JPH09274307A - Circuit pattern dividing method - Google Patents

Circuit pattern dividing method

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JPH09274307A
JPH09274307A JP11030596A JP11030596A JPH09274307A JP H09274307 A JPH09274307 A JP H09274307A JP 11030596 A JP11030596 A JP 11030596A JP 11030596 A JP11030596 A JP 11030596A JP H09274307 A JPH09274307 A JP H09274307A
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Japan
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circuit pattern
pattern
divided
reticle
lead wire
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JP11030596A
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Japanese (ja)
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Manabu Toguchi
学 戸口
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Original Assignee
Nikon Corp
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
    • G03F7/70433Layout for increasing efficiency or for compensating imaging errors, e.g. layout of exposure fields for reducing focus errors; Use of mask features for increasing efficiency or for compensating imaging errors
    • GPHYSICS
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    • G03F7/70475Stitching, i.e. connecting image fields to produce a device field, the field occupied by a device such as a memory chip, processor chip, CCD, flat panel display

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce load on the design of a reticle by dividing a circuit pattern so that at least a part of a display part and a part of a conduction part may be included in one division area. SOLUTION: The circuit pattern 20 is provided with eight lead wire groups 22 at the 1st and the 2nd ends 21A and 21B of a periphery part 21, and four lead wire groups 23 at the 3rd end 21C thereof. The circuit pattern 20 is divided into two in an orthogonal direction to a longitudinal direction so that the 1st and the 2nd ends 21A and 21B may make four lead wire groups 22 one pattern. The respective blocks are divided into two so that the 1st end 21A and the 2nd end 21B may make three lead wire groups 22 one pattern on the central part side of each circuit pattern 20. Next, the circuit pattern 20 is divided in the longitudinal direction so that the 3rd end 21C may make two lead wire groups 23 one pattern. Then, the circuit pattern 20 is divided into eight division patterns 12A to 12F.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は回路パターン分割方
法に関し、例えば液晶デイスプレイ(LCD:liquidCrysta
l Display)の回路パターンを分割する回路パターン分
割方法に適用して好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a circuit pattern dividing method, for example, a liquid crystal display (LCD).
It is suitable to be applied to a circuit pattern dividing method for dividing a circuit pattern of l Display).

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パーソナルコンピユータやテレビ
ジヨン受像機等の表示素子として液晶デイスプレイが多
用されている。従来、この液晶デイスプレイにおいて
は、フオトリソグラフイの手法によつて所望の回路パタ
ーンがパターニングされたガラス基板が用いられて作ら
れている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal displays have been widely used as display elements for personal computers and television receivers. Conventionally, in this liquid crystal display, a glass substrate on which a desired circuit pattern is patterned by a photolithography method is used.

【0003】ここでガラス基板に回路パターンをパター
ニングする際の露光工程では、通常、投影型の露光装置
が用いられる。この露光装置においては、光源から射出
された露光光を液晶デイスプレイの回路パターンが形成
されたレチクルに照射すると共に、当該露光光がレチク
ルを通過して得られる回路パターンの投影像を投影光学
系を介してガラス基板上に設けられたレジスト膜に投影
し、これにより当該ガラス基板上のレジスト膜を露光パ
ターンに応じて露光し得るようになされている。
A projection type exposure apparatus is usually used in the exposure step for patterning a circuit pattern on the glass substrate. In this exposure apparatus, exposure light emitted from a light source is applied to a reticle on which a circuit pattern of a liquid crystal display is formed, and a projection image of the circuit pattern obtained by the exposure light passing through the reticle is projected by a projection optical system. It is designed such that the resist film provided on the glass substrate can be projected through it, and thereby the resist film on the glass substrate can be exposed according to the exposure pattern.

【0004】この場合図3に示すように、液晶デイスプ
レイの回路パターン1は、例えば長方形状でなり、表示
部2と当該表示部2を取り囲むように形成された周辺部
3とから構成されている。表示部2は赤、緑、青の複数
の画素に応じた複数の電極が規則正しく配列されたパタ
ーンでなる。また周辺部3は、各電極のパターンとこれ
ら各電極を駆動する図示しない複数のドライバ回路とを
それぞれ導通させる複数のリード線のパターンからなる
例えば台形の複数の導通部(以下、これをリード線群と
呼ぶ)4を有する。
In this case, as shown in FIG. 3, the circuit pattern 1 of the liquid crystal display has, for example, a rectangular shape and comprises a display portion 2 and a peripheral portion 3 formed so as to surround the display portion 2. . The display unit 2 has a pattern in which a plurality of electrodes corresponding to a plurality of red, green, and blue pixels are regularly arranged. In addition, the peripheral portion 3 includes, for example, a plurality of trapezoidal conductive portions (hereinafter, referred to as lead wires) formed of a plurality of lead wire patterns that electrically connect a pattern of each electrode and a plurality of driver circuits (not shown) that drive these electrodes. Called group) 4.

【0005】ところで最近では、液晶デイスプレイの大
面積化が要求されている。これに伴い液晶デイスプレイ
の回路パターン1は、その大きさが上述した露光装置の
投影光学系の有効径の大きさ及びレチクルの回路パター
ンが形成される面の大きさ(以下、これらの大きさを単
に有効フイールドと呼ぶ)よりも大きい場合、この有効
フイールドに応じて複数種類のパターンに分割される。
従つてこの場合には、回路パターンが分割されてなる各
パターン(以下、これを分割パターンと呼ぶ)をそれぞ
れ複数のレチクル上に形成し、露光装置を用いて各レチ
クルに形成した各分割パターンをそれぞれガラス基板上
の所定位置に投影することにより、当該ガラス基板上の
レジスト膜を回路パターン1に応じて露光し得るように
なされている。
By the way, recently, a large area of the liquid crystal display is required. Accordingly, the size of the circuit pattern 1 of the liquid crystal display is the size of the effective diameter of the projection optical system of the exposure apparatus described above and the size of the surface on which the circuit pattern of the reticle is formed (hereinafter, these sizes will be referred to as If it is larger than the effective field), it is divided into a plurality of types of patterns according to the effective field.
Therefore, in this case, each pattern formed by dividing the circuit pattern (hereinafter, referred to as a division pattern) is formed on each of a plurality of reticles, and each division pattern formed on each reticle using an exposure apparatus is used. By projecting each onto a predetermined position on the glass substrate, the resist film on the glass substrate can be exposed according to the circuit pattern 1.

【0006】ここで、まず図4(A)及び(B)に示す
ように、液晶デイスプレイの回路パターン1が有効フイ
ールドの大きさとほぼ同じ程度までの大きさを有する場
合には、当該回路パターン1を分割せず(図4
(A))、この回路パターン1をレチクル5に形成する
(図4(B))。従つて露光装置においては、レチクル
5を用いて1回の露光処理を行うことにより回路パター
ン1に応じてガラス基板上のレジスト膜を露光する。
First, as shown in FIGS. 4A and 4B, when the circuit pattern 1 of the liquid crystal display has a size substantially equal to the size of the effective field, the circuit pattern 1 concerned. (Fig. 4
(A)), this circuit pattern 1 is formed on the reticle 5 (FIG. 4 (B)). Therefore, in the exposure apparatus, the resist film on the glass substrate is exposed according to the circuit pattern 1 by performing one exposure process using the reticle 5.

【0007】ところで図5(A)及び(B)に示すよう
に、液晶デイスプレイの回路パターン1が有効フイール
ドの大きさ以上で、かつ当該有効フイールドの大きさの
2倍程度までの大きさを有する場合には、当該回路パタ
ーン1を有効フイールドに応じて分割パターンB及び分
割パターンCの2つに分割し(図5(A))、これら分
割パターンB及びCをそれぞれレチクル6A及び6Bに
形成する(図5(B))。
By the way, as shown in FIGS. 5A and 5B, the circuit pattern 1 of the liquid crystal display has a size equal to or larger than the effective field and up to about twice the size of the effective field. In this case, the circuit pattern 1 is divided into two, that is, a divided pattern B and a divided pattern C according to the effective field (FIG. 5A), and these divided patterns B and C are formed on the reticles 6A and 6B, respectively. (FIG. 5 (B)).

【0008】この場合露光装置においては、例えば先に
レチクル6Aを用いてガラス基板上のレジスト膜に回路
パターン1の左半分の分割パターンBを投影し、この後
レチクル6Bを用いてガラス基板上のレジスト膜に回路
パターン1の残りの右半分の分割パターンCを投影す
る。このようにして露光装置においては、レチクル6A
及び6Bを用いて2回の露光処理を行うことにより回路
パターン1に応じてガラス基板上のレジスト膜を露光す
る。
In this case, in the exposure apparatus, for example, the reticle 6A is first used to project the divided pattern B of the left half of the circuit pattern 1 on the resist film on the glass substrate, and then the reticle 6B is used to project the divided pattern B on the glass substrate. The remaining right half divided pattern C of the circuit pattern 1 is projected on the resist film. Thus, in the exposure apparatus, the reticle 6A
And 6B are used to expose the resist film on the glass substrate according to the circuit pattern 1 by performing the exposure process twice.

【0009】また図6(A)及び(B)に示すように、
液晶デイスプレイの回路パターン1が有効フイールドの
大きさの2倍以上で、かつ当該有効フイールドの大きさ
の4倍程度までの大きさを有する場合には、当該回路パ
ターン1を有効フイールドに応じて分割パターンD、分
割パターンE、分割パターンF及び分割パターンGの4
つに分割し(図6(A))、これら分割パターンD〜G
をそれぞれレチクル7A、7B、7C及び7Dに形成す
る(図6(B))。
As shown in FIGS. 6A and 6B,
If the circuit pattern 1 of the liquid crystal display is more than twice the size of the effective field and has a size up to about 4 times the size of the effective field, the circuit pattern 1 is divided according to the effective field. 4 of pattern D, divided pattern E, divided pattern F and divided pattern G
(FIG. 6A), and these division patterns D to G
Are formed on the reticles 7A, 7B, 7C, and 7D, respectively (FIG. 6B).

【0010】従つて露光装置においては、例えば先にレ
チクル7Aを用いてガラス基板上のレジスト膜に回路パ
ターン1の左上の分割パターンDを投影し、次いでレチ
クル7Bを用いてガラス基板上のレジスト膜に回路パタ
ーン1の右上の分割パターンEを投影し、続いてレチク
ル7Cを用いてガラス基板上のレジスト膜に回路パター
ン1の左下の分割パターンFを投影し、最後にレチクル
7Dを用いてガラス基板上のレジスト膜に回路パターン
1の右下の分割パターンGを投影する。このようにして
露光装置においては、レチクル7A〜7Dを用いて4回
の露光処理を行うことにより回路パターン1に応じてガ
ラス基板上のレジスト膜を露光する。
Therefore, in the exposure apparatus, for example, the reticle 7A is first used to project the division pattern D on the upper left of the circuit pattern 1 onto the resist film on the glass substrate, and then the reticle 7B is used to project the resist film on the glass substrate. On the upper right of the circuit pattern 1 is projected onto the resist pattern on the glass substrate by using the reticle 7C, and then the lower left divided pattern F of the circuit pattern 1 is projected onto the resist film on the glass substrate. Finally, the reticle 7D is used to project onto the glass substrate. The division pattern G on the lower right of the circuit pattern 1 is projected on the upper resist film. Thus, in the exposure apparatus, the resist film on the glass substrate is exposed according to the circuit pattern 1 by performing the exposure process four times using the reticles 7A to 7D.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところでこのような液
晶デイスプレイの回路パターン1が有効フイールドの大
きさの4倍以上の大きさを有する場合には、当該回路パ
ターン1を有効フイールドに応じて表示部2と周辺部3
とに分割すると共に、さらにこれら表示部2及び周辺部
3をそれぞれ細かく分割する。例えば図7(A)に示す
ように、液晶デイスプレイの回路パターン1において表
示部2は、ほぼ均等に6つに分割される。この場合表示
部2においては、各電極のパターンが比較的小さく、か
つ各画素に応じて規則正しく配列されていることによ
り、ほぼ同じパターンでなる6つの分割パターンHに分
割される。
When the circuit pattern 1 of such a liquid crystal display has a size four times or more the size of the effective field, the circuit pattern 1 is displayed on the display unit according to the effective field. 2 and surrounding area 3
And the display unit 2 and the peripheral unit 3 are finely divided. For example, as shown in FIG. 7A, in the circuit pattern 1 of the liquid crystal display, the display section 2 is divided into six substantially evenly. In this case, in the display unit 2, since the pattern of each electrode is relatively small and the electrodes are regularly arranged according to each pixel, the electrodes are divided into six divided patterns H having substantially the same pattern.

【0012】また周辺部3においては、回路パターン1
の長手方向(以下、これを単に長手方向と呼ぶ)に沿つ
て伸びる各端部(以下、これらを第1及び第2の端部と
呼ぶ)3A及び3Bがそれぞれほぼ均等に3つに分割さ
れ、長手方向と直交する方向に沿つて伸びる各端部(以
下、これらを第3及び第4の端部と呼ぶ)がそれぞれほ
ぼ均等に2つに分割される。この場合周辺部3において
は、リード線群4の各リード線のパターンが表示部2の
各電極のパターンに比べて比較的大きいため、当該周辺
部3を隣り合う各リード線群4の境界部で分割し難く、
1つのリード線群4が2つに分割される。従つて周辺部
3においては、各分割パターンI、J、K、L、M、
N、O、P及びRがそれぞれ異なるパターンとなつて種
類が増加する。
In the peripheral portion 3, the circuit pattern 1
The respective end portions (hereinafter, referred to as first and second end portions) 3 </ b> A and 3 </ b> B extending along the longitudinal direction (hereinafter, simply referred to as “longitudinal direction”) are divided into three substantially evenly. The respective end portions extending along the direction orthogonal to the longitudinal direction (hereinafter, these are referred to as third and fourth end portions) are substantially equally divided into two. In this case, in the peripheral portion 3, since the pattern of each lead wire of the lead wire group 4 is relatively larger than the pattern of each electrode of the display portion 2, the peripheral portion 3 is a boundary portion between adjacent lead wire groups 4. It is difficult to divide with
One lead wire group 4 is divided into two. Therefore, in the peripheral portion 3, each division pattern I, J, K, L, M,
The types increase as the patterns in which N, O, P and R are different from each other.

【0013】このため図7(B)に示すように、これら
各分割パターンH〜Rをそれぞれレチクル8に形成する
場合には、レチクル8の分割パターンH〜Rが形成され
る面の面積を有効に利用し得るように分割パターンHを
レチクル8Aに形成すると共に、複数個づつにまとめた
各分割回路パターンI〜K、L〜N及び0〜Rをそれぞ
れレチクル8B、8C及び8Dに形成する。これにより
複数種類の分割パターンH〜Rに対して必要とされるレ
チクル8A〜8Dの数を少なくする。
Therefore, as shown in FIG. 7B, when each of these divided patterns HR is formed on the reticle 8, the area of the surface of the reticle 8 on which the divided patterns HR are formed is effective. The divided pattern H is formed on the reticle 8A so that the divided circuit patterns I to K, L to N, and 0 to R are formed on the reticle 8B, 8C, and 8D, respectively. This reduces the number of reticles 8A to 8D required for a plurality of types of division patterns H to R.

【0014】ところでこのようなレチクル8A〜8Dを
用いた露光においては、先に例えばレチクル8Aを用い
て順次露光処理を6回繰り返することにより回路パター
ン1の表示部2に応じてガラス基板上のレジスト膜を露
光し、続いて順次レチクル8B〜8Dを用い、かつ露光
処理に必要な分割パターン以外を遮光帯を用いて覆いよ
うにして露光処理を10回行うことにより回路パターン1
の周辺部3に応じてガラス基板上のレジスト膜を露光す
る。ところがこのように液晶デイスプレイの回路パター
ン1が有効フイールドの大きさの4倍以上の大きさを有
する場合には、当該回路パターン1の大きさが有効フイ
ールドの大きさの4倍よりも小さい場合に比べて分割パ
ターンI〜Rの数及び種類が大幅に増加し、これに伴い
露光装置における露光処理の回数が大幅に増加(上述の
場合には16回)する問題があつた。これに加え、露光工
程における単位時間当たりの基板処理能力すなわちスル
ープツトが大幅に低下する問題があつた。
By the way, in the exposure using the reticles 8A to 8D, the exposure process is first repeated six times using the reticle 8A, for example, to repeat the exposure process six times on the glass substrate according to the display portion 2 of the circuit pattern 1. The circuit pattern 1 is formed by exposing the resist film to light and then performing the exposure process 10 times by sequentially using the reticles 8B to 8D and covering the divided patterns other than the division pattern necessary for the exposure process with the light-shielding band.
The resist film on the glass substrate is exposed according to the peripheral portion 3 of. However, when the circuit pattern 1 of the liquid crystal display has a size of four times or more the size of the effective field as described above, when the size of the circuit pattern 1 is smaller than four times the size of the effective field. Compared with this, the number and types of the division patterns I to R are significantly increased, and accordingly, the number of exposure processes in the exposure apparatus is significantly increased (16 times in the above case). In addition to this, there is a problem that the substrate processing capacity per unit time in the exposure process, that is, the throughput is significantly reduced.

【0015】従つてこのように液晶デイスプレイの回路
パターン1が有効フイールドの4倍以上の大きさを有す
る場合には、当該回路パターン1の分割数を考慮してレ
チクル8を設計する必要があり、当該レチクル8の設計
に対する負荷が増加する問題があつた。
Therefore, when the circuit pattern 1 of the liquid crystal display has a size of four times the effective field or more, it is necessary to design the reticle 8 in consideration of the number of divisions of the circuit pattern 1. There is a problem that the load on the design of the reticle 8 increases.

【0016】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、レチクルの設計に対する負荷を大幅に低減し得る回
路パターン分割方法を提案しようとするものである。
The present invention has been made in consideration of the above points, and it is an object of the present invention to propose a circuit pattern dividing method capable of significantly reducing the load on the design of a reticle.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、複数の画素に応じて複数の電極が
形成された表示部と、当該表示部の各電極に導通されて
表示部を包囲するように形成された導通部とからなる回
路パターンをレチクルに形成するときの回路パターン分
割方法において、回路パターンを複数の領域に分割する
ときに、少なくとも1つの分割領域に表示部の一部と導
通部の一部とが含まれるように分割するようにした。
In order to solve such a problem, in the present invention, a display section in which a plurality of electrodes are formed corresponding to a plurality of pixels and a display section connected to each electrode of the display section are provided. A circuit pattern dividing method for forming a circuit pattern on a reticle, the circuit pattern including a conductive portion formed so as to surround the conductive pattern. When dividing the circuit pattern into a plurality of regions, a part of the display portion is provided in at least one divided region. And a part of the conducting portion are included.

【0018】従つて本発明においては、少なくとも1つ
の分割領域に表示部の一部と導通部の一部とが含まれる
ように回路パターンを分割するようにしたことにより、
回路パターンの分割数を大幅に減少させることができ
る。
Therefore, in the present invention, the circuit pattern is divided so that at least one divided area includes a part of the display part and a part of the conductive part.
The number of divisions of the circuit pattern can be greatly reduced.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0020】図1において、10は全体として実施例に
よる露光装置を示し、液晶デイスプレイの回路パターン
が複数種類に分割されてなる分割パターンがそれぞれ形
成されたレチクル11A、11B、11C、11Dに順
次所定の露光光を照射すると共に、当該露光光が各レチ
クル11A〜11Dに形成された分割パターン12A、
12B、12C、12D、12E及び12Fを通過する
ことにより得られる当該分割パターン12A〜12Fの
投影像をそれぞれ投影光学系13を介してXYステージ
14上に載置されたガラス基板15上の図示しないレジ
スト膜の所定位置に投影することにより、当該ガラス基
板15上に形成されたレジスト膜を液晶デイスプレイの
回路パターンに応じて露光し得るようになされている。
In FIG. 1, reference numeral 10 denotes an exposure apparatus according to the embodiment as a whole, and a reticle 11A, 11B, 11C, 11D in which division patterns each of which is formed by dividing a liquid crystal display circuit pattern into a plurality of types are formed in order is predetermined. Of the exposure light, and at the same time, the exposure light is divided into patterns 12A to 11D formed on the reticles 11A to 11D.
The projected images of the divided patterns 12A to 12F obtained by passing through 12B, 12C, 12D, 12E and 12F are not shown in the drawing on the glass substrate 15 placed on the XY stage 14 via the projection optical system 13, respectively. By projecting onto a predetermined position of the resist film, the resist film formed on the glass substrate 15 can be exposed according to the circuit pattern of the liquid crystal display.

【0021】この場合液晶デイスプレイの回路パターン
においては、有効フイールドの大きさの4倍以上の大き
さを有し、1つの分割パターンに表示部の一部と周辺部
の一部とが含まれるように6種類に分割されている。ま
た各レチクル11A、11B、11C及び11Dにおい
ては、それぞれ分割パターン12A及び12Bが形成さ
れる面の面積を有効に利用し得るように、当該レチクル
11A及び11Bにはそれぞれ比較的大きい1つの分割
パターンが形成されていると共に、レチクル11C及び
11Dにはそれぞれ比較的小さい2つの分割パターン1
2C、12D及び12E、12Fが形成されている。
In this case, the circuit pattern of the liquid crystal display has a size four times or more the size of the effective field, and one division pattern includes a part of the display part and a part of the peripheral part. It is divided into 6 types. Further, in each of the reticles 11A, 11B, 11C and 11D, one relatively large division pattern is formed in each of the reticles 11A and 11B so that the areas of the surfaces on which the division patterns 12A and 12B are formed can be effectively used. And the reticle 11C and 11D each have two relatively small division patterns 1
2C, 12D and 12E, 12F are formed.

【0022】各レクチル11A〜11Dは、逐次交換機
(以下、これをレチクルチエンジヤと呼ぶ)16に保持
されており、当該レチクルチエンジヤ16は投影光学系
13の上部に当該投影光学系13の上端面13Aと平行
な2次元平面上を移動自在に配置されている。またレチ
クルチエンジヤ16は、図示しない駆動制御部によつて
駆動制御され、投影光学系13の上部の所定位置にレチ
クル11A〜11Dのうち、所望のレチクル11A、1
1B、11C又は11Dを配置し得るようになされてい
る。
Each of the reticles 11A to 11D is held by a sequential exchange (hereinafter referred to as a reticle engine) 16, and the reticle engine 16 is located above the projection optical system 13 and above the projection optical system 13. It is movably arranged on a two-dimensional plane parallel to the end surface 13A. Further, the reticle engine 16 is driven and controlled by a drive control unit (not shown), and a desired reticle 11A among the reticles 11A to 11D is placed at a predetermined position above the projection optical system 13.
1B, 11C or 11D can be arranged.

【0023】XYステージ14においては、その一面1
4Aが投影光学系13の下端面と平行となり、かつ当該
投影光学系13の下端面と平行な2次元平面上をX軸方
向(矢印X)及びY軸方向(矢印Y)に移動自在に配置
されている。またXYステージ14の周りの所定位置に
は、当該XYステージ14のX軸方向及びY軸方向に対
する移動量を検出する干渉計等でなる第1及び第2の位
置検出器17及び18が配置されている。これによりこ
の露光装置10においては、第1及び第2の位置検出器
17及び18によつてXYステージ14のX軸方向及び
Y軸方向の移動量を検出しながら、図示しない駆動モー
タを駆動させて当該XYステージ14を移動させ、この
XYステージ14の一面14Aに載置されたガラス基板
15を所望のレチクル11A、11B、11C又は1D
に応じた露光領域が投影光学系13の下端面と対向する
ように移動させて位置決めし得るようになされている。
One side of the XY stage 14
4A is arranged movably in the X-axis direction (arrow X) and the Y-axis direction (arrow Y) on a two-dimensional plane parallel to the lower end surface of the projection optical system 13 and parallel to the lower end surface of the projection optical system 13. Has been done. Further, at predetermined positions around the XY stage 14, first and second position detectors 17 and 18 which are interferometers or the like for detecting the movement amount of the XY stage 14 in the X-axis direction and the Y-axis direction are arranged. ing. As a result, in the exposure apparatus 10, the drive motor (not shown) is driven while detecting the movement amounts of the XY stage 14 in the X-axis direction and the Y-axis direction by the first and second position detectors 17 and 18. The XY stage 14 is moved to move the glass substrate 15 placed on the one surface 14A of the XY stage 14 to a desired reticle 11A, 11B, 11C or 1D.
The exposure area corresponding to the position can be moved and positioned so as to face the lower end surface of the projection optical system 13.

【0024】実際上この露光装置10においては、まず
レチクルチエンジヤ16を移動させて例えばレチクル1
1Aを投影光学系13の上部の所定位置に配置すると共
に、XYステージ14を移動させてガラス基板15上の
レジスト膜のレチクル11Aに応じた露光領域を投影光
学系13の下端面と対向させて位置決めする。この状態
において投影光学系13の上方に配置された図示しない
照明光学系から照射された露光光をレチクル11Aに照
射すると共に、当該露光光がレチクル11Aの分割パタ
ーン12Aを通過して得られる投影像を投影光学系13
を介してガラス基板15上のレジスト膜に投影すること
により、分割パターン12Aに応じてガラス基板15上
のレジスト膜を露光する。
In practice, in the exposure apparatus 10, first, the reticle engine 16 is moved to move the reticle 1 for example.
1A is arranged at a predetermined position above the projection optical system 13, and the XY stage 14 is moved so that the exposure area corresponding to the reticle 11A of the resist film on the glass substrate 15 faces the lower end surface of the projection optical system 13. Position. In this state, the reticle 11A is irradiated with exposure light emitted from an illumination optical system (not shown) arranged above the projection optical system 13, and the projection image obtained by the exposure light passing through the division pattern 12A of the reticle 11A. Projection optical system 13
By projecting on the resist film on the glass substrate 15 via the, the resist film on the glass substrate 15 is exposed according to the division pattern 12A.

【0025】また露光装置10においては、この他のレ
チクル11B〜11Dにおいても上述したレチクル11
Aの場合と同様にしてガラス基板15のレジスト膜を露
光してかくして液晶デイスプレイの回路パターンに応じ
てガラス基板15上のレジスト膜を露光する。ただしこ
の露光装置10においては、ガラス基板15上のレジス
ト膜に例えばレチクル11Aの分割パターン12Aに応
じた露光領域が2つ以上ある場合には、1回目の露光の
後、レチクル11Aを固定した状態で、ガラス基板15
のみを移動させ、これより2回目の露光を行う。
Further, in the exposure apparatus 10, the reticle 11 described above is also used in the other reticles 11B to 11D.
The resist film on the glass substrate 15 is exposed in the same manner as in the case A, and thus the resist film on the glass substrate 15 is exposed according to the circuit pattern of the liquid crystal display. However, in this exposure apparatus 10, when the resist film on the glass substrate 15 has, for example, two or more exposure regions corresponding to the divided pattern 12A of the reticle 11A, the reticle 11A is fixed after the first exposure. Then, the glass substrate 15
Only this is moved, and the second exposure is performed from this.

【0026】さらにこの露光装置10においては、レチ
クル11C(又はレチクル11D)のように2つの分割
パターン12C及び12D(又は分割パターン12E及
び12F)が形成されたレチクル11を用いて分割パタ
ーン12Cを露光する場合、不図示の遮光帯を用いて分
割パターン12Cのみに露光光を照射する。露光光の照
射に先立つてレクチルチエンジヤ16を移動させてレチ
クル11Cの分割パターン12Cを投影光学系13の上
端面13Aと対向させると共に、XYステージ14を移
動させてガラス基板15上のレジスト膜の分割パターン
12Cに応じた露光領域を投影光学系13の下端面と対
向させて位置決めする。
Further, in this exposure apparatus 10, the division pattern 12C is exposed using the reticle 11 in which two division patterns 12C and 12D (or division patterns 12E and 12F) are formed like the reticle 11C (or reticle 11D). In this case, only the divided pattern 12C is irradiated with the exposure light by using a light shielding band (not shown). Prior to the irradiation of the exposure light, the reticle charger 16 is moved to make the divided pattern 12C of the reticle 11C face the upper end surface 13A of the projection optical system 13, and the XY stage 14 is moved to move the resist film on the glass substrate 15 The exposure area corresponding to the divided pattern 12C is positioned so as to face the lower end surface of the projection optical system 13.

【0027】かくして露光光が分割パターン12Cを通
過することにより得られる投影像を投影光学系13を介
してガラス基板15上のレジスト膜に投影し、分割パタ
ーン12Cに応じてガラス基板15上のレジスト膜を露
光する。
Thus, the projection image obtained by the exposure light passing through the division pattern 12C is projected on the resist film on the glass substrate 15 through the projection optical system 13, and the resist on the glass substrate 15 is formed according to the division pattern 12C. Expose the film.

【0028】ここで、このような液晶デイスプレイの回
路パターンが有効フイールドの大きさの4倍以上の大き
さを有する場合において、当該回路パターンの分割方法
を以下に説明する。まず液晶デイスプレイの回路パター
ンにおいては、表示部の大きさが赤、緑、青の各画素数
(電極数)及びこれら赤、緑、青の各画素(電極)の大
きさに基づいて決定される。ただし表示部に形成された
各電極は、その大きさが比較的小さく、かつ規則正しく
配列されており、このため表示部は自由に分割し得るよ
うになされている。また周辺部においては、表示部の
赤、緑、青の画素数に基づいてリード線群の数が決定さ
れる。
Here, in the case where the circuit pattern of such a liquid crystal display has a size four times or more the size of the effective field, a method of dividing the circuit pattern will be described below. First, in the liquid crystal display circuit pattern, the size of the display portion is determined based on the number of pixels (electrodes) of red, green, and blue and the size of each pixel (electrode) of red, green, and blue. . However, the electrodes formed on the display section are relatively small in size and arranged regularly, so that the display section can be freely divided. Further, in the peripheral portion, the number of lead wire groups is determined based on the number of red, green, and blue pixels of the display unit.

【0029】この場合周辺部においては、まず第1及び
第2の端部に設けられたリード線群の数が、表示部の長
手方向の赤、緑、青の画素数と、これら各画素に対応す
るリード線の集合単位(例えば、192 又は 240)に基づ
いて次式(1)
In this case, in the peripheral portion, first, the number of lead wire groups provided at the first and second end portions is the number of red, green, and blue pixels in the longitudinal direction of the display portion, and Based on the corresponding lead wire set unit (eg 192 or 240)

【数1】 で表される。またこの周辺部においては、第3及び第4
の端部に設けられたリード線群の数が、表示部の長手方
向と直交する方向の赤、緑、青の各画素数と、これら各
画素に対応するリード線の集合単位に基づいて次式
(2)
[Equation 1] It is represented by Also, in this peripheral part, the third and fourth
Based on the number of red, green, and blue pixels in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the display unit and the unit of assembly of the lead wires corresponding to each pixel, Formula (2)

【数2】 で表される。[Equation 2] It is represented by

【0030】ところで周辺部の第1、第2又は第3の端
部毎の各リード線群はほぼ同じパターンでなる。従つて
周辺部の例えば第1の端部を分割するには、隣り合うリ
ード線群の間の境界で分割する。この場合例えば1つの
リード線群をレチクル11に形成し、当該レチクル11
を露光装置10に用いることにより、当該露光装置10
においては、ガラス基板15を周辺部の第1の端部に設
けられたリード線群の数に応じて繰り返し露光処理して
当該周辺部の第1の端部に応じてガラス基板15上のレ
ジスト膜を露光することができる。
By the way, each lead wire group at each of the first, second and third end portions of the peripheral portion has substantially the same pattern. Therefore, in order to divide the peripheral portion, for example, the first end portion, the peripheral portion is divided at the boundary between the adjacent lead wire groups. In this case, for example, one lead wire group is formed on the reticle 11 and the reticle 11
Is used in the exposure apparatus 10,
In the above, the glass substrate 15 is repeatedly exposed according to the number of lead wires provided at the first end of the peripheral portion, and the resist on the glass substrate 15 is exposed according to the first end of the peripheral portion. The film can be exposed.

【0031】ただし周辺部の第1の端部に比較的多数の
リード線群が設けられた場合には、露光装置10におい
て周辺部の第1の単部に応じた露光処理の回数がリード
線群の数に応じて比較的多くなる。すなわち周辺部にお
いて例えば第1の端部に8つのリード線群が設けられて
いる場合には、この第1の端部だけでも露光処理を8回
繰り返すことになる。このため周辺部の第1の端部を分
割するには、隣り合うリード線群の間を境界にし、有効
フイールドに応じて例えば2〜3つのリード線群が1つ
の分割パターンとなるように分割する。これにより周辺
部の第1の端部を分割する際の分割数を減らすことがで
き、かくして分割された第1の端部の2〜3のリード線
群をレチクル11に形成し、当該レチクル11を用いて
露光処理する場合に露光処理の回数も減らすことができ
る。
However, when a relatively large number of lead wire groups are provided at the first end portion of the peripheral portion, the number of exposure processes corresponding to the first single portion of the peripheral portion in the exposure apparatus 10 depends on the number of lead wires. Relatively large depending on the number of groups. That is, when, for example, eight lead wire groups are provided at the first end portion in the peripheral portion, the exposure process is repeated eight times only at this first end portion. For this reason, in order to divide the first end portion of the peripheral portion, the adjacent lead wire groups are used as boundaries, and for example, two to three lead wire groups are divided into one division pattern according to the effective field. To do. This makes it possible to reduce the number of divisions when dividing the first end portion of the peripheral portion, and form the two or three lead wire groups of the first end portion thus divided on the reticle 11, and the reticle 11 concerned. When the exposure process is performed by using, the number of times of the exposure process can be reduced.

【0032】また上述した周辺部の分割方法に加え、液
晶デイスプレイの回路パターンを分割する場合には、周
辺部と表示部とを切り離さず、1つの分割パターンに表
示部の一部と周辺部の一部(すなわち、2〜3つのリー
ド線群を有する周辺部)とが含まれるように分割する。
これにより液晶デイスプレイの回路パターンの分割数を
減らすことができる。
In addition to the method of dividing the peripheral portion described above, when dividing the circuit pattern of the liquid crystal display, the peripheral portion and the display portion are not separated, and one portion of the display portion and the peripheral portion are combined into one division pattern. It is divided so as to include a part (that is, a peripheral portion having two to three lead wire groups).
Thereby, the number of divisions of the liquid crystal display circuit pattern can be reduced.

【0033】実際上有効フイールドの大きさの4倍以上
の大きさを有する液晶デイスプレイの回路パターンとし
て表示部に例えば長手方向に沿つて赤、緑、青の各画素
がそれぞれ1024個設けられ、かつ長手方向と直交する方
向に沿つて 768個の画素が設けられた回路パターンにつ
いて具体的に説明する。図2(A)に示すように、この
回路パターン20においては、周辺部21の第1及び第
2の端部21A及び21Bにそれぞれ8つのリード線群
22(上述した式(1))を有し、当該周辺部21の第
3の端部21Cに4つのリード線群23(上述した式
(2))を有する。なおリード線の集合単位は 192とす
る。
In practice, as a circuit pattern of a liquid crystal display having a size four times or more the size of the effective field, 1024 red, green, and blue pixels are provided in the display section along the longitudinal direction, respectively, and A circuit pattern in which 768 pixels are provided along the direction orthogonal to the longitudinal direction will be specifically described. As shown in FIG. 2A, in this circuit pattern 20, each of the first and second end portions 21A and 21B of the peripheral portion 21 has eight lead wire groups 22 (equation (1) described above). However, the third end portion 21C of the peripheral portion 21 has four lead wire groups 23 (equation (2) described above). The set unit of lead wire is 192.

【0034】この場合液晶デイスプレイの回路パターン
20においては、当該回路パターン20の大きさ、第1
(又は第2)及び第3の端部21A(又は21B)及び
21Cのそれぞれリード線群22及び23の数及び有効
フイールドに基づいて分割される。まず回路パターン2
0を長手方向と直交する方向に沿つて、周辺部21の第
1の端部21Aと第2の端部21Bとがそれぞれ4つの
リード線群22を1つのパターンとするように2分割す
る。さらに回路パターン20が2分割されてなる各ブロ
ツクをそれぞれ回路パターン20の中央部側において第
1の端部21Aと第2の端部21Bとが3つのリード線
群22を1つのパターンとするように2分割する。この
ようにして回路パターン20を長手方向と直交する方向
に沿つて4つに分割する。
In this case, in the liquid crystal display circuit pattern 20, the size of the circuit pattern 20
(Or second) and third end portions 21A (or 21B) and 21C are divided based on the number of lead wire groups 22 and 23 and the effective field, respectively. First, circuit pattern 2
The first end portion 21A and the second end portion 21B of the peripheral portion 21 divide the two lead wire groups 22 into two along one direction 0 along the direction orthogonal to the longitudinal direction. Further, each block formed by dividing the circuit pattern 20 into two is configured such that the first end portion 21A and the second end portion 21B form the three lead wire groups 22 into one pattern on the center side of the circuit pattern 20. Divide into two. In this way, the circuit pattern 20 is divided into four along the direction orthogonal to the longitudinal direction.

【0035】次いで回路パターン20を長手方向に沿つ
て第3の端部21Cが2つのリード線群23を1つのパ
ターンとすように分割する。これにより回路パターン2
0を8つの分割パターン12A〜12Fに分割する。こ
のように上述した分割方法においては、表示部24が長
手方向に沿つて3つ以下のリード線群22に相当する長
さを有すると共に、長手方向と直交する方向に沿つて2
つのリード線群23に相当する長さを有し、当該表示部
24とこの表示部24に長手方向及び又は長手方向と直
交する方向に沿つて接する周辺部21とを1つの分割パ
ターンとして分割する。これによりこの実施例において
は、従来、有効フイールドの4倍以上の大きさを有する
回路パターン1(図7)を16の分割パターンH〜Rに分
割した場合に比べて分割数を半分にし得るようになされ
ている。
Next, the circuit pattern 20 is divided along the longitudinal direction so that the third end portion 21C forms the two lead wire groups 23 into one pattern. This allows circuit pattern 2
0 is divided into eight division patterns 12A to 12F. As described above, in the above-described division method, the display portion 24 has a length corresponding to three or less lead wire groups 22 along the longitudinal direction, and 2 along the direction orthogonal to the longitudinal direction.
The display section 24 and the peripheral section 21 having a length corresponding to one lead wire group 23 and contacting the display section 24 along the longitudinal direction and / or the direction orthogonal to the longitudinal direction are divided into one division pattern. . As a result, in this embodiment, the number of divisions can be halved as compared with the conventional case where the circuit pattern 1 (FIG. 7) having a size four times as large as the effective field or more is divided into 16 division patterns HR. Has been done.

【0036】なお、このようにして回路パターン20の
中央部から分割される第1の端部21A側の2つの分割
パターン12Aは、リード線群22の数と、当該リード
線群22が接している方向と、表示部24の大きさとが
ほぼ同じであり、全体としてほぼ同じパターンとなる。
また第2の端部21B側の2つの分割パターン12Bも
上述した分割パターン12Aの場合と同様の理由からほ
ぼ同じパターンとなる。従つて図2(B)に示すよう
に、上述した各分割パターン12A〜12Fをそれぞれ
レチクルに形成する場合には、分割パターン12A及び
12Bをそれぞれレチクル11A及び11Bに形成する
と共に、分割パターン12C及び12Dと分割パターン
12E及び12Fとをそれぞれレチクル11C及び11
Dに形成する。これにより各レチクル11A〜11Dに
おいては、分割パターン12A〜12Fの形成される面
の面積を有効に利用し得るようになされている。
The two divided patterns 12A on the side of the first end 21A divided from the central portion of the circuit pattern 20 in this manner are in contact with the number of the lead wire groups 22. The direction in which it is present and the size of the display unit 24 are substantially the same, and the patterns are substantially the same as a whole.
Further, the two division patterns 12B on the second end 21B side are also substantially the same pattern for the same reason as the case of the division pattern 12A described above. Therefore, as shown in FIG. 2B, when the above-described division patterns 12A to 12F are formed on the reticle, the division patterns 12A and 12B are formed on the reticles 11A and 11B, respectively, and the division patterns 12C and 12C are formed. 12D and division patterns 12E and 12F, respectively, for reticles 11C and 11C, respectively.
Form D. As a result, in each of the reticles 11A to 11D, the area of the surface on which the divided patterns 12A to 12F are formed can be effectively used.

【0037】以上の構成において、液晶デイスプレイの
回路パターン20を当該回路パターン20の大きさ、第
1(又は第2)及び第3の端部21A(又は21B)及
び21Cのそれぞれリード線群22及び23の数及び有
効フイールドに基づいて、表示部24が長手方向に沿つ
て3つ以下ののリード線群22に相当する長さを有する
と共に、長手方向と直交する方向に沿つて2つのリード
線群23に相当する長さを有し、当該表示部24とこれ
に接する周辺部21とを1つのパターンとして分割する
ようにしたことにより、回路パターン20の分割数を大
幅に減少させることができる。
In the above configuration, the circuit pattern 20 of the liquid crystal display is connected to the size of the circuit pattern 20, the lead wire group 22 of the first (or second) and third end portions 21A (or 21B) and 21C, respectively. Based on the number of 23 and the effective field, the display portion 24 has a length corresponding to three or less lead wire groups 22 along the longitudinal direction, and two lead wires along the direction orthogonal to the longitudinal direction. By having the length corresponding to the group 23 and dividing the display unit 24 and the peripheral portion 21 in contact with the display unit 24 as one pattern, the number of divisions of the circuit pattern 20 can be significantly reduced. .

【0038】これにより露光装置10においては、液晶
デイスプレイの回路パターン20が有効フイールドの4
倍以上の大きさを有する場合、当該回路パターン20が
上述したように分割されてなる分割パターン12A〜1
2Fがそれぞれ形成されたレチクル11A〜11Dを用
いることにより、有効フイールドの4倍以上の大きさを
有する従来の回路パターン1(図7)に対する露光処理
(16回)に比べて回路パターン20に対する露光処理の
回数が8回と大幅に減少させることができる。かくして
露光工程におけるスループツトを大幅に向上させること
ができる。
As a result, in the exposure apparatus 10, the circuit pattern 20 of the liquid crystal display has an effective field of 4
When the size is more than twice, the circuit pattern 20 is divided as described above and the divided patterns 12A to 12A-1.
By using the reticles 11A to 11D each having 2F formed therein, the exposure for the circuit pattern 20 is performed as compared with the exposure process (16 times) for the conventional circuit pattern 1 (FIG. 7) having a size four times or more the effective field. The number of treatments can be greatly reduced to 8 times. Thus, the throughput in the exposure process can be greatly improved.

【0039】以上の構成によれば、液晶デイスプレイの
回路パターン20を、当該回路パターン20の大きさ、
第1(又は第2)及び第3の端部21A(又は21B)
及び21Cのそれぞれリード線群22及び23の数及び
有効フイールドに基づいて1つの分割パターン12A〜
12Fに表示部24の一部と周辺部21の一部とが含ま
れるように分割するようにしたことにより、液晶デイス
プレイの回路パターン20の分割数を大幅に減少させる
ことができ、かくしてレチクルの設計に対する負荷を大
幅に低減し得る回路パターン分割方法を実現することが
できる。
According to the above configuration, the circuit pattern 20 of the liquid crystal display is replaced by the size of the circuit pattern 20,
First (or second) and third ends 21A (or 21B)
, And 21C, respectively, based on the number and effective fields of the lead wire groups 22 and 23, one division pattern 12A to
By dividing so as to include a part of the display section 24 and a part of the peripheral section 21 in 12F, the number of divisions of the circuit pattern 20 of the liquid crystal display can be greatly reduced, and thus the reticle It is possible to realize a circuit pattern division method that can significantly reduce the load on the design.

【0040】なお上述の実施例においては、液晶デイス
プレイの回路パターン20を、当該回路パターン20の
大きさ、第1(又は第2)及び第3の端部21A(又は
21B)及び21Cのそれぞれリード線群22の数及び
有効フイールドに基づいて、表示部24が長手方向に沿
つて3つ以下のリード線群22に相当する長さを有する
と共に、長手方向と直交する方向に沿つて2つのリード
線群22に相当する長さを有し、当該表示部24とこれ
に接する周辺部21とを1つのパターンとして分割する
ようにした場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、液晶デイスプレイの回路パターン20を、当該回路
パターン20の大きさ、第1(又は第2)及び第3の端
部21A(又は21B)及び21Cのそれぞれリード線
群22及び23の数及び有効フイールドに基づいて分割
し得れば、表示部24が長手方向及び当該長手方向と直
交する方向に沿つてそれぞれ少なくとも1つのリード線
群22に相当する長さを有し、当該表示部24とこれに
接する周辺部21とを1つの分割パターンとして分割す
るようにしても良い。
In the embodiment described above, the circuit pattern 20 of the liquid crystal display is connected to the size of the circuit pattern 20 and leads of the first (or second) and third end portions 21A (or 21B) and 21C, respectively. Based on the number of line groups 22 and the effective field, the display section 24 has a length corresponding to three or less lead wire groups 22 along the longitudinal direction and two leads along the direction orthogonal to the longitudinal direction. The case has been described in which the display section 24 and the peripheral section 21 in contact with the line section 22 are divided into one pattern having a length corresponding to the line group 22, but the present invention is not limited to this, and the liquid crystal display is not limited to this. Of the lead wire groups 22 and 23 of the first (or second) and third end portions 21A (or 21B) and 21C, respectively. And the display section 24 has a length corresponding to at least one lead wire group 22 along the longitudinal direction and the direction orthogonal to the longitudinal direction, if the display section 24 is divided based on the effective field. You may make it divide | segment the peripheral part 21 which touches this and this as one division pattern.

【0041】[0041]

【発明の効果】上述のように本発明によれば、少なくと
も1つの分割領域に表示部の一部と導通部の一部とが含
まれるように回路パターンを分割するようにしたことに
より、回路パターンの分割数を大幅に減少させることが
でき、かくしてレチクルの設計に対する負荷を大幅に低
減し得る回路パターン分割方法を実現することができ
る。
As described above, according to the present invention, the circuit pattern is divided so that at least one divided area includes a part of the display part and a part of the conductive part, and thus the circuit pattern is divided. It is possible to significantly reduce the number of pattern divisions, and thus to realize a circuit pattern division method that can significantly reduce the load on the reticle design.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例による露光装置の構成を示す
略線的斜視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a configuration of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例による液晶デイスプレイの回
路パターンの分割の説明に供する略線的平面図である。
FIG. 2 is a schematic plan view for explaining division of a circuit pattern of a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention.

【図3】液晶デイスプレイの回路パターンの構成を示す
略線的平面図である。
FIG. 3 is a schematic plan view showing a configuration of a circuit pattern of a liquid crystal display.

【図4】液晶デイスプレイの回路パターンの大きさが有
効フイールドの大きさよりも小さい場合の説明に供する
略線的平面図である。
FIG. 4 is a schematic plan view for explaining the case where the size of the circuit pattern of the liquid crystal display is smaller than the size of the effective field.

【図5】液晶デイスプレイの回路パターンが有効フイー
ルドの大きさ以上で、かつ当該有効フイールドの大きさ
の2倍程度までの大きさを有する場合の当該回路パター
ンの分割の説明に供する略線的平面図である。
FIG. 5 is a schematic plane view for explaining division of the circuit pattern of the liquid crystal display when the circuit pattern is equal to or larger than the effective field size and has a size up to about twice the effective field size. It is a figure.

【図6】液晶デイスプレイの回路パターンが有効フイー
ルドの大きさの2倍以上で、かつ当該有効フイールドの
大きさの4倍程度までの大きさを有する場合の当該回路
パターンの分割の説明に供する略線的平面図である。
FIG. 6 is a schematic for explaining division of a circuit pattern of a liquid crystal display when the circuit pattern has a size that is twice or more the size of an effective field and up to about 4 times the size of the effective field. It is a linear plan view.

【図7】従来の液晶デイスプレイの回路パターンにおい
て有効フイールドの大きさの4倍以上の大きさを有する
場合の分割の説明に供する略線的平面図である。
FIG. 7 is a schematic plan view for explaining division when a circuit pattern of a conventional liquid crystal display has a size four times or more the size of an effective field.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、20……回路パターン、2、24……表示部、3、
21……周辺部、4、22……リード線群、5、6、
7、8、11……レチクル、10……露光装置、13…
…投影光学系、15……ガラス基板、12A、12B、
12C、12D、12E、12F……分割パターン。
1, 20 ... Circuit pattern, 2, 24 ... Display section, 3,
21 ... peripheral part, 4,22 ... lead wire group 5,6,
7, 8, 11 ... Reticle, 10 ... Exposure device, 13 ...
... Projection optical system, 15 ... Glass substrate, 12A, 12B,
12C, 12D, 12E, 12F ... Division pattern.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数の画素に応じて複数の電極が形成され
た表示部と、該表示部の各前記電極に導通されて前記表
示部を包囲するように形成された導通部とからなる回路
パターンをレチクルに形成するときの回路パターン分割
方法において、 前記回路パターンを複数の領域に分割するときに、少な
くとも1つの分割領域に前記表示部の一部と前記導通部
の一部とが含まれるように分割することを特徴とする回
路パターン分割方法。
1. A circuit comprising a display section in which a plurality of electrodes are formed corresponding to a plurality of pixels, and a conductive section which is electrically connected to each of the electrodes of the display section and surrounds the display section. A circuit pattern dividing method for forming a pattern on a reticle, wherein when the circuit pattern is divided into a plurality of regions, at least one divided region includes a part of the display part and a part of the conductive part. A method for dividing a circuit pattern, characterized in that
【請求項2】前記回路パターンは、投影光学系を有した
露光装置により感光基板上に露光され、 前記回路パターンは、該回路パターンの大きさと、各前
記導通部の数と、前記投影光学系の有効径の大きさとの
少なくとも1つに基づいて分割されることを特徴とする
請求項1に記載の回路パターン分割方法。
2. The circuit pattern is exposed on a photosensitive substrate by an exposure device having a projection optical system, and the circuit pattern has a size of the circuit pattern, the number of conductive portions, and the projection optical system. 2. The circuit pattern dividing method according to claim 1, wherein the division is performed based on at least one of the effective diameter and the effective diameter.
JP11030596A 1996-03-28 1996-04-05 Circuit pattern dividing method Pending JPH09274307A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100442572B1 (en) * 2001-12-29 2004-07-30 주식회사 하이닉스반도체 Method for fabricating of semiconductor reticle

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