 to 500 μm.

【0213】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項110の記載によれば、前記コアは、
その直径を10乃至200μmに設定されていることを
特徴としている。
According to the method of manufacturing a conductive connecting member of the present invention, the core is
The feature is that the diameter is set to 10 to 200 μm.

【0214】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項111の記載によれば、前記コアは、
両電極間での接続に必要な荷重が加えられた場合に、そ
の直径の変位量が5%以下となるような剛性を有してい
る事を特徴としている。
Further, according to the method of manufacturing a conductive connecting member according to the present invention, according to claim 111, the core is
It is characterized by having rigidity such that the displacement amount of the diameter becomes 5% or less when a load required for connection between both electrodes is applied.

【0215】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項112の記載によれば、前記コアは、
両電極間での接続に必要な荷重が加えられた場合に、そ
の直径の変位量が1%以下となるような剛性を有してい
る事を特徴としている。
Further, according to the method of manufacturing a conductive connecting member according to the present invention, according to claim 112, the core is
It is characterized by having rigidity such that the displacement amount of the diameter becomes 1% or less when a load required for connection between both electrodes is applied.

【0216】また、この発明に係わる導電接続部材の製
造方法は、請求項113の記載によれば、前記導電被覆
層の凸凹の大きさが、Rmaxで接続される電極の膜厚
の10%以上であり、導電被覆層の膜厚の2倍以下であ
ることを特徴としている。以下に、この出願に係わる発
明の要旨を、詳細に説明する。
Further, in the method for manufacturing a conductive connecting member according to the present invention, according to claim 113, the size of the unevenness of the conductive coating layer is 10% or more of the film thickness of the electrode connected with Rmax. And is less than or equal to twice the film thickness of the conductive coating layer. The gist of the invention related to this application will be described in detail below.

【0217】この発明における電気回路素子としては、
例えば、半導体材料に電気回路が形成された半導体素子
(ダイオード、IC、LSI等)及びこれらを内蔵した
パッケージ等があげられる。
As an electric circuit element in the present invention,
For example, a semiconductor element (diode, IC, LSI, etc.) in which an electric circuit is formed in a semiconductor material, a package incorporating these, and the like can be given.

【0218】更に、半導体素子としては、光電変換機能
を有するもの(フォトディテクター、CCD等の受光セ
ンサー、LED、LD、面発光LD等の発光素子、及び
これらの複合体)であれば、この発明の効果が顕著に現
れる。
If the semiconductor element has a photoelectric conversion function (a photodetector, a light receiving sensor such as a CCD, a light emitting element such as an LED, an LD, a surface emitting LD, or a composite thereof), the present invention can be used. The effect of appears remarkably.

【0219】これらの電気回路素子は、いずれも外部と
の電気的接続を行う電極部をもっており、その電極部の
数及び形状については、この発明では問わない。しか
し、その数が多ければ多いほどこの発明の効果が顕著と
なる。また、電極部の存在位置も問わないが、電気回路
素子の内部に存在するほど、この発明の効果が顕著とな
る。
Each of these electric circuit elements has an electrode portion for electrically connecting to the outside, and the number and shape of the electrode portions are not limited in the present invention. However, the greater the number, the more remarkable the effect of the present invention. Further, the existence position of the electrode portion does not matter, but the effect of the present invention becomes more remarkable as it exists inside the electric circuit element.

【0220】電気回路基板としては、絶縁性材料あるい
は金属表面を絶縁処理した基板上に導電性材料による配
線パターンが設けられた例えば、プリント回路基板、セ
ラミック基板、ガラス基板、メタルコア基板、フレキシ
ブル基板、ガラスエポキシ基板、シリコン基板等があげ
られる。更に、その基板が光を透過させる部分を有して
いれば、電気回路素子として受光素子あるいは発光素子
と組み合わせ、この発明の効果がより顕著となる。
As the electric circuit board, for example, a printed circuit board, a ceramic board, a glass board, a metal core board, a flexible board, in which a wiring pattern made of an electrically conductive material is provided on an insulating material or a metal surface of which is insulation-treated, Examples include glass epoxy substrates and silicon substrates. Furthermore, if the substrate has a portion that transmits light, the effect of the present invention becomes more remarkable by combining it with a light receiving element or a light emitting element as an electric circuit element.

【0221】そして、配線パターンは、電気回路素子の
それぞれの電極部の配置に対応する位置に接続するため
の電極部が設けられている。更に、この電極部以外の配
線パターン上に絶縁材料からなる保護膜が設けられてい
てもこの発明では問題を生じない。また、電気回路基板
がその内部に多層の配線パターンを有していても、この
発明では問題としない。
The wiring pattern is provided with electrode portions for connecting to the positions corresponding to the arrangement of the electrode portions of the electric circuit element. Further, even if a protective film made of an insulating material is provided on the wiring pattern other than the electrode portion, the present invention does not cause a problem. Further, even if the electric circuit board has a multilayer wiring pattern therein, there is no problem in the present invention.

【0222】電気回路素子及び電気回路基板に設けられ
たこれらの電極部は、その電極材が大気中に露出してい
るため、その電極表面には、電極材の酸化膜及び吸着し
た汚染物質による汚染皮膜(例えば、ゴミ、有機物、硫
化物等)が変形されている。これらの膜は、電子及び原
子の移動を妨げる障壁となり、接続材との金属化及びま
たは合金化による接続を妨げ、接続不良を発生させるた
め、接続時に破壊しなければならない。
Since the electrode material of these electrode portions provided on the electric circuit element and the electric circuit board is exposed to the atmosphere, the electrode surface is exposed to the oxide film of the electrode material and the adsorbed contaminants. The contamination film (for example, dust, organic matter, sulfide, etc.) is deformed. These films serve as a barrier to prevent the movement of electrons and atoms, hinder the connection by metallization and / or alloying with the connecting material, and cause a connection failure. Therefore, these films must be destroyed at the time of connection.

【0223】しかしながら、この発明では、電気回路素
子の電極部と電気回路基板の電極部とを導電ボールを接
続材として用いて金属化及びまたは合金化によりそれぞ
れを接続するよう設定されている。ここで、金属化及び
または合金化による接続とは、金属の融点以下の温度で
接合する接続、すなわち、接続時に少なくとも固溶相を
有する接合である。接続時の加熱温度としては、100
〜400℃であり、加熱方法としては公知の方法が使用
できる。例えば、熱圧着方法、超音波併用熱圧着方法、
高周波加熱方法、誘導加熱方法等が使用できる。
However, in the present invention, the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board are set to be connected by metalization and / or alloying using the conductive balls as the connecting material. Here, the connection by metalization and / or alloying is a connection for joining at a temperature equal to or lower than the melting point of the metal, that is, a joint having at least a solid solution phase at the time of joining. The heating temperature during connection is 100
The temperature is up to 400 ° C, and a known method can be used as the heating method. For example, a thermocompression bonding method, an ultrasonic combined thermocompression bonding method,
A high frequency heating method, an induction heating method and the like can be used.

【0224】この発明における導電ボールは、剛性の高
い金属材料あるいはまた無機材料の一方または両方から
なる略球状の形状を有するコアと、上記コアの周囲を少
なくとも露出する表面が導電性を有した材料により被覆
された導電被覆層により構成されている。
The conductive ball according to the present invention comprises a core having a substantially spherical shape made of one or both of a metal material having a high rigidity and / or an inorganic material, and a material having a conductive surface at least exposing the periphery of the core. It is composed of a conductive coating layer coated with.

【0225】コアは、剛性の高い材料からなる。 剛性
(こわさ)とは、ある物体に荷重Pが加わった場合、そ
の物体の変移する変位置uとすると、u=αPとなる。
弾性体ではuはPに比例する。この比例常数αの逆数1
/αを剛性(こわさ)とよぶ。(p.p.291,機械
用語辞典,(株)コロナ社,1972年)つまり、荷重
に対して変形する量が小さければ剛性が高い(大きい)
ことになる。
The core is made of a material having high rigidity. The rigidity (stiffness) is u = αP, where u is a displacement position u where the object moves when a load P is applied to the object.
In an elastic body, u is proportional to P. Reciprocal 1 of this proportional constant α
/ Α is called rigidity. (Pp.291, Dictionary of Machine Terms, Corona Co., Ltd., 1972) That is, the smaller the amount of deformation with respect to the load, the higher the rigidity (large).
Will be.

【0226】この発明における剛性の高さとしては、接
続に必要な荷重が加わった際、例えば、弾性体であると
仮定すると初期のコア直径寸法に対しその変位量が5%
以下しか変形しないことをいう。尚、この発明の場合、
このコアの変形が少ないほど好ましく、変位量としては
1%以下がより望ましい。
The rigidity of the present invention is such that, when a load required for connection is applied, for example, assuming that it is an elastic body, its displacement amount is 5% with respect to the initial core diameter dimension.
It means that only the following changes. In the case of this invention,
The less the core is deformed, the more preferable, and the displacement amount is more preferably 1% or less.

【0227】例えば、コアの直径がφ10〜100μm
のとき、接続に必要な1導電ボールあたりの荷重(1g
〜200g)及び加熱(100〜400℃)が加えられ
た際、初期の形状寸法に対して変形量が1%以下しか変
形することのない剛性の高い材料としては、以下のよう
なものがある。
For example, the diameter of the core is φ10 to 100 μm
, The load per conductive ball required for connection (1 g
˜200 g) and heating (100 to 400 ° C.), the following materials are highly rigid materials that deform less than 1% with respect to the initial shape and size. .

【0228】例えば、金属材料としては、炭素鋼、モリ
ブデン鋼、マンガンモリブデン鋼、マンガンモリブデン
ニッケル鋼、ニッケル鋼、クロムモリブデン鋼、ニッケ
ルクロムモリブデン鋼、マンガン鋼、マンガンクロム
鋼、ステンレス鋼、W、Mo、Ti、Taの1種または
2種以上の合金が挙げられる。
For example, as the metal material, carbon steel, molybdenum steel, manganese molybdenum steel, manganese molybdenum nickel steel, nickel steel, chrome molybdenum steel, nickel chrome molybdenum steel, manganese steel, manganese chrome steel, stainless steel, W, Mo is used. , Ti, Ta, and one or more alloys.

【0229】一方、無機材料としては、Si、SiO
2、Al2O3、AlN、c−BN、ダイヤ、青ガラス
(ソーダガラス)、白ガラスやW、Mo、Ti、Ta等
の炭化物、窒化物、ホウ化物、ケイ化物等がある。更
に、これらの複合体もコアの材料として使用できる。
On the other hand, as the inorganic material, Si or SiO
2, Al2O3, AlN, c-BN, diamond, blue glass (soda glass), white glass, carbides such as W, Mo, Ti, Ta, etc., nitrides, borides, silicides, and the like. Furthermore, these composites can also be used as the material of the core.

【0230】コアが金属材料の時には、コアも導電経路
とすることができるため、接続抵抗の低減により許容電
流を大きくすることができ、コアが、無機材料である時
には、電気回路素子及び電気回路基板の熱膨張係数と近
い熱膨張係数となることで接続部に係る熱応力の緩和を
図ることができる。
When the core is made of a metal material, the core can also serve as a conductive path, so that the allowable current can be increased by reducing the connection resistance. When the core is made of an inorganic material, the electric circuit element and the electric circuit can be made. Since the thermal expansion coefficient is close to the thermal expansion coefficient of the substrate, the thermal stress related to the connection portion can be relaxed.

【0231】また、コアの形状としては、球が以下の理
由により望ましい。(1)平面と常に点接触する。
(2)3次元で対象な形状を持つため、配置する際の制
約がない。(3)エッジ部がないため、表面を均一に被
覆できる。(4)中央部の断面積が一番大きく、加圧し
た際に座屈しにくい。
As the shape of the core, a sphere is desirable for the following reasons. (1) Always make point contact with a plane.
(2) Since there is a three-dimensional target shape, there are no restrictions when arranging. (3) Since there is no edge portion, the surface can be covered uniformly. (4) The central part has the largest cross-sectional area and is less likely to buckle when pressed.

【0232】尚、コアの大きさは、接続される電極部の
大きさにより、直径3〜500μmまでの任意のサイズ
を選択することが可能であるが、直径10μm〜200
μmが半導体素子の電極間ピッチ(80μm〜300μ
m)の点からより望ましい。
[0232] The size of the core can be selected from a diameter of 3 to 500 µm, depending on the size of the electrode portion to be connected, but a diameter of 10 to 200 µm.
μm is the pitch between the electrodes of the semiconductor element (80 μm to 300 μm
It is more desirable from the point of m).

【0233】最少サイズの3μmは、通常半導体素子表
面を覆っているSiO2またはSixN1−xからなる絶縁
層の厚みが約1μmあり、この厚み分電極面は、最低で
も半導体素子表面から落ち込んでいる。そこで、同様の
構成からなる回路基板と接合する場合、最低でも半導体
素子表面と回路基板表面に1μmの間隔をあけ、半導体
素子がその側端部で短絡することを防ぐ大きさである。
With the minimum size of 3 μm, the thickness of the insulating layer made of SiO 2 or Six N 1 -x that normally covers the surface of the semiconductor element is about 1 μm, and the electrode surface is depressed from the surface of the semiconductor element by at least this thickness. Therefore, in the case of joining to a circuit board having the same structure, a distance of at least 1 μm is provided between the surface of the semiconductor element and the surface of the circuit board to prevent the semiconductor element from being short-circuited at its side end.

【0234】一方、最大サイズの500μmとしては、
半導体素子と接続する基板として、プリント基板を用い
た場合、容易に配線を形成でき、接続することができる
大きさとした。
On the other hand, for the maximum size of 500 μm,
When a printed circuit board is used as a substrate to be connected to the semiconductor element, the size is such that wiring can be easily formed and connection can be made.

【0235】コアの直径のばらつきとしては、通常直径
の1%〜10%程度のものを、接続する対称にあわせた
設計の中で任意に選択して使用する。 更に、このコア
に対してより精度の高い分級を行うことにより、選択さ
れたコアの直径に対し±1μm〜±2μm以下の非常に
シャープな粒度分布を持つコアを実現することができ
る。
As the variation in the diameter of the core, one having a diameter of about 1% to 10% of the diameter is usually selected and used in a design matching the connection symmetry. Furthermore, by classifying this core with higher accuracy, a core having a very sharp particle size distribution of ± 1 μm to ± 2 μm or less with respect to the diameter of the selected core can be realized.

【0236】コアの表面を被覆する導電被覆層は、その
導電被覆層表面において電極部と接触し電気的接続を行
うと共に、電極材料と金属化及びまたは合金化して機械
的に接続するため、金属材料からなる。更に、この導電
被覆層は、接続時の加圧及び加熱により容易に変形し、
その移動に伴う電極との摩擦により、電極表面の自然酸
化膜及び汚染皮膜を破壊し、電極の真性面を露出させる
ため、加圧により容易に変形し易い柔らかい金属が好ま
しい。
The conductive coating layer for coating the surface of the core is in contact with the electrode portion on the surface of the conductive coating layer for electrical connection, and at the same time, metallized and / or alloyed with the electrode material for mechanical connection. Made of material. Furthermore, this conductive coating layer is easily deformed by pressure and heat during connection,
Friction with the electrode due to the movement destroys the natural oxide film and the contaminated film on the surface of the electrode and exposes the intrinsic surface of the electrode, so a soft metal that is easily deformed by pressure is preferable.

【0237】このような金属材料としては、電気抵抗率
と安定性と柔らかさの点で金が好ましいが、金以外の任
意の金属あるいは合金であっても使用することができ
る。例えば、Cu、Al、In、Sn、Pb、Ag及び
これらを主成分とする合金等があげられる。
As such a metal material, gold is preferable in terms of electric resistivity, stability and softness, but any metal or alloy other than gold can be used. Examples thereof include Cu, Al, In, Sn, Pb, Ag, and alloys containing these as the main components.

【0238】更に、導電被覆層は、複数の層から形成さ
れていても、表面に露出する層が上記の特性を有してい
ればかまわない。例えば、コアとの密着を図るための密
着層としてのPd、Ti、Cr、Ni及びこれらを主成
分とする合金、更に、密着層と表面に露出する金属層と
の拡散を防ぐバリア層としてのNi、Pt、AgW、P
d及びこれらを主成分とする合金などが設けられていて
も問題ない。
Further, the conductive coating layer may be formed of a plurality of layers as long as the layer exposed on the surface has the above characteristics. For example, Pd, Ti, Cr, Ni and alloys containing these as the main components as an adhesion layer for achieving adhesion with the core, and further as a barrier layer for preventing diffusion of the adhesion layer and the metal layer exposed on the surface. Ni, Pt, AgW, P
There is no problem even if d and an alloy containing them as a main component are provided.

【0239】これらの材料は、コアの表面に電解あるい
は無電解メッキ、あるいは蒸着により設けることで導電
被覆層を形成する。それぞれの電極部と接続する部分以
外の領域では、コア表面に設けられた導電被覆層に被覆
時のばらつきによる多少の欠損部が存在しても、導電経
路として接続する電極間が導電可能であれば、問題とし
ない。尚、この導電被覆層の電気抵抗率は、1.6E−
8乃至10E−8Ω・mであることが好ましい。
These materials form a conductive coating layer on the surface of the core by electrolytic or electroless plating or vapor deposition. In the area other than the area connected to each electrode part, even if there are some defects in the conductive coating layer provided on the core surface due to variations in coating, it is possible to conduct electricity between the electrodes connected as conductive paths. If it doesn't matter. The electric resistivity of this conductive coating layer is 1.6E-
It is preferably 8 to 10E-8Ω · m.

【0240】この導電被覆層の厚みとしては、1μm〜
50μmまでの厚みについて、接続する電極部の構造及
び用いるコアの直径、被覆する金属材料との関係により
任意に選択することが可能である。半導体素子との接続
を行うためには、3〜20μm程度が半導体素子の電極
部膜厚及び使用するコア直径の点からより望ましい。た
だし、その厚みとしては、コア直径のばらつきにより接
続した際、半導体素子が傾き、十分な接続が行われない
ことを防ぐため、コアの直径のばらつき幅より厚いこと
が接続する上で好ましい。
The thickness of this conductive coating layer is from 1 μm to
The thickness up to 50 μm can be arbitrarily selected depending on the structure of the electrode part to be connected, the diameter of the core used, and the metal material to be coated. In order to make a connection with a semiconductor element, about 3 to 20 μm is more desirable from the viewpoint of the electrode portion film thickness of the semiconductor element and the core diameter to be used. However, the thickness is preferably thicker than the width of variation in the diameter of the core in order to prevent the semiconductor element from being tilted and not being sufficiently connected when the connection is made due to the variation in the core diameter.

【0241】ここで、導電被覆層の最小膜厚の1μm
は、半導体素子の電極部であるアルミ膜厚が通常1μm
程度であり、金属化及び合金化を行うために、同程度以
上の厚みを必要とするためである。一方、最大膜厚の5
0μmは、コア直径として最大の500μmを用いた場
合における電極間距離が長くなっても、導電経路として
十分な断面積を持つことにより、通電時の温度上昇を防
ぐためである。
Here, the minimum film thickness of the conductive coating layer is 1 μm.
Is usually 1 μm in thickness of aluminum, which is the electrode part of the semiconductor element.
This is because the metallization and alloying require the same or more thickness. On the other hand, the maximum film thickness of 5
The reason for 0 μm is to prevent a temperature rise during energization by having a sufficient cross-sectional area as a conductive path even if the inter-electrode distance becomes long when the maximum core diameter is 500 μm.

【0242】このような構成からなる導電ボールは、コ
アの分級及び必要であれば導電被覆層を形成した後の分
級を施すことによりその形状が極めて均一となる。
The conductive balls having such a structure have a very uniform shape by classification of the core and, if necessary, classification after forming the conductive coating layer.

【0243】この均一な導電ボールを接続する電極間に
挟んで、加圧することで、まず、電極と点接触している
導電被覆層の点接触点で大きな圧力が発生し、導電被覆
層及び電極が変形を始める。このとき、コアは剛性が高
くほとんど変形しないため、加圧力は導電被覆層及び電
極の変形に集中して係ることになる。更に、球形状のコ
アは、電極部を有する平面に対し、常に外側(接触点の
周囲)に向かって開いた角度を持っているため、加圧さ
れた導電被覆層を接触点から外側に向かって移動(排
出)させやすい。
By sandwiching the uniform conductive balls between the electrodes to be connected and applying pressure, first, a large pressure is generated at the point contact point of the conductive coating layer which is in point contact with the electrodes, and the conductive coating layer and the electrodes are Begins to deform. At this time, since the core has high rigidity and is hardly deformed, the pressing force is concentrated on the deformation of the conductive coating layer and the electrode. Furthermore, since the spherical core has an angle that is always open to the outside (around the contact point) with respect to the plane having the electrode portion, the pressed conductive coating layer is directed outward from the contact point. Easy to move (discharge).

【0244】接触点を中心に同心円上に接触面を広げて
いく導電被覆層と電極の変形過程において、電極表面及
び導電被覆層表面に存在する酸化膜、汚染皮膜が変形に
伴い破壊され、電極と導電被覆層の真性面が露出し接触
する。
During the deformation process of the conductive coating layer and the electrode, which expands the contact surface in a concentric circle centering on the contact point, the oxide film and the contamination film existing on the electrode surface and the conductive coating layer surface are destroyed by the deformation, And the intrinsic surface of the conductive coating layer is exposed and contacts.

【0245】この状態で、100〜400℃に加熱する
ことにより接合部において、固相状態で原子の拡散が起
こり、接合部表面に固溶体あるいは金属間化合物よりな
る接合層が形成され、電極部と導電被覆層が合金化され
接続される。例えば、導電被覆層をなす材料としてA
u、電極部をなす材料として通常の半導体素子に用いら
れているAlをそれぞれ使用した場合、加熱温度は20
0〜350℃で合金化により接続される。
In this state, heating to 100 to 400 ° C. causes diffusion of atoms in the solid state in the joint portion, and a joint layer made of a solid solution or an intermetallic compound is formed on the surface of the joint portion to form an electrode portion. The conductive coating layer is alloyed and connected. For example, as the material forming the conductive coating layer, A
When u and Al, which are used in ordinary semiconductor elements, are used as the material for the electrode portion, the heating temperature is 20
They are connected by alloying at 0 to 350 ° C.

【0246】このように、この発明の主たる特徴は、こ
の接続過程において、導電ボールが電極表面の酸化膜及
び汚染皮膜をより破壊し、真性面をより広く露出させる
ことにある。その結果、金属化及びまたは合金化による
接合性が向上する。
As described above, the main feature of the present invention is that, in this connection process, the conductive balls further destroy the oxide film and the contaminated film on the electrode surface and expose the intrinsic surface more widely. As a result, the bondability due to metallization and / or alloying is improved.

【0247】その具体的な方法としては、導電ボールを
実質的に球体状として形成しても良いし、導電ボールの
外表面に微細な突部と谷部を設け酸化膜及び汚染皮膜の
破壊性を上げることである。
As a specific method, the conductive balls may be formed in a substantially spherical shape, or fine protrusions and valleys may be provided on the outer surface of the conductive balls to destroy the oxide film and the contaminated film. Is to raise.

【0248】この突部と谷部の設けかたとしては、3つ
の態様ある。第1の態様は導電被覆層表面に設けるもの
であり、第2の態様はコア表面に設けるものであり、第
3の態様は導電被覆層表面とコア表面の両方に設けるも
のである。
There are three ways to provide the protrusion and the valley. The first aspect is provided on the surface of the conductive coating layer, the second aspect is provided on the surface of the core, and the third aspect is provided on both the surface of the conductive coating layer and the surface of the core.

【0249】先ず、第1の態様である導電被覆層表面に
設けた場合について説明する。
First, the case where the conductive coating layer is provided on the surface of the first embodiment will be described.

【0250】導電被覆層が電極表面の酸化膜を破壊する
接続過程では、まず導電被覆層表面の突部が、電極表面
に大きな力を及ぼすために酸化膜の破壊が行われる。ま
た、この接続過程において、突部は、電極との接触点を
中心に広がる方向に押潰されるため、変形方向はランダ
ムとなる。従って、酸化膜は、より細かい破壊が行われ
る。
In the connection process in which the conductive coating layer destroys the oxide film on the electrode surface, the oxide film is destroyed because the projection on the surface of the conductive coating layer exerts a large force on the electrode surface. In addition, in this connection process, the protrusions are crushed in a direction that spreads around the contact point with the electrode, so that the deformation direction becomes random. Therefore, the oxide film is finely broken.

【0251】このような突部と谷部の大きさとしては、
酸化膜及び汚染皮膜の膜厚より大きければよい。より詳
細に説明すれば、突部と谷部の大きさの最大値である最
大粗さRmaxから、望ましいRmaxは、接続する電
極膜厚の10%以上から導電被覆層膜厚の4倍以下であ
る。より望ましいRmaxは、電極膜厚の10%から導
電被覆層膜厚の2倍以下である。
The size of such protrusions and valleys is as follows.
It may be thicker than the oxide film and the contaminated film. More specifically, from the maximum roughness Rmax, which is the maximum value of the size of the protrusion and the valley, the desirable Rmax is from 10% or more of the thickness of the electrode to be connected to 4 times or less of the thickness of the conductive coating layer. is there. More desirable Rmax is from 10% of the electrode film thickness to twice the film thickness of the conductive coating layer or less.

【0252】Rmaxの電極膜厚の10%以下では、同
様に突部及び谷部の大きさが、電極表面の酸化膜及び汚
染皮膜の膜厚より小さく酸化膜及び汚染皮膜の破壊効果
が現れ難くなる。このRmaxとしては、導電被覆層の
4倍以上と大きくなると、接続後、大きな谷部や大きな
突部の影響による未接合部が発生し、接続面積が低下す
るため、好ましくない。また導電被覆層の2倍以下であ
れば、最大の突部と谷部が隣接したとしても、変形した
突部により谷部を埋め込むことができ、未接合領域の発
生を防ぎ広い接続面積を確保することが可能であり、よ
り好ましい。
If Rmax is 10% or less of the electrode film thickness, similarly, the size of the protrusion and the valley is smaller than the film thickness of the oxide film and the contamination film on the electrode surface, and the destruction effect of the oxide film and the contamination film is hard to appear. Become. If Rmax is four times or more as large as that of the conductive coating layer, unbonded portions due to the influence of large valleys and large protrusions are generated after connection, and the connection area is reduced, which is not preferable. Also, if it is less than twice as large as the conductive coating layer, even if the largest protrusion and the valley are adjacent to each other, the valley can be embedded by the deformed protrusion, preventing the occurrence of unbonded regions and ensuring a wide connection area. It is possible and more preferable.

【0253】例えば、半導体素子の電極部であるAl電
極は、膜厚が約1μmに対し、その表面の酸化膜厚が数
百オングストロームであることから、その膜厚1μmの
10%=0.1μm以上のRmaxであれば突部と谷部
の効果が得られる。このような半導体素子との接続にお
いては、Rmaxが0.1μm程度がより好ましい。
For example, the Al electrode, which is the electrode portion of the semiconductor element, has a film thickness of about 1 μm, but the oxide film thickness on the surface is several hundred angstroms, so 10% of the film thickness of 1 μm = 0.1 μm. With the above Rmax, the effect of the protrusion and the valley can be obtained. In connection with such a semiconductor element, Rmax is more preferably about 0.1 μm.

【0254】これらの突部と谷部を設ける領域部分につ
いては、後述の導電ボールの接触面積のところで述べ
る。
The area portion where these protrusions and troughs are provided will be described later in the section of contact area of conductive balls.

【0255】尚、導電ボールは、球形状であるため、R
maxに関しては、測定された値から、導電ボールの球
面の曲率成分を引いた値とした。以後のRmaxについ
ても同様とした。
Since the conductive balls are spherical, R
Regarding max, the value obtained by subtracting the curvature component of the spherical surface of the conductive ball from the measured value was used. The same applies to Rmax thereafter.

【0256】次に、第2の態様としてのコア表面に突部
及び谷部を設ける場合を説明する。
Next, description will be given of the case where the protrusion and the valley are provided on the surface of the core as the second embodiment.

【0257】この場合には、接続過程において2つの効
果があり、1つは酸化膜の破壊に関するものであり、2
つめは接触面積に関するものである。
In this case, there are two effects in the connection process, one is related to the destruction of the oxide film, and the other is 2
The claw is related to the contact area.

【0258】1つめの酸化膜の破壊に関しては、導電被
覆層を形成する材料が柔らかく、導電被覆層の変形のみ
では、十分な酸化膜の破壊が行えない場合がある。この
場合、コア表面に突部と谷部を設けておくと、変形に伴
い接続部での導電被覆層膜厚が減少するに従い、下地で
あるコア表面の突部と谷部の影響(突部先端での高圧
力)が接続面に現れて、酸化膜を破壊する事が容易とな
る。特に、電極材が硬い場合に、この効果が顕著にな
る。
Regarding the first destruction of the oxide film, there are cases where the material forming the conductive coating layer is soft and the oxide film cannot be sufficiently destroyed only by the deformation of the conductive coating layer. In this case, if protrusions and valleys are provided on the core surface, the influence of the protrusions and valleys on the underlying core surface (projections (High pressure at the tip) appears on the connection surface, making it easy to destroy the oxide film. This effect becomes remarkable especially when the electrode material is hard.

【0259】2つめの接触面積としては、接続時の加圧
により導電被覆層がコアから剥離し、十分な接触面積が
得られない場合がある。この場合、コア表面に突部と谷
部を設けたことにより、導電被覆層との密着性が上が
り、接続時に導電被覆層がコアから剥離してしまうこと
を防ぐことができる。
As the second contact area, the conductive coating layer may be peeled from the core due to the pressure applied at the time of connection, and a sufficient contact area may not be obtained. In this case, by providing the protrusions and the valleys on the surface of the core, the adhesion with the conductive coating layer is improved, and it is possible to prevent the conductive coating layer from peeling from the core at the time of connection.

【0260】このような突部と谷部の大きさとしては、
導電被覆層表面の場合と同じ大きさのRmaxで、十分
効果が得られる。これらの突部と谷部を設ける領域部分
については、後述の導電ボールの接触面積のところで述
べる。
The sizes of such protrusions and valleys are as follows.
A sufficient effect can be obtained with Rmax of the same size as the case of the surface of the conductive coating layer. The area portion where these protrusions and valleys are provided will be described later in the section of contact area of conductive balls.

【0261】また、第3の態様としての導電被覆層とコ
ア表面の両方に突部と谷部を設ける場合を説明する。
Further, as a third mode, a case where a projection and a valley are provided on both the conductive coating layer and the core surface will be described.

【0262】この場合は、上記導電被覆層表面での効果
とコア表面での効果がより顕著になる。また、電極が硬
い場合に特に顕著となる。但し、2つの部分に突部及び
谷部を設けるため、導電ボールの製造に手間がかかる場
合がある。
In this case, the effect on the surface of the conductive coating layer and the effect on the surface of the core become more remarkable. Further, it becomes particularly remarkable when the electrode is hard. However, since the protrusion and the valley are provided in the two portions, it may take time and effort to manufacture the conductive ball.

【0263】これら3つ態様における突部及び谷部を設
ける部分の選択は、接続する対象物、例えば電極材料、
電極部構造、導電被覆層材料、導電ボール構造等、によ
って行うことができる。
In the selection of the portions where the protrusions and valleys are provided in these three modes, the object to be connected, for example, the electrode material,
It can be performed by an electrode structure, a conductive coating layer material, a conductive ball structure, or the like.

【0264】ここで、導電ボールと電極との接触面積に
関しては、次のようになる。即ち、加圧による接続部で
の導電被覆層の厚みの変化は、接触点からの変形移動に
伴い初期の厚みから徐々に減少し、電極がコアと接触す
る厚みゼロとなるところまでのいずれかで終了する。そ
のため、移動した導電被覆層の周辺での盛り上がりを除
いた理論上の最大接触領域は、コアの半径をR、導電被
覆層の厚みをa、最大接触円半径をrmaxとすると、導
電ボールの断面形状からrmax=SQR(a2+2aR)
となり、この半径の円が計算上の最大接触面積となる。
Here, the contact area between the conductive balls and the electrodes is as follows. That is, the change in the thickness of the conductive coating layer at the connection portion due to the pressure gradually decreases from the initial thickness along with the deformation movement from the contact point, until the electrode reaches a thickness of zero at which it contacts the core. Ends with. Therefore, the theoretical maximum contact area excluding the swelling around the moved conductive coating layer is the cross section of the conductive ball, where R is the radius of the core, a is the thickness of the conductive coating layer, and rmax is the maximum contact circle radius. From the shape, rmax = SQR (a2 + 2aR)
And the circle with this radius becomes the maximum contact area calculated.

【0265】また、突部と谷部を設ける領域部分として
は、次のようになる。即ち、導電被覆層表面の接続され
る領域部部分は、この断面形状において、接触点からr
maxとなるまでの円弧上であることがわかる。また、コ
ア表面の接続に係る領域部分としては、導電被覆層と同
様に、接触点直下から、導電ボール中心からrmaxに向
かう直線とコアの交点までの円弧上であることがわか
る。
Further, the area portion where the protrusion and the valley are provided is as follows. That is, the area portion of the surface of the conductive coating layer to be connected is r from the contact point in this cross-sectional shape.
It can be seen that it is on an arc until it reaches max. Further, it can be seen that the region related to the connection of the core surface is on an arc from just below the contact point to the intersection of the straight line extending from the center of the conductive ball to rmax and the core, similarly to the conductive coating layer.

【0266】これら2つの領域部分に設けられる突部と
谷部の数は、大きさを満たす範囲で多ければ多いほど設
けた効果が現れる。更に、これらの領域以外に突部と谷
部が設けられても、この発明では問題としない。
The larger the number of protrusions and valleys provided in these two regions is within the range satisfying the size, the more the effect is provided. Further, even if a protrusion and a valley are provided in a region other than these regions, this invention does not pose a problem.

【0267】接続する電極間の間隔に関しては、次のよ
うになる。即ち、導電ボールの形状は対称であるため、
電気回路素子との接続部と電気回路基板との接続部での
それぞれの導電被覆層の変形もほぼ対称となる。
The intervals between the electrodes to be connected are as follows. That is, since the shape of the conductive ball is symmetrical,
The deformation of each conductive coating layer at the connection portion with the electric circuit element and the connection portion with the electric circuit board is also substantially symmetrical.

【0268】通常接続する半導体素子は、複数の電極部
を有している。この半導体素子の電極部の数をnとする
と、接続に使用される導電ボールの数はn以上となり、
これら導電ボールのコアの直径をそれぞれd1,d2,
d3,…,dnとする。これらのコア直径で最小及び最
大のものをdmin、dmaxとする。
The semiconductor element to be normally connected has a plurality of electrode portions. If the number of electrode parts of this semiconductor element is n, the number of conductive balls used for connection is n or more,
The diameters of the cores of these conductive balls are d1, d2 and
Let d3, ..., dn. The minimum and maximum core diameters are dmin and dmax.

【0269】接続時の加圧により、これらn個の導電ボ
ールは、上記のようにコアの剛性により導電被覆層が大
きく変形移動し、接続部での厚みが減少するため、電気
回路素子の電極部と電気回路基板の電極部との間隔は、
ほとんど変形しないコアの直径と変形後にコアと電極部
間に残るわずかの合金化した接合層の厚みの合計であ
り、n箇所の各電極間での間隔は、最少のdminからdm
ax程度であるが、dmaxより若干大きくなる場合もあ
る。
Due to the rigidity of the core, the conductive coating layer is largely deformed and moved due to the core rigidity as described above due to the pressure applied at the time of connection, and the thickness at the connection portion is reduced, so that the electrodes of the electric circuit element are reduced. Distance between the electrode and the electrode part of the electric circuit board,
It is the sum of the diameter of the core that hardly deforms and the thickness of the slight alloyed bonding layer that remains between the core and the electrode part after deformation. The distance between the n electrodes is the minimum dmin to dm.
Although it is about ax, it may be slightly larger than dmax.

【0270】更に、この発明では、コア表面に突部と谷
部を設けたことにより、突部の高さが加算される場合が
ある。従って、この発明における電極間の距離が、コア
の約直径とは、上記に示したコアのばらつきと突部の高
さをも含んだものである。そのため、コアの形状寸法が
高精度であればあるほど、電極間距離も高精度となり、
ひいては、半導体素子と基板との間隔が高精度に平行と
なる。
Further, in the present invention, the height of the protrusion may be added due to the provision of the protrusion and the valley on the surface of the core. Therefore, in the present invention, the distance between the electrodes is about the diameter of the core, which includes the variation of the core and the height of the protrusion as described above. Therefore, the more accurate the shape of the core, the more accurate the distance between the electrodes,
As a result, the distance between the semiconductor element and the substrate becomes parallel with high accuracy.

【0271】この発明では、導電ボールは電気回路素子
とは別に製造するため、導電ボールのみを大きさを極め
て高精度に分級することもできる。よって、この電気回
路素子と電気回路基板の間隔を1〜2μm以下の精度で
高精度に形成することが、可能である。
In the present invention, since the conductive balls are manufactured separately from the electric circuit element, it is possible to classify only the conductive balls with extremely high accuracy. Therefore, it is possible to form the gap between the electric circuit element and the electric circuit board with an accuracy of 1 to 2 μm or less with high accuracy.

【0272】電気回路部品を製造する際、この導電ボー
ルを、電極部に対応する位置に配置する方法としては、
2つの方法がある。
When manufacturing an electric circuit part, a method of disposing the conductive balls at positions corresponding to the electrode parts is as follows.
There are two ways.

【0273】第1の方法は、保持シートを用いる方法
で、この場合は、導電ボールが配置される位置で密着し
てシート材に保持されている。そのため、導電ボールと
保持シートとを一体化して取り扱える。第2の方法は、
配置部材を用いる方法で、この場合は、配置部材は導電
ボールを配置される位置で密着して保持せず、配置部材
と導電ボールは、分離したものとして取り扱う。
The first method is to use a holding sheet. In this case, the sheet is held in close contact with the sheet material at the position where the conductive balls are arranged. Therefore, the conductive ball and the holding sheet can be integrally handled. The second method is
In this case, the arrangement member does not hold the conductive balls in close contact with each other at the position where the conductive balls are arranged, and the arrangement member and the conductive balls are treated as separate parts.

【0274】これら2つの方法により電極上に導電ボー
ルを配置した後、保持シートあるいは配置部材により、
その位置を保たれたまま導電ボールを接続することで、
接続時の導電ボールの位置ズレを防ぐことができる。こ
れら2つの方法の使い分けは、特に限定するものではな
いが、保持シートを使用する方法は、導電ボールを密着
保持しているため、導電ボールをより精度良く配置及び
接続する場合に適しており、配置部材を使用する方法
は、位置精度がゆるい中型から大型の導電ボールをロー
コストで配置及び接続する場合により適している。
After arranging the conductive balls on the electrodes by these two methods, a holding sheet or arranging member is used.
By connecting the conductive balls while keeping that position,
It is possible to prevent the conductive balls from being displaced during connection. The method of using these two methods is not particularly limited, but the method of using the holding sheet is suitable for arranging and connecting the conductive balls with higher accuracy because the conductive balls are closely held. The method of using the arrangement member is more suitable for arranging and connecting the medium-sized to large-sized conductive balls having low positional accuracy at low cost.

【0275】先ず、第1の方法で使用する保持シートに
ついて説明する。
First, the holding sheet used in the first method will be described.

【0276】保持シートは、前もって決められた導電ボ
ールを配置する位置にて導電ボールがそのシート両面よ
り突出して露出するように導電ボールを保持する。保持
シートは、導電ボール側面をシート両面に向かってすぼ
む形で密着保持しているため、導電ボールがシートから
脱落することを防止し、導電ボールと一体化している。
更に、導電ボール表面に設けられた突部及び谷部がシー
トと密着する部分にも存在する場合には、より密着性が
高まる。
The holding sheet holds the conductive balls such that the conductive balls project and are exposed from both sides of the sheet at a predetermined position where the conductive balls are arranged. Since the holding sheet closely holds the side surfaces of the conductive balls toward both sides of the sheet, the holding sheets prevent the conductive balls from falling off the sheet and are integrated with the conductive balls.
Further, when the protrusions and the valleys provided on the surface of the conductive balls are also present in the portion in close contact with the sheet, the adhesion is further improved.

【0277】この保持シートを、電気回路素子あるいは
電気回路基板の電極と保持された導電ボールとが対向す
るように位置決めした後、電気回路素子あるいは電気回
路基板上に配置することで、導電ボールを電極上に配置
できる。
The holding sheet is positioned so that the electrodes of the electric circuit element or the electric circuit board and the held conductive balls face each other, and then the holding sheet is arranged on the electric circuit element or the electric circuit board, so that the conductive balls can be formed. It can be placed on the electrode.

【0278】保持シートの厚みとしては、1μm〜50
0μmまでの任意のサイズを使用することができる。但
し、接続する際の導電被覆層材料の電極部との接触面積
を広げる方向への変形移動を妨げずに行うため、コアの
直径と等しいかそれよりも薄いことが望ましい。そのた
め、最大厚みは、コアの最大直径と同じになり、また、
最小厚みとしては、1μm以下の可能であるが、配置時
の強度の問題もあり、コアの最小直径と同じとした。
The thickness of the holding sheet is 1 μm to 50 μm.
Any size up to 0 μm can be used. However, it is desirable that the diameter is equal to or smaller than the diameter of the core in order to carry out without disturbing the deformation movement in the direction of increasing the contact area of the conductive coating layer material with the electrode portion at the time of connection. Therefore, the maximum thickness is the same as the maximum diameter of the core, and
The minimum thickness can be 1 μm or less, but there is a problem of strength at the time of arrangement, and therefore the minimum diameter is set to be the same.

【0279】この発明の場合、保持シートの厚みとして
は、10μm〜200μmまでの厚みが、より望まし
い。保持シートの材料としては、電気的絶縁性を有して
いればその材料は問わない。例えば、絶縁性の樹脂を用
いればよい。更に、樹脂を用いる場合にはその樹脂の種
類も問わない。熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれで
もよい。例えば、ポリイミド樹脂、ポリフェニレンサル
ファイド樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリエー
テルミイド樹脂、ポリサルフォン樹脂、シリコーン樹
脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリジフェニ
ールエーテル樹脂、ポリベンジルイミダゾール樹脂、フ
ェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルッキド樹
脂、エポキシ樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリプロプ
レン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂その
他の樹脂を使用することができる。
In the case of the present invention, the thickness of the holding sheet is more preferably 10 μm to 200 μm. The holding sheet may be made of any material as long as it has electrical insulation. For example, an insulating resin may be used. Furthermore, when a resin is used, the type of the resin does not matter. Either a thermosetting resin or a thermoplastic resin may be used. For example, polyimide resin, polyphenylene sulfide resin, polyether sulfone resin, polyetherimide resin, polysulfone resin, silicone resin, fluororesin, polycarbonate resin, polydiphenyl ether resin, polybenzyl imidazole resin, phenol resin, urea resin, melamine Resins, alkyd resins, epoxy resins, polyamideimide resins, polypropylene resins, polyvinyl chloride resins, polystyrene resins and other resins can be used.

【0280】更に、これらの樹脂の中から熱伝導の良い
樹脂あるいは、熱伝導性の良い無機物(例えば、ダイ
ヤ、c−BN、AlN等)の粉体を混入した樹脂を使用
すれば、電気回路素子が熱を持っても、その熱を樹脂を
介して放熱することができるのでより好ましい。
Furthermore, if a resin having a good thermal conductivity or a resin mixed with a powder of an inorganic material having a good thermal conductivity (for example, diamond, c-BN, AlN, etc.) is used among these resins, an electric circuit can be obtained. Even if the element has heat, the heat can be dissipated through the resin, which is more preferable.

【0281】更に、樹脂として電気回路素子あるいは電
気回路基板と同じかあるいは同程度の熱膨張係数を有す
るものを選択すれば、熱膨張・熱収縮に基づく、電気回
路部品の信頼性の低下を一層防止することが可能とな
る。
Further, if the resin having the same or similar coefficient of thermal expansion as that of the electric circuit element or the electric circuit board is selected as the resin, the reliability of the electric circuit component is further reduced due to the thermal expansion and contraction. It becomes possible to prevent it.

【0282】電気回路素子として光電変化素子を用いる
場合、これらの樹脂材料の光透過率を空気やガラスある
いは光電変換素子の封止用の透明樹脂よりも下げ、光電
変換素子の受光部あるいは発光部に相当する部分あるい
は光学設計上必要な部分に開口部を設けておけば、不要
光をカットし光信号のS/Nを向上させる。例えば、受
光素子表面での反射ゴースト光に対しては、シート材の
透過率が10%低いだけでも入射時、反射時と2回シー
トを通過することにより、19%もゴースト光強度を下
げることができる。
When a photoelectric conversion element is used as the electric circuit element, the light transmittance of these resin materials is made lower than that of air or glass or a transparent resin for sealing the photoelectric conversion element, and the light receiving portion or the light emitting portion of the photoelectric conversion element is used. If an opening is provided in a portion corresponding to the above or a portion necessary for optical design, unnecessary light is cut and the S / N of the optical signal is improved. For example, with respect to the ghost light reflected on the surface of the light receiving element, even if the transmittance of the sheet material is only 10% lower, the ghost light intensity can be reduced by 19% by passing through the sheet twice at the time of incidence and at the time of reflection. You can

【0283】発光素子の場合も同様に、例えばLEDの
発光部から射出する光分布で、光学設計上不要な周辺光
を保持シート材をスリット、ピンホールの遮光部とする
ことにより、減衰あるいはカットし、受光素子が光信号
を受光する時のS/Nの改善を図ることが可能となる。
また、導電ボール周囲をこの樹脂が覆っているため、反
射率の高い金を用いても導電ボールが反射原因となるゴ
ースト光を抑えることが可能となる。
Similarly, in the case of a light-emitting element, for example, in the light distribution emitted from the light-emitting portion of an LED, ambient light unnecessary for optical design is attenuated or cut by using a holding sheet material as a slit or a light-shielding portion of a pinhole. However, it is possible to improve the S / N when the light receiving element receives an optical signal.
Further, since the resin covers the periphery of the conductive balls, it is possible to suppress the ghost light that causes the conductive balls to reflect even if gold having a high reflectance is used.

【0284】次に、第2方法で、使用する配置部材につ
いて説明する。
Next, the arrangement member used in the second method will be described.

【0285】配置部材は、導電ボールを配置する位置に
対応する位置に貫通する開口部(穴)が設けられたシー
ト(マスクシート)である。この開口部の大きさは、そ
の中に配置することで所望の数の導電ボールの数をn、
導電ボールの直径をDとしたときに、nDより大きく
(n+1)Dより小さくすることで所望の数の導電ボー
ルを開口部に配置することができる。
The arranging member is a sheet (mask sheet) having an opening (hole) penetrating therethrough at a position corresponding to the position where the conductive balls are arranged. The size of this opening is such that the desired number of conductive balls can be set to n by arranging in the opening.
When the diameter of the conductive balls is D, by setting the diameter larger than nD and smaller than (n + 1) D, a desired number of conductive balls can be arranged in the opening.

【0286】このマスクシートを電気回路素子あるいは
電気回路部品の表面に、その電極部上に開口部がくるよ
うに位置決めし配置し、配置した後に、開口部に導電ボ
ールを挿入することで、電極部上に導電ボールを配置す
る。また、マスクシートの厚みは、保持シートと同様に
コアの直径と等しいかそれよりも薄いことが望ましい。
つまり、1μm〜500μmまでが使用できるが、10
μm〜200μmがより望ましい。
The mask sheet is positioned and arranged on the surface of the electric circuit element or electric circuit component so that the opening is located above the electrode portion, and after the arrangement, conductive balls are inserted into the opening to form the electrode. A conductive ball is placed on the part. Further, the thickness of the mask sheet is preferably equal to or smaller than the diameter of the core similarly to the holding sheet.
That is, 1 μm to 500 μm can be used, but 10
μm to 200 μm is more desirable.

【0287】マスクシート材料としては、上記保持シー
トの材料と同じものが使用できる。接続後、導電ボール
を接続した後に、保持シートあるいは配置部材(マスク
シート)を除去する場合がある。この場合、電気回路素
子の大きさより保持シートあるいはマスクシートが突出
することがなくなり、より小型の電気回路部品を得るこ
とができる。その際、保持シートあるいはマスクシート
の除去は、完全に除去しても良いし、一部分、例えば電
気回路素子の周辺部分のみを除去してもかまわない。
As the mask sheet material, the same material as the above holding sheet material can be used. After the connection, the conductive sheet may be connected, and then the holding sheet or the arrangement member (mask sheet) may be removed. In this case, the holding sheet or the mask sheet does not protrude beyond the size of the electric circuit element, and a smaller electric circuit component can be obtained. At that time, the holding sheet or the mask sheet may be completely removed or only a part of the holding sheet or the mask sheet, for example, a peripheral portion of the electric circuit element may be removed.

【0288】保持シートあるいはマスクシートの除去
は、接続後、保持シートあるいはマスクシートを水平方
向に引っ張ることにより、保持シートあるいはマスクシ
ートに亀裂を生じさせて除去する。ここで、保持シート
あるいはマスクシートに、スリット、ノッチを入れる場
合もある。スリット、ノッチは、保持シートの導電ボー
ルの密着保持部やマスクシートの開口部以外の部分に設
けられても良いし、導電ボールの密着保持部や開口部あ
るいは、保持シートやマスクシートの外周部に設けられ
ても良い。更には、その数、形状、配置には特にこだわ
らない。
To remove the holding sheet or the mask sheet, after the connection, the holding sheet or the mask sheet is pulled in the horizontal direction to cause cracks in the holding sheet or the mask sheet and remove the sheet. Here, slits or notches may be formed in the holding sheet or the mask sheet. The slits and notches may be provided in a portion other than the contact holding portion of the conductive ball of the holding sheet or the opening portion of the mask sheet, or the contact holding portion or opening of the conductive ball or the outer peripheral portion of the holding sheet or mask sheet. May be provided. Furthermore, the number, shape, and arrangement of them are not particularly limited.

【0289】これらスリット、ノッチを設けることによ
り、保持シートあるいはマスクシートの除去時に、ま
ず、スリット、ノッチの先端から亀裂が生じさせる。そ
の亀裂が、導電ボールや開口部に向かい、到達すること
で、保持シートあるいはマスクシートを分離除去できる
ようにする。
By providing these slits and notches, when the holding sheet or mask sheet is removed, first, cracks are generated from the tips of the slits and notches. When the cracks reach and reach the conductive balls and the openings, the holding sheet or the mask sheet can be separated and removed.

【0290】そのため、接続された導電ボール及び接続
部の過大なストレスを与えずに、保持シートあるいはマ
スクシートを除去できる。
Therefore, the holding sheet or the mask sheet can be removed without applying excessive stress to the connected conductive balls and the connecting portion.

【0291】接続後除去する場合は、保持シートあるい
はマスクシートの材料として、導電材料も使用すること
ができる。例えば、カーボン樹脂、アルミ、リン青銅、
ベリリウム銅、42アロイ、ステンレス等。更に、絶縁
材料からなる保持シートあるいはマスクシート表面に導
電性材料の皮膜を設けても良い。
In the case of removing after connection, a conductive material can be used as the material of the holding sheet or the mask sheet. For example, carbon resin, aluminum, phosphor bronze,
Beryllium copper, 42 alloy, stainless steel, etc. Furthermore, a film of a conductive material may be provided on the surface of the holding sheet or the mask sheet made of an insulating material.

【0292】導電性の機能を付与することにより、保持
シートあるいはマスクシートの一部を接地させておくこ
とにより、接続までの間に蓄積された静電気による電気
回路素子の破壊を防いだり、マスクシートの場合には、
更に、導電ボールを配置する際に導電ボールとの摩擦に
よる静電気の発生による、導電ボールの凝集を防止し、
配置を確実に行える。
By imparting a conductive function to a part of the holding sheet or the mask sheet to be grounded, the destruction of the electric circuit element due to the static electricity accumulated until the connection is prevented, and the mask sheet. In Case of,
Furthermore, when the conductive balls are arranged, the conductive balls are prevented from aggregating due to the generation of static electricity due to friction with the conductive balls,
The placement can be done reliably.

【0293】電気回路素子あるいは、電気回路基板のい
ずれかが合金化する際の加熱温度に耐えられない場合に
は、いずれか一方の電極部と導電ボールとを対向するよ
うに配置した状態で、加圧及び加熱し金属化及びまたは
合金化により接続する。 この場合、導電ボールを電極
上に配置する方法としては、上記の保持シート、上記マ
スクシート以外に、導電被覆層と合金化しない材料に導
電ボールの直径より大きい開口と、コアの直径より浅い
窪みを導電ボールを配置する場所に設けた型を使用して
も良い。 例えば導電被覆層がAuであれば、型材とし
てガラス、石英、アルミナ、ダイヤ等を用いればよい。
また、型材として導電被覆層と合金化する材料を用いた
としても、その表面をこれらの導電被覆層と合金化しな
い材料により被覆することにより、使用することが可能
となる。
When either the electric circuit element or the electric circuit board cannot withstand the heating temperature at the time of alloying, one of the electrode portions and the conductive ball are arranged so as to face each other. Connection is made by applying pressure and heat and metallizing and / or alloying. In this case, as a method of disposing the conductive balls on the electrodes, in addition to the holding sheet and the mask sheet, a material that does not alloy with the conductive coating layer has an opening larger than the diameter of the conductive balls and a recess smaller than the diameter of the core. You may use the type | mold provided in the place which arrange | positions a conductive ball. For example, if the conductive coating layer is Au, glass, quartz, alumina, diamond or the like may be used as the mold material.
Even if a material that alloys with the conductive coating layer is used as the mold material, it can be used by coating the surface with a material that does not alloy with these conductive coating layers.

【0294】導電ボールの片側のみ電極と合金化して接
続した後、電気回路素子及び電気回路基板とを接続する
電極部が対向するように配置し、押圧等により接続す
る。
After connecting only one side of the conductive ball with the electrode by alloying, the electrode portions connecting the electric circuit element and the electric circuit board are arranged so as to face each other and connected by pressing or the like.

【0295】この発明では、剛性の高い材料からなる球
形状のコアとその周囲を被覆する導電被覆層からなる導
電ボールを使用して、電気回路素子と電気回路部品との
電極部を互いに接続するため、電極部に特別の処理を施
さなくても、その表面に存続する酸化膜あるいは汚染皮
膜を破壊し、合金化による低接続抵抗と高強度の接続を
おこなう事が可能となる。
According to the present invention, the electrode parts of the electric circuit element and the electric circuit component are connected to each other by using the conductive ball composed of the spherical core made of a highly rigid material and the conductive coating layer covering the periphery thereof. Therefore, even if no special treatment is applied to the electrode portion, it is possible to destroy the oxide film or the contaminated coating film existing on the surface of the electrode portion, and to achieve low connection resistance and high strength connection by alloying.

【0296】また、導電被覆層は厚みをとれいるため、
低い接続抵抗値を達成し、許容電流を大きくすることが
可能となる。
Since the conductive coating layer has a large thickness,
It is possible to achieve a low connection resistance value and increase the allowable current.

【0297】また、保持シートあるいは配置部材を介し
て導電ボールを電気回路素子の内部まで、高密度に配置
することが可能となり、更に、保持シートあるいはマス
クシートに導電ボールを保持した状態で電極部を接続す
るため、接続時の位置ずれを防止することが可能とな
る。この結果、電気回路部品の高密度化及び小型化が可
能となる。
Further, it becomes possible to arrange the conductive balls inside the electric circuit element at a high density through the holding sheet or the arrangement member, and further, in the state where the conductive balls are held on the holding sheet or the mask sheet. Since it is connected, it becomes possible to prevent the positional deviation at the time of connection. As a result, it is possible to increase the density and size of the electric circuit component.

【0298】更に、コアが接続時に導電ボールの変形ス
トッパとなるため、接続時に導電ボールの変形により隣
接する導電ボール間の短絡が発生することなく、近接し
て配置することが可能となり、これにより、高密度化が
達成される。
Further, since the core serves as a deformation stopper for the conductive balls at the time of connection, the conductive balls can be arranged close to each other without causing a short circuit between adjacent conductive balls due to the deformation of the conductive balls at the time of connection. , High density is achieved.

【0299】また、電極部との接触面積もコアが変形ス
トッパとなることにより、コアの直径と導電被覆層の厚
みで決まるため、小型化を達成することができることに
なる。
Further, the contact area with the electrode portion is also determined by the diameter of the core and the thickness of the conductive coating layer when the core serves as the deformation stopper, so that the size can be reduced.

【0300】また、導電ボールが高精度に大きさを制御
できること、接続時にコアが変形ストッパとして機能す
るため、接続する電気回路素子と電気かいろ基板との接
続語の間隔を高精度に保つことが可能となる。従って、
光電変換素子のように配置位置が問題となる素子にとっ
て、光信号特性の向上及び複雑な位置調整部材の簡略
化、省略が可能となり、小型化と安定化とを図ることが
可能となる。
Further, since the conductive balls can control the size with high accuracy and the core functions as a deformation stopper at the time of connection, the interval between connection words of the electric circuit element to be connected and the electric kairo board should be maintained with high accuracy. Is possible. Therefore,
For an element such as a photoelectric conversion element in which the arrangement position is a problem, it is possible to improve the optical signal characteristics, simplify and omit a complicated position adjusting member, and achieve miniaturization and stabilization.

【0301】また、電気回路素子を風刺する際に、保持
シートが封止する電気回路素子と電気回路基板との間に
存在することで、封止樹脂の体積を減らすことができる
ことになり、これにより、封止樹脂の接続部に係わる収
縮応力の低減、封止樹脂内に存在する気泡の量を少なく
することが可能となり、この結果、信頼性の高い電気回
路部品を得ることが可能となる。
Further, the volume of the sealing resin can be reduced by the presence of the holding sheet between the electric circuit element and the electric circuit board which are sealed when the electric circuit element is satirized. As a result, it is possible to reduce the contraction stress related to the connecting portion of the sealing resin and reduce the amount of bubbles existing in the sealing resin, and as a result, it is possible to obtain a highly reliable electric circuit component. .

【0302】また、保持シートの透過率を下げることに
より、受光素子の場合は、射出する不要光を削減するこ
とが可能となり、これにより光信号のS/N比の向上を
図ることが可能となる。
Also, by reducing the transmittance of the holding sheet, it is possible to reduce unnecessary light emitted in the case of a light receiving element, which can improve the S / N ratio of the optical signal. Become.

【0303】接続後、保持シートあるいはマスクシート
を除去することで、より小型の電気回路部品を得ること
が可能となる。
By removing the holding sheet or the mask sheet after connection, it is possible to obtain a smaller electric circuit component.

【0304】更に、スリットあるいはノッチを保持シー
トあるいはマスクシートに設けることで、接続された導
電ボールに対して低ストレスで除去できることになる。
Furthermore, by providing slits or notches in the holding sheet or mask sheet, it is possible to remove the connected conductive balls with low stress.

【0305】また、片側のみを合金化して接続詞、反対
側を押圧して接続しておけば、保守時に容易にこれを取
り除くことができることになる。
If only one side is alloyed and the connective is connected and the other side is pressed and connected, it is possible to easily remove this during maintenance.

【0306】また、この発明では、剛性の高い材料から
なる球形状のコアとその周囲を被覆する導電被覆層から
なる導電ボールの表面に微細な突部及び谷部を設けるこ
とにより、電気回路素子と電気回路部品の電極部表面に
存在する酸化膜あるいは汚染皮膜をより破壊し、より広
い真性面を露出させ合金化による低接続抵抗と高強度の
接続を行うことが可能となる。
Further, according to the present invention, by forming fine protrusions and valleys on the surface of the conductive ball formed of a spherical core made of a highly rigid material and a conductive coating layer covering the periphery thereof, an electric circuit element is formed. Further, it becomes possible to further destroy the oxide film or the contaminated film existing on the surface of the electrode portion of the electric circuit component, expose a wider intrinsic surface, and achieve low connection resistance and high strength connection by alloying.

【0307】また、コアの表面に突部及び谷部を設けた
ことにより、硬い電極材に対しても酸化及び汚染膜を容
易に破壊すると共に、導電被覆層のコアからの剥離を防
ぐことにより、接合性の向上を図ることが可能となる。
これらの突部と谷部を有する導電ボールを保持シート
を用いて配置、接続することにより、より小型、高密度
の接続が可能となる。
Further, by providing the protrusions and valleys on the surface of the core, the oxidation and the contamination film can be easily destroyed even for a hard electrode material, and the conductive coating layer can be prevented from peeling from the core. Therefore, it is possible to improve the bondability.
By arranging and connecting the conductive balls having the protrusions and the valleys using the holding sheet, it is possible to achieve a more compact and high-density connection.

【0308】[0308]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて、添付図面を参照して詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0309】(第1の実施形態)図1は、この発明に係
わる電気回路部品の第1の実施形態の構成を模式的に示
す断面図であり、図2は、この発明で用いられる導電ボ
ール6を表わす断面図であり、図3(a)乃至図3
(d)は、この発明に係わる電気回路部品の製造方法を
模式的に示す断面図であり、図4は、この発明で用いら
れる配置部材の斜視図である。
(First Embodiment) FIG. 1 is a sectional view schematically showing the construction of a first embodiment of an electric circuit component according to the present invention, and FIG. 2 is a conductive ball used in the present invention. FIG. 6 is a cross-sectional view showing 6 in FIG.
FIG. 4D is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing an electric circuit component according to the present invention, and FIG. 4 is a perspective view of an arrangement member used in the present invention.

【0310】図1において、参照符号1は電気回路素子
であるところの半導体チップを示している。この半導体
チップ1の表面には、電極部2が配設され、この電極部
2以外の半導体チップ1の表面は、絶縁保護膜3で被覆
されている。
In FIG. 1, reference numeral 1 indicates a semiconductor chip which is an electric circuit element. An electrode portion 2 is provided on the surface of the semiconductor chip 1, and the surface of the semiconductor chip 1 other than the electrode portion 2 is covered with an insulating protective film 3.

【0311】参照符号6は、半導体チップ1とセラミッ
ク基板7とを機械的及び電気的に接続するための導電ボ
ールを示し、この導電ボール6は中心に位置するコア4
と、このコア4の外周に設けられた導電被覆層5とから
構成されている。
Reference numeral 6 indicates a conductive ball for mechanically and electrically connecting the semiconductor chip 1 and the ceramic substrate 7. The conductive ball 6 is located at the center of the core 4.
And a conductive coating layer 5 provided on the outer periphery of the core 4.

【0312】また、電気回路基板であるセラミック基板
7上には、電極部2に対応した状態で複数の電極部8が
配設され、この電極部8以外の基板7の表面は、絶縁保
護膜9で被覆されている。尚、半導体チップ1とセラミ
ック基板7とが導電ボール6を介して接続された状態
で、両者の間は、封止樹脂10により封止される。
On the ceramic substrate 7 which is an electric circuit substrate, a plurality of electrode portions 8 are arranged in a state corresponding to the electrode portions 2, and the surface of the substrate 7 other than the electrode portions 8 has an insulating protective film. It is covered with 9. It should be noted that in a state where the semiconductor chip 1 and the ceramic substrate 7 are connected via the conductive balls 6, a sealing resin 10 seals between the two.

【0313】一方、図3(a)乃至図3(d)におい
て、参照符号11は配置部材である第1のマスクシート
を、参照符号12は第2のマスクシートをそれぞれ示し
ており、第1及び第2のマスクシート11、12には、
夫々に互いに連通する状態で開口部13が形成されてい
る。また、参照符号24はブレードを示している。ま
た、図4に示すように、第1のマスクシート11には、
スリット14及びノッチ15が形成されている。
On the other hand, in FIGS. 3 (a) to 3 (d), reference numeral 11 indicates a first mask sheet which is an arrangement member, and reference numeral 12 indicates a second mask sheet. And, on the second mask sheets 11 and 12,
The openings 13 are formed so as to communicate with each other. Further, reference numeral 24 indicates a blade. Further, as shown in FIG. 4, the first mask sheet 11 has
The slit 14 and the notch 15 are formed.

【0314】この第1の実施形態においては、図2に具
体的に示す導電ボール6を半導体チップ1の電極部2と
セラミック基板7の電極部8との間に介在させ、加圧お
よび加熱することにより、導電ボール6の導電被覆層5
を変形移動させる際の変形および摩擦により、半導体チ
ップ1の電極部2およびセラミック基板7の電極部8の
表面に存在する自然酸化膜およびまたは汚染皮膜を破壊
し、電極部2および電極部8の真性面を露出させて、導
電被覆層5と電極部2および電極部8とを合金化して接
続し、この接続後、必要があれば封止樹脂10を、半導
体チップ1とセラミック基板7との間に注入し、硬化さ
せて図1に示す電気回路部品を得るように設定されてい
る。
In the first embodiment, the conductive balls 6 specifically shown in FIG. 2 are interposed between the electrode portion 2 of the semiconductor chip 1 and the electrode portion 8 of the ceramic substrate 7 to apply pressure and heat. As a result, the conductive coating layer 5 of the conductive balls 6 is formed.
The natural oxide film and / or the contaminated film present on the surfaces of the electrode part 2 of the semiconductor chip 1 and the electrode part 8 of the ceramic substrate 7 are destroyed by the deformation and friction when the electrode part 2 and the electrode part 8 are deformed. The intrinsic surface is exposed and the conductive coating layer 5 and the electrode portion 2 and the electrode portion 8 are alloyed and connected, and after this connection, the sealing resin 10 is provided between the semiconductor chip 1 and the ceramic substrate 7 if necessary. It is set to be injected and cured to obtain the electric circuit component shown in FIG.

【0315】以下に、導電ボール6の製造方法について
説明し、その後、この導電ボール6を用いた電気回路部
品の製造方法について説明する。
A method of manufacturing the conductive balls 6 will be described below, and then a method of manufacturing an electric circuit component using the conductive balls 6 will be described.

【0316】先ず、図2に示すように、導電ボール6
は、球体状のコア4と、このコア4の周囲を被覆してい
る導電被覆層5とを備えて構成されている。このコア4
は、この第1の実施形態においては鋼から形成されてお
り、精密な研磨により球形状を有するように設定されて
いる。このコア4の表面に、パラジウム処理を施した後
に、無電解メッキより導電被覆層5となる金を被覆す
る。コア4の直径(2R)は40μm、導電被覆層5の
厚さ(a)は5μmに夫々設定されている。
First, as shown in FIG.
Is composed of a spherical core 4 and a conductive coating layer 5 covering the periphery of the core 4. This core 4
Is made of steel in this first embodiment, and is set to have a spherical shape by precision polishing. The surface of the core 4 is subjected to a palladium treatment, and then electroless plating is performed to coat the surface of the core 4 with gold to be the conductive coating layer 5. The diameter (2R) of the core 4 is set to 40 μm, and the thickness (a) of the conductive coating layer 5 is set to 5 μm.

【0317】次に、この導電ボール6を用いた電気回路
部品の製造方法を図3(a)乃至図3(d)を用いて説
明する。
Next, a method of manufacturing an electric circuit component using the conductive balls 6 will be described with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (d).

【0318】先ず、図3(a)に示すように、セラミッ
ク基板7の上に第1及び第2のマスクシート11、12
を重ねて配置する。尚、第1及び第2のマスクシート1
1、12には、夫々接続される電極部8に対応する位置
に開口部13を予め設けておき、この開口部13が電極
部8上の位置にくるように、第1及び第2のマスクシー
ト11、12とセラミック基板7との位置決めを行って
おく。
First, as shown in FIG. 3A, first and second mask sheets 11 and 12 are formed on the ceramic substrate 7.
And arrange them. The first and second mask sheets 1
The openings 1 and 12 are provided with openings 13 in advance at positions corresponding to the electrode portions 8 to be respectively connected, and the first and second masks are arranged so that the openings 13 are located on the electrode portions 8. The sheets 11 and 12 and the ceramic substrate 7 are positioned.

【0319】開口部13の直径は、導電ボール6の直径
より若干大きくテーパーを設けておき、挿入性を高めて
ある。また、第1のマスクシート11の厚みh1は、コ
アの直径より薄い30μmとし、第2のマスクシート1
2の厚みh2は、h1+h2が導電ボール6の直径Dの
1.5倍より小さく、且つ、Dより大きくなるように3
0μmに設定されている。更に、第1のマスクシート1
1には、図4に示すように開口部13の周囲にスリット
14と、第1のマスクシート11端部にノッチ15を設
けておく。
The diameter of the opening 13 is tapered to be slightly larger than the diameter of the conductive ball 6 to enhance the insertability. Further, the thickness h1 of the first mask sheet 11 is set to 30 μm, which is thinner than the diameter of the core.
The thickness h2 of 2 is such that h1 + h2 is smaller than 1.5 times the diameter D of the conductive ball 6 and larger than D.
It is set to 0 μm. Furthermore, the first mask sheet 1
In FIG. 1, a slit 14 is provided around the opening 13 and a notch 15 is provided at the end of the first mask sheet 11 as shown in FIG.

【0320】導電ボール6の電極部8への配置は、第2
のマスクシート12上に導電ボール6を多数配置し、ブ
レード24を用いて掃引することにより、それぞれの開
口部13に導電ボール6を落とし込むことで一括して行
う。
The arrangement of the conductive balls 6 on the electrode portion 8 is the second.
A large number of conductive balls 6 are arranged on the mask sheet 12, and the conductive balls 6 are dropped into the respective opening portions 13 by sweeping using the blade 24, thereby collectively performing the steps.

【0321】この時、第2のマスクシート12を用いる
ことにより、配置された導電ボール6が、ブレード24
によって傷つくことを防止すると共に、第2のマスクシ
ート12が第1のマスクシート11に設けられたスリッ
ト14を覆っているため、ブレード掃引時に導電ボール
6が、スリット14に引っかかり、傷つくことも防げ
る。この結果、電極部8に配置されなかった導電ボール
6は、再び配置されることが可能となる。
At this time, by using the second mask sheet 12, the conductive balls 6 arranged are separated by the blade 24.
The second mask sheet 12 covers the slits 14 provided in the first mask sheet 11, so that the conductive balls 6 are prevented from being scratched by the slits 14 when the blade is swept. . As a result, the conductive balls 6 not arranged on the electrode portion 8 can be arranged again.

【0322】また、第1および第2のマスクシート1
1、12の厚が導電ボール6の直径の1.5倍より薄い
ため、配置された導電ボール6上に乗った導電ボール6
も、その重心よりマスクシート段差が低いため、ブレー
ドの掃引により容易に排出される事になる。
Further, the first and second mask sheets 1
Since the thicknesses of 1 and 12 are thinner than 1.5 times the diameter of the conductive balls 6, the conductive balls 6 placed on the arranged conductive balls 6
However, since the mask sheet step is lower than its center of gravity, it is easily discharged by sweeping the blade.

【0323】導電ボール6が、電極部8上に配置された
後、第2のマスクシート12は取りはずされる。そし
て、図3(b)に示すように、露出している導電ボール
6上に、半導体チップ1の電極部2がくるように位置決
めを行い配置する。
After the conductive balls 6 are arranged on the electrode portion 8, the second mask sheet 12 is removed. Then, as shown in FIG. 3B, positioning is performed so that the electrode portion 2 of the semiconductor chip 1 is placed on the exposed conductive ball 6.

【0324】次に、半導体チップ1とセラミック基板7
とを加圧することにより、それぞれの電極部2、8と点
接触している導電ボール6にも圧力が加わる。すると、
導電ボール6は、中心部のコア4は、剛性が高い鋼であ
り、周囲を被覆している導電被覆層5は柔らかく伸び易
い金であることから、この圧力によりコア4自体は変形
せず、導電被覆層5のみが変形していく。このように、
導電ボール6は、中心部に球形状のほとんど変形しない
コア4があるため、導電被覆層5は、点接触していた点
を中心とした同心円状に外側に向かって徐々に変形移動
していく。
Next, the semiconductor chip 1 and the ceramic substrate 7
By applying pressure to and, pressure is also applied to the conductive balls 6 that are in point contact with the respective electrode portions 2 and 8. Then
In the conductive balls 6, the core 4 at the central portion is made of steel having high rigidity, and the conductive coating layer 5 covering the periphery is soft and easily stretched. Therefore, the core 4 itself is not deformed by this pressure, Only the conductive coating layer 5 is deformed. in this way,
Since the conductive ball 6 has the spherical core 4 which is hardly deformed at the center, the conductive coating layer 5 gradually deforms and moves outward in a concentric circle centered on the point that was in point contact. .

【0325】この導電被覆層5の変形移動に伴い、接触
している電極部2、8との間に摩擦が生じる。この摩擦
による、半導体チップ1のアルミ電極部2の表面を覆っ
ている厚さ数百オングストロームの自然酸化膜を破壊
し、真性面を露出させることができることになる。ま
た、セラミック基板7の金メッキされた電極部8の表面
を覆っている汚染皮膜も同様に破壊されることになる。
As the conductive coating layer 5 is deformed and moved, friction is generated between the electrode portions 2 and 8 in contact with each other. Due to this friction, the natural oxide film having a thickness of several hundred angstroms covering the surface of the aluminum electrode portion 2 of the semiconductor chip 1 can be destroyed and the intrinsic surface can be exposed. Further, the contaminated film covering the surface of the gold-plated electrode portion 8 of the ceramic substrate 7 is also destroyed.

【0326】更に、図3(c)に示すように、電極部
2、8の露出した真性面と導電被覆層5とが接した状態
で、200〜350℃に加熱することにより、それぞれ
を合金化して接続する。尚、加圧と加熱は、同時に行う
ことにより、導電被覆層5の金(軟化温度100℃)を
より柔隠し、変形移動が容易に行われるようになり、合
金化による接続をより確実なものとする。
Further, as shown in FIG. 3 (c), the exposed intrinsic surfaces of the electrode portions 2 and 8 and the conductive coating layer 5 are in contact with each other and heated to 200 to 350.degree. Convert and connect. By performing the pressurization and the heating at the same time, the gold (softening temperature 100 ° C.) of the conductive coating layer 5 is softened more easily and the deformation and movement can be easily performed, so that the connection by alloying is more reliable. And

【0327】尚、この第1の実施形態においては、詳細
は図示していないが、上述した加圧及び加熱を実行する
ために、加熱ヒータを内蔵したプレス機(即ち、ホット
プレス機)を利用するものである。この加圧及び加熱動
作において、半導体チップ1の電極部2及びセラミック
基板7の電極部8の表面に夫々存在する酸化膜あるいは
汚染皮膜は、導電ボール6の導電被覆層5の移動に伴う
摩擦により破壊され、電極2、8の真性面(金、アルミ
等のピュアーな面)が露出することになる。これによ
り、導電被覆層5と電極部2、8とは、金属原子の固相
状態での拡散が容易となり、合金化/金属化すること
で、夫々電気的及び機械的に接続されることになる。
Although not shown in detail in the first embodiment, a press machine (that is, a hot press machine) having a built-in heater is used to perform the above-mentioned pressurization and heating. To do. In this pressurizing and heating operation, the oxide film or the contaminated film present on the surface of the electrode part 2 of the semiconductor chip 1 and the electrode part 8 of the ceramic substrate 7 is generated by friction caused by the movement of the conductive coating layer 5 of the conductive ball 6. It is destroyed, and the true surfaces of the electrodes 2 and 8 (pure surfaces such as gold and aluminum) are exposed. As a result, the conductive coating layer 5 and the electrode portions 2 and 8 are easily diffused in the solid state of metal atoms, and are electrically / mechanically connected to each other by alloying / metallizing. Become.

【0328】また、配置部材である第1のマスクシート
11の開口部13内に導電ボール6を保持しているた
め、接続行程中の振動、加圧治具の傾き等があっても、
導電ボール6の位置でずれを発生させずに接続すること
ができる。そして、導電被覆層5とそれぞれの電極部
2、8との接続が行われた後、第1のマスクシート11
を水平方向に引っ張ることによりノッチ15から第1の
マスクシートが裂け始め、スリット14により導電ボー
ル6が存在する開口部13に向かって裂け目が進行し、
開口部13に達することで、図3(d)に示すように、
第1のマスクシート11を半導体チップ1とセラミック
基板7との間から除去し電気回路部品が完成する。
Further, since the conductive balls 6 are held in the openings 13 of the first mask sheet 11 which is a disposing member, even if there is vibration during the connecting process, inclination of the pressing jig, etc.
It is possible to connect the conductive balls 6 without causing a displacement at the position. Then, after the conductive coating layer 5 and the respective electrode portions 2 and 8 are connected, the first mask sheet 11 is formed.
By pulling in the horizontal direction, the first mask sheet starts to tear from the notch 15, and the slit 14 advances the tear toward the opening 13 in which the conductive ball 6 exists.
By reaching the opening 13, as shown in FIG.
The first mask sheet 11 is removed from between the semiconductor chip 1 and the ceramic substrate 7 to complete an electric circuit component.

【0329】このように第1のマスクシート11を除去
することにより、半導体チップ1より横方向に突出した
部分がなくなり、実装面積が小型となる。
By removing the first mask sheet 11 in this way, there is no portion protruding laterally from the semiconductor chip 1 and the mounting area is small.

【0330】そして、必要であれば、半導体チップ1を
封止する封止樹脂10を半導体チップ1とセラミック基
板7との間に注入し、硬化させて、電気回路部品を最終
的に得る。半導体チップ1の封止方法としては、これ以
外の方式であってもかまわない。例えばメタルまたはセ
ラミックのふたによる中空封止であっても良い。
Then, if necessary, a sealing resin 10 for sealing the semiconductor chip 1 is injected between the semiconductor chip 1 and the ceramic substrate 7 and cured to finally obtain an electric circuit component. The method of sealing the semiconductor chip 1 may be another method. For example, a hollow seal with a metal or ceramic lid may be used.

【0331】この第1の実施形態によれば、2枚のマス
クシート11、12を用いることで導電ボール6を一括
かつ、導電被覆層5を変形させることなく配置できる効
果が達成されることになる。
According to the first embodiment, by using the two mask sheets 11 and 12, the effect that the conductive balls 6 can be arranged at once and without deforming the conductive coating layer 5 is achieved. Become.

【0332】この発明は、上述した第1の実施形態に限
定されることなく、この発明の趣旨を逸脱しない範囲
で、種々変形可能である。以下に、この発明の他の実施
形態を種々説明するが、以下の説明において、上述した
第1の実施形態と同一部分には、同一符号を伏して、そ
の説明を省略する。
The present invention is not limited to the above-described first embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. Various other embodiments of the present invention will be described below, but in the following description, the same parts as those in the first embodiment described above will be denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0333】(第2の実施形態)図5(a)乃至図5
(c)は、この発明に係わる電気回路部品の第2の実施
形態の構成及び製造方法を模式的に示す断面図あり、図
6(a)乃至図6(d)は、この第2の実施形態に於い
て用いられる所の、導電ボールとこの導電ボールを保持
する保持シートとを備える導電接続部材の製造方法を模
式的に示す断面図である。
(Second Embodiment) FIGS. 5A to 5
FIG. 6C is a cross-sectional view schematically showing the configuration and manufacturing method of the second embodiment of the electric circuit component according to the present invention, and FIGS. 6A to 6D show the second embodiment. FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a method of manufacturing a conductive connecting member including a conductive ball and a holding sheet that holds the conductive ball, which is used in the embodiment.

【0334】この第2の実施形態においては、図5
(a)に示すように、導電接続部材として、第1の実施
形態で説明したと同様の導電ボール6と、この導電ボー
ル6を所定の位置に保持する保持シート16とが用いら
れる。そこで、まずこの導電接続部材の製造方法の一例
を図6(a)乃至図6(d)を用いて説明する。
In this second embodiment, FIG.
As shown in (a), as the conductive connecting member, the same conductive balls 6 as described in the first embodiment and the holding sheet 16 that holds the conductive balls 6 at a predetermined position are used. Therefore, first, an example of a method for manufacturing the conductive connecting member will be described with reference to FIGS. 6A to 6D.

【0335】まず、図6(a)に示すように、接続する
電極部の位置に対応する位置に凹部18を設けた型17
に導電ボール6を配置する。この凹部18の形状として
は、4角柱形状、円錐形状、半球状など任意の形状でか
まわない。
First, as shown in FIG. 6A, a mold 17 having a recess 18 at a position corresponding to the position of the electrode part to be connected.
The conductive balls 6 are arranged in the. The shape of the recess 18 may be any shape such as a quadrangular prism shape, a conical shape, and a hemispherical shape.

【0336】また、型17の凹部18に導電ボール6を
配置する際には、型17の上に第1の実施形態で用いた
様なマスクシート11、12を用いれば、一括した状態
で配置することができる。
When the conductive balls 6 are arranged in the recesses 18 of the mold 17, if the mask sheets 11 and 12 used in the first embodiment are used on the mold 17, they are arranged in a batch. can do.

【0337】この型17の凹部18に導電ボール6を夫
々配置した後、図6(b)に示すように、その上に同様
の型17′を導電ボール6を押しつぶさない間隔で配置
する。この上型17′と下型17との間隔を達成する方
法としては、型を上下移動させる装置により制御する
か、あるいは上型17′、下型17のいずれかあるい
は、両方に型表面より突出したスペーサー部(図示せ
ず)を設け、上型17′と下型17を合せ、スペーサー
が接触した際、上型17′と下型17の互いの凹部1
8′,18の間隔が、導電ボール6の直径と等しいか若
干大きくなる様にスペーサーの突出量を予め決めておけ
ば良い。
After arranging the conductive balls 6 in the recesses 18 of the mold 17, as shown in FIG. 6B, similar molds 17 'are arranged on the recesses 18 at intervals so as not to crush the conductive balls 6. As a method for achieving the space between the upper die 17 'and the lower die 17, control is performed by a device for moving the die up or down, or one or both of the upper die 17' and the lower die 17 is projected from the die surface. A spacer part (not shown) is provided, the upper mold 17 ′ and the lower mold 17 are aligned with each other, and when the spacers come into contact with each other, the concave parts 1 of the upper mold 17 ′ and the lower mold 17
The protrusion amount of the spacer may be determined in advance so that the distance between 8'and 18 is equal to or slightly larger than the diameter of the conductive ball 6.

【0338】そして、図6(c)に示すように、上型1
7′と下型17の間にポリイミド樹脂を注入し、200
〜400℃に加熱硬化させ離型させる。この状態では、
保持シート16の表面より突出した導電ボール6の表面
までポリイミド樹脂が付着しているため、両面をエッチ
ング(例えばドライならO2プラズマによるアッシン
グ、ウェットならヒドラジン、エチレンジアシンを用い
る)し、図6(d)に示すように、導電ボール6を保持
シート16の両面から突出して露出させる。そのため、
保持シート316の膜厚は成型後よりも薄いものとな
る。このエッチング後の保持シートの膜厚は、導電ボー
ル6の接続時の導電被覆層5の変形移動を妨げないよう
に、コアの直径と等しいかそれよりも小さいことが望ま
しい。
Then, as shown in FIG. 6C, the upper mold 1
Inject polyimide resin between 7'and lower mold 17,
Heat-cure to 400 ° C. and release. In this state,
Since the polyimide resin has adhered to the surface of the conductive ball 6 protruding from the surface of the holding sheet 16, both surfaces are etched (for example, ashing with O2 plasma for dry, hydrazine, ethylene diacine for wet) is used. As shown in d), the conductive balls 6 are projected and exposed from both surfaces of the holding sheet 16. for that reason,
The film thickness of the holding sheet 316 is thinner than that after molding. The film thickness of the holding sheet after this etching is preferably equal to or smaller than the diameter of the core so as not to hinder the deformation movement of the conductive coating layer 5 when the conductive balls 6 are connected.

【0339】以上のようにして製造された導電ボール6
とこれを保持する保持シート16(図5(a)に示す)
とを備えた導電接続部材と、半導体チップ1と基板17
とを、導電ボール6が半導体チップ1の電極部2と基板
7の電極部8との間にくるように、図5(b)に示すよ
うに、それぞれ位置合せする。
Conductive balls 6 manufactured as described above
And a holding sheet 16 for holding the same (shown in FIG. 5 (a))
And a semiconductor chip 1 and a substrate 17
And so that the conductive balls 6 are located between the electrode portion 2 of the semiconductor chip 1 and the electrode portion 8 of the substrate 7, as shown in FIG. 5B.

【0340】そして、上述したホットプレス装置によ
り、導電ボール6を両電極部2、8間で加圧および加熱
することにより、保持シート16より露出している導電
ボール6の導電被覆層5とそれぞれの電極部2、8とを
合金化して接続する。この後、半導体チップ1の周囲で
保持シート16を切断し、引き続いて、封止樹脂10を
半導体チップ1と基板7との間に注入し硬化させて、図
5(c)に示すように、電気回路部品を得る。この接合
過程における効果は、第1の実施形態と同じである。
Then, the conductive balls 6 are pressed and heated between the two electrode parts 2 and 8 by the above-mentioned hot press machine, and the conductive coating layer 5 of the conductive balls 6 exposed from the holding sheet 16 is respectively removed. The electrode portions 2 and 8 are alloyed and connected. After that, the holding sheet 16 is cut around the semiconductor chip 1, and subsequently, the sealing resin 10 is injected between the semiconductor chip 1 and the substrate 7 to be cured, as shown in FIG. Obtain electrical circuit components. The effect of this joining process is the same as that of the first embodiment.

【0341】このように、第2の実施形態によれば、上
述した第1の実施形態における効果の他に、導電接続部
材を用いているので、導電ボール6が保持シート16に
密着保持されて、これにより、導電ボール6の位置ずれ
をより高精度に防ぎ、より高密度に配置することが可能
となる効果が更に達成されることになる。また、導電ボ
ール6は、保持シート14に密着して保持されているた
め、マスクシートの様に挿入用のクリアランスが必要な
く、より高精度に配置することが可能となる効果が達成
されることになる。
As described above, according to the second embodiment, in addition to the effect of the first embodiment described above, since the conductive connecting member is used, the conductive balls 6 are held in close contact with the holding sheet 16. As a result, it is possible to further prevent the positional deviation of the conductive balls 6 with higher accuracy and to achieve an effect that the conductive balls 6 can be arranged with higher density. Further, since the conductive balls 6 are held in close contact with the holding sheet 14, there is no need for a clearance for insertion as in the case of a mask sheet, and it is possible to achieve an effect that the conductive balls 6 can be arranged with higher accuracy. become.

【0342】更に、封止樹脂10と接している導電ボー
ル6の面積が小さく、封止樹脂の硬化収縮時に導電ボー
ル6にかかる応力を低減でき、接続の信頼性が上がる効
果が更に達成されることになる。 (第3の実施形態)この第3の実施形態においては、保
持シート16は、これに、上述した第1の実施形態で用
いた第1のマスクシート11に設けられたと同様のスリ
ット14や、ノッチ15を設けてある点を除き、上述し
た第2の実施形態と同様に構成されている。
Further, the area of the conductive balls 6 in contact with the sealing resin 10 is small, the stress applied to the conductive balls 6 when the sealing resin is cured and contracted can be reduced, and the effect of improving the connection reliability is further achieved. It will be. (Third Embodiment) In the third embodiment, the holding sheet 16 has a slit 14 similar to that provided in the first mask sheet 11 used in the first embodiment described above, The configuration is similar to that of the second embodiment described above except that the notch 15 is provided.

【0343】このように形成された保持シート16は、
これの両面より突出して露出している導電ボール6の導
電被覆層5と、それぞれの電極部2,8とを合金化によ
り接続した後、この保持シート16を水平方向に引っ張
ることで、これに切裂を生じさせる事が可能となる。こ
の結果、保持シート16の切裂がスリット14により導
電ボール6に向い達することで、この保持シート16
が、もはや導電ボール6を保持しなくなり、導電ボール
6および、それぞれの接続部にストレスをかけずに保持
シート16を除去し、電気回路部品を得る事ができるこ
とになる。
The holding sheet 16 thus formed is
After the conductive coating layer 5 of the conductive balls 6 protruding and exposed from both sides of the conductive ball 6 and the respective electrode portions 2 and 8 are connected by alloying, the holding sheet 16 is pulled in the horizontal direction to It is possible to cause a tear. As a result, the slit of the holding sheet 16 reaches the conductive ball 6 through the slit 14, and the holding sheet 16 is cut.
However, the conductive balls 6 are no longer held, and the holding sheet 16 can be removed without applying stress to the conductive balls 6 and the respective connecting portions, and an electric circuit component can be obtained.

【0344】このように保持シート16にスリット14
やノッチ15を設ける方法としては、上述した第2の実
施形態で型に設けたスペーサをスリット14やノッチ1
5の形状にして、所望の位置に配置すれば、その部分に
樹脂が充填されず、離型した際に、スリット14やノッ
チ15を得ることができる。
As described above, the slit 14 is formed in the holding sheet 16.
As a method for providing the notch 15 and the notch 15, the spacer provided on the mold in the second embodiment described above is used as the slit 14 and the notch 1.
If it is formed in the shape of 5 and arranged at a desired position, the portion is not filled with the resin, and the slit 14 and the notch 15 can be obtained when the mold is released.

【0345】この第3の実施形態によれば、上述した第
2の実施形態において達成される効果の他に、保持シー
ト16が容易に且つ確実に除去されることとなり、これ
により、半導体チップ1のサイズより出っ張る部分がな
くなり、より小型の電気回路部品を得る効果を達成する
ことができることになる。 (第4の実施形態)図7は、この発明に係わる電気回路
部品の第4の実施形態の構成を模式的に示す断面図であ
る。この図7において、参照符号19は受光素子である
CCDを示しておりこのCCDの表面には、受光部20
が設けられている。また、参照符号21は無色・透明な
ガラス基板を、参照符号22はガラス基板21上の配線
パターンを夫々示している。
According to the third embodiment, in addition to the effect achieved in the above-described second embodiment, the holding sheet 16 can be easily and surely removed, which allows the semiconductor chip 1 to be removed. Since there is no projecting portion, the effect of obtaining a smaller electric circuit component can be achieved. (Fourth Embodiment) FIG. 7 is a sectional view schematically showing the configuration of a fourth embodiment of an electric circuit component according to the present invention. In FIG. 7, reference numeral 19 denotes a CCD which is a light receiving element, and the light receiving portion 20 is provided on the surface of this CCD.
Is provided. Further, reference numeral 21 indicates a colorless and transparent glass substrate, and reference numeral 22 indicates a wiring pattern on the glass substrate 21.

【0346】このこの第4の実施形態においては、導電
ボール6のコア4としてφ40μのシリカ(SiO2)球
を用い、その表面をパラジウム処理した後、無電解メッ
キにより金で5μ被覆し、金からなる導電被覆層5を形
成している。また、電気回路基板21としては、透光性
のあるガラス上に、配線パターン22を形成してある。
配線パターン22の構造としては、Moを下地層として
その上に金が設けられている。
In this fourth embodiment, silica (SiO 2) spheres having a diameter of 40 μm are used as the cores 4 of the conductive balls 6, the surface of which is treated with palladium, and then 5 μm of gold is coated by electroless plating. The conductive coating layer 5 is formed. Further, as the electric circuit board 21, the wiring pattern 22 is formed on a glass having a light transmitting property.
As the structure of the wiring pattern 22, Mo is used as a base layer and gold is provided thereon.

【0347】そして、この導電ボール6を用いて、CC
D19の電極部2と、配線パターン22の電極部8と
を、上記した種々の実施形態のいずれかの方法により、
合金化して接続し、電気回路部品を得ている。
Then, using this conductive ball 6, CC
The electrode portion 2 of D19 and the electrode portion 8 of the wiring pattern 22 are formed by any of the methods of the above-described various embodiments.
They are alloyed and connected to obtain electrical circuit parts.

【0348】この第4の実施形態において、導電ボール
6のコア4は、分散することで、その径のバラツキを±
1μ程度と極めて高精度に保っている。また、接続時
に、このコア4は、接続時に実質的に変形せず、周囲の
導電被覆層5のみが変形移動し、更に、コア4が変形ス
トッパーとして働くため、CCD19の電極部2とガラ
ス基板21の電極部8との間隔は、コア4の直径と、変
形移動によってわずかな厚みとなった導電被覆層の合計
であり、コアの約直径となる。
In the fourth embodiment, the cores 4 of the conductive balls 6 are dispersed so that the variation in the diameter thereof is ±.
The accuracy is kept extremely high at about 1μ. Further, at the time of connection, the core 4 is not substantially deformed at the time of connection, only the surrounding conductive coating layer 5 is deformed and moved, and further, the core 4 functions as a deformation stopper, so that the electrode portion 2 of the CCD 19 and the glass substrate. The distance between the electrode 21 and the electrode portion 8 is the total of the diameter of the core 4 and the conductive coating layer having a slight thickness due to the deformation movement, and is approximately the diameter of the core.

【0349】従って、CCD19の表面と、ガラス基板
21の表面とは、高精度に平行を保って接続される。そ
のため、この電気回路部品においては、CCD受光面の
チルト、パンといった2つの軸に対する傾き(角度)を
調整することを省くことが可能となる。更に、Z軸(焦
点深度)に関しても、ガラス基板21の表面が光学基準
として使用できる。
Therefore, the surface of the CCD 19 and the surface of the glass substrate 21 are connected in parallel with each other with high precision. Therefore, in this electric circuit component, it is possible to omit adjusting the inclination (angle) with respect to two axes such as tilt and pan of the CCD light receiving surface. Further, regarding the Z axis (depth of focus), the surface of the glass substrate 21 can be used as an optical reference.

【0350】従って、この第4の実施形態によれば、C
CDを含んだ電気回路部品の取付調整に必要なY,Y,
Z,チルト,パン,ローテーションという6つの調整方
向に対し、2つあるいは3つの調整方向を省略できる事
になる。そのため、取付調整時間の短縮だけでなく、取
付部材の構造を簡略化し、剛性が高まることにより、受
光特性の安定性(レジ安定性)が高まる効果が達成され
ることになる。
Therefore, according to the fourth embodiment, C
Y, Y, which is necessary for mounting and adjustment of electric circuit parts including CD
With respect to the six adjustment directions of Z, tilt, pan, and rotation, it is possible to omit two or three adjustment directions. Therefore, not only the mounting adjustment time is shortened, but also the structure of the mounting member is simplified and the rigidity is increased, whereby the effect of improving the stability of the light receiving characteristics (registration stability) is achieved.

【0351】更に、この第4の実施形態によれば、導電
ボール6のコアの材料をシリカ(α=2.6×10-6/
℃)としたことで、CCD16の基板材料であるSi
(α=2.8×10-6/℃)及びガラス基板材料として
用いたパイレックスガラス(α=3.6×10-6/℃)
と、熱膨張係数差を小さくしたことにより、接続部への
熱応力を削減すると共に、位置調整後の受光部20の温
度によるずれも小さくし、受光特性の安定化が図られる
事になる。
Furthermore, according to the fourth embodiment, the material of the core of the conductive balls 6 is silica (α = 2.6 × 10 −6 /
℃), the substrate material of CCD16 is Si
(Α = 2.8 × 10 −6 / ° C.) and Pyrex glass used as the glass substrate material (α = 3.6 × 10 −6 / ° C.)
By reducing the difference in the coefficient of thermal expansion, the thermal stress on the connection portion is reduced, and the deviation due to the temperature of the light receiving unit 20 after position adjustment is also reduced, so that the light receiving characteristics are stabilized.

【0352】また、この第4の実施形態においては、電
気回路基板21の基板材料として無色・透明なガラスを
用いたが、基板材料として、着色ガラス、フィルター特
性を有する膜が設けられたガラスであっても同様の効果
が得られることは自明である。
In the fourth embodiment, colorless and transparent glass is used as the substrate material of the electric circuit board 21, but colored glass or glass provided with a film having filter characteristics is used as the substrate material. It is obvious that the same effect can be obtained even if there is.

【0353】また、電気回路素子として、CCDの替わ
りにLED、面発光LDを用いた場合には、同様に素子
面(発光面)と基板とが高精度に平行を保っていること
により、出射光のフレに対する調整を簡略化することが
可能となる効果が達成されることになる。 (第5の実施形態)図8は、この発明に係わる電気回路
部品の第5の実施形態を模式的に示す断面図である。
When an LED or a surface emitting LD is used as an electric circuit element instead of a CCD, the element surface (light emitting surface) and the substrate are kept in parallel with each other with high accuracy. The effect that it is possible to simplify the adjustment for the deflection of the emitted light is achieved. (Fifth Embodiment) FIG. 8 is a sectional view schematically showing a fifth embodiment of the electric circuit component according to the present invention.

【0354】この第5の実施形態においては、上述した
第4の実施形態に於いて保持シート16が更に用いられ
ている。ここで、この保持シート16の、CCD19の
受光部20に対応する位置には、開口部23が設けられ
ている。このように開口部23が設けられた保持シート
16に保持された導電ボール6を用いて、CCD19の
電極部2と、ガラス基板21の配線パターン22の電極
部8とを合金化して接続している。
In the fifth embodiment, the holding sheet 16 in the above-mentioned fourth embodiment is further used. Here, an opening 23 is provided in the holding sheet 16 at a position corresponding to the light receiving portion 20 of the CCD 19. By using the conductive balls 6 held by the holding sheet 16 having the openings 23 as described above, the electrode portion 2 of the CCD 19 and the electrode portion 8 of the wiring pattern 22 of the glass substrate 21 are alloyed and connected to each other. There is.

【0355】この第5の実施形態では、保持シート16
の材料として、光の透過率を下げるため、着色されたポ
リイミド樹脂(例えばCPUトーンBシリーズ、東レ・
デュポン(株)製)を用いている。そのため、ガラス基
板21の裏面側から入射した光のうち、信号光として、
CCD19の受光部20に入射するものは、保持シート
16の開口部23を通過するため減衰しないが、受光部
20以外のCCD表面へ入射しようとする光は、保持シ
ート16により、強度が減衰する事になる。
In this fifth embodiment, the holding sheet 16
To reduce the light transmittance, a colored polyimide resin (for example, CPU tone B series, Toray
Dupont Co., Ltd. is used. Therefore, of the light incident from the back surface side of the glass substrate 21, as signal light,
The light incident on the light receiving portion 20 of the CCD 19 is not attenuated because it passes through the opening 23 of the holding sheet 16, but the intensity of light that is about to enter the CCD surface other than the light receiving portion 20 is attenuated by the holding sheet 16. It will be a matter.

【0356】更に、保持シート16を透過し、CCD1
9表面で反射しても、再び保持シート16を透過した
後、ガラス基板側へ向かうため、その際にも強度が減衰
する。このため、この第5の実施形態によれば、CCD
19の受光部以外での反射光によるゴースト光強度を大
幅に低下させることができる効果が達成されることにな
る。また、保持シート16は導電ボール6の裏面のかな
りの部分を覆っているため、導電ボール6を介した反射
ゴースト光の発生を抑えることができる効果が達成され
ることになる。このように、この第5の実施形態では、
上述した第4の実施形態における効果の他に、CCD1
9の受光性のS/Nの向上を図ることが可能となる。
Furthermore, the light is transmitted through the holding sheet 16, and the CCD 1
Even if the light is reflected on the surface 9, the light passes through the holding sheet 16 again and then goes to the glass substrate side, so that the strength also decreases at that time. Therefore, according to the fifth embodiment, the CCD
The effect that the intensity of the ghost light due to the reflected light other than the light receiving portion of 19 can be significantly reduced is achieved. Further, since the holding sheet 16 covers a considerable part of the back surface of the conductive ball 6, the effect of suppressing generation of reflected ghost light via the conductive ball 6 is achieved. Thus, in this fifth embodiment,
In addition to the effects of the fourth embodiment described above, the CCD 1
It is possible to improve the S / N of the light-receiving property of No. 9.

【0357】また、電気回路素子としてCCDの他に、
LED、面発光LDを用いた場合には、出射ブーム分布
の周辺部で、光信号として使用しない部分を保持シート
でカットすることにより、ノイズ光の出射を防ぎ、光信
号のS/Nを高めることが可能となる。 (第6の実施形態)図9は、この発明に係わる電気回路
部品の第6の実施形態を模式的に示す断面図である。
Further, in addition to the CCD as an electric circuit element,
When LEDs and surface emitting LDs are used, noise light is prevented from being emitted and the S / N of the optical signal is increased by cutting a portion of the output boom distribution that is not used as an optical signal with a holding sheet. It becomes possible. (Sixth Embodiment) FIG. 9 is a sectional view schematically showing a sixth embodiment of the electric circuit component according to the present invention.

【0358】この第6の実施形態においては、1つの電
極部2に複数の導電ボール6を配置し、これら複数の導
電ボール6を介して2つの電極部2,8を合金化して接
続している。
In the sixth embodiment, a plurality of conductive balls 6 are arranged in one electrode portion 2, and the two electrode portions 2 and 8 are alloyed and connected via the plurality of conductive balls 6. There is.

【0359】このような複数の導電ボール6を電極部2
に配置する方法としては、上述した第1の実施形態で使
用したマスクシート11を用い、このマスクシート11
の開口サイズを、ここに配置する導電ボールの直径×個
数となるように設定しておけば良い。
A plurality of such conductive balls 6 are provided in the electrode portion 2
The mask sheet 11 used in the above-described first embodiment is used as the method for arranging
The size of the opening may be set to be (diameter × number of conductive balls arranged here) × (number of conductive balls).

【0360】この第6の実施形態によれば、上述した第
1の実施形態における効果に加えて、接続される電極部
2,8間が、複数の導電ボール6により接続されること
で、並列接続となり、より接続抵抗を小さくする効果を
達成することができることになる。 (第7の実施形態)図10(a)乃至図10(d)は、
この発明に係わる電気回路部品の第7の実施形態におけ
る製造方法を模式的に示す断面図である。図中、参照符
号25は石英からなる型26の表面に形成された凹部を
示している。
According to the sixth embodiment, in addition to the effect of the first embodiment described above, the electrode portions 2 and 8 to be connected are connected by a plurality of conductive balls 6, thereby providing a parallel connection. Connection is achieved, and the effect of further reducing the connection resistance can be achieved. (Seventh Embodiment) FIGS. 10A to 10D are
It is sectional drawing which shows typically the manufacturing method in 7th Embodiment of the electric circuit component concerning this invention. In the figure, reference numeral 25 indicates a recess formed on the surface of a mold 26 made of quartz.

【0361】この第7の実施形態においては、図10
(a)に示す様に、石英からなる型26の表面には、接
続する半導体チップ1の電極2に対応する位置に凹部2
5が設けられている。この型26の表面に複数の導電ボ
ール6を置き、ブレード24で導電ボール6を掃くこと
で、凹部25に導電ボール6が収納・配置される。この
時、配置された導電ボール6は、凹部25内の周壁部分
と底部分に接触して、コア4が型26の表面より突出し
ている位置関係になる様に保持される。このように導電
ボール6が保持できれば、凹部25の形状に付いては、
特に制限はない。
In this seventh embodiment, FIG.
As shown in (a), on the surface of the mold 26 made of quartz, a recess 2 is formed at a position corresponding to the electrode 2 of the semiconductor chip 1 to be connected.
5 are provided. By placing a plurality of conductive balls 6 on the surface of the mold 26 and sweeping the conductive balls 6 with the blade 24, the conductive balls 6 are housed and arranged in the recess 25. At this time, the arranged conductive balls 6 come into contact with the peripheral wall portion and the bottom portion in the recess 25, and are held so that the core 4 has a positional relationship in which the core 4 projects from the surface of the mold 26. If the conductive balls 6 can be held in this manner, the shape of the concave portion 25
There is no particular limitation.

【0362】このように導電ボール6の配置が終了した
後、図10(b)に示すように、半導体チップ1の電極
部2と配置された導電ボール6とを位置決めし、この
後、半導体チップ1と石英型26とを加圧、加熱するこ
とにより、導電被覆層6と半導体チップ1の電極部2の
みが合金化して接続される。接続が終了した後、半導体
チップ1を取り上げることにより、図10(c)に示す
ように、電極部2に導電ボール6が接続された半導体チ
ップ1が得られる(そして、図10(d)に示すよう
に、この接続された導電ボール6が、樹脂基板27の配
線パターン22の電極部8上にくるように、半導体チッ
プ1と樹脂基板27とを位置決めした後、バネ(図示せ
ず)により半導体チップ1を樹脂基板27に押し付けて
接続を行なう。
After the placement of the conductive balls 6 is completed in this way, as shown in FIG. 10B, the electrode portion 2 of the semiconductor chip 1 and the placed conductive balls 6 are positioned, and thereafter, the semiconductor chip is placed. By pressing and heating 1 and the quartz mold 26, only the conductive coating layer 6 and the electrode portion 2 of the semiconductor chip 1 are alloyed and connected. After the connection is completed, the semiconductor chip 1 is picked up to obtain the semiconductor chip 1 in which the conductive balls 6 are connected to the electrode portions 2 as shown in FIG. 10C (and in FIG. 10D). As shown in the figure, after the semiconductor chip 1 and the resin substrate 27 are positioned so that the connected conductive balls 6 are on the electrode portions 8 of the wiring pattern 22 of the resin substrate 27, a spring (not shown) is used. The semiconductor chip 1 is pressed against the resin substrate 27 for connection.

【0363】この第7の実施形態によれば、導電ボール
6と接する片側の電極のみを合金化により接続している
ため、バネの圧力を解放することで容易に半導体チップ
1を樹脂基板7から取り外すことが可能となる。
According to the seventh embodiment, since only the electrode on one side in contact with the conductive ball 6 is connected by alloying, the semiconductor chip 1 is easily separated from the resin substrate 7 by releasing the pressure of the spring. It can be removed.

【0364】(第8の実施形態)図11は、この発明に
係わる電気回路部品の第8の実施形態の構成を模式的に
示す断面図であり、図12は、この第8の実施形態にお
いて用いられる導電ボールを取り出して模式的に示す断
面図であり、図13(a)乃至図13(c)は、図11
に示す電気回路部品の製造方法を模式的に示す断面図で
あり、図14は、この電気回路部品を製造する際に使用
する配置部材であるマスクシートを取り出して示す斜視
図である。
(Eighth Embodiment) FIG. 11 is a sectional view schematically showing the construction of an eighth embodiment of an electric circuit component according to the present invention, and FIG. 12 shows the structure of the eighth embodiment. FIG. 13 is a cross-sectional view schematically showing the used conductive balls taken out, and FIGS. 13 (a) to 13 (c) show FIG.
FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing the electric circuit component shown in FIG. 14, and FIG. 14 is a perspective view showing a mask sheet as an arrangement member used when manufacturing the electric circuit component taken out.

【0365】図11に示すように、この第8の実施形態
における電気回路素子1の基本的な構成は、図1に示す
第1の実施形態における電気回路素子と同一である。異
なる点は、図12に示すように、導電ボール6′の表面
には、多数の凹部28が設けられている点である。
As shown in FIG. 11, the basic configuration of the electric circuit element 1 in the eighth embodiment is the same as that of the electric circuit element in the first embodiment shown in FIG. The difference is that, as shown in FIG. 12, a large number of recesses 28 are provided on the surface of the conductive balls 6 '.

【0366】即ち、この第8の実施形態においては、図
12に示すように、表面に複数の凹部28と凸部29と
を交互に有する導電ボール6′を、半導体チップ1の電
極部2とセラミック基板7の電極部8との間に介在さ
せ、両者の間で加圧、及び加熱する。そして、導電ボー
ル6′の導電被覆層5′を変形移動させる際の凹部28
及び凸部29の変形及び摩擦により、半導体チップ1の
アルミパッド2及びセラミック基板7の電極部8の表面
に存在する自然酸化膜及び汚染皮膜を破壊し、凹部28
と凸部29とで作る窪みにより、酸化膜及び汚染膜をよ
り大きく移動させる。これにより、電極部2及び電極部
8をなす金属材の真性面をより広く露出させて、導電被
覆層5と電極部2及び電極部8とを合金化して接続し、
接続後、封止樹脂10を半導体チップ1とセラミック基
板7との間に注入し硬化させて、図11に示す電気回路
部品を得ている。
That is, in the eighth embodiment, as shown in FIG. 12, a conductive ball 6'having a plurality of concave portions 28 and convex portions 29 alternately formed on the surface thereof is used as the electrode portion 2 of the semiconductor chip 1. The ceramic substrate 7 is interposed between the electrode portion 8 and the ceramic substrate 7, and pressure and heat are applied between them. Then, the recess 28 is formed when the conductive coating layer 5'of the conductive ball 6'is deformed and moved.
By the deformation and friction of the convex portion 29, the natural oxide film and the contaminated film existing on the surface of the aluminum pad 2 of the semiconductor chip 1 and the electrode portion 8 of the ceramic substrate 7 are destroyed, and the concave portion 28
The oxide film and the contaminated film are moved to a greater extent by the depression formed by the convex portion 29 and the convex portion 29. Thereby, the intrinsic surface of the metal material forming the electrode portions 2 and 8 is exposed more widely, and the conductive coating layer 5 and the electrode portions 2 and 8 are alloyed and connected,
After the connection, the sealing resin 10 is injected between the semiconductor chip 1 and the ceramic substrate 7 and cured to obtain the electric circuit component shown in FIG.

【0367】以下に、この表面に凹部28及び凸部29
を有する導電ボール6と、電気回路部品の製造方法につ
いて説明する。
Below, a concave portion 28 and a convex portion 29 are formed on this surface.
A method of manufacturing the conductive ball 6 having the above and the electric circuit component will be described.

【0368】先ず、導電ボール6′は、図12に示す様
に、第1の実施形態と同様に、コア4と、その周囲を被
覆している導電被覆層5′とから構成され、導電被覆層
5′の表面には、複数の凹部28と、凸部29が設けれ
れている。
First, as shown in FIG. 12, the conductive ball 6 ′ is composed of the core 4 and the conductive coating layer 5 ′ covering the core 4 as in the first embodiment. A plurality of concave portions 28 and convex portions 29 are provided on the surface of the layer 5 '.

【0369】この第8の実施形態においては、コア4
は、鋼からなる球であり、精密な研磨により球形状を呈
するように形成されている。このコア4の表面にパラジ
ウムによる活性化処理を施した後に、無電解メッキによ
り、導電被覆層5となる金を被覆する。コア4の直径は
40μmに、また、、導電被覆層5′の膜厚は5μmに
設定されている。
In the eighth embodiment, the core 4
Is a sphere made of steel and is formed into a spherical shape by precision polishing. After activating the surface of the core 4 with palladium, electroless plating is performed to cover the surface of the core 4 with gold to be the conductive coating layer 5. The diameter of the core 4 is set to 40 μm, and the film thickness of the conductive coating layer 5 ′ is set to 5 μm.

【0370】この導電被覆層5′を被覆した状態では、
コア4の表面が球面であることから、導電被覆層5′の
表面も滑らかな球面である。そこで、導電被覆層5′の
表面に凹部28及び凸部29を設けるため、微細な砥粒
を用いた研磨を行う。この研磨方法としては、例えば、
所望の砥粒を先ずしたラップ盤に導電ボール6を押しつ
けてラップすることにより、容易に凸凹を設けることが
可能である。また、別の方法としては、導電ボール6に
砥粒を空圧、水圧等にぶつける所謂ブラスト法によって
も凸凹を設けることができる。また、他の方法として、
砥粒が設けられた検索ベルトを導電ボール6に押しつけ
ることで、凸凹を設ける方法や、砥粒を含んだ益虫に導
電ボール6を入れ撹拌することで凸凹を設ける所謂バレ
ル研磨法等も使用できる。
With the conductive coating layer 5'covered,
Since the surface of the core 4 is spherical, the surface of the conductive coating layer 5'is also smooth. Therefore, in order to provide the concave portion 28 and the convex portion 29 on the surface of the conductive coating layer 5 ', polishing using fine abrasive grains is performed. As this polishing method, for example,
It is possible to easily form the unevenness by pressing the conductive balls 6 against a lapping machine having desired abrasive grains first and lapping the conductive balls 6. Further, as another method, the unevenness can be provided by a so-called blast method in which the conductive balls 6 are hit with abrasive particles against air pressure, water pressure, or the like. Alternatively,
A method of forming unevenness by pressing a search belt provided with abrasive grains against the conductive balls 6 or a so-called barrel polishing method of forming unevenness by putting the conductive balls 6 in a beneficial insect containing abrasive grains and stirring .

【0371】ここで、導電被覆層5′の表面に所望の凹
部28及び凸部29が設けられるならば、砥粒の材質、
サイズ、また研磨の方法については問わない。例えば、
砥粒としては、ダイヤモンド、炭化ホウ素、SiC、T
iC、Al2O3、WC等が用いられ、砥粒サイズとして
も、0.25μm〜50μmまでの任意のサイズを用い
ることができる。また、研磨方法としても、研削ベルト
方法、バフ研磨方法、バレル研磨方法、プラスチング方
法等を用いることができる。
If desired recesses 28 and protrusions 29 are provided on the surface of the conductive coating layer 5 ', the material of the abrasive grains,
The size and the polishing method are not limited. For example,
Abrasive grains include diamond, boron carbide, SiC, T
iC, Al2O3, WC, or the like is used, and the abrasive grain size can be any size from 0.25 μm to 50 μm. Further, as the polishing method, a grinding belt method, a buff polishing method, a barrel polishing method, a plasting method or the like can be used.

【0372】または、砥粒として、微細な金属粒子、例
えば、Ni、W、Mo及びこれらを主成分とする炭化
物、硅化物等を、導電ボール表面に若干の加圧を加え
て、食い込ませた後に、酸によるエッチングを行うこと
で、この微細な金属粒子を溶解させ、導電ボール表面に
凹部及び凸部を設ける方法も使用できる。例えば、金属
粒子としてMoを使用したときには、エッチング液とし
て、硝酸、王水のような酸化性酸、溶融酸化性諸塩が使
用でき、Wの場合には、硝酸−弗酸、溶融酸化塩、過酸
化物により、溶解させることができる。
Alternatively, as the abrasive grains, fine metal particles such as Ni, W, Mo, and carbides and sulfides containing these as the main components were slightly pressed onto the surface of the conductive balls to cause them to bite. It is also possible to use a method in which by etching with an acid later, the fine metal particles are dissolved to form concave portions and convex portions on the surface of the conductive balls. For example, when Mo is used as the metal particles, nitric acid, oxidizing acids such as aqua regia, and molten oxidizing salts can be used as the etching solution, and in the case of W, nitric acid-hydrofluoric acid, molten oxide salts, It can be dissolved with a peroxide.

【0373】この第8の実施形態においては、1μ〜3
μmのサイズを持つダイヤモンド砥粒を用いた研磨盤上
に導電ボール6′を回転させることで、導電被覆層5′
の表面に凹部28と凸部29を設けた。この設けられた
凹部28と凸部29の山頂と谷底の高さの差の最大Rm
axは、0.2〜6μmとなった。
In the eighth embodiment, 1 μ-3
By rotating the conductive balls 6'on a polishing plate using diamond abrasive grains having a size of μm, the conductive coating layer 5 '
A concave portion 28 and a convex portion 29 are provided on the surface of the. The maximum difference Rm between the heights of the peaks and the valley bottoms of the recesses 28 and the protrusions 29 provided is Rm.
The ax was 0.2 to 6 μm.

【0374】次に、この導電ボール6′を用いた電気回
路部品の製造方法を、図13を用いて説明する。
Next, a method of manufacturing an electric circuit component using the conductive balls 6'will be described with reference to FIG.

【0375】まず、セラミック基板7の上に、第1と第
2のマスクシート11,12を重ねて設置する。尚、第
1と第2のマスクシート11,12には、上述した第1
の実施形態と同様に、それぞれ接続する電極部8に対応
する位置に開口部13を設けておき、この開口部13が
電極部8上の位置にくるように、マスクシート11,1
2とセラミック基板7とを位置決めを行っておく。開口
部13の直径は、導電ボール6′の直径より若干大きく
テーパーを設けておき挿入性を高めてある。また、第1
のマスクシートの厚みh1はコアの直径より薄い30μ
mとし、第2のマスクシート12の厚みh2は、h1+h
2が、導電ボール6′の直径Dの1.5倍より小さく、
且つDより大きくなるように30μmとした。
First, the first and second mask sheets 11 and 12 are placed on the ceramic substrate 7 in an overlapping manner. The first and second mask sheets 11 and 12 have the above-mentioned first
Similar to the above embodiment, the opening portions 13 are provided at the positions corresponding to the electrode portions 8 to be respectively connected, and the mask sheets 11, 1 are placed so that the opening portions 13 are located on the electrode portions 8.
2 and the ceramic substrate 7 are positioned. The diameter of the opening 13 is slightly larger than the diameter of the conductive ball 6 ', and a taper is provided to improve the insertability. Also, the first
The thickness h1 of the mask sheet is 30μ, which is thinner than the diameter of the core.
m, and the thickness h2 of the second mask sheet 12 is h1 + h
2 is smaller than 1.5 times the diameter D of the conductive ball 6 ',
Further, it is set to 30 μm so as to be larger than D.

【0376】更に、第1のマスクシート11には、図1
4に示すように、開口部13の周囲にスリット14と第
1のマスクシート11端部にノッチ15を設けてある。
導電ボール6の電極部8への配置は、図13(a)に
示すように、第2のマスクシート12上に、導電ボール
6′を多数配置し、ブレード24を用いて掃引すること
により、それぞれの開口部13に導電ボール6′を落と
し込むことで一括して行う。この時、第2のマスクシー
ト12を用いていることにより、配置された導電ボール
6′が、ブレード24によって傷つくことを防止すると
共に、第2のマスクシート12が、第1のマスクシート
11に設けられたスリット14を覆っているため、ブレ
ード掃引時に導電ボール6′がスリット14に引っかか
り、傷つくことも防げる。
Further, as shown in FIG.
As shown in FIG. 4, a slit 14 is provided around the opening 13 and a notch 15 is provided at the end of the first mask sheet 11.
As shown in FIG. 13A, the conductive balls 6 are arranged on the electrode portion 8 by arranging a large number of conductive balls 6 ′ on the second mask sheet 12 and sweeping them by using a blade 24. The conductive balls 6'are dropped into the respective openings 13 to carry out collectively. At this time, by using the second mask sheet 12, the arranged conductive balls 6 ′ are prevented from being damaged by the blade 24, and the second mask sheet 12 becomes the first mask sheet 11. Since the slit 14 provided is covered, it is also possible to prevent the conductive ball 6 ′ from being caught by the slit 14 and being damaged when the blade is swept.

【0377】そのため、電極部8に配置されなかった導
電ボール6′は、再び配置されることが可能となる。ま
た、第1及び第2のマスクシート11、12の厚さが導
電ボール6′の直径の1.5倍より薄いため、配置され
た導電ボール6′上に乗った導電ボール6′も、その重
心よりマスクシート段差が低いため、ブレードの掃引に
より容易に排出されることになる。
Therefore, the conductive balls 6'which have not been arranged in the electrode portion 8 can be arranged again. Further, since the thickness of the first and second mask sheets 11 and 12 is thinner than 1.5 times the diameter of the conductive ball 6 ', the conductive ball 6'mounted on the arranged conductive ball 6'is also Since the mask sheet step is lower than the center of gravity, it is easily discharged by sweeping the blade.

【0378】導電ボール6′が、電極部8上に配置され
た後、第2のマスクシート12は取りはずされる。そし
て、図13(b)に示すように、露出している導電ボー
ル6′上に半導体チップ1の電極部2がくるように、位
置決めを行い配置する。
After the conductive balls 6'are arranged on the electrode portion 8, the second mask sheet 12 is removed. Then, as shown in FIG. 13B, the electrodes are positioned and arranged so that the electrode portions 2 of the semiconductor chip 1 are placed on the exposed conductive balls 6 '.

【0379】次に、半導体チップ1とセラミック基板7
とを加圧することにより、それぞれの電極部2、8と点
接触している導電ボール6′にも、圧力が加わる。する
と、導電ボール6′は、中心部のコア4は、剛性が高い
鋼であり、周囲を被覆している導電被覆層5′は、柔ら
かく伸び易い金であることから、この圧力により、コア
4は変形せず、導電被覆層5′が変形していく。更に、
導電ボール6′は、中心部に球形のほとんど変形しない
コア4があるため、導電被覆層5′は、点接触していた
点を中心とした、同心円状に外側に向かって変形移動し
ていく。
Next, the semiconductor chip 1 and the ceramic substrate 7
By pressurizing and, pressure is also applied to the conductive balls 6'which are in point contact with the respective electrode portions 2 and 8. Then, in the conductive ball 6 ', the core 4 at the central portion is made of steel having high rigidity, and the conductive coating layer 5'covering the periphery is made of soft and easy-to-stretch gold. Does not deform, and the conductive coating layer 5'deforms. Furthermore,
Since the conductive ball 6'has a spherical core 4 which is hardly deformed in the central portion, the conductive coating layer 5'deforms and moves outward concentrically around the point of point contact. .

【0380】この導電被覆層5′の変形移動に伴い、電
極部2,8との接触も点接触から面接触となり、この接
触面において、電極部2,8も変形し、更に、変形移動
している導電被覆層5′との間に摩擦が生じる。この変
形及び摩擦により、半導体チップ1の電極部2の表面を
覆っている厚さ数百オングストロームの自然酸化膜が破
壊され、真性面が露出することになる。また、セラミッ
ク基板7の金メッキされた電極部8の表面を覆っている
汚染皮膜も同様に破壊される事になる。
As the conductive coating layer 5'deforms and moves, the contact with the electrode portions 2 and 8 also changes from point contact to surface contact. At this contact surface, the electrode portions 2 and 8 also deform and further deform and move. Friction occurs between the conductive coating layer 5 ′ and the conductive coating layer 5 ′. Due to this deformation and friction, the natural oxide film having a thickness of several hundred angstroms covering the surface of the electrode portion 2 of the semiconductor chip 1 is destroyed and the intrinsic surface is exposed. In addition, the contaminated film covering the surface of the gold-plated electrode portion 8 of the ceramic substrate 7 is also destroyed.

【0381】このように、この第8の実施形態において
は、導電ボール6′の表面に微少な凹部28,凸部29
を持つことにより、この接続過程において、ミクロ的に
各凸部が、接触時に高圧力を発生し、更に、この凸部が
変形する際の摩擦力によって、酸化膜の破壊がより促進
され、より広い真性面が露出する。露出する真性面の面
積が広ければ、後に述べる接続において、合金化する領
域が広がるため、接続強度はより高く、接続抵抗は、よ
り低くなると共に、従来の接合領域が減るため、より小
さい接続面積であっても、従来と同じ接続特性(機械的
及び電気的)を得ることができるため、接続部をより小
型化することが可能となる。 電極2、8の露出した真
性面と導電被覆層5′とが接した状態で、200〜35
0℃に加熱することにより、それぞれ合金化して、図3
(c)に示すように、接続されることになる。
As described above, in the eighth embodiment, the minute recesses 28 and the protrusions 29 are formed on the surface of the conductive ball 6 '.
By having, in the connection process, each convex portion microscopically generates a high pressure at the time of contact, and further, the frictional force when the convex portion is deformed further promotes the destruction of the oxide film. A wide intrinsic surface is exposed. The larger exposed area of the intrinsic plane, the larger the area to be alloyed in the connection described later, the higher the connection strength, the lower the connection resistance, and the smaller the conventional bonding area, resulting in a smaller connection area. However, since the same connection characteristics (mechanical and electrical) as in the past can be obtained, the connection portion can be further downsized. With the exposed intrinsic surfaces of the electrodes 2 and 8 in contact with the conductive coating layer 5 ', 200 to 35
By heating to 0 ° C, they are alloyed and
It will be connected as shown in (c).

【0382】尚、加圧と加熱は同時に行うことにより、
導電被覆層5′の金(軟化温度100℃)をより柔らか
くし、変形移動が容易に行われるようになり、合金化に
よる接続をより確実なものとする。また、配置部材であ
る第1のマスクシート11の開口部13内に、導電ボー
ル6′を保持しているため、接続工程中の振動,加圧治
具の傾き等があっても、導電ボール6′の位置ズレを発
生させずに接続することができる。
By applying pressure and heating at the same time,
The gold (softening temperature 100 ° C.) of the conductive coating layer 5 ′ is made softer, the deformation movement is facilitated, and the connection by alloying is made more reliable. Further, since the conductive balls 6'are held in the openings 13 of the first mask sheet 11 which is a disposing member, even if there is vibration during the connecting process, tilt of the pressing jig, etc. It is possible to connect without generating the positional deviation of 6 '.

【0383】そして、導電被覆層5′とそれぞれの電極
部2,8との接続が行われた後、第1のマスクシート1
1を水平方向に引っ張ることにより、ノッチ15から第
1のマスクシートが裂け始め、スリット14により導電
ボール6が存在する開口部13に向かって裂け目が進行
し、開口部13に達することで、第1のマスクシート1
1を、半導体チップ1とセラミック基板7との間から除
去する。このように第1のマスクシート11を除去する
ことにより、半導体チップ1より横方向に突出した部分
がなくなり、実装面積が小型となる。
After the conductive coating layer 5'is connected to the respective electrode portions 2 and 8, the first mask sheet 1 is formed.
By pulling 1 in the horizontal direction, the first mask sheet starts to tear from the notch 15, and the slit 14 advances the tear toward the opening 13 in which the conductive ball 6 exists and reaches the opening 13. 1 mask sheet 1
1 is removed from between the semiconductor chip 1 and the ceramic substrate 7. By removing the first mask sheet 11 in this manner, there is no portion protruding laterally from the semiconductor chip 1 and the mounting area is small.

【0384】そして、半導体チップ1を封止する封止樹
脂を半導体チップ1とセラミック基板7との間に注入
し、硬化させて、電気回路部品を得る。
Then, a sealing resin for sealing the semiconductor chip 1 is injected between the semiconductor chip 1 and the ceramic substrate 7 and cured to obtain an electric circuit component.

【0385】このように、第8の実施形態における電気
回路部品は、表面に凹部28,凸部29を設けた導電ボ
ール6′を利用することにより、凹部,凸部を設けない
導電ボール6を用いる第1乃至第7の実施形態と比較し
て、より高い接続強度と接合率を得られる効果が達成さ
れる。
As described above, in the electric circuit component of the eighth embodiment, by utilizing the conductive balls 6'provided with the concave portions 28 and the convex portions 29 on the surface, the conductive balls 6 having no concave portions or convex portions are formed. Compared with the first to seventh embodiments used, the effect of obtaining higher connection strength and bonding rate is achieved.

【0386】(第9の実施形態)図15は、この発明に
係わる電気回路部品の第9の実施形態の構成を模式的に
示す断面図であり、図16は、この第9の実施形態にお
いて用いられる導電ボール6″を表わす模式的断面図で
ある。図16において、参照符号30はコア4″の表面
に設けられた凹部を示し、また、参照符号31はコア
4″表面に設けられた凸部を示している。
(Ninth Embodiment) FIG. 15 is a sectional view schematically showing the configuration of a ninth embodiment of an electric circuit component according to the present invention, and FIG. 16 shows the structure of the ninth embodiment. 17 is a schematic cross-sectional view showing a conductive ball 6 ″ used. In FIG. 16, reference numeral 30 denotes a recess provided on the surface of the core 4 ″, and reference numeral 31 has been provided on the surface of the core 4 ″. The convex portion is shown.

【0387】この第9の実施形態においては、導電ボー
ル6″は、図16に示す様に、球形状のコア4″の表面
に複数の微細な凹部30と凸部31が設けられている。
このコア4″は、鋼からなり、その表面の凹部30及び
凸部31の形成は、球形状に研磨後に、荒い砥粒で再度
研磨を行ってもよいし、球形状への最終仕上げの微細な
砥粒による研磨を省くことで、設けても良い。また、上
述した第8の実施形態と同様に、研磨の砥粒及び研磨方
法は、任意のものが使用できる。この第9の実施形態に
おいては、コアの直径を40μmとし、凹部30と凸部
31の山頂と谷底の高さの差の最大Rmaxが、0.5
〜3μmとなる様に設定されている。
In the ninth embodiment, the conductive ball 6 "is provided with a plurality of fine recesses 30 and protrusions 31 on the surface of the spherical core 4", as shown in FIG.
The core 4 ″ is made of steel, and the recesses 30 and the protrusions 31 on the surface thereof may be formed into a spherical shape and then may be re-polished with rough abrasive grains, or finely ground to a final shape. It may be provided by omitting the polishing with different abrasive grains.As in the eighth embodiment described above, any abrasive grain and polishing method can be used. In the above, the core diameter is 40 μm, and the maximum Rmax of the height difference between the crests and the valley bottoms of the concave portions 30 and the convex portions 31 is 0.5.
It is set to be ~ 3 μm.

【0388】この様に、表面に凹部30と凸部31が設
けられたコア4″の表面に、第8の実施形態と同様に活
性化処理を施した後、金で約5μm被覆し、導電被覆層
5″を設ける。
As described above, the surface of the core 4 ″ having the concave portion 30 and the convex portion 31 on the surface is subjected to the activation treatment in the same manner as in the eighth embodiment, and then coated with gold to a thickness of about 5 μm to make it conductive. A coating layer 5 ″ is provided.

【0389】ここで、コア4″の表面に凹部30と凸部
31が設けられたいるため、その表面を被覆する導電被
覆層5″の表面にも、コア4″の凹部30と凸部31に
対応した、凹部28と凸部29が設けられる。
Here, since it is desired to provide the concave portion 30 and the convex portion 31 on the surface of the core 4 ″, the concave portion 30 and the convex portion 31 of the core 4 ″ are also formed on the surface of the conductive coating layer 5 ″ covering the surface. The concave portion 28 and the convex portion 29 corresponding to the above are provided.

【0390】この導電ボール6″を、第8の実施形態と
同様の方法により、セラミック基板7の電極8上に配置
し、半導体チップ1をその配置された導電ボール6上
に、電極部2がくる様に位置合わせし、その後に、加圧
及び加熱することで、導電被覆層5と電極部2及び金メ
ッキされた電極8とを合金化して接続する。
This conductive ball 6 ″ is arranged on the electrode 8 of the ceramic substrate 7 by the same method as in the eighth embodiment, and the semiconductor chip 1 is placed on the conductive ball 6 thus arranged so that the electrode portion 2 is formed. So that the conductive coating layer 5 and the electrode portion 2 and the gold-plated electrode 8 are alloyed and connected by pressing and heating.

【0391】この第9の実施形態によれば、コア4″の
表面に凹部30及び凸部31を設けたことにより、導電
被覆層5″の表面に凹部28及び凸部29が自動的に設
けられ、上述の第8の実施形態と同じ効果が得られると
共に、次のような効果がある。
According to the ninth embodiment, since the concave portion 30 and the convex portion 31 are provided on the surface of the core 4 ″, the concave portion 28 and the convex portion 29 are automatically provided on the surface of the conductive coating layer 5 ″. In addition to the same effects as the above-described eighth embodiment, the following effects can be obtained.

【0392】即ち、接続を行う際の加圧により、導電被
覆層5の変形移動が行われる時に、凹部30及び凸部3
1が設けられているため、内部摩擦が大きく、導電被覆
層5″とコア4″との接している部分では、変形移動が
行われにくい。その為、加圧による導電被覆層5の変形
移動は、より外周である表面側で専ら行われることにな
る。つまり、電極との接触面側で、導電被覆層5がより
大きく、変形移動することになり、酸化膜の破壊及び電
極真性面の露出が、より促進され、接続特性がより向上
する効果が更に達成されることになる。
That is, when the conductive coating layer 5 is deformed and moved by the pressure applied during connection, the concave portion 30 and the convex portion 3 are formed.
Since 1 is provided, internal friction is large, and it is difficult for deformation and movement to occur at the portion where the conductive coating layer 5 ″ and the core 4 ″ are in contact with each other. Therefore, the deformation movement of the conductive coating layer 5 due to the pressurization is performed exclusively on the outer peripheral surface side. That is, the conductive coating layer 5 is larger and deforms and moves on the contact surface side with the electrode, so that the destruction of the oxide film and the exposure of the electrode intrinsic surface are further promoted and the connection characteristics are further improved. Will be achieved.

【0393】また、コア4″の表面に凹部30及び凸部
31が設けられたことにより、導電被覆層5″とコア
4″との密着性がアンカー効果により上がることで、加
圧時の導電被覆層5″の変形移動によりコア4と、導電
被覆層5″とが剥離してしまうことを防ぐ効果が更に達
成されることになる。ここで、この剥離が生じると、接
続部以外での導電被覆層5″の剥離の進行と膨みによ
り、電極との十分な接続面積が得られなくなると共に、
剥離した導電被覆層5″が、外力により破断したりする
恐れがあり、好ましくない。
Further, since the concave portion 30 and the convex portion 31 are provided on the surface of the core 4 ″, the adhesion between the conductive coating layer 5 ″ and the core 4 ″ is increased by the anchor effect, so that the conductive material at the time of pressurization is pressed. The effect of preventing the core 4 and the conductive coating layer 5 ″ from peeling off due to the deformation movement of the coating layer 5 ″ is further achieved. Due to the progress and swelling of the conductive coating layer 5 ″, a sufficient connection area with the electrode cannot be obtained, and
The peeled conductive coating layer 5 ″ may be broken by an external force, which is not preferable.

【0394】更に、形成した導電被覆層5″に、凹部2
8及び凸部29を設けるための加工をすることがないた
め、導電被覆層5″表面を汚染させる危険が少なく、接
続特性の安定化が図れるという効果もある。
Further, the recess 2 is formed in the formed conductive coating layer 5 ″.
Since there is no processing for forming the projections 8 and the projections 29, there is less risk of contaminating the surface of the conductive coating layer 5 ″, and there is an effect that the connection characteristics can be stabilized.

【0395】(第10の実施形態)図17は、この発明
に係わる電気回路部品の第10の実施形態の構成を模式
的に示す断面図であり、図18は、この第10の実施形
態において用いられる所の、導電ボール6′とこの導電
ボール6′を保持する保持シート16とを備える導電接
続部材を模式的に拡大して示す断面図であり、図19
(a)乃至図19(d)は、この導電接続部材の製造方
法を模式的に示す断面図である。
(Tenth Embodiment) FIG. 17 is a sectional view schematically showing the configuration of a tenth embodiment of an electric circuit component according to the present invention, and FIG. 18 shows the structure of the tenth embodiment. FIG. 19 is a schematic enlarged cross-sectional view of a conductive connecting member including a conductive ball 6 ′ and a holding sheet 16 that holds the conductive ball 6 ′, which is used.
19A to 19D are cross-sectional views schematically showing the method for manufacturing the conductive connecting member.

【0396】この第10の実施形態においては、コア4
の材料として、シリカ(SiO2)を用いた。そのコア
4の表面を、上述した第8の実施形態と同様に活性化処
理した後、金メッキにより被覆する。コア4の直径とし
ては、20μm、導電被覆層5の膜厚としては、3μm
とした。この導電ボール6′の表面に、上述した第8の
実施形態で用いた方法と同じ方法により凹部28と凸部
29を設ける。このような凹部28と凸部29の山頂と
谷底の差の最大Rmaxは、0.1〜2μmに設定され
ている。
In the tenth embodiment, the core 4
Silica (SiO2) was used as the material. The surface of the core 4 is activated in the same manner as in the above-described eighth embodiment and then covered with gold plating. The diameter of the core 4 is 20 μm, and the thickness of the conductive coating layer 5 is 3 μm.
And The surface of the conductive ball 6'is provided with the concave portion 28 and the convex portion 29 by the same method as that used in the above-described eighth embodiment. The maximum Rmax of the difference between the peak and the valley bottom of the concave portion 28 and the convex portion 29 is set to 0.1 to 2 μm.

【0397】更に、この第10の実施形態においては、
導電接続部材が用いられて、導電ボール6′が保持シー
ト16により所定の位置に保持されている。そこで、ま
ずこの導電接続部材の一製造例を図19(a)乃至図1
9(d)を用いて説明する。
Furthermore, in the tenth embodiment,
A conductive connecting member is used to hold the conductive ball 6 ′ at a predetermined position by the holding sheet 16. Therefore, first, one manufacturing example of this conductive connecting member is shown in FIGS.
This will be described using 9 (d).

【0398】まず、図19(a)に示すように、接続す
る電極部の位置に対応する位置に凹部18を設けた型1
7に導電ボール6′を配置する。この凹部18の形状と
しては、4角柱、円柱、円錐、半球状など任意の形状で
かまわない。また、型17の凹部18に導電ボール6′
を配置為る際には、型17の上に上述した第8の実施形
態で用いた様なマスクシートを用いれば、一括で配置す
ることができる。
First, as shown in FIG. 19 (a), the mold 1 is provided with a recess 18 at a position corresponding to the position of the electrode part to be connected.
A conductive ball 6 ′ is arranged at 7. The shape of the recess 18 may be any shape such as a quadrangular prism, a cylinder, a cone, and a hemisphere. In addition, the conductive balls 6'in the recess 18 of the mold 17.
When arranging, the mask sheet as used in the above-described eighth embodiment may be used on the mold 17 to collectively dispose.

【0399】この型17の凹部18に導電ボールを配置
した後、その上に、図19(b)に示すように、同様の
型17′を導電ボール6′を押し潰さない間隔で情報に
配置する。この上型17′と下型′との間隔を達成する
方法としては、型を上下移動させる装置により制御する
か、あるいは、上型17′,下型17のいずれかあるい
は両方に、型表面より突出したスペーサー部を設け、上
型17′と下型17を合わせ、スペーサーが接触した
際、上型17′と下型17との凹部18′、18の間隔
が、導電ボール6′の直径と等しいか若干大きくなる様
にスペーサーの突出量を決めておけば良い。
After arranging the conductive balls in the recesses 18 of the mold 17, as shown in FIG. 19B, similar molds 17 'are arranged on the information at intervals so as not to crush the conductive balls 6'. To do. As a method for achieving the space between the upper mold 17 'and the lower mold', control is performed by a device for moving the mold up and down, or one or both of the upper mold 17 'and the lower mold 17 is controlled from the mold surface. Providing a protruding spacer portion, the upper die 17 'and the lower die 17 are aligned, and when the spacers come into contact with each other, the distance between the recesses 18', 18 between the upper die 17 'and the lower die 17 is equal to the diameter of the conductive ball 6'. The protrusion amount of the spacer should be determined so that it is equal or slightly larger.

【0400】そして、上型17′と下型17との間にポ
リイミド樹脂を注入し、図19(c)に示すように、2
00〜400℃に加熱硬化させ離型させる。
Then, a polyimide resin is injected between the upper mold 17 'and the lower mold 17, and as shown in FIG.
It is heated and cured at 00 to 400 ° C. and released.

【0401】この状態では、保持シート16の表面より
突出した導電ボール′の表面まで、ポリイミド樹脂が付
着しているため、両面をエッチング(例えば、ドライな
らO2プラズマによるアッシング、ウェットならヒドラ
ジン、エチレンジアシンを用いる)し、図19(d)に
示すように、導電ボール6′を保持シート16の両面か
ら突出して露出させる。そのため、保持シート16の膜
厚は成型後よりも薄いものとなる。
In this state, since the polyimide resin adheres to the surface of the conductive ball 'protruding from the surface of the holding sheet 16, both surfaces are etched (for example, ashing by O 2 plasma in dry, hydrazine in ethylene, ethylene diamine in wet). Then, as shown in FIG. 19D, the conductive balls 6 ′ are projected and exposed from both sides of the holding sheet 16. Therefore, the film thickness of the holding sheet 16 becomes thinner than that after molding.

【0402】このエッチング後の保持シート16の膜厚
は、導電ボール6′の接続時の導電被覆層5の変形移動
を防げない様に、コア4の直径と等しいか、それよりも
小さいことが望ましい。
The film thickness of the holding sheet 16 after the etching is equal to or smaller than the diameter of the core 4 so as not to prevent the deformation movement of the conductive coating layer 5 at the time of connecting the conductive balls 6 '. desirable.

【0403】以上の様にして製造された導電ボール6′
とこれを保持する保持シート16とを備えた導電接続部
材と、半導体チップ1と、基板7とを、導電ボール6′
が半導体チップ1の電極部2と基板7の電極部8との間
にくる様に、それぞれ位置合わせを行い配置する。そし
て、上述したホットプレス装置により、導電ボール6′
を両電極2、8間で加圧及び加熱することにより、保持
シート16より露出している導電ボール6の導電被覆層
5′とそれぞれの電極部2,8とを合金化して、接続
し、半導体チップ1の周囲で保持シート16を切断した
後、封止樹脂10を半導体チップ1と基板7との間に注
入し硬化させて、電気回路部品を得る。この接合過程に
おける効果は、上述した第8の実施形態の効果と同じで
ある。
Conductive balls 6'produced as described above
The conductive ball 6 ', the semiconductor chip 1, the substrate 7 and the conductive connecting member including the holding sheet 16 for holding the same.
Are aligned and arranged so that they are located between the electrode portion 2 of the semiconductor chip 1 and the electrode portion 8 of the substrate 7. Then, by the hot press device described above, the conductive balls 6 '
By pressing and heating between the electrodes 2 and 8, the conductive coating layer 5'of the conductive ball 6 exposed from the holding sheet 16 is alloyed with the respective electrode portions 2 and 8 to be connected, After cutting the holding sheet 16 around the semiconductor chip 1, the sealing resin 10 is injected between the semiconductor chip 1 and the substrate 7 and cured to obtain an electric circuit component. The effect of this joining process is the same as the effect of the eighth embodiment described above.

【0404】更に、この第10の実施形態においては、
保持シート16と接している導電被覆層5の表面にも凹
部28及び凸部29が設けられていることから、保持シ
ート16と、導電被覆層5′との接触面積が増し、アン
カー効果により、保持シート16の導電ボール6′を保
持する強度が増加する。つまり、ボール径の2乗ででき
ていた接触面積(保持強度)より大きな接触面積(保持
強度)を得ることができる。そのため、より小型の導電
ボール6′であっても、十分な保持強度を確保すること
が可能となる。従って、電極部をより小型化することに
より、電気回路部品の小型化を図ることが可能となる。
Furthermore, in the tenth embodiment,
Since the concave portion 28 and the convex portion 29 are also provided on the surface of the conductive coating layer 5 which is in contact with the holding sheet 16, the contact area between the holding sheet 16 and the conductive coating layer 5 ′ is increased, and the anchor effect is obtained. The strength of holding the conductive balls 6'of the holding sheet 16 is increased. That is, it is possible to obtain a contact area (holding strength) larger than the contact area (holding strength) formed by the square of the ball diameter. Therefore, it is possible to secure sufficient holding strength even with a smaller conductive ball 6 '. Therefore, by further downsizing the electrode portion, it is possible to downsize the electric circuit component.

【0405】また、導電ボール6′が保持シート16に
密着保持されているため、導電ボール6′の位置ズレを
より高精度に防ぎ、より高密度に配置することが可能と
なる。更に、封止樹脂10と接している導電ボール6′
の面積が小さく、封止樹脂の硬化収縮時に導電ボール
6′にかかる応力を低減でき、接続の信頼性が上がる効
果がある。
Further, since the conductive balls 6'are held in close contact with the holding sheet 16, the conductive balls 6'can be more accurately prevented from being displaced and can be arranged at a higher density. Further, the conductive balls 6'that are in contact with the sealing resin 10
Has a small area, the stress applied to the conductive balls 6'when the sealing resin is cured and contracted can be reduced, and the connection reliability is improved.

【0406】尚、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲
で、上記実施形態を修正又は変形したものに適用可能で
ある。
The present invention can be applied to a modified or modified version of the above embodiment without departing from the spirit of the present invention.

【0407】例えば、使用する導電ボール6′として、
上述した第9実施形態で用いた、コア4″の表面に凹部
30及び凸部31を有し、導電被覆層5″の表面にも凹
部28及び凸部29を持つ導電ボール6″を使用して
も、同じ効果が得られることは、言うまでもない。
For example, as the conductive balls 6'to be used,
The conductive ball 6 ″ having the concave portion 30 and the convex portion 31 on the surface of the core 4 ″ and the concave portion 28 and the convex portion 29 on the surface of the conductive coating layer 5 ″ used in the above-described ninth embodiment is used. However, it goes without saying that the same effect can be obtained.

【0408】[0408]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
以下に述べる種々の効果がある。
As described above, according to the present invention,
There are various effects described below.

【0409】即ち、電気回路素子および電気回路基板の
電極部に特殊な膜処理を施さなくても、導電被覆層と電
極の加圧変形移動により、電極表面の酸化膜および汚染
皮膜を破壊し、金属か及び又は合金化により低接続抵抗
と高接続強度の接続が可能となり、信頼性の高い接続が
得られる。従って、従来用いられてきたワイヤポンディ
ング方法、CCB方法、TAB方法、樹脂ボール方法、
異方性導電シート方法を置き換えることが可能となる。
That is, even if no special film treatment is applied to the electrode parts of the electric circuit element and the electric circuit board, the oxide film and the contaminated film on the electrode surface are destroyed by the pressure deformation movement of the conductive covering layer and the electrode, The metal and / or alloying enables a connection with low connection resistance and high connection strength, resulting in a highly reliable connection. Therefore, conventionally used wire bonding method, CCB method, TAB method, resin ball method,
It is possible to replace the anisotropic conductive sheet method.

【0410】更に、接続部を金属化及び又は合金化して
接続することで電気的接続を得ているため、樹脂ボール
方法のように温度によって、導電材料の温度係数以外に
接続抵抗が変動することがなく、安定した接続特性が得
られると共に、導電層を厚くすることができるため、許
容電流を大きくすることが可能である。
Further, since the electrical connection is obtained by metalizing and / or alloying the connecting portion, the connecting resistance may change in addition to the temperature coefficient of the conductive material depending on the temperature like the resin ball method. In addition, stable connection characteristics can be obtained, and since the conductive layer can be thickened, the allowable current can be increased.

【0411】また、コアが変形ストッパーとして働くと
共に、溶融(液層)して接続を行わないため、TAB方
法、CCB方法のように隣接する電極間との短絡を発生
させることがない。従って、電極部をより高密度(接続
ピッチ寸法を小さく)接続をおこなうことが可能であ
る。
Further, since the core acts as a deformation stopper and does not melt (liquid layer) to make a connection, a short circuit between adjacent electrodes unlike the TAB method and the CCB method does not occur. Therefore, it is possible to connect the electrode portions with higher density (smaller connection pitch dimension).

【0412】また、発光素子あるいは受光素子表面にあ
る発光部あるいは受光部と電気回路基板との距離を高精
度に保って接続することが可能となる。従って、光学設
計上の最適位置に発光部あるいは受光部を配置すること
が可能となり、光特性の向上が図れるだけでなく、発光
素子あるいは受光素子を配置固定する位置調整部材の大
幅な簡略化あるいは省略を図ることが可能となり、位置
調整部材の可動部が少なくなり強度が増すことにより、
使用環境での温度変化、振動に対しての発光部あるいは
受光部の位置ずれを防ぎ、光特性の安定かが図られる。
更に、位置調整部材を取り付ける領域を小さくできるた
め、電気回路部品およびそれを用いた装置を小型化する
ことが可能となる。
Further, it is possible to connect the light emitting portion or the light receiving portion on the surface of the light emitting element or the light receiving element and the electric circuit board with high accuracy. Therefore, it becomes possible to dispose the light emitting portion or the light receiving portion at the optimum position in the optical design, and not only the optical characteristics can be improved but also the position adjusting member for disposing and fixing the light emitting element or the light receiving element can be greatly simplified or It is possible to omit the number of movable parts of the position adjusting member and increase the strength,
The positional shift of the light emitting part or the light receiving part due to temperature changes and vibrations in the use environment is prevented, and the optical characteristics are stabilized.
Further, since the area where the position adjusting member is attached can be reduced, the electric circuit component and the device using the electric circuit component can be downsized.

【0413】また、保持シートが導電ボールを保持して
いるため、いかなる位置にも導電ボールを配置し接続す
ることが可能となる。従って、ワイヤボンディング方
法、TAB方法より更に多点接続が可能となり、多ピン
数接続が可能となる。
Since the holding sheet holds the conductive balls, the conductive balls can be arranged and connected at any position. Therefore, it is possible to connect more points than the wire bonding method and the TAB method, and it is possible to connect a large number of pins.

【0414】また、保持シートが電極間の間に存在する
ことにより、電気回路素子を封止する封止樹脂体積を低
減させるとともに、導電ボールは、保持シートに中心部
を埋設保持されているため封止樹脂と接触する面積が小
さいため、硬化収縮時に導電ボールにかかる応力値を小
さくし、高い接続信頼を得ることができる。
Further, since the holding sheet exists between the electrodes, the volume of the sealing resin for sealing the electric circuit element is reduced, and the conductive balls are held by embedding the central portion in the holding sheet. Since the area in contact with the sealing resin is small, the stress value applied to the conductive balls at the time of shrinkage upon curing can be reduced, and high connection reliability can be obtained.

【0415】更に封止樹脂堆積が低減されることによ
り、封止樹脂内にある率で含まれる気泡の量(数)を少
なくすることが可能となる。そのため、封止樹脂の吸湿
を低減し、信頼性の高い電気回路部品が得られる。
By further reducing the amount of sealing resin deposited, it is possible to reduce the amount (number) of bubbles contained in the sealing resin at a certain rate. Therefore, moisture absorption of the sealing resin is reduced, and a highly reliable electric circuit component can be obtained.

【0416】また、保持シートの透過率を空気あるいは
封止樹脂より下げることにより、受光素子の場合、受光
部以外に入射した光が素子上で乱反射し受光部に再入射
することを防ぐことが可能となり、受光信号のS/N比
を高くすることが可能となる。発光素子の場合、発光部
より射出した光のうち不要な周辺部の光を電気回路部品
より外に射出させないことにより、光信号のS/N比を
高くすることが可能となる。また、導電ボール周囲を保
持シートが覆っているため、ワイヤボンディング方法の
ような接続部によるゴースト光をなくすことが可能とな
り、受光素子を有した電気回路部品の小型化が可能とな
る。
Further, by lowering the transmittance of the holding sheet to be lower than that of air or sealing resin, in the case of a light receiving element, it is possible to prevent light incident on other than the light receiving section from being diffusely reflected on the element and reentering the light receiving section. This makes it possible to increase the S / N ratio of the received light signal. In the case of the light emitting element, it is possible to increase the S / N ratio of the optical signal by preventing unnecessary peripheral light of the light emitted from the light emitting portion from being emitted outside the electric circuit component. Further, since the holding sheet covers the periphery of the conductive balls, it is possible to eliminate the ghost light due to the connecting portion as in the wire bonding method, and it is possible to downsize the electric circuit component having the light receiving element.

【0417】また、接続特性の優れた導電ボールを密着
保持する保持シートを用いて一括で電極上に配置し、保
持された状態で接続するため、いかなる場所であっても
高密度に配置し、接続することが可能となる。
Further, since the conductive balls having excellent connection characteristics are arranged on the electrodes all together by using a holding sheet that holds the conductive balls in close contact, the conductive balls are connected in a held state. It becomes possible to connect.

【0418】また、保持シートに保持された導電ボール
を接続した後に、保持シートを除去することでより小型
の電気回路部品を製造することができる。
Further, after connecting the conductive balls held by the holding sheet and then removing the holding sheet, a smaller electric circuit component can be manufactured.

【0419】更に、保持シートにスリット、ノッチを設
けておくことにより、除去時にこれらを起点として保持
シートが分離を開始するため、導電ボールにかかるスト
レスを低減し、信頼性の高い電気回路部品が得られる。
Furthermore, by providing the holding sheet with slits and notches, the holding sheet starts to separate from these at the time of removal, so that the stress applied to the conductive balls is reduced and a highly reliable electric circuit component is provided. can get.

【0420】また、接続特性の優れた導電ボールを配置
部材を用いることにより、いかなる場所であっても配置
し接続することが可能となる。更に、接続後、配置部材
を除去することにより、電気回路素子より突出する部分
がなくなるため、電気回路部品の小型化が図られる。
By using the arranging member, the conductive balls having excellent connection characteristics can be arranged and connected at any place. Furthermore, by removing the placement member after connection, there is no portion projecting from the electric circuit element, so that the electric circuit component can be downsized.

【0421】更に、配置部材にスリット、ノッチを設け
ておくことにより、除去時にこれらを起点として配置部
材が分離を開始するため、導電ボールにかかるストレス
を低減し、信頼性の高い電気回路部品が得られる。
Furthermore, by disposing slits and notches in the disposing member, the disposing member starts separating from these at the time of removal, so that the stress applied to the conductive balls is reduced, and a highly reliable electric circuit component is provided. can get.

【0422】また、電気回路素子あるいは電気回路基板
の一方が金属化及び又は合金化による接続に際し、特性
を劣化させる場合であっても、一方の導電ボールをと高
密度に金属化及び又は合金化して接続することが可能と
なる。
Further, even when one of the electric circuit element and the electric circuit board deteriorates the characteristics in connection by metalization and / or alloying, one conductive ball is metalized and / or alloyed with high density. Can be connected.

【0423】更に、電気回路素子と電気回路部品とを着
脱自在に接続することが可能となる。
Furthermore, it becomes possible to detachably connect the electric circuit element and the electric circuit component.

【0424】更に、この出願に係る発明によれば、上述
した効果に加えて、更に、電気回路素子及び電気回路基
板の電極部に特殊な膜処理を施さなくても、導電被覆層
の加圧変形移動による摩擦で、電極表面の自然酸化膜及
び汚染皮膜を破壊し、合金化による低接続抵抗と高接続
強度の接続が可能となり、信頼性の高い接続が得られる
と共に、導電ボール表面に突部及び谷部を有したことに
より自然酸化膜及び汚染皮膜の破壊性が向上し、接続信
頼性が向上すると共に、より小さい接続面積であっても
確実に金属化及びまたは合金化により接続することが可
能となるため、接続面積の小さな接続に対応することが
可能となり、より接続の高密度化を図ることが可能とな
る。
Furthermore, according to the invention of this application, in addition to the above-mentioned effects, the pressing of the conductive coating layer can be performed without applying a special film treatment to the electrode portions of the electric circuit element and the electric circuit board. The friction caused by the deformation and movement destroys the natural oxide film and the contaminated film on the electrode surface, and the connection with low connection resistance and high connection strength is made possible by alloying. Since the natural oxide film and the contaminated film are improved in the destructiveness by having the portions and the valleys and the connection reliability is improved, even if the connection area is smaller, it is possible to reliably connect by metalization or alloying. Therefore, it is possible to cope with a connection having a small connection area, and it is possible to further increase the density of the connection.

【0425】また、硬い電極材料に対しても酸化膜及び
汚染皮膜の高い破壊性を有することができるため、接続
する対象にとらわれず高い接続特性を得ることができ
る。更に、導電ボールのコアと導電被覆層との密着性が
向上することにより、接触面を確実に確保することがで
きる。接続特性が安定する。従って、接続対象にとらわ
れず、安定した接続特性を得ることが可能となり、電気
回路部品のより小型化、高信頼性を図ることが可能とな
る。
Further, since the oxide film and the contaminated film can have high destructiveness even for a hard electrode material, high connection characteristics can be obtained regardless of the object to be connected. Furthermore, the contact surface can be reliably ensured by improving the adhesion between the core of the conductive ball and the conductive coating layer. The connection characteristics are stable. Therefore, it is possible to obtain stable connection characteristics regardless of the connection target, and it is possible to further reduce the size and reliability of the electric circuit component.

【0426】また、導電ボール表面あるいはコア表面の
一方あるいは両方に突部及び谷部が設けられたことによ
り、いかなる位置にも導電ボールを配置し小型、高密度
の接続を行うことが可能となる。従って、ワイヤボンデ
ィング方法、TAB方法より更に多点接続が可能とな
り、多ピン数接続が可能となる。
Since the protrusions and the troughs are provided on one or both of the surface of the conductive balls and the surface of the core, it is possible to arrange the conductive balls at any position to make a compact and high-density connection. . Therefore, it is possible to connect more points than the wire bonding method and the TAB method, and it is possible to connect a large number of pins.

【0427】[0427]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明に係わる電気回路部品の第1の実施形
態の構成を模式的に示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing the configuration of a first embodiment of an electric circuit component according to the present invention.

【図2】図1に示す電気回路部品に用いられる導電ボー
ルの構成を模式的に示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of conductive balls used in the electric circuit component shown in FIG.

【図3】第1の実施形態に係る電気回路部品の製造方法
を模式的に示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the method of manufacturing the electric circuit component according to the first embodiment.

【図4】第1の実施形態に係る電気回路部品の製造方法
において用いられるマスクシートを示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a mask sheet used in the method for manufacturing an electric circuit component according to the first embodiment.

【図5】この発明に係わる電気回路部品の第2の実施形
態の構成及び製造方法を模式的に示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a configuration and a manufacturing method of a second embodiment of an electric circuit component according to the present invention.

【図6】第2の実施形態の電気回路部品に用いられる保
持シートの製造方法を模式的に示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a manufacturing method of a holding sheet used for the electric circuit component of the second embodiment.

【図7】この発明に係わる電気回路部品の第4の実施形
態の構成を模式的に示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view schematically showing a configuration of a fourth embodiment of an electric circuit component according to the present invention.

【図8】この発明に係わる電気回路部品の第5の実施形
態の構成を模式的に示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view schematically showing a configuration of a fifth embodiment of an electric circuit component according to the present invention.

【図9】この発明に係わる電気回路部品の第6の実施形
態の構成を模式的に示す断面図である。
FIG. 9 is a sectional view schematically showing the configuration of a sixth embodiment of an electric circuit component according to the present invention.

【図10】この発明に係わる電気回路部品の第7の実施
形態の構成を模式的に示す断面図である。
FIG. 10 is a sectional view schematically showing a configuration of a seventh embodiment of an electric circuit component according to the present invention.

【図11】この発明に係わる電気回路部品の第8の実施
形態の構成を模式的に示す断面図である。
FIG. 11 is a sectional view schematically showing the configuration of an eighth embodiment of an electric circuit component according to the present invention.

【図12】図11に示す電気回路部品に用いられる導電
ボールの構成を模式的に示す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of conductive balls used in the electric circuit component shown in FIG.

【図13】第8の実施形態に係る電気回路部品の製造方
法を模式的に示す断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view schematically showing the manufacturing method of the electric circuit component according to the eighth embodiment.

【図14】第8の実施形態に係る電気回路部品の製造方
法において用いられるマスクシートを示す斜視図であ
る。
FIG. 14 is a perspective view showing a mask sheet used in the method for manufacturing an electric circuit component according to the eighth embodiment.

【図15】この発明に係わる電気回路部品の第9の実施
形態の構成を模式的に示す断面図である。
FIG. 15 is a sectional view schematically showing a configuration of a ninth embodiment of an electric circuit component according to the present invention.

【図16】図15に示す電気回路部品に用いられる導電
ボールの構成を模式的に示す断面図である。
16 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a conductive ball used in the electric circuit component shown in FIG.

【図17】この発明に係わる電気回路部品の第10の実
施形態の構成を模式的に示す断面図である。
FIG. 17 is a sectional view schematically showing a configuration of a tenth embodiment of an electric circuit component according to the present invention.

【図18】図17に示す電気回路部品に用いられる導電
ボール及び保持シートを模式的に示す断面図である。
18 is a sectional view schematically showing a conductive ball and a holding sheet used in the electric circuit component shown in FIG.

【図19】第10の実施形態に係る保持シートの製造方
法を模式的に示す断面図である。
FIG. 19 is a cross-sectional view that schematically shows the manufacturing method of the holding sheet according to the tenth embodiment.

【図20】従来例のワイヤボンディング方法を説明する
模式的断面図である。
FIG. 20 is a schematic cross-sectional view illustrating a conventional wire bonding method.

【図21】従来例のCCB方法を説明する模式的断面図
である。
FIG. 21 is a schematic cross-sectional view illustrating a CCB method of a conventional example.

【図22】従来例のCCB方法を説明する模式的断面図
である。
FIG. 22 is a schematic sectional view illustrating a CCB method of a conventional example.

【図23】従来例のTAB方法を説明する模式的断面図
である。
FIG. 23 is a schematic cross-sectional view illustrating a TAB method of a conventional example.

【図24】従来例の金バンプによるフェイスダウン接続
を説明する模式的断面図である。
FIG. 24 is a schematic cross-sectional view illustrating a face-down connection using gold bumps in a conventional example.

【図25】従来例の樹脂ボール方法を説明する模式的断
面図である。
FIG. 25 is a schematic cross-sectional view illustrating a conventional resin ball method.

【図26】従来例の異方性導電シート方法を説明する模
式的断面図である。
FIG. 26 is a schematic cross-sectional view illustrating a conventional anisotropic conductive sheet method.

【図27】従来例の異方性導電シート方法を説明する模
式的断面図である。
FIG. 27 is a schematic cross-sectional view illustrating a conventional anisotropic conductive sheet method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 電極部 3 絶縁保護膜 4(4″) コア 5(5′、5″) 導電被覆層 6(6′、6″) 導電ボール 7 基板 8 電極(配線パターン) 9 絶縁保護膜 10 封止樹脂 11 第1のマスクシート 12 第2のマスクシート 13 開口部 14 スリット 15 ノッチ 16 保持シート 17 型(下型) 17′ 型(上型) 18 凹部 19 半導体チップ 20 受光部 21 基板(ガラス) 22 配線パターン 23 保持シートの開口部 24 ブレード 25 凹部 26 型 28 樹脂基板 28 凹部(導電ボール表面) 29 凸部(導電ボール表面) 30 凹部(コア表面) 31 凸部(コア表面) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 semiconductor chip 2 electrode part 3 insulating protective film 4 (4 ″) core 5 (5 ′, 5 ″) conductive coating layer 6 (6 ′, 6 ″) conductive ball 7 substrate 8 electrode (wiring pattern) 9 insulating protective film 10 Encapsulating resin 11 First mask sheet 12 Second mask sheet 13 Opening 14 Slit 15 Notch 16 Holding sheet 17 type (lower type) 17 'type (upper type) 18 Recess 19 Semiconductor chip 20 Light receiving part 21 Substrate (glass ) 22 wiring pattern 23 opening of holding sheet 24 blade 25 concave portion 26 type 28 resin substrate 28 concave portion (conductive ball surface) 29 convex portion (conductive ball surface) 30 concave portion (core surface) 31 convex portion (core surface)

Claims (113)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電極部を有する電気回路素子と、 該電気回路素子と接続するための電極部を有する電気回
路基板とを備える電気回路部品において、 前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
との間に介在され、略ボール形状の剛性を有するコアの
周囲に導電性の被覆層が設けられた少なくとも1つの導
電ボールを具備し、 前記導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記電
気回路基板の電極部により圧接されて、該電気回路素子
の電極部と該導電ボールの被覆層との間、及び、該電気
回路基板の電極部と該導電ボールの被覆層との間が電気
的及び機械的に接続されている事を特徴とする電気回路
部品。
1. An electric circuit component comprising an electric circuit element having an electrode section and an electric circuit board having an electrode section for connecting to the electric circuit element, wherein the electrode section of the electric circuit element and the electric circuit board are provided. And at least one conductive ball having a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity, the conductive ball being an electrode of the electric circuit element. Between the electrode section of the electric circuit element and the coating layer of the conductive ball, and between the electrode section of the electric circuit element and the coating layer of the conductive ball, and between the electrode section of the electric circuit board and the coating layer of the conductive ball. Electrical circuit parts characterized by electrical and mechanical connections between them.
【請求項2】電極部を有する電気回路素子と、前記電気
回路素子の電極部に対応する位置に設けられた電極部を
有する電気回路基板とを互いに対向させ、前記電気回路
素子の電極部と前記電気回路基板の電極部との間に少な
くとも1以上の導電ボールを介在させて両電極部間を接
続した電気回路部品において、 前記導電ボールは、剛性の高い金属材料及び無機材料の
少なくとも一方からなる略球状の形状を有するコアと、
電導性を有した材料により形成され、上記コアの周囲に
被覆される導電被覆層とを備え、 該導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記電気
回路基板の電極部により圧接されて、前記電気回路素子
の電極部と前記導電被覆層との間、及び、前記電気回路
基板の電極部と前記導電被覆層との間が、夫々を構成し
ている材料を金属化及び/又は合金化して接続されてい
る事を特徴とする電気回路部品。
2. An electric circuit element having an electrode portion and an electric circuit board having an electrode portion provided at a position corresponding to the electrode portion of the electric circuit element are opposed to each other, and the electric circuit element has an electrode portion. In an electric circuit component in which at least one conductive ball is interposed between the electrode part of the electric circuit board and the two electrode parts are connected to each other, the conductive ball is made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material. And a core having a substantially spherical shape,
A conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and coated around the core, wherein the conductive balls are pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; Between the electrode portion of the electric circuit element and the conductive coating layer, and between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive coating layer, the materials constituting each are metalized and / or alloyed. Electrical circuit parts characterized by being connected together.
【請求項3】電極部を有する電気回路素子と、 前記電気回路素子の電極部に対応する位置に設けられた
電極部を有する電気回路基板と、 前記電気回路素子及び電気回路基板が互いに対向した状
態で、夫々の電極部の間に挟持され、該両電極部間を、
電気的及び機械的に接続する少なくとも1以上の導電ボ
ールとを具備し、 前記導電ボールは、剛性の高い金属材料及び無機材料の
少なくとも一方からなる略球状の形状を有するコアと、
電導性を有した材料により形成され、上記コアの周囲に
被覆される導電被覆層とを備え、 該導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記電気
回路基板の電極部により圧接されて、前記電気回路素子
の電極部と前記導電被覆層との間、及び、前記電気回路
基板の電極部と前記導電被覆層との間が、夫々を構成し
ている材料を金属化及び/又は合金化して接続されてい
る事を特徴とする電気回路部品。
3. An electric circuit element having an electrode section, an electric circuit board having an electrode section provided at a position corresponding to the electrode section of the electric circuit element, and the electric circuit element and the electric circuit board are opposed to each other. In the state, it is sandwiched between the respective electrode parts, and between the both electrode parts,
At least one or more conductive balls electrically and mechanically connected to each other, wherein the conductive balls have a substantially spherical shape made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material,
A conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and coated around the core, wherein the conductive balls are pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; Between the electrode portion of the electric circuit element and the conductive coating layer, and between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive coating layer, the materials constituting each are metalized and / or alloyed. Electrical circuit parts characterized by being connected together.
【請求項4】電極部を有する光電変換素子と、 該光電変換素子と接続するための電極部を有する電気回
路基板とを備える電気回路部品において、 前記光電変換素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
との間に介在され、略ボール形状の剛性を有するコアの
周囲に導電性の被覆層が設けられた少なくとも1つの導
電ボールを具備し、 前記導電ボールは、前記光電変換素子の電極部と前記電
気回路基板の電極部により圧接されて、該光電変換素子
の電極部と該導電ボールの被覆層との間、及び、該電気
回路基板の電極部と該導電ボールの被覆層との間が電気
的及び機械的に接続されている事を特徴とする電気回路
部品。
4. An electric circuit component comprising a photoelectric conversion element having an electrode section and an electric circuit board having an electrode section for connecting to the photoelectric conversion element, wherein the electrode section of the photoelectric conversion element and the electric circuit board are provided. And at least one conductive ball provided with a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity, the conductive ball being an electrode of the photoelectric conversion element. Between the electrode portion of the photoelectric conversion element and the coating layer of the conductive ball, and between the electrode portion of the photoelectric conversion element and the coating layer of the conductive ball, and between the electrode portion of the photoelectric conversion element and the coating layer of the conductive ball. Electrical circuit parts characterized by electrical and mechanical connections between them.
【請求項5】電極部を有する電気回路素子と、前記電気
回路素子の電極部に対応する位置に設けられた電極部を
有する電気回路基板とを互いに対向させ、前記電気回路
素子の電極部と前記電気回路基板の電極部との間に少な
くとも1以上の導電ボールを介在させて両電極部間を接
続した電気回路部品において、 前記電気回路素子は、少なくとも1以上の光電変換素子
を有し、 前記電気回路基板は、少なくとも一部に透光性を有し、 前記導電ボールは、剛性の高い金属材料及び無機材料の
少なくとも一方からなる略球状の形状を有するコアと、
電導性を有した材料により形成され、上記コアの周囲に
被覆される導電被覆層とを備え、 該導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記電気
回路基板の電極部により圧接されて、前記電気回路素子
の電極部と前記導電被覆層との間、及び、前記電気回路
基板の電極部と前記導電被覆層との間が、夫々を構成し
ている材料を金属化及び/又は合金化して接続されてい
る事を特徴とする電気回路部品。
5. An electric circuit element having an electrode portion and an electric circuit substrate having an electrode portion provided at a position corresponding to the electrode portion of the electric circuit element are opposed to each other, and the electric circuit element has an electrode portion. In an electric circuit component in which at least one conductive ball is interposed between the electrode portion of the electric circuit board and the two electrode portions are connected to each other, the electric circuit element has at least one photoelectric conversion element, The electric circuit board has a light-transmitting property in at least a portion thereof, and the conductive ball has a substantially spherical shape made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material,
A conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and coated around the core, wherein the conductive balls are pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; Between the electrode portion of the electric circuit element and the conductive coating layer, and between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive coating layer, the materials constituting each are metalized and / or alloyed. Electrical circuit parts characterized by being connected together.
【請求項6】電極部を有する電気回路素子と、 前記電気回路素子の電極部に対応する位置に設けられた
電極部を有する電気回路基板と、 前記電気回路素子及び電気回路基板が互いに対向した状
態で、夫々の電極部の間に挟持され、該両電極部間を、
電気的及び機械的に接続する少なくとも1以上の導電ボ
ールとを具備し、 前記電気回路素子は、少なくとも1以上の光電変換素子
を有し、 前記電気回路基板は、少なくとも一部に透光性を有し、 前記導電ボールは、剛性の高い金属材料及び無機材料の
少なくとも一方からなる略球状の形状を有するコアと、
電導性を有した材料により形成され、上記コアの周囲に
被覆される導電被覆層とを備え、 該導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記電気
回路基板の電極部により圧接されて、前記電気回路素子
の電極部と前記導電被覆層との間、及び、前記電気回路
基板の電極部と前記導電被覆層との間が、夫々を構成し
ている材料を金属化及び/又は合金化して接続されてい
る事を特徴とする電気回路部品。
6. An electric circuit element having an electrode section, an electric circuit board having an electrode section provided at a position corresponding to the electrode section of the electric circuit element, and the electric circuit element and the electric circuit board facing each other. In the state, it is sandwiched between the respective electrode parts, and between the both electrode parts,
At least one or more conductive balls electrically and mechanically connected to each other, the electric circuit element has at least one or more photoelectric conversion elements, and the electric circuit substrate has a light-transmitting property at least in part. The conductive ball has a core having a substantially spherical shape made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material,
A conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and coated around the core, wherein the conductive balls are pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; Between the electrode portion of the electric circuit element and the conductive coating layer, and between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive coating layer, the materials constituting each are metalized and / or alloyed. Electrical circuit parts characterized by being connected together.
【請求項7】電極部を有する電気回路素子と、 該電気回路素子と接続するための電極部を有する電気回
路基板とを備える電気回路部品において、 前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
との間に介在され、略ボール形状の剛性を有するコアの
周囲に導電性の被覆層が設けられた少なくとも1つの導
電ボールと、 前記導電ボールを埋設保持する保持シートであって、電
気的絶縁性を有する材料から形成され、一方の面より該
導電ボールの一部が突出して露出し、他方の面から該導
電ボールの一部が突出して露出するように、該導電ボー
ルを保持する保持シートとを具備し、 前記導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記電
気回路基板の電極部により圧接されて、該電気回路素子
の電極部と前記保持シートの一方の面より突出する該導
電ボールの被覆層の一部との間、及び、該電気回路基板
の電極部と前記保持シートの他方の面より突出する該導
電ボールの被覆層の一部との間が電気的及び機械的に接
続されている事を特徴とする電気回路部品。
7. An electric circuit component comprising an electric circuit element having an electrode section and an electric circuit board having an electrode section for connecting to the electric circuit element, wherein the electrode section of the electric circuit element and the electric circuit board are provided. An at least one conductive ball which is interposed between the electrode part of, and has a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity, and a holding sheet for embedding and holding the conductive ball, Holds the conductive ball so that a part of the conductive ball is projected and exposed from one surface and a part of the conductive ball is projected and exposed from the other surface. A holding sheet for holding the conductive ball, the conductive ball is pressed against the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board, and the electrode portion of the electric circuit element and one surface of the holding sheet are Between the part of the coating layer of the conductive ball protruding and between the electrode part of the electric circuit board and the part of the coating layer of the conductive ball protruding from the other surface of the holding sheet are electrically connected. And an electrical circuit part characterized by being mechanically connected.
【請求項8】電極部を有する電気回路素子と、前記電気
回路素子の電極部に対応する位置に設けられた電極部を
有する電気回路基板とを互いに対向させ、前記電気回路
素子の電極部と前記電気回路基板の電極部との間に少な
くとも1以上の導電ボールを介在させて両電極部間を接
続した電気回路部品において、 前記導電ボールを埋設保持する保持シートであって、電
気的絶縁性を有する材料から形成され、一方の面より該
導電ボールの一部が突出して露出し、他方の面から該導
電ボールの一部が突出して露出するように、該導電ボー
ルを保持する保持シートを備え、 前記導電ボールは、剛性の高い金属材料及び無機材料の
少なくとも一方からなる略球状の形状を有するコアと、
電導性を有した材料により形成され、上記コアの周囲に
被覆される導電被覆層とを備え、 該導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記電気
回路基板の電極部により圧接されて、前記電気回路素子
の電極部と前記保持シートの一方の面より突出した前記
導電ボールの前記導電被覆層の部分との間、及び、前記
電気回路基板の電極部と前記保持シートの他方の面より
突出した該導電ボールの前記導電被覆層の部分との間
が、夫々を構成している材料を金属化及び/又は合金化
して接続されている事を特徴とする電気回路部品。
8. An electric circuit element having an electrode portion and an electric circuit board having an electrode portion provided at a position corresponding to the electrode portion of the electric circuit element are opposed to each other, and the electric circuit element has an electrode portion. An electrical circuit component in which at least one conductive ball is interposed between the electrode portion of the electric circuit board and the two electrode portions are connected to each other. A holding sheet for holding the conductive ball so that a part of the conductive ball is projected and exposed from one surface and a part of the conductive ball is projected and exposed from the other surface. And a core having a substantially spherical shape made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material,
A conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and coated around the core, wherein the conductive balls are pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; Between the electrode portion of the electric circuit element and the portion of the conductive coating layer of the conductive ball protruding from one surface of the holding sheet, and from the electrode portion of the electric circuit board and the other surface of the holding sheet. An electrical circuit component, characterized in that the protruding conductive balls are connected to the conductive coating layer by metallizing and / or alloying the materials forming each of them.
【請求項9】電極部を有する電気回路素子と、 前記電気回路素子の電極部に対応する位置に設けられた
電極部を有する電気回路基板と、 前記電気回路素子及び電気回路基板が互いに対向した状
態で、夫々の電極部の間に挟持され、両電極部間を、電
気的及び機械的に接続する少なくとも1以上の導電ボー
ルと、 前記導電ボールを埋設保持する保持シートであって、電
気的絶縁性を有する材料から形成され、一方の面より該
導電ボールの一部が突出して露出し、他方の面から該導
電ボールの一部が突出して露出するように、該導電ボー
ルを保持する保持シートとを具備し、 前記導電ボールは、剛性の高い金属材料及び無機材料の
少なくとも一方からなる略球状の形状を有するコアと、
電導性を有した材料により形成され、上記コアの周囲に
被覆される導電被覆層とを備え、 該導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記電気
回路基板の電極部により圧接されて、前記電気回路素子
の電極部と前記保持シートの一方の面より突出した前記
導電ボールの前記導電被覆層の部分との間、及び、前記
電気回路基板の電極部と前記保持シートの他方の面より
突出した該導電ボールの前記導電被覆層の部分との間
が、夫々を構成している材料を金属化及び/又は合金化
して接続されている事を特徴とする電気回路部品。
9. An electric circuit element having an electrode section, an electric circuit board having an electrode section provided at a position corresponding to the electrode section of the electric circuit element, and the electric circuit element and the electric circuit board facing each other. In the state, at least one or more conductive balls sandwiched between the respective electrode parts and electrically and mechanically connecting the both electrode parts, and a holding sheet for embedding and holding the conductive balls are provided. A holding member which is made of an insulating material and holds the conductive ball so that a part of the conductive ball projects and is exposed from one surface and a part of the conductive ball projects and is exposed from the other surface. A sheet, the conductive ball, a core having a substantially spherical shape made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material,
A conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and coated around the core, wherein the conductive balls are pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; Between the electrode portion of the electric circuit element and the portion of the conductive coating layer of the conductive ball protruding from one surface of the holding sheet, and from the electrode portion of the electric circuit board and the other surface of the holding sheet. An electrical circuit component, characterized in that the protruding conductive balls are connected to the conductive coating layer by metallizing and / or alloying the materials forming each of them.
【請求項10】電極部を有する光電変換素子と、 該光電変換素子と接続するための電極部を有する電気回
路基板とを備える電気回路部品において、 前記光電変換素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
との間に介在され、略ボール形状の剛性を有するコアの
周囲に導電性の被覆層が設けられた少なくとも1つの導
電ボールと、 前記導電ボールを埋設保持する保持シートであって、電
気的絶縁性を有する材料から形成され、一方の面より該
導電ボールの一部が突出して露出し、他方の面から該導
電ボールの一部が突出して露出するように、該導電ボー
ルを保持する保持シートとを具備し、 前記導電ボールは、前記光電変換素子の電極部と前記電
気回路基板の電極部により圧接されて、該光電変換素子
の電極部と前記保持シートの一方の面より突出する該導
電ボールの被覆層の部分との間、及び、該電気回路基板
の電極部と前記保持シートの他方の面より突出する該導
電ボールの被覆層の部分との間が電気的及び機械的に接
続されている事を特徴とする電気回路部品。
10. An electric circuit component comprising a photoelectric conversion element having an electrode section and an electric circuit board having an electrode section for connecting to the photoelectric conversion element, wherein the electrode section of the photoelectric conversion element and the electric circuit board are provided. An at least one conductive ball which is interposed between the electrode part of, and has a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity, and a holding sheet for embedding and holding the conductive ball, Holds the conductive ball so that a part of the conductive ball is projected and exposed from one surface and a part of the conductive ball is projected and exposed from the other surface. And a holding sheet for holding the conductive ball, wherein the conductive ball is pressure-contacted by the electrode portion of the photoelectric conversion element and the electrode portion of the electric circuit board, and the conductive ball is formed from the electrode portion of the photoelectric conversion element and one surface of the holding sheet. Between the protruding portion of the conductive ball covering layer and between the electrode portion of the electric circuit board and the covering layer portion of the conductive ball protruding from the other surface of the holding sheet. Electrical circuit parts characterized by being mechanically connected.
【請求項11】電極部を有する電気回路素子と、前記電
気回路素子の電極部に対応する位置に設けられた電極部
を有する電気回路基板とを互いに対向させ、前記電気回
路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部との間に少
なくとも1以上の導電ボールを介在させて両電極部間を
接続した電気回路部品において、 該少なくとも1以上の導電ボールを埋設保持する保持シ
ートであって、電気的絶縁性を有する材料から形成さ
れ、一方の面より前記導電ボールの一部が突出して露出
し、他方の面から該導電ボールの一部が突出して露出す
るように、該導電ボールを保持する保持シートを備え、 前記電気回路素子は、少なくとも1以上の光電変換素子
を有し、 前記電気回路基板は、少なくとも一部に透光性を有し、 前記保持シートは、空気又は封止樹脂よりも低い光透過
率を有し、前記光電変換素子に対応する部分に開口部を
有するように形成され、 前記導電ボールは、剛性の高い金属材料及び無機材料の
少なくとも一方からなる略球状の形状を有するコアと、
電導性を有した材料により形成され、上記コアの周囲に
被覆される導電被覆層とを備え、 該導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記電気
回路基板の電極部により圧接されて、前記電気回路素子
の電極部と前記保持シートの一方の面より突出した前記
導電ボールの前記導電被覆層の部分との間、及び、前記
電気回路基板の電極部と前記保持シートの他方の面より
突出した該導電ボールの前記導電被覆層の部分との間
が、夫々を構成している材料を金属化及び/又は合金化
して接続されている事を特徴とする電気回路部品。
11. An electric circuit element having an electrode portion and an electric circuit board having an electrode portion provided at a position corresponding to the electrode portion of the electric circuit element are opposed to each other to form an electrode portion of the electric circuit element. An electric circuit component in which at least one conductive ball is interposed between the electrode part of the electric circuit board and the two electrode parts are connected to each other, the holding sheet embedding and holding the at least one conductive ball, Holds the conductive ball so that it is formed of an electrically insulating material and a part of the conductive ball projects and is exposed from one surface and a part of the conductive ball projects and is exposed from the other surface. A holding sheet for the electric circuit element, the electric circuit element has at least one or more photoelectric conversion elements, the electric circuit board has a light-transmitting property at least in part, the holding sheet is air or sealed. It has a light transmittance lower than that of a stop resin and is formed to have an opening at a portion corresponding to the photoelectric conversion element, and the conductive ball is a substantially spherical shape made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material. A core having the shape of
A conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and coated around the core, wherein the conductive balls are pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; Between the electrode portion of the electric circuit element and the portion of the conductive coating layer of the conductive ball protruding from one surface of the holding sheet, and from the electrode portion of the electric circuit board and the other surface of the holding sheet. An electrical circuit component, characterized in that the protruding conductive balls are connected to the conductive coating layer by metallizing and / or alloying the materials forming each of them.
【請求項12】電極部を有する電気回路素子と、 前記電気回路素子の電極部に対応する位置に設けられた
電極部を有する電気回路基板と、 前記電気回路素子及び電気回路基板が互いに対向した状
態で、夫々の電極部の間に挟持され、両電極部間を、電
気的及び機械的に接続する少なくとも1以上の導電ボー
ルと、 該少なくとも1以上の導電ボールを埋設保持する保持シ
ートであって、電気的絶縁性を有する材料から形成さ
れ、一方の面より前記導電ボールの一部が突出して露出
し、他方の面から該導電ボールの一部が突出して露出す
るように、該導電ボールを保持する保持シートとを具備
し、 前記電気回路素子は、少なくとも1以上の光電変換素子
を有し、 前記電気回路基板は、少なくとも一部に透光性を有し、 前記保持シートは、空気又は封止樹脂よりも低い光透過
率を有し、前記光電変換素子に対応する部分に開口部を
有するように形成され、 前記導電ボールは、剛性の高い金属材料及び無機材料の
少なくとも一方からなる略球状の形状を有するコアと、
電導性を有した材料により形成され、上記コアの周囲に
被覆される導電被覆層とを備え、 該導電ボールは、前記電気回路素子の電極部と前記電気
回路基板の電極部により圧接されて、前記電気回路素子
の電極部と前記保持シートの一方の面より突出した前記
導電ボールの前記導電被覆層の部分との間、及び、前記
電気回路基板の電極部と前記保持シートの他方の面より
突出した該導電ボールの前記導電被覆層の部分との間
が、夫々を構成している材料を金属化及び/又は合金化
して接続されている事を特徴とする電気回路部品。
12. An electric circuit element having an electrode section, an electric circuit board having an electrode section provided at a position corresponding to the electrode section of the electric circuit element, the electric circuit element and the electric circuit board facing each other. In this state, there are at least one conductive ball which is sandwiched between the respective electrode parts and electrically and mechanically connects the both electrode parts, and a holding sheet which embeds and holds the at least one conductive ball. And a conductive ball formed of a material having electrical insulation so that a part of the conductive ball projects and is exposed from one surface and a part of the conductive ball projects and is exposed from the other surface. And a holding sheet for holding the electric circuit element, the electric circuit element has at least one or more photoelectric conversion element, the electric circuit substrate has a light-transmitting property at least in part, the holding sheet is air Has a light transmittance lower than that of the sealing resin and is formed to have an opening in a portion corresponding to the photoelectric conversion element, and the conductive ball is made of at least one of a highly rigid metal material and an inorganic material. A core having a substantially spherical shape,
A conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and coated around the core, wherein the conductive balls are pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; Between the electrode portion of the electric circuit element and the portion of the conductive coating layer of the conductive ball protruding from one surface of the holding sheet, and from the electrode portion of the electric circuit board and the other surface of the holding sheet. An electrical circuit component, characterized in that the protruding conductive balls are connected to the conductive coating layer by metallizing and / or alloying the materials forming each of them.
【請求項13】前記導電ボールにより接続される電極部
間の距離が、前記コアの直径と実質的に等しい距離であ
ることを特徴とする請求項1乃至12の何れか1項に記
載の電気回路部品。
13. The electricity according to claim 1, wherein a distance between the electrode portions connected by the conductive balls is a distance substantially equal to a diameter of the core. Circuit parts.
【請求項14】前記導電被覆層の外周面は、滑らかな曲
面状に形成されていることを特徴とする請求項1乃至1
3の何れか1項に記載の電気回路部品。
14. The outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed into a smooth curved surface shape.
The electric circuit component according to any one of 3 above.
【請求項15】前記コアの外周面は、滑らかな曲面状に
形成されていることを特徴とする請求項1乃至14の何
れか1項に記載の電気回路部品。
15. The electric circuit component according to claim 1, wherein the outer peripheral surface of the core is formed into a smooth curved surface.
【請求項16】前記導電被覆層の外周面は、凸凹状に形
成されている事を特徴とする請求項1乃至13の何れか
1項に記載の電気回路部品。
16. The electric circuit component according to claim 1, wherein an outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.
【請求項17】前記導電被覆層の内周面は、凸凹状に形
成されていることを特徴とする請求項1乃至13及び1
6の何れか1項に記載の電気回路部品。
17. The inner peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.
The electric circuit component according to any one of 6 above.
【請求項18】前記コアの外周面は、凸凹状に形成され
ていることを特徴とする請求項1乃至13及び16の何
れか1項に記載の電気回路部品。
18. The electric circuit component according to claim 1, wherein the outer peripheral surface of the core is formed in an uneven shape.
【請求項19】前記両電極部間には、複数の導電ボール
が介設されている事を特徴とする請求項1乃至13の何
れか1項に記載の電気回路部品。
19. The electric circuit component according to claim 1, wherein a plurality of conductive balls are provided between the both electrode portions.
【請求項20】前記基板と素子との間は、樹脂封止され
ている事を特徴とする請求項1乃至13の何れか1項に
記載の電気回路部品。
20. The electric circuit component according to claim 1, wherein a space between the substrate and the element is resin-sealed.
【請求項21】前記保持シートには、ノッチ及び/又は
スリットが形成されており、引き裂き可能になされてい
ることを特徴とする請求項7乃至12の何れか1項に記
載の電気回路部品。
21. The electric circuit component according to claim 7, wherein the holding sheet is formed with notches and / or slits so that the holding sheet can be torn.
【請求項22】前記導電被覆層は、電気抵抗率が1.6
E−8乃至10E−8Ω・mの物質から形成されている
ことを特徴とする請求項1乃至12の何れか1項に記載
の電気回路部品。
22. The conductive coating layer has an electric resistivity of 1.6.
The electric circuit component according to any one of claims 1 to 12, wherein the electric circuit component is formed of a material having a thickness of E-8 to 10E-8Ω · m.
【請求項23】前記導電被覆層は、その膜厚を1乃至5
0μmに設定されていることを特徴とする請求項22に
記載の電気回路部品。
23. The conductive coating layer has a thickness of 1 to 5
23. The electric circuit component according to claim 22, wherein the electric circuit component is set to 0 μm.
【請求項24】前記導電被覆層は、その膜厚を3乃至2
0μmに設定されていることを特徴とする請求項23に
記載の電気回路部品。
24. The conductive coating layer has a thickness of 3 to 2
The electric circuit component according to claim 23, wherein the electric circuit component is set to 0 μm.
【請求項25】前記コアは、その直径を3乃至500μ
mに設定されていることを特徴とする請求項1乃至12
の何れか1項に記載の電気回路部品。
25. The core has a diameter of 3 to 500 μm.
It is set to m.
The electric circuit component according to any one of 1.
【請求項26】前記コアは、その直径を10乃至200
μmに設定されていることを特徴とする請求項25に記
載の電気回路部品。
26. The core has a diameter of 10 to 200.
26. The electric circuit component according to claim 25, wherein the electric circuit component is set to μm.
【請求項27】前記コアは、両電極間での接続に必要な
荷重が加えられた場合に、その直径の変位量が5%以下
となるような剛性を有している事を特徴とする請求項1
乃至12の何れか1項に記載の電気回路部品。
27. The core has rigidity such that a displacement amount of a diameter thereof is 5% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. Claim 1
13. The electric circuit component according to any one of 1 to 12.
【請求項28】前記コアは、両電極間での接続に必要な
荷重が加えられた場合に、その直径の変位量が1%以下
となるような剛性を有している事を特徴とする請求項2
7に記載の電気回路部品。
28. The core has rigidity such that a displacement amount of a diameter thereof is 1% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. Claim 2
The electric circuit component according to 7.
【請求項29】前記導電被覆層の凸凹の大きさが、Rm
axで接続される電極の膜厚の10%以上であり、導電
被覆層の膜厚の2倍以下であることを特徴とする請求項
16乃至18の何れか1項に記載の電気回路部品。
29. The size of the unevenness of the conductive coating layer is Rm.
The electric circuit component according to any one of claims 16 to 18, which is 10% or more of a film thickness of an electrode connected by ax and is 2 times or less of a film thickness of a conductive coating layer.
【請求項30】電極部を有する電気回路素子と前記電気
回路素子と接続するための電極部を有した電気回路基板
を備えた電気回路部品の製造方法において、 略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に導電性を有す
る被覆層を有する導電ボールを、少なくとも1以上、前
記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部と
の間に介在させる第1の工程と、 前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
とにより、前記導電ボールを加圧する第2の工程と、 前記導電ボールの導電被覆層を所定温度に加熱させる第
3の工程と、 前記加圧及び加熱により、前記電気回路素子の電極部及
び前記導電ボール間の導電被覆層と、前記電気回路基板
の電極部及び前記導電ボール間の導電被覆層とを夫々移
動させて、前記コアと両電極部とを接触させる第4の工
程と、 前記導電被覆層を冷却して、前記コアと両電極部との接
触を維持させて前記導電被覆層及び両電極部を金属化又
は合金化させる第5の工程とを具備することを特徴とす
る電気回路部品の製造方法。
30. A method of manufacturing an electric circuit component, comprising: an electric circuit element having an electrode section; and an electric circuit board having an electrode section for connecting to the electric circuit element, comprising: A first step of interposing at least one or more conductive balls having a coating layer having conductivity around the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; A second step of pressing the conductive balls with an electrode part and an electrode part of the electric circuit board; a third step of heating the conductive coating layer of the conductive balls to a predetermined temperature; Moving the conductive coating layer between the electrode portion of the electric circuit element and the conductive ball and the conductive coating layer between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive ball to move the core and both electrode portions. Contact A fourth step of touching, and a fifth step of cooling the conductive coating layer to maintain contact between the core and both electrode portions to metallize or alloy the conductive coating layer and both electrode portions. A method of manufacturing an electric circuit component, comprising:
【請求項31】電極部を有する電気回路素子と前記電気
回路素子と接続するための電極部を有した電気回路基板
を備えた電気回路部品の製造方法において、 略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に導電性を有す
る被覆層を有する導電ボールを、前記電気回路素子の電
極部及び前記電気回路基板の電極部の一方の上に少なく
とも1以上載置させる第1の工程と、 前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
の他方を、前記導電ボール上に重ねさせ、該導電ボール
を両電極により挟持させる第2の工程と、 前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
とにより、前記導電ボールを加圧する第3の工程と、 前記導電ボールの導電被覆層を所定温度に加熱させる第
4の工程と、 前記加圧及び加熱により、前記電気回路素子の電極部と
前記導電ボールとの間の導電被覆層と、前記電気回路基
板の電極部と前記導電ボールとの間の導電被覆層とを夫
々移動させて、前記コアと両電極部とを接触させる第5
の工程と、 前記導電被覆層を冷却して、前記コアと両電極部との接
触を維持させて前記導電被覆層及び両電極部を金属化又
は合金化させる第6の工程とを具備することを特徴とす
る電気回路部品の製造方法。
31. A method of manufacturing an electric circuit component comprising an electric circuit element having an electrode section and an electric circuit board having an electrode section for connecting to the electric circuit element, wherein a core having a substantially ball-shaped rigidity is used. A first step of mounting at least one or more conductive balls having a conductive coating layer on the periphery thereof on one of the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; Second step of stacking the other electrode part of the electric circuit board and the electrode part of the electric circuit board on the conductive ball and sandwiching the conductive ball between the electrodes, and the electrode part of the electric circuit element and the electric circuit board. And a fourth step of heating the conductive coating layer of the conductive ball to a predetermined temperature; and the pressing and heating of the electric circuit element. A conductive coating layer between the electrode portion and the conductive ball and a conductive coating layer between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive ball are respectively moved to bring the core into contact with both electrode portions. Fifth
And a sixth step of cooling the conductive coating layer to maintain contact between the core and both electrode portions to metallize or alloy the conductive coating layer and both electrode portions. And a method for manufacturing an electric circuit component.
【請求項32】電極部を有する電気回路素子と前記電気
回路素子と接続するための電極部を有した電気回路基板
を備えた電気回路部品の製造方法において、 前記電気回路素子及び電気回路基板の一方の上に、略ボ
ール形状の剛性を有するコアの周囲に導電性を有する被
覆層を有する導電ボールの直径よりも薄く形成され、前
記電極に対応した位置に開口が形成されたマスク部材
を、該開口が該電極に対応する状態で載置する第1の工
程と、 前記マスク部材の開口内に、前記導電ボールを収納し
て、該導電ボールを、前記電気回路素子及び電気回路基
板の電極部の一方の上に少なくとも1以上載置させる第
2の工程と、 前記電気回路素子及び電気回路基板の他方を、これの電
極部が前記導電ボール上に重なるように載置して、該導
電ボールを両電極により挟持させる第3の工程と、 前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
とにより、前記導電ボールを加圧する第4の工程と、 前記導電ボールの導電被覆層を所定温度に加熱させる第
5の工程と、 前記加圧及び加熱により、前記電気回路素子の電極部及
び前記導電ボール間の導電被覆層と、前記電気回路基板
の電極部及び前記導電ボール間の導電被覆層とを夫々移
動させて、前記コアと両電極部とを接触させる第6の工
程と、 前記導電被覆層を冷却して、前記コアと両電極部との接
触を維持させて前記導電被覆層及び両電極部を金属化又
は合金化させる第7の工程と、 前記マスク部材を取り除く第8の工程とを具備すること
を特徴とする電気回路部品の製造方法。
32. A method of manufacturing an electric circuit component, comprising: an electric circuit element having an electrode section; and an electric circuit board having an electrode section for connecting to the electric circuit element. On one side, a mask member formed to be thinner than a diameter of a conductive ball having a coating layer having conductivity around a core having a substantially ball-shaped rigidity, and having an opening formed at a position corresponding to the electrode, A first step of placing the opening in a state corresponding to the electrode; and containing the conductive ball in the opening of the mask member, and setting the conductive ball to the electrode of the electric circuit element and the electric circuit board. A second step of placing at least one or more on one of the parts, and placing the other of the electric circuit element and the electric circuit board so that the electrode parts thereof overlap the conductive balls, the ball A third step of sandwiching the conductive balls by the electrodes, a fourth step of pressing the conductive balls by the electrode portions of the electric circuit element and the electrode portions of the electric circuit board, and a predetermined temperature of the conductive coating layer of the conductive balls. And a conductive coating layer between the electrode portion of the electric circuit element and the conductive ball and a conductive coating layer between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive ball by the pressing and heating. And a sixth step of bringing the core and the electrode portions into contact with each other, and cooling the conductive coating layer to maintain contact between the core and the electrode portions, and the conductive coating layer and 7. A method of manufacturing an electric circuit component, comprising: a seventh step of metallizing or alloying both electrode parts; and an eighth step of removing the mask member.
【請求項33】電極部を有する電気回路素子と前記電気
回路素子と接続するための電極部を有した電気回路基板
を備えた電気回路部品の製造方法において、 前記電気回路素子及び電気回路基板の一方の上に、略ボ
ール形状の剛性を有するコアの周囲に導電性を有する被
覆層を有する導電ボールの直径よりも薄く形成され、前
記電極に対応した位置に第1の開口が形成された第1の
マスク部材を、該開口が該電極に対応する状態で載置す
る第1の工程と、 この第1のマスク部材上に、該第1のマスク部材との合
計の厚さが、前記導電ボールの直径の1.5倍よりも薄
くなるように形成されると共に、前記電極に対応した位
置に第2の開口が形成された第2のマスク部材を、第1
及び第2の開口が連通するように重ね合わせる第2の工
程と、 前記第1及び第2のマスク部材の第1及び第2の開口内
に、前記導電ボールを収納して、該導電ボールを、前記
電気回路素子及び電気回路基板の電極部の一方の上に少
なくとも1以上載置させる第3の工程と、 前記第2のマスク部材を取り除く第4の工程と、 前記電気回路素子及び電気回路基板の他方を、これの電
極部が前記導電ボール上に重なるように載置して、該導
電ボールを両電極によりる挟持させる第5の工程と、 前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
とにより、前記導電ボールを加圧する第6の工程と、 前記導電ボールの導電被覆層を所定温度に加熱させる第
7の工程と、 前記加圧及び加熱により、前記電気回路素子の電極部及
び前記導電ボール間の導電被覆層と、前記電気回路基板
の電極部及び前記導電ボール間の導電被覆層とを夫々移
動させて、前記コアと両電極部とを接触させる第8の工
程と、 前記導電被覆層を冷却して、前記コアと両電極部との接
触を維持させて前記導電被覆層及び両電極部を金属化又
は合金化させる第9の工程と、 前記第1のマスク部材を取り除く第10の工程とを具備
することを特徴とする電気回路部品の製造方法。
33. A method of manufacturing an electric circuit component comprising an electric circuit element having an electrode section and an electric circuit board having an electrode section for connecting to the electric circuit element, the method comprising: On one side, a diameter is formed smaller than the diameter of a conductive ball having a conductive coating layer around a substantially ball-shaped rigid core, and a first opening is formed at a position corresponding to the electrode. A first step of mounting the first mask member in a state where the opening corresponds to the electrode, and a total thickness of the first mask member and the first mask member is equal to the conductive layer. The second mask member is formed so as to be thinner than 1.5 times the diameter of the ball and has a second opening formed at a position corresponding to the electrode.
And a second step of superimposing so that the second openings communicate with each other, and the conductive balls are housed in the first and second openings of the first and second mask members, respectively. A third step of mounting at least one or more of the electric circuit element and one of the electrode portions of the electric circuit board, a fourth step of removing the second mask member, the electric circuit element and the electric circuit A fifth step of placing the other side of the substrate so that the electrode portion thereof overlaps the conductive ball and sandwiching the conductive ball between the electrodes, and the electrode portion of the electric circuit element and the electric circuit. A sixth step of pressing the conductive balls with the electrode portion of the substrate, a seventh step of heating the conductive coating layer of the conductive balls to a predetermined temperature, and the pressing and heating of the electric circuit element Electrode part and the conductive ball And a conductive coating layer between the electrode portion of the electric circuit board and the conductive ball, to move the conductive coating layer between the core and both electrode portions, and the conductive coating layer A ninth step of cooling to maintain the contact between the core and both electrode portions to metallize or alloy the conductive coating layer and both electrode portions; and a tenth step of removing the first mask member. And a method for manufacturing an electric circuit component.
【請求項34】電極部を有する電気回路素子と前記電気
回路素子と接続するための電極部を有した電気回路基板
を備えた電気回路部品の製造方法において、 略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に導電性を有す
る被覆層を備える導電ボールと、前記電気回路素子の電
極部及び前記電気回路基板の電極部の一方とを接触させ
る第1の工程と、 前記一方の電極部と、前記導電ボールとを互いに加圧す
る第2の工程と、 前記導電ボールの導電被覆層を所定温度に加熱させる第
3の工程と、 前記加圧及び加熱により、前記一方の電極部と前記導電
ボールとの間の導電被覆層を移動させて、前記コアと前
記一方の電極部とを接触させる第4の工程と、 前記導電被覆層を冷却して、前記コアと前記一方の電極
部との接触を維持させて、該導電被覆層及び該一方の電
極部を金属化又は合金化させる第5の工程と、 前記一方の電極に接続された導電ボールと、前記電気回
路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部の他方とを
接触させ、該導電ボールを両電極により挟持させる第6
の工程と、 前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
とにより、前記導電ボールを加圧する第7の工程と、 前記導電ボールの導電被覆層を所定温度に加熱させる第
8の工程と、 前記加圧及び加熱により、前記他方の電極部と前記導電
ボールとの間の導電被覆層を移動させて、前記コアと該
他方の電極部とを接触させる第9の工程と、 前記導電被覆層を冷却して、前記コアと前記他方の電極
部との接触を維持させて前記導電被覆層及び該他方の電
極部を金属化又は合金化させる第10の工程とを具備す
ることを特徴とする電気回路部品の製造方法。
34. A method of manufacturing an electric circuit component including an electric circuit element having an electrode section and an electric circuit board having an electrode section for connecting to the electric circuit element, wherein a core having a substantially ball-shaped rigidity is used. A first step of bringing a conductive ball having a conductive coating layer around the electrode into contact with one of the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; the one electrode portion; A second step of pressing the balls against each other; a third step of heating the conductive coating layer of the conductive balls to a predetermined temperature; and a step of pressing between the one electrode portion and the conductive balls by the pressing and heating. Moving the conductive coating layer to contact the core with the one electrode portion, and cooling the conductive coating layer to maintain contact between the core and the one electrode portion. The conductive coating layer And a fifth step of metallizing or alloying the one electrode part, a conductive ball connected to the one electrode, the electrode part of the electric circuit element and the other of the electrode parts of the electric circuit board. Contacting and holding the conductive ball between both electrodes
The step of pressing the conductive balls with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board; and an eighth step of heating the conductive coating layer of the conductive balls to a predetermined temperature. A step of moving the conductive coating layer between the other electrode portion and the conductive ball by the pressure and heating to bring the core and the other electrode portion into contact with each other; Cooling the conductive coating layer to maintain contact between the core and the other electrode portion to metallize or alloy the conductive coating layer and the other electrode portion. A method for manufacturing a characteristic electric circuit component.
【請求項35】電極部を有する電気回路素子と前記電気
回路素子と接続するための電極部を有した電気回路基板
を備えた電気回路部品の製造方法において、 前記電極に対応した凹部を上面に有する型の、前記凹部
内に、略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に導電性
を有する被覆層を備える導電ボールを一部突出した状態
で収納する第1の工程と、 前記導電ボールと、前記電気回路素子の電極部及び前記
電気回路基板の電極部の一方とを接触させる第2の工程
と、 前記一方の電極部と前記凹部とにより、前記導電ボール
を加圧する第3の工程と、 前記導電ボールの導電被覆層を所定温度に加熱させる第
4の工程と、 前記加圧及び加熱により、前記一方の電極部と前記導電
ボールとの間の導電被覆層を移動させて、前記コアと前
記一方の電極部とを接触させる第5の工程と、 前記導電被覆層を冷却して、前記コアと前記一方の電極
部との接触を維持させて、該導電被覆層及び該一方の電
極部を金属化又は合金化させる第6の工程と、 前記型から、前記導電ボールが接続された前記電気回路
素子及び電気回路基板の一方を取り出す第7の工程と、 前記一方の電極に接続された導電ボールと、前記電気回
路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部の他方とを
接触させ、該導電ボールを両電極により挟持させる第8
の工程と、 前記電気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部
とにより、前記導電ボールを加圧する第9の工程と、 前記導電ボールの導電被覆層を所定温度に加熱させる第
10の工程と、 前記加圧及び加熱により、前記他方の電極部と前記導電
ボールとの間の導電被覆層を移動させて、前記コアと該
他方の電極部とを接触させる第11の工程と、 前記導電被覆層を冷却して、前記コアと前記他方の電極
部との接触を維持させて前記導電被覆層及び該他方の電
極部を金属化又は合金化させる第12の工程とを具備す
ることを特徴とする電気回路部品の製造方法。
35. A method of manufacturing an electric circuit component comprising an electric circuit element having an electrode section and an electric circuit board having an electrode section for connecting to the electric circuit element, wherein a concave portion corresponding to the electrode is provided on an upper surface. A first step of accommodating a conductive ball having a conductive coating layer around a core having a substantially ball-shaped rigidity in the recess of the mold, the conductive ball being included; A second step of bringing the electrode portion of the electric circuit element and one of the electrode portions of the electric circuit board into contact with each other; and a third step of pressing the conductive ball with the one electrode portion and the recess. A fourth step of heating the conductive coating layer of the conductive ball to a predetermined temperature; and by moving the conductive coating layer between the one electrode portion and the conductive ball by the pressing and heating, One of the above A fifth step of contacting an electrode portion, cooling the conductive coating layer to maintain contact between the core and the one electrode portion, and metalizing the conductive coating layer and the one electrode portion. Or a sixth step of alloying, a seventh step of taking out one of the electric circuit element and the electric circuit board to which the conductive ball is connected from the mold, and a conductive ball connected to the one electrode An electrode part of the electric circuit element and the other of the electrode parts of the electric circuit board are brought into contact with each other, and the conductive ball is sandwiched by both electrodes.
And a ninth step of pressing the conductive balls with the electrode portions of the electric circuit element and the electrode portions of the electric circuit board, and a tenth step of heating the conductive coating layer of the conductive balls to a predetermined temperature. A step of moving the conductive coating layer between the other electrode portion and the conductive ball by the pressing and heating to bring the core and the other electrode portion into contact with each other; A twelfth step of cooling the conductive coating layer to maintain contact between the core and the other electrode portion to metallize or alloy the conductive coating layer and the other electrode portion. A method for manufacturing a characteristic electric circuit component.
【請求項36】前記電気回路素子は、少なくとも1以上
の光電変換素子を備えることを特徴とする請求項30乃
至35の何れか1項に記載の電気回路部品の製造方法。
36. The method of manufacturing an electric circuit component according to claim 30, wherein the electric circuit element comprises at least one photoelectric conversion element.
【請求項37】前記導電被覆層の外周面は、滑らかな曲
面状に形成されていることを特徴とする請求項30乃至
36の何れか1項に記載の電気回路部品の製造方法。
37. The method of manufacturing an electric circuit component according to claim 30, wherein the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed into a smooth curved surface.
【請求項38】前記コアの外周面は、滑らかな曲面状に
形成されていることを特徴とする請求項30乃至37の
何れか1項に記載の電気回路部品の製造方法。
38. The method of manufacturing an electric circuit component according to claim 30, wherein the outer peripheral surface of the core is formed into a smooth curved surface.
【請求項39】前記導電被覆層の外周面は、凸凹状に形
成されている事を特徴とする請求項30乃至36の何れ
か1項に記載の電気回路部品の製造方法。
39. The method of manufacturing an electric circuit component according to claim 30, wherein an outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.
【請求項40】前記導電被覆層の内周面は、凸凹状に形
成されていることを特徴とする請求項30乃至36及び
39の何れか1項に記載の電気回路部品の製造方法。
40. The method of manufacturing an electric circuit component according to claim 30, wherein the inner peripheral surface of the conductive coating layer is formed in a concave-convex shape.
【請求項41】前記コアの外周面は、凸凹状に形成され
ていることを特徴とする請求項30乃至36及び39の
何れか1項に記載の電気回路部品の製造方法。
41. The method of manufacturing an electric circuit component according to claim 30, wherein the outer peripheral surface of the core is formed in an uneven shape.
【請求項42】前記第1の工程において、複数の導電ボ
ールを両電極部間に介設させる事を特徴とする請求項3
0又は31に記載の電気回路部品の製造方法。
42. In the first step, a plurality of conductive balls are provided between both electrode portions.
0. The manufacturing method of the electric circuit component of 31.
【請求項43】前記第2の工程において、複数の導電ボ
ールを両電極部間に介設させる事を特徴とする請求項3
2に記載の電気回路部品の製造方法。
43. In the second step, a plurality of conductive balls are provided between both electrode portions.
2. The method for manufacturing an electric circuit component according to 2.
【請求項44】前記第3の工程において、複数の導電ボ
ールを両電極部間に介設させる事を特徴とする請求項3
3に記載の電気回路部品の製造方法。
44. In the third step, a plurality of conductive balls are provided between both electrode portions.
3. The method for manufacturing an electric circuit component according to item 3.
【請求項45】前記第1の工程において、複数の導電ボ
ールを前記一方の電極部に一度に接触させる事を特徴と
する請求項34に記載の電気回路部品の製造方法。
45. The method of manufacturing an electric circuit component according to claim 34, wherein in the first step, a plurality of conductive balls are brought into contact with the one electrode portion at a time.
【請求項46】前記第1の工程において、複数の導電ボ
ールを前記凹部内に一度に収納する事を特徴とする請求
項35に記載の電気回路部品の製造方法。
46. The method of manufacturing an electric circuit component according to claim 35, wherein in the first step, a plurality of conductive balls are housed in the recess at one time.
【請求項47】前記基板と素子との間を、樹脂により封
止する工程を更に具備する事を特徴とする請求項30乃
至35の何れか1項に記載の電気回路部品の製造方法。
47. The method of manufacturing an electric circuit component according to claim 30, further comprising a step of sealing between the substrate and the element with a resin.
【請求項48】前記マスク部材には、ノッチ及び/又は
スリットが形成されており、引き裂き可能になされてい
ることを特徴とする請求項32又は33に記載の電気回
路部品の製造方法。
48. The method of manufacturing an electric circuit component according to claim 32, wherein the mask member is formed with a notch and / or a slit so that it can be torn.
【請求項49】前記導電被覆層は、電気抵抗率が1.6
E−8乃至10E−8Ω・mの物質から形成されている
ことを特徴とする請求項30乃至35の何れか1項に記
載の電気回路部品の製造方法。
49. The conductive coating layer has an electric resistivity of 1.6.
The method for manufacturing an electric circuit component according to any one of claims 30 to 35, characterized in that the electric circuit component is formed of a material having a thickness of E-8 to 10E-8Ω · m.
【請求項50】前記導電被覆層は、その膜厚を1乃至5
0μmに設定されていることを特徴とする請求項49に
記載の電気回路部品の製造方法。
50. The conductive coating layer has a thickness of 1 to 5
The method of manufacturing an electric circuit component according to claim 49, wherein the thickness is set to 0 μm.
【請求項51】前記導電被覆層は、その膜厚を3乃至2
0μmに設定されていることを特徴とする請求項50に
記載の電気回路部品の製造方法。
51. The conductive coating layer has a thickness of 3 to 2
The method of manufacturing an electric circuit component according to claim 50, wherein the thickness is set to 0 μm.
【請求項52】前記コアは、その直径を3乃至500μ
mに設定されていることを特徴とする請求項30乃至3
5の何れか1項に記載の電気回路部品の製造方法。
52. The core has a diameter of 3 to 500 μm.
m is set to m.
5. The method for manufacturing an electric circuit component according to any one of 5 above.
【請求項53】前記コアは、その直径を10乃至200
μmに設定されていることを特徴とする請求項52に記
載の電気回路部品の製造方法。
53. The core has a diameter of 10 to 200.
53. The method for manufacturing an electric circuit component according to claim 52, wherein the method is set to μm.
【請求項54】前記コアは、両電極間での接続に必要な
荷重が加えられた場合に、その直径の変位量が5%以下
となるような剛性を有している事を特徴とする請求項3
0乃至35の何れか1項に記載の電気回路部品の製造方
法。
54. The core has a rigidity such that a displacement amount of a diameter thereof is 5% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. Claim 3
The method for manufacturing an electric circuit component according to any one of 0 to 35.
【請求項55】前記コアは、両電極間での接続に必要な
荷重が加えられた場合に、その直径の変位量が1%以下
となるような剛性を有している事を特徴とする請求項5
4に記載の電気回路部品の製造方法。
55. The core has rigidity such that a displacement amount of a diameter thereof is 1% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. Claim 5
4. The method for manufacturing the electric circuit component according to 4.
【請求項56】前記導電被覆層の凸凹の大きさが、Rm
axで接続される電極の膜厚の10%以上であり、導電
被覆層の膜厚の2倍以下であることを特徴とする請求項
39乃至41の何れか1項に記載の電気回路部品の製造
方法。
56. The size of the unevenness of the conductive coating layer is Rm.
42. The electric circuit component according to claim 39, wherein the thickness is 10% or more of the film thickness of the electrodes connected by ax and is 2 times or less the film thickness of the conductive coating layer. Production method.
【請求項57】前記第2の工程における前記導電ボール
の加圧は、前記電気回路素子と前記電気回路基板とを互
いに近接させることにより実行し、 該電気回路素子の電極と該電気回路基板の電極との距離
が、前記導電ボールのコアの直径と実質的に等しくなっ
た時点で、前記近接動作を停止して、前記加圧動作を終
了することを特徴とする請求項30に記載の電気回路部
品の製造方法。
57. The pressing of the conductive balls in the second step is performed by bringing the electric circuit element and the electric circuit board close to each other, and the electrodes of the electric circuit element and the electric circuit board are pressed. 31. The electric device according to claim 30, wherein the proximity operation is stopped and the pressurizing operation is terminated when the distance from the electrode becomes substantially equal to the diameter of the core of the conductive ball. Method of manufacturing circuit parts.
【請求項58】前記第3の工程における前記導電ボール
の加圧は、前記電気回路素子と前記電気回路基板とを互
いに近接させることにより実行し、 該電気回路素子の電極と該電気回路基板の電極との距離
が、前記導電ボールのコアの直径と実質的に等しくなっ
た時点で、前記近接動作を停止して、前記加圧動作を終
了することを特徴とする請求項31に記載の電気回路部
品の製造方法。
58. The pressing of the conductive balls in the third step is performed by bringing the electric circuit element and the electric circuit board close to each other, and the electrodes of the electric circuit element and the electric circuit board are pressed. 32. The electrical device according to claim 31, wherein the proximity operation is stopped and the pressurizing operation is terminated when the distance from the electrode becomes substantially equal to the diameter of the core of the conductive ball. Method of manufacturing circuit parts.
【請求項59】前記第4の工程における前記導電ボール
の加圧は、前記電気回路素子と前記電気回路基板とを互
いに近接させることにより実行し、 該電気回路素子の電極と該電気回路基板の電極との距離
が、前記導電ボールのコアの直径と実質的に等しくなっ
た時点で、前記近接動作を停止して、前記加圧動作を終
了することを特徴とする請求項32に記載の電気回路部
品の製造方法。
59. The pressing of the conductive balls in the fourth step is performed by bringing the electric circuit element and the electric circuit board close to each other, and the electrodes of the electric circuit element and the electric circuit board are pressed. 33. The electrical device according to claim 32, wherein the proximity operation is stopped and the pressurizing operation is terminated when the distance from the electrode becomes substantially equal to the diameter of the core of the conductive ball. Method of manufacturing circuit parts.
【請求項60】前記第6の工程における前記導電ボール
の加圧は、前記電気回路素子と前記電気回路基板とを互
いに近接させることにより実行し、 該電気回路素子の電極と該電気回路基板の電極との距離
が、前記導電ボールのコアの直径と実質的に等しくなっ
た時点で、前記近接動作を停止して、前記加圧動作を終
了することを特徴とする請求項33に記載の電気回路部
品の製造方法。
60. The pressing of the conductive balls in the sixth step is performed by bringing the electric circuit element and the electric circuit board close to each other, and the electrodes of the electric circuit element and the electric circuit board are pressed. 34. The electrical device according to claim 33, wherein the proximity operation is stopped and the pressurizing operation is terminated when the distance from the electrode becomes substantially equal to the diameter of the core of the conductive ball. Method of manufacturing circuit parts.
【請求項61】前記第7の工程における前記導電ボール
の加圧は、前記電気回路素子と前記電気回路基板とを互
いに近接させることにより実行し、 該電気回路素子の電極と該電気回路基板の電極との距離
が、前記導電ボールのコアの直径と実質的に等しくなっ
た時点で、前記近接動作を停止して、前記加圧動作を終
了することを特徴とする請求項34に記載の電気回路部
品の製造方法。
61. The pressing of the conductive balls in the seventh step is performed by bringing the electric circuit element and the electric circuit board close to each other, and the electrodes of the electric circuit element and the electric circuit board are pressed. The electricity according to claim 34, wherein when the distance from the electrode becomes substantially equal to the diameter of the core of the conductive ball, the proximity operation is stopped and the pressurizing operation is ended. Method of manufacturing circuit parts.
【請求項62】前記第9の工程における前記導電ボール
の加圧は、前記電気回路素子と前記電気回路基板とを互
いに近接させることにより実行し、 該電気回路素子の電極と該電気回路基板の電極との距離
が、前記導電ボールのコアの直径と実質的に等しくなっ
た時点で、前記近接動作を停止して、前記加圧動作を終
了することを特徴とする請求項35に記載の電気回路部
品の製造方法。
62. The pressing of the conductive balls in the ninth step is performed by bringing the electric circuit element and the electric circuit board close to each other, and the electrodes of the electric circuit element and the electric circuit board are pressed. 36. The electric device according to claim 35, wherein the proximity operation is stopped and the pressurizing operation is terminated when the distance from the electrode becomes substantially equal to the diameter of the core of the conductive ball. Method of manufacturing circuit parts.
【請求項63】電極部を有する電気回路素子と、電極部
を有する電気回路基板との、互いの電極部を接続するた
めの導電ボールにおいて、 略ボール形状の剛性を有するコアと、 このコアの周囲に被覆された導電性の被覆層とを具備す
る事を特徴とする導電ボール。
63. A conductive ball for connecting an electrode part of an electric circuit element having an electrode part and an electric circuit board having an electrode part to each other, wherein a core having a substantially ball-shaped rigidity and a core of this core are provided. A conductive ball having a conductive coating layer coated on the periphery thereof.
【請求項64】前記導電ボールの導電被覆層は、前記電
気回路素子の電極部と前記電気回路基板の電極部により
圧接されて、該電気回路素子の電極部及び該電気回路基
板の電極部と電気的及び機械的に夫々接続される事を特
徴とする請求項63に記載の導電ボール。
64. The conductive coating layer of the conductive ball is pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board to form an electrode portion of the electric circuit element and an electrode portion of the electric circuit board. The conductive ball according to claim 63, which is electrically and mechanically connected to each other.
【請求項65】電極部を有する電気回路素子と、電極部
を有する電気回路基板との、互いの電極部を接続するた
めの導電ボールにおいて、 剛性の高い金属材料及び無機材料の少なくとも一方から
なる略球状の形状を有するコアと、 電導性を有した材料により形成され、上記コアの周囲に
被覆される導電被覆層とを具備することを特徴とする導
電ボール。
65. An electrically conductive ball for connecting an electrode portion of an electric circuit element having an electrode portion and an electric circuit substrate having an electrode portion to each other is made of at least one of a metal material and an inorganic material having high rigidity. A conductive ball comprising: a core having a substantially spherical shape; and a conductive coating layer formed of a material having electrical conductivity and coated around the core.
【請求項66】前記導電ボールの導電被覆層は、前記電
気回路素子の電極部及び前記電気回路基板の電極部と、
夫々金属接合される事を特徴とする請求項65に記載の
導電ボール。
66. The conductive coating layer of the conductive balls includes an electrode portion of the electric circuit element and an electrode portion of the electric circuit board,
66. The conductive balls according to claim 65, which are metal-bonded to each other.
【請求項67】前記導電被覆層の外周面は、滑らかな曲
面状に形成されていることを特徴とする請求項63乃至
66の何れか1項に記載の導電ボール。
67. The conductive ball according to claim 63, wherein the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed into a smooth curved surface.
【請求項68】前記コアの外周面は、滑らかな曲面状に
形成されていることを特徴とする請求項63乃至67の
何れか1項に記載の導電ボール。
68. The conductive ball according to claim 63, wherein the outer peripheral surface of the core is formed into a smooth curved surface.
【請求項69】前記導電被覆層の外周面は、凸凹状に形
成されている事を特徴とする請求項63乃至66の何れ
か1項に記載の導電ボール。
69. The conductive ball according to claim 63, wherein the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.
【請求項70】前記導電被覆層の内周面は、凸凹状に形
成されていることを特徴とする請求項63乃至66及び
69の何れか1項に記載の導電ボール。
70. The conductive ball according to any one of claims 63 to 66 and 69, wherein an inner peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.
【請求項71】前記コアの外周面は、凸凹状に形成され
ていることを特徴とする請求項1乃至63乃至66及び
69の何れか1項に記載の導電ボール。
71. The conductive ball according to any one of claims 1 to 63 to 66 and 69, wherein the outer peripheral surface of the core is formed in an uneven shape.
【請求項72】前記導電被覆層は、電気抵抗率が1.6
E−8乃至10E−8Ω・mの物質から形成されている
ことを特徴とする請求項63乃至66の何れか1項に記
載の導電ボール。
72. The conductive coating layer has an electric resistivity of 1.6.
67. The conductive ball according to claim 63, wherein the conductive ball is made of a material having a thickness of E-8 to 10E-8 [Omega] m.
【請求項73】前記導電被覆層は、その膜厚を1乃至5
0μmに設定されていることを特徴とする請求項72に
記載の導電ボール。
73. The conductive coating layer has a thickness of 1 to 5
The conductive ball according to claim 72, wherein the conductive ball is set to 0 μm.
【請求項74】前記導電被覆層は、その膜厚を3乃至2
0μmに設定されていることを特徴とする請求項73に
記載の導電ボール。
74. The conductive coating layer has a thickness of 3 to 2
The conductive ball according to claim 73, wherein the conductive ball is set to 0 μm.
【請求項75】前記コアは、その直径を3乃至500μ
mに設定されていることを特徴とする請求項63乃至6
6の何れか1項に記載の導電ボール。
75. The core has a diameter of 3 to 500 μm.
63. The method according to claim 63, wherein m is set to m.
6. The conductive ball according to any one of 6 above.
【請求項76】前記コアは、その直径を10乃至200
μmに設定されていることを特徴とする請求項75に記
載の導電ボール。
76. The core has a diameter of 10 to 200.
76. The conductive ball according to claim 75, wherein the conductive ball is set to μm.
【請求項77】前記コアは、両電極間での接続に必要な
荷重が加えられた場合に、その直径の変位量が5%以下
となるような剛性を有している事を特徴とする請求項6
3乃至66の何れか1項に記載の導電ボール。
77. The core has a rigidity such that a displacement amount of a diameter thereof is 5% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. Claim 6
The conductive ball according to any one of 3 to 66.
【請求項78】前記コアは、両電極間での接続に必要な
荷重が加えられた場合に、その直径の変位量が1%以下
となるような剛性を有している事を特徴とする請求項7
7に記載の導電ボール。
78. The core has a rigidity such that a displacement amount of a diameter thereof is 1% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. Claim 7
7. The conductive ball according to 7.
【請求項79】前記導電被覆層の凸凹の大きさが、Rm
axで接続される電極の膜厚の10%以上であり、導電
被覆層の膜厚の2倍以下であることを特徴とする請求項
69乃至71の何れか1項に記載の導電ボール。
79. The size of the unevenness of the conductive coating layer is Rm.
72. The conductive ball according to claim 69, wherein the conductive ball has a thickness of 10% or more of an electrode connected by ax and a thickness of 2 times or less of a thickness of the conductive coating layer.
【請求項80】電極部を有する電気回路素子と、電極部
を有する電気回路基板との、互いの電極部を接続するた
めに用いられる導電接続部材において、 略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に導電性の被覆
層が設けられた少なくとも1つの導電ボールと、 前記導電ボールを埋設保持する保持シートであって、電
気的絶縁性を有する材料から形成され、一方の面より該
導電ボールの一部が突出して露出し、他方の面から該導
電ボールの一部が突出して露出するように、該導電ボー
ルを保持する保持シートとを具備することを特徴とする
導電接続部材。
80. A conductive connecting member used for connecting electrode parts of an electric circuit element having an electrode part and an electric circuit board having an electrode part to each other, wherein the core has a substantially ball-shaped rigidity. At least one conductive ball having a conductive coating layer formed thereon, and a holding sheet for embedding and holding the conductive ball, the holding sheet being formed of a material having an electrical insulation property. And a holding sheet for holding the conductive balls so that a part of the conductive balls projects and is exposed from the other surface of the conductive ball.
【請求項81】前記導電ボールは、前記電気回路素子の
電極部と前記電気回路基板の電極部により圧接されて、
該電気回路素子の電極部と前記保持シートの一方の面よ
り突出する該導電ボールの被覆層の部分との間、及び、
該電気回路基板の電極部と前記保持シートの他方の面よ
り突出する該導電ボールの被覆層の部分との間が電気的
及び機械的に接続される事を特徴とする請求項80に記
載の導電接続部材。
81. The conductive ball is pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board,
Between the electrode portion of the electric circuit element and the portion of the coating layer of the conductive ball protruding from one surface of the holding sheet, and
81. The electrical and mechanical connection between the electrode portion of the electric circuit board and the portion of the coating layer of the conductive ball protruding from the other surface of the holding sheet. Conductive connection member.
【請求項82】電極部を有する電気回路素子と、電極部
を有する電気回路基板との、互いの電極部を接続するた
めに用いられる導電接続部材において、 剛性の高い金属材料及び無機材料の少なくとも一方から
なる略球状の形状を有するコアと、電導性を有した材料
により形成され、上記コアの周囲に被覆される導電被覆
層とを有する導電ボールと、 前記導電ボールを少なくとも1以上埋設保持する保持シ
ートであって、電気的絶縁性を有する材料から形成さ
れ、一方の面より該導電ボールの一部が突出して露出
し、他方の面から該導電ボールの一部が突出して露出す
るように、該導電ボールを保持する保持シートとを具備
することを特徴とする導電接続部材。
82. In a conductive connecting member used for connecting the electrode parts of an electric circuit element having an electrode part and an electric circuit board having an electrode part to each other, at least a metallic material and an inorganic material having high rigidity are used. A conductive ball having one substantially spherical core and a conductive coating layer formed of a conductive material and coated around the core, and at least one conductive ball is embedded and retained. A holding sheet, which is formed of a material having an electrical insulation property, such that a part of the conductive ball projects and is exposed from one surface and a part of the conductive ball projects and is exposed from the other surface. And a holding sheet for holding the conductive balls, the conductive connecting member.
【請求項83】前記導電ボールは、前記電気回路素子の
電極部と前記電気回路基板の電極部により圧接されて、
該電気回路素子の電極部と前記保持シートの一方の面よ
り突出する該導電ボールの被覆層の部分との間、及び、
該電気回路基板の電極部と前記保持シートの他方の面よ
り突出する該導電ボールの被覆層の部分との間が電気的
及び機械的に接続される事を特徴とする請求項82に記
載の導電接続部材。
83. The conductive ball is pressed into contact with the electrode portion of the electric circuit element and the electrode portion of the electric circuit board,
Between the electrode portion of the electric circuit element and the portion of the coating layer of the conductive ball protruding from one surface of the holding sheet, and
The electrode part of the electric circuit board and the part of the coating layer of the conductive ball protruding from the other surface of the holding sheet are electrically and mechanically connected to each other. Conductive connection member.
【請求項84】前記導電ボールの導電被覆層は、前記電
気回路素子の電極部及び前記電気回路基板の電極部と、
夫々を構成している材料を金属化及び/又は合金化して
接続されている事を特徴とする請求項81又は83に記
載の導電接続部材。
84. The conductive coating layer of the conductive ball includes an electrode portion of the electric circuit element and an electrode portion of the electric circuit board,
The conductive connecting member according to claim 81 or 83, characterized in that the respective constituent materials are metalized and / or alloyed for connection.
【請求項85】前記導電被覆層の外周面は、滑らかな曲
面状に形成されていることを特徴とする請求項80乃至
84の何れか1項に記載の導電接続部材。
85. The conductive connecting member according to claim 80, wherein the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed into a smooth curved surface.
【請求項86】前記コアの外周面は、滑らかな曲面状に
形成されていることを特徴とする請求項80乃至85の
何れか1項に記載の導電接続部材。
86. The conductive connecting member according to claim 80, wherein the outer peripheral surface of the core is formed into a smooth curved surface.
【請求項87】前記導電被覆層の外周面は、凸凹状に形
成されている事を特徴とする請求項80乃至84の何れ
か1項に記載の導電接続部材。
87. The conductive connecting member according to claim 80, wherein an outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.
【請求項88】前記導電被覆層の内周面は、凸凹状に形
成されていることを特徴とする請求項80乃至84及び
87の何れか1項に記載の導電接続部材。
88. The conductive connecting member according to any one of claims 80 to 84 and 87, wherein an inner peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.
【請求項89】前記コアの外周面は、凸凹状に形成され
ていることを特徴とする請求項80乃至84及び87の
何れか1項に記載の導電接続部材。
89. The conductive connecting member according to any one of claims 80 to 84 and 87, wherein the outer peripheral surface of the core is formed in an uneven shape.
【請求項90】前記導電被覆層は、電気抵抗率が1.6
E−8乃至10E−8Ω・mの物質から形成されている
ことを特徴とする請求項80乃至84の何れか1項に記
載の導電接続部材。
90. The conductive coating layer has an electric resistivity of 1.6.
85. The electrically conductive connecting member according to claim 80, wherein the electrically conductive connecting member is formed of a substance of E-8 to 10E-8 [Omega] m.
【請求項91】前記導電被覆層は、その膜厚を1乃至5
0μmに設定されていることを特徴とする請求項90に
記載の導電接続部材。
91. The conductive coating layer has a thickness of 1 to 5
The conductive connecting member according to claim 90, wherein the conductive connecting member is set to 0 μm.
【請求項92】前記導電被覆層は、その膜厚を3乃至2
0μmに設定されていることを特徴とする請求項91に
記載の導電接続部材。
92. The conductive coating layer has a thickness of 3 to 2
The conductive connecting member according to claim 91, wherein the conductive connecting member is set to 0 μm.
【請求項93】前記コアは、その直径を3乃至500μ
mに設定されていることを特徴とする請求項80乃至8
4の何れか1項に記載の導電接続部材。
93. The core has a diameter of 3 to 500 μm.
80 is set to m.
4. The conductive connecting member according to any one of 4 above.
【請求項94】前記コアは、その直径を10乃至200
μmに設定されていることを特徴とする請求項93に記
載の導電接続部材。
94. The core has a diameter of 10 to 200.
94. The conductive connecting member according to claim 93, wherein the conductive connecting member has a thickness of [mu] m.
【請求項95】前記コアは、両電極間での接続に必要な
荷重が加えられた場合に、その直径の変位量が5%以下
となるような剛性を有している事を特徴とする請求項8
0乃至84の何れか1項に記載の導電接続部材。
95. The core has a rigidity such that a displacement amount of a diameter thereof is 5% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. Claim 8
The conductive connecting member according to any one of 0 to 84.
【請求項96】前記コアは、両電極間での接続に必要な
荷重が加えられた場合に、その直径の変位量が1%以下
となるような剛性を有している事を特徴とする請求項9
5に記載の導電接続部材。
96. The core has a rigidity such that a displacement amount of a diameter thereof is 1% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. Claim 9
5. The conductive connecting member according to item 5.
【請求項97】前記導電被覆層の凸凹の大きさが、Rm
axで接続される電極の膜厚の10%以上であり、導電
被覆層の膜厚の2倍以下であることを特徴とする請求項
87乃至89の何れか1項に記載の導電接続部材。
97. The size of the unevenness of the conductive coating layer is Rm.
89. The conductive connecting member according to claim 87, which is 10% or more of a film thickness of an electrode connected by ax and is 2 times or less of a film thickness of a conductive coating layer.
【請求項98】電極部を有する電気回路素子と、電極部
を有する電気回路基板との、互いの電極部を接続するた
めに用いられる導電接続部材の製造方法において、 略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に導電性の被覆
層が設けられた少なくとも1つの導電ボールを、下型及
び上型を両者が所定間隔だけ離間した状態で挟持する第
1の工程と、 前記下型及び上型の間に、合成樹脂を充填する第2の工
程と、 前記下型及び上型から成形材を離型させる第3の工程
と、 離型した成形材の上下両面をエッチングして、合成樹脂
製の保持シートの上下両面から、前記導電ボールの上部
及び下部が夫々突出して露出させる第4の工程とを具備
することを特徴とする導電接続部材の製造方法。
98. A method for manufacturing a conductive connecting member used for connecting an electric circuit element having an electrode portion and an electric circuit board having an electrode portion to each other, wherein the electric connecting element has substantially ball-shaped rigidity. A first step of sandwiching at least one conductive ball having a conductive coating layer around the core with the lower mold and the upper mold separated from each other by a predetermined distance; In the meantime, a second step of filling the synthetic resin, a third step of releasing the molding material from the lower mold and the upper mold, and etching the upper and lower surfaces of the released molding material, And a fourth step of exposing the upper and lower parts of the conductive ball from both upper and lower surfaces of the holding sheet so that the conductive ball is exposed.
【請求項99】電極部を有する電気回路素子と、電極部
を有する電気回路基板との、互いの電極部を接続するた
めに用いられる導電接続部材の製造方法において、 略ボール形状の剛性を有するコアの周囲に導電性の被覆
層が設けられた少なくとも1つの導電ボールの下部を下
型の第1の凹所内に載置する第1の工程と、 前記下型の第1の凹所に対応した第2の凹所が形成され
た上型を、この第2の凹所内に前記導電ボールの上部が
収納されるように被せる第2の工程と、 前記下型及び上型の間に、合成樹脂を充填する第3の工
程と、 前記下型及び上型から成形材を離型させる第4の工程
と、 離型した成形材の上下両面をエッチングして、合成樹脂
製の保持シートの上下両面から、前記導電ボールの上部
及び下部が夫々突出して露出させる第5の工程とを具備
することを特徴とする導電接続部材の製造方法。
99. A method of manufacturing a conductive connecting member used for connecting an electrode of an electric circuit element having an electrode portion and an electric circuit board having an electrode portion to each other, wherein the conductive connecting member has substantially ball-shaped rigidity. Corresponding to the first step of placing the lower part of at least one conductive ball having a conductive coating layer around the core in the first recess of the lower mold, and the first recess of the lower mold. And a second step of covering the upper mold having the second recess formed therein so that the upper part of the conductive ball is housed in the second recess, and combining the lower mold and the upper mold with each other. The third step of filling the resin, the fourth step of releasing the molding material from the lower mold and the upper mold, and etching the upper and lower surfaces of the molded material released from the mold, the upper and lower sides of the synthetic resin holding sheet. The upper and lower parts of the conductive ball are projected and exposed from both surfaces. Method for producing a conductive connection member, characterized by comprising a fifth step.
【請求項100】前記第1及び第2の凹部は、前記導電
ボールの半径よりも小さい深さを有するように形成され
ていることを特徴とする請求項99に記載の導電接続部
材の製造方法。
100. The method of manufacturing a conductive connecting member according to claim 99, wherein the first and second recesses are formed to have a depth smaller than a radius of the conductive ball. .
【請求項101】前記導電被覆層の外周面は、滑らかな
曲面状に形成されていることを特徴とする請求項98乃
至100の何れか1項に記載の導電接続部材の製造方
法。
101. The method of manufacturing a conductive connecting member according to claim 98, wherein an outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed into a smooth curved surface.
【請求項102】前記コアの外周面は、滑らかな曲面状
に形成されていることを特徴とする請求項98乃至10
1の何れか1項に記載の導電接続部材の製造方法。
102. The outer peripheral surface of the core is formed in a smooth curved surface shape.
1. The method for manufacturing a conductive connecting member according to any one of 1.
【請求項103】前記導電被覆層の外周面は、凸凹状に
形成されている事を特徴とする請求項98乃至100の
何れか1項に記載の導電接続部材の製造方法。
103. The method of manufacturing a conductive connecting member according to claim 98, wherein the outer peripheral surface of the conductive coating layer is formed in a concave-convex shape.
【請求項104】前記導電被覆層の内周面は、凸凹状に
形成されていることを特徴とする請求項98乃至100
及び103の何れか1項に記載の導電接続部材の製造方
法。
104. The inner peripheral surface of the conductive coating layer is formed in an uneven shape.
103. The method for manufacturing a conductive connecting member according to any one of items 103 and 103.
【請求項105】前記コアの外周面は、凸凹状に形成さ
れていることを特徴とする請求項30乃至98乃至10
0及び103の何れか1項に記載の導電接続部材の製造
方法。
105. The outer peripheral surface of the core is formed in an uneven shape.
0. A method for manufacturing a conductive connecting member according to any one of 0 and 103.
【請求項106】前記導電被覆層は、電気抵抗率が1.
6E−8乃至10E−8Ω・mの物質から形成されてい
ることを特徴とする請求項98乃至100の何れか1項
に記載の導電接続部材の製造方法。
106. The conductive coating layer has an electrical resistivity of 1.
The method for manufacturing a conductive connecting member according to claim 98, wherein the conductive connecting member is formed of a material having a density of 6E-8 to 10E-8Ω · m.
【請求項107】前記導電被覆層は、その膜厚を1乃至
50μmに設定されていることを特徴とする請求項10
6に記載の導電接続部材の製造方法。
107. The conductive coating layer has a thickness set to 1 to 50 μm.
7. The method for manufacturing the conductive connecting member according to 6.
【請求項108】前記導電被覆層は、その膜厚を3乃至
20μmに設定されていることを特徴とする請求項10
7に記載の導電接続部材の製造方法。
108. The conductive coating layer has a thickness set to 3 to 20 μm.
7. The method for manufacturing the conductive connecting member according to 7.
【請求項109】前記コアは、その直径を3乃至500
μmに設定されていることを特徴とする請求項98乃至
100の何れか1項に記載の導電接続部材の製造方法。
109. The core has a diameter of 3 to 500.
The method for manufacturing a conductive connecting member according to claim 98, wherein the conductive connecting member is set to μm.
【請求項110】前記コアは、その直径を10乃至20
0μmに設定されていることを特徴とする請求項109
に記載の導電接続部材の製造方法。
110. The core has a diameter of 10 to 20.
109. The thickness is set to 0 μm.
A method for manufacturing the conductive connecting member according to.
【請求項111】前記コアは、両電極間での接続に必要
な荷重が加えられた場合に、その直径の変位量が5%以
下となるような剛性を有している事を特徴とする請求項
98乃至100の何れか1項に記載の導電接続部材の製
造方法。
111. The core has rigidity such that a displacement amount of a diameter thereof is 5% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. A method for manufacturing a conductive connecting member according to any one of claims 98 to 100.
【請求項112】前記コアは、両電極間での接続に必要
な荷重が加えられた場合に、その直径の変位量が1%以
下となるような剛性を有している事を特徴とする請求項
111に記載の導電接続部材の製造方法。
112. The core has a rigidity such that a displacement amount of a diameter thereof is 1% or less when a load required for connection between both electrodes is applied. A method for manufacturing a conductive connecting member according to claim 111.
【請求項113】前記導電被覆層の凸凹の大きさが、R
maxで接続される電極の膜厚の10%以上であり、導
電被覆層の膜厚の2倍以下であることを特徴とする請求
項103乃至105の何れか1項に記載の導電接続部材
の製造方法。
113. The size of the unevenness of the conductive coating layer is R
106. The conductive connecting member according to any one of claims 103 to 105, wherein the film thickness is 10% or more of a film thickness of an electrode connected at max and is twice or less the film thickness of a conductive coating layer. Production method.
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