JPH09275175A - Lead forming machine for semiconductor devices and control method therefor - Google Patents

Lead forming machine for semiconductor devices and control method therefor

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JPH09275175A
JPH09275175A JP8393696A JP8393696A JPH09275175A JP H09275175 A JPH09275175 A JP H09275175A JP 8393696 A JP8393696 A JP 8393696A JP 8393696 A JP8393696 A JP 8393696A JP H09275175 A JPH09275175 A JP H09275175A
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JP
Japan
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pressure
processing
press mechanism
lead
semiconductor device
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JP8393696A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Numajiri
一男 沼尻
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lead forming machine for semiconductor devices and control method therefor which improves the outer lead forming accuracy by equalizing working conditions. SOLUTION: A press mechanism controller 2 controls a press mechanism 3 for driving dies 4 for bending and forming outer leads of a semiconductor device such that a speed control system is applied during a bending work from the driving start of the dies 4 until approximately specified shape of the leads is attained, and a pressure control system is applied during a forming work to form the leads into a specified shape. Owing to the speed control system for the bending work, a stable work can be made at a fixed speed and the bending start position setting can be easily and accurately made to realize equalized working conditions, and owing to the pressure control system for the forming work, the formation at a fixed pressure can be made with reference of accurately determined forming start position, thus improving the forming accuracy of the leads.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の外部
リードを所定形状に加工する半導体装置のリード加工装
置及びその制御方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device lead processing apparatus for processing external leads of a semiconductor device into a predetermined shape and a control method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、樹脂封止型パッケージの半導体装
置は、半導体素子ペレットを搭載した多連リードフレー
ムにパッケージを形成し、パッケージから延出する複数
の外部リードを半導体装置のリード加工装置のプレス機
構の金型により打ち抜き、例えばガル・ウイング状(L
字型)に曲げ成形することによって形成される。
2. Description of the Related Art Conventionally, a resin-encapsulated package semiconductor device has a package formed on a multiple lead frame on which semiconductor element pellets are mounted, and a plurality of external leads extending from the package are connected to a semiconductor device lead processing apparatus. Punching with a press mechanism die, for example, gull wing shape (L
It is formed by bending into a letter shape.

【0003】このガル・ウイング状の曲げ成形を行うリ
ード加工装置のプレス機構は、油圧シリンダ等を用いた
圧力制御方式、あるいはサーボモータを用いた位置制御
方式により可動金型を駆動することよって上下動作さ
せ、外部リードの打ち抜き加工及び曲げ成形加工を行う
ようになっている。
The press mechanism of the lead processing apparatus for forming the gull-wing-shaped bending process moves up and down by driving the movable mold by a pressure control system using a hydraulic cylinder or the like, or a position control system using a servo motor. It is operated to perform punching and bending of external leads.

【0004】以下、従来技術について半導体装置の外部
リードをガル・ウイング状に曲げ成形する場合の例につ
いて、図9及び図10を参照して説明する。図9は圧力
制御方式の半導体装置のリード加工装置における加工速
度変化を示す図であり、図10は位置制御方式の半導体
装置のリード加工装置における加工圧力変化を示す図で
ある。
An example of bending the outer leads of a semiconductor device into a gull wing shape in the prior art will be described below with reference to FIGS. 9 and 10. FIG. 9 is a view showing a change in processing speed in a lead processing apparatus for a pressure control type semiconductor device, and FIG. 10 is a view showing a change in processing pressure in a lead processing apparatus for a position control type semiconductor device.

【0005】先ず、圧力制御方式の半導体装置のリード
加工装置で外部リードを曲げ成形してガル・ウイング状
にする場合、油圧シリンダによる可動金型の1ストロー
クの中で加工が全て行われる。そして、この加工過程で
は被加工物である外部リードからの反力が加工する内容
によって変化し、加工速度曲線Xは図9に示すようにな
り、加工途中での速度は加工速度曲線Xの中間部分の曲
線部Aに示されるように不安定なものとなっている。
First, when an external lead is bent and formed into a gull-wing shape in a pressure-controlled semiconductor device lead processing apparatus, all processing is performed within one stroke of a movable die by a hydraulic cylinder. Then, in this processing process, the reaction force from the external lead, which is the workpiece, changes depending on the content to be processed, the processing speed curve X becomes as shown in FIG. 9, and the processing speed is in the middle of the processing speed curve X. It is unstable as shown by the curved portion A of the part.

【0006】すなわち、加工を開始して可動金型が外部
リードに触れるまでは加工速度は直線的に増加する。可
動金型が外部リードに触れて打ち抜きと、パッケージ側
の根元部分の曲げ加工が開始されると加工速度は低下
し、さらに外部リードの先端が固定された固定金型に触
れ、外部リードの中間部の曲げ加工も加わった状態にな
ると加工速度はさらに遅い状態になる。そして、外部リ
ードの本数や前工程までの応力履歴による加工圧力の差
により、加工速度が不安定になり加工条件が不均一にな
る。
That is, the processing speed increases linearly until the movable die touches the external lead after the processing is started. When the movable die touches the external lead and punches it out, and the bending process of the base part on the package side starts, the machining speed decreases, and the tip of the external lead touches the fixed die, and the middle of the external lead When the bending of the part is also added, the processing speed becomes slower. Then, due to the difference in the processing pressure due to the number of external leads and the stress history up to the previous process, the processing speed becomes unstable and the processing conditions become non-uniform.

【0007】一方、圧力制御方式の半導体装置のリード
加工装置で同様に外部リードを曲げ成形してガル・ウイ
ング状にする場合、サーボモータによる可動金型の1ス
トロークの中で加工が略等速度で行われる。そして、こ
の加工過程での加工圧力曲線Yは図10に示すようにな
り、外部リードの中間部の曲げ加工後の成形のための最
終加工圧力が加工圧力曲線Yに例えば範囲Bで示すよう
にばらついた、不安定なものとなる。
On the other hand, in the case where the external leads are similarly bent and formed into a gull wing shape in the pressure control type semiconductor device lead processing apparatus, the processing is performed at substantially the same speed in one stroke of the movable mold by the servo motor. Done in. Then, the processing pressure curve Y in this processing process is as shown in FIG. 10, and the final processing pressure for forming after bending the intermediate portion of the external lead is as shown in the processing pressure curve Y in the range B, for example. It will be scattered and unstable.

【0008】すなわち、可動金型が外部リードに触れて
加工が開始されると加工圧力は急速に増加し、外部リー
ドのパッケージ側の根元部分の曲げ加工が開始されると
加工圧力は若干低下する。さらに外部リードの先端が固
定された固定金型に触れ、外部リードの中間部の曲げ加
工も加わった状態で加工圧力は増し、その後加工圧力は
増加し外部リードを最終形状にするためにさらに大きな
最終加工圧力が加えられる。そして、この最終加工圧力
は外部リードの厚さやプレス機構にセットされた金型の
高さ等に依存してばらつき、加工条件が不均一になる。
That is, when the movable die comes into contact with the external lead to start the processing, the processing pressure rapidly increases, and when the bending of the base portion of the external lead on the package side is started, the processing pressure slightly decreases. . Further, the processing pressure increases with the tip of the external lead touching the fixed mold, and the bending process of the middle part of the external lead is also applied, and then the processing pressure increases to make the external lead a final shape. Final processing pressure is applied. Then, the final processing pressure varies depending on the thickness of the external lead, the height of the mold set in the pressing mechanism, etc., and the processing conditions become non-uniform.

【0009】上記したように従来の圧力制御方式、ある
いは位置制御方式による半導体装置のリード加工装置で
は、半導体装置に設けられた外部リードの本数や前工程
までの応力履歴による加工応力の差により加工速度が不
安定になったり、あるいは加工開始位置や最終加工圧力
が外部リードの厚さや金型全体の高さばらつきに依存し
てばらつき、加工条件が不均一になっていた。
As described above, in the conventional semiconductor device lead processing apparatus using the pressure control method or the position control method, processing is performed by the difference in the processing stress due to the number of external leads provided in the semiconductor device and the stress history up to the previous process. The speed became unstable, or the processing start position and the final processing pressure fluctuated depending on the thickness of the external lead and the height variation of the entire die, resulting in non-uniform processing conditions.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上記のように半導体装
置の外部リードを成形する際、圧力制御方式による半導
体装置のリード加工装置での加工では加工応力の差によ
り加工速度が不安定になったり、あるいは位置制御方式
による半導体装置のリード加工装置での加工では加工開
始位置や最終加工圧力がばらつき、加工条件が不均一に
なっていた。このような状況に鑑みて本発明はなされた
もので、その目的とするところは均一化した加工条件の
もとに半導体装置の外部リードの加工精度の向上した成
形を行うことができる半導体装置のリード加工装置及び
その制御方法を提供することにある。
When molding the external leads of the semiconductor device as described above, the processing speed becomes unstable due to the difference in the processing stress in the processing by the lead processing apparatus of the semiconductor device by the pressure control method. Alternatively, in the processing by the lead processing apparatus of the semiconductor device by the position control method, the processing start position and the final processing pressure are varied, and the processing conditions are not uniform. The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of performing molding with improved processing accuracy of external leads of the semiconductor device under uniformized processing conditions. It is to provide a lead processing apparatus and a control method thereof.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置のリ
ード加工装置及びその制御方法は、半導体装置の外部リ
ードを曲げ加工及び成形加工するための金型と、この金
型を上下駆動するプレス機構と、金型の上下方向の位置
を検出する変位検出器と、金型にかかる圧力を検出する
圧力検出器と、プレス機構を速度制御方式及び圧力制御
方式で制御すると共に変位検出器及び圧力検出器の検出
出力に応じてプレス機構を制御するプレス機構制御部と
を備え、プレス機構は、プレス機構制御部によって金型
の駆動を開始してから外部リードが略所定形状となるま
での曲げ加工の間は速度制御方式によって制御が行わ
れ、所定形状となるよう成形するための成形加工では圧
力制御方式によって制御が行われるものであることを特
徴とするものであり、また、半導体装置の外部リードを
所定形状となるようプレス機構を制御し金型によって曲
げ加工及び成形加工する半導体装置のリード加工装置の
制御方法において、プレス機構を速度制御方式で制御す
ることにより加工を開始し曲げ加工を行った後、加工圧
力が所定圧力となった時点で圧力制御方式で制御するよ
うに切り替え該加工圧力を所定時間継続して加えるよう
にして成形加工を行うようにしたことを特徴としてお
り、さらに、プレス機構を速度制御方式で制御する過程
に少なくとも1つの速度変曲点を有し、金型の駆動を開
始する際の速度が定速度に制御されていることを特徴と
しており、さらに、プレス機構を速度制御方式で制御す
る過程の定速度領域で加工開始位置を検出するように
し、該加工開始位置を基準に外部リードの加工条件の設
定を行うようにしたことを特徴としており、また、半導
体装置の外部リードを曲げ加工及び成形加工するための
金型と、この金型を上下駆動するプレス機構と、金型の
上下方向の位置を検出する変位検出器と、金型にかかる
圧力を検出する圧力検出器と、プレス機構を速度制御方
式及び圧力制御方式で制御すると共に変位検出器及び圧
力検出器の検出出力に応じてプレス機構を制御するプレ
ス機構制御部とを具備することを特徴とするものであ
る。
A semiconductor device lead processing apparatus and method for controlling the same according to the present invention include a die for bending and forming external leads of a semiconductor device, and a press for driving the die up and down. Mechanism, displacement detector that detects the vertical position of the mold, pressure detector that detects the pressure applied to the mold, press mechanism is controlled by speed control method and pressure control method, and displacement detector and pressure A press mechanism control unit that controls the press mechanism according to the detection output of the detector is provided, and the press mechanism bends after the drive of the mold is started by the press mechanism control unit until the external leads have a substantially predetermined shape. It is characterized in that control is performed by a speed control method during processing, and that control is performed by a pressure control method in molding processing for forming into a predetermined shape. In addition, in a method of controlling a lead processing device of a semiconductor device, in which a pressing mechanism is controlled so that the external leads of the semiconductor device have a predetermined shape, and bending and forming are performed by a die, the pressing mechanism is controlled by a speed control method. After performing the bending process and performing the bending process, when the processing pressure reaches a predetermined pressure, the control is switched to the pressure control method so that the processing pressure is continuously applied for a predetermined time to perform the forming process. In addition, at least one speed inflection point is included in the process of controlling the press mechanism by the speed control method, and the speed at which the driving of the mold is started is controlled to a constant speed. Further, the processing start position is detected in the constant speed region in the process of controlling the press mechanism by the speed control method, and the external lead of the external lead is referenced based on the processing start position. It is characterized in that the working conditions are set, and a die for bending and forming the external leads of the semiconductor device, a press mechanism for vertically driving the die, and a vertical movement of the die. Displacement detector that detects the position in the direction, pressure detector that detects the pressure applied to the mold, press mechanism is controlled by speed control method and pressure control method, and according to the detection output of displacement detector and pressure detector And a press mechanism control unit for controlling the press mechanism.

【0012】そして、上記のように構成された半導体装
置のリード加工装置及びその制御方法は、半導体装置の
外部リードを曲げ加工及び成形加工するための金型を駆
動するプレス機構を、プレス機構制御部によって金型の
駆動開始から外部リードが略所定形状となるまでの曲げ
加工の間は速度制御方式によって制御し、所定形状とな
るよう成形するための成形加工では圧力制御方式によっ
て制御するようにしているので、曲げ加工においては速
度制御方式により制御を行うことによって安定した定速
度での加工を行うことができ、また加工開始位置の設定
が容易かつ正確に行なえるようになって加工条件の均一
化が実現でき、さらに成形加工においては圧力制御方式
による制御で定圧力での加工を正確に設定される加工開
始位置を基準にして行うことができることになり、外部
リードの加工精度が向上する。
The lead processing apparatus for a semiconductor device and the control method therefor configured as described above control the press mechanism for driving the die for bending and forming the external leads of the semiconductor device by controlling the press mechanism. The part is controlled by the speed control method during the bending process from the start of driving the die until the external lead has a substantially predetermined shape, and the pressure control method is used for the molding processing for forming the external shape. Therefore, in bending, it is possible to perform processing at a stable constant speed by controlling with a speed control method, and it becomes possible to set the processing start position easily and accurately and Uniformity can be realized, and in the molding process, the pressure control method is used to accurately set the constant pressure for machining. It will be able to do so, to improve machining accuracy of the outer leads.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図1
乃至図8を参照して説明する。図1は半導体装置のリー
ド加工装置の概略を示す構成図であり、図2は外部リー
ド成形の加工過程を示す要部の断面図であり、図3は加
工工程の制御のフローチャートであり、図4はプレス機
構の変位状況を示す図であり、図5はプレス機構の変位
検出器の出力を示す図であり、図6はプレス機構の圧力
検出器の出力を示す図であり、図7はプレス機構の加工
速度変化を示す図であり、図8はプレス機構の加工圧力
変化を示す図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.
This will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a block diagram showing the outline of a lead processing apparatus for a semiconductor device, FIG. 2 is a sectional view of an essential part showing a processing process of external lead molding, and FIG. 3 is a flow chart of control of the processing process. 4 is a diagram showing the displacement state of the press mechanism, FIG. 5 is a diagram showing the output of the displacement detector of the press mechanism, FIG. 6 is a diagram showing the output of the pressure detector of the press mechanism, and FIG. It is a figure which shows the processing speed change of a press mechanism, and FIG. 8 is a figure which shows the processing pressure change of a press mechanism.

【0014】図1乃至図8において、半導体装置のリー
ド加工装置1は、プレス機構制御部2からの制御信号に
よる速度制御及び圧力制御のもとに上下動作するプレス
機構3と金型4を備えて構成されている。金型4は被加
工物である半導体装置5及びその外部リード6を固定す
る上押え金型7と下押え金型8、さらにプレス機構3の
上下動作により駆動される可動金型9によって構成され
ている。
1 to 8, a lead processing apparatus 1 for a semiconductor device is provided with a press mechanism 3 and a die 4 which move up and down under speed control and pressure control by a control signal from a press mechanism control unit 2. Is configured. The die 4 is composed of an upper pressing die 7 and a lower pressing die 8 for fixing the semiconductor device 5 which is a workpiece and the external leads 6 thereof, and a movable die 9 driven by the vertical movement of the pressing mechanism 3. ing.

【0015】また、プレス機構3には可動金型9の上下
方向の位置を検出する変位検出器10と、可動金型9に
加工時に加わる圧力を検出する圧力検出器11が設けら
れている。さらに、変位検出器10及び圧力検出器11
のそれぞれで検出された変位信号及び圧力信号がプレス
機構制御部2に出力されるようになっている。なお、可
動金型9に加わる圧力を検出する圧力検出器11として
は、例えば加工時に発生する可動金型9からの反力を検
出するように構成した検出器、また変位検出器10とし
ては、例えば可動金型9と外部リード6との相対位置関
係を電気的に、あるいは光学的に検出するように構成し
た検出器などがあり、その他公知の検出器であってもよ
い。
Further, the press mechanism 3 is provided with a displacement detector 10 for detecting the vertical position of the movable mold 9 and a pressure detector 11 for detecting the pressure applied to the movable mold 9 during processing. Further, the displacement detector 10 and the pressure detector 11
The displacement signal and the pressure signal detected by each of the above are output to the press mechanism control unit 2. The pressure detector 11 for detecting the pressure applied to the movable mold 9 is, for example, a detector configured to detect a reaction force from the movable mold 9 generated during processing, and the displacement detector 10 includes: For example, there is a detector configured to electrically or optically detect the relative positional relationship between the movable mold 9 and the external lead 6, and other known detectors may be used.

【0016】次に、このような半導体装置のリード加工
装置1の外部リード成形の加工過程について、図2に示
す加工過程の要部の断面図、図3に示すフローチャート
に沿って、図4のプレス機構の変位状況を示す図及び図
5の変位検出器の出力を示す図、図6の圧力検出器の出
力を示す図を参照しながら説明する。
Next, regarding the processing process of external lead molding of the lead processing apparatus 1 for such a semiconductor device, a sectional view of the main part of the processing process shown in FIG. 2 and a flow chart shown in FIG. A description will be given with reference to the diagram showing the displacement state of the press mechanism, the diagram showing the output of the displacement detector of FIG. 5, and the diagram showing the output of the pressure detector of FIG.

【0017】先ず、第1のステップSにおいて、プレ
ス機構制御部2に対しプレス機構3の動作位置、加工速
度、加工圧力、加工時間等の加工条件設定を行う。そし
て外部リード6が成形されていない樹脂封止型の半導体
装置5を金型4の上押え金型7と下押え金型8とによっ
て固定する。通常、半導体装置5は多連リードフレーム
に形成されている。
First, in the first step S 1 , the processing conditions such as the operating position of the press mechanism 3, the processing speed, the processing pressure and the processing time are set to the press mechanism control unit 2. Then, the resin-sealed semiconductor device 5 in which the external leads 6 are not molded is fixed by the upper pressing die 7 and the lower pressing die 8 of the die 4. Usually, the semiconductor device 5 is formed in a multiple lead frame.

【0018】続く第2のステップSにおいて、プレス
機構3の動作を開始させ速度制御を行いながら可動金型
9を、例えば予め設定された比較的早い定速度の第1の
速度V1 で下降させる。
In the following second step S 2 , the movable mold 9 is lowered at a preset first relatively fast constant speed V 1 while starting the operation of the press mechanism 3 and controlling the speed. Let

【0019】次の第3のステップSにおいて、予め設
定された変位hM のアプローチ位置Mに可動金型9が到
達したか否かの判断が変位検出器10の検出結果に基づ
き行なわれる。アプローチ位置Mは、例えば可動金型9
と被加工物である外部リード6とが接触する変位hN
接触位置Nの0.1mm手前の位置にする。このアプロ
ーチ位置Mまでの経過時間を時間tM とする。そして可
動金型9がアプローチ位置に到達した場合には次の第4
のステップSに移行し、到達しない場合は第2のステ
ップSの可動金型9の下降を継続する。
In the next third step S 3 , whether or not the movable mold 9 has reached the approach position M of the preset displacement h M is determined based on the detection result of the displacement detector 10. The approach position M is, for example, the movable mold 9
And the external lead 6 which is the work piece come into contact with each other at a position 0.1 mm before the contact position N of the displacement h N. The elapsed time to the approach position M is defined as time t M. When the movable mold 9 reaches the approach position, the next fourth
The process proceeds to step S 4, if it does not reach to continue the lowering of the second step S 2 of the movable mold 9.

【0020】次に第4のステップSにおいて、アプロ
ーチ位置Mに可動金型9が達した時点でプレス機構3の
動作の制御を速度制御及び圧力制御とし、速度制御及び
圧力制御のもとに可動金型9を、例えば予め設定された
第2の速度V2 の定速度に切り換えて下降させる。ここ
で第2の速度V2 は、後述する曲げ加工での適正速度で
あって、先のアプローチ位置Mに到達させるための第1
の速度V1 よりも遅いものとなっている。
Next, in the fourth step S 4 , when the movable mold 9 reaches the approach position M, the control of the operation of the press mechanism 3 is speed control and pressure control. Under the speed control and pressure control, The movable mold 9 is moved down, for example, by switching to a constant speed of a preset second speed V 2 . Here, the second speed V 2 is an appropriate speed in the later-described bending work, and is the first speed for reaching the approach position M.
The speed is slower than the speed V 1 .

【0021】そして第5のステップSにおいて、可動
金型9が外部リード6と接触する接触位置Nに到達した
か否かの判断が行なわれる。可動金型9が接触位置Nに
到達した場合には次の第6のステップSに移行し、到
達しない場合は第4のステップSの可動金型9の下降
を継続する。時間tN は可動金型9が接触位置Nに到達
するまでの経過時間である。
Then, in a fifth step S 5 , it is judged whether or not the movable mold 9 has reached the contact position N where the movable lead 9 contacts the external lead 6. When the movable mold 9 reaches the contact position N, the process proceeds to step S 6 of the sixth following, if not reached to continue the descent of the movable mold 9 in the fourth step S 4. The time t N is the elapsed time until the movable mold 9 reaches the contact position N.

【0022】次に第6のステップSにおいて、可動金
型9による外部リード6の加工を開始し、速度制御及び
圧力制御のもとに第2の速度V2 の一定速度で可動金型
9を下降させて加工を継続する。加工は、打ち抜きと共
に外部リード6の根元側中間部分での第1の曲げ加工か
ら始まり、第1の曲げ加工により外部リード6の先端が
下押え金型8に接触すると、さらに外部リード6の先端
側中間部分での第2の曲げ加工が開始される。そして第
1の曲げ加工及び第2の曲げ加工で外部リード6が大略
ガル・ウイング状に形成される。
Next sixth in step S 6 of starts processing of the external lead 6 by the movable mold 9, the speed control and the movable mold to the original pressure control in the second constant rate of velocity V 2 9 To lower and continue processing. The processing starts with punching and first bending at the root-side intermediate portion of the outer lead 6, and when the tip of the outer lead 6 contacts the lower presser die 8 by the first bending, the tip of the outer lead 6 is further cut. The second bending process at the side intermediate portion is started. Then, the outer lead 6 is formed into a gull wing shape by the first bending process and the second bending process.

【0023】続く第7のステップSにおいて、可動金
型9がリード加工の変位hO の終了位置Oに到達したか
否かの判断が、加工圧力が所定の最終加圧力Pになった
か否かを圧力検出器11で検出することによって行なわ
れる。変位hN から変位hOまでが可動金型9による外
部リード6の加工ストロークHである。可動金型9が終
了位置Oに到達した場合には次の第8のステップS
移行し、到達しない場合は第6のステップSの可動金
型9を下降させての加工を継続する。
[0023] In a seventh step S 7 that follows, either movable mold 9 is whether the host vehicle has reached the end position O of the displacement h O of lead processing determination, processing pressure reaches a predetermined final pressure P not This is performed by detecting whether or not it is detected by the pressure detector 11. The displacement h N to the displacement h O is the processing stroke H of the external lead 6 by the movable mold 9. Proceeds to step S 8 of the eighth following when the movable mold 9 reaches the end position O, if not reached to continue the process of lowering the movable mold 9 in step S 6 of the sixth .

【0024】次に第8のステップSにおいて、プレス
機構3の動作の制御を圧力制御とし、最終加圧力Pを維
持しながら可動金型9を終了位置Oに継続して位置させ
て外部リード6を押圧する成形加工を行う。
Next in step S 8 of the eighth, the control of the operation of the press mechanism 3 and the pressure control, the final while maintaining the pressure P is positioned to continue the movable mold 9 to the end position O to the external lead A molding process for pressing 6 is performed.

【0025】そして第9のステップSにおいて、可動
金型9による最終加圧力Pを維持しての外部リード6の
押圧が時間tO から所定時間Tだけ継続したか否かの判
断が行なわれる。最終加圧力Pによる外部リード6の押
圧が所定時間T継続した場合には次の第10のステップ
10に移行し、到達しない場合は第8のステップS
の最終加圧力Pによる押圧を継続する。時間tQ は最終
加圧力Pを時間tO から所定時間T維持した時点までの
経過時間である。
[0025] In step S 9 of the ninth for determining whether or not the pressing of the external lead 6 of maintaining the final pressure P by the movable mold 9 continues from time t O a predetermined time T is performed . When the pressing of the external lead 6 by the final pressure P continues for a predetermined time T, the process proceeds to step S 10 of the first 10 of the next, if not reach Step S 8 of the eighth
The pressing by the final pressing force P of No. is continued. The time t Q is the elapsed time from the time t O of the final pressurizing force P to the time point when it is maintained for the predetermined time T.

【0026】次に第10のステップS10において、プ
レス機構3の動作の制御を速度制御とし、可動金型9を
第3の速度V3 で上昇させて加工を終了する。
Next in step S 10 of the first 10, and a speed control to control the operation of the press mechanism 3, and ends the processing of movable mold 9 is raised at a third velocity V 3.

【0027】なお、図2(a)は可動金型9が接触位置
Nに到達した状態を示す断面図、図2(b)は可動金型
9による第1の曲げ加工途中の断面図、図2(c)は可
動金型9による成形加工途中の断面図である。
2A is a sectional view showing a state where the movable mold 9 reaches the contact position N, and FIG. 2B is a sectional view showing the movable mold 9 during the first bending process. 2 (c) is a cross-sectional view of the movable mold 9 during molding.

【0028】また、外部リード6を加工する間の加工速
度及び加工圧力の変化は、図7に示す加工速度曲線X0
及び図8に示す加工圧力曲線Y0 の通りとなる。すなわ
ち、打ち抜きから第1の曲げ加工及び第2の曲げ加工は
等速度で行われ、この間、第1の曲げ加工開始の初期時
点で加工圧力の上昇が見られるが曲がり始めると加工圧
力は漸減し、また外部リード6の先端側中間部分での第
2の曲げ加工が開始されると再び加工圧力は上昇する。
The changes in the processing speed and the processing pressure during the processing of the external lead 6 are shown by the processing speed curve X 0 shown in FIG.
And the processing pressure curve Y 0 shown in FIG. That is, the punching to the first bending and the second bending are performed at a constant speed. During this period, the processing pressure rises at the initial point of the start of the first bending, but when the bending starts, the processing pressure gradually decreases. When the second bending process is started at the tip end side intermediate portion of the outer lead 6, the working pressure rises again.

【0029】そして可動金型9が下死点に達し外部リー
ド6が大略所定のガル・ウイング状に成形されると、そ
の際の加工圧力が所定時間維持され成形加工が行われ
る。これによって外部リード6は最終のガル・ウイング
形状となる。
When the movable mold 9 reaches the bottom dead center and the outer lead 6 is molded into a substantially predetermined gull wing shape, the processing pressure at that time is maintained for a predetermined time, and the molding process is performed. This gives the outer leads 6 the final gull wing shape.

【0030】以上のように、打ち抜き加工及び曲げ加工
においては速度制御を行うことによって定速度で加工を
行い、成形加工においては圧力制御を行うことによって
定圧力で加工を行うことができ、加工速度が不安定にな
ってしまう問題がなくなり、また加工開始位置(接触位
置N)や最終加工圧力Pを予め設定しておくことで,外
部リード6の厚さや金型4全体の高さのばらつきなどに
よる加工条件の不均一化が防止でき、さらに加工条件が
適正なものになるよう最適化することができ、外部リー
ドの加工精度が向上しばらつきの少ない最終形状とする
ことができる。
As described above, in punching and bending, it is possible to perform processing at a constant speed by controlling the speed, and in forming processing, it is possible to perform processing at a constant pressure by controlling the pressure. Does not become unstable, and by setting the processing start position (contact position N) and the final processing pressure P in advance, variations in the thickness of the external leads 6 and the height of the mold 4 as a whole, etc. It is possible to prevent non-uniformity of the processing conditions due to, and further, it is possible to optimize the processing conditions so as to be appropriate, and it is possible to improve the processing accuracy of the external leads and obtain a final shape with less variation.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
は、半導体装置の外部リードを曲げ加工及び成形加工す
るための金型を駆動するプレス機構を、プレス機構制御
部によって金型の駆動開始から外部リードが略所定形状
となるまでの曲げ加工の間は速度制御方式によって制御
し、所定形状となるよう成形するための成形加工では圧
力制御方式によって制御する構成としたことにより、加
工条件が均一化されて外部リードの加工精度が向上する
等の効果を奏する。
As is apparent from the above description, according to the present invention, a press mechanism for driving a die for bending and forming external leads of a semiconductor device is driven by a press mechanism controller. During the bending process from the start to the time when the external lead has a substantially predetermined shape, the speed control method is used for control, and the pressure control method is used for the molding process for forming the wire to have the predetermined shape. Is uniformized, and the processing accuracy of the external leads is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る半導体装置のリード
加工装置の概略を示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing an outline of a semiconductor device lead processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施形態における外部リード成形の
加工過程を示す要部の断面図で、図2(a)は可動金型
9が接触位置Nに到達した状態を示す断面図、図2
(b)は可動金型9による第1の曲げ加工途中の断面
図、図2(c)は可動金型9による成形加工途中の断面
図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part showing a processing process of external lead molding in an embodiment of the present invention, and FIG. 2A is a cross-sectional view showing a state where a movable mold 9 reaches a contact position N, Two
FIG. 2B is a sectional view of the movable die 9 during the first bending process, and FIG. 2C is a sectional view of the movable die 9 during the forming process.

【図3】本発明の一実施形態における加工工程の制御の
フローチャートである。
FIG. 3 is a flow chart of control of a machining process according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施形態におけるプレス機構の変位
状況を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a displacement state of the press mechanism according to the embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施形態におけるプレス機構の変位
検出器の出力を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an output of the displacement detector of the press mechanism according to the embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一実施形態におけるプレス機構の圧力
検出器の出力を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an output of the pressure detector of the press mechanism according to the embodiment of the present invention.

【図7】本発明の一実施形態におけるプレス機構の加工
速度変化を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a change in processing speed of the press mechanism according to the embodiment of the present invention.

【図8】本発明の一実施形態におけるプレス機構の加工
圧力変化を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a processing pressure change of the press mechanism according to the embodiment of the present invention.

【図9】従来の圧力制御方式の半導体装置のリード加工
装置における加工速度変化を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a change in processing speed in a conventional lead processing apparatus for a pressure control type semiconductor device.

【図10】従来の位置制御方式の半導体装置のリード加
工装置における加工圧力変化を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a processing pressure change in a conventional lead processing apparatus for a position control type semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…プレス機構制御部 3…プレス機構 4…金型 5…半導体装置 6…外部リード 7…上押え金型 8…下押え金型 9…可動金型 10…変位検出器 11…圧力検出器 2 ... Press mechanism control unit 3 ... Press mechanism 4 ... Mold 5 ... Semiconductor device 6 ... External lead 7 ... Top pressing mold 8 ... Bottom pressing mold 9 ... Movable mold 10 ... Displacement detector 11 ... Pressure detector

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体装置の外部リードを曲げ加工及び
成形加工するための金型と、この金型を上下駆動するプ
レス機構と、前記金型の上下方向の位置を検出する変位
検出器と、前記金型にかかる圧力を検出する圧力検出器
と、前記プレス機構を速度制御方式及び圧力制御方式で
制御すると共に前記変位検出器及び圧力検出器の検出出
力に応じて前記プレス機構を制御するプレス機構制御部
とを備え、前記プレス機構は、前記プレス機構制御部に
よって前記金型の駆動を開始してから前記外部リードが
略所定形状となるまでの曲げ加工の間は速度制御方式に
よって制御が行われ、所定形状となるよう成形するため
の成形加工では圧力制御方式によって制御が行われるも
のであることを特徴とする半導体装置のリード加工装
置。
1. A mold for bending and forming an external lead of a semiconductor device, a press mechanism for vertically driving the mold, and a displacement detector for detecting the vertical position of the mold. A pressure detector that detects the pressure applied to the mold, and a press that controls the press mechanism by a speed control method and a pressure control method and controls the press mechanism according to the detection outputs of the displacement detector and the pressure detector. A mechanism control unit, and the press mechanism is controlled by a speed control method during the bending process from the start of the driving of the mold by the press mechanism control unit until the outer lead has a substantially predetermined shape. A lead processing apparatus for a semiconductor device, wherein a molding process for molding into a predetermined shape is controlled by a pressure control method.
【請求項2】 半導体装置の外部リードを所定形状とな
るようプレス機構を制御し金型によって曲げ加工及び成
形加工する半導体装置のリード加工装置の制御方法にお
いて、前記プレス機構を速度制御方式で制御することに
より加工を開始し曲げ加工を行った後、加工圧力が所定
圧力となった時点で圧力制御方式で制御するように切り
替え該加工圧力を所定時間継続して加えるようにして成
形加工を行うようにしたことを特徴とする半導体装置の
リード加工装置の制御方法。
2. A method of controlling a lead processing apparatus for a semiconductor device, wherein a press mechanism is controlled so that an external lead of the semiconductor device has a predetermined shape, and a bending process and a forming process are performed by a die, wherein the press mechanism is controlled by a speed control method. After the processing is started and the bending is performed, when the processing pressure reaches a predetermined pressure, the control is switched to the pressure control method, and the processing pressure is continuously applied for a predetermined time to perform the forming processing. A method for controlling a semiconductor device lead processing apparatus, comprising:
【請求項3】 プレス機構を速度制御方式で制御する過
程に少なくとも1つの速度変曲点を有し、金型の駆動を
開始する際の速度が定速度に制御されていることを特徴
とする請求項2記載の半導体装置のリード加工装置の制
御方法。
3. A speed control system having at least one speed inflection point in the process of controlling the press mechanism by a speed control method, and the speed at which the driving of the mold is started is controlled to a constant speed. A method for controlling a lead processing apparatus for a semiconductor device according to claim 2.
【請求項4】 プレス機構を速度制御方式で制御する過
程の定速度領域で加工開始位置を検出するようにし、該
加工開始位置を基準に外部リードの加工条件の設定を行
うようにしたことを特徴とする請求項2記載の半導体装
置のリード加工装置の制御方法。
4. The processing start position is detected in a constant speed region in the process of controlling the press mechanism by a speed control method, and the processing conditions of the external lead are set on the basis of the processing start position. The method for controlling a lead processing apparatus for a semiconductor device according to claim 2, wherein
【請求項5】 半導体装置の外部リードを曲げ加工及び
成形加工するための金型と、この金型を上下駆動するプ
レス機構と、前記金型の上下方向の位置を検出する変位
検出器と、前記金型にかかる圧力を検出する圧力検出器
と、前記プレス機構を速度制御方式及び圧力制御方式で
制御すると共に前記変位検出器及び圧力検出器の検出出
力に応じて前記プレス機構を制御するプレス機構制御部
とを具備することを特徴とする半導体装置のリード加工
装置。
5. A die for bending and forming an external lead of a semiconductor device, a press mechanism for vertically driving the die, and a displacement detector for detecting a vertical position of the die. A pressure detector that detects the pressure applied to the mold, and a press that controls the press mechanism by a speed control method and a pressure control method and controls the press mechanism according to the detection outputs of the displacement detector and the pressure detector. A lead processing apparatus for a semiconductor device, comprising: a mechanism control unit.
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