JPH09281352A - Formation of opto-electric transmission path and opto-electric wiring board - Google Patents

Formation of opto-electric transmission path and opto-electric wiring board

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JPH09281352A
JPH09281352A JP8804596A JP8804596A JPH09281352A JP H09281352 A JPH09281352 A JP H09281352A JP 8804596 A JP8804596 A JP 8804596A JP 8804596 A JP8804596 A JP 8804596A JP H09281352 A JPH09281352 A JP H09281352A
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JP
Japan
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substrate
core layer
forming
substrates
light
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Withdrawn
Application number
JP8804596A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Taguchi
正弘 田口
Takashi Ozawa
隆 小澤
Masao Funada
雅夫 舟田
Junji Okada
純二 岡田
Masanori Hirota
匡紀 広田
Kenji Kono
健二 河野
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming novel opto-electric transmission paths by optically and electrically connecting the opto-electric transmission paths, optical transmission paths, opto-electric elements, optical elements, etc., to each other with good coupling efficiency by a simple method and an opto- electric wiring board having overall efficiency. SOLUTION: This wiring board is formed by preparing two sheets of substrates 11, 11' forming respective core layers 12, 12' having optical junctures 16, 16' bearing incidence-exit of light on the respective substrates 11, 11', forming respective conductive layer 13, 13' stuck by adhesives 14, 14' consisting of material acting as clads to the respective core layers 12, 12' onto the substrates 11, 11', forming conductive projections 15 for electrical connection on the conductive layers 13 and sticking the substrates 11, 11' in such a manner that the optical junctures 16, 16' are optically connected to each other and that the respective conductive layers 13, 13' electrically connected to each other via the projections 15.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光電気伝送路、光
伝送路、光電素子、光学素子などを相互に光学的かつ電
気的に接続して新たな光電気伝送路を形成する光電気伝
送路の形成方法及びその方法により形成された光電気配
線基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optoelectronic transmission line, an optical transmission line, an optoelectronic element, an optical element and the like which are optically and electrically connected to each other to form a new optoelectronic transmission line. The present invention relates to a method of forming a path and an optoelectronic wiring board formed by the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、プリズムや回折格子などの光学
素子とレーザダイオードやフォトダイオードなどの光電
素子を光回路基板又は光電気配線基板に実装し、光学素
子と光電素子を光学的に結合するには、光ファイバ、光
伝送路またはこれら2つの組み合わせによって行われて
いる。光素子と、光ファイバまたは光伝送路間の光回路
としての結合効率を最大にするためには、光素子と、光
ファイバまたは光伝送路とを精度よく位置合わせする必
要がある。また光電素子には電力や電気信号を供給する
必要もある。
2. Description of the Related Art Generally, an optical element such as a prism or a diffraction grating and a photoelectric element such as a laser diode or a photodiode are mounted on an optical circuit board or an optoelectronic wiring board to optically couple the optical element and the photoelectric element. Is performed by an optical fiber, an optical transmission line, or a combination of these two. In order to maximize the coupling efficiency of the optical element and the optical fiber or the optical transmission line as an optical circuit, it is necessary to accurately align the optical element and the optical fiber or the optical transmission line. It is also necessary to supply electric power and electric signals to the photoelectric device.

【0003】従来、光回路基板に光素子を精度よく位置
合わせして実装する方法として、例えば、”『AuSn
バンプ接合による光素子のセルフアライメント実装』、
電気情報通信学会技術報告、OQE93−145(19
93−12)”に記載されているような、溶融はんだの
表面張力を利用したセルフアライメント方法が広く知ら
れている。この方法は、光回路基板に形成された配線パ
ターン上にAuSnなどのバンプ(ハンダのボール)を
置き、そのバンプの上に、結合すべき光素子を備えた基
板の配線パターンを重ね合わせた上でバンプを加熱溶融
し、溶融したハンダの表面張力による2つの基板の相対
的移動により基板相互の位置ずれを修正させて、2つの
基板の位置合わせを自動的に行わせようというものであ
る。
Conventionally, as a method of accurately aligning and mounting an optical element on an optical circuit board, for example, "" AuSn is used.
Self-aligned mounting of optical elements by bump bonding ”,
IEICE Technical Report, OQE93-145 (19
93-12) ", a self-alignment method utilizing the surface tension of molten solder is widely known. This method is used for bumps such as AuSn on a wiring pattern formed on an optical circuit board. (Solder ball) is placed, the wiring pattern of the substrate equipped with the optical element to be bonded is superposed on the bump, and the bump is heated and melted. The positional displacement between the substrates is corrected by the manual movement so that the two substrates are automatically aligned.

【0004】この方法には、位置合わせに用いられるバ
ンプを利用して基板への電力供給や電気信号の伝送を行
うことができるという利点があるが、その反面、この方
法には、バンプを置く位置の精度が低いと2つの基板の
光の結合効率を低下させることがあり、また、ハンダ用
のフラックスが光素子に付着し易く、光素子の表面がフ
ラックスにより汚染されることにより光の結合効率を低
下させ易いという問題がある。
This method has the advantage that the bumps used for alignment can be used to supply power to the substrate and transmit electrical signals, but on the other hand, this method uses bumps. If the accuracy of the position is low, the light coupling efficiency of the two substrates may be reduced, and the flux for soldering tends to adhere to the optical element, and the surface of the optical element may be contaminated by the flux to couple the light. There is a problem that efficiency is likely to be lowered.

【0005】その他の従来技術として、例えば、特開平
6−13601号公報には、電子基板の表面に光学素子
を嵌め込む空所を複数設けると共に、その空所に嵌め込
まれるべき光学素子相互間を接続するための光導波路を
配置したアライメントキャリア構造体を形成する、光信
号分配システムの形成方法が開示されている。この方法
によれば、光学素子を嵌め込む空所は予め正確に位置決
めされているので、光学素子を嵌め込む際の位置合わせ
操作は不要となり、光学素子の着脱が容易となる利点が
ある。また、このシステムでは、光信号の分配だけでな
く電力や電気信号の供給も電子基板上で行うことができ
る。
As another conventional technique, for example, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-13601, a plurality of cavities for fitting optical elements are provided on the surface of an electronic substrate, and the optical elements to be fitted in the cavities are separated from each other. A method of forming an optical signal distribution system is disclosed which forms an alignment carrier structure having optical waveguides for connection. According to this method, since the space into which the optical element is fitted is accurately positioned in advance, there is no need for a positioning operation when fitting the optical element, and there is an advantage that the optical element can be easily attached and detached. Further, in this system, not only the distribution of optical signals but also the supply of electric power and electric signals can be performed on the electronic substrate.

【0006】しかし、この方法では、光学素子を嵌め込
むための空所やこれら空所間を接続する光導波路を正確
に位置決めした上で基板上に配置する必要があるため、
構造が複雑となり、高精度でアライメントキャリア構造
体を製造することが難しい。また、このアライメントキ
ャリア構造体は、その構造上、端面で受発光するタイプ
の素子には適用し易いが、面発光レーザなどのような端
面以外で受発光する素子に適用するのは難しいという問
題もある。
However, according to this method, it is necessary to accurately position the cavities for fitting the optical elements and the optical waveguides connecting these cavities and then dispose them on the substrate.
The structure is complicated, and it is difficult to manufacture the alignment carrier structure with high accuracy. Further, this alignment carrier structure is easy to apply to an element of a type that receives and emits light at the end face because of its structure, but is difficult to apply to an element that receives and emits light at other than the end face such as a surface emitting laser. There is also.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の事情
に鑑み、簡単な方法で結合効率よく、光電気伝送路、光
伝送路、光電素子、光学素子などを相互に光学的かつ電
気的に接続して新たな光電気伝送路を形成する光電気伝
送路の形成方法、及び結合効率のよい光電気配線基板を
提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned circumstances, the present invention provides a simple method for efficiently coupling optical and electrical transmission lines, optical transmission lines, photoelectric elements, optical elements and the like with each other. It is an object of the present invention to provide a method for forming an opto-electrical transmission line that is connected to a substrate to form a new opto-electrical transmission line, and an opto-electrical wiring board with good coupling efficiency.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成する本
発明の第1の光電気伝送路の形成方法は、光の伝送路と
なるコア層が形成される、そのコア層に対するクラッド
として作用する2枚の基板を用意し、これら2枚の基板
それぞれに、各所定の方向に延びると共に、互いに対応
する位置に、光の入射と出射のうちの少なくとも一方を
それぞれ担う各光接続部を有する各コア層を形成する工
程と、上記2枚の基板の上記各コア層が形成された側の
面上の、各コア層の上面及び各所定の経路に沿って、各
コア層に対するクラッドとして作用する材料から成る接
着剤により貼着された各導電層を形成する工程と、上記
2枚の基板上に形成された導電層のうちの少なくとも一
方に、これら2枚の基板上の導電層を相互に電気的に接
続するための導電性の突起を形成する工程と、上記2枚
の基板上の上記光接続部どうしが光学的に接続されると
共に、これら2枚の基板上の上記導電層どうしが上記突
起を介して電気的に接続されるようにこれら2枚の基板
を貼り合わせる工程とを有することを特徴とする。
The first method for forming an opto-electrical transmission line of the present invention which achieves the above-mentioned object, forms a core layer to be a transmission line of light, and acts as a clad for the core layer. Two substrates are prepared, and each of the two substrates has an optical connection part that extends in each predetermined direction and is provided at a position corresponding to each other for at least one of incidence and emission of light. Step of forming each core layer, and acting as a clad for each core layer along the upper surface of each core layer and each predetermined path on the surface of each of the two substrates on which the core layers are formed. The step of forming each conductive layer adhered by an adhesive made of a material for forming the conductive layer, and the conductive layers on the two substrates are mutually connected to at least one of the conductive layers formed on the two substrates. Conductive to electrically connect to And the step of forming the protrusions of the two substrates and the optical connection portions of the two substrates are optically connected to each other, and the conductive layers of the two substrates are electrically connected to each other through the protrusions. And a step of bonding these two substrates together as described above.

【0009】また、上記の目的を達成する本発明の第2
の光電気伝送路の形成方法は、光の伝送路となるコア層
が形成される、そのコア層に対するクラッドとして作用
する第1の基板を用意し、上記第1の基板上に、所定の
方向に延びると共に、光の入射と出射のうちの少なくと
も一方を担う光接続部を有するコア層を形成する工程
と、上記第1の基板の上記コア層が形成された側の面上
の、コア層の上面及び所定の経路に沿って、コア層に対
するクラッドとして作用する材料から成る接着剤により
貼着された第1の導電層を形成する工程と、第2の基板
を用意して、第2の基板の、上記第1の基板上に形成さ
れたコア層の上記光接続部に対応する位置に、光接続部
に入射する光の発光を担う発光素子と、光接続部から出
射する光の受光を担う受光素子のうちの少なくとも一方
の素子を配置すると共に、第2の基板上の所定の経路に
沿って第2の導電層を形成する工程と、上記第1の導電
層と上記第2の導電層のうちの少なくとも一方に、第1
の導電層と第2の導電層を電気的に接続するための導電
性の突起を形成する工程と、上記光接続部と上記素子が
光学的に接続されると共に、上記第1の導電層と上記第
2の導電層が上記突起を介して電気的に接続されるよう
に上記第1の基板と上記第2の基板を貼り合わせる工程
とを有することを特徴とする。
A second aspect of the present invention that achieves the above object.
In the method of forming an opto-electrical transmission line, a first substrate on which a core layer to be a light transmission line is formed and which acts as a clad for the core layer is prepared, and a predetermined direction is provided on the first substrate. Forming a core layer having an optical connection portion that extends at least to one of the entrance and the exit of light, and the core layer on the surface of the first substrate on which the core layer is formed. Forming a first conductive layer adhered by an adhesive made of a material acting as a clad to the core layer along the upper surface of the second substrate and a predetermined path; A light emitting element for emitting light incident on the optical connecting portion and a light receiving element for emitting light emitted from the optical connecting portion at a position of the substrate corresponding to the optical connecting portion of the core layer formed on the first substrate. If at least one of the light-receiving elements responsible for In a step of forming a second conductive layer along a predetermined path on the second substrate, at least one of said first conductive layer and the second conductive layer, first
The step of forming a conductive protrusion for electrically connecting the conductive layer and the second conductive layer, the optical connection portion and the element are optically connected, and the first conductive layer and The method further comprises the step of bonding the first substrate and the second substrate so that the second conductive layer is electrically connected via the protrusion.

【0010】ここで、上記第1の導電層を、上記光接続
部を取り囲むように形成すると共に、上記第2の導電層
を、上記素子を取り囲むように形成し、さらに、上記突
起を、上記第1の基板と上記第2の基板が貼り合わされ
た際に上記突起が光接続部と該素子を取り囲むように形
成してもよい。また、上記の目的を達成する本発明の第
1の光電気配線基板は、光の伝送路となるコア層が形成
される、そのコア層に対するクラッドとして作用する2
枚の基板を用意し、これら2枚の基板それぞれに、各所
定の方向に延びると共に、互いに対応する位置に、光の
入射と出射のうちの少なくとも一方をそれぞれ担う各光
接続部を有する各コア層を形成する工程と、上記2枚の
基板の上記各コア層が形成された側の面上の、各コア層
の上面及び各所定の経路に沿って、各コア層に対するク
ラッドとして作用する材料から成る接着剤により貼着さ
れた各導電層を形成する工程と、上記2枚の基板上に形
成された導電層のうちの少なくとも一方に、これら2枚
の基板上の導電層を相互に電気的に接続するための導電
性の突起を形成する工程と、上記2枚の基板上の上記光
接続部どうしが光学的に接続されると共に、これら2枚
の基板上の上記導電層どうしが上記突起を介して電気的
に接続されるようにこれら2枚の基板を貼り合わせる工
程とを経て形成されたものであることを特徴とする。
Here, the first conductive layer is formed so as to surround the optical connection portion, the second conductive layer is formed so as to surround the element, and the protrusion is further formed. The protrusion may be formed so as to surround the optical connection portion and the element when the first substrate and the second substrate are bonded together. Further, the first opto-electrical wiring board of the present invention that achieves the above object acts as a clad for the core layer in which the core layer that serves as a light transmission path is formed.
Each of the cores is provided with two substrates, each of which has an optical connection portion that extends in a predetermined direction and that has an optical connection portion that performs at least one of incidence and emission of light at a position corresponding to each other. A step of forming layers, and a material acting as a clad for each core layer along the upper surface of each core layer and each predetermined path on the surface of the two substrates on which the core layers are formed. Forming a conductive layer adhered with an adhesive consisting of, and at least one of the conductive layers formed on the two substrates is electrically connected to each other. The step of forming conductive protrusions for electrically connecting the two optical substrates, the optical connecting portions on the two substrates are optically connected, and the conductive layers on the two substrates are connected to each other. To be electrically connected through the protrusion And characterized in that formed through a step of bonding two substrates.

【0011】また、上記の目的を達成する本発明の第2
の光電気配線基板は、光の伝送路となるコア層が形成さ
れる、そのコア層に対するクラッドとして作用する第1
の基板を用意し、第1の基板上に、所定の方向に延びる
と共に、光の入射と出射のうちの少なくとも一方を担う
光接続部を有するコア層を形成する工程と、上記第1の
基板の上記コア層が形成された側の面上の、コア層の上
面及び所定の経路に沿って、コア層に対するクラッドと
して作用する材料から成る接着剤により貼着された第1
の導電層を形成する工程と、第2の基板を用意して、第
2の基板の、上記第1の基板上に形成されたコア層の上
記光接続部に対応する位置に、光接続部に入射する光の
発光を担う発光素子と、光接続部から出射する光の受光
を担う受光素子のうちの少なくとも一方の素子を配置す
ると共に、第2の基板上の所定の経路に沿って第2の導
電層を形成する工程と、上記第1の導電層と上記第2の
導電層のうちの少なくとも一方に、第1の導電層と第2
の導電層を電気的に接続するための導電性の突起を形成
する工程と、上記光接続部と上記素子が光学的に接続さ
れると共に、上記第1の導電層と上記第2の導電層が上
記突起を介して電気的に接続されるように上記第1の基
板と上記第2の基板を貼り合わせる工程とを経て形成さ
れたものであることを特徴とする。
A second aspect of the present invention that achieves the above object.
The opto-electrical wiring board is provided with a core layer that serves as a light transmission path, and acts as a clad for the core layer.
Preparing a substrate, and forming a core layer on the first substrate, the core layer extending in a predetermined direction and having an optical connection portion that takes at least one of incidence and emission of light; On the side on which the core layer is formed, along the upper surface of the core layer and a predetermined path, and is attached by an adhesive made of a material that acts as a clad for the core layer.
And the step of forming the conductive layer, and the second substrate is prepared, and the optical connection part is provided at a position of the second substrate corresponding to the optical connection part of the core layer formed on the first substrate. At least one of a light emitting element that emits light incident on the substrate and a light receiving element that receives light emitted from the optical connecting portion is arranged, and the light emitting element is provided along a predetermined path on the second substrate. Forming a second conductive layer, and forming a first conductive layer and a second conductive layer on at least one of the first conductive layer and the second conductive layer.
A step of forming a conductive protrusion for electrically connecting the conductive layers, the optical connection portion and the element are optically connected, and the first conductive layer and the second conductive layer are formed. Is formed through a step of bonding the first substrate and the second substrate so as to be electrically connected via the protrusion.

【0012】また、上記の目的を達成する本発明の第3
の光電気伝送路の形成方法は、光の伝送路となるコア層
が形成される、そのコア層に対するクラッドとして作用
する2枚の基板を用意し、これら2枚の基板それぞれ
に、各所定の方向に延びると共に、互いに対応する位置
に、光の入射と出射のうちの少なくとも一方をそれぞれ
担う各光接続部を有する各コア層を形成する工程と、上
記2枚の基板の上記各コア層が形成された側の面上に、
上記光接続部を取り囲むように、各コア層に対するクラ
ッドとして作用する材料から成る各クラッド層を形成す
る工程と、上記2枚の基板上に形成されたクラッド層の
うちの少なくとも一方に、これら2枚の基板が貼り合わ
された際に、これら2枚の基板の上記光接続部どうしの
光結合部分を取り囲む突起を形成する工程と、上記2枚
の基板上の上記光接続部どうしが光学的に接続されると
共に、これら2枚の基板上の上記光結合部分が上記突起
により光学的に外部と遮閉されるようにこれら2枚の基
板を貼り合わせる工程とを有することを特徴とする。
The third aspect of the present invention which achieves the above object.
In the method for forming an opto-electrical transmission line, the two layers of the substrate on which a core layer to be the optical transmission line is formed and which act as a clad for the core layer are prepared. A step of forming core layers each having an optical connection portion that extends in the direction and that corresponds to at least one of the incidence and the emission of light at positions corresponding to each other, and the core layers of the two substrates are On the surface of the formed side,
The step of forming each clad layer made of a material that acts as a clad for each core layer so as to surround the optical connection part, and at least one of the clad layers formed on the two substrates, When the two substrates are bonded together, the step of forming a protrusion surrounding the optical coupling portion between the optical connecting portions of these two substrates, and the step of optically connecting the optical connecting portions on the two substrates optically And connecting these two substrates so that the optical coupling portions on the two substrates are optically shielded from the outside by the protrusions while being connected.

【0013】また、上記の目的を達成する本発明の第4
の光電気伝送路の形成方法は、光の伝送路となるコア層
が形成される、そのコア層に対するクラッドとして作用
する第1の基板を用意し、その第1の基板上に、所定の
方向に延びると共に、光の入射と出射のうちの少なくと
も一方を担う光接続部を有するコア層を形成する工程
と、上記第1の基板の上記コア層が形成された側の面上
に、そのコア層に対するクラッドとして作用する材料か
ら成る第1のクラッド層を形成する工程と、第2の基板
を用意して、第2の基板の、上記第1の基板上に形成さ
れたコア層の上記光接続部に対応する位置に、光接続部
に入射する光の発光を担う発光素子と、光接続部から出
射する光の受光を担う受光素子のうちの少なくとも一方
の素子を配置すると共に、第2の基板上に第2のクラッ
ド層を形成する工程と、上記第1のクラッド層と上記第
2のクラッド層のうちの少なくとも一方に、上記第1の
基板と上記第2の基板が貼り合わされた際に、上記第1
の基板の上記光接続部と、上記第2の基板の上記発光素
子及び上記受光素子のうちのいずれか一方の素子との光
結合部分を取り囲む突起を形成する工程と、上記光接続
部と上記素子が光学的に接続されると共に、上記光結合
部分が上記突起により光学的に外部と遮閉されるように
上記第1の基板と上記第2の基板とを貼り合わせる工程
とを有することを特徴とする。
The fourth aspect of the present invention which achieves the above object.
In the method for forming an opto-electrical transmission line, a first substrate is formed on which a core layer to be a light transmission line is formed, which acts as a clad for the core layer, and a predetermined direction is provided on the first substrate. Forming a core layer having an optical connection part that extends into the core and has at least one of incidence and emission of light; and the core on the surface of the first substrate on which the core layer is formed. Forming a first clad layer of a material that acts as a clad for the layer, and preparing a second substrate, the light of the core layer of the second substrate being formed on the first substrate. At least one of a light emitting element for emitting the light incident on the optical connecting portion and a light receiving element for receiving the light emitted from the optical connecting portion is arranged at a position corresponding to the connecting portion, and the second element is provided. Of forming a second cladding layer on the substrate of , To at least one of the first cladding layer and said second cladding layer, when the first substrate and the second substrate is bonded, said first
Forming a protrusion surrounding an optical coupling part of the optical connection part of the substrate of the second substrate and one of the light emitting element and the light receiving element of the second substrate; A step of adhering the first substrate and the second substrate so that the element is optically connected and the optical coupling portion is optically shielded from the outside by the protrusion. Characterize.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。図1は、本発明の第1の光電気伝送路の形成
方法の一実施形態における第1の基板の形成過程のうち
の前半部を示す工程図であり、図2は、本発明の第1の
光電気伝送路の形成方法の一実施形態における第1の基
板の形成過程のうちの後半部を示す工程図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a process diagram showing a first half of a process of forming a first substrate in an embodiment of a method for forming a first optoelectronic transmission line of the present invention, and FIG. FIG. 6B is a process diagram showing a latter half of the process of forming the first substrate in the embodiment of the method for forming the optoelectronic transmission line of FIG.

【0015】以下に、図1及び図2を参照しながら第1
の基板の形成過程について説明する。先ず、光伝送路の
クラッド層としての作用を兼ねた基板11を用意し(図
1(a))、等方性エッチング法により基板11上に光
の伝送路となるコア層形成用の溝11aを形成する(図
1(b))。次に、溝11a内にコア層用材料を流し込
みコア層12を形成する(図1(c))。コア層12
は、後述の、光の入射または出射を担う光接続部16を
始点として図面の右方向に湾曲した後、さらに右方向に
延びた形状に形成される。次に、基板11のコア層12
が形成された側の面上の、コア層12の上面に接着剤を
塗布し、さらにその上に金属フィルムを貼着して導電層
13を形成する。この金属フィルムは基板11に形成さ
れる電気配線経路に応じたパターンに形成されており、
この金属フィルムを基板11上に貼着することにより所
望の電気配線の経路に沿った導電層13が形成される。
接着剤としては、形成される接着剤層14がコア層12
に対するクラッドとして作用する材料を用いる(図1
(d))。次に、導電層13の上にレジスト10を塗布
して異方性エッチングにより、導電層13が不必要な個
所及び光学的接続をする個所の導電層13及び接着剤層
14を除去する(図1(e)及び図1(f))。次に、
異方性エッチングにより形成された穴10a(図1
(f))の中に、コア層12と同一材料より成る光接続
部16をCVD法(Chemical Vapor D
eposition Method)により成長させ、
レジスト10を剥離し、形成された光接続部16を加熱
することによりレンズ状の光接続部16に整形する(図
2(a))。さらに、導電層13の上にレジスト10を
塗布し、バンプを形成するための穴10bを開けた(図
2(b))後、金属メッキ法によりその穴10b内にバ
ンプ15を成長させる(図2(c))。次に、レジスト
10を剥離し、バンプ15を加熱することによりバンプ
15を半球形に整形する(図2(d))。このようにし
て、新たな光電気伝送路を形成するための第1の基板が
完成する。
Below, referring to FIG. 1 and FIG.
The process of forming the substrate will be described. First, a substrate 11 which also functions as a clad layer of an optical transmission line is prepared (FIG. 1A), and a groove 11a for forming a core layer which becomes an optical transmission line is formed on the substrate 11 by an isotropic etching method. Are formed (FIG. 1B). Next, the core layer material is poured into the groove 11a to form the core layer 12 (FIG. 1C). Core layer 12
Is formed in a shape that is curved to the right in the drawing starting from an optical connection portion 16 that is responsible for the incidence or emission of light, which will be described later, and then extends further to the right. Next, the core layer 12 of the substrate 11
An adhesive is applied to the upper surface of the core layer 12 on the surface on which the conductive layer 13 is formed, and a metal film is further attached thereon to form the conductive layer 13. This metal film is formed in a pattern corresponding to the electric wiring path formed on the substrate 11,
By sticking this metal film on the substrate 11, the conductive layer 13 is formed along the path of the desired electric wiring.
As the adhesive, the formed adhesive layer 14 is the core layer 12.
Using a material that acts as a cladding for
(D)). Next, the resist 10 is applied on the conductive layer 13 and anisotropic etching is performed to remove the conductive layer 13 and the adhesive layer 14 where the conductive layer 13 is unnecessary and where optical connection is made (see FIG. 1 (e) and FIG. 1 (f)). next,
Hole 10a formed by anisotropic etching (see FIG.
In (f), an optical connection portion 16 made of the same material as the core layer 12 is formed by a CVD method (Chemical Vapor D).
growth by using the Eposition method),
The resist 10 is peeled off, and the formed optical connection portion 16 is heated to be shaped into a lens-shaped optical connection portion 16 (FIG. 2A). Further, a resist 10 is applied on the conductive layer 13 and a hole 10b for forming a bump is opened (FIG. 2B), and then a bump 15 is grown in the hole 10b by a metal plating method (FIG. 2B). 2 (c)). Next, the resist 10 is peeled off, and the bumps 15 are heated to shape the bumps 15 into a hemispherical shape (FIG. 2D). In this way, the first substrate for forming a new optoelectronic transmission line is completed.

【0016】次に、この第1の基板を、他の基板と貼り
合わせることにより新たな光電気伝送路が形成される過
程について説明する。図3は、上記実施形態により形成
された第1の基板を他の基板と貼り合わせることにより
新たな光電気伝送路が形成される過程についての説明図
である。図2(d)に示した第1の基板11の上に、図
3(a)に示すように、基板11’上にコア層12’、
接着剤層14’、導電層13’、及び電極17が形成さ
れた第2の基板11’を載せ、第2の基板11’の電極
17と第1の基板11のバンプ15とを位置合わせす
る。次に、LSIパッケージング技術の一つであるTA
B(Tape Automated Bonding)
技術によりこれら2枚の基板11,11’どうしを圧着
する。TAB技術により、第2の基板11’の電極17
と第1の基板11のバンプ15とは分子レベルで強固に
接着される。このようにして、図3(b)に示すよう
に、新たな光電気伝送路を形成する光電気配線基板10
0が完成する。このように、2枚の基板11,11’ど
うしがTAB技術により圧着されることにより、2枚の
基板11,11’の各コア層12,12’の先端に形成
された各光接続部16,16’及びレンズ16a,16
a’どうしの位置合わせが自動的に行われる。TAB技
術によりバンプ15と電極17とは分子レベルで強固に
結合し一体化されると共に、2枚の基板11,11’上
の各導電層13,13’どうしがバンプ15と電極17
とを介して電気的に接続され、かつ、2枚の基板11,
11’に形成されたコア層12,12’どうしが光学的
に接続されて、光電気配線基板100が形成されてい
る。
Next, a process of forming a new optoelectronic transmission line by bonding this first substrate to another substrate will be described. FIG. 3 is an explanatory diagram of a process of forming a new optoelectronic transmission line by bonding the first substrate formed by the above embodiment to another substrate. On the first substrate 11 shown in FIG. 2 (d), as shown in FIG. 3 (a), the core layer 12 'is provided on the substrate 11',
The second substrate 11 ′ on which the adhesive layer 14 ′, the conductive layer 13 ′, and the electrode 17 are formed is placed, and the electrode 17 of the second substrate 11 ′ and the bump 15 of the first substrate 11 are aligned with each other. . Next, TA, which is one of the LSI packaging technologies
B (Tape Automated Bonding)
These two substrates 11 and 11 'are pressure-bonded to each other by a technique. The electrode 17 of the second substrate 11 'is formed by the TAB technique.
And the bumps 15 of the first substrate 11 are firmly bonded at the molecular level. In this way, as shown in FIG. 3B, the opto-electrical wiring board 10 for forming a new opto-electrical transmission line is formed.
0 is completed. In this way, the two substrates 11 and 11 ′ are pressure-bonded to each other by the TAB technique, so that the optical connecting portions 16 formed at the tips of the core layers 12 and 12 ′ of the two substrates 11 and 11 ′ are joined together. , 16 'and lenses 16a, 16
The a's are automatically aligned with each other. The bump 15 and the electrode 17 are firmly bonded and integrated at the molecular level by the TAB technique, and the conductive layers 13 and 13 'on the two substrates 11 and 11' are connected to each other by the bump 15 and the electrode 17.
Are electrically connected to each other via two substrates 11,
The core layers 12 and 12 ′ formed on 11 ′ are optically connected to each other to form the optoelectronic wiring board 100.

【0017】次に、図1及び図2に示した第1の基板の
形成方法と異なる方法による、他の実施形態について説
明する。図4は、本発明の第1の光電気伝送路の形成方
法の他の実施形態における第2の基板の形成過程のうち
の前半部を示す工程図であり、図5は、本発明の第1の
光電気伝送路の形成方法の他の実施形態における第2の
基板の形成過程のうちの後半部を示す工程図である。
Next, another embodiment using a method different from the method for forming the first substrate shown in FIGS. 1 and 2 will be described. FIG. 4 is a process diagram showing the first half of the process of forming the second substrate in another embodiment of the first optical / electrical transmission line forming method of the present invention, and FIG. FIG. 8 is a process diagram showing a second half of the process of forming the second substrate in the other embodiment of the method of forming the optical-electrical transmission line of No. 1.

【0018】以下に、図4及び図5を参照しながら第2
の基板の形成過程について説明する。図4(a)〜図4
(f)は、図1(a)〜図1(f)の図面の上下が反対
になっているだけであり、本質的には同一工程であるた
め説明を省略する。図5(a)には、図4(a)〜図4
(f)に示す工程によって製造された第2の基板21が
示されている。第2の基板21上には、コア層22、接
着剤層24、導電層23、及び光接続部26上に形成さ
れたレンズ26aが表面に形成されている。次に、この
第2の基板21とは別に、第3の基板を用意する。すな
わち、図5(a)に示すように、先ず、ガラス製の第3
の基板31の表面に電極38を形成し、電極38及び第
3の基板31の上にレジスト10を塗布し、次に、電極
38上に塗布されたレジスト10に穴10a,10bを
開けその穴10a,10b内に金属メッキにより金属層
を成長させて導電性の突起35を形成する(図5
(b))。次に、TAB技術により第3の基板31と前
述の第2の基板21とを圧着することにより突起35と
導電層23とは分子レベルで強固に接着される。突起3
5を導電層23に接着させた後、第3の基板31を第2
の基板21から剥離することにより、突起35は第2の
基板21に転写される(図5(c))。この剥離の際
に、突起35と導電層23との接着面積は突起35と電
極38との接着面積より大きいため、突起35と導電層
23との接着面で剥離されることはなく、突起35と電
極38との接着面で剥離される。このようにして、新た
な光電気伝送路を形成するための第2の基板21が完成
する。
The second part will be described below with reference to FIGS. 4 and 5.
The process of forming the substrate will be described. 4 (a) to 4
1 (a) to FIG. 1 (f) are merely upside down, and the description is omitted because they are essentially the same process. In FIG. 5A, FIG. 4A to FIG.
The 2nd board | substrate 21 manufactured by the process shown to (f) is shown. A lens 26 a formed on the core layer 22, the adhesive layer 24, the conductive layer 23, and the optical connection portion 26 is formed on the surface of the second substrate 21. Next, a third substrate is prepared separately from the second substrate 21. That is, as shown in FIG. 5A, first, the glass-made third
The electrode 38 is formed on the surface of the substrate 31 of FIG. 3, the resist 10 is applied on the electrode 38 and the third substrate 31, and then the holes 10 a and 10 b are formed in the resist 10 applied on the electrode 38. A metal layer is grown in 10a and 10b by metal plating to form conductive protrusions 35 (FIG. 5).
(B)). Next, the protrusions 35 and the conductive layer 23 are firmly bonded at the molecular level by pressing the third substrate 31 and the above-mentioned second substrate 21 by the TAB technique. Protrusion 3
5 is attached to the conductive layer 23, and then the third substrate 31 is
The protrusion 35 is transferred to the second substrate 21 by peeling it from the substrate 21 (FIG. 5C). At the time of this peeling, since the adhesion area between the protrusion 35 and the conductive layer 23 is larger than the adhesion area between the protrusion 35 and the electrode 38, the adhesion surface between the protrusion 35 and the conductive layer 23 is not separated and the protrusion 35 Is peeled off at the bonding surface between the electrode 38 and the electrode 38. In this way, the second substrate 21 for forming a new optoelectronic transmission line is completed.

【0019】この第2の基板を、他の基板と貼り合わせ
ることにより新たな光電気伝送路を形成することができ
る。その結果形成される光電気配線基板の構造は、前述
の第1の基板11(図1及び図2参照)から形成される
光電気配線基板の構造(図3参照)とほぼ同様であるた
め説明は省略する。次に、本発明の第2の光電気伝送路
の形成方法の実施形態について説明する。
By bonding this second substrate to another substrate, a new opto-electrical transmission line can be formed. The structure of the opto-electrical wiring board formed as a result is almost the same as the structure of the opto-electrical wiring board (see FIG. 3) formed from the above-mentioned first substrate 11 (see FIGS. 1 and 2), and therefore is described. Is omitted. Next, an embodiment of the second method for forming an optoelectronic transmission line of the present invention will be described.

【0020】図6は、本発明の第2の光電気伝送路の形
成方法の一実施形態における第1の基板の構造を示す模
式図であり、図7は、図6に示した第1の基板を、第2
の基板に貼り合わせることにより形成された光電気配線
基板の構造を示す模式図である。なお、図6に示した第
1の基板41の構造は、前述の図4(c)に示した第2
の基板21の構造と同様である。すなわち、光の伝送路
のクラッドとして作用する基板41と、光の入射または
出射を担う光接続部46を有する光の伝送路となるコア
層42と、基板41のコア層42が形成された側の面上
に形成されたコア層42に対するクラッドとして作用す
る材料から成る接着剤層44と、その上に、電気配線の
経路に沿って形成された導電層43と、この導電層43
上に形成され導電層43を、接続相手の導電層と電気的
に接続するための導電性の突起45とから成る。コア層
42の光接続部46の先端には、光の入射あるいは出射
の効率を高めるため凸レンズ状のレンズ46aが形成さ
れている。
FIG. 6 is a schematic view showing the structure of the first substrate in one embodiment of the method for forming the second optoelectronic transmission line of the present invention, and FIG. 7 is the first diagram shown in FIG. Substrate, second
FIG. 3 is a schematic view showing a structure of an optoelectronic wiring substrate formed by bonding the same to the substrate of FIG. The structure of the first substrate 41 shown in FIG. 6 is similar to that of the second substrate shown in FIG.
The structure is the same as that of the substrate 21. That is, the substrate 41 acting as a clad of the light transmission path, the core layer 42 serving as the light transmission path having the optical connection portion 46 for inputting or emitting the light, and the side of the substrate 41 on which the core layer 42 is formed. An adhesive layer 44 made of a material which acts as a clad for the core layer 42 formed on the surface of the conductive layer 43, a conductive layer 43 formed on the adhesive layer 44 along the path of the electric wiring, and the conductive layer 43.
The conductive layer 43 is formed on the conductive projections 45 for electrically connecting the conductive layer 43 to the conductive layer of the connection partner. A convex lens-shaped lens 46a is formed at the tip of the optical connecting portion 46 of the core layer 42 in order to enhance the efficiency of light incidence or emission.

【0021】図7には、図6に示した第1の基板41と
接続された状態の第2の基板49が図面の下方に示され
ている。第2の基板49には、レーザダイオード47と
電極48とが備えられている。レーザダイオード47は
第2の基板49の表面層に形成された凹部49a内に設
置されており、その出力は第2の基板49に備えられた
電子回路(図示せず)に接続される。電極48は第2の
基板49上に形成されており、電極48を介して入出力
される電気信号は第2の基板49に備えられた電子回路
(図示せず)に接続される。
FIG. 7 shows the second substrate 49 connected to the first substrate 41 shown in FIG. 6 in the lower part of the drawing. The second substrate 49 is provided with a laser diode 47 and an electrode 48. The laser diode 47 is installed in a recess 49a formed in the surface layer of the second substrate 49, and its output is connected to an electronic circuit (not shown) provided on the second substrate 49. The electrode 48 is formed on the second substrate 49, and an electric signal input / output via the electrode 48 is connected to an electronic circuit (not shown) provided on the second substrate 49.

【0022】この第2の基板49の上に前述の第1の基
板41を載せ、第2の基板49の電極48と、第1の基
板41の導電性の突起45とを精度よく位置合わせした
後、2枚の基板41,49どうしをTAB技術により圧
着することにより、第1の基板41のコア層42の先端
に形成された光接続部46と第2の基板49のレーザダ
イオード47とが自動的に位置合わせされ、図7に示す
ように、突起45と電極48とは強固に接合されて第1
の基板41と第2の基板49とが一体化されると共に、
第1の基板41の導電層43と第2の基板49の電極4
8とが突起45を介して電気的に接続され、かつ、第1
の基板41のコア層42の先端に形成された光接続部4
6と第2の基板49のレーザダイオード47とが光学的
に接続されて、光電気配線基板400が完成する。
The first substrate 41 described above is placed on the second substrate 49, and the electrodes 48 of the second substrate 49 and the conductive protrusions 45 of the first substrate 41 are accurately aligned. After that, the two substrates 41 and 49 are pressure-bonded to each other by the TAB technique, so that the optical connection portion 46 formed at the tip of the core layer 42 of the first substrate 41 and the laser diode 47 of the second substrate 49 are separated from each other. The alignment is automatically performed, and the protrusion 45 and the electrode 48 are firmly joined to each other as shown in FIG.
The substrate 41 and the second substrate 49 are integrated and
The conductive layer 43 of the first substrate 41 and the electrode 4 of the second substrate 49
8 is electrically connected via the protrusion 45, and
Optical connection part 4 formed at the tip of the core layer 42 of the substrate 41 of
6 and the laser diode 47 of the second substrate 49 are optically connected, and the optoelectronic wiring substrate 400 is completed.

【0023】なお、第1の基板41の形成方法は、図3
(a)〜図4(a)に示した第2の基板21の形成方法
と同様である。第2の基板49は、図7に示すように、
基板49の表面層に凹部49aを形成しその内部にレー
ザダイオード47を設置し、さらに基板49上に電極4
8を形成することによって製造される。次に、本発明の
第2の光電気伝送路の形成方法の他の実施形態について
説明する。
The method of forming the first substrate 41 is as shown in FIG.
This is the same as the method of forming the second substrate 21 shown in FIGS. The second substrate 49, as shown in FIG.
A recess 49a is formed in the surface layer of the substrate 49, a laser diode 47 is installed in the recess 49a, and the electrode 4 is formed on the substrate 49.
Manufactured by forming 8. Next, another embodiment of the second method for forming an optical / electrical transmission line of the present invention will be described.

【0024】図8は、図7に示した光電気配線基板の構
造を若干変更した実施形態についての模式図である。図
8に示すように、この実施形態では、レーザダイオード
47は第2の基板49の表面上に載置されており、レー
ザダイオード47の先端は、第1の基板41に形成され
たコア層42の光接続部46に接近したて位置してい
る。この実施形態では、図7におけるような、凸レンズ
は形成されていない。
FIG. 8 is a schematic view of an embodiment in which the structure of the optoelectronic wiring board shown in FIG. 7 is slightly modified. As shown in FIG. 8, in this embodiment, the laser diode 47 is mounted on the surface of the second substrate 49, and the tip of the laser diode 47 has a core layer 42 formed on the first substrate 41. It is located at a position close to the optical connecting portion 46 of the above. In this embodiment, the convex lens as in FIG. 7 is not formed.

【0025】図9は、図6に示した第1の基板におけ
る、コア層、接着剤層、導電層、突起、及び光接続部の
配置の他の実施形態を示す斜視図であり、図10は、図
6に示した第1の基板における、コア層、接着剤層、導
電層、突起、及び光接続部の配置の他の実施形態を示す
断面図である。図9は、全体の斜視図を示し、図10
(a)〜図10(c)は、それぞれ、図9に示された1
点鎖線a−a’,b−b’,c−c’で切断した断面図
を示している。
FIG. 9 is a perspective view showing another embodiment of the arrangement of the core layer, the adhesive layer, the conductive layer, the protrusions, and the optical connecting portion on the first substrate shown in FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view showing another embodiment of the arrangement of the core layer, the adhesive layer, the conductive layer, the protrusions, and the optical connection portion on the first substrate shown in FIG. 6. 9 shows a perspective view of the whole, and FIG.
(A)-(c) of FIG. 10 are respectively shown in FIG.
A cross-sectional view taken along the dotted line aa ', bb', cc 'is shown.

【0026】図9及び図10(a)〜図10(c)に示
すように、第1の基板41に矢印A方向に延びるコア層
42が形成されており、同様に矢印A方向に延びる2本
の接着剤層44上に導電層43が形成されている。2本
の導電層43上にはそれぞれ突起45が形成されてい
る。コア層42の一端にはレンズ状の光接続部46が形
成されている。
As shown in FIGS. 9 and 10A to 10C, a core layer 42 extending in the direction of arrow A is formed on the first substrate 41, and a core layer 42 extending in the direction of arrow A is also formed. The conductive layer 43 is formed on the adhesive layer 44 of the book. A protrusion 45 is formed on each of the two conductive layers 43. A lens-shaped optical connection portion 46 is formed at one end of the core layer 42.

【0027】次に、本発明の第2の光電気伝送路の形成
方法の他の実施形態について説明する。図11は、本発
明の第2の光電気伝送路の形成方法の他の実施形態にお
ける、第1の基板のコア層、接着剤層、導電層、突起、
及び光接続部の配置を示す斜視図であり、図12は、図
11に示した第1の基板のコア層、接着剤層、導電層、
突起、及び光接続部の配置を示す断面図である。
Next, another embodiment of the second method for forming an optical / electrical transmission line of the present invention will be described. FIG. 11 shows the core layer, the adhesive layer, the conductive layer, the protrusions of the first substrate in the second embodiment of the method for forming an optoelectronic transmission line according to the present invention.
FIG. 12 is a perspective view showing the arrangement of the optical connection part and FIG. 12 is a core layer, an adhesive layer, a conductive layer, and a core layer of the first substrate shown in FIG.
It is sectional drawing which shows arrangement | positioning of a protrusion and an optical connection part.

【0028】図11は、第1の基板全体の斜視図を示
し、図12(a)から図12(e)は、それぞれ、図1
1に示された1点鎖線a−a’,b−b’,c−c’,
d−d’,e−e’,f−f’で切断した断面図を示し
ている。図11及び図12(a)〜図12(e)に示す
ように、第1の基板51に矢印A方向に延びるコア層5
2が形成されており、図11のほぼ中央に位置するコア
層52の端部の光接続部56の先端には凸レンズ状のレ
ンズ56aが形成されている。基板51表面の光接続部
56の先端に形成されたレンズ56aの周囲には接着剤
層54と導電層53とが形成されており、さらに、導電
層53の上には光接続部56の先端に形成されたレンズ
56aを取り囲んで形成された環状の導電性の突起55
が形成されている。このように、導電性の突起55を、
光接続部56と、接続相手の光接続部との光結合部分を
取り囲むように環状に形成したことにより、2つの基板
が貼り合わされて新たな光電気配線基板として形成され
た時に、導電性の突起55で取り囲まれた空間が外部の
光及び電磁波から遮蔽され、光接続部相互間で入出射さ
れる光のS/N比を向上させることができる。
FIG. 11 shows a perspective view of the entire first substrate, and FIGS. 12 (a) to 12 (e) respectively show FIG.
1 indicated by a chain line aa ', bb', cc ',
The cross-sectional view cut along d-d ', e-e', and f-f 'is shown. As shown in FIGS. 11 and 12A to 12E, the core layer 5 extending in the arrow A direction on the first substrate 51.
2 is formed, and a convex lens-shaped lens 56a is formed at the tip of the optical connecting portion 56 at the end of the core layer 52 located substantially in the center of FIG. An adhesive layer 54 and a conductive layer 53 are formed around a lens 56a formed on the tip of the optical connecting portion 56 on the surface of the substrate 51, and the tip of the optical connecting portion 56 is formed on the conductive layer 53. An annular conductive protrusion 55 formed surrounding the lens 56a formed on the
Are formed. In this way, the conductive protrusion 55 is
By forming the optical connecting portion 56 and the optical coupling portion between the optical connecting portion of the connection partner in a ring shape so as to surround the optical connecting portion, when the two substrates are bonded to each other to form a new opto-electric wiring board, a conductive material is formed. The space surrounded by the protrusions 55 is shielded from external light and electromagnetic waves, and the S / N ratio of light entering and exiting between the optical connecting portions can be improved.

【0029】次に、本発明の第3の光電気伝送路の形成
方法及び本発明の第4の光電気伝送路の形成方法につい
て説明する。なお、本発明の第3及び第4の光電気伝送
路の形成方法は、前述の本発明の第1及び第2の光電気
伝送路の形成方法と類似しているので、上記図11,1
2を流用して実施形態について説明することとする。前
述の本発明の第1及び第2の光電気伝送路の形成方法
(図11,12参照)においては、基板51の上に接着
剤層54及び導電層53が形成され、その上に導電性の
突起55が形成されるが、本発明の第3及び第4の光電
気伝送路の形成方法においては、基板51の上には、ク
ラッド層が形成され、その上に突起が形成される。この
クラッド層は図11,12における接着剤層54に相当
するものであり、コア層52にたいするクラッドとして
作用する。このクラッド層の上には必ずしも導電層53
が形成されている必要はない。クラッド層の上に導電層
53が形成されていない場合は、突起は必ずしも導電性
の材料で形成される必要はない。本発明の第3及び第4
の光電気伝送路の形成方法の場合、上記突起は、貼り合
わせる相手側基板との位置合わせと、光結合部分の外部
との光学的な遮蔽とを目的として形成されるものであ
り、必ずしも突起を介しての電気的接続を行う必要はな
い。
Next, a method for forming the third opto-electrical transmission line of the present invention and a method for forming the fourth opto-electrical transmission line of the present invention will be described. The third and fourth opto-electrical transmission line forming methods of the present invention are similar to the above-described first and second opto-electrical transmission line forming methods of the present invention.
The embodiment will be described by diverting No. 2. In the above-described first and second methods for forming an opto-electric transmission line of the present invention (see FIGS. 11 and 12), the adhesive layer 54 and the conductive layer 53 are formed on the substrate 51, and the conductive layer is formed on the adhesive layer 54. The projection 55 is formed. In the third and fourth methods of forming an opto-electrical transmission line of the present invention, a clad layer is formed on the substrate 51, and the projection is formed thereon. This clad layer corresponds to the adhesive layer 54 in FIGS. 11 and 12, and acts as a clad for the core layer 52. The conductive layer 53 is not necessarily formed on the clad layer.
Need not be formed. When the conductive layer 53 is not formed on the clad layer, the protrusion does not necessarily have to be formed of a conductive material. Third and fourth aspects of the present invention
In the case of the method for forming an opto-electrical transmission line, the projection is formed for the purpose of aligning with the mating substrate to be bonded and for optically shielding the optical coupling portion from the outside. It is not necessary to make an electrical connection via.

【0030】なお、上記の各実施形態のうち、本発明の
第2の光電気伝送路の形成方法及び本発明の第4の光電
気伝送路の形成方法に関する各実施形態において、第2
の基板の、第1の基板上に形成されたコア層の光接続部
に対応する位置に配置される素子がレーザダイオードで
ある場合を例に挙げて説明したが、この素子はレーザダ
イオードに限定されるものではなく、第1の基板の光接
続部に入射する光の発光を担う発光素子、または第1の
基板の光接続部から出射する光の受光を担う受光素子の
いずれか一方の素子、あるいは、発光素子と受光素子の
両機能を兼ね備えたどのようなタイプの素子であっても
よい。
In each of the above-mentioned embodiments, the second opto-electrical transmission line forming method according to the present invention and the fourth opto-electrical transmission line forming method according to the present invention are described below.
The case where the element arranged at the position corresponding to the optical connection portion of the core layer formed on the first substrate of the substrate of 1 is a laser diode has been described as an example, but the element is limited to the laser diode. However, the light emitting element is responsible for emitting the light incident on the optical connecting portion of the first substrate, or the light receiving element is responsible for receiving the light emitted from the optical connecting portion of the first substrate. Alternatively, any type of element having both functions of a light emitting element and a light receiving element may be used.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
簡単な方法で、光学的位置合わせ及び電気的接続を行い
結合効率の良い光伝送路及び電気伝送路が形成される。
As described above, according to the present invention,
Optical alignment and electrical connection are performed by a simple method to form an optical transmission line and an electrical transmission line with good coupling efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の光電気伝送路の形成方法の一実
施形態における第1の基板の形成過程のうちの前半部を
示す工程図である。
FIG. 1 is a process diagram showing a first half part of a process of forming a first substrate in an embodiment of the method for forming a first optoelectronic transmission line of the present invention.

【図2】本発明の第1の光電気伝送路の形成方法の一実
施形態における第1の基板の形成過程のうちの後半部を
示す工程図である。
FIG. 2 is a process drawing showing a second half of the process of forming the first substrate in the embodiment of the method for forming the first optoelectronic transmission line of the present invention.

【図3】上記実施形態により形成された第1の基板を他
の基板と貼り合わせることにより新たな光電気伝送路が
形成される過程についての説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a process of forming a new opto-electrical transmission line by bonding the first substrate formed by the above embodiment to another substrate.

【図4】本発明の第1の光電気伝送路の形成方法の他の
実施形態における第2の基板の形成過程のうちの前半部
を示す工程図である。
FIG. 4 is a process diagram showing a first half part of a process of forming a second substrate in another embodiment of the method for forming a first optical / electrical transmission line of the present invention.

【図5】本発明の第1の光電気伝送路の形成方法の他の
実施形態における第2の基板の形成過程のうちの後半部
を示す工程図である。
FIG. 5 is a process drawing showing a latter half of the process of forming the second substrate in another embodiment of the method for forming the first optoelectronic transmission line of the present invention.

【図6】本発明の第2の光電気伝送路の形成方法の一実
施形態における第1の基板の構造を示す模式図である。
FIG. 6 is a schematic view showing a structure of a first substrate in an embodiment of the method for forming a second optical / electrical transmission line of the present invention.

【図7】図6に示した第1の基板を、第2の基板に貼り
合わせることにより形成された光電気配線基板の構造を
示す模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram showing a structure of an opto-electrical wiring substrate formed by bonding the first substrate shown in FIG. 6 to a second substrate.

【図8】図7に示した光電気配線基板の構造を若干変更
した場合の模式図である。
FIG. 8 is a schematic view when the structure of the opto-electrical wiring board shown in FIG. 7 is slightly changed.

【図9】図6に示した第1の基板における、コア層、接
着剤層、導電層、突起、及び光接続部の配置の一例を示
す斜視図である。
9 is a perspective view showing an example of the arrangement of a core layer, an adhesive layer, a conductive layer, protrusions, and an optical connection portion on the first substrate shown in FIG.

【図10】図6に示した第1の基板における、コア層、
接着剤層、導電層、突起、及び光接続部の配置の一例を
示す断面図である。
10 is a core layer of the first substrate shown in FIG.
It is sectional drawing which shows an example of arrangement | positioning of an adhesive bond layer, a conductive layer, a protrusion, and an optical connection part.

【図11】本発明の第2の光電気伝送路の形成方法の他
の実施形態における、第1の基板のコア層、接着剤層、
導電層、突起、及び光接続部の配置を示す斜視図であ
る。
FIG. 11 shows a core layer, an adhesive layer, of a first substrate in another embodiment of the method for forming a second optoelectronic transmission line of the present invention.
It is a perspective view showing arrangement of a conductive layer, a projection, and an optical connection part.

【図12】図11に示した第1の基板のコア層、接着剤
層、導電層、突起、及び光接続部の配置を示す断面図で
ある。
12 is a cross-sectional view showing an arrangement of a core layer, an adhesive layer, a conductive layer, protrusions, and an optical connecting portion of the first substrate shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 基板11 12 コア層 13 導電層 14 接着剤層 15 バンプ 16 光接続部 17 電極 21 基板 22 コア層 23 導電層 24 接着剤層 26 光接続部 31 基板 35 突起 41 基板 42 コア層 43 導電層 44 接着剤層 45 突起 46 光接続部 47 レーザダイオード(受/発光素子) 49,51 基板 52 コア層 53 導電層 54 接着剤層 55 突起 56 光接続部 100,400 光電気配線基板 11 substrate 11 12 core layer 13 conductive layer 14 adhesive layer 15 bump 16 optical connection part 17 electrode 21 substrate 22 core layer 23 conductive layer 24 adhesive layer 26 optical connection part 31 substrate 35 protrusion 41 substrate 42 core layer 43 conductive layer 44 Adhesive layer 45 Protrusion 46 Optical connection portion 47 Laser diode (light receiving / light emitting element) 49,51 Substrate 52 Core layer 53 Conductive layer 54 Adhesive layer 55 Protrusion 56 Optical connection portion 100,400 Photoelectric wiring board

フロントページの続き (72)発明者 岡田 純二 神奈川県海老名市本郷2274番地 富士ゼロ ックス株式会社海老名事業所内 (72)発明者 広田 匡紀 神奈川県海老名市本郷2274番地 富士ゼロ ックス株式会社海老名事業所内 (72)発明者 河野 健二 神奈川県足柄上郡中井町境430 グリーン テクなかい 富士ゼロックス株式会社内Front page continuation (72) Inventor Junji Okada 2274 Hongo, Ebina City, Kanagawa Prefecture Fuji Xerox Co., Ltd.Ebina Works (72) Inventor Masanori Hirota 2274, Hongo, Ebina City, Kanagawa Fuji Xerox Co., Ltd. Ebina Office (72) ) Inventor Kenji Kono 430 Sakai, Nakai-cho, Ashigarakami-gun, Kanagawa Prefecture Green Tech Nakai Fuji Xerox Co., Ltd.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光の伝送路となるコア層が形成される、
該コア層に対するクラッドとして作用する2枚の基板を
用意し、これら2枚の基板それぞれに、各所定の方向に
延びると共に、互いに対応する位置に、光の入射と出射
のうちの少なくとも一方をそれぞれ担う各光接続部を有
する各コア層を形成する工程と、 前記2枚の基板の前記各コア層が形成された側の面上
の、該各コア層の上面及び各所定の経路に沿って、該各
コア層に対するクラッドとして作用する材料から成る接
着剤により貼着された各導電層を形成する工程と、 前記2枚の基板上に形成された導電層のうちの少なくと
も一方に、これら2枚の基板上の導電層を相互に電気的
に接続するための導電性の突起を形成する工程と、 前記2枚の基板上の前記光接続部どうしが光学的に接続
されると共に、これら2枚の基板上の前記導電層どうし
が前記突起を介して電気的に接続されるようにこれら2
枚の基板を貼り合わせる工程とを有することを特徴とす
る光電気伝送路の形成方法。
1. A core layer serving as a light transmission path is formed,
Two substrates acting as clads for the core layer are prepared, and at least one of light incidence and emission of light is respectively provided at positions corresponding to each other while extending in respective predetermined directions on the two substrates. A step of forming each core layer having each optical connection part to be carried, along the upper surface of each core layer and each predetermined path on the surface of the two substrates on which the core layers are formed. A step of forming each conductive layer adhered by an adhesive made of a material that acts as a clad for each core layer, and at least one of the conductive layers formed on the two substrates. Forming conductive protrusions for electrically connecting the conductive layers on the two substrates to each other; and the optical connecting portions on the two substrates are optically connected to each other. The conductive layer on a single substrate As cows are electrically connected via the protrusion these 2
A method of forming an opto-electrical transmission line, which comprises a step of adhering a plurality of substrates.
【請求項2】 光の伝送路となるコア層が形成される、
該コア層に対するクラッドとして作用する第1の基板を
用意し、該第1の基板上に、所定の方向に延びると共
に、光の入射と出射のうちの少なくとも一方を担う光接
続部を有するコア層を形成する工程と、 前記第1の基板の前記コア層が形成された側の面上の、
該コア層の上面及び所定の経路に沿って、該コア層に対
するクラッドとして作用する材料から成る接着剤により
貼着された第1の導電層を形成する工程と、 第2の基板を用意して、該第2の基板の、前記第1の基
板上に形成されたコア層の前記光接続部に対応する位置
に、該光接続部に入射する光の発光を担う発光素子と、
該光接続部から出射する光の受光を担う受光素子のうち
の少なくとも一方の素子を配置すると共に、該第2の基
板上の所定の経路に沿って第2の導電層を形成する工程
と、 前記第1の導電層と前記第2の導電層のうちの少なくと
も一方に、該第1の導電層と該第2の導電層を電気的に
接続するための導電性の突起を形成する工程と、 前記光接続部と前記素子が光学的に接続されると共に、
前記第1の導電層と前記第2の導電層が前記突起を介し
て電気的に接続されるように前記第1の基板と前記第2
の基板を貼り合わせる工程とを有することを特徴とする
光電気伝送路の形成方法。
2. A core layer serving as a light transmission path is formed,
A first substrate that acts as a clad for the core layer is prepared, and a core layer that extends in a predetermined direction on the first substrate and that has an optical connection portion that performs at least one of incidence and emission of light is provided. On the surface of the first substrate on which the core layer is formed,
A step of forming a first conductive layer adhered by an adhesive made of a material acting as a clad for the core layer along the upper surface of the core layer and a predetermined path, and preparing a second substrate. A light emitting element responsible for emitting light incident on the optical connection portion, at a position of the second substrate corresponding to the optical connection portion of the core layer formed on the first substrate,
Arranging at least one of the light-receiving elements for receiving the light emitted from the optical connection part, and forming a second conductive layer along a predetermined path on the second substrate, Forming a conductive protrusion on at least one of the first conductive layer and the second conductive layer for electrically connecting the first conductive layer and the second conductive layer; While the optical connection portion and the element are optically connected,
The first substrate and the second substrate so that the first conductive layer and the second conductive layer are electrically connected via the protrusions.
And a step of adhering the substrates together.
【請求項3】 前記第1の導電層を、前記光接続部を取
り囲むように形成すると共に、前記第2の導電層を、前
記素子を取り囲むように形成し、さらに、前記突起を、
前記第1の基板と前記第2の基板が貼り合わされた際に
該突起が該光接続部と該素子を取り囲むように形成する
ことを特徴とする請求項2記載の光電気伝送路の形成方
法。
3. The first conductive layer is formed so as to surround the optical connection portion, the second conductive layer is formed so as to surround the element, and the protrusion is further formed.
3. The method of forming an optoelectronic transmission line according to claim 2, wherein the protrusion is formed so as to surround the optical connection portion and the element when the first substrate and the second substrate are bonded together. .
【請求項4】 光の伝送路となるコア層が形成される、
該コア層に対するクラッドとして作用する2枚の基板を
用意し、これら2枚の基板それぞれに、各所定の方向に
延びると共に、互いに対応する位置に、光の入射と出射
のうちの少なくとも一方をそれぞれ担う各光接続部を有
する各コア層を形成する工程と、 前記2枚の基板の前記各コア層が形成された側の面上
の、該各コア層の上面及び各所定の経路に沿って、該各
コア層に対するクラッドとして作用する材料から成る接
着剤により貼着された各導電層を形成する工程と、 前記2枚の基板上に形成された導電層のうちの少なくと
も一方に、これら2枚の基板上の導電層を相互に電気的
に接続するための導電性の突起を形成する工程と、 前記2枚の基板上の前記光接続部どうしが光学的に接続
されると共に、これら2枚の基板上の前記導電層どうし
が前記突起を介して電気的に接続されるようにこれら2
枚の基板を貼り合わせる工程とを経て形成された光電気
配線基板。
4. A core layer serving as a light transmission path is formed,
Two substrates acting as clads for the core layer are prepared, and at least one of light incidence and emission of light is respectively provided at positions corresponding to each other while extending in respective predetermined directions on the two substrates. A step of forming each core layer having each optical connection part to be carried, along the upper surface of each core layer and each predetermined path on the surface of the two substrates on which the core layers are formed. A step of forming each conductive layer adhered by an adhesive made of a material that acts as a clad for each core layer, and at least one of the conductive layers formed on the two substrates. Forming conductive protrusions for electrically connecting the conductive layers on the two substrates to each other; and the optical connecting portions on the two substrates are optically connected to each other. The conductive layer on a single substrate As cows are electrically connected via the protrusion these 2
An opto-electrical wiring board formed through a process of laminating two substrates.
【請求項5】 光の伝送路となるコア層が形成される、
該コア層に対するクラッドとして作用する第1の基板を
用意し、該第1の基板上に、所定の方向に延びると共
に、光の入射と出射のうちの少なくとも一方を担う光接
続部を有するコア層を形成する工程と、 前記第1の基板の前記コア層が形成された側の面上の、
該コア層の上面及び所定の経路に沿って、該コア層に対
するクラッドとして作用する材料から成る接着剤により
貼着された第1の導電層を形成する工程と、 第2の基板を用意して、該第2の基板の、前記第1の基
板上に形成されたコア層の前記光接続部に対応する位置
に、該光接続部に入射する光の発光を担う発光素子と、
該光接続部から出射する光の受光を担う受光素子のうち
の少なくとも一方の素子を配置すると共に、該第2の基
板上の所定の経路に沿って第2の導電層を形成する工程
と、 前記第1の導電層と前記第2の導電層のうちの少なくと
も一方に、該第1の導電層と該第2の導電層を電気的に
接続するための導電性の突起を形成する工程と、 前記光接続部と前記素子が光学的に接続されると共に、
前記第1の導電層と前記第2の導電層が前記突起を介し
て電気的に接続されるように前記第1の基板と前記第2
の基板を貼り合わせる工程とを経て形成された光電気配
線基板。
5. A core layer serving as a light transmission path is formed,
A first substrate that acts as a clad for the core layer is prepared, and a core layer that extends in a predetermined direction on the first substrate and that has an optical connection portion that performs at least one of incidence and emission of light is provided. On the surface of the first substrate on which the core layer is formed,
A step of forming a first conductive layer adhered by an adhesive made of a material acting as a clad for the core layer along the upper surface of the core layer and a predetermined path, and preparing a second substrate. A light emitting element responsible for emitting light incident on the optical connection portion, at a position of the second substrate corresponding to the optical connection portion of the core layer formed on the first substrate,
Arranging at least one of the light-receiving elements for receiving the light emitted from the optical connection part, and forming a second conductive layer along a predetermined path on the second substrate, Forming a conductive protrusion on at least one of the first conductive layer and the second conductive layer for electrically connecting the first conductive layer and the second conductive layer; While the optical connection portion and the element are optically connected,
The first substrate and the second substrate so that the first conductive layer and the second conductive layer are electrically connected via the protrusions.
Opto-electrical wiring substrate formed through the step of adhering the substrates.
【請求項6】 光の伝送路となるコア層が形成される、
該コア層に対するクラッドとして作用する2枚の基板を
用意し、これら2枚の基板それぞれに、各所定の方向に
延びると共に、互いに対応する位置に、光の入射と出射
のうちの少なくとも一方をそれぞれ担う各光接続部を有
する各コア層を形成する工程と、 前記2枚の基板の前記各コア層が形成された側の面上
に、前記光接続部を取り囲むように、該各コア層に対す
るクラッドとして作用する各クラッド層を形成する工程
と、 前記2枚の基板上に形成されたクラッド層のうちの少な
くとも一方に、これら2枚の基板が貼り合わされた際
に、前記2枚の基板の前記光接続部どうしの光結合部分
を取り囲む突起を形成する工程と、 前記2枚の基板上の前記光接続部どうしが光学的に接続
されると共に、これら2枚の基板上の前記光結合部分が
前記突起により光学的に外部と遮閉されるようにこれら
2枚の基板を貼り合わせる工程とを有することを特徴と
する光電気伝送路の形成方法。
6. A core layer serving as a light transmission path is formed,
Two substrates acting as clads for the core layer are prepared, and at least one of light incidence and emission of light is respectively provided at positions corresponding to each other while extending in respective predetermined directions on the two substrates. A step of forming each core layer having each optical connection portion to be carried out, and a step for forming each core layer so as to surround the optical connection portion on the surface of the two substrates on which the core layers are formed. A step of forming each clad layer that acts as a clad, and when these two substrates are bonded to at least one of the clad layers formed on the two substrates, Forming a projection surrounding the optical coupling portions of the optical connecting portions, and optically connecting the optical connecting portions on the two substrates, and the optical coupling portions on the two substrates. Before Method of forming an optical electrical transmission path, characterized in that a step of bonding two substrates as closed shielding and optically outside by protrusions.
【請求項7】 光の伝送路となるコア層が形成される、
該コア層に対するクラッドとして作用する第1の基板を
用意し、該第1の基板上に、所定の方向に延びると共
に、光の入射と出射のうちの少なくとも一方を担う光接
続部を有するコア層を形成する工程と、 前記第1の基板の前記コア層が形成された側の面上に、
該コア層に対するクラッドとして作用する材料から成る
第1のクラッド層を形成する工程と、 第2の基板を用意して、該第2の基板の、前記第1の基
板上に形成されたコア層の前記光接続部に対応する位置
に、該光接続部に入射する光の発光を担う発光素子と、
該光接続部から出射する光の受光を担う受光素子のうち
の少なくとも一方の素子を配置すると共に、該第2の基
板上に第2のクラッド層を形成する工程と、 前記第1のクラッド層と前記第2のクラッド層のうちの
少なくとも一方に、前記第1の基板と前記第2の基板が
貼り合わされた際に、前記第1の基板の前記光接続部
と、前記第2の基板の前記発光素子及び前記受光素子の
うちのいずれか一方の素子との光結合部分を取り囲む突
起を形成する工程と、 前記光接続部と前記素子が光学的に接続されると共に、
前記光結合部分が前記突起により光学的に外部と遮閉さ
れるように前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合
わせる工程とを有することを特徴とする光電気伝送路の
形成方法。
7. A core layer serving as a light transmission path is formed,
A first substrate that acts as a clad for the core layer is prepared, and a core layer that extends in a predetermined direction on the first substrate and that has an optical connection portion that performs at least one of incidence and emission of light is provided. And a step of forming, on the surface of the first substrate on which the core layer is formed,
A step of forming a first clad layer made of a material that acts as a clad for the core layer; a second substrate prepared; and a core layer of the second substrate formed on the first substrate A light emitting element responsible for emitting light incident on the optical connection portion at a position corresponding to the optical connection portion of
Arranging at least one of the light-receiving elements for receiving the light emitted from the optical connection part, and forming a second clad layer on the second substrate; and the first clad layer. When the first substrate and the second substrate are bonded to at least one of the second substrate and the second cladding layer, the optical connection part of the first substrate and the second substrate A step of forming a projection surrounding an optical coupling portion with one of the light emitting element and the light receiving element, and the optical connection portion and the element are optically connected,
And a step of bonding the first substrate and the second substrate so that the optical coupling portion is optically shielded from the outside by the protrusion. .
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