JPH09258198A - Liquid crystal panel and its production - Google Patents

Liquid crystal panel and its production

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JPH09258198A
JPH09258198A JP8061330A JP6133096A JPH09258198A JP H09258198 A JPH09258198 A JP H09258198A JP 8061330 A JP8061330 A JP 8061330A JP 6133096 A JP6133096 A JP 6133096A JP H09258198 A JPH09258198 A JP H09258198A
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JP
Japan
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color filter
filter layer
liquid crystal
protective film
transparent electrode
Prior art date
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Application number
JP8061330A
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Japanese (ja)
Inventor
Satoyuki Sugitani
智行 杉谷
Akiya Izumi
章也 泉
Takaaki Kuji
卓見 久慈
Yoshitaka Imabayashi
義考 今林
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To maintain flatness of a protective film which is formed to cover a color filter layer and to prevent deterioration in display quality. SOLUTION: This liquid crystal panel consists of plural colors of color filter layers FIL(R), FIL(G), FIL(B) divided by a black matrix MB comprising a light-absorbing material formed on a transparent substrate SUB2, a protective film PSV2 formed to cover the color filter layers, a transparent electrode ITO2 on the protective film PSV2, and an orienting film ORI2 formed to cover the transparent electrode. In this method, the protective film PSV2 applied to smoothen the surface roughness of the color filter layers consists of a thermosetting org. transparent resin which is highly crosslinked before the thermosetting process and has photosetting property with high sensitivity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネルに係
り、特に透明基板上に形成したカラーフィルタ層の平坦
性を向上させた液晶パネルとその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal panel, and more particularly to a liquid crystal panel in which the flatness of a color filter layer formed on a transparent substrate is improved and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、画像表示デバイスとして液晶表示
装置が多くの分野において使用されるようになった。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have been used in many fields as image display devices.

【0003】この種の液晶表示装置は、表示窓をもつ上
フレームと、駆動回路基板を一体化したガラス基板等の
少なくとも一方が透明な一対の基板からなる液晶パネル
と、光拡散板と導光板等からなる背面照明部材である導
光体組立と、少なくとも一辺に線状のバクライト光源を
搭載する中間フレームと、下フレーム等を有し、これら
を上記の順で積層し、上記上フレームと下フレームとを
連結固定してなるのが一般的である。なお、中間フレー
ムと下フレームとを一体化したものもある。
This type of liquid crystal display device includes an upper frame having a display window, a liquid crystal panel composed of a pair of transparent substrates, at least one of which is a glass substrate integrated with a drive circuit substrate, a light diffusing plate and a light guide plate. A light guide assembly which is a back-lighting member composed of, for example, an intermediate frame on which a linear backlight source is mounted on at least one side, a lower frame, and the like, which are laminated in the above order, and the upper frame and the lower In general, the frame is connected and fixed. In addition, there is also a type in which the intermediate frame and the lower frame are integrated.

【0004】そして、上記液晶パネルを構成する一対の
ガラス基板の液晶対向面には走査電極、信号電極、配向
膜、その他の機能膜群を有し、それらの対向ギャップに
シリカあるいはプラスチック等からなる略々球形あるい
は断面円形の微小スペーサを分散させて介在させること
により一対の基板を所定のセル厚(以下、単にギャップ
とも言う)で保持させるようにしている。
A pair of glass substrates constituting the liquid crystal panel have a scanning electrode, a signal electrode, an alignment film, and other functional film groups on the liquid crystal facing surface, and a gap between them is made of silica or plastic. A pair of substrates is held at a predetermined cell thickness (hereinafter, simply referred to as a gap) by dispersing and interposing minute spacers having a substantially spherical shape or a circular cross section.

【0005】カラー対応の液晶表示装置では、上記一対
のガラス基板の一方のガラス基板(例えば、上ガラス基
板)の内面に複数色のカラーフィルタ層を始め、何れか
のガラス基板には画素選択用の透明電極などの機能膜群
が形成され、上記一方のガラス基板または他方のガラス
基板(下ガラス基板)には信号印加用の透明電極(画素
の点灯/非点灯を制御する制御手段として薄膜トランジ
スタ等のスイッチング素子を用いたTFT型などのアク
ティブ方式の液晶表示装置では、下ガラス基板に画素選
択用の薄膜トランジスタ等のスイッチング素子およびそ
の信号電極)等の上記一方のガラス基板とは異なる構成
の機能膜群が設けられている。
In a color-compatible liquid crystal display device, a color filter layer of a plurality of colors is formed on the inner surface of one of the pair of glass substrates (for example, an upper glass substrate). A functional film group such as a transparent electrode is formed, and the one glass substrate or the other glass substrate (lower glass substrate) is provided with a transparent electrode for signal application (a thin film transistor or the like as a control means for controlling lighting / non-lighting of pixels). In an active type liquid crystal display device such as a TFT type using a switching element of the type described above, a lower glass substrate has a functional film different from the above one glass substrate such as a switching element such as a thin film transistor for pixel selection and its signal electrode). Groups are provided.

【0006】なお、この種の液晶表示装置の従来技術を
開示したものとしては、特公昭51−13666号公
報、特開昭63−309921号公報を挙げることがで
きる。
The prior art of this type of liquid crystal display device is disclosed in JP-B-51-13666 and JP-A-63-309921.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】液晶表示装置をカラー
化するためには、当該液晶表示装置を構成する液晶パネ
ルの一方のガラス基板に複数色のカラーフィルタを形成
する必要がある。
In order to color the liquid crystal display device, it is necessary to form color filters of a plurality of colors on one glass substrate of the liquid crystal panel constituting the liquid crystal display device.

【0008】このカラーフィルタは上記ガラス基板の面
上に少なくとも3色(赤:R、緑:G、青:B)のカラ
ーフィルタ層を吸光性物質からなるブラックマトリクス
で区画してなり、その上に透明電極膜を成膜し、さらに
液晶層と接する配向膜を形成して、所謂カラーフィルタ
基板としている。
In this color filter, color filter layers of at least three colors (red: R, green: G, blue: B) are divided on the surface of the glass substrate by a black matrix made of a light-absorbing substance, and the black matrix is formed thereon. A transparent electrode film is formed on the substrate, and an alignment film that is in contact with the liquid crystal layer is formed to form a so-called color filter substrate.

【0009】上記カラーフィルタ層と透明電極層の間に
は、カラーフィルタ層を外部環境から保護し、不純物が
液晶層に流出するのを防止すると共に、カラーフィルタ
層の表面の平坦性を向上させるための透明樹脂からなる
保護膜が形成されている。
Between the color filter layer and the transparent electrode layer, the color filter layer is protected from the external environment, impurities are prevented from flowing out to the liquid crystal layer, and the flatness of the surface of the color filter layer is improved. For this purpose, a protective film made of transparent resin is formed.

【0010】この保護膜は、一般に熱硬化型レジストを
カラーフィルタ層を覆って成膜してベーキング工程で硬
化する方法や、光硬化型レジストを用いたフォトリソグ
ラフィーによる部分成膜方法が知られている。
This protective film is generally known as a method of forming a thermosetting resist film covering the color filter layer and hardening it in a baking process, or a partial film forming method by photolithography using a photo-curing resist film. There is.

【0011】しかし、熱硬化型レジストを用いた場合に
は、当該熱硬化型レジストの加熱硬化時の当該熱硬化反
応による当該レジスト膜の膜収縮率が大きく(10〜1
5%程度)、また光硬化型レジストを用いた場合には、
ポストベーク工程における本硬化処理での熱収縮が大き
い。
However, when a thermosetting resist is used, the film shrinkage rate of the resist film due to the thermosetting reaction during the heat curing of the thermosetting resist is large (10 to 1).
5%), and when a photocurable resist is used,
The heat shrinkage during the main curing process in the post-baking process is large.

【0012】カラーフィルタ層の表面はブラックマトリ
クスと複数のカラーフィルタの境界部分において特に段
差が大きく、カラーフィルタ層の表面は多数の段差が形
成されている。
The surface of the color filter layer has a large step at the boundary between the black matrix and the plurality of color filters, and the surface of the color filter layer has a large number of steps.

【0013】上記のように、保護膜を形成するためのレ
ジスト膜の膜収縮率が大きいと、レジスト溶液の塗布時
や乾燥時に平坦な表面であっても、本硬化工程での熱処
理において、その下層のカラーフィルタの段差の影響を
受け、平坦性が損なわれてしまい、液晶パネルの表示品
質の劣化を招くという問題があった。
As described above, when the film shrinkage of the resist film for forming the protective film is large, even if the resist solution is applied or dried, even if the surface is flat, the heat treatment in the main curing step causes There is a problem that the flatness is impaired by the influence of the step of the color filter of the lower layer, and the display quality of the liquid crystal panel is deteriorated.

【0014】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解消し、カラーフィルタ層を覆って成膜する保護膜の平
坦性を維持して表示品質の劣化を防止した液晶パネルと
その製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and to maintain the flatness of the protective film formed to cover the color filter layer to prevent the deterioration of the display quality, and a manufacturing method thereof. To provide.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、エポキシ樹脂系の熱硬化型レジストに
光硬化性(ラジカル反応性)を付与し、また光硬化性レ
ジストを高感度化して、本硬化工程でのベーキング処理
による熱硬化収縮を低減した。
In order to achieve the above object, in the present invention, photocurability (radical reactivity) is imparted to an epoxy resin type thermosetting resist, and the photocurable resist is made highly sensitive. As a result, the thermal curing shrinkage due to the baking treatment in the main curing step was reduced.

【0016】また、上記レジストの高感度化の外、光硬
化処理時の露光量の増大し、あるいは架橋剤の添加量の
増大を行うことにより、本硬化工程でのベーキング処理
による熱硬化収縮を低減した。
In addition to increasing the sensitivity of the resist, the exposure amount during the photo-curing treatment is increased or the addition amount of the cross-linking agent is increased to reduce the heat-curing shrinkage due to the baking treatment in the main curing step. Reduced.

【0017】すなわち、請求項1に記載の第1の発明
は、透明基板の面上に形成した吸光性物質のブラックマ
トリクスで区画された複数色のカラーフィルタ層と、前
記カラーフィルタ層を覆って形成した保護膜を介して形
成した透明電極と、前記透明電極を覆って形成した配向
膜とから構成した液晶パネルにおいて、前記カラーフィ
ルタ層の表面凹凸を埋めて塗布した前記保護膜が、熱硬
化前で高架橋反応させた高感度の光硬化性の熱硬化性有
機透明樹脂で形成したことを特徴とする。
That is, the first aspect of the present invention is such that a color filter layer of a plurality of colors divided by a black matrix of a light-absorbing substance formed on the surface of a transparent substrate and the color filter layer are covered. In a liquid crystal panel composed of a transparent electrode formed through a formed protective film and an alignment film formed so as to cover the transparent electrode, the protective film applied by filling the surface irregularities of the color filter layer is thermoset. It is characterized in that it is formed of a high-sensitivity photocurable thermosetting organic transparent resin which is highly cross-linked before.

【0018】また、請求項2に記載の第2の発明は、透
明基板の面上に形成した吸光性物質のブラックマトリク
スで区画された複数色のカラーフィルタ層と、前記カラ
ーフィルタ層を覆って形成した保護膜を介して形成した
透明電極と、前記透明電極を覆って形成した配向膜とか
ら構成した液晶パネルにおいて、前記カラーフィルタ層
の表面凹凸を埋めて塗布した前記保護膜が、熱硬化前で
高架橋反応させた光架橋反応性有機透明樹脂で形成した
ことを特徴とする。
In a second aspect of the present invention, a color filter layer of a plurality of colors is formed on the surface of the transparent substrate and is divided by a black matrix of a light-absorbing substance, and the color filter layer is covered. In a liquid crystal panel composed of a transparent electrode formed through a formed protective film and an alignment film formed so as to cover the transparent electrode, the protective film applied by filling the surface irregularities of the color filter layer is thermoset. It is characterized in that it is formed of a photocrosslinking reactive organic transparent resin which has been highly crosslinked before.

【0019】さらに、請求項3に記載の第3の発明は、
透明基板の面上にブラックマトリクスで区画された複数
色のカラーフィルタ層と、前記カラーフィルタ層を覆っ
て形成した保護膜を介して形成した透明電極と、前記透
明電極を覆って形成した配向膜とから構成した液晶パネ
ルの製造方法において、前記カラーフィルタ層を覆って
高感度の光硬化性の熱硬化性有機透明樹脂を塗布し、露
光を施して架橋反応させる露光工程と、前記露光工程で
硬化させた前記熱硬化性有機透明樹脂を被覆したカラー
フィルタ層を熱処理して硬化するベーキングする工程と
を少なくとも含むことを特徴とする液晶パネルの製造方
法。
Further, a third invention according to a third aspect is characterized in that:
A color filter layer of a plurality of colors divided by a black matrix on the surface of the transparent substrate, a transparent electrode formed via a protective film formed to cover the color filter layer, and an alignment film formed to cover the transparent electrode. In the method for producing a liquid crystal panel composed of, a high-sensitivity photocurable thermosetting organic transparent resin is applied to cover the color filter layer, an exposure step of exposing and crosslinking reaction, and the exposure step And a baking step of heat-treating the cured color filter layer coated with the thermosetting organic transparent resin to cure the color filter layer.

【0020】さらに、請求項4に記載の第4の発明は、
透明基板の面上にブラックマトリクスで区画された複数
色のカラーフィルタ層と、前記カラーフィルタ層を覆っ
て形成した保護膜を介して形成した透明電極と、前記透
明電極を覆って形成した配向膜とから構成した液晶パネ
ルの製造方法において、前記カラーフィルタ層を覆って
高感度の光架橋反応性有機透明樹脂を塗布し、適正露光
量を越えた露光を施して架橋反応を促進する過剰露光工
程と、前記過剰露光工程で硬化させた前記光架橋反応性
有機透明樹脂を被覆したカラーフィルタ層を熱処理して
硬化するベーキングする工程とを少なくとも含むことを
特徴とする。
[0020] Further, a fourth invention according to claim 4 is characterized in that:
A color filter layer of a plurality of colors divided by a black matrix on the surface of the transparent substrate, a transparent electrode formed via a protective film formed to cover the color filter layer, and an alignment film formed to cover the transparent electrode. In the method for producing a liquid crystal panel composed of, a high-sensitivity photocrosslinking-reactive organic transparent resin is applied to cover the color filter layer, and an overexposure step of accelerating the crosslinking reaction by performing exposure exceeding the appropriate exposure amount. And a baking step of heat-curing and curing the color filter layer coated with the photocrosslinking reactive organic transparent resin cured in the overexposure step.

【0021】上記本発明により、保護膜には本硬化であ
るベーキング工程に入る以前に当該保護膜中に架橋によ
る骨格が形成されるため、加熱硬化処理摩る際の熱収縮
が抑制されてカラーフィルタ層を覆って成膜する保護膜
の平坦性が維持されるため、表示品質の劣化を防止した
液晶パネルが得られる。
According to the present invention, a skeleton due to cross-linking is formed in the protective film before the baking step which is the main curing, so that the heat shrinkage during the heat curing treatment is suppressed and the color is suppressed. Since the flatness of the protective film formed to cover the filter layer is maintained, it is possible to obtain a liquid crystal panel in which deterioration of display quality is prevented.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、図示実施例を参照して詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the illustrated embodiments.

【0023】図1は本発明による液晶パネルの一実施例
を説明するためのカラーフィルタ基板の部分断面模式図
であって、SUB2はガラス基板、BMはブラックマト
リクス、FIL(R)は赤フィルタ、FIL(G)は緑
フィルタ、FIL(B)は青フィルタ、PSV2は保護
膜、ITO2は透明電極(共通電極)、ORI2は配向
膜である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional schematic view of a color filter substrate for explaining an embodiment of a liquid crystal panel according to the present invention. SUB2 is a glass substrate, BM is a black matrix, FIL (R) is a red filter, and FIG. FIL (G) is a green filter, FIL (B) is a blue filter, PSV2 is a protective film, ITO2 is a transparent electrode (common electrode), and ORI2 is an alignment film.

【0024】同図において、液晶パネルを構成するカラ
ーフィルタ基板は、透明なガラス基板SUB2上にブラ
ックマトリクスBMで区画された複数のカラーフィルタ
FIL(R),FIL(G),FIL(B)が形成され
ている。
In the figure, the color filter substrate constituting the liquid crystal panel has a plurality of color filters FIL (R), FIL (G) and FIL (B) divided by a black matrix BM on a transparent glass substrate SUB2. Has been formed.

【0025】このカラーフィルタFIL(R),FIL
(G),FIL(B)を覆って保護膜PSV2が形成さ
れ、その上に透明電極ITO2と配向膜ORI2が形成
されている。
The color filters FIL (R), FIL
A protective film PSV2 is formed so as to cover (G) and FIL (B), and a transparent electrode ITO2 and an alignment film ORI2 are formed thereon.

【0026】上記保護膜PSV2としては、カラーフィ
ルタ層の表面凹凸を埋めて光感度性を付与した光硬化性
の熱硬化性有機樹脂としてラジカル反応性を付与したエ
ポキシ樹脂を塗布した後、露光により光架橋反応で骨格
を形成し、その後に熱硬化して形成した。
As the protective film PSV2, an epoxy resin having radical reactivity is applied as a photocurable thermosetting organic resin having photosensitivity by filling the surface irregularities of the color filter layer and then exposed. A skeleton was formed by a photocrosslinking reaction, and then thermosetting was performed.

【0027】本実施例により、本硬化工程のベーキング
処理での熱収縮が低減され、塗布時の平坦性を維持した
保護膜となり、カラーフィルタ層の凹凸を埋めて上層に
形成する透明電極や配向膜の平坦化を図ることができ
る。
According to the present embodiment, the heat shrinkage during the baking treatment in the main curing step is reduced, and the protective film maintains the flatness during coating, thereby filling the irregularities of the color filter layer and forming the transparent electrode or the alignment on the upper layer. The film can be flattened.

【0028】したがって、本実施例の液晶パネルを用い
た液晶表示装置によれば、画質の劣化のない高品質の画
像表示が得られる。
Therefore, according to the liquid crystal display device using the liquid crystal panel of the present embodiment, high quality image display without deterioration of image quality can be obtained.

【0029】本発明の第二実施例は、上記保護膜PSV
2として高感度化した光架橋反応性有機透明樹脂を塗布
し、これを露光して架橋反応による骨格を形成し、その
後のベーキング工程での熱収縮を低減した。
The second embodiment of the present invention is the above protective film PSV.
2, a photocrosslinking reactive organic transparent resin with high sensitivity was applied, and this was exposed to light to form a skeleton by a crosslinking reaction, and thermal contraction in the subsequent baking step was reduced.

【0030】本実施例により、塗布時の平坦性を維持し
た保護膜となり、カラーフィルタ層の凹凸を埋めて上層
に形成する透明電極や配向膜の平坦化を図ることがで
き、画質の劣化のない高品質の画像表示が得られる。
According to this embodiment, the protective film maintains the flatness during coating, and the unevenness of the color filter layer can be filled up to flatten the transparent electrode and the alignment film formed in the upper layer, thereby deteriorating the image quality. No high quality image display is obtained.

【0031】本発明の第三実施例は、上記保護膜PSV
2として光架橋反応性有機透明樹脂を塗布し、これを通
常よりも多い2倍の露光量で露光して架橋反応による骨
格を形成し、その後のベーキング工程での熱収縮を低減
した。
The third embodiment of the present invention is based on the above-mentioned protective film PSV.
As No. 2, a photo-crosslinking reactive organic transparent resin was applied, and this was exposed at a double exposure amount higher than usual to form a skeleton by a cross-linking reaction, and thermal contraction in the subsequent baking step was reduced.

【0032】本実施例により、塗布時の平坦性を維持し
た保護膜となり、カラーフィルタ層の凹凸を埋めて上層
に形成する透明電極や配向膜の平坦化を図ることがで
き、画質の劣化のない高品質の画像表示が得られる。
According to this embodiment, the protective film maintains the flatness at the time of coating, and the unevenness of the color filter layer can be filled up to flatten the transparent electrode and the alignment film formed in the upper layer, thereby deteriorating the image quality. No high quality image display is obtained.

【0033】図2は露光量を増大させた時の保護膜の残
膜厚の関係の説明図であって、横軸に露光量の倍数(相
対倍数)を、縦軸に残膜厚(μm)を取って示す。
FIG. 2 is an explanatory diagram of the relationship of the remaining film thickness of the protective film when the exposure amount is increased. The horizontal axis represents the multiple of the exposure amount (relative multiple) and the vertical axis represents the remaining film thickness (μm). ) Is shown.

【0034】同図において、aはレジストを塗布してプ
リベークした後の残膜厚、bは最終のベーキング処理後
の残膜厚を示す。
In the figure, a indicates the residual film thickness after the resist is applied and prebaked, and b indicates the residual film thickness after the final baking treatment.

【0035】また、図3は露光量を増大させた時の保護
膜の残膜率の関係の説明図であって、横軸に露光量の倍
数(相対倍数)を、縦軸に残膜率(%)を取って示す。
FIG. 3 is an explanatory view of the relationship of the residual film ratio of the protective film when the exposure amount is increased, wherein the horizontal axis represents the multiple of the exposure amount (relative multiple) and the vertical axis represents the residual film ratio. (%) Is shown.

【0036】同図において、aはレジストを塗布してプ
リベークした後の残膜率、bは最終のベーキング処理後
の残膜率を示す。
In the figure, a indicates the residual film rate after the resist is applied and prebaked, and b indicates the residual film rate after the final baking treatment.

【0037】図2および図3において、例えば、ホトリ
ソグラフィー用光硬化レジストとしてV259PA(新
日鉄化学社製)を使用して従来手法の露光量で成膜した
場合、プリベーク時の膜厚2.57μmが最終ベーキン
グ処理で2.35μmとなった。この場合の残膜率は約
91%である。
In FIG. 2 and FIG. 3, for example, when V259PA (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) is used as a photocurable resist for photolithography and a film is formed with a conventional exposure amount, a film thickness of 2.57 μm at the time of prebaking is obtained. The final baking treatment resulted in 2.35 μm. In this case, the residual film rate is about 91%.

【0038】これに対し、上記と同条件でレジストを塗
布し、従来の2倍の露光量で露光後の残膜厚は2.56
μm、最終ベーキング処理後の残膜厚は2.37μmと
なり、残膜率はそれぞれ約99.5%、92.2%とな
る。
On the other hand, a resist was applied under the same conditions as described above, and the residual film thickness after exposure was 2.56 with an exposure amount twice that of the conventional case.
μm, the residual film thickness after the final baking treatment is 2.37 μm, and the residual film ratios are about 99.5% and 92.2%, respectively.

【0039】このように、露光量を増大することのみで
約1%以上に収縮率の低減が可能となる。
As described above, the shrinkage rate can be reduced to about 1% or more only by increasing the exposure amount.

【0040】なお、上記では露光量を増大させた例で説
明したが、これに代えてレジストの光硬化性を上げ、あ
るいは架橋剤の添加量を増やすことでも同様の効果が得
られる。
In the above description, the example in which the exposure amount is increased has been described, but instead of this, the same effect can be obtained by increasing the photocurability of the resist or increasing the addition amount of the crosslinking agent.

【0041】図4および図5は本発明による液晶パネル
の製造方法の第一実施例を説明する概略工程図である。
4 and 5 are schematic process diagrams for explaining the first embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention.

【0042】図4、図5において、先ず、ガラス基板S
UB2の表面に吸光性物質を添加した感光性レジストか
らなるブラックマトリクス材料のレジスト膜BM’を塗
布し乾燥する(a)。
In FIGS. 4 and 5, first, the glass substrate S
A resist film BM 'of a black matrix material made of a photosensitive resist to which a light absorbing substance is added is applied to the surface of UB2 and dried (a).

【0043】これをブラックマトリクスのパターン開孔
を有するマスクMSK1を介して露光光EXを照射して
露光し、露光部分の上記レジスト膜BM’を硬化させる
(b)。
This is exposed by exposing light EX through a mask MSK1 having a black matrix pattern opening, and the resist film BM 'in the exposed portion is cured (b).

【0044】レジスト膜BM’の未露光部分を現像除去
してブラックマトリクスBMを形成する(c)。
The unexposed portion of the resist film BM 'is developed and removed to form a black matrix BM (c).

【0045】次に、上記ブラックマトリクスBMを覆っ
て、第1のカラーフィルタ材料を含んだ感光性レジスト
膜FIL(R)’を塗布し乾燥する(d)。
Next, a photosensitive resist film FIL (R) 'containing the first color filter material is applied to cover the black matrix BM and dried (d).

【0046】これを第1のカラーフィルタパターンを有
するマスクMSK2を介して露光光EXを照射して露光
し、露光部分の上記レジスト膜FIL(R)’を硬化さ
せる(e)。
This is exposed by exposure light EX through the mask MSK2 having the first color filter pattern to cure the resist film FIL (R) 'in the exposed portion (e).

【0047】レジスト膜FIL(R)’を現像除去して
第1のカラーフィルタFIL(R)を形成する(f)。
The resist film FIL (R) 'is removed by development to form a first color filter FIL (R) (f).

【0048】以下、同様にして第2のカラーフィルタF
IL(G)、第3のカラーフィルタFIL(B)からな
るカラーフィルタ層を形成する(g)。
Thereafter, the second color filter F is similarly processed.
A color filter layer composed of IL (G) and the third color filter FIL (B) is formed (g).

【0049】形成したカラーフィルタ層を覆って保護膜
となる光硬化性の熱硬化性有機透明樹脂のレジスト膜P
SV2’を塗布し乾燥する(h)。
A resist film P of a photocurable thermosetting organic transparent resin which covers the formed color filter layer and serves as a protective film.
SV2 'is applied and dried (h).

【0050】このレジスト膜PSV2’に対して露光光
EXを照射し、光硬化させる。このとき、上記レジスト
膜PSV2’には光反応による架橋が成されて当該膜内
に分子の骨格が形成される(i)。
The resist film PSV2 'is irradiated with exposure light EX to be photocured. At this time, the resist film PSV2 'is crosslinked by a photoreaction to form a molecular skeleton in the film (i).

【0051】この骨格の形成によって、後段の最終ベー
キング処理で保護膜PSV2の収縮が低減される。
Due to the formation of this skeleton, the shrinkage of the protective film PSV2 is reduced in the final baking treatment in the latter stage.

【0052】カラーフィルタ層の形成後、その上に透明
電極ITO2が成膜され(j)、さらにその上に配向膜
ORI2が形成される(k)。
After forming the color filter layer, the transparent electrode ITO2 is formed thereon (j), and the alignment film ORI2 is further formed thereon (k).

【0053】このようにしてカラーフィルタ基板が製造
され、別途製作した他方の基板を液晶層を介して貼り合
わせることにより、液晶パネルが得られる。
The color filter substrate is manufactured in this manner, and the other substrate, which is separately manufactured, is bonded to the substrate through the liquid crystal layer, whereby a liquid crystal panel is obtained.

【0054】なお、上記ではカラーフィルタ基板につい
てのみ説明したが、他方の基板(個別電極側基板、ある
いはTFT基板側)に形成する保護膜にも同様に適用で
きる。
Although only the color filter substrate has been described above, the same applies to a protective film formed on the other substrate (individual electrode side substrate or TFT substrate side).

【0055】次に、本発明による液晶パネルを使用した
液晶表示装置の具体例について説明する。
Next, a specific example of a liquid crystal display device using the liquid crystal panel according to the present invention will be described.

【0056】図6は本発明を適用した液晶表示装置の一
例としてのTFT型液晶表示装置の要部構造を詳細に説
明する断面図であって、SUB1は下側基板、SUB2
は上側基板、ITO1,0TO2は電極、TFT1は薄
膜トランジスタ、FIL(FIL(R),FIL
(G),FIL(B))はカラーフィルタ、BMはブラ
ックマトリクス(遮光膜)、PSV1,PSV2は保護
膜、ORI1,ORI2は配向膜、LCは液晶層、PO
L1,POL2は偏光板、PULは複屈折媒体である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing in detail a main structure of a TFT type liquid crystal display device as an example of the liquid crystal display device to which the present invention is applied, wherein SUB1 is a lower substrate and SUB2.
Is an upper substrate, ITO1, 0TO2 are electrodes, TFT1 is a thin film transistor, FIL (FIL (R), FIL
(G) and FIL (B)) are color filters, BM is a black matrix (light shielding film), PSV1 and PSV2 are protective films, ORI1 and ORI2 are alignment films, LC is a liquid crystal layer, and PO.
L1 and POL2 are polarizing plates, and PUL is a birefringent medium.

【0057】なお、SIOは酸化シリコン膜、SD1
(d3,d2,d0),SD2(d3,d2),AO
F,GT,g2,AS,GI等がTFTを構成する各種
電極および絶縁膜、その他の機能性薄膜である。
SIO is a silicon oxide film, SD1
(D3, d2, d0), SD2 (d3, d2), AO
F, GT, g2, AS, GI and the like are various electrodes and insulating films that constitute the TFT, and other functional thin films.

【0058】同図において、液晶層LCを基準にして下
側基板SUB1側には薄膜トランジスタTFTおよび透
明画素電極ITO1が形成され、保護膜PSV1を介し
て下側配向膜ORI1が形成されている。
In the figure, a thin film transistor TFT and a transparent pixel electrode ITO1 are formed on the lower substrate SUB1 side with respect to the liquid crystal layer LC, and a lower alignment film ORI1 is formed via a protective film PSV1.

【0059】また、上側基板SUB2側にはカラーフィ
ルタFIL、遮光用ブラックマトリクスパターンBMが
形成されている。
A color filter FIL and a light-shielding black matrix pattern BM are formed on the upper substrate SUB2 side.

【0060】上下の基板SUB1、SUB2の両面には
ディップ処理等によって形成された酸化シリコン膜SI
Oが設けられている。
On both surfaces of the upper and lower substrates SUB1 and SUB2, a silicon oxide film SI formed by dip processing or the like is formed.
O is provided.

【0061】上側基板SUB2の内側(液晶層LC側)
の表面には、遮光膜BM、カラーフィルタFIL、保護
膜PSV2、共通透明画素電極ITO2(COM)およ
び上側配向膜ORI2が順次積層して設けられている。
Inside the upper substrate SUB2 (on the liquid crystal layer LC side)
A light shielding film BM, a color filter FIL, a protective film PSV2, a common transparent pixel electrode ITO2 (COM), and an upper alignment film ORI2 are sequentially laminated on the surface of the.

【0062】下側基板SUB1の内側の表面には薄膜ト
ランジスタTFT1、画素電極ITO1,保護膜PSV
1,下側配向膜ORI1が形成されている。
On the inner surface of the lower substrate SUB1, a thin film transistor TFT1, a pixel electrode ITO1 and a protective film PSV are provided.
1, a lower alignment film ORI1 is formed.

【0063】そして、上側基板SUB2と上側偏光板P
OL1との間には複屈折媒体PULとしてトリアセチル
セルロースのフィルムが間挿されている。
Then, the upper substrate SUB2 and the upper polarizing plate P
A film of triacetyl cellulose is inserted as a birefringent medium PUL between the film and OL1.

【0064】図7は本発明による液晶表示装置を用いて
組み立てたTFT型液晶表示モジュールの構造例を説明
する展開斜視図である。
FIG. 7 is a developed perspective view illustrating a structural example of a TFT type liquid crystal display module assembled by using the liquid crystal display device according to the present invention.

【0065】同図において、MDLは液晶表示モジュー
ル、SHDは上フレームである金属製のシールドケー
ス、WDは液晶表示モジュールの有効画面を画定する表
示窓、PNLは液晶表示素子からなる液晶パネル、PC
B1はドレイン側回路基板、PCB2はゲート側回路基
板、PCB3はインターフェース回路基板、PRSはプ
リズムシート、SPSは拡散シート、GLBは導光体、
RFSは反射シート、BLはバックライト、LPはバッ
クライトBLのランプを構成する冷陰極蛍光灯、LSは
反射シート、GCはゴムブッシュ、LPCはランプケー
ブル、MCAは導光体GLBを設置する開口MOを有す
る下側ケース、JN1,2,3は回路基板間を接続する
ジョイナ、TCP1,2はテープキャリアパッケージ、
INS1,2,3は絶縁シート、GCはゴムクッショ
ン、BATは両面粘着テープ、ILSは遮光スペーサで
ある。
In the figure, MDL is a liquid crystal display module, SHD is a metal shield case that is an upper frame, WD is a display window that defines the effective screen of the liquid crystal display module, PNL is a liquid crystal panel consisting of liquid crystal display elements, and PC.
B1 is a drain side circuit board, PCB2 is a gate side circuit board, PCB3 is an interface circuit board, PRS is a prism sheet, SPS is a diffusion sheet, GLB is a light guide,
RFS is a reflection sheet, BL is a backlight, LP is a cold cathode fluorescent lamp constituting a lamp of the backlight BL, LS is a reflection sheet, GC is a rubber bush, LPC is a lamp cable, and MCA is an opening for installing a light guide GLB. A lower case having an MO, JN1,2,3 are joiners connecting circuit boards, TCP1,2 are tape carrier packages,
INS 1, 2 and 3 are insulating sheets, GC is a rubber cushion, BAT is a double-sided adhesive tape, and ILS is a light-shielding spacer.

【0066】上記の各構成材は、金属製のシールドケー
スSHDと下側ケースMCAの間に積層されて挟持固定
されて液晶表示モジュールMDLを構成する。
The above-mentioned components are laminated between the metal shield case SHD and the lower case MCA and sandwiched and fixed to form the liquid crystal display module MDL.

【0067】液晶パネルPNLには、図13に示したよ
うに本発明による複屈折媒体が積層され、その周辺に各
種の回路基板を取り付けて画像表示のための駆動がなさ
れる。
As shown in FIG. 13, the birefringent medium according to the present invention is laminated on the liquid crystal panel PNL, and various circuit boards are attached to the periphery of the birefringent medium for driving for image display.

【0068】また、液晶パネルPNLの裏面には導光体
GLBに各種の光学シートを積層してなるバックライト
BLが設置され、液晶表示パネルPNLに形成された画
像を照明して表示窓WDに表示する。
On the back surface of the liquid crystal panel PNL, there is provided a backlight BL in which various optical sheets are laminated on the light guide body GLB, and the image formed on the liquid crystal display panel PNL is illuminated and displayed on the display window WD. indicate.

【0069】図8は薄膜トランジスタをスイッチング素
子として用いたアクティブ・マトリクス方式TFT液晶
表示モジュールのTFT液晶表示パネルとその外周部に
配置された回路を示すブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram showing a TFT liquid crystal display panel of an active matrix type TFT liquid crystal display module using a thin film transistor as a switching element and a circuit arranged in the outer peripheral portion thereof.

【0070】同図では、液晶表示パネルの片側のみにそ
れぞれ配置されたドレインドライバIC1 〜ICM およ
びゲートドライバIC1 〜ICN は、液晶表示素子の一
方の透明絶縁基板SUB1上に形成されたドレイン側引
き出し線およびゲート側引き出し線と異方性導電膜ある
いは紫外線硬化樹脂SIL等でチップ・オン・ガラス実
装(COG実装)されている。
In the figure, the drain drivers IC 1 to IC M and the gate drivers IC 1 to IC N respectively arranged on only one side of the liquid crystal display panel are formed on one transparent insulating substrate SUB1 of the liquid crystal display element. Chip-on-glass mounting (COG mounting) is performed with the drain-side lead line and the gate-side lead line and an anisotropic conductive film, an ultraviolet curable resin SIL, or the like.

【0071】この液晶表示素子はXGA仕様である80
0×3×600の有効ドットを有する液晶表示装置に適
用している。このため、液晶表示素子の透明絶縁基板上
には、液晶パネルの長辺に240出力のドレインドライ
バIC1 〜ICM を10個(M=10)と、短辺に10
1出力のゲートドライバIC1 〜ICN を6個(N=
6)とをCOG実装している。
This liquid crystal display element has an XGA specification of 80.
It is applied to a liquid crystal display device having 0 × 3 × 600 effective dots. Therefore, on the transparent insulating substrate of the liquid crystal display element, 10 drain driver ICs 1 to IC M having 240 outputs (M = 10) are provided on the long side of the liquid crystal panel, and 10 drain drivers IC 1 to IC M are provided on the short side.
Six 1-output gate driver IC 1 to IC N (N =
6) and are COG mounted.

【0072】画素数からは、ゲートドライバIC1 〜I
N の出力は、合計600出力あれば足りるが、有効画
素部の上下に追加ゲート線を形成するため、最上部10
1出力、中央部100出力×4、および最下部101出
力の構成をとっている。
From the number of pixels, the gate driver ICs 1 to I
A total of 600 outputs of C N are sufficient, but since the additional gate lines are formed above and below the effective pixel portion, the uppermost 10
It has one output, 100 outputs in the central part × 4, and 101 outputs in the lowermost part.

【0073】なお、同一のゲートドライバICにて、1
00、101出力の使い分けができる。
In addition, with the same gate driver IC, 1
It is possible to properly use the 00 and 101 outputs.

【0074】このように、液晶表示パネルの上側にはド
レインドライバ部103が配置され、また、側面部には
ゲートドライバ部104が、さらに他方の側面部にはコ
ントローラ部101、電源部102が配置されている。
As described above, the drain driver section 103 is arranged on the upper side of the liquid crystal display panel, the gate driver section 104 is arranged on the side surface section, and the controller section 101 and the power supply section 102 are arranged on the other side surface section. Has been done.

【0075】コントローラ部101および電源部10
2、ドレインドライバ部103、ゲートドライバ部10
4は、それぞれ電気的接続手段(ジョイナー)JN1、
JN3により相互接続されている。
Controller section 101 and power supply section 10
2, drain driver unit 103, gate driver unit 10
4 are electrical connection means (joiner) JN1,
Interconnected by JN3.

【0076】この構成令では、XGAパネルとして80
0×3×600ドットの10.4インチ画面サイズのT
FT液晶表示モジュールを設計した。このため、赤
(R)、緑(G)、青(B)の各ドットの大きさは、2
64μm(ゲート線ピッチ)×88μm(ドレイン線ピ
ッチ)となっており、1画素は、赤色(R)、緑色
(G)、青色(B)の3ドットの組合わせで、264μ
m角となっている。このため、ドレイン線引き出し配線
DTMを800×3本とすると、引き出し線ピッチは1
00μm以下となってしまい、現在使用可能なテープキ
ャリアパッケージ(TCP)実装の接続ピッチ限界以下
となる。COG実装では、使用する異方性導電膜等の材
料にも依存するが、おおよそ駆動用ICチップのバンプ
BUMPのピッチで約70μmおよび下地配線との交叉
面積で約40μm角が現在使用可能な最小値といえる。
このため、本例では、液晶パネルの1個の長辺側にドレ
インドライバICを一列に並べ、ドレイン線を該長辺側
に引き出して、ドレイン線引き出し配線DTMのピッチ
を88μmとした。
In this constitution, 80 XGA panels are used.
0.times.3.times.600 dots 10.4 inch screen size T
An FT liquid crystal display module was designed. Therefore, the size of each dot of red (R), green (G), and blue (B) is 2
The size is 64 μm (gate line pitch) × 88 μm (drain line pitch), and one pixel is a combination of three dots of red (R), green (G), and blue (B), and is 264 μm.
It is m square. For this reason, if the drain lead wire DTM is 800 × 3, the lead wire pitch is 1
This is less than 00 μm, which is less than the connection pitch limit of currently available tape carrier package (TCP) mounting. In COG mounting, depending on the material such as the anisotropic conductive film used, the pitch of the bumps BUMP of the driving IC chip is about 70 μm and the crossing area with the underlying wiring is about 40 μm square. It can be called a value.
Therefore, in this example, the drain driver ICs are arranged in a line on one long side of the liquid crystal panel, the drain lines are drawn out to the long side, and the pitch of the drain line lead-out wiring DTM is set to 88 μm.

【0077】したがって、駆動用ICチップのバンプピ
ッチを約70μmおよび下地配線との交叉面積を約40
μm角に設計でき、下地配線とより高い信頼性で接続す
るのが可能となった。
Therefore, the bump pitch of the driving IC chip is about 70 μm and the area of intersection with the underlying wiring is about 40 μm.
It was possible to design in μm square, and it became possible to connect with the underlying wiring with higher reliability.

【0078】また、ゲート線ピッチは264μmと十分
大きいため、片側の短辺側にてゲート線引き出しを引き
出しているが、さらに高精細になると、ドレイン線と同
様に対向する2個の短辺側にゲート線引き出し線を交互
に引き出すことも可能である。
Since the gate line pitch is sufficiently large at 264 μm, the gate line is drawn out on the short side on one side. However, when the resolution is further increased, two short sides on the opposite side are formed in the same manner as the drain line. It is also possible to lead out the gate line lead lines alternately.

【0079】図9は図8に示したTFT液晶表示モジュ
ールにおけるゲートドライバ104、ドレインドライバ
103に対する表示用データとクロック信号の流れの説
明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing the flow of display data and clock signals for the gate driver 104 and the drain driver 103 in the TFT liquid crystal display module shown in FIG.

【0080】表示制御装置101は、本体コンピュータ
(ホスト)からの制御信号(クロック、表示タイミング
信号、同期信号)を受けて、ドレインドライバ103へ
の制御信号として、クロックD1(CL1)、シフトク
ロックD2(CL2)および表示データを生成し、同時
に、ゲートドライバ104への制御信号として、フレー
ム開始指示信号、クロックおよび表示データを生成す
る。
The display control device 101 receives a control signal (clock, display timing signal, synchronizing signal) from the main computer (host) and, as a control signal to the drain driver 103, a clock D1 (CL1) and a shift clock D2. (CL2) and display data are generated, and at the same time, a frame start instruction signal, a clock, and display data are generated as control signals to the gate driver 104.

【0081】また、ドレインドライバ103の前段のキ
ャリー出力は、そのまま次段のドレインドライバ103
のキャリー入力に入力される。
The carry output of the previous stage of the drain driver 103 is the same as that of the drain driver 103 of the next stage.
Is input to the carry input of.

【0082】図10は上側基板の電極(コモン電極)に
印加されるコモン電圧、ドレインに印加されるドレイン
電圧、ゲート電極に印加されるゲート電圧のレベル、お
よび、その波形の説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram of the common voltage applied to the electrode (common electrode) on the upper substrate, the drain voltage applied to the drain, the level of the gate voltage applied to the gate electrode, and the waveform thereof.

【0083】なお、ドレイン波形は黒を表示していると
きのドレイン波形を示す。
The drain waveform shows the drain waveform when black is displayed.

【0084】同図において、ゲートオンレベル波形(直
流)とゲートオフレベル波形は、−9〜−14ボルトの
間でレベル変化し、10ボルトでゲートオンする。ドレ
イン波形(黒表示時)とコモン電圧Vcom波形は、0
〜3ボルトの間でレベル変化する。
In the figure, the gate-on level waveform (DC) and the gate-off level waveform change in level between -9 and -14 volts, and the gate is turned on at 10 volts. The drain waveform (when displayed in black) and the common voltage Vcom waveform are 0
Level changes between ~ 3 volts.

【0085】例えば、黒レベルのドレイン波形を1水平
期間(1H)毎に変化させるため、論理処理回路で1ビ
ットずつ論理反転を行ない、ドレインドライバに入力し
ている。
For example, in order to change the black level drain waveform every horizontal period (1H), the logic processing circuit inverts the logic one bit at a time and inputs it to the drain driver.

【0086】ゲートのオフレベル波形は、コモン電圧V
com波形と略同振幅、同位相で動作する。
The off-level waveform of the gate is the common voltage V
It operates with substantially the same amplitude and phase as the com waveform.

【0087】図11は本発明による液晶表示装置を実装
した電子機器の一例としてのノートブック型のパソコン
あるいはワープロの斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view of a notebook type personal computer or word processor as an example of electronic equipment in which the liquid crystal display device according to the present invention is mounted.

【0088】同図において、駆動ICの液晶パネルPN
L上へのCOG実装と外周部のドレインおよびゲートド
ライバ用周辺回路としての多層フレキシブル基板に折り
曲げ実装を採用することで、従来に比べ大幅に外形サイ
ズ縮小ができる。
In the figure, the liquid crystal panel PN of the drive IC
By adopting COG mounting on L and bending mounting on the multilayer flexible substrate as a peripheral circuit for the drain and gate drivers in the outer peripheral portion, the external size can be significantly reduced compared to the conventional case.

【0089】本例では、片側実装されたドレインドライ
バ用周辺回路を情報機器のヒンジ上方の表示部の上側に
配置できるため、コンパクトな実装が可能となった。
In this example, since the drain driver peripheral circuit mounted on one side can be disposed above the display section above the hinge of the information device, compact mounting is possible.

【0090】情報機器からの信号は、まず、同図の左側
のインターフェイス基板PCBのほぼ中央に位置するコ
ネクタから表示制御集積回路素子(TCON)へ行き、
ここでデータ変換された表示データが、ドレインドライ
バ用周辺回路へ流れる。
The signal from the information equipment first goes to the display control integrated circuit element (TCON) from the connector located at the substantially center of the interface board PCB on the left side of FIG.
The display data converted here flows to the drain driver peripheral circuit.

【0091】このように、フリップチップ方式と多層フ
レキシブル基板とを使用することで、情報機器の横幅の
外形の制約が解消でき、小型で低消費電力の情報機器を
提供できた。
As described above, by using the flip chip system and the multilayer flexible substrate, the restriction of the outer shape of the width of the information equipment can be eliminated, and the small and low power consumption information equipment can be provided.

【0092】以上本発明を実施例に基づいて具体的に説
明したが、本発明は、上記実施例に限定されるものでは
なく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能
であることは勿論である。
Although the present invention has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the invention. is there.

【0093】[0093]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
カラーフィルタ基板に形成する保護膜を形成するレジス
トを高架橋度化することによって当該保護膜に骨格を形
成した後、加熱処理することで熱収縮を抑制して表面の
平坦性を確保でき、高品質の画像表示が可能な液晶パネ
ルを提供することができる。
As described above, according to the present invention,
After forming a skeleton on the protective film by increasing the degree of cross-linking of the resist forming the protective film formed on the color filter substrate, heat treatment can be performed to suppress heat shrinkage and ensure surface flatness, thus providing high quality. It is possible to provide a liquid crystal panel capable of displaying an image.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による液晶パネルの一実施例を説明する
ためのカラーフィルタ基板の部分断面模式図である。
FIG. 1 is a schematic partial cross-sectional view of a color filter substrate for explaining an embodiment of a liquid crystal panel according to the present invention.

【図2】露光量を増大させた時の保護膜の残膜厚の関係
の説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a relationship of a residual film thickness of a protective film when an exposure amount is increased.

【図3】露光量を増大させた時の保護膜の残膜率の関係
の説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a relationship of a residual film rate of a protective film when an exposure amount is increased.

【図4】本発明による液晶パネルの製造方法の第一実施
例を説明する概略工程図である。
FIG. 4 is a schematic process diagram illustrating a first embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention.

【図5】本発明による液晶パネルの製造方法の第一実施
例を説明する図4に続く概略工程図である。
FIG. 5 is a schematic process diagram following FIG. 4 for explaining the first embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention.

【図6】本発明を適用した液晶表示装置の一例としての
TFT型液晶表示装置の要部構造を詳細に説明する断面
図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating in detail a main part structure of a TFT type liquid crystal display device as an example of a liquid crystal display device to which the present invention is applied.

【図7】本発明による液晶表示装置を用いて組み立てた
TFT型液晶表示モジュールの構造例を説明する展開斜
視図である。
FIG. 7 is an exploded perspective view illustrating a structural example of a TFT type liquid crystal display module assembled using the liquid crystal display device according to the present invention.

【図8】薄膜トランジスタをスイッチング素子として用
いたアクティブ・マトリクス方式TFT液晶表示モジュ
ールのTFT液晶表示パネルとその外周部に配置された
回路を示すブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram showing a TFT liquid crystal display panel of an active matrix type TFT liquid crystal display module using a thin film transistor as a switching element and a circuit arranged on an outer peripheral portion thereof.

【図9】図8に示したTFT液晶表示モジュールにおけ
るゲートドライバ104、ドレインドライバ103に対
する表示用データとクロック信号の流れの説明図であ
る。
9 is an explanatory diagram showing the flow of display data and clock signals for the gate driver 104 and the drain driver 103 in the TFT liquid crystal display module shown in FIG.

【図10】上側基板の電極(コモン電極)に印加される
コモン電圧、ドレインに印加されるドレイン電圧、ゲー
ト電極に印加されるゲート電圧のレベル、および、その
波形の説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram of a common voltage applied to an electrode (common electrode) of an upper substrate, a drain voltage applied to a drain, a level of a gate voltage applied to a gate electrode, and a waveform thereof.

【図11】本発明による液晶表示装置を実装した電子機
器の一例としてのノートブック型のパソコンあるいはワ
ープロの斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view of a notebook-type personal computer or word processor as an example of an electronic apparatus in which the liquid crystal display device according to the present invention is mounted.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

SUB2 ガラス基板 BM ブラックマトリクス FIL(R) 赤フィルタ FIL(G) 緑フィルタ FIL(B) 青フィルタ PSV2 保護膜 ITO2 透明電極(共通電極) ORI2 配向膜。 SUB2 Glass substrate BM Black matrix FIL (R) Red filter FIL (G) Green filter FIL (B) Blue filter PSV2 Protective film ITO2 Transparent electrode (common electrode) ORI2 Alignment film.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今林 義考 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshinori Imabayashi 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba Hitachi, Ltd. Electronic Devices Division

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明基板の面上に形成した吸光性物質のブ
ラックマトリクスで区画された複数色のカラーフィルタ
層と、前記カラーフィルタ層を覆って形成した保護膜を
介して形成した透明電極と、前記透明電極を覆って形成
した配向膜とから構成した液晶パネルにおいて、 前記カラーフィルタ層の表面凹凸を埋めて塗布した前記
保護膜が、熱硬化前で高架橋反応させた光硬化性の熱硬
化性有機透明樹脂で形成したことを特徴とする液晶パネ
ル。
1. A color filter layer of a plurality of colors divided by a black matrix of a light-absorbing substance formed on the surface of a transparent substrate, and a transparent electrode formed through a protective film formed so as to cover the color filter layer. A liquid crystal panel comprising an alignment film formed so as to cover the transparent electrode, wherein the protective film applied by filling in the surface irregularities of the color filter layer is a photocurable thermosetting resin that is highly cross-linked before thermosetting. A liquid crystal panel characterized by being formed of a transparent organic transparent resin.
【請求項2】透明基板の面上に形成した吸光性物質のブ
ラックマトリクスで区画された複数色のカラーフィルタ
層と、前記カラーフィルタ層を覆って形成した保護膜を
介して形成した透明電極と、前記透明電極を覆って形成
した配向膜とから構成した液晶パネルにおいて、 前記カラーフィルタ層の表面凹凸を埋めて塗布した前記
保護膜が、熱硬化前で高架橋反応させた光架橋反応性有
機透明樹脂で形成したことを特徴とする液晶パネル。
2. A color filter layer of a plurality of colors divided by a black matrix of a light-absorbing substance formed on the surface of a transparent substrate, and a transparent electrode formed through a protective film formed so as to cover the color filter layer. A liquid crystal panel comprising an alignment film formed so as to cover the transparent electrode, wherein the protective film applied by filling in the surface irregularities of the color filter layer is a photocrosslinking reactive organic transparent material that is highly crosslinked before thermosetting. A liquid crystal panel made of resin.
【請求項3】透明基板の面上にブラックマトリクスで区
画された複数色のカラーフィルタ層と、前記カラーフィ
ルタ層を覆って形成した保護膜を介して形成した透明電
極と、前記透明電極を覆って形成した配向膜とから構成
した液晶パネルの製造方法において、 前記カラーフィルタ層を覆って高感度の光硬化性の熱硬
化性有機透明樹脂を塗布し、露光を施して架橋反応させ
る露光工程と、 前記露光工程で硬化させた前記熱硬化性有機透明樹脂を
被覆したカラーフィルタ層を熱処理して硬化するベーキ
ングする工程とを少なくとも含むことを特徴とする液晶
パネルの製造方法。
3. A color filter layer of a plurality of colors divided by a black matrix on the surface of a transparent substrate, a transparent electrode formed through a protective film formed to cover the color filter layer, and a transparent electrode covering the transparent electrode. In the method for producing a liquid crystal panel composed of an alignment film formed as above, an exposure step of covering the color filter layer with a high-sensitivity photocurable thermosetting organic transparent resin, exposing the mixture to a crosslinking reaction, and And a baking step of heat-treating the color filter layer coated with the thermosetting organic transparent resin cured in the exposure step to cure the color filter layer.
【請求項4】透明基板の面上にブラックマトリクスで区
画された複数色のカラーフィルタ層と、前記カラーフィ
ルタ層を覆って形成した保護膜を介して形成した透明電
極と、前記透明電極を覆って形成した配向膜とから構成
した液晶パネルの製造方法において、 前記カラーフィルタ層を覆って高感度の光架橋反応性有
機透明樹脂を塗布し、適正露光量を越えた露光を施して
架橋反応を促進する過剰露光工程と、 前記過剰露光工程で硬化させた前記光架橋反応性有機透
明樹脂を被覆したカラーフィルタ層を熱処理して硬化す
るベーキングする工程とを少なくとも含むことを特徴と
する液晶パネルの製造方法。
4. A color filter layer of a plurality of colors partitioned by a black matrix on the surface of a transparent substrate, a transparent electrode formed through a protective film formed to cover the color filter layer, and a transparent electrode covering the transparent electrode. In the method for producing a liquid crystal panel composed of an alignment film formed by the above method, a high-sensitivity photocrosslinking-reactive organic transparent resin is applied to cover the color filter layer, and a crosslinking reaction is performed by performing an exposure exceeding an appropriate exposure amount. An overexposure step for promoting, and a liquid crystal panel characterized by comprising at least a baking step of heat-curing and curing the color filter layer coated with the photocrosslinking reactive organic transparent resin cured in the overexposure step. Production method.
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