JPH09279054A - Azo compound - Google Patents

Azo compound

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JPH09279054A
JPH09279054A JP13984096A JP13984096A JPH09279054A JP H09279054 A JPH09279054 A JP H09279054A JP 13984096 A JP13984096 A JP 13984096A JP 13984096 A JP13984096 A JP 13984096A JP H09279054 A JPH09279054 A JP H09279054A
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JP
Japan
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group
thin film
polymer composition
compound
formula
Prior art date
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Pending
Application number
JP13984096A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuo Saji
哲夫 佐治
Kazuhiko Nagira
和彦 柳楽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dojin Kagaku Kenkyusho Kk
DOUJIN KAGAKU KENKYUSHO KK
Original Assignee
Dojin Kagaku Kenkyusho Kk
DOUJIN KAGAKU KENKYUSHO KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Dojin Kagaku Kenkyusho Kk, DOUJIN KAGAKU KENKYUSHO KK filed Critical Dojin Kagaku Kenkyusho Kk
Priority to JP13984096A priority Critical patent/JPH09279054A/en
Publication of JPH09279054A publication Critical patent/JPH09279054A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00Dyes not provided for by a single group of this subclass

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a high-quality thin film by using a specific azo compd. or a specific polymer compsn. comprising an azo compd. for forming a thin film. SOLUTION: Polyethylene glycol diglycidyl ether having a specified degree of polymn. is dissolved in a solvent (e.g. thrahydrofuran). An equimolar amt. of 4-n-butyl-4'-hydroxyazobenzene is added together with a catalyst (e.g. tetrabutylammonium hydroxide) to the resultant soln. under stirring. The soln. is then refluxed under heating for about 20-30hr, refluxed further after the addition of water to it, cooled, and subjected to a reduced pressure to remove the solvent. The resultant org. layer is concentrated under a reduced pressure and extracted, this giving an azo compd. represented by formula II(wherein R<1> is a 6-14C arly; R<2> is a 6-14C arylene; R<3> is a 3-6C hydroxyalkyl, a 1-6C alkylcarbonyl, etc.; and (n) is 1-100) (e.g. a compd. represented by formula I) or a polymer compsn. represented by formula III (wherein (m) is 10-100). The azo compd. or the polymer compsn. is added together with β-copper phthalocyanine to water to give a dispersion having a specified concn., in which a copper plate is immersed for about 20min to give a greenish-blue thin film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、アゾ化合物及びア
ゾ化合物からなる重合体組成物に関するものである。よ
り詳しくは、本発明は、色素や光導電性材料などの疎水
性機能材料を含む水性分散液を用いて薄膜を製造する際
に有用なアゾ化合物及びアゾ化合物からなる重合体組成
物に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an azo compound and a polymer composition comprising the azo compound. More specifically, the present invention relates to an azo compound useful for producing a thin film using an aqueous dispersion containing a hydrophobic functional material such as a dye or a photoconductive material, and a polymer composition comprising the azo compound. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラーフィルターや光センサーなどの機
能素子を製造するためには、色素、電荷発生材、電荷輸
送材、エレクトロルミネッセンス材料、感光性色素、非
線形光学材料、電気光学材料、フォトクロミック材料、
エレクトロクロミック材料、ガスセンシング材料、及び
イオンセンシング材料などの機能材料を用いて、素子上
にそれらの均一な薄膜を形成させる必要がある。疎水性
の機能材料を用いて薄膜を形成する場合、溶液又は分散
液を用いる湿式法、液体状モノマーの重合ないし重縮合
反応を利用する方法、気体分子又は気体状モノマーを用
いる方法、加熱による溶融あるいは軟化を利用する方
法、又はフェロセン残基含有界面活性剤の電解酸化を利
用する方法などが採用されている。しかしながら、これ
らの方法は種々の固有の問題を有している(薄膜形成方
法とその問題点については特開平7-179773号公報第 1〜
3 欄を参照のこと)。
2. Description of the Related Art Dyes, charge generating materials, charge transporting materials, electroluminescent materials, photosensitive dyes, non-linear optical materials, electro-optical materials, photochromic materials, etc. are used to manufacture functional elements such as color filters and optical sensors.
It is necessary to use functional materials such as electrochromic materials, gas sensing materials, and ion sensing materials to form their uniform thin films on the device. When forming a thin film using a hydrophobic functional material, a wet method using a solution or dispersion, a method utilizing polymerization or polycondensation reaction of a liquid monomer, a method using a gas molecule or a gaseous monomer, melting by heating Alternatively, a method utilizing softening, a method utilizing electrolytic oxidation of a ferrocene residue-containing surfactant, or the like is adopted. However, these methods have various inherent problems (for the thin film forming method and its problems, refer to JP-A-7-179773
See column 3).

【0003】従来の薄膜形成法の欠点を解消して、疎水
性の物質及び機能材料の薄膜を製造するために有用なア
ゾ化合物が提案されている(特開平7-179773号公報)。
上記刊行物に記載されたアゾ化合物を界面活性剤として
用いて疎水性物質を水や水と有機溶剤との均一混合物に
溶解ないし分散させ、必要に応じて支持電解質を加えた
後、前記アゾ化合物を電解還元すると、カソード表面近
傍で疎水性物質の可溶化状態又は分散状態が破壊され、
疎水性物質がカソードとして作用する導電性基板又は電
極の表面に薄膜として沈着する。
There is proposed an azo compound useful for producing a thin film of a hydrophobic substance and a functional material by solving the drawbacks of the conventional thin film forming method (JP-A-7-179773).
The azo compound described in the above publication is used as a surfactant to dissolve or disperse a hydrophobic substance in water or a homogeneous mixture of water and an organic solvent, and a supporting electrolyte is added if necessary, and then the azo compound is added. When electrolytically reducing the, the solubilized state or dispersed state of the hydrophobic substance is destroyed near the cathode surface,
Hydrophobic material is deposited as a thin film on the surface of a conductive substrate or electrode that acts as a cathode.

【0004】上記のアゾ化合物を用いると、有機溶剤中
での疎水性物質微粒子の結晶転移抑制や凝集抑制のため
に用いられるバインダー樹脂や液状モノマーの量を低減
することが可能であり、薄膜内の単位体積中の機能材料
の量を増加させることができるので、機能素子の性能を
向上させることができるという特徴がある。しかしなが
ら、この化合物は、煩雑な製造工程を経て合成されるも
のであり、高純度の製品を安価に大量製造することは困
難であった。また、薄膜の形成に用いる溶液や分散液に
おける疎水性物質とアゾ化合物との配合比率に制限があ
り、一定の配合比を超えると薄膜の形成が困難になると
いう問題があった。
When the above azo compound is used, it is possible to reduce the amount of the binder resin or liquid monomer used for suppressing the crystal transition and aggregation of the hydrophobic substance fine particles in the organic solvent, so that the amount of the binder resin or liquid monomer can be reduced. Since the amount of the functional material per unit volume can be increased, the performance of the functional element can be improved. However, this compound is synthesized through complicated manufacturing steps, and it has been difficult to mass-produce high-purity products at low cost. Further, there is a limit to the compounding ratio of the hydrophobic substance and the azo compound in the solution or dispersion used for forming the thin film, and there is a problem that the thin film formation becomes difficult if the compounding ratio exceeds a certain level.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
の薄膜形成作用を有するアゾ化合物であって、容易に入
手可能な原料から短工程で簡便かつ安価に製造すること
ができるアゾ化合物を提供することにある。また、本発
明の別の課題は、種々の配合比で疎水性物質や疎水性機
能材料とアゾ化合物とを含む溶液または分散液から、安
定に薄膜を製造できるアゾ化合物を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide an azo compound having the above-mentioned thin film-forming action, which can be produced easily and inexpensively from easily available raw materials in a short process. To provide. Another object of the present invention is to provide an azo compound capable of stably producing a thin film from a solution or dispersion containing a hydrophobic substance or a hydrophobic functional material and an azo compound in various compounding ratios.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は上記の課題を
解決すべく鋭意努力した結果、下記の式で示される化合
物が、特開平7-179773号公報に記載されたアゾ化合物に
比べて、疎水性物質や疎水性機能材料と種々の配合比で
薄膜を製造できること、並びに、該化合物が容易に入手
可能な原料から安価で簡便に製造できることを見い出し
た。また、本発明者らは、該化合物が浸漬メッキ法や接
触メッキ法などの無電解法による薄膜形成工程に極めて
好適に使用できることを見出した。本発明はこれらの知
見を基にして完成されたものである。
Means for Solving the Problems As a result of diligent efforts to solve the above problems, the present inventor has found that a compound represented by the following formula is less than the azo compound described in JP-A-7-179773. It was found that a thin film can be produced with a hydrophobic substance or a hydrophobic functional material at various compounding ratios, and that the compound can be produced inexpensively and easily from easily available raw materials. Further, the present inventors have found that the compound can be used very suitably in a thin film forming process by an electroless method such as an immersion plating method or a contact plating method. The present invention has been completed based on these findings.

【0007】すなわち本発明は、下記の式(I): R1-N=N-R2-O-CH2-CH(OH)-CH2-O-(-CH2CH2O-)n -R3 (式中、R1は置換基を有していてもよいC6-14 アリール
基を示し;R2は置換基を有していてもよいC6-14 アリー
ルジイル基を示し;R3は水酸基を有するC3-6アルキル
基、C1-6アルキルカルボニル基、又はC6-14 アリールカ
ルボニル基を示し;n は 1〜100 の整数を示す)で示さ
れる化合物を提供するものである。
That is, the present invention provides the following formula (I): R 1 -N = NR 2 -O-CH 2 -CH (OH) -CH 2 -O-(-CH 2 CH 2 O-) n -R 3 (In the formula, R 1 represents an optionally substituted C 6-14 aryl group; R 2 represents an optionally substituted C 6-14 aryldiyl group; R 3 represents A C 3-6 alkyl group having a hydroxyl group, a C 1-6 alkylcarbonyl group, or a C 6-14 arylcarbonyl group; n represents an integer of 1 to 100).

【0008】また、本発明の別の態様によれば、下記の
式(II): R1-N=N-R2-O-CH2-CH(OH)-CH2-O-(-CH2CH2O-)m -R3 (式中、R1は置換基を有していてもよいC6-14 アリール
基を示し;R2は置換基を有していてもよいC6-14 アリー
ルジイル基を示し;R3は水酸基を有するC3-6アルキル
基、C1-6アルキルカルボニル基、又は C6-14アリールカ
ルボニル基を示し;m は10〜100 の範囲から選択される
平均重合度を示す)で示される重合体組成物を提供する
ものである。
According to another aspect of the present invention, the following formula (II): R 1 -N = NR 2 -O-CH 2 -CH (OH) -CH 2 -O-(-CH 2 CH 2 O-) m -R 3 (In the formula, R 1 represents a C 6-14 aryl group which may have a substituent; R 2 represents a C 6-14 aryldiyl which may have a substituent. Represents a group; R 3 represents a C 3-6 alkyl group having a hydroxyl group, a C 1-6 alkylcarbonyl group, or a C 6-14 arylcarbonyl group; m is an average degree of polymerization selected from the range of 10 to 100 The present invention provides a polymer composition represented by

【0009】これらの発明の好ましい態様によれば、R1
がフェニル基又はナフチル基(これらはC1-12 アルキル
基及びC1-12 アルコキシ基からなる群から選ばれる1個
以上の置換基、好ましくは1個の置換基を有していても
よい)であり、R2がフェニレン基若しくはナフタレンジ
イル基であり、R3がC1-6アルキルカルボニル基、ベンゾ
イル基、及び2,3-ジヒドロキシプロパン-1- イル基から
なる群から選ばれる基であり、それぞれ nが1 〜100 の
整数及びm が10〜50の範囲である上記化合物及び重合体
組成物が提供される。
According to a preferred embodiment of these inventions, R 1
Is a phenyl group or a naphthyl group (these may have one or more substituents selected from the group consisting of C 1-12 alkyl groups and C 1-12 alkoxy groups, preferably one substituent) And R 2 is a phenylene group or a naphthalenediyl group, and R 3 is a group selected from the group consisting of a C 1-6 alkylcarbonyl group, a benzoyl group, and a 2,3-dihydroxypropan-1-yl group. And n is an integer of 1 to 100 and m is in the range of 10 to 50, respectively.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】上記式(I) 及び式(II)において、
R1は置換基を有していてもよい炭素数 1〜14(C6-14) の
アリール基を示す。アリール基としては、例えば、単環
又は縮合二環のアリール基を用いることができ、より具
体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、アズレニ
ル基、フェナントレン基、又はアントラセン基などを用
いることができる。これらのうち、フェニル基若しくは
ナフチル基を好適に用いることができる。ナフチル基と
しては、1-ナフチル基又は2-ナフチル基のいずれを用い
てもよい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the above formulas (I) and (II),
R 1 represents an optionally substituted aryl group having 1 to 14 carbon atoms (C 6-14 ). As the aryl group, for example, a monocyclic or condensed bicyclic aryl group can be used, and more specifically, for example, a phenyl group, a naphthyl group, an azulenyl group, a phenanthrene group, or an anthracene group can be used. it can. Of these, a phenyl group or a naphthyl group can be preferably used. As the naphthyl group, either a 1-naphthyl group or a 2-naphthyl group may be used.

【0011】これらのアリール基は1個または2個以
上、好ましくは1個の置換基を有していてもよい。置換
基としては、例えば、C1-12 アルキル基、C1-12 アルコ
キシ基、水酸基、又はハロゲン原子などを用いることが
できる。アルキル基またはアルコキシ基としては、直鎖
状、分枝鎖状、又は環状のいずれを用いてもよい。より
具体的には、C1-12 アルキル基としては、メチル基、エ
チル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、
sec-ブチル基、tert- ブチル基、n-ペンチル基、ネオペ
ンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプタニル基、n-オクチル
基、n-ノニル基、n-デカニル基、n-ウンデカニル基、又
はn-ドデカニル基などを用いることができる。
These aryl groups may have one or more substituents, preferably one substituent. As the substituent, for example, a C 1-12 alkyl group, a C 1-12 alkoxy group, a hydroxyl group, a halogen atom or the like can be used. The alkyl group or alkoxy group may be linear, branched or cyclic. More specifically, as the C 1-12 alkyl group, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group,
sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, n-heptanyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decanyl group, n-undecanyl group, or n -A dodecanyl group or the like can be used.

【0012】C1-12 アルコキシ基としては、メトキシ
基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、
n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、n-ペントキシ基、ネオ
ペントキシ基、n-ヘキソキシ基、n-ヘプタニルオキシ
基、n-オクチルオキシ基、n-ノニルオキシ基、n-デカニ
ルオキシ基、n-ウンデカニルオキシ基、又はn-ドデカニ
ルオキシ基などを用いることができる。アリール基上に
おけるこれらの置換基の置換位置は特に限定されない。
R1が示すアリール基のうち特に好ましいアリール基とし
ては、無置換フェニル基、p-位に1個のC1-12 アルキル
基若しくはC1-12 アルコキシ基を有するフェニル基、無
置換1-ナフチル基、又は無置換2-ナフチル基などを挙げ
ることができる。
The C 1-12 alkoxy group includes methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group,
n-butoxy group, sec-butoxy group, n-pentoxy group, neopentoxy group, n-hexoxy group, n-heptanyloxy group, n-octyloxy group, n-nonyloxy group, n-decanyloxy group, n-undecanyloxy group Group or an n-dodecanyloxy group can be used. The substitution position of these substituents on the aryl group is not particularly limited.
Among the aryl groups represented by R 1, particularly preferred aryl groups are an unsubstituted phenyl group, a phenyl group having one C 1-12 alkyl group or a C 1-12 alkoxy group at the p-position, and an unsubstituted 1-naphthyl group. Group or an unsubstituted 2-naphthyl group.

【0013】上記式(I) 及び式(II)において、R2は置換
基を有していてもよいC6-14 アリールジイル基を示す。
アリールジイル基としては、例えば、フェニレン基、ナ
フタレンジイル基、アズレンジイル基、フェナントレン
ジイル基、若しくはアントラセンジイル基などを用いる
ことができる。これらのうち、フェニレン基若しくはナ
フタレンジイル基を好適に用いることができる。フェニ
レン基としては、o-フェニレン基、m-フェニレン基、又
はp-フェニレン基のいずれを用いてもよく、ナフタレン
ジイル基としては、ナフタレン-1,3- ジイル基、ナフタ
レン-1,4- ジイル基、ナフタレン-2,4- ジイル基、ナフ
タレン-1,5- ジイル基、ナフタレン-1,6- ジイル基、又
はナフタレン-2,6- ジイル基などの任意のナフタレンジ
イル基を用いることができる。
In the above formulas (I) and (II), R 2 represents a C 6-14 aryldiyl group which may have a substituent.
As the aryldiyl group, for example, a phenylene group, a naphthalenediyl group, an azulenediyl group, a phenanthrenediyl group, an anthracenediyl group, or the like can be used. Of these, a phenylene group or a naphthalenediyl group can be preferably used. The phenylene group may be any of an o-phenylene group, an m-phenylene group, or a p-phenylene group, and a naphthalenediyl group may be a naphthalene-1,3-diyl group or a naphthalene-1,4-diyl group. Group, naphthalene-2,4-diyl group, naphthalene-1,5-diyl group, naphthalene-1,6-diyl group, or any naphthalene diyl group such as naphthalene-2,6-diyl group can be used. .

【0014】これらのアリールジイル基は1個または2
個以上、好ましくは1個の置換基を有していてもよい。
置換基としては、例えば、C1-6アルキル基、C1-6アルコ
キシ基、水酸基、又はハロゲン原子などを用いることが
できる。C1-6アルキル基としては、メチル基、エチル
基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-
ブチル基、tert- ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチ
ル基、又はn-ヘキシル基など用いることができ、C1-6
ルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブト
キシ基、n-ペントキシ基、ネオペントキシ基、又はn-ヘ
キソキシ基などを用いることができる。これらのうちC
1-6アルキル基を用いることが好ましい。アリールジイ
ル基上におけるこれらの置換基の置換位置は特に限定さ
れることはない。R2が示すアリールジイル基のうち特に
好ましいアリールジイル基としては、無置換p-フェニレ
ン基、1個のC1-6アルキル基を有するp-フェニレン基、
無置換ナフタレン-1,4- ジイル基などを挙げることがで
きる。
These aryldiyl groups may be 1 or 2
It may have one or more, preferably one substituent.
As the substituent, for example, a C 1-6 alkyl group, a C 1-6 alkoxy group, a hydroxyl group, a halogen atom or the like can be used. As the C 1-6 alkyl group, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, sec-
A butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, a neopentyl group, or an n-hexyl group can be used, and as the C 1-6 alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group. , N-butoxy group, sec-butoxy group, n-pentoxy group, neopentoxy group, or n-hexoxy group can be used. C of these
It is preferable to use 1-6 alkyl groups. The substitution position of these substituents on the aryldiyl group is not particularly limited. Among the aryldiyl groups represented by R 2, particularly preferable aryldiyl groups include an unsubstituted p-phenylene group, a p-phenylene group having one C 1-6 alkyl group,
An unsubstituted naphthalene-1,4-diyl group and the like can be mentioned.

【0015】R3は水酸基を有するC3-6アルキル基、C1-6
アルキルカルボニル基、又はC6-14アリールカルボニル
基を示す。水酸基を有するアルキル基を構成するアルキ
ル鎖としてはn-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、se
c-ブチル、tert- ブチル、n-ペンチル、ネオペンチル、
又はn-ヘキシルなどを用いることができる。アルキル基
が有する水酸基の数は特に限定されず、1個又は2個、
好ましくは2個の水酸基を有することができる。アルキ
ル基が2個の水酸基を有する場合には、それらの水酸基
は隣接する2個の炭素原子上にそれぞれ1個ずつ置換し
ていることが好ましい。このような例として、例えば、
2,3-ジヒドロキシプロパン-1- イル基[-CH2CH(OH)CH-O
H] など挙げることができる。
R 3 is a C 3-6 alkyl group having a hydroxyl group, C 1-6
An alkylcarbonyl group or a C 6-14 arylcarbonyl group is shown. Examples of the alkyl chain forming the alkyl group having a hydroxyl group include n-propyl, isopropyl, n-butyl, se
c-butyl, tert-butyl, n-pentyl, neopentyl,
Alternatively, n-hexyl or the like can be used. The number of hydroxyl groups contained in the alkyl group is not particularly limited, and 1 or 2
It preferably has two hydroxyl groups. When the alkyl group has two hydroxyl groups, it is preferable that the hydroxyl groups are respectively substituted on two adjacent carbon atoms. As an example of this, for example,
2,3-dihydroxypropan-1-yl group [-CH 2 CH (OH) CH-O
H] and so on.

【0016】R3が示すC1-6アルキルカルボニル基のC1-6
アルキル基としては前記に例示したものを好適に用いる
ことができ、C1-6アルキルカルボニル基としては、アセ
チル基、エチルカルボニル基、n-プロピルカルボニル基
などを用いることができる。アリールカルボニル基とし
ては、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基などを挙げ
ることができる。R3として、アセチル基、プロピオニル
基、ベンゾイル基、又は2,3-ジヒドロキシプロパン-1-
イル基などが特に好ましい。
[0016] C of C 1-6 alkylcarbonyl group represented by R 3 1-6
As the alkyl group, those exemplified above can be preferably used, and as the C 1-6 alkylcarbonyl group, an acetyl group, an ethylcarbonyl group, an n-propylcarbonyl group or the like can be used. Examples of the arylcarbonyl group include a benzoyl group and a naphthylcarbonyl group. As R 3 , an acetyl group, a propionyl group, a benzoyl group, or 2,3-dihydroxypropane-1-
Particularly preferred is an yl group.

【0017】式(I) においてn は 1〜100 の整数を示す
が、n が10〜70の整数であることが好ましい。また、式
(II)においてm は10〜100 の範囲、好ましくは10〜50の
範囲から選択される平均重合度を示す。式(I) の化合物
を重合過程により製造すると、n が整数 kである主生成
物の他に、この化合物を中心として生成量が実質的に正
規分布する他の化合物 (n= k±s: sは例えば 1〜10の整
数)も同時に製造される場合がある。このような反応生
成物は、n=k の化合物を主生成物として含み重合度が k
で表される重合体組成物を形成しているが、このような
重合体組成物も本発明の範囲に包含されることはいうま
でもない。
In the formula (I), n represents an integer of 1 to 100, and it is preferable that n is an integer of 10 to 70. Also, the formula
In (II), m represents an average degree of polymerization selected from the range of 10 to 100, preferably 10 to 50. When the compound of formula (I) is produced by a polymerization process, in addition to the main product in which n is an integer k, other compounds (n = k ± s: s is, for example, an integer of 1 to 10) may be produced at the same time. Such a reaction product contains a compound of n = k as a main product and has a degree of polymerization of k.
However, it goes without saying that such a polymer composition is also included in the scope of the present invention.

【0018】平均重合度の測定方法は、例えば、ゲル濾
過クロマトグラフィーを用いた平均分子量測定や分子量
分布測定などにより行うことができるが、これらに限定
されることはなく、当業者に利用可能なものならばいか
なるものを用いてもよい。また、本明細書の実施例の記
載を参照しつつ、反応条件や試薬などを適宜修飾ないし
改変することにより、当業者は所望の重合度分布や平均
重合度を有する重合体組成物を製造することが可能であ
る。さらに、このような重合体組成物から、例えば、液
体クロマトグラフィーなどの手段により、n=k 及び n=k
+1 を有するそれぞれの化合物を単離・精製することが
可能である。
The average degree of polymerization can be measured by, for example, average molecular weight measurement using gel filtration chromatography or molecular weight distribution measurement, but the method is not limited thereto and can be used by those skilled in the art. Any thing may be used as long as it is a thing. Also, referring to the description of the examples of the present specification, those skilled in the art can produce a polymer composition having a desired degree of polymerization distribution or average degree of polymerization by appropriately modifying or modifying reaction conditions, reagents and the like. It is possible. Further, from such a polymer composition, for example, by means such as liquid chromatography, n = k and n = k.
It is possible to isolate and purify each compound having +1.

【0019】本発明の式(I) で示される化合物は、分子
内に存在する2個の二級水酸基が置換するそれぞれの不
斉炭素の他、R1及び/又はR2の種類に応じてさらに不斉
炭素を有する場合がある。これらの不斉炭素に基づく光
学的に純粋な任意の光学異性体、任意の光学異性体の任
意の割合の混合物、ラセミ体、2個以上の不斉炭素に基
づく任意の純粋なジアステレオマー、任意のジアステレ
オマーの任意の割合の混合物などは、いずれも本発明の
範囲に包含される。
The compound represented by the formula (I) of the present invention has asymmetric carbons substituted by two secondary hydroxyl groups present in the molecule, as well as R 1 and / or R 2 depending on the kind. Further, it may have an asymmetric carbon. Any optically pure optical isomers based on these asymmetric carbons, mixtures of any optical isomers in any ratio, racemates, any pure diastereomers based on two or more asymmetric carbons, Any mixtures of any diastereomers in any proportion are within the scope of the invention.

【0020】以下、式(I) で示される本発明の化合物の
うち、好ましい化合物を例示するが、本発明の範囲はこ
れらの好ましい化合物に限定されることはない。特に好
ましい化合物は、化合物 1, 2, 3, 9 及び10などであ
る。
Hereinafter, among the compounds of the present invention represented by the formula (I), preferred compounds will be exemplified, but the scope of the present invention is not limited to these preferred compounds. Particularly preferred compounds are compounds 1, 2, 3, 9 and 10.

【0021】[0021]

【化1】 Embedded image

【0022】[0022]

【化2】 Embedded image

【0023】[0023]

【化3】 Embedded image

【0024】[0024]

【化4】 Embedded image

【0025】[0025]

【化5】 Embedded image

【0026】[0026]

【化6】 [Chemical 6]

【0027】[0027]

【化7】 Embedded image

【0028】[0028]

【化8】 Embedded image

【0029】[0029]

【化9】 Embedded image

【0030】本発明の式(I) の化合物は、例えば、R1-N
=N-R2-OHで示される化合物(III)(式中の定義は上記と同
じである)をポリエチレングリコールのグリシジル誘導
体と反応させることにより容易に製造することができ
る。ポリエチレングリコール・グリシジル誘導体として
は、例えば、ポリエチレングリコール・ジグリシジルエ
ーテルなどを用いることができる。上記の反応は、例え
ば、テトラヒドロフランなどの溶媒中で、好ましくは水
酸化テトラブチルアンモニウムなどの触媒の存在下に行
うことができ、一般的には、溶媒の還流温度で10〜50時
間程度、好ましくは20〜30時間程度で完了する。
The compounds of formula (I) of the present invention are, for example, R 1 -N
It can be easily produced by reacting a compound (III) represented by ═NR 2 —OH (the definition in the formula is the same as above) with a glycidyl derivative of polyethylene glycol. As the polyethylene glycol / glycidyl derivative, for example, polyethylene glycol / diglycidyl ether can be used. The above reaction can be carried out, for example, in a solvent such as tetrahydrofuran, preferably in the presence of a catalyst such as tetrabutylammonium hydroxide, and generally, at a reflux temperature of the solvent for about 10 to 50 hours, preferably Is completed in about 20 to 30 hours.

【0031】原料化合物(III) として4-ブチル-4'-ヒド
ロキシアゾベンゼンを用い、ポリエチレングリコール・
グリシジル誘導体として化合物(IV): ポリエチレングリ
コール・ジグリシジルエーテルを反応させて、式(I) に
おいて R1=p-CH3(CH2)3-C6H4-; R2=p-C6H4-; R3=CH2-CH
(OH)-CH2OH; 及びn=22の化合物を製造するスキームを下
記に示すが、本発明の化合物の製造方法は以下の方法に
限定されることはない。
4-butyl-4'-hydroxyazobenzene was used as the raw material compound (III), and polyethylene glycol
Compound as glycidyl derivative (IV): by reacting a polyethylene glycol diglycidyl ether, R 1 = p-CH 3 in formula (I) (CH 2) 3 -C 6 H 4 -; R 2 = pC 6 H 4 -; R 3 = CH 2 -CH
A scheme for producing a compound of (OH) -CH 2 OH; and n = 22 is shown below, but the production method of the compound of the present invention is not limited to the following method.

【0032】[0032]

【化10】 Embedded image

【0033】また、R3がアルキルカルボニル基又はアリ
ールカルボニル基である化合物の製造方法を以下のスキ
ームに示す。スキーム中、R5はR1で示されるアリール基
上の置換基、例えばC1-6アルキル基などを示し、R6はC
1-6アルキル基又はフェニル基などのアリール基を示
す。R3がアルキルカルボニル基又はアリールカルボニル
基である化合物の製造において、エステル基を有する中
間体化合物(V) は対応するカルボン酸の酸無水物か酸ハ
ロゲン化物をポリオキシエチレン化合物と反応させるこ
とにより製造することができる(新実験化学講座14巻、
有機化合物の合成と反応II, pp.1012-1016, 日本化学会
編集、丸善株式会社発行、昭和53年などを参照)。
A method for producing a compound in which R 3 is an alkylcarbonyl group or an arylcarbonyl group is shown in the following scheme. In the scheme, R 5 represents a substituent on the aryl group represented by R 1 , such as a C 1-6 alkyl group, and R 6 represents C 1.
1-6 represents an aryl group such as an alkyl group or a phenyl group. In the production of a compound in which R 3 is an alkylcarbonyl group or an arylcarbonyl group, the intermediate compound (V) having an ester group can be prepared by reacting a corresponding carboxylic acid anhydride or acid halide with a polyoxyethylene compound. Can be manufactured (New Experimental Chemistry Course Volume 14,
Synthesis and Reactions of Organic Compounds II, pp.1012-1016, edited by The Chemical Society of Japan, published by Maruzen Co., Ltd., 1978).

【0034】[0034]

【化11】 Embedded image

【0035】原料として用いるグリシジル誘導体は、例
えば、以下のスキームに示す製造方法に従って製造する
ことができる(例えば、新実験化学講座19巻、高分子化
学I, pp.227-229及びpp.295-298, 日本化学会編集、丸
善株式会社発行、昭和53年;新実験化学講座19巻、有機
化合物の合成, pp.196-197, 日本化学会編集、丸善株式
会社発行、昭和34年などを参照)。
The glycidyl derivative used as a raw material can be produced, for example, according to the production method shown in the following scheme (for example, New Experimental Chemistry Course, Vol. 19, Polymer Chemistry I, pp.227-229 and pp.295-. 298, edited by The Chemical Society of Japan, published by Maruzen Co., Ltd., 1978; New Experimental Chemistry Course, Volume 19, Organic Compound Synthesis, pp.196-197, edited by The Chemical Society of Japan, published by Maruzen Co., Ltd., 1959 ).

【0036】[0036]

【化12】 [Chemical 12]

【0037】原料として用いるポリエチレングリコール
・グリシジル誘導体が平均重合度 mの重合体組成物であ
る場合(例えば、上記スキームにおいて、式(IV)の化合
物の繰り返し単位に付された22が平均重合度を示す場
合)には、上記のスキームに従って、平均重合度 mの式
(II)の重合体組成物を製造することができる。また、分
子量分布がほとんどないポリオキシエチレンの製造方法
が知られており(Aida, T. et al., Macromolecules, 1
4, pp.1162-1166, 1981; Aida, T. et al., Macromolec
ules, 21, pp.1195-1202, 1988)、このようなポリオキ
シエチレンを用いることにより式(I) の化合物を製造す
ることが可能である。以上のスキームから明らかなとお
り、本発明の化合物及び重合体組成物は、従来公知の化
合物または重合体組成物(例えば特開平7-179773号公報
に記載された化合物など)に比べて、より短工程で簡便
かつ安価に製造することができるという特徴を有してい
る。
When the polyethylene glycol / glycidyl derivative used as a raw material is a polymer composition having an average degree of polymerization m (for example, in the above scheme, 22 attached to the repeating unit of the compound of the formula (IV) has an average degree of polymerization of (Where indicated), according to the scheme above, the formula for average degree of polymerization m
The polymer composition of (II) can be produced. Further, a method for producing polyoxyethylene having almost no molecular weight distribution is known (Aida, T. et al., Macromolecules, 1
4, pp.1162-1166, 1981; Aida, T. et al., Macromolec
ules, 21, pp.1195-1202, 1988), it is possible to produce a compound of formula (I) by using such polyoxyethylene. As is clear from the above scheme, the compound and polymer composition of the present invention are shorter than conventionally known compounds or polymer compositions (for example, the compounds described in JP-A-7-179773). It has a feature that it can be manufactured easily and inexpensively in the process.

【0038】本発明の化合物又は重合体組成物は、疎水
性の物質や疎水性機能材料を用いた薄膜の製造に有用で
ある。例えば、本発明の化合物、重合体組成物、及びそ
れらの任意の混合物からなる群から選ばれる化合物又は
組成物を界面活性剤として用いて、疎水性物質又は疎水
性機能材料を水あるいは有機溶剤と水との均一混合物な
どに分散ないしは溶解し、ついで、該分散液または溶液
を電解還元に付することにより、カソード表面近傍で疎
水性物質や疎水性機能材料の分散ないしは可溶化状態が
破壊され、疎水性物質や疎水性機能材料がカソードとし
て作用する導電性基板または電極の表面に薄膜として沈
着する。
The compound or polymer composition of the present invention is useful for producing a thin film using a hydrophobic substance or a hydrophobic functional material. For example, a compound or composition selected from the group consisting of the compound of the present invention, a polymer composition, and any mixture thereof is used as a surfactant, and a hydrophobic substance or a hydrophobic functional material is mixed with water or an organic solvent. Dispersed or dissolved in a uniform mixture with water, and then subjecting the dispersion or solution to electrolytic reduction, the dispersion or solubilized state of the hydrophobic substance or the hydrophobic functional material is destroyed in the vicinity of the cathode surface, A hydrophobic substance or a hydrophobic functional material is deposited as a thin film on the surface of a conductive substrate or electrode that acts as a cathode.

【0039】カソードとして用いる導電性基板や電極の
種類は特に制限されず、任意の形状・材質のものを使用
できる。薄膜の厚さは一般的には数μm 〜数十μm 程度
であり、均一な薄膜を任意の面積に形成可能である。薄
膜の形成方法としては、例えば、特開平7-62594 号公
報、同7-179773号公報などに記載された方法を採用する
ことができる。
The type of conductive substrate or electrode used as the cathode is not particularly limited, and any shape and material can be used. The thickness of the thin film is generally several μm to several tens of μm, and a uniform thin film can be formed in an arbitrary area. As a method for forming the thin film, for example, the methods described in JP-A Nos. 7-62594 and 7-179773 can be adopted.

【0040】また、本発明の化合物又は重合体組成物
を、無電解薄膜形成工程における薄膜形成剤として使用
してもよい。無電解薄膜形成工程では定電圧電解装置が
不要であり、簡単な装置を用いて、簡便かつ低コストで
高品質な薄膜形成を行うことができるという特徴があ
る。本発明の薄膜形成剤を好適に使用可能な無電解薄膜
形成工程としては、例えば、浸漬メッキ工程若しくは接
触メッキ工程、又はそれらの工程の組み合わせによるメ
ッキ工程などを挙げることができる。
The compound or polymer composition of the present invention may be used as a thin film forming agent in the electroless thin film forming step. The electroless thin film forming step does not require a constant voltage electrolyzer, and is characterized in that a simple device can be used to form a high quality thin film easily at low cost. Examples of the electroless thin film forming process that can suitably use the thin film forming agent of the present invention include a dipping plating process or a contact plating process, or a plating process by a combination of these processes.

【0041】浸漬メッキ工程では、本発明の化合物又は
重合体組成物を用いて疎水性化合物などを分散し、その
液中に該化合物又は重合体組成物より金属イオンになり
易い金属表面を有する基板を浸漬することにより行うこ
とができる。浸漬された金属表面から金属イオンが溶出
して金属表面に電子が蓄積するので、この電子によって
本発明の化合物又は重合体組成物が還元され、本発明の
化合物又は重合体組成物の作用によって分散されていた
疎水性化合物が基板の金属表面に付着して薄膜が形成さ
れる。
In the immersion plating step, the compound or polymer composition of the present invention is used to disperse a hydrophobic compound or the like, and a substrate having a metal surface in which the compound or polymer composition is more susceptible to metal ions than the compound or polymer composition. Can be performed by dipping. Since metal ions are eluted from the immersed metal surface and electrons accumulate on the metal surface, the compound or polymer composition of the present invention is reduced by the electrons, and the compound or polymer composition of the present invention disperses. The formed hydrophobic compound adheres to the metal surface of the substrate to form a thin film.

【0042】浸漬メッキ工程に好適に使用可能な金属と
しては、例えば、銅、コバルト、クロム、ニッケル、モ
リブデン、鉛、錫、鉄、チタン、バナジウム、亜鉛、ア
ルミニウム、マグネシウムなどを挙げることができる。
また、これらの金属から構成される合金、例えば、真
鍮、青銅、洋白、ジュラルミンなどを用いてもよい。さ
らに、これらの金属や合金を付着させた金属又は非金属
基盤、例えば、ブリキ、ニッケル又はクロムをメッキし
た金属、プラスチック、ガラスなどを用いてもよい。
Examples of metals that can be suitably used in the immersion plating process include copper, cobalt, chromium, nickel, molybdenum, lead, tin, iron, titanium, vanadium, zinc, aluminum and magnesium.
Further, alloys composed of these metals, for example, brass, bronze, nickel silver, duralumin, etc. may be used. Further, a metal or non-metal substrate to which these metals or alloys are attached, for example, tin, a metal plated with nickel or chromium, plastic, glass or the like may be used.

【0043】接触メッキ工程では、本発明の化合物又は
重合体組成物を用いて疎水性化合物などを分散し、該化
合物又は重合体組成物より金属イオンになり易い金属
と、該化合物又は重合体組成物より金属イオンになり難
い金属表面を有する基板とを、導線で結線して該分散液
中に浸漬することにより行うことができる。浸漬された
金属の表面から金属イオンが溶出してその表面に電子が
蓄積するが、その電子が導線を伝わって基板表面に移
り、基板表面で本発明の化合物又は重合体組成物が還元
されて、本発明の化合物又は重合体組成物の作用によっ
て分散されていた疎水性化合物が基板表面に付着して薄
膜が形成される。
In the contact plating step, the compound or polymer composition of the present invention is used to disperse a hydrophobic compound or the like, and a metal that is more likely to become a metal ion than the compound or polymer composition and the compound or polymer composition. It can be carried out by connecting a substrate having a metal surface that is less likely to become metal ions than other objects with a wire and immersing it in the dispersion liquid. Metal ions are eluted from the surface of the immersed metal and electrons are accumulated on the surface, but the electrons are transferred to the substrate surface through a conductive wire, and the compound or polymer composition of the present invention is reduced on the substrate surface. The hydrophobic compound dispersed by the action of the compound or the polymer composition of the present invention adheres to the surface of the substrate to form a thin film.

【0044】接触メッキ工程において好適に用いられる
金属としては、例えば、銅、コバルト、クロム、ニッケ
ル、モリブデン、鉛、錫、鉄、チタン、バナジウム、亜
鉛、アルミニウム、マグネシウムなどを挙げることがで
きる。また、基板としては、白金、金、銀、パラジウ
ム、ステンレススチールなどを用いることができるほ
か、金属以外の導電性基板として錫をドープした酸化イ
ンジウム(ITO) を被覆したプラスチック若しくはガラ
ス、アンチモンをドープした酸化錫を被覆したプラスチ
ック若しくはガラス、又は酸化チタン等の半導体を用い
ることができる。
Examples of the metal preferably used in the contact plating step include copper, cobalt, chromium, nickel, molybdenum, lead, tin, iron, titanium, vanadium, zinc, aluminum and magnesium. As the substrate, platinum, gold, silver, palladium, stainless steel, etc. can be used, and as a conductive substrate other than metal, tin-doped indium oxide (ITO) -coated plastic or glass, antimony-doped substrate is used. A plastic or glass coated with tin oxide, or a semiconductor such as titanium oxide can be used.

【0045】本発明の化合物又は重合体組成物は、例え
ば、カラーフィルター、電子写真感光体、光センサー、
太陽電池、エレクトロルミネッセンス素子、光記録媒
体、非線形光学素子、電気光学素子、フォトクロミック
薄膜、エレクトロクロミック素子、ガスセンサー、及
び、イオンセンサーなどの薄膜の形成に有用である。本
発明の化合物又は重合体組成物を用いることにより、バ
インダー樹脂や液状モノマーを低減することが可能であ
り、また、気化により分解しやすい疎水性物質または疎
水性機能材料、不揮発性の疎水性物質または疎水性機能
材料、熱により分解しやすい疎水性物質または疎水性機
能材料を用いて、容易に薄膜を製造することが可能であ
る。
The compound or polymer composition of the present invention can be used, for example, in color filters, electrophotographic photoreceptors, photosensors,
It is useful for forming thin films such as solar cells, electroluminescent devices, optical recording media, nonlinear optical devices, electro-optical devices, photochromic thin films, electrochromic devices, gas sensors, and ion sensors. By using the compound or the polymer composition of the present invention, it is possible to reduce the binder resin and the liquid monomer, and the hydrophobic substance or the hydrophobic functional material which is easily decomposed by vaporization, the nonvolatile hydrophobic substance. Alternatively, a thin film can be easily manufactured using a hydrophobic functional material, a hydrophobic substance that is easily decomposed by heat, or a hydrophobic functional material.

【0046】[0046]

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定され
ることはない。 例1:式(II)の重合体組成物 (R1=p-CH3(CH2)3-C6H4-;
R2=p-C6H4-; R3=CH2CH(OH)-CH2OH; m=22) の製造 水 200 ml に濃塩酸 87 ml及びアセトン 200 ml を混合
し、この混合物にp-n-ブチルアニリン 49.0 g (328 mmo
l)を良く攪拌しながら加えて溶解した。この溶液を冷却
して 0〜5 ℃に保ち、良く攪拌しながら、亜硝酸ナトリ
ウム 23.9 g (346 mmol)を水 93 mlに溶解した溶液を 3
0 分間で滴下し、ついで 20 分間攪拌してジアゾニウム
溶液を得た。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited to these Examples. Example 1: polymer composition of formula (II) (R 1 = p -CH 3 (CH 2) 3 -C 6 H 4 -;
R 2 = pC 6 H 4 - ; R 3 = CH 2 CH (OH) -CH 2 OH; m = 22) were mixed 200 ml of concentrated hydrochloric acid 87 ml and acetone produced water 200 ml of this mixture pn- Butylaniline 49.0 g (328 mmo
l) was added with sufficient stirring to dissolve. This solution was cooled and kept at 0 to 5 ° C, and while stirring well, a solution of 23.9 g (346 mmol) of sodium nitrite in 93 ml of water was added.
The solution was added dropwise over 0 minutes and then stirred for 20 minutes to obtain a diazonium solution.

【0047】一方、水 700 ml に炭酸ナトリウム 53.3
g (503 mmol)を溶解した溶液中にフェノール 30.9 (32
8 mmol) を溶解したカップラー溶液を 0〜5 ℃に保ち、
良く攪拌しながら、上記のジアゾニウム溶液を 30 分間
で滴下し、ついで1時間攪拌した。この反応液を濃塩酸
で中和し、析出した固形物を濾取し、水で洗浄して減圧
乾燥した。得られた固形物をベンゼンに溶解し、シリカ
ゲルカラム(シリカゲル60、メルク社製)へ展開した。
得られた画分をベンゼンで溶出して不純物を分離した
後、エタノール/ベンゼン混合溶液で抽出し、減圧下に
溶媒を留去して4-n-ブチル-4'-ヒドロキアゾベンゼンを
得た。
On the other hand, 53.3 ml of sodium carbonate was added to 700 ml of water.
In a solution of g (503 mmol), phenol 30.9 (32
(8 mmol) dissolved coupler solution is kept at 0-5 ℃,
The above-mentioned diazonium solution was added dropwise over 30 minutes while stirring well, and then stirred for 1 hour. The reaction solution was neutralized with concentrated hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by filtration, washed with water and dried under reduced pressure. The obtained solid was dissolved in benzene and developed on a silica gel column (silica gel 60, manufactured by Merck).
The obtained fraction was eluted with benzene to separate impurities, extracted with a mixed solution of ethanol / benzene, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 4-n-butyl-4'-hydroxyazobenzene.

【0048】窒素雰囲気下でテトラヒドロフラン 50 ml
に平均重合度 22 のポリエチレングリコール・ジグリシ
ジルエーテル(上記スキームにおいて、IVa で示される
化合物を主要成分とする重合生成物) 11.5 g (9.8 mmo
l)を溶解した。この溶液に水酸化テトラブチルアンモニ
ウム 0.13 g (0.5 mmol)と4-n-ブチル-4'-ヒドロキシア
ゾベンゼン 2.76 g (9.8 mmol)を加え、攪拌しつつ24時
間加熱還流した。得られた反応混合物に水 50 mlを加え
て攪拌下に24時間加熱還流した後、放冷して減圧下に溶
媒を留去した。残査に1-ブタノール及び水を加えて良く
攪拌してから分液し、有機層を減圧濃縮した。残査をク
ロロホルムに溶解してシリカゲルカラム(シリカゲル6
0、メルク社製)へ展開した。得られた画分をクロロホ
ルムで抽出して不純物を分離した後、さらにメタノール
/クロロホルム混合溶液で抽出し、減圧下に溶媒を留去
して式(I) の化合物(R1=p-CH3(CH2)3-C6H4-; R2=p-C6H4
-; R3=CH2CH(OH)-CH2OH; m=22)を主要成分とする重合体
組成物を得た。
50 ml of tetrahydrofuran under nitrogen atmosphere
Polyethylene glycol diglycidyl ether having an average degree of polymerization of 22 (polymerization product containing a compound represented by IVa in the above scheme as a main component) 11.5 g (9.8 mmo
l) was dissolved. Tetrabutylammonium hydroxide 0.13 g (0.5 mmol) and 4-n-butyl-4'-hydroxyazobenzene 2.76 g (9.8 mmol) were added to this solution, and the mixture was heated under reflux for 24 hours with stirring. 50 ml of water was added to the obtained reaction mixture, and the mixture was heated under reflux for 24 hours with stirring, allowed to cool, and the solvent was evaporated under reduced pressure. 1-Butanol and water were added to the residue, and the mixture was well stirred and then separated, and the organic layer was concentrated under reduced pressure. The residue is dissolved in chloroform and the silica gel column (silica gel 6
0, manufactured by Merck). The obtained fraction was extracted with chloroform to separate impurities, and then extracted with a mixed solution of methanol / chloroform, and the solvent was distilled off under reduced pressure to remove the compound of formula (I) (R 1 = p-CH 3 (CH 2) 3 -C 6 H 4 -; R 2 = pC 6 H 4
A polymer composition containing-; R 3 = CH 2 CH (OH) -CH 2 OH; m = 22) as a main component was obtained.

【0049】この重合体組成物をテトラヒドロフランに
溶解し、ゲル濾過クロマトグラフィー分析を行ったとこ
ろ、原料の4-ブチル-4'-ヒドロキアゾベンゼン及びポリ
エチレングリコール・ジグリシジルエーテルの加水分解
生成物は検出されず、これらの原料よりも保持時間の短
い(原料よりも分子量が大きい)幅広い主ピークが認め
られた。標準ポリスチレンを用いて分子量の検量線を作
成し、この主生成物の数平均分子量及び分子量分布(重
量平均分子量を数平均分子量で除した値)を求めたとこ
ろ、それぞれ 1450 及び 2.1であった。一方、原料のポ
リエチレングリコール・ジグリシジルエーテルの加水分
解生成物の数平均分子量及び分子量分布は、それぞれ 1
200 及び 2.1であった。従って、上記の重合体組成物
は、原料に比べて分子量が増加しているものの、分子量
分布にはほとんど変化がないことが確認された。図1に
重合体組成物の赤外線吸収スペクトルを示す。
When this polymer composition was dissolved in tetrahydrofuran and subjected to gel filtration chromatography analysis, the hydrolysis products of the starting materials 4-butyl-4'-hydroxyazobenzene and polyethylene glycol diglycidyl ether were detected. However, a broad main peak having a shorter retention time than these raw materials (having a larger molecular weight than the raw materials) was observed. A calibration curve of molecular weight was prepared using standard polystyrene, and the number average molecular weight and the molecular weight distribution (value obtained by dividing the weight average molecular weight by the number average molecular weight) of this main product were determined to be 1450 and 2.1, respectively. On the other hand, the number average molecular weight and molecular weight distribution of the hydrolysis product of the raw material polyethylene glycol diglycidyl ether are 1
It was 200 and 2.1. Therefore, it was confirmed that the above-mentioned polymer composition had an increased molecular weight as compared with the raw material, but had almost no change in the molecular weight distribution. FIG. 1 shows the infrared absorption spectrum of the polymer composition.

【0050】1H-NMR (200 MHz, 溶媒: CDCl3, 以下の
実施例において同じ) 0.91(3H, t) ブチル基の4-位(末端) 1.37(2H, m) ブチル基の3-位 1.64(2H, m) ブチル基の2-位 2.67(2H, t) ブチル基の1-位 3.42-3.96(95H, m) ポリオキシエチレン部分, 2,3-ジヒ
ドロキシプロパン-1- イル基(末端), R2 隣接2,3-ジヒ
ドロキシプロパン-1- イル基の3 位 4.01-4.25(3H, m) R2隣接2,3-ジヒドロキシプロパン-1
- イル基の1,2 位 7.02(2H, d) フェニレン(R2)のアゾ基のm-位 7.29(2H, d) フェニレン(R1)のアゾ基のm-位 7.79(2H, d) フェニレン(R1)のアゾ基のo-位 7.88(2H, d) フェニレン(R2)のアゾ基のo-位
1 H-NMR (200 MHz, solvent: CDCl 3 , the same in the following examples) 0.91 (3H, t) 4-position of butyl group (terminal) 1.37 (2H, m) 3-position of butyl group 1.64 (2H, m) 2-position of butyl group 2.67 (2H, t) 1-position of butyl group 3.42-3.96 (95H, m) Polyoxyethylene moiety, 2,3-dihydroxypropan-1-yl group (terminal ), R 2 adjacent 2 , 3-dihydroxypropan-1-yl group 3 position 4.01-4.25 (3H, m) R 2 adjacent 2,3-dihydroxypropane-1
-1,2-position of yl group 7.02 (2H, d) m-position of azo group of phenylene (R 2 ) 7.29 (2H, d) m-position of azo group of phenylene (R 1 ) 7.79 (2H, d) O-position of azo group of phenylene (R 1 ) 7.88 (2H, d) o-position of azo group of phenylene (R 2 ).

【0051】例2:式(II)の重合体組成物 (R1=p-CH3(C
H2)3-C6H4-; R2=p-C6H4-; R3=CH2CH(OH)-CH2OH; m=13)
の製造 ポリエチレングリコール・ジグリシジルエーテルとし
て、平均重合度が13のものを用いた他は、例1と同様に
して標題の重合体組成物を製造した。ゲル濾過クロマト
グラフィー分析を行ったところ、この重合体組成物の数
平均分子量及び分子量分布は、それぞれ 1050 及び 2.0
であった。一方、原料のポリエチレングリコール・ジグ
リシジルエーテルの加水分解生成物の数平均分子量及び
分子量分布は、それぞれ 800及び 2.0であった。従っ
て、上記の重合体組成物は、原料に比べて分子量が増加
しているものの、分子量分布にはほとんど変化がないこ
とが確認された。また、赤外線吸収スペクトルは例1の
重合体組成物と同一の結果を与え、1H-NMRの測定結果
は、ポリオキシエチレン部分と2,3-ジヒドロキシプロパ
ン-1- イル基に帰属される3.42 ppmから3.96 ppmのマル
チプレットの積分値が59Hである点を除いて例1の重合
体組成物の1H-NMRスペクトルと類似していた。1 H-NMR 0.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2H, m), 2.6
7(2H, t), 3.42-3.96(59H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.0
2(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H,d)
Example 2: Polymer composition of formula (II) (R 1 = p-CH 3 (C
H 2) 3 -C 6 H 4 -; R 2 = pC 6 H 4 -; R 3 = CH 2 CH (OH) -CH 2 OH; m = 13)
Production of Polyethylene Glycol Diglycidyl Ether A title polymer composition was produced in the same manner as in Example 1 except that the average degree of polymerization was 13. Gel filtration chromatography analysis showed that the polymer composition had a number average molecular weight and a molecular weight distribution of 1050 and 2.0, respectively.
Met. On the other hand, the number average molecular weight and molecular weight distribution of the hydrolysis product of the raw material polyethylene glycol diglycidyl ether were 800 and 2.0, respectively. Therefore, it was confirmed that the above-mentioned polymer composition had an increased molecular weight as compared with the raw material, but had almost no change in the molecular weight distribution. Further, the infrared absorption spectrum gives the same result as that of the polymer composition of Example 1, and the 1 H-NMR measurement result shows that the polyoxyethylene moiety and the 2,3-dihydroxypropan-1-yl group are 3.42. It was similar to the 1 H-NMR spectrum of the polymer composition of Example 1 except that the integral of the multiplet from ppm to 3.96 ppm was 59H. 1 H-NMR 0.91 (3H, t), 1.37 (2H, m), 1.64 (2H, m), 2.6
7 (2H, t), 3.42-3.96 (59H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.0
2 (2H, d), 7.29 (2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88 (2H, d)

【0052】例3:式(II)の重合体組成物 (R1=p-CH3(C
H2)5-C6H4-; R2=p-C6H4-; R3=CH2CH(OH)-CH2OH; m=22)
の製造 p-n-ブチルアニリンに替えてp-n-ヘキシルアニリンを用
いて4-n-ヘキシル-4'-ヒドロキシアゾベンゼンを例1の
方法に準じて合成し、平均重合度 22 のポリエチレング
リコール・ジグリシジルエーテルを用いて例1の方法に
より標題の重合体組成物を製造した。ゲル濾過クロマト
グラフィー分析を行ったところ、この重合体組成物の数
平均分子量及び分子量分布は、それぞれ 1500 及び 2.1
であった。一方、原料のポリエチレングリコール・ジグ
リシジルエーテルの加水分解生成物の数平均分子量及び
分子量分布は、それぞれ1200及び 2.1であった。従っ
て、上記の重合体組成物は、原料に比べて分子量が増加
しているものの、分子量分布にはほとんど変化がないこ
とが確認された。また、赤外線吸収スペクトルは例1の
重合体組成物と同一の結果を与え、1H-NMRの測定結果は
アルキル部分に帰属される1.37 ppmのマルチプレットの
積分値が 6H である点を除いて例1の重合体組成物の1H
-NMRスペクトルと類似していた。1 H-NMR 0.91(3H, t), 1.37(6H, m), 1.64(2H, m), 2.6
7(2H, t), 3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.0
2(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H,d)
Example 3: Polymer composition of formula (II) (R 1 = p-CH 3 (C
H 2) 5 -C 6 H 4 -; R 2 = pC 6 H 4 -; R 3 = CH 2 CH (OH) -CH 2 OH; m = 22)
Preparation of 4-n-hexyl-4'-hydroxyazobenzene was synthesized according to the method of Example 1 using pn-hexylaniline instead of pn-butylaniline, and polyethylene glycol diglycidyl ether having an average degree of polymerization of 22 was prepared. Was used to make the title polymer composition by the method of Example 1. Gel filtration chromatography analysis showed that the polymer composition had a number average molecular weight and a molecular weight distribution of 1500 and 2.1, respectively.
Met. On the other hand, the number average molecular weight and the molecular weight distribution of the hydrolysis product of the raw material polyethylene glycol diglycidyl ether were 1200 and 2.1, respectively. Therefore, it was confirmed that the above-mentioned polymer composition had an increased molecular weight as compared with the raw material, but had almost no change in the molecular weight distribution. Further, the infrared absorption spectrum gave the same result as that of the polymer composition of Example 1, and the measurement result of 1 H-NMR was that the integral value of the 1.37 ppm multiplet attributed to the alkyl moiety was 6H. 1 H of the polymer composition of Example 1
-Similar to NMR spectrum. 1 H-NMR 0.91 (3H, t), 1.37 (6H, m), 1.64 (2H, m), 2.6
7 (2H, t), 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.0
2 (2H, d), 7.29 (2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88 (2H, d)

【0053】上記の例1〜3の重合体組成物と同様にし
て製造した例4〜33の重合体組成物、並びに例34〜46の
式(I) の化合物の1H-NMRスペクトルデータを以下に示
す。なお、重合体組成物1〜33の主生成物である化合物
及び化合物34〜46の構造式は、好ましい化合物として前
記に示したものと同じである。 例4:0.91(3H, t), 1.37(10H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(147H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.0
2(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H,d) 例5:0.91(3H, t), 1.37(18H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(207H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.0
2(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H,d) 例6:1.28(9H, s), 3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.02(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88
(2H, d) 例7:0.91(6H, d), 1.37(1H, m), 1.64(2H, d), 3.42-
3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.29
(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H, d) 例8:1.31(3H, t), 3.42-3.96(97H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.02(2H, d), 7.05(2H, d), 7.81(2H, d), 7.88
(2H, d) 例9:0.91(3H, t), 1.24-2.04(4H, m), 3.42-3.96(97
H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.06(2H, d),
7.82(2H, d), 7.88(2H, d)
1 H-NMR spectral data of the polymer compositions of Examples 4 to 33 prepared in the same manner as the polymer compositions of Examples 1 to 3 above and the compounds of formula (I) of Examples 34 to 46 are shown. It is shown below. The structural formulas of the compounds which are the main products of the polymer compositions 1-33 and the compounds 34-46 are the same as those shown above as the preferable compounds. Example 4: 0.91 (3H, t), 1.37 (10H, m), 1.64 (2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96 (147H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.0
2 (2H, d), 7.29 (2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88 (2H, d) Example 5: 0.91 (3H, t), 1.37 (18H, m), 1.64 (2H, m) , 2.67
(2H, t), 3.42-3.96 (207H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.0
2 (2H, d), 7.29 (2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88 (2H, d) Example 6: 1.28 (9H, s), 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 ( 3
H, m), 7.02 (2H, d), 7.29 (2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88
(2H, d) Example 7: 0.91 (6H, d), 1.37 (1H, m), 1.64 (2H, d), 3.42-
3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.02 (2H, d), 7.29
(2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88 (2H, d) Example 8: 1.31 (3H, t), 3.42-3.96 (97H, m), 4.01-4.25 (3
H, m), 7.02 (2H, d), 7.05 (2H, d), 7.81 (2H, d), 7.88
(2H, d) Example 9: 0.91 (3H, t), 1.24-2.04 (4H, m), 3.42-3.96 (97
H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.02 (2H, d), 7.06 (2H, d),
7.82 (2H, d), 7.88 (2H, d)

【0054】例10:0.91(3H, t), 1.15-2.04(20H, m),
3.42-3.96(97H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d),
7.05(2H, d), 7.80(2H, d), 7.88(2H, d) 例11:0.91(9H, s), 3.42-3.96(97H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.02(2H, d), 7.06(2H, d), 7.81(2H, d), 7.88
(2H, d) 例12:0.91(6H, d), 1.78(1H, m), 3.42-3.96(97H, m),
4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.05(2H, d), 7.81
(2H, d), 7.88(2H, d) 例13:0.91(3H, t), 1.37(6H, m), 1.64(2H, m), 2.48
(3H, s), 2.67(2H, t), 3.42-3.96(90H, m), 4.01-4.25
(3H, m), 7.02(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.
88(2H, d) 例14:0.91(3H, t), 1.12(3H, t), 1.37(6H, m), 1.64
(2H, m), 2.35(3H, q), 2.67(2H, t), 3.42-3.96(90H,
m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.29(2H, d), 7.
79(2H, d), 7.88(2H, d) 例15:3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2
H, d), 7.45(1H, m), 7.51(2H, m), 7.89(2H, m), 7.92
(2H, d)
Example 10: 0.91 (3H, t), 1.15-2.04 (20H, m),
3.42-3.96 (97H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.02 (2H, d),
7.05 (2H, d), 7.80 (2H, d), 7.88 (2H, d) Example 11: 0.91 (9H, s), 3.42-3.96 (97H, m), 4.01-4.25 (3
H, m), 7.02 (2H, d), 7.06 (2H, d), 7.81 (2H, d), 7.88
(2H, d) Example 12: 0.91 (6H, d), 1.78 (1H, m), 3.42-3.96 (97H, m),
4.01-4.25 (3H, m), 7.02 (2H, d), 7.05 (2H, d), 7.81
(2H, d), 7.88 (2H, d) Example 13: 0.91 (3H, t), 1.37 (6H, m), 1.64 (2H, m), 2.48
(3H, s), 2.67 (2H, t), 3.42-3.96 (90H, m), 4.01-4.25
(3H, m), 7.02 (2H, d), 7.29 (2H, d), 7.79 (2H, d), 7.
88 (2H, d) Example 14: 0.91 (3H, t), 1.12 (3H, t), 1.37 (6H, m), 1.64
(2H, m), 2.35 (3H, q), 2.67 (2H, t), 3.42-3.96 (90H,
m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.02 (2H, d), 7.29 (2H, d), 7.
79 (2H, d), 7.88 (2H, d) Example 15: 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.02 (2
H, d), 7.45 (1H, m), 7.51 (2H, m), 7.89 (2H, m), 7.92
(2H, d)

【0055】例16:0.91(9H, s), 2.28(2H, s), 3.42-
3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.29(2H, d), 7.36-
7.43(2H, m), 7.55-7.63(2H, m), 7.79(2H, m) 例17:1.34(9H, s), 3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 6.98-7.10(4H, m), 7.79(2H, d), 7.88(1H, m),
7.94(1H, m) 例18:0.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(95H,m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02
(2H, d), 7.34(1H, m), 7.45-7.52(3H, m), 7.88(2H,
d) 例19:0.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(95H,m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02
(2H, d), 7.23(2H, m), 7.62(1H, m), 7.79(1H, m), 7.
88(2H, d) 例20:O.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2H, m), 2.25
(3H, s), 2.67(2H, t), 3.42-3.96(98H, m), 4.01-4.25
(3H, m), 6.72(1H, s), 6.88(1H, d), 7.10(1H, s), 7.
29(1H, d), 7.56(1H, d), 7.66(1H, d)
Example 16: 0.91 (9H, s), 2.28 (2H, s), 3.42-
3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.29 (2H, d), 7.36-
7.43 (2H, m), 7.55-7.63 (2H, m), 7.79 (2H, m) Example 17: 1.34 (9H, s), 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3
H, m), 6.98-7.10 (4H, m), 7.79 (2H, d), 7.88 (1H, m),
7.94 (1H, m) Example 18: 0.91 (3H, t), 1.37 (2H, m), 1.64 (2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.02
(2H, d), 7.34 (1H, m), 7.45-7.52 (3H, m), 7.88 (2H,
d) Example 19: 0.91 (3H, t), 1.37 (2H, m), 1.64 (2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.02
(2H, d), 7.23 (2H, m), 7.62 (1H, m), 7.79 (1H, m), 7.
88 (2H, d) Example 20: O.91 (3H, t), 1.37 (2H, m), 1.64 (2H, m), 2.25
(3H, s), 2.67 (2H, t), 3.42-3.96 (98H, m), 4.01-4.25
(3H, m), 6.72 (1H, s), 6.88 (1H, d), 7.10 (1H, s), 7.
29 (1H, d), 7.56 (1H, d), 7.66 (1H, d)

【0056】例21:0.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2
H, m), 2.25(3H, s), 2.67(2H, t), 3.42-3.96(95H,
m), 4.01-4.25(3H, m), 6.90(1H, s), 7.12(1H, s), 7.
22(1H, d), 7.28(1H, s), 7.88(1H, d), 7.95(1H, d) 例22:1.10-2.10(14H, m), 2.75(5H, m), 3.42-3.96(96
H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.82(1H, d), 7.02(2H, d),
7.66(1H, d), 7.82(2H, d) 例23:2.25(3H, s), 3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 6.71(1H, d), 7.45(1H, m), 7.51(2H, m), 7.59
(1H, s), 7.66(1H, d), 7.89(2H, m) 例24:0.91(3H, t), 1.03(3H, t), 1.37(6H, m), 1.64
(2H, m), 2.23(2H, q), 2.53(3H, s), 2.67(2H, t), 3.
42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.89(1H, s), 7.
00(1H, s), 7.19(1H, s), 7.33(1H, s) 例25:1.31(3H, t), 3.42-3.96(97H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.02(1H, d), 7.12(2H, d), 7.42-7.70(6H, m),
7.75(1H, d)
Example 21: 0.91 (3H, t), 1.37 (2H, m), 1.64 (2
H, m), 2.25 (3H, s), 2.67 (2H, t), 3.42-3.96 (95H,
m), 4.01-4.25 (3H, m), 6.90 (1H, s), 7.12 (1H, s), 7.
22 (1H, d), 7.28 (1H, s), 7.88 (1H, d), 7.95 (1H, d) Example 22: 1.10-2.10 (14H, m), 2.75 (5H, m), 3.42-3.96 ( 96
H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 6.82 (1H, d), 7.02 (2H, d),
7.66 (1H, d), 7.82 (2H, d) Example 23: 2.25 (3H, s), 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3
H, m), 6.71 (1H, d), 7.45 (1H, m), 7.51 (2H, m), 7.59
(1H, s), 7.66 (1H, d), 7.89 (2H, m) Example 24: 0.91 (3H, t), 1.03 (3H, t), 1.37 (6H, m), 1.64
(2H, m), 2.23 (2H, q), 2.53 (3H, s), 2.67 (2H, t), 3.
42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 6.89 (1H, s), 7.
00 (1H, s), 7.19 (1H, s), 7.33 (1H, s) Example 25: 1.31 (3H, t), 3.42-3.96 (97H, m), 4.01-4.25 (3
H, m), 7.02 (1H, d), 7.12 (2H, d), 7.42-7.70 (6H, m),
7.75 (1H, d)

【0057】例26:3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H,
m), 6.83(1H, d), 6.90(1H, d), 7.12-7.80(7H, m),
7.85(1H, d), 7.90(1H, d), 8.06(1H, d), 8.15(1H, d) 例27:3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.83(1
H, s), 6.88(1H, s), 7.12-7.70(9H, m), 7.85(1H, d),
7.90(1H, s) 例28:2.09(2H, t), 2.91(4H, t), 3.42-3.96(95H, m),
4.01-4.25(3H, m), 6.85(1H, s), 7.05(1H, s), 7.12-
7.80(5H, m), 8.06(1H, d), 8.60(1H, d) 例29:2.51(3H, s), 3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.03(1H, d), 7.05(1H, d), 7.22-7.80(8H, m),
7.85(1H, s), 7.90(1H, d) 例30:1.31(3H, t), 3.42-3.96(97H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.03(1H, s), 7.05(1H, d), 7.12(1H, d), 7.42
-7.70(6H, m), 7.85(1H, d), 7.90(1H, s), 7.90(1H,
d)
Example 26: 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H,
m), 6.83 (1H, d), 6.90 (1H, d), 7.12-7.80 (7H, m),
7.85 (1H, d), 7.90 (1H, d), 8.06 (1H, d), 8.15 (1H, d) Example 27: 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 6.83 ( 1
H, s), 6.88 (1H, s), 7.12-7.70 (9H, m), 7.85 (1H, d),
7.90 (1H, s) Example 28: 2.09 (2H, t), 2.91 (4H, t), 3.42-3.96 (95H, m),
4.01-4.25 (3H, m), 6.85 (1H, s), 7.05 (1H, s), 7.12-
7.80 (5H, m), 8.06 (1H, d), 8.60 (1H, d) Example 29: 2.51 (3H, s), 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3
H, m), 7.03 (1H, d), 7.05 (1H, d), 7.22-7.80 (8H, m),
7.85 (1H, s), 7.90 (1H, d) Example 30: 1.31 (3H, t), 3.42-3.96 (97H, m), 4.01-4.25 (3
H, m), 7.03 (1H, s), 7.05 (1H, d), 7.12 (1H, d), 7.42
-7.70 (6H, m), 7.85 (1H, d), 7.90 (1H, s), 7.90 (1H,
d)

【0058】例31:3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H,
m), 6.83(1H, d), 7.12-7.80(13H, m), 7.88(1H, d),
7.99(1H, d), 8.06(1H, d) 例32:3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.85(1
H, d), 7.22-7.80(11H, m), 7.86(2H, s), 8.06(1H, d) 例33:3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.85(1
H, d), 7.10-7.77(11H, m), 7.88(2H, s), 8.10(1H, d) 例34:0.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(27H,m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02
(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H, d) 例35:0.91(3H, t), 1.37(2H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(59H,m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02
(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H, d)
Example 31: 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H,
m), 6.83 (1H, d), 7.12-7.80 (13H, m), 7.88 (1H, d),
7.99 (1H, d), 8.06 (1H, d) Example 32: 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 6.85 (1
H, d), 7.22-7.80 (11H, m), 7.86 (2H, s), 8.06 (1H, d) Example 33: 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 6.85 ( 1
H, d), 7.10-7.77 (11H, m), 7.88 (2H, s), 8.10 (1H, d) Example 34: 0.91 (3H, t), 1.37 (2H, m), 1.64 (2H, m) , 2.67
(2H, t), 3.42-3.96 (27H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.02
(2H, d), 7.29 (2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88 (2H, d) Example 35: 0.91 (3H, t), 1.37 (2H, m), 1.64 (2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96 (59H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.02
(2H, d), 7.29 (2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88 (2H, d)

【0059】例36:0.91(3H, t), 1.37(6H, m), 1.64(2
H, m), 2.67(2H, t), 3.42-3.96(95H,m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.02(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88
(2H, d) 例37:0.91(3H, t), 1.37(10H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(147H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.0
2(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H,d) 例38:0.91(3H, t), 1.37(18H, m), 1.64(2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96(187H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.0
2(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H,d) 例39:1.28(9H, s), 3.42-3.96(247H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.02(2H, d), 7.29(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88
(2H, d) 例40:0.91(6H, d), 1.37(1H, m), 1.64(2H, d), 3.42-
3.96(287H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.29
(2H, d), 7.79(2H, d), 7.88(2H, d)
Example 36: 0.91 (3H, t), 1.37 (6H, m), 1.64 (2
H, m), 2.67 (2H, t), 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3
H, m), 7.02 (2H, d), 7.29 (2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88
(2H, d) Example 37: 0.91 (3H, t), 1.37 (10H, m), 1.64 (2H, m), 2.67
(2H, t), 3.42-3.96 (147H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.0
2 (2H, d), 7.29 (2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88 (2H, d) Example 38: 0.91 (3H, t), 1.37 (18H, m), 1.64 (2H, m) , 2.67
(2H, t), 3.42-3.96 (187H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.0
2 (2H, d), 7.29 (2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88 (2H, d) Example 39: 1.28 (9H, s), 3.42-3.96 (247H, m), 4.01-4.25 ( 3
H, m), 7.02 (2H, d), 7.29 (2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88
(2H, d) Example 40: 0.91 (6H, d), 1.37 (1H, m), 1.64 (2H, d), 3.42-
3.96 (287H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.02 (2H, d), 7.29
(2H, d), 7.79 (2H, d), 7.88 (2H, d)

【0060】例41:1.31(3H, t), 3.42-3.96(61H, m),
4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.05(2H, d), 7.81(2
H, d), 7.88(2H, d) 例42:0.91(3H, t), 1.24-2.04(4H, m), 3.42-3.96(209
H, m), 4.01-4.25(3H, m), 7.02(2H, d), 7.06(2H, d),
7.82(2H, d), 7.88(2H, d) 例43:0.91(3H, t), 1.15-2.04(20H, m), 3.42-3.96(16
9H, m), 4.01-4.25(3H,m), 7.02(2H, d), 7.05(2H, d),
7.80(2H, d), 7.88(2H, d) 例44:3.42-3.96(167H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.83(1
H, d), 6.90(1H, d), 7.12-7.80(7H, m), 7.85(1H, d),
7.90(1H, d), 8.06(1H, d), 8.15(1H, d) 例45:2.51(3H, s), 3.42-3.96(47H, m), 4.01-4.25(3
H, m), 7.03(1H, d), 7.05(1H, d), 7.22-7.80(8H, m),
7.85(1H, s), 7.90(1H, d) 例46:3.42-3.96(95H, m), 4.01-4.25(3H, m), 6.85(1
H, d), 7.10-7.77(11H, m), 7.88(2H, s), 8.10(1H, d)
Example 41: 1.31 (3H, t), 3.42-3.96 (61H, m),
4.01-4.25 (3H, m), 7.02 (2H, d), 7.05 (2H, d), 7.81 (2
H, d), 7.88 (2H, d) Example 42: 0.91 (3H, t), 1.24-2.04 (4H, m), 3.42-3.96 (209
H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.02 (2H, d), 7.06 (2H, d),
7.82 (2H, d), 7.88 (2H, d) Example 43: 0.91 (3H, t), 1.15-2.04 (20H, m), 3.42-3.96 (16
9H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 7.02 (2H, d), 7.05 (2H, d),
7.80 (2H, d), 7.88 (2H, d) Example 44: 3.42-3.96 (167H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 6.83 (1
H, d), 6.90 (1H, d), 7.12-7.80 (7H, m), 7.85 (1H, d),
7.90 (1H, d), 8.06 (1H, d), 8.15 (1H, d) Example 45: 2.51 (3H, s), 3.42-3.96 (47H, m), 4.01-4.25 (3
H, m), 7.03 (1H, d), 7.05 (1H, d), 7.22-7.80 (8H, m),
7.85 (1H, s), 7.90 (1H, d) Example 46: 3.42-3.96 (95H, m), 4.01-4.25 (3H, m), 6.85 (1
H, d), 7.10-7.77 (11H, m), 7.88 (2H, s), 8.10 (1H, d)

【0061】例47:電解法による薄膜の製造 粉末状態を走査型電子顕微鏡で観察したときの粒子の最
大径が0.2 μm 以下であり、粉末X線回折のパターンが
公知のβ型の結晶型に帰属される銅フタロシアニンを用
いて薄膜を製造した。銅フタロシアニンと例1の重合体
組成物を水中に加え、支持電解質として塩酸を添加した
後に超音波照射して分散液を製造した。分散液中におけ
る各成分の濃度は、重合体組成物 0.68 g/dm3 (0.5 mmo
l/dm3)、銅フタロシアニン 5 mmol/dm3 、支持電解質
0.1 mol/dm3であった。
Example 47: Production of thin film by electrolytic method The maximum diameter of particles when observed in a scanning electron microscope was 0.2 μm or less, and the powder X-ray diffraction pattern was in a known β-type crystal form. A thin film was prepared using the assigned copper phthalocyanine. Copper phthalocyanine and the polymer composition of Example 1 were added to water, and hydrochloric acid was added as a supporting electrolyte, followed by ultrasonic irradiation to prepare a dispersion liquid. The concentration of each component in the dispersion liquid is 0.68 g / dm 3 (0.5 mmo
l / dm 3 ), copper phthalocyanine 5 mmol / dm 3 , supporting electrolyte
It was 0.1 mol / dm 3 .

【0062】この分散液を特開平7-179773号公報の図4
に示す電解槽に仕込み、幅 10 mm、長辺 20 mm、厚さ
1.1 mm のガラス板の一面に形成されたインジウム・錫
複合酸化物薄膜(ITO) を分散液に長辺方向に 10 mm浸漬
してカソードとした。白金網線をアノード、飽和甘コウ
電極(SCE) を参照電極として、ポテンショスタットでIT
O 電極への印加電圧を-0.5 V (対SCE)に調節し、温度25
℃で定電圧電解してクーロメーターで電気量を測定し
た。電解開始後約30分で30ミリクーロンの電気量を消費
し、ITO 電極上に緑味青色の薄膜(幅 10 mm、長さ10 m
m )が形成された。電解終了後、ITO 電極を引き上げて
イオン交換水で洗浄し、60℃に制御した送風式乾燥機中
で乾燥した。
This dispersion is shown in FIG. 4 of JP-A-7-179773.
Prepared in the electrolytic cell shown in, width 10 mm, long side 20 mm, thickness
An indium-tin composite oxide thin film (ITO) formed on one surface of a 1.1 mm glass plate was immersed in the dispersion liquid for 10 mm in the long side direction to form a cathode. The platinum mesh wire is used as an anode, and the saturated sweet koh electrode (SCE) is used as a reference electrode.
Adjust the voltage applied to the O electrode to -0.5 V (against SCE) and
Constant voltage electrolysis was performed at ℃ and the amount of electricity was measured by a coulometer. About 30 minutes after the start of electrolysis, 30 millicoulombs of electricity was consumed, and a greenish blue thin film (width 10 mm, length 10 m) on the ITO electrode.
m) was formed. After the electrolysis was completed, the ITO electrode was pulled up, washed with ion-exchanged water, and dried in a blast dryer controlled at 60 ° C.

【0063】この膜の表面および断面を走査型電子顕微
鏡(倍率1万倍)で観察したところ、最大粒子径 0.2μ
m以下の粒子が密集して多孔性の膜を形成していること
が認められた。また、この膜の透過スペクトルパターン
およびX線回折パターンは、同質のITO 電極上にβ型銅
フタロシアニン分散液を塗工法で成膜したものと一致し
ており、顔料(β型銅フタロシアニン)の粒子径および
結晶型を変えずに、薄膜を製造できることが確認され
た。
When the surface and cross section of this film were observed with a scanning electron microscope (magnification: 10,000 times), the maximum particle size was 0.2 μm.
It was confirmed that particles of m or less were densely packed to form a porous film. The transmission spectrum pattern and X-ray diffraction pattern of this film are consistent with those of the same quality ITO electrode formed by coating the β-type copper phthalocyanine dispersion liquid by a coating method, and the pigment (β-type copper phthalocyanine) particles It was confirmed that a thin film can be produced without changing the diameter and crystal type.

【0064】例48:電解法による薄膜の形成(比較例) 対照組成物として、特開平7-179773号公報に記載された
合成例1の方法に準じて、 p-CH3(CH2)3-C6H4-N=N-p-C6
H4-O-(CH2)2-O-(CH2CH2O)22-H を主成分とする重合体組
成物を製造した。この対照重合体組成物及び例1の重合
体組成物 [p-CH3(CH2)3-C6H4-N=N-p-C6H4-O-CH2CH(OH)-
CH2-O-(CH2CH2O)22-CH2CH(OH)-CH2OH]をそれぞれ用い、
銅フタロシアニンを 20 mMまたは 15 mMとし、重合体組
成物 2 mM 、支持電解質 0.1 Mとして、例47の方法に準
じて薄膜を形成させた。この結果、対照重合体組成物を
用いた場合には、銅フタロシアニン濃度 20 mMでは薄膜
が形成されたが、15 mM の濃度では薄膜は形成できなか
った。一方、本発明の重合体組成物を用いた場合には、
銅フタロシアニン濃度 20 mM及び15 mM のいずれにおい
ても良好な薄膜が形成された。従って、本発明の重合体
組成物を用いると、広い銅フタロシアニン濃度で製膜が
可能である。
Example 48: Formation of thin film by electrolytic method (comparative example) As a control composition, p-CH 3 (CH 2 ) 3 was prepared according to the method of Synthesis Example 1 described in JP-A-7-179773. -C 6 H 4 -N = NpC 6
A polymer composition containing H 4 -O- (CH 2 ) 2 -O- (CH 2 CH 2 O) 22 -H as the main component was produced. This control polymer composition and Example 1 of the polymer composition [p-CH 3 (CH 2 ) 3 -C 6 H 4 -N = NpC 6 H 4 -O-CH 2 CH (OH) -
CH 2 -O- (CH 2 CH 2 O) 22 -CH 2 CH (OH) -CH 2 OH],
A thin film was formed according to the method of Example 47 using copper phthalocyanine at 20 mM or 15 mM, polymer composition at 2 mM, and supporting electrolyte at 0.1 M. As a result, when the control polymer composition was used, a thin film was formed at a copper phthalocyanine concentration of 20 mM, but a thin film could not be formed at a concentration of 15 mM. On the other hand, when the polymer composition of the present invention is used,
Good thin films were formed at both copper phthalocyanine concentrations of 20 mM and 15 mM. Therefore, by using the polymer composition of the present invention, it is possible to form a film with a wide concentration of copper phthalocyanine.

【0065】例49:無電解法による薄膜の製造(浸漬メ
ッキ) 例47と同様の方法で銅フタロシアニンの分散液を調製し
た。ただし、例1の重合体組成物の濃度を 2 mM とし、
β型銅フタロシアニン濃度を 20 mMとした。幅10 mm、
長辺 30 mm、厚さ 0.3 mm の銅板の先端 20 mmをこの分
散液に25℃で20分間浸漬し、銅板上に緑青色の薄膜(幅
10 mm、長さ 20 mm) を形成させた。この後、例47と同
様の方法で乾燥した。得られた薄膜を走査型電子顕微鏡
で観察したところ、例47と同様の結果が得られていた。
また、この薄膜を 5 mmol/リットルの Brij35 水溶液に
分散した溶液の透過スペクトルは、使用したβ型銅フタ
ロシアニンを 5 mmol/リットルの Brij35 水溶液に分散
したものと一致していた。従って、この方法によれば、
β型銅フタロシアニンの粒子径及び結晶型を変えずに薄
膜を製造できることが確認された。
Example 49: Production of thin film by electroless method (immersion plating) A copper phthalocyanine dispersion was prepared in the same manner as in Example 47. However, the concentration of the polymer composition of Example 1 was 2 mM,
The β-type copper phthalocyanine concentration was set to 20 mM. Width 10 mm,
A 20 mm tip of a copper plate with a long side of 30 mm and a thickness of 0.3 mm is immersed in this dispersion liquid for 20 minutes at 25 ° C, and a green-blue thin film (width
10 mm, length 20 mm). Then, it was dried in the same manner as in Example 47. When the obtained thin film was observed with a scanning electron microscope, the same results as in Example 47 were obtained.
In addition, the transmission spectrum of the solution obtained by dispersing this thin film in a 5 mmol / liter Brij35 aqueous solution was in agreement with that of the β-type copper phthalocyanine used, which was dispersed in a 5 mmol / liter Brij35 aqueous solution. Therefore, according to this method,
It was confirmed that a thin film can be produced without changing the particle size and crystal form of β-type copper phthalocyanine.

【0066】例50:無電解法による薄膜の製造(浸漬メ
ッキ:比較例) 例1の重合体組成物と例48で用いた対照組成物とを用い
て、例49の方法に従って浸漬メッキを行った。各重合体
組成物の濃度を 2 mM 、β型銅フタロシアニン濃度を 2
0 mM又は 15 mMとして、支持電解質濃度を 0.1 mM とし
た。その結果、対照重合体組成物を用いた場合には、銅
フタロシアニン濃度 20 mMでは薄膜が形成されたが、15
mM の濃度では薄膜は形成できなかった。一方、本発明
の重合体組成物を用いた場合には、銅フタロシアニン濃
度 20 mM及び15 mM のいずれにおいても良好な薄膜が形
成された。従って、本発明の重合体組成物を用いると、
浸漬メッキ法により広い銅フタロシアニン濃度で製膜が
可能であることが確認された。
Example 50: Production of thin film by electroless method (immersion plating: comparative example) Using the polymer composition of Example 1 and the control composition used in Example 48, immersion plating is carried out according to the method of Example 49. It was The concentration of each polymer composition was 2 mM, and the concentration of β-type copper phthalocyanine was 2
The supporting electrolyte concentration was 0.1 mM with 0 mM or 15 mM. As a result, when the control polymer composition was used, a thin film was formed at a copper phthalocyanine concentration of 20 mM.
A thin film could not be formed at the concentration of mM. On the other hand, when the polymer composition of the present invention was used, good thin films were formed at both copper phthalocyanine concentrations of 20 mM and 15 mM. Therefore, using the polymer composition of the present invention,
It was confirmed by the immersion plating method that a film could be formed with a wide copper phthalocyanine concentration.

【0067】例51:無電解法による薄膜の製造(接触メ
ッキ) 例47と同様の方法で銅フタロシアニンの分散液を調製し
た。ただし、例1の重合体組成物の濃度を 2 mM とし、
β型銅フタロシアニン濃度を 20 mMとした。幅10 mm、
長辺 20 mm、厚さ 1.1 mm のガラス板の一面に形成され
たインジウム・錫複合酸化物薄膜(ITO) 及び該ガラス板
と同じ大きさのアルミニウム板を重ね、両者の上部を金
属製のクリップで挟んで、先端 20 mmを分散液に25℃で
20分間浸漬し、ITO 膜上に緑青色の薄膜(幅 10 mm、長
さ 20 mm) を形成させた。この後、例47と同様の方法で
乾燥と分析を行ったところ例47と同様の結果が得られて
いた。従って、この方法によればβ型銅フタロシアニン
の粒子径及び結晶型を変えずに薄膜を製造できることが
明らかである。
Example 51: Production of Thin Film by Electroless Method (Contact Plating) A copper phthalocyanine dispersion was prepared in the same manner as in Example 47. However, the concentration of the polymer composition of Example 1 was 2 mM,
The β-type copper phthalocyanine concentration was set to 20 mM. Width 10 mm,
An indium-tin complex oxide thin film (ITO) formed on one surface of a glass plate with a long side of 20 mm and a thickness of 1.1 mm and an aluminum plate of the same size as the glass plate are stacked, and the upper part of both is clipped with a metal clip. And place the tip 20 mm into the dispersion at 25 ° C.
It was dipped for 20 minutes to form a green-blue thin film (width 10 mm, length 20 mm) on the ITO film. Thereafter, when drying and analysis were carried out in the same manner as in Example 47, the same results as in Example 47 were obtained. Therefore, it is clear that according to this method, a thin film can be produced without changing the particle size and crystal form of β-type copper phthalocyanine.

【0068】例52:無電解法による薄膜の製造(接触メ
ッキ:比較例) 例1の重合体組成物と例48で用いた対照組成物とを用い
て、例51の方法に従って接触メッキを行った。各重合体
組成物の濃度を 2 mM 、β型銅フタロシアニン濃度を 2
0 mM又は 15 mMとし、支持電解質の濃度を 0.1 mM とし
た。その結果、対照重合体組成物を用いた場合には、銅
フタロシアニン濃度 20 mMでは薄膜が形成されたが、15
mM の濃度では薄膜は形成できなかった。一方、本発明
の重合体組成物を用いた場合には、銅フタロシアニン濃
度 20 mM及び15 mM のいずれにおいても良好な薄膜が形
成された。従って、本発明の重合体組成物を用いると、
接触メッキ法により広い銅フタロシアニン濃度で製膜が
可能であることが確認された。
Example 52: Production of a thin film by electroless method (contact plating: comparative example) Using the polymer composition of Example 1 and the control composition used in Example 48, contact plating is carried out according to the method of Example 51. It was The concentration of each polymer composition was 2 mM, and the concentration of β-type copper phthalocyanine was 2
The concentration of the supporting electrolyte was set to 0 mM or 15 mM and 0.1 mM. As a result, when the control polymer composition was used, a thin film was formed at a copper phthalocyanine concentration of 20 mM.
A thin film could not be formed at the concentration of mM. On the other hand, when the polymer composition of the present invention was used, good thin films were formed at both copper phthalocyanine concentrations of 20 mM and 15 mM. Therefore, using the polymer composition of the present invention,
It was confirmed by the contact plating method that a film could be formed with a wide copper phthalocyanine concentration.

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明の化合物及び重合体組成物は、疎
水性物質や疎水性機能材料の薄膜の形成に有用である。
特に、本発明の化合物及び重合体組成物は、容易に入手
可能な原料から短工程で簡便かつ安価に製造することが
できる他、種々の濃度の疎水性物質や疎水性機能材料を
含む分散液や溶液から薄膜を製造できるという特徴があ
る。特に、本発明の化合物及び重合体組成物は、浸漬メ
ッキ法や接触メッキ法などの無電解法による薄膜形成工
程において好適に使用することができ、極めて簡単な操
作で高品質な薄膜を形成できるという特徴がある。
Industrial Applicability The compound and polymer composition of the present invention are useful for forming a thin film of a hydrophobic substance or a hydrophobic functional material.
In particular, the compound and the polymer composition of the present invention can be produced easily and inexpensively from easily available raw materials in a short process, and also a dispersion liquid containing various concentrations of a hydrophobic substance or a hydrophobic functional material. The feature is that a thin film can be produced from a solution or solution. In particular, the compound and the polymer composition of the present invention can be suitably used in a thin film forming step by an electroless method such as an immersion plating method or a contact plating method, and can form a high quality thin film by an extremely simple operation. There is a feature called.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の重合体組成物 (R1=p-CH3(CH2)3-C6H
4-; R2=p-C6H4-; R3=CH2CH(OH)-CH2OH; m=22) の赤外線
吸収スペクトルを示す図である。
FIG. 1 shows a polymer composition of the present invention (R 1 = p-CH 3 (CH 2 ) 3 -C 6 H
FIG. 4 is a diagram showing an infrared absorption spectrum of 4 −; R 2 = pC 6 H 4 −; R 3 = CH 2 CH (OH) —CH 2 OH; m = 22).

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記の式: R1-N=N-R2-O-CH2-CH(OH)-CH2-O-(-CH2CH2O-)n -R3 (式中、R1は置換基を有していてもよいC6-14 アリール
基を示し;R2は置換基を有していてもよいC6-14 アリー
ルジイル基を示し;R3は水酸基を有するC3-6アルキル
基、C1-6アルキルカルボニル基、又は C6-14アリールカ
ルボニル基を示し;n は 1〜100 の整数を示す)で示さ
れる化合物。
1. The following formula: R 1 -N = NR 2 -O-CH 2 -CH (OH) -CH 2 -O-(-CH 2 CH 2 O-) n -R 3 (wherein R 1 represents an optionally substituted C 6-14 aryl group; R 2 represents an optionally substituted C 6-14 aryldiyl group; R 3 represents a hydroxyl group-containing C 3- 6 alkyl group, C 1-6 alkylcarbonyl group, or C 6-14 arylcarbonyl group; and n represents an integer of 1 to 100).
【請求項2】 R1がフェニル基又はナフチル基(これら
の基はC1-12 アルキル基及びC1-12 アルコキシ基からな
る群から選ばれる置換基を有していてもよい)であり、
R2がフェニレン基若しくはナフタレンジイル基であり、
R3がC1-6アルキルカルボニル基、ベンゾイル基、及び2,
3-ジヒドロキシプロパン-1- イル基からなる群から選ば
れる基であり、n が10〜70の整数である請求項1に記載
の化合物。
2. R 1 is a phenyl group or a naphthyl group (these groups may have a substituent selected from the group consisting of a C 1-12 alkyl group and a C 1-12 alkoxy group),
R 2 is a phenylene group or a naphthalenediyl group,
R 3 is a C 1-6 alkylcarbonyl group, a benzoyl group, and 2,
The compound according to claim 1, wherein the compound is a group selected from the group consisting of 3-dihydroxypropan-1-yl group, and n is an integer of 10 to 70.
【請求項3】 請求項1又は2に記載の化合物からなる
薄膜形成剤。
3. A thin film-forming agent comprising the compound according to claim 1 or 2.
【請求項4】 下記の式: R1-N=N-R2-O-CH2-CH(OH)-CH2-O-(-CH2CH2O-)m -R3 (式中、R1は置換基を有していてもよいC6-14 アリール
基を示し;R2は置換基を有していてもよいC6-14 アリー
ルジイル基を示し;R3は水酸基を有するC3-6アルキル
基、C1-6アルキルカルボニル基、又は C6-14アリールカ
ルボニル基を示し;m は10〜100 の範囲から選択される
平均重合度を示す)で示される重合体組成物。
4. The following formula: R 1 -N = NR 2 -O-CH 2 -CH (OH) -CH 2 -O-(-CH 2 CH 2 O-) m -R 3 (wherein R 1 represents an optionally substituted C 6-14 aryl group; R 2 represents an optionally substituted C 6-14 aryldiyl group; R 3 represents a hydroxyl group-containing C 3- 6 alkyl group, C 1-6 alkylcarbonyl group, or C 6-14 arylcarbonyl group; and m represents an average degree of polymerization selected from the range of 10 to 100).
【請求項5】 R1がフェニル基又はナフチル基(これら
の基はC1-12 アルキル基及びC1-12 アルコキシ基からな
る群から選ばれる置換基を有していてもよい)であり、
R2がフェニレン基若しくはナフタレンジイル基であり、
R3がC1-6アルキルカルボニル基、ベンゾイル基、及び2,
3-ジヒドロキシプロパン-1- イル基からなる群から選ば
れる基であり、m が10〜50の範囲である請求項4に記載
の重合体組成物。
5. R 1 is a phenyl group or a naphthyl group (these groups may have a substituent selected from the group consisting of a C 1-12 alkyl group and a C 1-12 alkoxy group),
R 2 is a phenylene group or a naphthalenediyl group,
R 3 is a C 1-6 alkylcarbonyl group, a benzoyl group, and 2,
The polymer composition according to claim 4, which is a group selected from the group consisting of 3-dihydroxypropan-1-yl groups and m is in the range of 10 to 50.
【請求項6】 請求項4又は5に記載の重合体組成物か
らなる薄膜形成剤。
6. A thin film forming agent comprising the polymer composition according to claim 4.
【請求項7】 無電解薄膜形成工程に用いる請求項6に
記載の薄膜形成剤。
7. The thin film forming agent according to claim 6, which is used in an electroless thin film forming step.
【請求項8】 無電解薄膜形成工程が浸漬メッキ工程又
は接触メッキ工程である請求項7に記載の薄膜形成剤。
8. The thin film forming agent according to claim 7, wherein the electroless thin film forming step is an immersion plating step or a contact plating step.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006063372A (en) * 2004-08-25 2006-03-09 Tokyo Institute Of Technology Thin film manufacturing method
JP2008527462A (en) * 2005-01-18 2008-07-24 ミリケン・アンド・カンパニー Color toner composition and developer composition and methods for making and using such compositions

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