JPH09260593A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH09260593A
JPH09260593A JP6673396A JP6673396A JPH09260593A JP H09260593 A JPH09260593 A JP H09260593A JP 6673396 A JP6673396 A JP 6673396A JP 6673396 A JP6673396 A JP 6673396A JP H09260593 A JPH09260593 A JP H09260593A
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JP
Japan
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circuit
resistance
integrated circuit
resistor
data
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JP6673396A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatsuya Uno
立也 宇野
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance AD exchange precision by a method wherein data from an external unit of an integrated circuit are writable and a volatile memory part for controlling an on/off state of a switch element is provided in a memory data. SOLUTION: A nonvolatile memory part 20 is formed on the same chip as a variable resistor circuit 10, and based on control from an external unit of an integrated circuit, an on/off state of a transmission gate circuit 105 is controlled. Data for controlling selectively the transmission gate 105 to be in an on state are written, whereby a connection circuit of a polysilicon resistor element 104 is controlled, and a resistance value of a resistance array circuit 101 is variably controlled. Data for controlling at least one transmission gate circuit 105 out of resistor-switch series circuits of the resistance array circuit 101 to be in an on state are written, whereby an opening state between two nodes is avoided. Thereby, AD exchange precision can be enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路
(IC)に係り、特にIC内に形成されてIC外部から
抵抗値を可変制御し得る可変抵抗回路に関するもので、
例えば並列比較型のアナログ・デジタル(AD)変換器
の基準電圧発生回路などに使用されるものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit (IC), and more particularly to a variable resistance circuit formed inside the IC and capable of variably controlling a resistance value from outside the IC.
For example, it is used for a reference voltage generating circuit of a parallel comparison type analog-digital (AD) converter.

【0002】[0002]

【従来の技術】並列比較型AD変換器は、一般的に、ア
ナログ信号入力をサンプリングしたアナログ電圧をそれ
ぞれ異なる複数の基準電圧とそれぞれ電圧比較し、その
大小関係に基いて、AD変換出力を得るものである。
2. Description of the Related Art Generally, a parallel comparison type AD converter compares an analog voltage obtained by sampling an analog signal input with a plurality of different reference voltages and obtains an AD conversion output based on the magnitude relationship. It is a thing.

【0003】図3は、半導体集積回路に形成された並列
比較型AD変換器の原理的な構成の一例を示している。
図3において、SHはサンプリングモードの時にアナロ
グ信号入力をサンプリングしてホールドするサンプルホ
ールド回路、REFは互いに異なる複数の基準電圧を発
生する基準電圧発生回路、CPはそれぞれ前記サンプル
ホールド回路の出力が第1の入力端に共通に入力し、第
2の入力端に前記複数の基準電圧のうちの1つが入力す
る複数の電圧比較器である。
FIG. 3 shows an example of the principle configuration of a parallel comparison type AD converter formed in a semiconductor integrated circuit.
In FIG. 3, SH is a sample and hold circuit that samples and holds an analog signal input in the sampling mode, REF is a reference voltage generation circuit that generates a plurality of different reference voltages, and CP is the output of the sample and hold circuit. A plurality of voltage comparators that are commonly input to one input terminal and one of the plurality of reference voltages is input to a second input terminal.

【0004】なお、上記電圧比較器CPは、例えば電圧
比較用の反転増幅器と、この反転増幅器の入出力端間に
接続され、サンプリングモードの時にオン状態に制御さ
れ、比較モードの時にオフ状態に制御されるスイッチ回
路とで構成される。
The voltage comparator CP is connected between, for example, an inverting amplifier for voltage comparison and an input / output terminal of the inverting amplifier, is controlled to be on in the sampling mode, and is turned off in the comparison mode. It is composed of a controlled switch circuit.

【0005】また、前記基準電圧発生回路REFは、2
つの電圧ノードの間に抵抗素子群が直列に接続された抵
抗ストリングが用いられ、この抵抗ストリングにより複
数に分割された基準電圧を出力するように構成されてい
る。
Further, the reference voltage generating circuit REF has 2
A resistor string in which a resistor element group is connected in series between two voltage nodes is used, and the resistor string is configured to output a plurality of divided reference voltages.

【0006】図4は、上記基準電圧発生回路用の抵抗ス
トリングに使用されている従来のポリシリコン抵抗の一
例を示す。図4に示すポリシリコン抵抗40は、AD変
換の誤差のオフセットを補正してAD変換精度を向上さ
せるために基準電圧出力を補正し得るように、その抵抗
値を補正制御し得るように構成されている。
FIG. 4 shows an example of a conventional polysilicon resistor used in a resistor string for the reference voltage generating circuit. The polysilicon resistor 40 shown in FIG. 4 is configured to correct and control its resistance value so that the reference voltage output can be corrected in order to correct the offset of the AD conversion error and improve the AD conversion accuracy. ing.

【0007】即ち、ポリシリコン抵抗40の一端側と電
源電位Vccとの間に第1のアルミニウム配線41を形成
し、上記ポリシリコン抵抗40の他端側と接地電位Vss
との間に第2のアルミニウム配線42を形成しており、
ウエハープロセス段階で上記ポリシリコン抵抗40の他
端側と第2のアルミニウム配線42とのコンタクト位置
を複数箇所の中から選択することにより抵抗値の補正量
を制御している。
That is, the first aluminum wiring 41 is formed between one end of the polysilicon resistor 40 and the power supply potential Vcc, and the other end of the polysilicon resistor 40 and the ground potential Vss.
A second aluminum wiring 42 is formed between
In the wafer process stage, the correction value of the resistance value is controlled by selecting the contact position between the other end side of the polysilicon resistor 40 and the second aluminum wiring 42 from a plurality of positions.

【0008】しかし、上記した従来例では、ウエハープ
ロセス段階で抵抗値を補正制御するので、ウエハーから
分割したチップをパッケージングした後には、プロセス
のばらつきによる集積回路毎の抵抗値のばらつきに対し
て抵抗値の補正量を変更することができない。また、上
記した従来例では、AD変換の誤差に対する単純なオフ
セット補正しかできない。
However, in the above-mentioned conventional example, since the resistance value is corrected and controlled in the wafer process stage, after packaging the divided chips from the wafer, the variation in the resistance value for each integrated circuit due to the variation in the process is caused. The amount of resistance correction cannot be changed. Further, in the above-mentioned conventional example, only a simple offset correction for an AD conversion error can be performed.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
AD変換器の基準電圧発生回路に使用されている抵抗素
子は、集積回路の製造後には抵抗値の補正量を変更する
ことができず、AD変換の誤差に対する単純なオフセッ
ト補正しかできないという問題があった。
As described above, the resistance element used in the reference voltage generating circuit of the conventional AD converter cannot change the correction amount of the resistance value after the integrated circuit is manufactured. However, there is a problem that only a simple offset correction can be performed for the AD conversion error.

【0010】本発明は上記の問題点を解決すべくなされ
たもので、集積回路のパッケージング後でも外部から抵
抗値を可変制御でき、AD変換器の基準電圧発生回路に
使用してAD変換誤差の複雑な補正を行うことによりA
D変換精度を向上させ得る抵抗回路を有する半導体集積
回路を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems. The resistance value can be variably controlled externally even after packaging of the integrated circuit, and the AD converter can be used in the reference voltage generating circuit of the AD converter to obtain an AD conversion error. By performing complicated correction of
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit having a resistance circuit that can improve D conversion accuracy.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
は、2個のノードの間に直列に接続された複数組の抵抗
アレイ回路と、上記抵抗アレイ回路に設けられ、互いに
並列接続された複数個の抵抗・スイッチ直列回路と、上
記抵抗・スイッチ直列回路に設けられ、互いに直列接続
されたポリシリコン抵抗素子およびスイッチ素子と、集
積回路外部からデータの書き換えが可能であって、その
記憶データが前記スイッチ素子のオン/オフ状態を制御
するために用いられる電気的消去・書き込み可能な不揮
発性メモリ部とを具備することを特徴とする。
A semiconductor integrated circuit according to the present invention is provided in a plurality of sets of resistor array circuits connected in series between two nodes and the resistor array circuit and connected in parallel with each other. A plurality of resistance / switch series circuits, a polysilicon resistance element and a switch element which are provided in the resistance / switch series circuit and are connected in series with each other, and data can be rewritten from outside the integrated circuit. And an electrically erasable and writable non-volatile memory unit used to control the on / off state of the switch element.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明を例えばAD変換器の基準
電圧発生回路に適用する場合、ICのパッケージング後
においてAD変換器を使用する際は、抵抗アレイ回路が
任意の適当な抵抗値を有するとともに基準電圧発生回路
が任意の適当な基準電圧を発生する初期状態でAD変換
を行い、AD変換結果に応じて変換誤差の補正に必要な
基準電圧を発生するように抵抗回路の抵抗値を制御する
ためのデータをIC外部から不揮発性メモリ部に書き込
む。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION When the present invention is applied to a reference voltage generating circuit of an AD converter, for example, when the AD converter is used after packaging of the IC, the resistor array circuit sets any appropriate resistance value. In addition, the resistance value of the resistance circuit is set so that AD conversion is performed in an initial state in which the reference voltage generating circuit generates any appropriate reference voltage, and the reference voltage necessary for correcting the conversion error is generated according to the AD conversion result. The control data is written in the nonvolatile memory unit from outside the IC.

【0013】これにより、パッケージング後でも、プロ
セスのばらつきによるIC毎の抵抗素子の抵抗値のばら
つきに対して抵抗アレイ回路の抵抗値の補正量を任意に
変更することが可能になり、AD変換の誤差に対する単
純なオフセット補正だけでなく、AD変換誤差の複雑な
補正を行うことが可能になり、AD変換精度を向上させ
ることが可能になる。
As a result, even after packaging, it is possible to arbitrarily change the correction amount of the resistance value of the resistance array circuit with respect to the dispersion of the resistance value of the resistance element for each IC due to the dispersion of the process, and the AD conversion is performed. It is possible to perform not only a simple offset correction for the error of 1) but also a complicated correction of the AD conversion error, and it is possible to improve the AD conversion accuracy.

【0014】以下、図面を参照して本発明の実施の形態
を詳細に説明する。図1は、本発明のICの実施の形態
として、例えば図3に示したようなAD変換器の基準電
圧発生回路に使用される可変抵抗回路の一例を示してい
る。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 shows an example of a variable resistance circuit used as a reference voltage generation circuit of an AD converter as shown in FIG. 3 as an embodiment of an IC of the present invention.

【0015】図1において、11は電源電位Vccが与え
られる第1のノード、12は接地電位Vssが与えられる
第2のノードであり、上記2個のノードの間に可変抵抗
回路10が接続されている。
In FIG. 1, 11 is a first node to which the power supply potential Vcc is applied, 12 is a second node to which the ground potential Vss is applied, and the variable resistance circuit 10 is connected between the two nodes. ing.

【0016】上記可変抵抗回路10は、2個のノードの
間に直列に接続された複数組の抵抗アレイ回路101を
有する。上記各抵抗アレイ回路101は、複数個(本例
では3個)の抵抗・スイッチ直列回路が互いに並列接続
されている。
The variable resistance circuit 10 has a plurality of sets of resistance array circuits 101 connected in series between two nodes. In each of the resistance array circuits 101, a plurality (three in this example) of resistor / switch series circuits are connected in parallel with each other.

【0017】上記各抵抗アレイ回路101における複数
個の抵抗・スイッチ直列回路は、それぞれ抵抗値が異な
る例えばポリシリコン抵抗素子104とCMOSトラン
スミッションゲート回路105とが直列に接続されてな
る。そして、上記複数個の抵抗・スイッチ直列回路の各
ポリシリコン抵抗素子104の一端側が共通に接続さ
れ、各トランスミッションゲート回路105の一端側が
共通に接続されている。
The plurality of resistance / switch series circuits in each resistance array circuit 101 are formed by connecting, for example, a polysilicon resistance element 104 and a CMOS transmission gate circuit 105 having different resistance values in series. Then, one end side of each polysilicon resistance element 104 of the plurality of resistor / switch series circuits is commonly connected, and one end side of each transmission gate circuit 105 is commonly connected.

【0018】不揮発性メモリ部20は、上記可変抵抗回
路10と同一チップ上に形成されており、集積回路外部
からの制御に基づいて前記トランスミッションゲート回
路105のオン/オフ状態を制御することが可能であ
り、その一例として図2に示すようなEEPROM(電
気的書込み・消去が可能な読み出し専用メモリ)が用い
られる。
The non-volatile memory section 20 is formed on the same chip as the variable resistance circuit 10 and can control the on / off state of the transmission gate circuit 105 based on the control from outside the integrated circuit. As an example, an EEPROM (electrically writable / erasable read-only memory) as shown in FIG. 2 is used.

【0019】図2に示すEEPROMは、メモリセル
(EEPROMセル)群21と、上記EEPROMセル
群21に対して集積回路外部からデータの書込みが可能
なデータ書込み回路22と、上記EEPROMセル群2
1の記憶データを読み出して前記トランスミッションゲ
ート回路105のオン/オフ状態を制御するためのデー
タ読み出し回路23とを具備する。
The EEPROM shown in FIG. 2 has a group of memory cells (EEPROM cells) 21, a data write circuit 22 capable of writing data to the EEPROM cell group 21 from outside the integrated circuit, and the EEPROM cell group 2.
And a data read circuit 23 for reading the stored data of No. 1 and controlling the on / off state of the transmission gate circuit 105.

【0020】前記不揮発性メモリ20部は、複数個のト
ランスミッションゲート回路105を選択的にオン状態
に制御するようなデータが書き込まれることにより、複
数個のポリシリコン抵抗素子104の接続経路を制御
し、各組の抵抗アレイ回路101の抵抗値、ひいては図
1の可変抵抗回路10全体の抵抗値を可変制御すること
が可能になっている。
The nonvolatile memory 20 unit controls the connection paths of the plurality of polysilicon resistance elements 104 by writing data for selectively controlling the plurality of transmission gate circuits 105 to be turned on. It is possible to variably control the resistance value of the resistance array circuit 101 of each set, and thus the resistance value of the entire variable resistance circuit 10 in FIG.

【0021】この場合、前記各組の抵抗アレイ回路10
1における複数個の抵抗・スイッチ直列回路のうちの少
なくとも1個の抵抗・スイッチ直列回路のトランスミッ
ションゲート回路105をオン状態に制御するようなデ
ータが書き込まれることにより、前記2個のノード間が
開放状態になることを避けることができる。
In this case, the resistor array circuits 10 of each set are provided.
Data is written to control the transmission gate circuit 105 of at least one resistance-switch series circuit of the plurality of resistance-switch series circuits in No. 1 in the ON state, thereby opening the two nodes. You can avoid getting into a state.

【0022】上記実施の形態におけるICのパッケージ
ング後においてAD変換器を使用する際は、可変抵抗回
路10が任意の適当な抵抗値を有するとともに基準電圧
発生回路が任意の適当な基準電圧を発生する初期状態で
AD変換を行い、AD変換結果に応じて変換誤差の補正
に必要な基準電圧を発生するように可変抵抗回路10の
抵抗値を制御するためのデータを集積回路外部から不揮
発性メモリ部20に書き込む。
When the AD converter is used after the IC is packaged in the above embodiment, the variable resistance circuit 10 has any appropriate resistance value and the reference voltage generating circuit generates any appropriate reference voltage. In the initial state, AD conversion is performed, and data for controlling the resistance value of the variable resistance circuit 10 is generated from the outside of the integrated circuit so as to generate the reference voltage necessary for correcting the conversion error according to the AD conversion result. Write in section 20.

【0023】これにより、パッケージング後でも、プロ
セスのばらつきによるIC毎の抵抗素子の抵抗値のばら
つきに対して抵抗アレイ回路10の抵抗値の補正量を任
意に変更することが可能になり、AD変換の誤差に対す
る単純なオフセット補正だけでなく、AD変換誤差の複
雑な補正を行うことが可能になり、AD変換精度を向上
させることが可能になる。
As a result, even after packaging, it is possible to arbitrarily change the correction amount of the resistance value of the resistance array circuit 10 with respect to the dispersion of the resistance value of the resistance element for each IC due to the dispersion of the process. Not only simple offset correction for conversion errors but also complicated correction of AD conversion errors can be performed, and AD conversion accuracy can be improved.

【0024】[0024]

【発明の効果】上述したように本発明によれば、ICの
パッケージング後でも外部から抵抗値を可変制御でき、
AD変換器の基準電圧発生回路に使用してAD変換誤差
の複雑な補正を行うことによりAD変換精度を向上させ
得る可変抵抗回路を有する半導体集積回路を実現するこ
とができる。
As described above, according to the present invention, the resistance value can be variably controlled externally even after the packaging of the IC,
A semiconductor integrated circuit having a variable resistance circuit capable of improving AD conversion accuracy can be realized by using the AD converter in a reference voltage generation circuit to perform complicated correction of an AD conversion error.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係るAD変換器の基準電
圧発生回路に使用されている可変抵抗回路を示す回路
図。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a variable resistance circuit used in a reference voltage generation circuit of an AD converter according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1中の不揮発性メモリ部の一例を示すブロッ
ク図。
FIG. 2 is a block diagram showing an example of a nonvolatile memory unit in FIG.

【図3】ICに形成されたAD変換器の一例を示す回路
図。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of an AD converter formed on an IC.

【図4】図3中の基準電圧発生回路で使用される抵抗素
子の平面パターンを示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a plane pattern of a resistance element used in the reference voltage generation circuit in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…可変抵抗回路、101…抵抗アレイ回路、104
…ポリシリコン抵抗素子、105…CMOSトランスミ
ッションゲート回路、11…第1のノード、12…第2
のノード、20…不揮発性メモリ部、30…基準電圧発
生回路。
10 ... Variable resistance circuit, 101 ... Resistor array circuit, 104
... polysilicon resistance element, 105 ... CMOS transmission gate circuit, 11 ... first node, 12 ... second
Node, 20 ... Non-volatile memory section, 30 ... Reference voltage generating circuit.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップ上に形成され、2個のノー
ドの間に直列に接続された複数組の抵抗アレイ回路と、 上記抵抗アレイ回路に設けられ、互いに並列接続された
複数個の抵抗・スイッチ直列回路と、 上記抵抗・スイッチ直列回路に設けられ、互いに直列接
続されたポリシリコン抵抗素子およびスイッチ素子と、 集積回路外部からデータの書き換えが可能であって、そ
の記憶データが前記スイッチ素子のオン/オフ状態を制
御するために用いられる電気的消去・書き込み可能な不
揮発性メモリ部とを具備することを特徴とする半導体集
積回路。
1. A plurality of sets of resistor array circuits formed on a semiconductor chip and connected in series between two nodes, and a plurality of resistors provided in the resistor array circuit and connected in parallel with each other. A switch series circuit, a polysilicon resistance element and a switch element which are provided in the resistor / switch series circuit and are connected in series with each other, and data can be rewritten from outside the integrated circuit, and the stored data is stored in the switch element. A semiconductor integrated circuit comprising an electrically erasable / writable non-volatile memory unit used to control an on / off state.
【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路におい
て、 前記抵抗アレイ回路は、AD変換器の基準電圧発生回路
に接続され、前記不揮発性メモリ部の記憶データにより
制御された抵抗値に応じて上記基準電圧発生回路の基準
電圧出力を決定することを特徴とする半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the resistance array circuit is connected to a reference voltage generation circuit of an AD converter, and the resistance array circuit responds to a resistance value controlled by stored data of the nonvolatile memory unit. A semiconductor integrated circuit, characterized in that a reference voltage output of the reference voltage generating circuit is determined.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010288091A (en) * 2009-06-11 2010-12-24 Nec Toshiba Space Systems Ltd Pipeline type analog-digital converter, and method of correcting the same

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