JPH09274117A - デンドリマ光導波路 - Google Patents
デンドリマ光導波路Info
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- JPH09274117A JPH09274117A JP11058896A JP11058896A JPH09274117A JP H09274117 A JPH09274117 A JP H09274117A JP 11058896 A JP11058896 A JP 11058896A JP 11058896 A JP11058896 A JP 11058896A JP H09274117 A JPH09274117 A JP H09274117A
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- Japan
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- optical waveguide
- dendrimer
- optical
- polymer
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 加工性・光学特性を低下せさることなく耐熱
性をも保証した新しい高分子光導波路を提供する。 【解決手段】 ３，５−ビス（ｐ−フルオロベンゾイ
ル）フェノールのメチルエーテルをビルディングブロッ
クとする、樹枝模様状の末端がフェニルエーテル化した
３、７、又は１５量体形のエーテルケトン系デンドリマ
よりなる光導波路。前記ビルディングブロックのワンポ
ット縮重合体である、樹枝模様状の末端がフッ素である
１３量体形のエーテルケトン系超分岐ポリマーよりなる
光導波路。前記デンドリマ又は超分岐ポリマーを、コア
又はクラッドにした光導波路。
性をも保証した新しい高分子光導波路を提供する。 【解決手段】 ３，５−ビス（ｐ−フルオロベンゾイ
ル）フェノールのメチルエーテルをビルディングブロッ
クとする、樹枝模様状の末端がフェニルエーテル化した
３、７、又は１５量体形のエーテルケトン系デンドリマ
よりなる光導波路。前記ビルディングブロックのワンポ
ット縮重合体である、樹枝模様状の末端がフッ素である
１３量体形のエーテルケトン系超分岐ポリマーよりなる
光導波路。前記デンドリマ又は超分岐ポリマーを、コア
又はクラッドにした光導波路。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ・交
換機の光インタコネクション用、あるいは光ＬＡＮ配線
用、あるいは光加入者設備用の光学部品として使用する
光導波路に関する。
換機の光インタコネクション用、あるいは光ＬＡＮ配線
用、あるいは光加入者設備用の光学部品として使用する
光導波路に関する。
【０００２】
【従来の技術】高分子を基材とする光学部品、特に高分
子光導波路としては、ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチ
ル）光導波路、シリコーン光導波路、ポリイミド光導波
路、ポリカーボネート光導波路、光硬化性樹脂光導波
路、熱硬化性樹脂光導波路などが開発されている。これ
ら高分子光導波路の一部は、既に、ファイバ部品に対し
ては圧倒的にコンパクトな、また、ガラス系光導波路部
品に対してはより低価格な代替部品として実用化され始
めている。更に、高分子光導波路は、高分子特有の低温
加工性や機械的柔軟性を活かし、光接続のキーデバイス
として新領域を拓きつつある。高分子光導波路の開発動
向については、「高分子」、１９９４年４月号、第２７
１頁などに詳しい。前述のように、光ファイバ部品やガ
ラス光導波路部品の小型・廉価な代替部品として、ま
た、高分子の特徴を生かした新しい光部品として注目さ
れる高分子光導波路ではあるが、実用化のために克服す
べき課題がいくつか残されている。その中で最も本質的
な課題は、加工性・光学特性を低下させることなく耐熱
性を満足することである。表１は、光学特性・加工性・
耐熱性について、従来の高分子光導波路の性能を定性的
に比較したものである。
子光導波路としては、ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチ
ル）光導波路、シリコーン光導波路、ポリイミド光導波
路、ポリカーボネート光導波路、光硬化性樹脂光導波
路、熱硬化性樹脂光導波路などが開発されている。これ
ら高分子光導波路の一部は、既に、ファイバ部品に対し
ては圧倒的にコンパクトな、また、ガラス系光導波路部
品に対してはより低価格な代替部品として実用化され始
めている。更に、高分子光導波路は、高分子特有の低温
加工性や機械的柔軟性を活かし、光接続のキーデバイス
として新領域を拓きつつある。高分子光導波路の開発動
向については、「高分子」、１９９４年４月号、第２７
１頁などに詳しい。前述のように、光ファイバ部品やガ
ラス光導波路部品の小型・廉価な代替部品として、ま
た、高分子の特徴を生かした新しい光部品として注目さ
れる高分子光導波路ではあるが、実用化のために克服す
べき課題がいくつか残されている。その中で最も本質的
な課題は、加工性・光学特性を低下させることなく耐熱
性を満足することである。表１は、光学特性・加工性・
耐熱性について、従来の高分子光導波路の性能を定性的
に比較したものである。
【０００３】
【表１】 表 １ ─────────────────────────────────── 光透過性 屈折率等方性 加工性・柔軟性 耐熱性 ─────────────────────────────────── ＰＭＭＡ光導波路 ◎ ◎ ◎ △ ポリイミド光導波路 〇 △ △ ◎ 架橋性樹脂光導波路 △ 〇 〇 〇 ───────────────────────────────────
【０００４】高分子量リニアポリマーからなる光導波路
についていえば、耐熱性が屈折率等方性・加工性と相反
する傾向にあることが如実に示されている。一般的にい
えば、耐熱性の確保に必須なポリマー鎖の剛直構造は、
複屈折率を増大させ分子鎖の柔軟性を低下させる。この
傾向はポリイミド光導波路において顕著である。逆に、
透明性・屈折率等方性・加工性に優れるＰＭＭＡ光導波
路は耐熱性の面で大きな改善がない限り、用途が著しく
限定される。一方、アクリル系・エポキシ系の架橋性オ
リゴマーを主成分とする樹脂からなる光導波路の場合
は、特性面での極端なトレードオフはみられないが、脂
肪族鎖の分率が不可避的に多いことや添加剤を必要とす
ることなどから光透過性を極限的に高めることは難し
い。
についていえば、耐熱性が屈折率等方性・加工性と相反
する傾向にあることが如実に示されている。一般的にい
えば、耐熱性の確保に必須なポリマー鎖の剛直構造は、
複屈折率を増大させ分子鎖の柔軟性を低下させる。この
傾向はポリイミド光導波路において顕著である。逆に、
透明性・屈折率等方性・加工性に優れるＰＭＭＡ光導波
路は耐熱性の面で大きな改善がない限り、用途が著しく
限定される。一方、アクリル系・エポキシ系の架橋性オ
リゴマーを主成分とする樹脂からなる光導波路の場合
は、特性面での極端なトレードオフはみられないが、脂
肪族鎖の分率が不可避的に多いことや添加剤を必要とす
ることなどから光透過性を極限的に高めることは難し
い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来に
おいては、要求される各種特性のすべてについて同時に
高いレベルで満足する高分子光導波路は得られていな
い。本発明は、このような現状にかんがみてなされたも
のであり、その目的は、加工性・光学特性を低下させる
ことなく耐熱性をも保証した新しい高分子光導波路を提
供することにある。
おいては、要求される各種特性のすべてについて同時に
高いレベルで満足する高分子光導波路は得られていな
い。本発明は、このような現状にかんがみてなされたも
のであり、その目的は、加工性・光学特性を低下させる
ことなく耐熱性をも保証した新しい高分子光導波路を提
供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明を概説すれば、本
発明の第１の発明は光導波路に関する発明であって、下
記式（化１）：
発明の第１の発明は光導波路に関する発明であって、下
記式（化１）：
【０００７】
【化１】
【０００８】（式中Ｍｅはメチル基を意味する）で表さ
れる化合物をビルディングブロックとする、下記式（化
２）、式（化３）、又は式（化４）（各式中のＭｅは、
いずれもメチル基を意味する）：
れる化合物をビルディングブロックとする、下記式（化
２）、式（化３）、又は式（化４）（各式中のＭｅは、
いずれもメチル基を意味する）：
【０００９】
【化２】
【００１０】
【化３】
【００１１】
【化４】
【００１２】で表されるでエーテルケトン系デンドリマ
よりなることを特徴とする。また、本発明の第２の発明
は、他の光導波路に関する発明であって、式（化１）で
表されるビルディングブロックのワンポット縮重合体で
ある、下記式（化５）：
よりなることを特徴とする。また、本発明の第２の発明
は、他の光導波路に関する発明であって、式（化１）で
表されるビルディングブロックのワンポット縮重合体で
ある、下記式（化５）：
【００１３】
【化５】
【００１４】で表されるでエーテルケトン系超分岐ポリ
マーよりなることを特徴とする。本発明において、コア
−クラッド型光導波路の場合には、該コア又はクラッド
は、前記式（化２）、式（化３）、式（化４）、又は式
（化５）のいずれかよりなるものでよい。
マーよりなることを特徴とする。本発明において、コア
−クラッド型光導波路の場合には、該コア又はクラッド
は、前記式（化２）、式（化３）、式（化４）、又は式
（化５）のいずれかよりなるものでよい。
【００１５】本発明は、加工性・光学特性を低下させる
ことなく熱的安定性をも満足した新しい高分子光導波路
を提供するために、高分子光導波路を構成する基材とし
て、デンドリマを用いることを特徴とする。
ことなく熱的安定性をも満足した新しい高分子光導波路
を提供するために、高分子光導波路を構成する基材とし
て、デンドリマを用いることを特徴とする。
【００１６】デンドリマは、１つの核分子を中心とし
て、Ｙ字型構造を持つモノマーが同心円状の層を作りな
がら、樹枝模様状（デンドリック）に、何世代にも渡っ
て積み重なった、高度に分岐し分子量のそろった球状巨
大分子の総称である。中心から外に向かって核を成長さ
せていく方法をディバージェント グロウス（Divergen
t Growth) といい、反対に、外から中心に向かってデン
ドリマを作っていく方法をコンバージェント グロウス
（Convergent Growth)という。いずれの方法によって合
成されたものであっても、分子鎖が空隙なく埋められ、
通常の高分子で一般に起こるような分子鎖の折れ曲がり
や分子鎖同士の絡み合いがあらかじめ規制される。その
結果耐熱性は保たれたまま、同等な分子量のリニアポリ
マーに比し溶融粘度が低くなる。以上の特徴の工業的意
味は、不溶不融のポリマーが射出成形可能となる点にあ
り、既に射出成形可能な耐熱性デンドリマのエンプラ市
場への参入が模索されているほどである。一方、ファイ
ンケミカルの分野では、デンドリマは高次構造が一義的
に定まった人造マトリクスとして注目されている。特に
デンドリマを蛋白質アナログとしてドラッグデリバリー
システムに適用しようという動きが活発である。以上、
デンドリマの最近の動向については、「日経サイエン
ス」、１９９５年７月号、第３８頁、「新素材」、１９
９４年８月号、第７５頁、ケミカル・エンジニアリング
・ニュース（Chem.Eng.News)、１９９３年１１月号、第
５１頁などに詳しい。本発明者らは、以上のような特長
を有するデンドリマが、耐熱ポリマー並みの熱的安定性
を保持しつつ加工性に優れた高分子光導波路素材として
極めて適していることを見出し、本発明を完成するに至
った。
て、Ｙ字型構造を持つモノマーが同心円状の層を作りな
がら、樹枝模様状（デンドリック）に、何世代にも渡っ
て積み重なった、高度に分岐し分子量のそろった球状巨
大分子の総称である。中心から外に向かって核を成長さ
せていく方法をディバージェント グロウス（Divergen
t Growth) といい、反対に、外から中心に向かってデン
ドリマを作っていく方法をコンバージェント グロウス
（Convergent Growth)という。いずれの方法によって合
成されたものであっても、分子鎖が空隙なく埋められ、
通常の高分子で一般に起こるような分子鎖の折れ曲がり
や分子鎖同士の絡み合いがあらかじめ規制される。その
結果耐熱性は保たれたまま、同等な分子量のリニアポリ
マーに比し溶融粘度が低くなる。以上の特徴の工業的意
味は、不溶不融のポリマーが射出成形可能となる点にあ
り、既に射出成形可能な耐熱性デンドリマのエンプラ市
場への参入が模索されているほどである。一方、ファイ
ンケミカルの分野では、デンドリマは高次構造が一義的
に定まった人造マトリクスとして注目されている。特に
デンドリマを蛋白質アナログとしてドラッグデリバリー
システムに適用しようという動きが活発である。以上、
デンドリマの最近の動向については、「日経サイエン
ス」、１９９５年７月号、第３８頁、「新素材」、１９
９４年８月号、第７５頁、ケミカル・エンジニアリング
・ニュース（Chem.Eng.News)、１９９３年１１月号、第
５１頁などに詳しい。本発明者らは、以上のような特長
を有するデンドリマが、耐熱ポリマー並みの熱的安定性
を保持しつつ加工性に優れた高分子光導波路素材として
極めて適していることを見出し、本発明を完成するに至
った。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明について具体的に説
明する。まず、本発明のデンドリマ光導波路に関し詳細
に説明する。本発明は、既に、森川らによって合成され
たエーテルケトン系デンドリマ〔（化２）、式（化
３）、又は式（化４）〕からなることを特長とする光導
波路である。合成の詳細は、マクロモレキュルズ（Macr
omolecules) 、第２６巻、第６３２４〜６３２９頁（１
９９３）に記載されている。しかしながら、光導波路材
料として使用するに当っては、論文記載通りの合成では
不十分で、合成の各段階でカラムクロマトグラフィなど
高純度精製により着色不純物を除去していかなければな
らない。また、最も着色不純物が生成しやすいエーテル
解裂反応などについては、できるだけ穏やかな反応条件
を選ぶなどの配慮が不可欠である。次に、本発明はま
た、ミラーらによって合成されたデンドリックなエーテ
ルケトン系超分岐ポリマー〔式（化５）〕からなること
を特徴とする光導波路も提供するものである。合成の詳
細は、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサ
イエティ（J.Am.Chem.Soc.) 、第１１５巻、第３５６〜
３５７頁（１９９３）に記載されている。この系におい
ても、前述のエーテルケトン系デンドリマと同様に高純
度化のための特別な合成操作や精製操作が必要である。
また、分別沈殿などの方法で分子量をそろえることが透
明性に優れる光導波路を構成する上で極めて重要であ
る。
明する。まず、本発明のデンドリマ光導波路に関し詳細
に説明する。本発明は、既に、森川らによって合成され
たエーテルケトン系デンドリマ〔（化２）、式（化
３）、又は式（化４）〕からなることを特長とする光導
波路である。合成の詳細は、マクロモレキュルズ（Macr
omolecules) 、第２６巻、第６３２４〜６３２９頁（１
９９３）に記載されている。しかしながら、光導波路材
料として使用するに当っては、論文記載通りの合成では
不十分で、合成の各段階でカラムクロマトグラフィなど
高純度精製により着色不純物を除去していかなければな
らない。また、最も着色不純物が生成しやすいエーテル
解裂反応などについては、できるだけ穏やかな反応条件
を選ぶなどの配慮が不可欠である。次に、本発明はま
た、ミラーらによって合成されたデンドリックなエーテ
ルケトン系超分岐ポリマー〔式（化５）〕からなること
を特徴とする光導波路も提供するものである。合成の詳
細は、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサ
イエティ（J.Am.Chem.Soc.) 、第１１５巻、第３５６〜
３５７頁（１９９３）に記載されている。この系におい
ても、前述のエーテルケトン系デンドリマと同様に高純
度化のための特別な合成操作や精製操作が必要である。
また、分別沈殿などの方法で分子量をそろえることが透
明性に優れる光導波路を構成する上で極めて重要であ
る。
【００１８】エーテルケトン系デンドリマ、及びデンド
リックなエーテルケトン系超分岐ポリマーが、（１）光
導波路として成形可能であること、（２）極低損失の光
透過性を有すること、（３）光導波路として重要な屈折
率の等方性が保たれていることは、本発明によって初め
て明らかになった。
リックなエーテルケトン系超分岐ポリマーが、（１）光
導波路として成形可能であること、（２）極低損失の光
透過性を有すること、（３）光導波路として重要な屈折
率の等方性が保たれていることは、本発明によって初め
て明らかになった。
【００１９】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
【００２０】実施例１ エーテルケトン系デンドリマ〔式（化２）で表されるも
の、以下、Ｇ２と略記する〕は溶液からのスピンコート
により容易に透明フィルムとなった。このＧ２フィルム
の波長１．３μｍにおける複屈折率をプリズムカップリ
ング法により測定したところ、０．００１程度であっ
た。このようにして、複屈折率が小さいことを確認した
上で、Ｇ２を酢酸エトキシエチル溶液とし、０．２μｍ
のフィルターでろ過した後、ガラス基板上にスピンコー
トし、厚さ３．６μｍのＧ２透明膜を得た。このように
して作製したスラブ型光導波路の光導波損失を測定し
た。波長６３３ｎｍのレーザー光をプリズムカップリン
グにより膜に入射した。光導波の様子を赤外線ビデオカ
メラを用いて観察し、各導波距離での散乱光強度から導
波光強度を推定した。このようにして測定した導波光強
度の導波距離依存性を図１に示す。傾きから損失を求め
た。損失値は、２．１ｄＢ／ｃｍであった。次に入射光
波長を１．３μｍとして同様の測定を行い、図２の結果
を得た。損失値は、１．２ｄＢ／ｃｍであった。すなわ
ち、図１は、波長：１．３μｍにおけるＧ２スラブ型光
導波路の導波光強度の導波距離依存性を示す図である。
また図２は、波長：６３３ｎｍにおけるＧ２スラブ型光
導波路の導波光強度の導波距離依存性を示す図である。
なお、図１及び図２において、縦軸は導波光強度（任意
単位）、横軸は光導波距離（ｃｍ）を意味する。
の、以下、Ｇ２と略記する〕は溶液からのスピンコート
により容易に透明フィルムとなった。このＧ２フィルム
の波長１．３μｍにおける複屈折率をプリズムカップリ
ング法により測定したところ、０．００１程度であっ
た。このようにして、複屈折率が小さいことを確認した
上で、Ｇ２を酢酸エトキシエチル溶液とし、０．２μｍ
のフィルターでろ過した後、ガラス基板上にスピンコー
トし、厚さ３．６μｍのＧ２透明膜を得た。このように
して作製したスラブ型光導波路の光導波損失を測定し
た。波長６３３ｎｍのレーザー光をプリズムカップリン
グにより膜に入射した。光導波の様子を赤外線ビデオカ
メラを用いて観察し、各導波距離での散乱光強度から導
波光強度を推定した。このようにして測定した導波光強
度の導波距離依存性を図１に示す。傾きから損失を求め
た。損失値は、２．１ｄＢ／ｃｍであった。次に入射光
波長を１．３μｍとして同様の測定を行い、図２の結果
を得た。損失値は、１．２ｄＢ／ｃｍであった。すなわ
ち、図１は、波長：１．３μｍにおけるＧ２スラブ型光
導波路の導波光強度の導波距離依存性を示す図である。
また図２は、波長：６３３ｎｍにおけるＧ２スラブ型光
導波路の導波光強度の導波距離依存性を示す図である。
なお、図１及び図２において、縦軸は導波光強度（任意
単位）、横軸は光導波距離（ｃｍ）を意味する。
【００２１】図３はＧ２スピンコート膜の可視・近赤外
吸収スペクトルを示す図である。すなわち、図３は、塩
化メチレン溶液より作製したＧ２キャストフィルムの可
視・近赤外吸収スペクトルを示す図である。なお、図３
において縦軸は吸光度（任意単位）、横軸は波長（ｎ
ｍ）を意味する。図３に示すように、可視域から近赤外
域にのびた吸収の大部分は、黄褐色のフェノール構造を
含む不純物に由来する。そこで、合成の各段階でのカラ
ムクロマトグラフィによる精製を十分に行うと共に、フ
ェノール構造を含む不純物の生成が極力抑えられるよう
な合成条件で、再度、Ｇ２を合成し、光導波損失値を求
めたところ、波長６３３ｎｍ、１．３μｍともに、０．
５ｄＢ／ｃｍ以下になった。
吸収スペクトルを示す図である。すなわち、図３は、塩
化メチレン溶液より作製したＧ２キャストフィルムの可
視・近赤外吸収スペクトルを示す図である。なお、図３
において縦軸は吸光度（任意単位）、横軸は波長（ｎ
ｍ）を意味する。図３に示すように、可視域から近赤外
域にのびた吸収の大部分は、黄褐色のフェノール構造を
含む不純物に由来する。そこで、合成の各段階でのカラ
ムクロマトグラフィによる精製を十分に行うと共に、フ
ェノール構造を含む不純物の生成が極力抑えられるよう
な合成条件で、再度、Ｇ２を合成し、光導波損失値を求
めたところ、波長６３３ｎｍ、１．３μｍともに、０．
５ｄＢ／ｃｍ以下になった。
【００２２】実施例２及び３ 実施例１に準じて不純物フリーに合成したエーテルケト
ン系デンドリマ〔式（化３）で表されるもの〕（Ｇ
３）、及び同デンドリマ〔式（化４）で表されるもの〕
（Ｇ４）について、スラブ型光導波路を作製し、Ｇ２と
同等の低複屈折率、低損失導波を確認した。更に、これ
らについては、下部クラッド厚：２０μｍ、コア径：８
μｍ×８μｍ、上部クラッド厚：１５μｍのチャネル型
光導波路を、ホトリソグラフィとドライエッチングを使
って作製した。クラッド材としては、コア材であるデン
ドリマに対する比屈折率差が０．３％になるように調製
された紫外線硬化樹脂を使用した。これらチャネル型光
導波路の光導波損失値を求めたところ、両者共、波長
１．３μｍのシングルモード条件で０．５ｄＢ／ｃｍ以
下であった。特に世代の最も進んだＧ４チャネル型光導
波路の損失は１２０℃においても増加しなかった。
ン系デンドリマ〔式（化３）で表されるもの〕（Ｇ
３）、及び同デンドリマ〔式（化４）で表されるもの〕
（Ｇ４）について、スラブ型光導波路を作製し、Ｇ２と
同等の低複屈折率、低損失導波を確認した。更に、これ
らについては、下部クラッド厚：２０μｍ、コア径：８
μｍ×８μｍ、上部クラッド厚：１５μｍのチャネル型
光導波路を、ホトリソグラフィとドライエッチングを使
って作製した。クラッド材としては、コア材であるデン
ドリマに対する比屈折率差が０．３％になるように調製
された紫外線硬化樹脂を使用した。これらチャネル型光
導波路の光導波損失値を求めたところ、両者共、波長
１．３μｍのシングルモード条件で０．５ｄＢ／ｃｍ以
下であった。特に世代の最も進んだＧ４チャネル型光導
波路の損失は１２０℃においても増加しなかった。
【００２３】実施例４ ビルディングブロック〔式（化１）で表されるもの〕か
ら、ワンポット縮重合により合成したデンドリックな超
分岐ポリマー〔式（化５）で表されるもの〕は、分別沈
殿により精製、低分散化した。クロロベンゼン溶液から
スピンコート膜を作製し複屈折率を測定した。実施例１
〜３における正規のコンバージェント法によって合成さ
れたエーテルケトン系デンドリマと比べると複屈折率は
わずかに大きい値であった。この超分岐ポリマーをコア
とするチャネル型光導波路を、実施例２、３に準じて作
製した。波長１．３μｍで、損失０．５ｄＢ／ｃｍ程度
のシングルモード導波が可能であった。損失は１２０℃
においても増加しなかった。
ら、ワンポット縮重合により合成したデンドリックな超
分岐ポリマー〔式（化５）で表されるもの〕は、分別沈
殿により精製、低分散化した。クロロベンゼン溶液から
スピンコート膜を作製し複屈折率を測定した。実施例１
〜３における正規のコンバージェント法によって合成さ
れたエーテルケトン系デンドリマと比べると複屈折率は
わずかに大きい値であった。この超分岐ポリマーをコア
とするチャネル型光導波路を、実施例２、３に準じて作
製した。波長１．３μｍで、損失０．５ｄＢ／ｃｍ程度
のシングルモード導波が可能であった。損失は１２０℃
においても増加しなかった。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるデン
ドリマ光導波路（超分岐ポリマーを含む総称）は、光導
波路への主要な要求条件である光学特性・加工性・耐熱
性のすべてについて同時に高いレベルで満足するもので
あって、従来の高分子光導波路では適用が躊躇されてい
た方向性結合器や光インタコネクト用光導波路として、
幅広く利用できる。より一般的に言えば、本発明のデン
ドリマ光導波路は、コンピュータ・交換機の光インタコ
ネクション用あるいは光ＬＡＮ配線用あるいは光加入者
設備用の低コストかつ高性能な光学部品として広範にし
かも安定して使用し得る。すなわち、本デンドリマ光導
波路をキーデバイスとして、光インタコネクション・光
ＬＡＮ・光加入者の各システムが構成できるという利点
がある。また、デンドリマは対称性の良い構造と高度に
分岐し密につまった球状構造のため、デンドリマ分子の
中心と最外縁の間やデンドリマ分子間の距離が正確に規
定されるので、分子内の特定位置に例えば光アンプ機能
物質・ＥＬ物質・光電荷分離物質などを保持することが
できれば、篭に規則正しく隔離された分子の光物理的・
光化学的挙動を利用した新しいタイプの光導波路型光機
能デバイスとして、本デンドリマ光導波路を発展させて
いくことも可能である。したがって、本発明は、光通
信、光情報処理、光学等の分野に広く適用できる。
ドリマ光導波路（超分岐ポリマーを含む総称）は、光導
波路への主要な要求条件である光学特性・加工性・耐熱
性のすべてについて同時に高いレベルで満足するもので
あって、従来の高分子光導波路では適用が躊躇されてい
た方向性結合器や光インタコネクト用光導波路として、
幅広く利用できる。より一般的に言えば、本発明のデン
ドリマ光導波路は、コンピュータ・交換機の光インタコ
ネクション用あるいは光ＬＡＮ配線用あるいは光加入者
設備用の低コストかつ高性能な光学部品として広範にし
かも安定して使用し得る。すなわち、本デンドリマ光導
波路をキーデバイスとして、光インタコネクション・光
ＬＡＮ・光加入者の各システムが構成できるという利点
がある。また、デンドリマは対称性の良い構造と高度に
分岐し密につまった球状構造のため、デンドリマ分子の
中心と最外縁の間やデンドリマ分子間の距離が正確に規
定されるので、分子内の特定位置に例えば光アンプ機能
物質・ＥＬ物質・光電荷分離物質などを保持することが
できれば、篭に規則正しく隔離された分子の光物理的・
光化学的挙動を利用した新しいタイプの光導波路型光機
能デバイスとして、本デンドリマ光導波路を発展させて
いくことも可能である。したがって、本発明は、光通
信、光情報処理、光学等の分野に広く適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】波長：１．３μｍにおけるＧ２スラブ型光導波
路の導波光強度の導波距離依存性を示す図である。
路の導波光強度の導波距離依存性を示す図である。
【図２】波長：６３３ｎｍにおけるＧ２スラブ型光導波
路の導波光強度の導波距離依存性を示す図である。
路の導波光強度の導波距離依存性を示す図である。
【図３】塩化メチレン溶液より作製したＧ２キャストフ
ィルムの可視・近赤外吸収スペクトルを示す図である。
ィルムの可視・近赤外吸収スペクトルを示す図である。
Claims (4)
- 【請求項１】 下記式（化１）： 【化１】 （式中Ｍｅはメチル基を意味する）で表される化合物を
ビルディングブロックとする、下記式（化２）、式（化
３）、又は式（化４）（各式中のＭｅは、いずれもメチ
ル基を意味する）で表されるエーテルケトン系デンドリ
マよりなることを特徴とする光導波路。 【化２】 【化３】 【化４】 - 【請求項２】 少なくともコア及び該コアを囲み該コア
より屈折率の低いクラッドが基板上に設けられ、前記コ
ア又はクラッドが式（化１）で表される化合物をビルデ
ィングブロックとする、式（化２）、式（化３）、又は
式（化４）で表されるでエーテルケトン系デンドリマよ
りなることを特徴とする請求項１に記載の光導波路。 - 【請求項３】式（化１）で表されるビルディングブロッ
クのワンポット縮重合体である、下記式（化５）： 【化５】 で表されるでエーテルケトン系超分岐ポリマーよりなる
ことを特徴とする光導波路。 - 【請求項４】 少なくともコア及び該コアを囲み該コア
より屈折率の低いクラッドが基板上に設けられ、前記コ
ア又はクラッドが式（化１）で表されるビルディングブ
ロックのワンポット縮重合体である、式（化５）で表さ
れるでエーテルケトン系超分岐ポリマーよりなることを
特徴とする請求項３に記載の光導波路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11058896A JP3358168B2 (ja) | 1996-04-08 | 1996-04-08 | デンドリマ光導波路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11058896A JP3358168B2 (ja) | 1996-04-08 | 1996-04-08 | デンドリマ光導波路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09274117A true JPH09274117A (ja) | 1997-10-21 |
| JP3358168B2 JP3358168B2 (ja) | 2002-12-16 |
Family
ID=14539669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11058896A Expired - Fee Related JP3358168B2 (ja) | 1996-04-08 | 1996-04-08 | デンドリマ光導波路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3358168B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2415959A (en) * | 2004-07-07 | 2006-01-11 | Seiko Epson Corp | Fabrication of self-assembled dendron monolayers |
| US9093810B2 (en) | 2004-07-01 | 2015-07-28 | Applied Research And Photonics, Inc. | Dendrimer based terahertz generator |
| CN104871041A (zh) * | 2012-12-18 | 2015-08-26 | 柯尼卡美能达株式会社 | 层叠透镜阵列、层叠透镜阵列的制造方法以及层叠透镜的制造方法 |
| US9239290B2 (en) | 2003-10-15 | 2016-01-19 | Applied Research And Photonics, Inc. | Terahertz scanning reflectometer |
| US9909986B2 (en) | 2003-10-15 | 2018-03-06 | Applied Research And Photonics, Inc. | Thickness determination and layer characterization using terahertz scanning reflectometry |
-
1996
- 1996-04-08 JP JP11058896A patent/JP3358168B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9239290B2 (en) | 2003-10-15 | 2016-01-19 | Applied Research And Photonics, Inc. | Terahertz scanning reflectometer |
| US9909986B2 (en) | 2003-10-15 | 2018-03-06 | Applied Research And Photonics, Inc. | Thickness determination and layer characterization using terahertz scanning reflectometry |
| US9093810B2 (en) | 2004-07-01 | 2015-07-28 | Applied Research And Photonics, Inc. | Dendrimer based terahertz generator |
| GB2415959A (en) * | 2004-07-07 | 2006-01-11 | Seiko Epson Corp | Fabrication of self-assembled dendron monolayers |
| GB2415959B (en) * | 2004-07-07 | 2007-08-22 | Seiko Epson Corp | Fabrication of self-assembled dendron monolayers |
| US7524998B2 (en) | 2004-07-07 | 2009-04-28 | Seiko Epson Corporation | Fabrication of self-assembled dendron monolayers |
| CN104871041A (zh) * | 2012-12-18 | 2015-08-26 | 柯尼卡美能达株式会社 | 层叠透镜阵列、层叠透镜阵列的制造方法以及层叠透镜的制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3358168B2 (ja) | 2002-12-16 |
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