JPH03264683A - Production of disilane - Google Patents

Production of disilane

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JPH03264683A
JPH03264683A JP2158224A JP15822490A JPH03264683A JP H03264683 A JPH03264683 A JP H03264683A JP 2158224 A JP2158224 A JP 2158224A JP 15822490 A JP15822490 A JP 15822490A JP H03264683 A JPH03264683 A JP H03264683A
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disilane
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庄野 達哉
Shigefumi Kashiwamura
柏村 成史
Ryoichi Nishida
亮一 西田
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  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

PURPOSE:To drastically reduce the generation of the corresponding siloxane and to obtain disilane in high yield by subjecting a halosilane to an electrode reaction using Mg, Cu, Zn, Sn or Al as the anode. CONSTITUTION:The halosilane (e.g. dimethylphenylchlorosilane) shown by formula I is subjected to an electrode reaction using Mg, Cu, Zn, Sn or Al as the anode by using a solvent such as THF. As a result, a disilane (e.g. 1,2- diphenyl-1,1,2,2-tetramethyldisilane) shown by formula II is obtained in high yield. Lithium perchlorate, etc., are preferably used as the supporting electrolyte to be used in the electrode reaction. In this case, a halosilane as the raw material, the supporting electrolyte and a solvent are charged into a reaction vessel and mechanically or magnetically agitated, and a specified quantity of the electric current is applied to cause the electrode reaction. The reaction is preferably carried out at -5 to 30 deg.C or more preferably at about 0 to 25 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ジシランの製造方法に関する。[Detailed description of the invention] Industrial applications The present invention relates to a method for producing disilane.

従来技術とその問題点 ジシランは、セラミックス前駆体、光・電子材料などと
して有用な5i−8i結合を有する化合物製造の中間体
として注目されている。
Prior art and its problems Disilane is attracting attention as an intermediate for producing compounds having a 5i-8i bond that are useful as ceramic precursors, optical/electronic materials, and the like.

従来、ジシランの製造方法としては、金属ナトリウムな
どのアルカリ金属或いはアルカリ土類金属を用いて、溶
媒中のハロシランを溶媒の沸点程度の温度で長時間攪拌
し、還元的にカップリングさせる方法が知られている(
J、Organicmet、Chem、 。
Conventionally, a known method for producing disilane is to use an alkali metal or alkaline earth metal such as sodium metal, stir the halosilane in a solvent for a long time at a temperature around the boiling point of the solvent, and reductively couple the halosilane. (
J, Organicmet, Chem.

13 (1968) 323〜328)。しかしながら
、この方法は、過酷な反応条件(例えば、長時間の加熱
が必要である)を必要とすること、工業的規模での生産
に際しては、アルカリ金属を大量に使用するので、安全
性に大きな問題があることなどの欠点を有している。
13 (1968) 323-328). However, this method requires harsh reaction conditions (e.g., long-term heating is required) and requires the use of large amounts of alkali metals when produced on an industrial scale, resulting in significant safety concerns. It has drawbacks such as problems.

この様な欠点を克服する方法として、クロロシランを室
温で電極還元して、ジシランを製造するという温和な条
件下での製造方法が提案されている(Angew、Ch
em、lnt、Ed、Engl、、15 (197B)
 370J、Organicmet、Chem、、21
2 (1981) 1551 oこの製造方法は、隔膜
付きH型セル中で陽極に水銀またはカドミウムを使用し
、陰極に白金、水銀、鉛、チタンまたは鉄を使用し、支
持電解質に過塩素酸テトラ−n−ブチルアンモニウムを
使用し、溶媒として1,2−ジメトキシエタンを使用す
るものである。しかしながら、この方法は、(イ)収率
が、ヘキサメチルジシラン製造の場合で10.5%程度
、ヘキサフエニルジシラン製造の場合で13.9%程度
と極めて低い、(ロ)対応するシロキサン(例えば、原
料がトリメチルクロロシランの場合には、ヘキサメチル
ジシロキサン)の副生が多く、目的とするジシランとシ
ロキサンとの分離が困難であることから、純度の高いジ
シランが得られ難い、(ハ)陽極として水銀またはカド
ミウムを使用するので、作業上の操作性および安全性に
欠けるのみならず、環境汚染の危険性もある、などの点
で、工業的方法としては、適切であるとは言い難い。
As a method to overcome these drawbacks, a production method under mild conditions has been proposed in which chlorosilane is electrolytically reduced at room temperature to produce disilane (Angew, Ch.
em, lnt, Ed, Engl,, 15 (197B)
370J, Organicmet, Chem, 21
2 (1981) 1551 o This manufacturing method uses mercury or cadmium for the anode, platinum, mercury, lead, titanium, or iron for the cathode in an H-type cell with a diaphragm, and tetra-perchlorate as the supporting electrolyte. It uses n-butylammonium and 1,2-dimethoxyethane as a solvent. However, in this method, (a) the yield is extremely low, about 10.5% in the case of hexamethyldisilane production and about 13.9% in the case of hexaphenyldisilane production, and (b) the yield of the corresponding siloxane ( For example, when the raw material is trimethylchlorosilane, there is a lot of by-product (hexamethyldisiloxane), and it is difficult to separate the desired disilane and siloxane, making it difficult to obtain highly pure disilane. Since mercury or cadmium is used as the anode, it is difficult to say that it is suitable as an industrial method, as it not only lacks operability and safety, but also poses a risk of environmental pollution. .

問題点を解決するための手段 本発明者は、上記の如き従来技術の現状に鑑みて鋭意研
究を重ねた結果、ハロシランを特定の金属を陽極として
使用する電極反応に供することにより、従来技術の問題
点が実質的に解消されるか乃至は大幅に軽減されること
を見出した。
Means for Solving the Problems As a result of extensive research in view of the current state of the prior art as described above, the inventor of the present invention has found that, by subjecting halosilane to an electrode reaction using a specific metal as an anode, the present inventors have solved the problem of the prior art. It has been found that the problems are substantially eliminated or significantly reduced.

また、この様な電極反応において、画電極の極性を一定
時間間隔で切り替えることにより、反応効率と収率とが
大巾に改善されることをも見出した。
We have also found that in such electrode reactions, reaction efficiency and yield can be greatly improved by switching the polarity of the picture electrode at regular time intervals.

本発明者は、更に研究を重ねた結果、上記の如き電極反
応に際して、反応器乃至反応溶液に超音波を照射する場
合には、反応時間が大巾に短縮されることを見出した。
As a result of further research, the inventors of the present invention found that during the electrode reaction as described above, when the reactor or reaction solution is irradiated with ultrasonic waves, the reaction time can be significantly shortened.

すなわち、本発明は、下記のジシランの製造方法を提供
するものである: ■ジシランの製造方法であって、一般式%式%(1) (式中R1、R2およびR3は、それぞれ同−或いは異
なって、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキ
シ基またはアミノ基を表わし、Xは、ハロゲン原子を表
わす) で示されるハロシランをMg、Cu5ZnSSnまたは
iを陽極として使用する電極反応に供することにより、
一般式 %式% (2) (式中R1、R2およびR3は、上記に同じ)で示され
るジシランを形成させることを特徴とする方法。
That is, the present invention provides the following method for producing disilane: ■ A method for producing disilane, which has the general formula % (1) (wherein R1, R2 and R3 are the same - or (Differently, each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an amino group, and X represents a halogen atom) By subjecting a halosilane represented by the following to an electrode reaction using Mg, CuZnSSn or i as an anode,
A method characterized by forming a disilane represented by the general formula % (2) (wherein R1, R2 and R3 are the same as above).

■ジシランの製造方法であって、一般式%式%(1) (式中R1、R2およびR3は、それぞれ同−或いは異
なって、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキ
シ基またはアミノ基を表わし、Xは、ハロゲン原子を表
わす) で示されるハロシランを超音波の照射下にMg、Cu、
ZnSSnまたはAQを陽極として使用する電極反応に
供することにより、一般式%式% (式中R1、R2およびR3は、上記に同じ)で示され
るジシランを形成させることを特徴とする方法:および ■ジシランの製造方法であって、一般式(式中R1、R
2およびR3は、それぞれ同−或いは異なって、水素原
子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアミ
ノ基を表わし、Xは、ハロゲン原子を表わす) で示されるハロシランをMgXCu、Zn、Snまたは
ARを一方の極とし、これらと同種または異種の導電性
材料を他方の極として一定の時間間隔で電極の極性を切
り替える電極反応に供することにより、一般式 R2R2 R1−8i−81−R1(2) 3 R3 (式中R1、R2およびR3は、上記に同じ)で示され
るジシランを形成させることを特徴とする方法。
■ A method for producing disilane, comprising the general formula % (1) (wherein R1, R2 and R3 are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or an amino group). , X represents a halogen atom) Mg, Cu,
A method characterized by forming a disilane represented by the general formula % (wherein R1, R2 and R3 are the same as above) by subjecting it to an electrode reaction using ZnSSn or AQ as an anode: and A method for producing disilane, comprising the general formula (wherein R1, R
2 and R3 are the same or different, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an amino group, and X represents a halogen atom. The general formula R2R2 R1-8i-81-R1(2) 3 can be obtained by using the same or different type of conductive material as one pole and subjecting it to an electrode reaction in which the polarity of the electrode is changed at regular time intervals using the same or different type of conductive material as the other pole. A method characterized by forming a disilane represented by R3 (wherein R1, R2 and R3 are the same as above).

■ジシランの製造方法であって、一般式%式%(1) (式中R1、R2およびR3は、それぞれ同−或いは異
なって、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキ
シ基またはアミノ基を表わし、Xは、ハロゲン原子を表
わす) で示されるハロシランを超音波の照射下にMg、CuS
Zn、SnまたはAQを一方の極とし、これらと同種ま
たは異種の導電性材料を他方の極として一定の時間間隔
で電極の極性を切り替える電極反応に供することにより
、一般式 %式%(2) (式中R□、R2およびR3は、上記に同じ)で示され
るジシランを形成させることを特徴とする方法。
■ A method for producing disilane, comprising the general formula % (1) (wherein R1, R2 and R3 are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or an amino group). , X represents a halogen atom) under ultrasonic irradiation.
By subjecting Zn, Sn or AQ to one pole and the same or different type of conductive material as the other pole to an electrode reaction in which the polarity of the electrode is switched at regular time intervals, the general formula % formula % (2) can be obtained. A method characterized by forming a disilane represented by the formula (wherein R□, R2 and R3 are the same as above).

以下において、上記■乃至■の発明をそれぞれ本願第1
発明乃至本願第4発明と言い、これらを総括して単に本
発明と言う。
In the following, each of the above-mentioned inventions
These are referred to as the invention to the fourth invention of the present application, and these are collectively referred to simply as the present invention.

本発明において、出発原料として使用するハロシランは
、一般式 %式%(1) (式中R1、R2およびR3は、それぞれ同−或いは異
なって、水素原子、アルキル基、アリール1 2 基、アルコキシ基またはアミノ基を表わし、Xは、ハロ
ゲン原子を表わす) で示されるものである。
In the present invention, the halosilane used as a starting material has the general formula % (1) (where R1, R2, and R3 are the same or different, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group. or represents an amino group, and X represents a halogen atom).

また、本発明における反応生成物は、一般式%式%(2
) (式中R1、R2およびR3は、上記に同じ)で示され
るジシランである。
In addition, the reaction product in the present invention has the general formula % formula % (2
) (wherein R1, R2 and R3 are the same as above).

一般式(1)において、R1、R2およびR3で示され
る水素原子、アミノ基および有機置換基は、それぞれが
相異なっていても良く、或いは2個以上が同一であって
も良い。アルキル基としては、炭素数1〜10程度のも
のが挙げられ、これらの中でも炭素数1〜6のものがよ
り好ましい。
In general formula (1), the hydrogen atoms, amino groups, and organic substituents represented by R1, R2, and R3 may be different from each other, or two or more of them may be the same. Examples of the alkyl group include those having about 1 to 10 carbon atoms, and among these, those having 1 to 6 carbon atoms are more preferable.

アリール基としては、フェニル基、炭素数1〜6個のア
ルキル基を少なくとも1つ置換基として有するフェニル
基、p−アルコキシフェニル基などが挙げられる。アル
コキシ基としては、炭素数1〜10程度のものが挙げら
れ、これらの中でも炭素数1〜6のものがより好ましい
。R工、R2およびR3が上記のアミノ基および有機置
換基である場合には、その水素原子が他のアルキル基、
アリール基、アルコキシ基などの官能基により置換され
ていても良い。
Examples of the aryl group include a phenyl group, a phenyl group having at least one alkyl group having 1 to 6 carbon atoms as a substituent, and a p-alkoxyphenyl group. Examples of the alkoxy group include those having about 1 to 10 carbon atoms, and among these, those having 1 to 6 carbon atoms are more preferable. When R, R2 and R3 are the above amino group and organic substituent, the hydrogen atom is another alkyl group,
It may be substituted with a functional group such as an aryl group or an alkoxy group.

また、一般式(1)において、Xは、ハロゲン原子(C
L  F、Br、I)を表わす。ハロゲン原子としては
、CΩがより好ましい。
Furthermore, in general formula (1), X is a halogen atom (C
LF, Br, I). As the halogen atom, CΩ is more preferable.

本発明方法においては、一般式(1)で表わされるハロ
シランの1種を単独で使用しても良く、或いは2種を混
合使用しても良い。ハロシランは、出来るだけ高純度で
あることが好ましく、例えば、液体のハロシランについ
ては、水素化カルシウムにより乾燥し、蒸留して使用す
ることが好ましく、また、固体のハロシランについては
、再結晶法により、精製し、使用することか好ましい。
In the method of the present invention, one type of halosilane represented by general formula (1) may be used alone, or two types may be used in combination. It is preferable that the halosilane has as high a purity as possible. For example, for liquid halosilane, it is preferable to use it by drying it with calcium hydride and distilling it, and for solid halosilane, it is preferable to use it by recrystallization method. It is preferable to purify and use it.

反応に際しては、ハロシランを溶媒に溶解して使用する
。溶媒としては、非プロトン性の溶媒が広く使用でき、
より具体的には、プロピレンカーボネート、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
1,2−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル
)エーテル、p−ジオキサン、テトラヒドロフラン、塩
化メチレンなどのエーテル系の溶媒が例′示される。こ
れらの溶媒は、単独でも、或いは2種以上の混合物とし
ても使用できる。溶媒としては、1,2−ジメトキシエ
タンおよびテトラヒドロフランがより好ましい。溶媒中
のハロシランの濃度は、低すぎる場合には、電流効率が
低下するのに対し、高すぎる場合には、支持電解質が溶
解しないことがある。したがって、溶媒中のハロシラン
の濃度は、通常0.05〜6mol/Q程度であり、よ
り好ましくは0.1〜3[1Iol/Q程度であり、特
に好ましくは0. 2〜0. 8mol/Q程度である
During the reaction, halosilane is used after being dissolved in a solvent. As a solvent, aprotic solvents can be widely used.
More specifically, propylene carbonate, acetonitrile, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide,
Examples include ether solvents such as 1,2-dimethoxyethane, bis(2-methoxyethyl)ether, p-dioxane, tetrahydrofuran, and methylene chloride. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more. As the solvent, 1,2-dimethoxyethane and tetrahydrofuran are more preferred. If the concentration of halosilane in the solvent is too low, the current efficiency decreases, whereas if it is too high, the supporting electrolyte may not dissolve. Therefore, the concentration of halosilane in the solvent is usually about 0.05 to 6 mol/Q, more preferably about 0.1 to 3 [1 Iol/Q, particularly preferably 0. 2-0. It is about 8 mol/Q.

本発明で使用する支持電解質としては、過塩素酸ナトリ
ウム、過塩素酸リチウムなどの過塩素酸アルカリ金属;
テトラフルオロ硼酸リチウムなどのテトラフルオロ硼酸
アルカリ金属;塩化テトラ−n−ブチルアンモニウムな
どのハロゲン化テトラアルキルアンモニウム;過塩素酸
テトラ−nブチルアンモニウムなどの過塩素酸テトラア
ルキルアンモニウム;テトラフルオロ硼酸テトラ−n−
ブチルアンモニウムなどのテトラフルオロ硼酸テトラア
ルキルアンモニウムなどが例示される。
Supporting electrolytes used in the present invention include alkali metal perchlorates such as sodium perchlorate and lithium perchlorate;
Alkali metal tetrafluoroborates, such as lithium tetrafluoroborate; Tetraalkylammonium halides, such as tetra-n-butylammonium chloride; Tetraalkylammonium perchlorates, such as tetra-n-butylammonium perchlorate; Tetra-n-tetrafluoroborates −
Examples include tetraalkylammonium tetrafluoroborate such as butylammonium.

これらの支持電解質は、単独で使用しても良く、或いは
2種以上を併用しても良い。これら支持電解質の中でも
、過塩素酸リチウム、過塩素酸テトラ−n−ブチルアン
モニウムおよびテトラフルオロ硼酸テトラ−n−ブチル
アンモニウムがより好ましく、さらには過塩素酸リチウ
ムおよび過塩素酸テトラ−n−ブチルアンモニウムが最
も好ましい。支持電解質の濃度は、低すぎる場合には、
反5 応溶液に与えられるイオン導電性が低いために反応が十
分に進行しなくなるのに対し、高すぎる場合には、電流
が流れ過ぎて反応に必要な電位が得られなくなる。した
がって、溶媒中の支持電解質の濃度は、通常0.05〜
5IIIoI/Q程度であり、より好ましくは0.1〜
3mol/R程度であり、特に好ましくは0. 15〜
1. 2mol/Q程度である。
These supporting electrolytes may be used alone or in combination of two or more. Among these supporting electrolytes, lithium perchlorate, tetra-n-butylammonium perchlorate and tetra-n-butylammonium tetrafluoroborate are more preferred, and lithium perchlorate and tetra-n-butylammonium perchlorate are more preferred. is most preferred. If the supporting electrolyte concentration is too low,
If the ionic conductivity given to the reaction solution is low, the reaction will not proceed sufficiently, whereas if it is too high, too much current will flow, making it impossible to obtain the potential necessary for the reaction. Therefore, the concentration of supporting electrolyte in the solvent is usually 0.05~
5IIIoI/Q, more preferably 0.1 to
It is about 3 mol/R, particularly preferably 0. 15~
1. It is about 2 mol/Q.

本願第1発明においては、陽極として、Mg。In the first invention of the present application, Mg is used as the anode.

CuSZn、SnおよびAQのいずれかまたはこれらの
金属を主成分とする合金を使用する。陰極としては、電
流を通じ得る物質であれば特に限定されないが、Mg5
CuSZn、5nSAQ。
Any one of CuSZn, Sn, and AQ, or an alloy containing these metals as a main component is used. The cathode is not particularly limited as long as it is a material that can conduct electric current, but Mg5
CuSZn, 5nSAQ.

Niおよびcoのいずれかまたはこれらの金属を主成分
とする合金を使用することが好ましい。陽極としては、
Mg5Cuおよびこれらの金属を主成分とする合金がよ
り好ましく、Mgが最も好ましい。電極の形状は、通電
を安定して行ない得る限り特に限定されないが、棒状、
板状、筒状、板6 状体をコイル状に巻いたものなどが好ましい。電極の表
面からは、あらかじめ酸化被膜を出来るだけ除去してお
くことが好ましい。電極からの酸化被膜の除去は、任意
の方法で行えば良く、例えば、電極を酸により洗浄した
後、エタノールおよびエーテルなどにより洗浄し、減圧
下に乾燥する方法、窒素雰囲気下に電極を研磨する方法
、或はこれらの方法を組み合わせた方法などにより行う
ことが出来る。
It is preferable to use either Ni or co or an alloy containing these metals as main components. As an anode,
Mg5Cu and alloys containing these metals as main components are more preferred, and Mg is most preferred. The shape of the electrode is not particularly limited as long as it can conduct electricity stably, but it may be rod-shaped,
Preferably, the material is plate-shaped, cylindrical, or a plate-shaped body wound into a coil. It is preferable to remove as much of the oxide film as possible from the surface of the electrode in advance. The oxide film from the electrode may be removed by any method; for example, the electrode may be washed with acid, then washed with ethanol and ether, and then dried under reduced pressure, or the electrode may be polished in a nitrogen atmosphere. This can be done by a method or a combination of these methods.

本願第1発明を実施するに際しては、陽極および陰極を
設置した密閉可能な反応容器に一般式(1)で表わされ
るハロシランおよび支持電解質を溶媒とともに収容し、
好ましくは機械的もしくは磁気的に攪拌しつつ、所定量
の電流を通電することにより、電極反応を行わせる。反
応容器内は、乾燥雰囲気であれば良いが、乾燥した窒素
または不活性ガス雰囲気であることがより好ましく、さ
らに脱酸素し、乾燥した窒素または不活性ガス雰囲気で
あることが最も好ましい。通電量は、ハロシランを基準
として、通常1〜5F1モル程度であり、より好ましく
は1.1〜3F1モル程度であり、最も好ましくは1.
3〜2.3F1モル程度である。反応時間は、原料ハロ
シランの量、支持電解質の量に関係する電解液の抵抗な
どにより異なるが、通常0.5〜100時間程度、例え
ば、原料ハロシランの濃度が、0.4モル/Qにおいて
は10〜250〜25時間程。反応時の温度は、通常−
10°Cから使用する溶媒の沸点以下までの温度範囲内
にあり、より好ましくは一5〜30’C程度であり、最
も好ましくは0〜25°C程度である。通常の電極還元
反応においては必要とされている隔膜は、使用しても良
く、或いは使用しなくても良い。
When carrying out the first invention of the present application, a halosilane represented by the general formula (1) and a supporting electrolyte are housed together with a solvent in a sealable reaction vessel equipped with an anode and a cathode,
The electrode reaction is preferably carried out by applying a predetermined amount of current while stirring mechanically or magnetically. The inside of the reaction vessel may be in a dry atmosphere, but it is more preferably a dry nitrogen or inert gas atmosphere, and most preferably a deoxidized and dry nitrogen or inert gas atmosphere. The amount of current to be applied is usually about 1 to 5F1 mole, more preferably about 1.1 to 3F1 mole, and most preferably about 1.1 to 3F1 mole, based on halosilane.
It is about 3 to 2.3F per mole. The reaction time varies depending on the amount of raw material halosilane, the amount of supporting electrolyte, the resistance of the electrolyte, etc., but is usually about 0.5 to 100 hours, for example, when the concentration of raw material halosilane is 0.4 mol/Q. About 10-250-25 hours. The temperature during the reaction is usually -
The temperature range is from 10°C to below the boiling point of the solvent used, more preferably about -5 to 30°C, and most preferably about 0 to 25°C. A diaphragm, which is required in normal electrode reduction reactions, may or may not be used.

本願第2発明は、電極反応中の反応容器または反応溶液
に対し、超音波を照射する以外の点では、本願第1発明
と実質的に異なるところはない。電極反応中の超音波の
照射方法は、特に限定されるものではないが、反応器を
超音波浴槽に収容して照射する方法、反応器内に超音波
発振子を装入して照射する方法などが例示される。超音
波の振動数は、10〜70 k Hz程度とすることが
好ましい。超音波の出力は、原料の種類、反応溶液の量
、反応容器および電極の形状および大きさ、電極の材質
および表面積などの反応条件に応じて適宜穴めれば良い
が、通常反応液1Q当り0.01〜24kW程度の範囲
内にある。この様な超音波照射により、反応時間が大巾
に短縮されて、例えば、原料ハロシランの濃度が0.4
モル/Qである場合には、5〜12時間程度となる。本
願第2発明においては、超音波照射により良好に攪拌が
行われるが、必要ならば、更に機械的手段による攪拌を
併用しても良い。
The second invention of the present application is not substantially different from the first invention of the present application except that ultrasonic waves are irradiated to the reaction container or reaction solution during electrode reaction. The ultrasonic irradiation method during the electrode reaction is not particularly limited, but includes a method of placing the reactor in an ultrasonic bath and irradiating it, and a method of placing an ultrasonic oscillator in the reactor and irradiating it. Examples include. The frequency of the ultrasonic waves is preferably about 10 to 70 kHz. The output of the ultrasonic wave can be adjusted appropriately depending on the reaction conditions such as the type of raw materials, the amount of reaction solution, the shape and size of the reaction container and electrodes, the material and surface area of the electrodes, but it is usually per 1Q of reaction solution. It is within the range of about 0.01 to 24 kW. By such ultrasonic irradiation, the reaction time can be greatly shortened, and for example, the concentration of the raw material halosilane can be reduced to 0.4.
When it is mol/Q, it is about 5 to 12 hours. In the second invention of the present application, stirring is performed well by ultrasonic irradiation, but if necessary, stirring by mechanical means may be used in combination.

本願第3発明においては、MgXCu、Zn。In the third invention of the present application, MgXCu, Zn.

SnまたはAQを一方の極とし、これらと同種ま1つ たは異種の導電性材料(Ni、Coなど)を他方の極と
して一定の時間間隔で電極の極性を切り替える以外は、
本願第1発明と同様の操作により反応を行なう。この極
性の切り替えにより、電流値が安定して反応が円滑に進
行し、本願第1発明に比して反応時間が短縮され、典型
的には5〜10時間程度になる。極性切り替えは、通常
0.01秒〜60分程度の間隔で行なうが、より好まし
くは1秒〜10分間程度の間隔で行ない、特に好ましく
は10秒〜3分間程度の間隔で行なう。極性切り替えを
行なう場合には、2つの電極を同種の金属により構成す
ることが、その金属イオンが両極間を移動するため、電
極の消耗が少なく、且つジシランの収率も高くなるため
、最も好ましい。
Except for switching the polarity of the electrode at fixed time intervals with Sn or AQ as one pole and the same or different type of conductive material (Ni, Co, etc.) as the other pole.
The reaction is carried out in the same manner as in the first invention of the present application. By switching the polarity, the current value is stabilized and the reaction proceeds smoothly, and the reaction time is shortened compared to the first invention of the present application, typically about 5 to 10 hours. The polarity switching is normally performed at intervals of about 0.01 seconds to 60 minutes, more preferably at intervals of about 1 second to 10 minutes, and particularly preferably at intervals of about 10 seconds to 3 minutes. When switching the polarity, it is most preferable to configure the two electrodes with the same type of metal because the metal ions move between the two electrodes, which reduces wear on the electrodes and increases the yield of disilane. .

画電極の極性の切り換えを行なう本願第3発明において
は、隔膜は使用しないことが好ましい。
In the third invention of the present application in which the polarity of the picture electrode is switched, it is preferable that no diaphragm is used.

本願第4発明においては、電極反応中の反応容器または
反応溶液に対し、超音波を照射する。本0 願第4発明は、超音波を照射する以外の点では、本願第
3発明と実質的に異なるところはない。また、超音波の
照射は、本願第2発明の場合と同様にして行なえば良い
。本願第4発明においては、極性の切り替えと超音波照
射との併用により、反応時間がさらに大巾に短縮されて
、典型的には、2〜6時間時間色なる。本願第4発明に
おいても、必要ならば、更に機械的手段による攪拌を併
用しても良い。
In the fourth invention of the present application, ultrasonic waves are irradiated to the reaction container or reaction solution during electrode reaction. The fourth invention of the present application is not substantially different from the third invention of the present application except for the irradiation of ultrasonic waves. Moreover, the ultrasonic irradiation may be performed in the same manner as in the case of the second invention of the present application. In the fourth invention of the present application, by combining polarity switching and ultrasonic irradiation, the reaction time is further shortened to a large extent, and the color typically lasts for 2 to 6 hours. Also in the fourth invention of the present application, if necessary, stirring by mechanical means may be used in combination.

なお、本発明において、シロキサンの副生を抑制するた
めに、溶媒および支持電解質中の水分を予め除去してお
くことが望ましい。例えば、溶媒としてテトラヒドロフ
ラン或いは1,2−ジメトキシエタンを使用する場合に
は、ナトリウムーベンゾフェノンケチルなどによる乾燥
を予め行なっておくことが好ましい。また、支持電解質
の場合には、減圧加熱による乾燥、或いは水分と反応し
やすく且つ容易に除去し得る物質(例えば、トリメチル
クロロシランなど)の添加による水分除去を行なってお
くことが好ましい。
In the present invention, in order to suppress the by-product of siloxane, it is desirable to remove water in the solvent and the supporting electrolyte in advance. For example, when tetrahydrofuran or 1,2-dimethoxyethane is used as a solvent, it is preferable to dry it with sodium-benzophenone ketyl or the like in advance. In the case of the supporting electrolyte, it is preferable to dry it by heating under reduced pressure or to remove moisture by adding a substance that reacts with moisture and can be easily removed (for example, trimethylchlorosilane).

発明の効果 本発明によれば、下記の様な顕著な効果が達成される。Effect of the invention According to the present invention, the following remarkable effects are achieved.

(a)対応するシロキサンの生成を大幅に抑制すること
ができ、ジシランの収率が高められる。
(a) The production of the corresponding siloxane can be significantly suppressed, and the yield of disilane can be increased.

(b)水銀或いはカドミウムを使用しないので、操作性
および安全性に優れ、環境汚染の危険性を回避し得る。
(b) Since mercury or cadmium is not used, operability and safety are excellent, and the risk of environmental pollution can be avoided.

(C)隔膜の使用を必要としないので、操作が簡便であ
る。
(C) Operation is simple because no diaphragm is required.

(d)電極反応時に超音波の照射を行なう場合には、反
応時間を半分程度以下に大巾に減少させることができる
(d) When ultrasonic waves are irradiated during the electrode reaction, the reaction time can be significantly reduced to about half or less.

(e)本発明方法は、ジシランのみならず、他の5i−
8i結合を有する化合物の製造にも適用できる。
(e) The method of the present invention applies not only to disilane but also to other 5i-
It can also be applied to the production of compounds having an 8i bond.

実施例 以下に実施例を示し、本発明の特徴とするところをより
一層明確にする。
EXAMPLES Examples will be shown below to further clarify the features of the present invention.

実施例1 三方コックおよびMg電極(1cmX 1 cmX 5
cm)2個を装着した内容積30m1の3つ目フラスコ
(以下反応器と言う)に無水過塩素酸リチウム0.64
gを収容し、50℃、lmmHgに加熱減圧して、過塩
素酸リチウムを乾燥した後、脱酸素した乾燥窒素を反応
器内に導入し、さらに予めナトリウムーベンゾフエノン
ケチルで乾燥したテトラヒドロフラン15m1を加えた
。これに予め水素化カルシウムにより乾燥し、蒸留した
ジメチルフェニルクロロシラン1ml (6mmol)
をシリンジで加え、ウォーターバスにより反応器を室温
に保持しつつ、定電圧電源により通電した。この際、コ
ミュテータ−を使用して、2つの電極の極性を1分毎に
変換しつつ、ジメチルフェニルクロロシラン3 を基準として2F/molの通電量となる様に約9時間
通電した。
Example 1 Three-way cock and Mg electrode (1 cm x 1 cm x 5
0.64 cm) of anhydrous lithium perchlorate into a third flask (hereinafter referred to as the reactor) with an internal volume of 30 m1 equipped with two flasks.
After heating and reducing the pressure to 50°C and lmmHg to dry the lithium perchlorate, deoxygenated dry nitrogen was introduced into the reactor, and 15ml of tetrahydrofuran previously dried with sodium-benzophenone ketyl was added. added. Add to this 1 ml (6 mmol) of dimethylphenylchlorosilane, which was previously dried with calcium hydride and distilled.
was added using a syringe, and while the reactor was maintained at room temperature using a water bath, electricity was applied using a constant voltage power supply. At this time, electricity was applied for about 9 hours using a commutator to change the polarity of the two electrodes every minute so that the amount of electricity applied was 2F/mol based on dimethylphenylchlorosilane 3.

反応終了後、反応溶液をシリカゲルに吸着させ、テトラ
ヒドロフランを水流ポンプで十分に吸引除去した後、シ
リカゲルカラムで展開剤上に反応溶液を吸着させたシリ
カゲルを入れ、ヘキサン溶媒で生成物を単離した。
After the reaction was completed, the reaction solution was adsorbed on silica gel, and tetrahydrofuran was sufficiently suctioned off using a water jet pump.The silica gel with the reaction solution adsorbed on the developer was placed in a silica gel column, and the product was isolated using hexane solvent. .

生成物を分析したところ、1,2−ジフェニル−1,1
,2,2−テトラメチルジシランが92.3%の収率で
得られており、高収率で5iSi結合が生成しているこ
とが確認された。
Analysis of the product revealed that it was 1,2-diphenyl-1,1
, 2,2-tetramethyldisilane was obtained in a yield of 92.3%, and it was confirmed that 5iSi bonds were generated in a high yield.

なお、副生じたシロキサンの割合は、2%以下であった
Note that the proportion of siloxane produced as a by-product was 2% or less.

実施例2 反応器を振動数45kHz、出力60Wの超音波洗浄器
に浸漬し、超音波を反応液に照射し続けた以外は実施例
1と同様にして電極反応を行なった。この場合、通電量
が2F/mo!となるまでに4 約4時間を要したのみであった。
Example 2 An electrode reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that the reactor was immersed in an ultrasonic cleaner with a frequency of 45 kHz and an output of 60 W, and the reaction solution was continuously irradiated with ultrasonic waves. In this case, the amount of current is 2F/mo! It only took about 4 hours to complete.

生成物を分析したところ、1,2−ジフェニル1.1.
2.2−テトラメチルジシランが91.7%の収率で得
られており、高収率で5i−8i結合が生成しているこ
とが確認された。
Analysis of the product revealed 1,2-diphenyl 1.1.
2.2-Tetramethyldisilane was obtained with a yield of 91.7%, and it was confirmed that 5i-8i bonds were produced in a high yield.

実施例3 一般式(1)で示される原料としてn−オクチルジメチ
ルクロロシランを使用する以外は実施例1と同様にして
電極反応を行なった。その結果、1.2−ジ−n−オク
チル−1,1,2,2−テトラメチルジシランが高収率
で生成していることが確認された。
Example 3 An electrode reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that n-octyldimethylchlorosilane was used as the raw material represented by general formula (1). As a result, it was confirmed that 1,2-di-n-octyl-1,1,2,2-tetramethyldisilane was produced in high yield.

実施例4 一般式(1)で示される原料として、再結晶法により精
製したトリフェニルクロロシランを使用する以外は実施
例1と同様にして電極反応を行なった。次いで、IN塩
酸を100m1加え、濾過した後、得られた固体生成物
をIN塩酸とエタノールで洗浄した。
Example 4 An electrode reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that triphenylchlorosilane purified by the recrystallization method was used as the raw material represented by the general formula (1). Then, 100 ml of IN hydrochloric acid was added and after filtration, the obtained solid product was washed with IN hydrochloric acid and ethanol.

分析の結果、85.3%の収率でヘキサフエニルジシラ
ンが得られており、高収率で5i−8i結合が生成して
いることが確認された。
As a result of the analysis, it was confirmed that hexaphenyldisilane was obtained in a yield of 85.3%, and that a 5i-8i bond was produced in a high yield.

実施例5 一般式(1)で示される原料として、蒸留法で精製した
メチルジメトキシクロロシランを使用する以外は実施例
1と同様にして電極反応を行なった。
Example 5 An electrode reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that methyldimethoxychlorosilane purified by distillation was used as the raw material represented by general formula (1).

その結果、1,2−ジメチル−1,1,2,2テトラメ
トキシジシランが高収率で生成していることが確認され
た。
As a result, it was confirmed that 1,2-dimethyl-1,1,2,2tetramethoxydisilane was produced in high yield.

実施例6 陽極としてM g (l cmX l cmX 5cm
)を使用し、陰極としてNi  (1cmXO,1cm
X5cm)を使用し、且つ電極の極性を変換しない以外
は実施例1と同様にして、ジメチルフェニルクロロシラ
ンを電極反応に供した。通電量が2F/+1101とな
るまでの時間は、約21時間であった。
Example 6 M g (l cmX l cmX 5cm
) was used as the cathode, and Ni (1cmXO, 1cm
Dimethylphenylchlorosilane was subjected to an electrode reaction in the same manner as in Example 1, except that the electrode polarity was not changed. It took about 21 hours until the amount of current applied reached 2F/+1101.

その結果、90.7%の収率で1,2−ジフェニル−1
,1,2,2−テトラメチルジシランが得られており、
高収率で5i−8i結合が生成していることが確認され
た。
As a result, 1,2-diphenyl-1 was obtained with a yield of 90.7%.
, 1,2,2-tetramethyldisilane is obtained,
It was confirmed that 5i-8i bonds were produced in high yield.

実施例7 2つの極として銅(1cmXO,1cmX5cm)を使
用する以外は実施例1と同様にしてジメチルフェニルク
ロロシランを電極反応に供した。
Example 7 Dimethylphenylchlorosilane was subjected to an electrode reaction in the same manner as in Example 1 except that copper (1 cm x O, 1 cm x 5 cm) was used as the two electrodes.

分析の結果、1,2−ジフェニル−1,1,2゜2−テ
トラメチルジシランが得られていることが確認された。
As a result of analysis, it was confirmed that 1,2-diphenyl-1,1,2°2-tetramethyldisilane was obtained.

実施例8 極性変換の時間間隔を15秒とする以外は実施例1と同
様にしてジメチルフェニルクロロシランの電極反応を行
なった。
Example 8 An electrode reaction of dimethylphenylchlorosilane was carried out in the same manner as in Example 1 except that the time interval for polarity conversion was 15 seconds.

分析の結果、1.2−ジフェニル−1,1,2゜2−テ
トラメチルジシランが高収率で得られてい7 ることか確認された。
As a result of the analysis, it was confirmed that 1,2-diphenyl-1,1,2°2-tetramethyldisilane was obtained in high yield.

実施例9 支持電解質として過塩素酸テトラ−n−ブチルアンモニ
ウムを使用する以外は実施例1と同様にしてジメチルフ
ェニルクロロシランの電極反応を行なった。
Example 9 An electrode reaction of dimethylphenylchlorosilane was carried out in the same manner as in Example 1 except that tetra-n-butylammonium perchlorate was used as the supporting electrolyte.

分析の結果、75.2%の収率で1,2−ジフェニル−
1,1,2,2−テトラメチルジシランが得られており
、高収率で5i−8i結合が生成していることが確認さ
れた。
As a result of analysis, 1,2-diphenyl-
It was confirmed that 1,1,2,2-tetramethyldisilane was obtained and that 5i-8i bonds were produced in high yield.

実施例10 支持電解質として過塩素酸テトラ−n−ブチルアンモニ
ウムを使用し且つ溶媒として予めナトリウムーベンゾフ
ェノンケチルにより乾燥した1゜2−ジメトキシエタン
15m1を使用する以外は実施例1と同様にしてジメチ
ルフェニルクロロシランの電極反応を行なった。
Example 10 Dimethylphenyl was prepared in the same manner as in Example 1 except that tetra-n-butylammonium perchlorate was used as the supporting electrolyte and 15 ml of 1°2-dimethoxyethane previously dried with sodium-benzophenone ketyl was used as the solvent. An electrode reaction of chlorosilane was carried out.

分析の結果、49.6%の収率で1,2−シフ8 ユニルー1.1,2.2−テトラメチルジシランが得ら
れており、良好な収率で5i−8i結合が生成している
ことが確認された。
As a result of the analysis, 1,2-Schif8 Uniru 1.1,2,2-tetramethyldisilane was obtained in a yield of 49.6%, indicating that a 5i-8i bond was formed in a good yield. This was confirmed.

実施例11 一般式(1)で示される原料として、ベンジルジメチル
メチルクロロシランを使用する以外は実施例1と同様に
して電極反応を行なった。
Example 11 An electrode reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that benzyldimethylmethylchlorosilane was used as the raw material represented by general formula (1).

その結果、78.0%の収率で1,2−ジベンジル−1
,1,2,2−テトラメチルジシランが得られており、
高収率で5i−8i結合が生成していることが確認され
た。
As a result, 1,2-dibenzyl-1 was obtained with a yield of 78.0%.
, 1,2,2-tetramethyldisilane is obtained,
It was confirmed that 5i-8i bonds were produced in high yield.

実施例12 一般式(1)で示される原料として、フェニルメチルク
ロロンランを使用する以外は実施例1と同様にして電極
反応を行なった。
Example 12 An electrode reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that phenylmethylchlororane was used as the raw material represented by the general formula (1).

その結果、21.2%の収率で1,2−ジフェニル−1
,2−ジメチルジシランが得られており、良好な収率で
5i−3i結合が生成していることが確認された。
As a result, 1,2-diphenyl-1 was obtained with a yield of 21.2%.
, 2-dimethyldisilane was obtained, and it was confirmed that 5i-3i bonds were produced in good yield.

実施例13 一般式(1)で示される原料として、アリルジメチルク
ロロシランを使用する以外は実施例1と同様にして電極
反応を行なった。
Example 13 Electrode reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that allyldimethylchlorosilane was used as the raw material represented by general formula (1).

分析の結果、1,2−ジアリル−1,1,2゜2−テト
ラメチルジシランが得られていることが確認された。
As a result of the analysis, it was confirmed that 1,2-diallyl-1,1,2°2-tetramethyldisilane was obtained.

実施例14 画電極としてAQ (1cmXO,1cmX5cm)を
使用する以外は実施例1と同様にして、ジメチルフェニ
ルクロロシランを電極反応に供した。
Example 14 Dimethylphenylchlorosilane was subjected to an electrode reaction in the same manner as in Example 1 except that AQ (1 cm x O, 1 cm x 5 cm) was used as the picture electrode.

分析の結果、1,2−ジフェニル−1,1,2゜2−テ
トラメチルジシランが得られていることが確認された。
As a result of analysis, it was confirmed that 1,2-diphenyl-1,1,2°2-tetramethyldisilane was obtained.

実施例15 一般式(1)で示される原料として、トリメチルクロロ
シラン(3mmol)とトリフェニルクロロシラン(3
mmol)とを使用する以外は実施例1と同様にして電
極反応を行なった。
Example 15 Trimethylchlorosilane (3 mmol) and triphenylchlorosilane (3 mmol) were used as raw materials represented by general formula (1).
The electrode reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that 2 mmol) was used.

反応終了後、ガスクロマトグラフィーによりヘキサメチ
ルジシランが生成していないことを確認し、IN塩酸を
100m1加え、エーテルで抽出した。抽出により得ら
れた白色固体を分析した結果、ヘキサフエニルジシラン
が61.1%の収率で生成していることが明らかとなっ
た。
After the reaction was completed, it was confirmed by gas chromatography that hexamethyldisilane was not produced, and 100 ml of IN hydrochloric acid was added, followed by extraction with ether. Analysis of the white solid obtained by the extraction revealed that hexaphenyldisilane was produced at a yield of 61.1%.

また、エーテル層からエーテルを留去して得られた固体
を分析した結果、1,1.1−)リフユニルー2.2,
24リメチルジシランが30゜3%の収率で得られてい
ることが判明した。
In addition, as a result of analyzing the solid obtained by distilling off the ether from the ether layer, it was found that
It was found that 24-lymethyldisilane was obtained in a yield of 30.3%.

実施例16 反応器を出力60W、周波数45kHzの超音波洗浄器
に浸漬する以外は実施例6と同様にして電極反応を行な
った。通電量が2F/molとなるまでの時間は、約1
0時間であった。
Example 16 Electrode reaction was carried out in the same manner as in Example 6, except that the reactor was immersed in an ultrasonic cleaner with an output of 60 W and a frequency of 45 kHz. The time it takes for the amount of current to reach 2F/mol is approximately 1
It was 0 hours.

生成物を分析したところ、1,2−ジフェニル1 −1.1,2.2−テトラメチルジシランが、91.3
%の収率で得られており、5i−8i結合が高収率で生
成していることが確認された。
Analysis of the product revealed that 1,2-diphenyl-1-1.1,2.2-tetramethyldisilane was 91.3
It was confirmed that the 5i-8i bond was produced in a high yield.

(以 上) 2(that's all) 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】 [1]ジシランの製造方法であって、一般式▲数式、化
学式、表等があります▼(1) (式中R_1、R_2およびR_3は、それぞれ同一或
いは異なって、水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ルコキシ基またはアミノ基を表わし、Xは、ハロゲン原
子を表わす) で示されるハロシランをMg、Cu、Zn、Snまたは
Alを陽極として使用する電極反応に供することにより
、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中R_1、R_2およびR_3は、上記に同じ)で
示されるジシランを形成させることを特徴とする方法。 [2]ジシランの製造方法であって、一般式▲数式、化
学式、表等があります▼(1) (式中R_1、R_2およびR_3は、それぞれ同一或
いは異なって、水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ルコキシ基またはアミノ基を表わし、Xは、ハロゲン原
子を表わす) で示されるハロシランを超音波の照射下にMg、Cu、
Zn、SnまたはAlを陽極として使用する電極反応に
供することにより、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中R_1、R_2およびR_3は、上記に同じ)で
示されるジシランを形成させることを特徴とする方法。 [3]ジシランの製造方法であって、一般式▲数式、化
学式、表等があります▼(1) (式中R_1、R_2およびR_3は、それぞれ同一或
いは異なって、水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ルコキシ基またはアミノ基を表わし、Xは、ハロゲン原
子を表わす) で示されるハロシランをMg、Cu、Zn、Snまたは
Alを一方の極とし、これらと同種または異種の導電性
材料を他方の極として一定の時間間隔で電極の極性を切
り替える電極反応に供することにより、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中R_1、R_2およびR_3は、上記に同じ)で
示されるジシランを形成させることを特徴とする方法。 [4]ジシランの製造方法であって、一般式▲数式、化
学式、表等があります▼(1) (式中R_1、R_2およびR_3は、それぞれ同一或
いは異なって、水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ルコキシ基またはアミノ基を表わし、Xは、ハロゲン原
子を表わす) で示されるハロシランを超音波の照射下にMg、Cu、
Zn、SnまたはAlを一方の極とし、これらと同種ま
たは異種の導電性材料を他方の極として一定の時間間隔
で電極の極性を切り替える電極反応に供することにより
、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中R_1、R_2およびR_3は、上記に同じ)で
示されるジシランを形成させることを特徴とする方法。
[Claims] [1] A method for producing disilane, which has the general formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (1) (In the formula, R_1, R_2 and R_3 are the same or different, and each represents a hydrogen atom. , an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an amino group, and X represents a halogen atom) is subjected to an electrode reaction using Mg, Cu, Zn, Sn, or Al as an anode. A method characterized by forming a disilane represented by the formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (2) (in the formula, R_1, R_2 and R_3 are the same as above). [2] A method for producing disilane, which includes the general formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (1) (In the formula, R_1, R_2, and R_3 are each the same or different, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. , represents an alkoxy group or an amino group, and X represents a halogen atom).
By subjecting to an electrode reaction using Zn, Sn or Al as an anode, disilane represented by the general formula ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼(2) (wherein R_1, R_2 and R_3 are the same as above) A method characterized by forming. [3] A method for producing disilane, which includes the general formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (1) (In the formula, R_1, R_2 and R_3 are the same or different, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group. , represents an alkoxy group or an amino group, and X represents a halogen atom) with Mg, Cu, Zn, Sn, or Al as one pole, and a conductive material of the same or different type as these as the other pole. By subjecting it to an electrode reaction in which the polarity of the electrode is changed at regular time intervals, the general formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (2) (in the formula, R_1, R_2 and R_3 are the same as above). A method characterized by forming disilane. [4] A method for producing disilane, which includes the general formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (1) (In the formula, R_1, R_2 and R_3 are the same or different, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group. , represents an alkoxy group or an amino group, and X represents a halogen atom).
By subjecting Zn, Sn or Al to one pole and a conductive material of the same or different type as the other pole, the general formula ▲mathematical formula, chemical formula, table ▼(2) A method characterized by forming a disilane represented by the formula (wherein R_1, R_2 and R_3 are the same as above).
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