JPH09258195A - Microlens substrate, liquid crystal display element, and image projection type liquid crystal display device - Google Patents

Microlens substrate, liquid crystal display element, and image projection type liquid crystal display device

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JPH09258195A
JPH09258195A JP8063541A JP6354196A JPH09258195A JP H09258195 A JPH09258195 A JP H09258195A JP 8063541 A JP8063541 A JP 8063541A JP 6354196 A JP6354196 A JP 6354196A JP H09258195 A JPH09258195 A JP H09258195A
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microlens
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transparent
resin
liquid crystal
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孝志 野島
Yoshihiro Mizuguchi
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    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133526—Lenses, e.g. microlenses or Fresnel lenses

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a microlens substrate having excellent mass-producibility, a short focal length and a high condensing effect, and to provide a high-precision liquid crystal display element having a high effective numerical aperture. SOLUTION: The peripheral part of a first transparent substrate 101 on which a microlens array 102 is formed and a second transparent substrate 105 is adhered with a sealing resin 103. A transparent resin 107 having lower refractive index than that of the microlens is injected through an injection port formed in the sealing resin 103 into the space between the substrates, and the resin is hardened. A black matrix 111, transparent electrode 112 and orienting film 113 are formed on the surface of the second transparent substrate of the microlens substrate. The second substrate is adhered to an active matrix substrate 116 with a sealing material, and a liquid crystal 115 is held between the substrates.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、開口率を向上させ
た高精細な液晶表示素子等に用いられるマイクロレンズ
基板、そのマイクロレンズ基板を用いた液晶表示素子お
よび同様の画像投影型表示装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microlens substrate used for a high-definition liquid crystal display device having an improved aperture ratio, a liquid crystal display device using the microlens substrate, and a similar image projection display device. .

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、液晶パネルは、直視型だけではな
く、プロジェクションテレビ等の画像投影型の表示素子
に対しても需要が高まってきている。液晶パネルには、
絵素と呼ばれる最小の表示単位が規則的に配列されてお
り、それらの絵素に各々独立した電圧を印加して、各絵
素を構成する液晶の光学特性を変化させることにより、
画像や文字が表示される。2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal panels have been in great demand not only for direct-viewing type display elements but also for image projection type display elements such as projection televisions. On the LCD panel,
The smallest display unit called a picture element is regularly arranged, by applying an independent voltage to each of the picture elements, and changing the optical characteristics of the liquid crystal forming each picture element,
Images and characters are displayed.

【０００３】上記液晶パネルを投影型の表示素子に使用
する場合、従来の絵素数で拡大率を高めると画面の粗さ
が目立つようになるので、高い拡大率で精細な画像を得
るためには絵素数を増やす事が必要となる。When the above liquid crystal panel is used for a projection type display element, the roughness of the screen becomes conspicuous when the enlargement ratio is increased by the conventional number of picture elements. Therefore, in order to obtain a fine image at a high enlargement ratio. It is necessary to increase the number of picture elements.

【０００４】ところが、液晶パネルの絵素数を増やす
と、特にアクティブマトリクス型の液晶表示素子の場合
には、画面中、絵素以外の占める面積の割合が相対的に
大きくなり、これらの部分を覆うブラックマトリクスの
面積が増大する。その結果、表示に寄与する絵素の面積
が減少して表示素子の開口率が低下してしまう。液晶パ
ネルへの入射光強度が同じ場合には、開口率が低下する
ことにより絵素を透過する光が少なくなるので、画面が
暗くなって画像品位が低下することになる。However, when the number of picture elements of the liquid crystal panel is increased, particularly in the case of an active matrix type liquid crystal display element, the ratio of the area occupied by the picture elements other than the picture elements becomes relatively large, and these portions are covered. The area of the black matrix increases. As a result, the area of the picture element contributing to the display is reduced and the aperture ratio of the display element is reduced. When the intensity of light incident on the liquid crystal panel is the same, the aperture ratio is reduced and the light passing through the picture elements is reduced, so that the screen becomes dark and the image quality is degraded.

【０００５】このような絵素数の増大による開口率の低
下を防止するために、例えば特開昭６０−１６５６２１
号公報には、液晶パネルの一方の面にマイクロレンズア
レイを形成することが提案されている。この公報に記載
されているマイクロレンズアレイは、各絵素に対応した
マイクロレンズを有し、従来ブラックマトリクスにより
遮光されていた光を絵素内に集光するものである。In order to prevent the reduction of the aperture ratio due to such an increase in the number of picture elements, for example, JP-A-60-165621.
The publication discloses that a microlens array is formed on one surface of a liquid crystal panel. The microlens array described in this publication has a microlens corresponding to each picture element, and condenses light, which is conventionally shielded by a black matrix, into the picture element.

【０００６】このようなマイクロレンズとしては、凸型
および凹型のレンズ形状のものがある。凸型マイクロレ
ンズの製造方法としては、膨潤法（鈴木他、”プラスチ
ックマイクロレンズの新しい作製法”第２４回微小光学
研究会）、熱ダレ法（Ｚｏｒａｎ Ｄ．Ｐｏｐｏｖｉｃ
ｅｔ ａｌ．，Ａｐｐｌ．Ｏｐｔｉｃｓ，２７ ｐ．
１２８１（１９８８））および機械加工法等が挙げられ
る。膨潤法では、感光性モノマーを紫外線で重合させ、
露光部分と非露光部分との間に生じる浸透圧の差により
露光部分を膨潤させて、凸型のレンズ形状を得る。熱ダ
レ法では、感光性樹脂の膜を円形にパターニングした
後、その樹脂の融点以上に加熱熔融して表面張力により
レンズ形状を得る。機械加工法では、基材を削ることに
よりレンズ形状を得る。Such microlenses include convex and concave lens shapes. Convex microlenses can be manufactured by the swelling method (Suzuki et al., “New manufacturing method for plastic microlenses”, 24th Micro Optical Research Group), the thermal sag method (Zoran D. Popovic.
et al. , Appl. Optics, 27 p.
1281 (1988)) and machining methods. In the swelling method, a photosensitive monomer is polymerized with ultraviolet rays,
The exposed portion is swollen due to the difference in osmotic pressure generated between the exposed portion and the non-exposed portion to obtain a convex lens shape. In the thermal sag method, a film of a photosensitive resin is patterned into a circle, and then the resin is heated and melted at a temperature higher than the melting point of the resin to obtain a lens shape by surface tension. In the machining method, the lens shape is obtained by cutting the base material.

【０００７】また、凹型マイクロレンズの製造方法とし
ては、ガラスエッチング法等が挙げられる。このガラス
エッチング法では、ガラス基板上にマスクを形成し、マ
スク開口部から基板表面をエッチングすることにより、
半球状の凹部を形成する。As a method for manufacturing the concave microlens, a glass etching method or the like can be mentioned. In this glass etching method, by forming a mask on the glass substrate and etching the substrate surface from the mask opening,
A hemispherical recess is formed.

【０００８】さらに、他の方法で凸型形状または凹型形
状の原板を作製し、凹凸反転転写することによりレンズ
を作製する２Ｐ法も知られている。この２Ｐ法によれ
ば、凸型の原板からは凹型レンズ、凹型の原板からは凸
型レンズが得られる。Further, there is also known a 2P method in which a convex or concave original plate is produced by another method and a lens is produced by transferring the concave and convex inversion. According to this 2P method, a concave lens is obtained from the convex original plate, and a convex lens is obtained from the concave original plate.

【０００９】これらのマイクロレンズアレイを液晶パネ
ルに貼り合わせることにより、実効開口率を向上させる
事ができると考えられる。It is considered that the effective aperture ratio can be improved by bonding these microlens arrays to a liquid crystal panel.

【００１０】ところで、絵素のピッチが数十μｍの高精
細な表示を行うプロジェクションテレビ等に用いられる
投影型液晶パネルでは、絵素のピッチが数百μｍの直視
型液晶パネルに比べると、表示素子の開口部面積が非常
に小さい。一方、液晶表示素子の実効開口率は、マイク
ロレンズの集光スポットの大きさと絵素の開口部の面積
との関係により決定される。マイクロレンズの集光スポ
ットの大きさが絵素の開口部の面積よりも大きくなる
と、開口部に入射せずに表示に寄与できない光が増える
ため、マイクロレンズによる実効開口率向上の効果が低
下するからである。従って、絵素のピッチが数十μｍの
液晶パネルでは、絵素のピッチが数百μｍの液晶パネル
に比べて、マイクロレンズの集光スポットの大きさを小
さくする必要がある。By the way, in a projection type liquid crystal panel used for a projection television or the like which has a high definition display with a picture element pitch of several tens of μm, the projection type liquid crystal panel is The opening area of the device is very small. On the other hand, the effective aperture ratio of the liquid crystal display element is determined by the relationship between the size of the focused spot of the microlens and the area of the opening of the picture element. When the size of the focused spot of the microlens becomes larger than the area of the opening of the picture element, the amount of light that does not enter the opening and cannot contribute to the display increases, so the effect of the microlens to improve the effective aperture ratio decreases. Because. Therefore, in a liquid crystal panel having a picture element pitch of several tens of μm, it is necessary to reduce the size of the focused spot of the microlens as compared with a liquid crystal panel having a picture element pitch of several hundreds of micrometers.

【００１１】集光スポットの直径をＤ、入射する光の発
散度（半頂角）をθ、マイクロレンズの焦点距離をｆと
すると、 Ｄ＝２・ｆ・ｔａｎθ ・・・（１） の関係が成立する。マイクロレンズの集光スポットの面
積を小さくして集光効果を高めるためには、上記式
（１）より、入射光の発散度θを小さくすること、また
は、マイクロレンズの焦点距離を短くすることが考えら
れる。Assuming that the diameter of the focused spot is D, the divergence of incident light (semi-vertical angle) is θ, and the focal length of the microlens is f, D = 2 · f · tan θ (1) Is established. In order to reduce the area of the condensing spot of the microlens and enhance the condensing effect, the divergence θ of the incident light should be reduced or the focal length of the microlens should be shortened according to the above formula (1). Can be considered.

【００１２】入射光の発散度θを小さくするためには、
使用する光源の発光領域を小さくし、光源から液晶パネ
ルまでの距離を大きくすればよい。しかし、現状の技術
レベルでは、長寿命性と表示に必要な明るさとを確保す
るためには、発散度を数度以下にすることが困難であ
る。従って、マイクロレンズの集光スポットの大きさを
小さくするためには、マイクロレンズの焦点距離を短く
して、その焦点を液晶パネルの絵素開口部近傍に位置さ
せるという、短焦点化技術が必要とされる。In order to reduce the divergence θ of incident light,
The light emitting area of the light source used may be reduced and the distance from the light source to the liquid crystal panel may be increased. However, at the current technical level, it is difficult to reduce the divergence to several degrees or less in order to secure long life and brightness required for display. Therefore, in order to reduce the size of the condensed spot of the microlens, it is necessary to shorten the focal length of the microlens and position the focus near the pixel opening of the liquid crystal panel. It is said that

【００１３】現状の製造技術では、絵素ピッチＰ＝５０
μｍ、絵素開口部の一辺約３０μｍの液晶パネルが作製
されている。照明光の発散度を５゜とすると、集光スポ
ットの直径Ｄを３０μｍφにするためには、上記式
（１）より焦点距離ｆを１７０μｍ以下にする必要があ
る。一方、マイクロレンズの集光量は、その面積に比例
するので、マイクロレンズの径を絵素ピッチと等しくし
て、マイクロレンズを絵素ピッチと同じピッチで隙間無
く敷き詰めた状態にした時に、マイクロレンズの集光が
最大になる。この時のマイクロレンズの開口数（Ｎｕｍ
ｅｒｉｃａｌ Ａｐｅｒｔｕｒｅ＝Ｎ．Ａ．）は、Ｎ．
Ａ．＝Ｐ／２・ｆ＝０．１４７となる。従って、絵素ピ
ッチが数十μｍ程度の高精細な液晶パネルでは、マイク
ロレンズの集光スポットを小さくするために、開口数の
値を少なくとも０．１以上にすることが好ましい。In the current manufacturing technology, the pixel pitch P = 50
A liquid crystal panel having a size of μm and a side of a pixel opening of about 30 μm is manufactured. When the divergence of the illumination light is 5 °, the focal length f needs to be 170 μm or less from the above formula (1) in order to set the diameter D of the focused spot to 30 μmφ. On the other hand, the amount of light collected by a microlens is proportional to its area, so when the diameter of the microlens is made equal to the pixel pitch and the microlenses are spread at the same pitch as the pixel pitch without any gap, Is the maximum. Numerical aperture of the micro lens at this time (Num
electrical Aperture = N. A. ), N.
A. = P / 2 · f = 0.147. Therefore, in a high-definition liquid crystal panel having a pixel pitch of about several tens of μm, it is preferable that the numerical aperture value is at least 0.1 or more in order to reduce the focused spot of the microlens.

【００１４】上述の条件を満足させるためには、絵素開
口部とマイクロレンズとの間に、空気中の焦点距離１７
０μｍにガラスの屈折率を掛けた値である２５０μｍの
ガラス基板を挟んで、マイクロレンズの焦点を絵素開口
部に位置させる必要がある。このような構成を実現する
ためには、厚さ２５０μｍのガラス基板を一方の基板と
して液晶パネルを作製し、これをマイクロレンズと貼り
合わせる方法が考えられる。しかし、この方法では、必
要とされるガラス基板の厚さが通常の液晶パネルに用い
られるガラス基板の厚さ０．７ｍｍ〜１．１ｍｍに比べ
て非常に薄いので、取扱いが難しく、量産には不向きで
ある。In order to satisfy the above conditions, a focal length of 17 in the air is provided between the pixel aperture and the microlens.
It is necessary to locate the focal point of the microlens at the pixel opening with a glass substrate of 250 μm, which is a value obtained by multiplying the refractive index of glass by 0 μm. In order to realize such a configuration, a method of producing a liquid crystal panel using a glass substrate having a thickness of 250 μm as one substrate and attaching the liquid crystal panel to a microlens can be considered. However, in this method, since the required thickness of the glass substrate is much thinner than the thickness of the glass substrate used in a normal liquid crystal panel, which is 0.7 mm to 1.1 mm, it is difficult to handle and mass production is difficult. Not suitable.

【００１５】これに代わるマイクロレンズの短焦点化技
術として、例えば特開平３−２４８１２５号公報には、
マイクロレンズが形成された基板（以下、マイクロレン
ズ形成側基板と称する）のマイクロレンズ形成側表面に
焦点距離に対応した厚みを有するカバーガラスまたはフ
ィルム基板を接着して、マイクロレンズを液晶表示素子
の一方の基板の中に作り込む方法が開示されている。ま
た、特開平３−２３３４１７号公報には、基板上にレン
ズ形状部分を感光性樹脂で形成し、その樹脂と異なる屈
折率を有する接着剤により、マイクロレンズ形成側基板
と同じ熱膨張率を有するカバーガラスを接着して、量産
性と密着性を向上させる方法も開示されている。As an alternative microlens shortening technique, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 3-248125 discloses
A cover glass or a film substrate having a thickness corresponding to the focal length is adhered to the surface of the substrate on which the microlens is formed (hereinafter referred to as the microlens formation side substrate), and the microlens of the liquid crystal display element is attached. A method of making one substrate is disclosed. Further, in JP-A-3-233417, a lens-shaped portion is formed on a substrate with a photosensitive resin, and an adhesive having a refractive index different from that of the resin has the same coefficient of thermal expansion as that of the microlens formation side substrate. A method of adhering a cover glass to improve mass productivity and adhesion is also disclosed.

【００１６】このように高精細表示用液晶パネルでは、
マイクロレンズを基板内部に作り込むことにより、実効
開口率の向上を図っている。このマイクロレンズが基板
内部に作り込まれた基板（以下、マイクロレンズ基板と
称する）を液晶パネルの対向基板とするためには、カバ
ーガラスまたはフィルム基板側表面に透明電極および配
向膜を形成し、さらに、必要に応じてブラックマトリク
スを形成する。As described above, in the liquid crystal panel for high definition display,
The effective aperture ratio is improved by incorporating a microlens inside the substrate. In order to use the substrate in which the microlenses are formed inside the substrate (hereinafter referred to as the microlens substrate) as the counter substrate of the liquid crystal panel, a transparent electrode and an alignment film are formed on the surface of the cover glass or the film substrate side, Further, a black matrix is formed if necessary.

【００１７】[0017]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術によりマイクロレンズが内部に作り込まれたマイ
クロレンズ基板を作製しようとすると、以下のような問
題が生じる。However, when an attempt is made to manufacture a microlens substrate in which microlenses are formed by the above-mentioned conventional technique, the following problems occur.

【００１８】一般に、液晶表示素子の製造においては、
量産性を向上させるために、１枚の大きなガラス基板上
に多数枚の素子を作製し、これを分断して多数枚取りす
ることが行われている。従って、マイクロレンズも、１
枚のガラス基板上に液晶表示素子に対応した複数の領域
が配置される。例えば、ガラス基板上に多数枚分のマイ
クロレンズを形成し、その表面に低屈折率の透明樹脂を
用いてカバーガラスを接着してマイクロレンズ基板を作
製する。この基板を対向基板として、アクティブマトリ
クス基板と貼り合わせることにより、液晶表示素子の多
数枚取り用基板が完成する。Generally, in manufacturing a liquid crystal display device,
In order to improve mass productivity, a large number of elements are manufactured on one large glass substrate, and this is divided into a large number of pieces. Therefore, the microlens is also 1
A plurality of regions corresponding to the liquid crystal display element are arranged on one glass substrate. For example, a large number of microlenses are formed on a glass substrate, and a cover glass is adhered to the surface of the microlens using a transparent resin having a low refractive index to produce a microlens substrate. This substrate is used as a counter substrate and is bonded to an active matrix substrate to complete a substrate for obtaining a large number of liquid crystal display elements.

【００１９】マイクロレンズ基板を対向基板とするため
には、カバーガラスまたはフィルム基板側表面にブラッ
クマトリクスおよび透明電極を形成し、さらに配向膜を
塗布・焼成しなければならず、特に、配向膜の焼成工程
では、基板が１８０℃前後の高温に加熱される。しか
し、カバーガラスの線膨張係数は１０-6Ｋ-1〜１０-5Ｋ
-1のオーダーであるのに対し、接着剤の線膨張係数は１
０-5Ｋ-1〜１０-4Ｋ-1のオーダーであるので、加熱によ
ってカバーガラスと接着剤の熱膨張差が大きくなって、
カバーガラスと接着剤とが剥がれるという問題がある。
この剥がれは、基板のサイズが大きいほど顕著に現れ
る。また、接着剤の耐熱温度が低い場合には、接着剤自
身の分解によっても、剥がれが進行する。このような製
造上の理由から、カバーガラスまたはフィルム基板とマ
イクロレンズ形成側基板とを接着するための接着剤に
は、接着性と耐熱性とが要求される。In order to use the microlens substrate as a counter substrate, it is necessary to form a black matrix and a transparent electrode on the surface of the cover glass or the film substrate side, and further apply and bake the alignment film. In the firing step, the substrate is heated to a high temperature of around 180 ° C. However, the coefficient of linear expansion of the cover glass is 10 -6 K -1 to 10 -5 K
-1 order of magnitude, whereas the linear expansion coefficient of the adhesive is 1
Since it is on the order of 0 -5 K -1 to 10 -4 K -1 , the difference in thermal expansion between the cover glass and the adhesive increases due to heating,
There is a problem that the cover glass and the adhesive are separated.
This peeling becomes more remarkable as the size of the substrate increases. Further, when the heat resistant temperature of the adhesive is low, the peeling progresses due to the decomposition of the adhesive itself. For such manufacturing reasons, the adhesive for bonding the cover glass or film substrate and the microlens formation side substrate is required to have adhesiveness and heat resistance.

【００２０】それと同時に、凸型のマイクロレンズを短
焦点化するためには、上記接着剤に低屈折率性も要求さ
れる。これは、マイクロレンズの焦点距離が、レンズと
接着剤との屈折率差に反比例するという光学特性上の理
由によるものである。一般に、樹脂を低屈折率化するた
めには、その樹脂をフッ素化すればよいことが知られて
いるが、接着剤をフッ素化すると、その發水性のために
接着力が極度に低下する。特に、樹脂からなるフィルム
に対しては全く接着性を示さないものとなる。At the same time, in order to reduce the focal length of the convex type microlens, the adhesive must have a low refractive index. This is because of the optical characteristic that the focal length of the microlens is inversely proportional to the refractive index difference between the lens and the adhesive. It is generally known that the resin may be fluorinated in order to have a low refractive index. However, when the adhesive is fluorinated, the adhesive force is extremely reduced due to the water repellency. In particular, it exhibits no adhesiveness to a resin film.

【００２１】このように、カバーガラスまたはフィルム
基板とマイクロレンズ形成側基板とを接着するための接
着剤は、接着性、耐熱性および低屈折率性を同時に満足
させなければならないが、１つの樹脂にこれらの特性を
兼備させるのは極めて困難である。As described above, the adhesive for adhering the cover glass or the film substrate and the microlens forming side substrate must satisfy the adhesiveness, the heat resistance and the low refractive index at the same time. It is extremely difficult to combine these characteristics with.

【００２２】また、マイクロレンズ基板の製造上、以下
のような問題もある。There are also the following problems in manufacturing the microlens substrate.

【００２３】カバーガラスとマイクロレンズ形成側基板
との接着方法としては、まず、平坦な定盤の上に置かれ
たマイクロレンズ形成側基板（またはカバーガラス）表
面に接着剤を適下して、その上にカバーガラス（または
マイクロレンズ形成側基板）を乗せ、基板全面に荷重を
かけて接着剤を押し広げた後、接着剤を硬化させるとい
うのが最も単純な方法である。しかし、この方法には、
カバーガラスを接着剤に乗せる際に接着剤内部に気泡が
発生し易い。また、基板に荷重をかけて接着剤を押し広
げる際に基板周辺に余分な接着剤がはみ出し、さらに、
はみ出した接着剤が毛管現象によって基板と定盤の間に
侵入・硬化して基板や定盤に付着してしまう。As a method for adhering the cover glass and the microlens forming side substrate, first, an adhesive is appropriately applied to the surface of the microlens forming side substrate (or cover glass) placed on a flat surface plate, The simplest method is to place a cover glass (or a microlens formation side substrate) on it, apply a load to the entire surface of the substrate to spread the adhesive, and then cure the adhesive. However, this method
Bubbles are easily generated inside the adhesive when the cover glass is placed on the adhesive. Also, when a load is applied to the substrate to spread the adhesive, excess adhesive will squeeze out around the substrate, and
The adhesive that sticks out penetrates and cures between the substrate and the surface plate due to the capillary phenomenon, and adheres to the substrate and the surface plate.

【００２４】この問題に対しては、例えば特開平４−９
９２３号公報に開示されているように、基板の外周部に
沿って形成されたシール樹脂によって液晶表示素子とマ
イクロレンズとを接着し、シール部に設けられた注入口
から液晶表示素子とマイクロレンズとの間に低屈折率の
液体を真空注入して注入口を封止するという方法が有効
である。この方法によれば、気泡の発生や樹脂のはみ出
しが生じず、凸型マイクロレンズの短焦点化も図れる。To solve this problem, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 4-9
As disclosed in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 923, a liquid crystal display element and a microlens are adhered to each other by a sealing resin formed along an outer peripheral portion of a substrate, and the liquid crystal display element and the microlens are inserted from an injection port provided in the sealing portion. A method of vacuum-injecting a low-refractive-index liquid between and to seal the inlet is effective. According to this method, the generation of bubbles and the protrusion of resin do not occur, and the convex microlenses can have a short focus.

【００２５】しかし、この方法を、大型の基板上にマイ
クロレンズを多数枚分形成する場合に適用すると、以下
のような問題が生じる。However, if this method is applied to the case where a large number of microlenses are formed on a large substrate, the following problems occur.

【００２６】上記方法でマイクロレンズ形成側基板とカ
バーガラスとを貼り合わせ、これを対向基板に加工した
後、アクティブマトリクス基板と貼り合わせて、各液晶
表示素子毎に１枚ずつ分断する。対向基板に加工する工
程では、１５０℃以上の高温に加熱されるが、この際、
基板間に封止された液体が沸騰してカバーガラスが破損
する危険性がある。また、カバーガラスとマイクロレン
ズとの間には周辺のシール樹脂部を除いて接着部が存在
しないので、液晶表示素子毎に基板を分断する際に、液
体が流出し、マイクロレンズが剥離することになる。The microlens-forming side substrate and the cover glass are bonded by the above method, and this is processed into a counter substrate, which is then bonded to the active matrix substrate and cut into pieces for each liquid crystal display element. In the process of processing the counter substrate, it is heated to a high temperature of 150 ° C. or higher.
There is a risk of boiling the liquid sealed between the substrates and damaging the cover glass. In addition, since there is no adhesive part between the cover glass and the microlens except for the sealing resin part on the periphery, when the substrate is divided for each liquid crystal display element, the liquid flows out and the microlens is peeled off. become.

【００２７】凹型のマイクロレンズの場合には、半球状
の穴にガラスやマイクロレンズを構成する樹脂よりも高
い屈折率を有する樹脂を埋めるため、凸型レンズの場合
のような樹脂を低屈折率化する必要はない。しかし、熱
膨張による剥がれや樹脂のはみ出し、分断時のマイクロ
レンズの剥がれ等の問題は凸型レンズの場合と同様に生
じる。In the case of a concave type microlens, a hemispherical hole is filled with a resin having a higher refractive index than that of glass or a resin forming the microlens, so that a resin such as that of a convex type lens has a low refractive index. It doesn't have to be. However, problems such as peeling due to thermal expansion, protrusion of resin, and peeling of the microlenses at the time of division occur as in the case of the convex lens.

【００２８】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、量産性に優れ、マイクロ
レンズの剥がれや樹脂のはみ出しが生じず、焦点距離を
短くして集光効果を高めたマイクロレンズ基板、実効開
口率が高く、高精細で高品位な表示が得られる液晶表示
素子および画像投影型表示装置を提供することを目的と
する。The present invention has been made to solve the above problems of the prior art, is excellent in mass productivity, does not cause peeling of the microlens or resin squeeze out, and shortens the focal length to achieve the light collecting effect. It is an object of the present invention to provide a microlens substrate having a high efficiency, a high effective aperture ratio, a liquid crystal display element and an image projection display device capable of obtaining a high-definition and high-quality display.

【００２９】[0029]

【課題を解決するための手段】本発明のマイクロレンズ
基板は、表面に複数のマイクロレンズが形成された第１
の透明基板と、該第１の透明基板のマイクロレンズ形成
側表面と対向するように配置された第２の透明基板と
が、両基板の周縁部をシール樹脂により貼り合わせら
れ、該シール樹脂に設けられた注入口から、該マイクロ
レンズとは異なる屈折率を有する透明樹脂が両基板間に
注入されて硬化されており、そのことにより上記目的が
達成される。The microlens substrate of the present invention has a first microlens formed on the surface thereof.
And a second transparent substrate which is arranged so as to face the surface of the first transparent substrate on which the microlenses are formed, the peripheral portions of the two substrates are bonded together by a sealing resin, A transparent resin having a refractive index different from that of the microlens is injected through the injection port provided between the two substrates and cured, thereby achieving the above object.

【００３０】前記マイクロレンズが凸レンズ形状であ
り、前記透明樹脂が該マイクロレンズよりも低い屈折率
を有していてもよい。The microlenses may have a convex lens shape, and the transparent resin may have a refractive index lower than that of the microlenses.

【００３１】前記マイクロレンズが凹レンズ形状であ
り、前記透明樹脂が該マイクロレンズよりも高い屈折率
を有していてもよい。The microlenses may have a concave lens shape, and the transparent resin may have a higher refractive index than the microlenses.

【００３２】前記マイクロレンズが複数のブロックに分
かれて形成され、前記シール樹脂が各ブロックの周縁部
にも設けられ、前記第１の透明基板のブロック周縁部と
第２の透明基板の対向する部分とが貼り合わせられてい
てもよい。The microlens is divided into a plurality of blocks, the sealing resin is also provided on the peripheral edge of each block, and the peripheral edge of the block of the first transparent substrate and the opposing portion of the second transparent substrate are opposed to each other. And may be pasted together.

【００３３】前記第１の透明基板上に設けられたフォト
ポリマーをパターン化して加熱することにより、凸レン
ズ形状のマイクロレンズが形成されていてもよい。A convex lens-shaped microlens may be formed by patterning and heating the photopolymer provided on the first transparent substrate.

【００３４】前記第１の透明基板上に設けられたフォト
ポリマーをパターン化して加熱することにより凸状型を
作製し、該第１の透明基板表面をエッチングして表面に
該凸状型を形状転写することにより、凸レンズ形状のマ
イクロレンズが形成されていてもよい。A photopolymer provided on the first transparent substrate is patterned and heated to form a convex mold, and the surface of the first transparent substrate is etched to form the convex mold on the surface. By transferring, a convex lens-shaped microlens may be formed.

【００３５】前記第１の透明基板上に設けられた紫外線
硬化型樹脂に、凹状型を押し当てて紫外線照射すること
により、凸レンズ形状のマイクロレンズが形成されてい
てもよい。A convex lens-shaped microlens may be formed by pressing a concave mold against the ultraviolet curable resin provided on the first transparent substrate and irradiating it with ultraviolet light.

【００３６】前記第１の透明基板表面を半球の凹型状に
エッチングすることにより、凹レンズ形状のマイクロレ
ンズが形成されていてもよい。A concave lens-shaped microlens may be formed by etching the surface of the first transparent substrate into a concave shape of a hemisphere.

【００３７】前記第１の透明基板上に設けられた紫外線
硬化型樹脂に、凸状型を押し当てて紫外線照射すること
により、凹レンズ形状のマイクロレンズが形成されてい
てもよい。A concave lens-shaped microlens may be formed by pressing a convex mold against the ultraviolet curable resin provided on the first transparent substrate and irradiating it with ultraviolet light.

【００３８】前記第１の透明基板と第２の透明との間を
真空状態にして、シール部に設けられた注入口を透明樹
脂の中に浸した後、基板外部を大気圧にすることによ
り、前記透明樹脂が両基板間に注入されていてもよい。By making a vacuum state between the first transparent substrate and the second transparent substrate, immersing the injection port provided in the seal part in the transparent resin, and then applying atmospheric pressure to the outside of the substrate. The transparent resin may be injected between both substrates.

【００３９】前記シール樹脂として熱硬化型樹脂または
耐熱温度１５０℃以上の紫外線硬化型樹脂が用いられ、
前記透明樹脂として耐熱温度１５０℃以上の紫外線硬化
型樹脂が用いられていてもよい。A thermosetting resin or an ultraviolet curable resin having a heat resistant temperature of 150 ° C. or higher is used as the sealing resin,
An ultraviolet curable resin having a heat resistant temperature of 150 ° C. or higher may be used as the transparent resin.

【００４０】本発明の液晶表示素子は、前記マイクロレ
ンズ基板における第２の透明基板側表面に、少なくとも
透明電極および配向膜が形成されて対向基板が構成さ
れ、第３の透明基板上にマトリクス状に複数の絵素電極
およびスイッチング素子が形成され、該絵素電極および
スイッチング素子の近傍を通ってバス配線が形成された
アクティブマトリクス基板と該対向基板とが、電極形成
側表面を対向させて配設され、両基板間に液晶層が挟持
されており、そのことにより上記目的が達成される。In the liquid crystal display device of the present invention, at least the transparent electrode and the alignment film are formed on the surface of the microlens substrate on the side of the second transparent substrate to form the counter substrate, and the matrix is formed on the third transparent substrate. A plurality of picture element electrodes and switching elements are formed on the substrate, and an active matrix substrate having bus wiring formed near the picture element electrodes and the switching elements and the counter substrate are arranged such that the surfaces on the electrode formation side face each other. The liquid crystal layer is sandwiched between the two substrates, thereby achieving the above object.

【００４１】本発明の画像投影型表示装置は、前記液晶
表示素子と、液晶表示素子に光を供給する光源と、液晶
表示素子からの出射光を投影する投影レンズとを少なく
とも備えており、そのことにより上記目的が達成され
る。The image projection type display device of the present invention comprises at least the liquid crystal display element, a light source for supplying light to the liquid crystal display element, and a projection lens for projecting light emitted from the liquid crystal display element. By doing so, the above object is achieved.

【００４２】以下、本発明の作用について説明する。The operation of the present invention will be described below.

【００４３】本発明のマイクロレンズ基板にあっては、
複数のマイクロレンズが形成された第１の透明基板と、
カバーガラスやフィルム基板等の第２の透明基板との周
縁部をシール樹脂により貼り合わせ、両基板間にマイク
ロレンズとは異なる屈折率を有する透明樹脂をシール樹
脂に設けられた注入口から注入して硬化している。シー
ル樹脂が接着性と耐熱性とを担い、透明樹脂が耐熱性と
所望の屈折率特性とを担うことができるので、耐熱性向
上、マイクロレンズとカバーガラスとの剥がれ防止およ
びマイクロレンズの短焦点化が同時に実現できる。ま
た、基板周縁部のシール樹脂が透明樹脂を封止するの
で、基板外に樹脂がはみ出して基板や製造装置に付着す
ることがない。さらに、透明樹脂が硬化して基板に接着
するので、マイクロレンズ基板を分断してもマイクロレ
ンズが剥がれることはない。また、マイクロレンズ表面
をレベリングして、マイクロレンズ表面での光の散乱を
防ぐこともできる。In the microlens substrate of the present invention,
A first transparent substrate having a plurality of microlenses formed thereon;
A peripheral edge of a cover glass or a second transparent substrate such as a film substrate is pasted with a seal resin, and a transparent resin having a refractive index different from that of the microlens is injected between the both substrates through an injection port provided in the seal resin. It is hardened. Since the sealing resin is responsible for the adhesiveness and heat resistance, and the transparent resin is responsible for the heat resistance and the desired refractive index characteristics, heat resistance is improved, peeling between the microlens and the cover glass is prevented, and the short focus of the microlens is achieved. Can be realized at the same time. Further, since the sealing resin on the peripheral portion of the substrate seals the transparent resin, the resin does not squeeze out of the substrate and adhere to the substrate or the manufacturing apparatus. Further, since the transparent resin is cured and adheres to the substrate, the microlens does not peel off even if the microlens substrate is divided. Further, the surface of the microlens can be leveled to prevent light from being scattered on the surface of the microlens.

【００４４】マイクロレンズが凸レンズ形状の場合に
は、マイクロレンズよりも低い屈折率を有する透明樹脂
を用い、凹レンズ形状の場合には、マイクロレンズより
も高い屈折率を有する透明樹脂を用いると、レンズ焦点
を短くして集光効果が高いマイクロレンズが得られる。When the microlens has a convex lens shape, a transparent resin having a lower refractive index than the microlens is used, and when the microlens has a concave lens shape, a transparent resin having a higher refractive index than the microlens is used. A microlens having a high focusing effect can be obtained by shortening the focal point.

【００４５】多数枚取り用の大型基板の場合には、シー
ル樹脂をマイクロレンズの各ブロックの周縁部に設ける
ことにより、カバーガラスとマイクロレンズとの剥がれ
を防止できる。In the case of a large-sized substrate for taking a large number of sheets, by providing a seal resin on the peripheral portion of each block of the microlens, the cover glass and the microlens can be prevented from peeling off.

【００４６】凸レンズ形状のマイクロレンズは、第１の
透明基板上に設けられたフォトポリマーをパターン化し
て加熱することにより、容易に大型基板上に形成され
る。The convex lens-shaped microlens is easily formed on a large-sized substrate by patterning and heating the photopolymer provided on the first transparent substrate.

【００４７】また、第１の透明基板上に凸状型を作製
し、エッチングにより第１の透明基板表面に凸状型を形
状転写して、凸レンズ形状のマイクロレンズを作製して
もよい。この場合、透明度が高いマイクロレンズが大型
基板上に容易に作製される。Alternatively, a convex mold may be formed on the first transparent substrate, and the convex mold may be transferred onto the surface of the first transparent substrate by etching to form a convex lens-shaped microlens. In this case, a microlens having high transparency can be easily manufactured on a large substrate.

【００４８】さらに、第１の透明基板上に設けられた紫
外線硬化型樹脂に凹状型を押し当て、紫外線照射するこ
とにより凸レンズ形状のマイクロレンズを作製しても良
い。この場合、透明性の高い樹脂からなるマイクロレン
ズが簡略化されたプロセスで得られる。Further, a convex lens-shaped microlens may be produced by pressing a concave mold against an ultraviolet curable resin provided on the first transparent substrate and irradiating it with ultraviolet light. In this case, a microlens made of highly transparent resin can be obtained by a simplified process.

【００４９】凹レンズ形状のマイクロレンズは、第１の
透明基板表面を半球の凹型状にエッチングすることによ
り作製される。この場合、透過率が高いマイクロレンズ
が簡略化されたプロセスで得られる。The concave lens-shaped microlens is produced by etching the surface of the first transparent substrate into a hemispherical concave shape. In this case, microlenses with high transmissivity are obtained in a simplified process.

【００５０】また、第１の透明基板上に設けられた紫外
線硬化型樹脂に凸状型を押し当て、紫外線照射すること
により凹レンズ形状のマイクロレンズを作製しても良
い。この場合、透明性の高い樹脂からなるマイクロレン
ズが簡略化されたプロセスで得られる。Alternatively, a concave lens-shaped microlens may be produced by pressing a convex mold against the ultraviolet curable resin provided on the first transparent substrate and irradiating with ultraviolet light. In this case, a microlens made of highly transparent resin can be obtained by a simplified process.

【００５１】上記第１の透明基板と第２の透明との間を
真空状態にして、シール部に設けられた注入口を透明樹
脂の中に浸した後、基板外部を大気圧にすると両基板間
に透明樹脂が注入される。この真空注入法によれば、樹
脂内部に気泡が生じず、基板表面に樹脂が付着して液晶
表示素子や製造装置が汚染されることはない。A vacuum state is created between the first transparent substrate and the second transparent substrate, the inlet provided in the seal portion is immersed in the transparent resin, and then the outside of the substrate is brought to atmospheric pressure. A transparent resin is injected between them. According to this vacuum injection method, bubbles are not generated inside the resin, and the resin does not adhere to the surface of the substrate to contaminate the liquid crystal display element or the manufacturing apparatus.

【００５２】耐熱性および接着性に優れた熱硬化性樹脂
または耐熱温度１５０℃以上の紫外線硬化型樹脂を接着
のためのシール樹脂として用い、また、優れた透明性を
有し、耐熱性にも優れた耐熱温度１５０℃以上の紫外線
硬化型樹脂をマイクロレンズのレベリングのための透明
樹脂として用いると、耐熱性と熱膨張とに起因するカバ
ーガラスとマイクロレンズとの剥がれに対して抵抗力が
増して、高温条件下でマイクロレンズ基板を加工するこ
とができる。A thermosetting resin excellent in heat resistance and adhesiveness or an ultraviolet curable resin having a heat resistant temperature of 150 ° C. or higher is used as a sealing resin for adhesion, and also has excellent transparency and heat resistance. When an ultraviolet curable resin having an excellent heat resistance temperature of 150 ° C. or higher is used as a transparent resin for leveling microlenses, resistance to peeling between the cover glass and microlenses due to heat resistance and thermal expansion increases. Thus, the microlens substrate can be processed under high temperature conditions.

【００５３】本発明の液晶表示素子にあっては、前記マ
イクロレンズ基板の表面に、透明電極および配向膜、必
要に応じてブラックマトリクスを形成して対向基板を構
成し、これをアクティブマトリクス基板と対向配設して
いる。液晶表示素子の内部に焦点距離の短いマイクロレ
ンズが形成されているので、液晶表示素子の実効開口率
が向上される。In the liquid crystal display element of the present invention, a transparent electrode and an alignment film, and if necessary, a black matrix are formed on the surface of the microlens substrate to form a counter substrate, which is referred to as an active matrix substrate. They are arranged facing each other. Since the microlens having a short focal length is formed inside the liquid crystal display element, the effective aperture ratio of the liquid crystal display element is improved.

【００５４】本発明の画像投影型表示装置は、前記液晶
表示素子と光源と投影レンズとを備えている。実効開口
率の高い液晶表示素子が組み込まれているので、表示画
面が明るい高品質な表示画像が得られる。The image projection type display device of the present invention comprises the liquid crystal display element, a light source and a projection lens. Since a liquid crystal display element having a high effective aperture ratio is incorporated, a high quality display image with a bright display screen can be obtained.

【００５５】[0055]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態につい
て、図面を参照しながら説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【００５６】（実施形態１）図１に、本発明の一実施形
態であるマイクロレンズ基板を用いたアクティブマトリ
クス型液晶表示素子の断面図を示す。この液晶表示素子
は、無アルカリガラスからなる透明基板１１６上に、絵
素電極、スイッチング素子およびバス配線（図示せず）
等が形成され、この基板に対向するマイクロレンズ基板
との間には、液晶層１１５がシール材１１４によって封
止されている。マイクロレンズ基板は、第１の透明基板
１０１、マイクロレンズアレイ１０２、透明樹脂層１０
７、シール樹脂１０３および第２の透明基板であるカバ
ーガラス１０５からなる。(Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view of an active matrix type liquid crystal display device using a microlens substrate which is an embodiment of the present invention. This liquid crystal display device includes picture element electrodes, switching elements and bus wiring (not shown) on a transparent substrate 116 made of alkali-free glass.
Etc. are formed, and a liquid crystal layer 115 is sealed by a sealing material 114 between the microlens substrate facing this substrate. The microlens substrate includes the first transparent substrate 101, the microlens array 102, and the transparent resin layer 10.
7, a sealing resin 103, and a cover glass 105 which is a second transparent substrate.

【００５７】マイクロレンズ１０２は凸レンズ形状を有
しており、本実施形態では熱ダレ法を用いて作製した。
また、マイクロレンズ基板の液晶層１１５側表面には、
ブラックマトリクス１１１、透明電極１１２および配向
膜１１３が形成されて、透明基板１０１〜配向膜１１３
までが対向基板１１７となっている。尚、ブラックマト
リクス１１１は、必要に応じて形成される物である。The microlens 102 has a convex lens shape, and in this embodiment, it is manufactured by using the thermal sag method.
In addition, on the surface of the liquid crystal layer 115 side of the microlens substrate,
The black matrix 111, the transparent electrode 112, and the alignment film 113 are formed, and the transparent substrate 101 to the alignment film 113 are formed.
Up to the counter substrate 117. The black matrix 111 is formed as needed.

【００５８】次に、本実施形態のマイクロレンズ基板の
製造方法について、図２（ａ）〜（ｅ）に従って説明す
る。尚、この図２（ａ）〜（ｅ）において、図１と同様
の機能を有する部分については、同一の符号を記す。Next, a method of manufacturing the microlens substrate of this embodiment will be described with reference to FIGS. In FIGS. 2A to 2E, parts having the same functions as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals.

【００５９】まず、図２（ａ）に示すように、第１の透
明基板１０１の一方の面上に、熱ダレ法を用いて凸型の
マイクロレンズアレイ１０２を作製する。First, as shown in FIG. 2A, a convex microlens array 102 is formed on one surface of the first transparent substrate 101 by the thermal sag method.

【００６０】線膨張係数の差による剥離を防ぐために
は、第１の透明基板１０１は、透明基板１１６と同程度
の熱膨張率を有する材料を用いるのが好ましい。本実施
形態では、透明基板１１６と同じ無アルカリガラスを用
いた。また、熱ダレ法では、基板上に感光性樹脂をパタ
ーン形成し、融点以上に加熱することにより凸レンズ形
状とするが、この感光性樹脂としては、たとえばフォト
レジスト等を用いる事ができる。本実施形態では屈折率
１．６５のフォトレジスト（シップレイＴＦ−２０）を
用いて絵素ピッチ１００μｍ×１００μｍのマイクロレ
ンズ１０２を作製した。このフォトレジストは、１５０
℃以上に加熱すると流動性を持つようになって、表面張
力により凸形状に変形する。凸レンズ状に変形後も加熱
を続けると、熱重合反応により硬化して流動性が無くな
って、それ自身が耐熱性を有するようになる。また、そ
の表面に後述の屈折率１．３８の透明樹脂を形成するこ
とによりマイクロレンズ１０２の焦点距離が短くなっ
て、空気中の焦点距離は０．３３ｍｍとなり、屈折率が
１．５２の無アルカリガラス中での焦点距離は０．５０
ｍｍとなる。このマイクロレンズ１０２は、生産効率の
観点から、大面積基板上に多数枚分の液晶表示素子に対
応した複数のブロックに分かれて形成される。In order to prevent peeling due to the difference in linear expansion coefficient, it is preferable that the first transparent substrate 101 is made of a material having a thermal expansion coefficient similar to that of the transparent substrate 116. In this embodiment, the same alkali-free glass as the transparent substrate 116 is used. In the thermal sag method, a photosensitive resin is patterned on a substrate and heated to a temperature not lower than the melting point to form a convex lens shape. As the photosensitive resin, for example, a photoresist or the like can be used. In this embodiment, a microlens 102 having a pixel pitch of 100 μm × 100 μm is manufactured using a photoresist (Shipley TF-20) having a refractive index of 1.65. This photoresist is 150
When heated above ℃, it becomes fluid and deforms into a convex shape due to surface tension. If heating is continued after the lens is deformed into a convex lens shape, it is cured by a thermal polymerization reaction, loses fluidity, and has heat resistance itself. Further, by forming a transparent resin having a refractive index of 1.38, which will be described later, on the surface thereof, the focal length of the microlens 102 becomes short, the focal length in the air becomes 0.33 mm, and the refractive index of 1.52 does not exist. Focal length in alkaline glass is 0.50
mm. From the viewpoint of production efficiency, the microlens 102 is divided into a plurality of blocks corresponding to a large number of liquid crystal display elements on a large area substrate.

【００６１】次に、図２（ｂ）に示すように、第１の透
明基板１０１の周囲に、熱硬化型樹脂と一定の直径を有
するスペーサーとの混合物からなるシール樹脂１０３
を、後述の透明樹脂を注入するための注入口を設けた状
態で、シール樹脂を印刷またはディスペンサーで塗布す
る。この熱硬化型樹脂としては、例えば三井東圧化学社
製ＸＮ２１Ｓ等を用いる事ができる。このとき、各マイ
クロレンズ１０２のブロックの外周部にもシール樹脂を
塗布することで、より密着性を向上させることができ
る。尚、シール樹脂中にスペーサーを混合させるのは、
カバーガラス等の第２の透明基板１０５の貼り合わせ時
に、第２の透明基板１０５と第１の透明基板１０１との
間隔を均一にして、反りやうねりを無くするためであ
る。このスペーサーの直径は、マイクロレンズ１０２の
厚さと同じかまたはそれ以上にする。本実施形態では、
スペーサーの直径を２０μｍとしたが、数μｍの範囲で
調整しても良い。Next, as shown in FIG. 2B, a sealing resin 103 composed of a mixture of a thermosetting resin and a spacer having a constant diameter is provided around the first transparent substrate 101.
With the injection port for injecting a transparent resin described later provided, the seal resin is applied by printing or dispenser. As this thermosetting resin, for example, XN21S manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. can be used. At this time, by applying the sealing resin also to the outer peripheral portion of the block of each microlens 102, the adhesion can be further improved. In addition, mixing the spacer in the seal resin is
This is because when the second transparent substrate 105 such as a cover glass is attached, the interval between the second transparent substrate 105 and the first transparent substrate 101 is made uniform and warpage and undulation are eliminated. The diameter of this spacer is equal to or greater than the thickness of the microlens 102. In this embodiment,
Although the diameter of the spacer is 20 μm, it may be adjusted within the range of several μm.

【００６２】続いて、図２（ｃ）に示すように、焦点距
離に応じた厚みの第２の透明基板１０５をマイクロレン
ズ１０２表面に接触させる。線膨張係数の差による剥離
を防ぐためには、第２の透明基板１０５であるカバーガ
ラスは、透明基板１１６と同程度の熱膨張率を有する材
料を用いるのが好ましい。本実施形態では厚み０．５ｍ
ｍの無アルカリガラスからなるカバーガラスを用いた。
その後、基板全面に均一に加重をかけながら加熱してシ
ール樹脂１０３を硬化させる。本実施形態では、オーブ
ンで１７０℃に加熱することにより、シール樹脂１０３
を硬化させた。Subsequently, as shown in FIG. 2C, the second transparent substrate 105 having a thickness corresponding to the focal length is brought into contact with the surface of the microlens 102. In order to prevent peeling due to the difference in linear expansion coefficient, it is preferable that the cover glass which is the second transparent substrate 105 be made of a material having a thermal expansion coefficient similar to that of the transparent substrate 116. In this embodiment, the thickness is 0.5 m
A cover glass made of alkali-free glass of m was used.
Then, the sealing resin 103 is hardened by heating while uniformly applying weight to the entire surface of the substrate. In this embodiment, the sealing resin 103 is heated to 170 ° C. in an oven.
Was cured.

【００６３】その後、図２（ｄ）に示すように、第１の
透明基板１０１と第２の透明基板１０５との間に、シー
ル樹脂１０３に設けられた注入口１０４から、マイクロ
レンズよりも屈折率性が低い透明樹脂１０７を真空注入
法により注入する。この真空注入法では、まず、貼り合
わせ基板１０６および透明樹脂１０７を空槽１０８内に
セットして真空ポンプで排気する。十分真空引きした後
で、基板１０６の周端部に形成されている注入口１０４
を透明樹脂１０７に浸す。その後、真空槽１０８内を窒
素雰囲気下において、大気圧に戻す事で、透明樹脂１０
７が両基板１０１、１０５間に注入される。耐熱性およ
び透明性が高い透明樹脂１０７としては、耐熱温度１５
０℃以上の紫外線硬化樹脂を用いる事ができ、フッ素化
合物にすることにより樹脂を低屈折率化することができ
る。本実施形態では熱分解温度３００℃以上で屈折率
１．３８のフッ素化合物を用いた。After that, as shown in FIG. 2D, an injection port 104 provided in the seal resin 103 between the first transparent substrate 101 and the second transparent substrate 105 refracts more than the microlens. A transparent resin 107 having a low rate is injected by a vacuum injection method. In this vacuum injection method, first, the bonded substrate stack 106 and the transparent resin 107 are set in an empty tank 108 and exhausted by a vacuum pump. After sufficiently vacuuming, the injection port 104 formed at the peripheral edge of the substrate 106.
Is immersed in the transparent resin 107. After that, the inside of the vacuum chamber 108 is returned to the atmospheric pressure in a nitrogen atmosphere, so that the transparent resin 10
7 is injected between both substrates 101 and 105. As the transparent resin 107 having high heat resistance and transparency, the heat resistant temperature is 15
An ultraviolet curable resin having a temperature of 0 ° C. or higher can be used, and by using a fluorine compound, the resin can have a low refractive index. In this embodiment, a fluorine compound having a thermal decomposition temperature of 300 ° C. or higher and a refractive index of 1.38 is used.

【００６４】さらに、図２（ｅ）に示すように、貼り合
わせ基板１０６の全面に紫外線を照射して透明樹脂１０
７を硬化させることで、マイクロレンズアレイ１０２が
内部に形成されたマイクロレンズ基板１０９が得られ
る。Further, as shown in FIG. 2E, the entire surface of the bonded substrate stack 106 is irradiated with ultraviolet rays so as to be transparent resin 10.
By curing 7 the microlens substrate 109 having the microlens array 102 formed therein is obtained.

【００６５】このマイクロレンズ基板１０９は、カバー
ガラス１０５側表面にブラックマトリクス１１１、透明
電極１１２および配向膜１１３を形成して、図１に示す
ような対向基板１１７とする。この工程は高温条件下で
行われ、特に、配向膜１１３はポリイミドからなるので
イミド化を促進するために１８０℃前後の温度で焼成が
行われる。In this microlens substrate 109, a black matrix 111, a transparent electrode 112 and an alignment film 113 are formed on the surface of the cover glass 105 side to form a counter substrate 117 as shown in FIG. This step is performed under high temperature conditions, and in particular, since the alignment film 113 is made of polyimide, firing is performed at a temperature of about 180 ° C. to promote imidization.

【００６６】本実施形態において、カバーガラス１０５
の線膨張係数は３．６５×１０-6Ｋ-1であるのに対し
て、紫外線硬化樹脂１０７の線膨張係数は１．２×１０
-4Ｋ-1と大きな開きがある。このため、１８０℃の高温
下ではカバーガラス１０５が接着層としての透明樹脂１
１０から剥がれ易くなる。しかし、熱硬化型樹脂からな
るシール樹脂１０３によって、カバーガラス１０５と第
２の透明基板１０１とが強く密着しているため、剥がれ
が生じなかった。また、シール樹脂１０３および透明樹
脂１０７の耐熱性が高いので、配向膜形成工程において
焼成温度を高くしても剥がれが生じず、配向膜１１３の
品質を向上させることができた。シール樹脂をマイクロ
レンズの各ブロックの周縁部に設けて、多数枚取り用基
板を作製しているので、基板を分断しても剥がれが生じ
ず、生産性を向上させることができた。さらに、透明基
板１１６、第１の透明基板１０１および第２の透明基板
１０５として、同じ材質のものを用いているので、線膨
張係数の差を原因とする剥がれが生じにくかった。In the present embodiment, the cover glass 105
Has a linear expansion coefficient of 3.65 × 10 −6 K −1 , whereas the ultraviolet curable resin 107 has a linear expansion coefficient of 1.2 × 10 6.
-4 K -1 with a big gap. Therefore, at a high temperature of 180 ° C., the cover glass 105 is used as the transparent resin 1 as the adhesive layer.
It becomes easy to peel from 10. However, peeling did not occur because the cover glass 105 and the second transparent substrate 101 were strongly adhered to each other by the seal resin 103 made of a thermosetting resin. Further, since the sealing resin 103 and the transparent resin 107 have high heat resistance, peeling does not occur even if the baking temperature is raised in the alignment film forming step, and the quality of the alignment film 113 can be improved. Since the sealing resin is provided on the peripheral portion of each block of the microlens to fabricate a substrate for multi-sheet production, peeling does not occur even if the substrates are divided, and the productivity can be improved. Further, since the transparent substrate 116, the first transparent substrate 101, and the second transparent substrate 105 are made of the same material, peeling due to the difference in linear expansion coefficient is difficult to occur.

【００６７】透明樹脂３０７は、紫外線硬化型樹脂から
なるので透明性が高く、凸型形状のマイクロレンズ１０
２よりも屈折率が低いので、焦点距離を短くして液晶表
示素子の実効開口率を高めることができた。また、耐熱
性が高いので、それ自身の分解によるマイクロレンズ基
板の剥がれが生じなかった。さらに、真空注入により基
板間に注入しているので樹脂の気泡が生じず、基板表面
に透明樹脂の付着による汚染も生じないため、付着物を
取り除く作業が不要であった。Since the transparent resin 307 is made of an ultraviolet curable resin, it is highly transparent and has a convex microlens 10.
Since the refractive index was lower than 2, the effective aperture ratio of the liquid crystal display element could be increased by shortening the focal length. Further, since the heat resistance is high, the microlens substrate was not peeled off due to its decomposition. Furthermore, since the resin is injected between the substrates by vacuum injection, no air bubbles of the resin are generated and contamination of the surface of the substrate due to the adhesion of the transparent resin is not generated.

【００６８】尚、本実施形態では、マイクロレンズを熱
ダレ法で作製しているが、これに限られず、イオン交換
法や膨潤法または機械加工法等、他の方法で作製しても
良い。熱ダレ法を用いた場合には、マイクロレンズを容
易に大型基板上に作製できる。In this embodiment, the microlenses are manufactured by the thermal sag method, but the present invention is not limited to this, and the microlenses may be manufactured by another method such as an ion exchange method, a swelling method, or a machining method. When the thermal sag method is used, microlenses can be easily manufactured on a large substrate.

【００６９】また、第１の透明基板上に熱ダレ法等で凸
状型を作製し、エッチングにより基板表面に凸状型を形
状転写してもよく、第１の透明基板上に設けられた紫外
線硬化型樹脂に凹状型を押し当て、紫外線照射すること
により凸レンズ形状のマイクロレンズを作製しても良
い。これらの場合、透明度の高いマイクロレンズが大型
基板上に容易に作製でき、さらに高品質な液晶表示素子
を得ることができる。Alternatively, a convex mold may be formed on the first transparent substrate by a thermal sag method or the like, and the convex mold may be transferred onto the surface of the substrate by etching. The convex mold is provided on the first transparent substrate. A concave lens-shaped resin may be pressed against the ultraviolet-curable resin and irradiated with ultraviolet rays to form a convex lens-shaped microlens. In these cases, a highly transparent microlens can be easily produced on a large substrate, and a high quality liquid crystal display device can be obtained.

【００７０】本実施形態において、シール樹脂１０３に
は熱硬化型樹脂を用いたが、これに限られず、それと同
等かまたはそれ以上の接着力を有するものであれば、耐
熱温度１５０℃以上の紫外線硬化型樹脂を用いてもよ
く、例えば、スリーボンド社製の紫外線硬化性樹脂（３
１６１）等が挙げられる。この場合、熱硬化型樹脂を用
いた場合よりも硬化時間が短縮化されるので、さらに生
産性を向上することができる。In this embodiment, the thermosetting resin is used as the sealing resin 103, but the sealing resin 103 is not limited to this, and as long as it has an adhesive force equal to or higher than that, the ultraviolet ray having a heat resistant temperature of 150 ° C. or higher can be used. A curable resin may be used. For example, an ultraviolet curable resin (3
161) and the like. In this case, since the curing time is shortened as compared with the case where the thermosetting resin is used, the productivity can be further improved.

【００７１】第２の透明基板としてはカバーガラスを用
いたが、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、フ
ェノキシエーテル樹脂、一軸性ポリエステル樹脂等から
なり、焦点距離に対応した厚みのフィルム基板を用いて
も良い。Although the cover glass is used as the second transparent substrate, a film substrate made of polycarbonate resin, polysulfone resin, phenoxyether resin, uniaxial polyester resin or the like and having a thickness corresponding to the focal length may be used.

【００７２】（実施形態２）図３に、本発明の他の実施
形態であるマイクロレンズ基板を用いたアクティブマト
リクス型液晶表示素子の断面図を示す。この液晶表示素
子は、無アルカリガラスからなる透明基板３１６上に、
絵素電極、スイッチング素子およびバス配線（図示せ
ず）等が形成され、この基板に対向するマイクロレンズ
基板との間には、液晶層３１５がシール材３１４によっ
て封止されている。マイクロレンズ基板は、第１の透明
基板３０１、マイクロレンズアレイ３０２、透明樹脂層
３０７、シール樹脂３０３および第２の透明基板である
カバーガラス３０５からなる。(Embodiment 2) FIG. 3 is a sectional view of an active matrix type liquid crystal display device using a microlens substrate which is another embodiment of the present invention. This liquid crystal display device comprises a transparent substrate 316 made of alkali-free glass,
A pixel electrode, a switching element, a bus wiring (not shown), and the like are formed, and a liquid crystal layer 315 is sealed by a sealant 314 between the pixel electrode and a microlens substrate facing this substrate. The microlens substrate includes a first transparent substrate 301, a microlens array 302, a transparent resin layer 307, a sealing resin 303, and a cover glass 305 which is a second transparent substrate.

【００７３】マイクロレンズ３０２は凹レンズ形状を有
しており、本実施形態ではガラスエッチング法を用いて
作製した。また、マイクロレンズ基板の液晶層３１５側
表面には、ブラックマトリクス３１１、透明電極３１２
および配向膜３１３が形成されて、透明基板３０１〜配
向膜３１３までが対向基板３１７となっている。尚、ブ
ラックマトリクス３１１は、必要に応じて形成される物
である。The microlens 302 has a concave lens shape, and in this embodiment, it is manufactured by the glass etching method. The black matrix 311 and the transparent electrode 312 are formed on the surface of the microlens substrate on the liquid crystal layer 315 side.
The alignment film 313 is formed, and the transparent substrate 301 to the alignment film 313 serve as the counter substrate 317. The black matrix 311 is formed as needed.

【００７４】次に、本実施形態のマイクロレンズ基板の
製造方法について、図４（ａ）〜（ｅ）に従って説明す
る。尚、この図４（ａ）〜（ｅ）において、図３と同様
の機能を有する部分については、同一の符号を記す。Next, a method of manufacturing the microlens substrate of this embodiment will be described with reference to FIGS. In FIGS. 4A to 4E, parts having the same functions as those in FIG. 3 are designated by the same reference numerals.

【００７５】まず、図４（ａ）に示すように、第１の透
明基板３０１の一方の面上に、ガラスエッチング法を用
いて凹型のマイクロレンズアレイ３０２を作製する。線
膨張係数の差による剥離を防ぐためには、第１の透明基
板３０１は、透明基板３１６と同程度の熱膨張率を有す
る材料を用いるのが好ましい。本実施形態では、透明基
板３１６と同じ無アルカリガラスを用いた。First, as shown in FIG. 4A, a concave microlens array 302 is formed on one surface of the first transparent substrate 301 by a glass etching method. In order to prevent peeling due to a difference in linear expansion coefficient, it is preferable that the first transparent substrate 301 be made of a material having a thermal expansion coefficient similar to that of the transparent substrate 316. In this embodiment, the same alkali-free glass as the transparent substrate 316 is used.

【００７６】以下に、本実施形態で用いたガラスエッチ
ング法による凹型レンズ作製方法について、図５を用い
て説明する。図５（ａ）は平面図、図５（ｂ）はその断
面図である。The method of manufacturing the concave lens by the glass etching method used in this embodiment will be described below with reference to FIG. 5A is a plan view and FIG. 5B is a sectional view thereof.

【００７７】まず、透明性の無アルカリガラスからなる
基板４０１の表面に、フォトレジストを塗布して、周知
のフォトリソグラフィー技術により所望のレンズパター
ン４０３に対応した形状４０２を作製する。本実施形態
では、レンズパターン４０３を凹型とした。この基板を
弗酸を主成分とするエッチャントに浸漬し、開口部４０
４を通して基板表面を所定の深さまでエッチングする。
これにより、開口部４０４直下に半球状の凹型部４０５
が形成される。その後、レジスト剥離液によりフォトレ
ジスト４０２を除去して、凹型レンズ形状のマイクロレ
ンズアレイが作製される。その表面に後述の屈折率１．
６７の透明樹脂を形成することによりマイクロレンズ３
０２の焦点距離が短くなって、空気中の焦点距離は０．
３３ｍｍとなり、屈折率が１．５２の無アルカリガラス
中での焦点距離は０．５０ｍｍとなる。このマイクロレ
ンズ３０２は、生産効率の観点から、大面積基板上に多
数枚分の液晶表示素子に対応した複数のブロックに分か
れて形成される。First, a photoresist is applied to the surface of a substrate 401 made of transparent non-alkali glass, and a shape 402 corresponding to a desired lens pattern 403 is formed by a well-known photolithography technique. In this embodiment, the lens pattern 403 has a concave shape. The substrate is dipped in an etchant containing hydrofluoric acid as a main component, and the opening 40
The substrate surface is etched through 4 to a predetermined depth.
As a result, a hemispherical concave portion 405 is formed immediately below the opening 404.
Is formed. After that, the photoresist 402 is removed with a resist stripping solution to manufacture a concave lens-shaped microlens array. The surface has a refractive index of 1.
By forming the transparent resin 67, the microlens 3
02 has a shorter focal length, and the focal length in air is 0.
33 mm, and the focal length in the alkali-free glass having a refractive index of 1.52 is 0.50 mm. From the viewpoint of production efficiency, the microlens 302 is divided into a plurality of blocks corresponding to a large number of liquid crystal display elements on a large area substrate.

【００７８】次に、図４（ｂ）に示すように、第１の透
明基板３０１の周囲に、熱硬化型樹脂と一定の直径を有
するスペーサーとの混合物からなるシール樹脂３０３
を、後述の透明樹脂を注入するための注入口を設けた状
態で、シール樹脂を印刷またはディスペンサーで塗布す
る。この熱硬化型樹脂としては、実施形態１に記載した
ものと同様のものを用いる事ができる。このとき、各マ
イクロレンズ３０２のブロックの外周部にもシール樹脂
を塗布することで、より密着性を向上させることができ
る。尚、シール樹脂中にスペーサーを混合させるのは、
カバーガラス等の第２の透明基板３０５の貼り合わせ時
に、第２の透明基板３０５と第１の透明基板３０１との
間隔を均一にして、反りやうねりを無くするためであ
る。このスペーサーの直径は、マイクロレンズ３０２の
厚さと同じかまたはそれ以上にする。本実施形態では、
スペーサーの直径を５μｍとしたが、数μｍの範囲で調
整しても良い。Next, as shown in FIG. 4B, a sealing resin 303 composed of a mixture of a thermosetting resin and a spacer having a constant diameter is provided around the first transparent substrate 301.
With the injection port for injecting a transparent resin described later provided, the seal resin is applied by printing or dispenser. As the thermosetting resin, the same resins as those described in the first embodiment can be used. At this time, the adhesiveness can be further improved by applying the sealing resin also to the outer peripheral portion of the block of each microlens 302. In addition, mixing the spacer in the seal resin is
This is because when the second transparent substrate 305 such as a cover glass is attached, the interval between the second transparent substrate 305 and the first transparent substrate 301 is made uniform and warpage and undulation are eliminated. The diameter of this spacer is equal to or greater than the thickness of the microlens 302. In this embodiment,
Although the spacer has a diameter of 5 μm, it may be adjusted within a range of several μm.

【００７９】続いて、図４（ｃ）に示すように、焦点距
離に応じた厚みの第２の透明基板３０５をマイクロレン
ズ３０２表面に接触させる。線膨張係数の差による剥離
を防ぐためには、第２の透明基板３０５であるカバーガ
ラスは、透明基板３１６と同程度の熱膨張率を有する材
料を用いるのが好ましい。本実施形態では厚み０．５ｍ
ｍの無アルカリガラスからなるカバーガラスを用いた。
その後、基板全面に均一に加重をかけながら加熱してシ
ール樹脂３０３を硬化させる。本実施形態では、オーブ
ンで１７０℃に加熱することにより、シール樹脂３０３
を硬化させた。Subsequently, as shown in FIG. 4C, a second transparent substrate 305 having a thickness corresponding to the focal length is brought into contact with the surface of the microlens 302. In order to prevent peeling due to the difference in linear expansion coefficient, it is preferable that the cover glass which is the second transparent substrate 305 be made of a material having a thermal expansion coefficient similar to that of the transparent substrate 316. In this embodiment, the thickness is 0.5 m
A cover glass made of alkali-free glass of m was used.
After that, the sealing resin 303 is hardened by heating while uniformly applying weight to the entire surface of the substrate. In the present embodiment, the sealing resin 303 is heated to 170 ° C. in an oven.
Was cured.

【００８０】その後、図４（ｄ）に示すように、第１の
透明基板３０１と第２の透明基板３０５との間に、シー
ル樹脂３０３に設けられた注入口１０４から、マイクロ
レンズよりも屈折率性が高い透明樹脂３０７を真空注入
法により注入する。この真空注入法では、まず、貼り合
わせ基板３０６および透明樹脂３０７を空槽３０８内に
セットして真空ポンプで排気する。十分真空引きした後
で、基板３０６の周端部に形成されている注入口３０４
を透明樹脂３０７に浸す。その後、真空槽３０８内を窒
素雰囲気下において、大気圧に戻す事で、透明樹脂３０
７が両基板３０１、３０５間に注入される。耐熱性およ
び透明性が高い透明樹脂３０７としては、耐熱温度１５
０℃以上の紫外線硬化樹脂を用いる事ができる。本実施
形態では熱分解温度が１５０℃、屈折率が１．６７の紫
外線硬化型樹脂を用いた。After that, as shown in FIG. 4D, the light is refracted from the injection port 104 provided in the seal resin 303 between the first transparent substrate 301 and the second transparent substrate 305 more than the microlens. A transparent resin 307 having high efficiency is injected by a vacuum injection method. In this vacuum injection method, first, the bonded substrate 306 and the transparent resin 307 are set in the empty tank 308 and exhausted by a vacuum pump. After sufficiently vacuuming, the injection port 304 formed at the peripheral edge of the substrate 306
Is dipped in transparent resin 307. Then, the vacuum tank 308 is returned to atmospheric pressure in a nitrogen atmosphere, so that the transparent resin 30
7 is injected between both substrates 301 and 305. As the transparent resin 307 having high heat resistance and transparency, the heat resistance temperature is 15
An ultraviolet curable resin having a temperature of 0 ° C. or higher can be used. In this embodiment, an ultraviolet curable resin having a thermal decomposition temperature of 150 ° C. and a refractive index of 1.67 is used.

【００８１】さらに、図４（ｅ）に示すように、貼り合
わせ基板３０６の全面に紫外線を照射して透明樹脂３０
７を硬化させることで、マイクロレンズアレイ３０２が
内部に形成されたマイクロレンズ基板３０９が得られ
る。Further, as shown in FIG. 4 (e), the entire surface of the bonded substrate 306 is irradiated with ultraviolet rays to make the transparent resin 30.
By curing No. 7, a microlens substrate 309 having the microlens array 302 formed therein can be obtained.

【００８２】このマイクロレンズ基板３０９は、カバー
ガラス３０５側表面にブラックマトリクス３１１、透明
電極３１２および配向膜３１３を形成して、図５に示す
ような対向基板３１７とする。この工程は高温条件下で
行われ、特に、配向膜３１３はポリイミドからなるので
イミド化を促進するために１８０℃前後の温度で焼成が
行われる。This microlens substrate 309 has a black matrix 311, a transparent electrode 312 and an alignment film 313 formed on the surface of the cover glass 305 side to form a counter substrate 317 as shown in FIG. This step is performed under high temperature conditions, and in particular, since the alignment film 313 is made of polyimide, firing is performed at a temperature of about 180 ° C. to promote imidization.

【００８３】本実施形態においても、実施形態１と同様
に、熱硬化型樹脂からなるシール樹脂３０３によって、
カバーガラス３０５と第２の透明基板３０１とが強く密
着しているため、剥がれが生じなかった。また、シール
樹脂３０３および透明樹脂３０７の耐熱性が高いので、
配向膜形成工程において焼成温度を高くしても剥がれが
生じず、配向膜３１３の品質を向上させることができ
た。シール樹脂をマイクロレンズの各ブロックの周縁部
に設けて、多数枚取り用基板を作製しているので、基板
を分断しても剥がれが生じず、生産性を向上させること
ができた。さらに、透明基板３１６、第１の透明基板３
０１および第２の透明基板３０５として、同じ材質のも
のを用いているので、線膨張係数の差を原因とする剥が
れが生じにくかった。Also in this embodiment, as in the first embodiment, the sealing resin 303 made of a thermosetting resin is used.
Since the cover glass 305 and the second transparent substrate 301 strongly adhered to each other, no peeling occurred. Further, since the sealing resin 303 and the transparent resin 307 have high heat resistance,
Peeling did not occur even if the firing temperature was raised in the alignment film forming step, and the quality of the alignment film 313 could be improved. Since the sealing resin is provided on the peripheral portion of each block of the microlens to fabricate a substrate for multi-sheet production, peeling does not occur even if the substrates are divided, and the productivity can be improved. Further, the transparent substrate 316 and the first transparent substrate 3
Since 01 and the second transparent substrate 305 are made of the same material, peeling due to the difference in linear expansion coefficient is difficult to occur.

【００８４】透明樹脂３０７は、紫外線硬化型樹脂から
なるので透明性が高く、凹型形状のマイクロレンズ１０
２よりも屈折率が高いので、焦点距離を短くして液晶表
示素子の実効開口率を高めることができた。また、耐熱
性が高いので、それ自身の分解によるマイクロレンズ基
板の剥がれが生じなかった。さらに、真空注入により基
板間に注入しているので樹脂の気泡が生じず、基板表面
に透明樹脂の付着による汚染も生じないため、付着物を
取り除く作業が不要であった。Since the transparent resin 307 is made of an ultraviolet curable resin, it is highly transparent and has a concave microlens 10.
Since the refractive index is higher than 2, the effective aperture ratio of the liquid crystal display device could be increased by shortening the focal length. Further, since the heat resistance is high, the microlens substrate was not peeled off due to its decomposition. Furthermore, since the resin is injected between the substrates by vacuum injection, no air bubbles of the resin are generated and contamination of the surface of the substrate due to the adhesion of the transparent resin is not generated.

【００８５】尚、本実施形態では、マイクロレンズをガ
ラスエッチング法で作製しているが、これに限られず、
第１の透明基板上に設けられた紫外線硬化型樹脂に凸状
型を押し当て、紫外線照射することにより凹レンズ形状
のマイクロレンズを作製しても良い。いずれの場合に
も、大型基板上に透明度の高いマイクロレンズが容易に
作製でき、高品質な液晶表示素子を得ることができる。In this embodiment, the microlenses are manufactured by the glass etching method, but the invention is not limited to this.
A concave lens-shaped microlens may be produced by pressing a convex mold against an ultraviolet curable resin provided on the first transparent substrate and irradiating with ultraviolet light. In any case, a highly transparent microlens can be easily produced on a large substrate, and a high quality liquid crystal display device can be obtained.

【００８６】本実施形態において、シール樹脂３０３に
は熱硬化型樹脂を用いたが、これに限られず、それと同
等かまたはそれ以上の接着力を有するものであれば、耐
熱温度１５０℃以上の紫外線硬化型樹脂を用いてもよ
く、実施形態１に記載したものと同様のものが挙げられ
る。この場合、熱硬化型樹脂を用いた場合よりも硬化時
間が短縮化されるので、さらに生産性を向上することが
できる。In this embodiment, the thermosetting resin is used as the sealing resin 303, but the sealing resin 303 is not limited to this, and if the adhesive has an adhesive force equal to or higher than that, ultraviolet rays with a heat resistant temperature of 150 ° C. or higher are used. A curable resin may be used, and examples thereof include the same as those described in the first embodiment. In this case, since the curing time is shortened as compared with the case where the thermosetting resin is used, the productivity can be further improved.

【００８７】第２の透明基板としてはカバーガラスを用
いたが、フィルム基板を用いても良く、実施形態１に記
載した物と同様のものが挙げられる。Although the cover glass was used as the second transparent substrate, a film substrate may be used, and the same ones as those described in the first embodiment may be used.

【００８８】（実施形態３）図６に、本発明の一実施形
態である液晶表示素子を用いた液晶プロジェクターの光
学系を示す。この液晶プロジェクターの光学系６０９
は、メタルハライドランプ等の白色光源６０１、ＵＶ−
ＩＲフィルター６０２、光源６０１からの光を赤、緑、
青の三原色に分解するためのダイクロイックミラー群６
０３、反射鏡６０４、マイクロレンズ基板を備え、映像
信号に基づいて各原色画像を表示するための液晶表示素
子６０５、液晶表示素子からの出射光を投影レンズ６０
８へ集光するためのフィールドレンズ６０６、各液晶表
示素子６０５を透過した原色光を合成するためのダイク
ロイックミラー群６０７、映像をスクリーン（図示せ
ず）上に拡大投影するための投影レンズ６０８から構成
されている。(Third Embodiment) FIG. 6 shows an optical system of a liquid crystal projector using a liquid crystal display element according to an embodiment of the present invention. Optical system 609 of this liquid crystal projector
Is a white light source 601 such as a metal halide lamp, UV-
The light from the IR filter 602 and the light source 601 is red, green,
Dichroic mirror group 6 for separating into the three primary colors of blue
03, a reflecting mirror 604, and a microlens substrate, a liquid crystal display element 605 for displaying each primary color image based on a video signal, and a projection lens 60 for emitting light from the liquid crystal display element.
From the field lens 606 for condensing to 8 and the dichroic mirror group 607 for synthesizing the primary color light transmitted through each liquid crystal display element 605, the projection lens 608 for enlarging and projecting an image on a screen (not shown) It is configured.

【００８９】この液晶プロジェクターは、実施形態１ま
たは２のマイクロレンズ基板が液晶表示素子の対向基板
として用いられ、絵素サイズを縮小して高精細化した液
晶表示素子において、それに応じた焦点距離の短いマイ
クロレンズが絵素毎に設けられている。その結果、従来
の高精細な液晶表示素子においてはブラックマトリクス
で遮られていた光が、マイクロレンズによって無駄無く
絵素開口部に集光され、明るい表示を得る事ができた。In this liquid crystal projector, the microlens substrate according to the first or second embodiment is used as a counter substrate of a liquid crystal display element, and in a liquid crystal display element having a high definition by reducing a pixel size, a focal length corresponding to it is obtained. A short microlens is provided for each picture element. As a result, the light blocked by the black matrix in the conventional high-definition liquid crystal display element was condensed by the microlens to the pixel opening without waste, and a bright display could be obtained.

【００９０】[0090]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のマイクロレンズ基板によれば、シール樹脂が接着性と
耐熱性とを担い、透明樹脂が耐熱性と所望の屈折率特性
とを担うことができるので、１つの樹脂では困難であっ
た接着性、耐熱性および屈折率特性を兼ね備えることが
できる。これにより、耐熱性向上、マイクロレンズとカ
バーガラスとの剥がれ防止およびマイクロレンズの短焦
点化が同時に実現できる。よって、製造面では歩留まり
を向上させる事ができ、光学特性面では液晶表示素子の
実効開口率を向上させることができる。As is apparent from the above description, according to the microlens substrate of the present invention, the sealing resin plays a role of adhesiveness and heat resistance, and the transparent resin plays a role of heat resistance and desired refractive index characteristics. Therefore, it is possible to combine the adhesiveness, heat resistance, and refractive index characteristics that were difficult with one resin. Thereby, improvement of heat resistance, prevention of peeling between the microlens and the cover glass, and shortening of the focal length of the microlens can be realized at the same time. Therefore, the yield can be improved in terms of manufacturing, and the effective aperture ratio of the liquid crystal display element can be improved in terms of optical characteristics.

【００９１】また、基板外に樹脂がはみ出して基板や製
造装置に付着することがないので工程中の汚染を防止で
き、付着物を取り除く工程が不要であるので工程を簡略
化できる。Further, since the resin does not stick out to the outside of the substrate and adhere to the substrate or the manufacturing apparatus, contamination during the process can be prevented, and the process of removing the adhered substance is unnecessary, so that the process can be simplified.

【００９２】さらに、単に透明液体を注入する方法とは
異なり、透明樹脂が硬化して基板に接着するので、マイ
クロレンズが剥がれることなくマイクロレンズ基板を分
断できる。大面積基板を用いて多数枚取り用基板を作製
しても、分断時にマイクロレンズが剥がれないので、生
産性を高めることができる。Further, unlike the method of simply injecting the transparent liquid, the transparent resin is cured and adheres to the substrate, so that the microlens substrate can be divided without peeling off the microlens. Even if a large number of substrates are prepared using a large-area substrate, the microlenses do not peel off at the time of division, so that productivity can be improved.

【００９３】シール樹脂をマイクロレンズの各ブロック
の周縁部に設けることにより、さらに耐熱性を向上し、
熱膨張に起因するカバーガラスとマイクロレンズとの剥
がれも防ぐことができる。By providing the seal resin on the peripheral portion of each block of the microlens, the heat resistance is further improved,
It is also possible to prevent peeling between the cover glass and the microlens due to thermal expansion.

【００９４】凸レンズ形状のマイクロレンズは、第１の
透明基板上に設けられたフォトポリマーをパターン化し
て加熱することにより、容易に大型基板上に作製するこ
とができる。よって、生産性に優れた低価格のマイクロ
レンズ基板を供給することができる。The convex lens-shaped microlens can be easily produced on a large-sized substrate by patterning and heating the photopolymer provided on the first transparent substrate. Therefore, a low-cost microlens substrate with excellent productivity can be supplied.

【００９５】また、第１の透明基板上に凸状型を作製
し、エッチングにより第１の透明基板表面に凸状型を形
状転写することにより、透明度が高い凸レンズ形状のマ
イクロレンズが大型基板上に容易に作製することができ
る。よって、高品質で生産性の高いマイクロレンズ基板
を供給することができる。Also, by forming a convex mold on the first transparent substrate and transferring the shape of the convex mold to the surface of the first transparent substrate by etching, a convex lens-shaped microlens having high transparency is formed on a large substrate. It can be easily manufactured. Therefore, it is possible to supply a microlens substrate having high quality and high productivity.

【００９６】さらに、第１の透明基板上に設けられた紫
外線硬化型樹脂に凹状型を押し当て、紫外線照射するこ
とにより透明性の高い樹脂からなる凸レンズ形状のマイ
クロレンズを簡略化されたプロセスで作製することがで
きる。よって、高品質で生産性の高いマイクロレンズ基
板を供給することができる。Furthermore, a convex lens-shaped microlens made of a highly transparent resin is formed by a simplified process by pressing a concave mold against the ultraviolet curable resin provided on the first transparent substrate and irradiating it with ultraviolet rays. Can be made. Therefore, it is possible to supply a microlens substrate having high quality and high productivity.

【００９７】凹レンズ形状のマイクロレンズは、第１の
透明基板表面を半球の凹型状にエッチングすることによ
り作製される。ガラス基板を加工することにより、透過
率が高いマイクロレンズを簡略化されたプロセスで作製
することができるので、高品質で生産性の高いマイクロ
レンズ基板を供給することができる。The concave lens-shaped microlens is produced by etching the surface of the first transparent substrate into a hemispherical concave shape. By processing a glass substrate, a microlens having high transmittance can be manufactured by a simplified process, so that a microlens substrate having high quality and high productivity can be supplied.

【００９８】また、第１の透明基板上に設けられた紫外
線硬化型樹脂に凸状型を押し当て、紫外線照射すること
により透明性の高い樹脂からなる凹レンズ形状のマイク
ロレンズを簡略化されたプロセスで作製することができ
る。よって、高品質で生産性の高いマイクロレンズ基板
を供給することができる。Further, a process in which a concave lens-shaped microlens made of a highly transparent resin is simplified by pressing a convex mold against the ultraviolet curable resin provided on the first transparent substrate and irradiating it with ultraviolet rays Can be made with. Therefore, it is possible to supply a microlens substrate having high quality and high productivity.

【００９９】真空注入法により透明樹脂を注入すると、
樹脂内部に気泡が生じないので、マイクロレンズ基板の
歩留まりを向上させることができる。また、基板表面に
樹脂が付着しないので、液晶表示素子や製造装置の汚染
が生じず、量産性を大幅に向上させることができる。When transparent resin is injected by the vacuum injection method,
Since no bubbles are generated inside the resin, the yield of the microlens substrate can be improved. Further, since the resin does not adhere to the surface of the substrate, the liquid crystal display element and the manufacturing apparatus are not contaminated, and the mass productivity can be greatly improved.

【０１００】耐熱性および接着性に優れた熱硬化性樹脂
または耐熱温度１５０℃以上の紫外線硬化型樹脂を接着
のためのシール樹脂として用い、また、優れた透明性を
有し、耐熱性にも優れた耐熱温度１５０℃（好ましくは
１８０℃）以上の紫外線硬化型樹脂をマイクロレンズの
レベリングのための透明樹脂として用いると、耐熱性が
向上し、熱膨張に起因するカバーガラスとマイクロレン
ズとの剥がれに対しても抵抗力が増す。よって、高温条
件でマイクロレンズ基板を加工することができ、高品質
および高信頼性を有するマイクロレンズ基板を作製する
ことができる。A thermosetting resin excellent in heat resistance and adhesiveness or an ultraviolet curable resin having a heat resistant temperature of 150 ° C. or higher is used as a seal resin for adhesion, and also has excellent transparency and heat resistance. When an ultraviolet curable resin having an excellent heat resistance temperature of 150 ° C. (preferably 180 ° C.) or higher is used as a transparent resin for leveling of the microlens, the heat resistance is improved and the cover glass and the microlens caused by thermal expansion are Resistance to peeling increases. Therefore, the microlens substrate can be processed under high temperature conditions, and a microlens substrate having high quality and high reliability can be manufactured.

【０１０１】また、本発明の液晶表示素子によれば、高
精細な液晶表示素子の内部に焦点距離の短いマイクロレ
ンズを形成することができ、液晶表示素子の実効開口率
を向上することができる。よって、表示画面が明るく、
表示画像が高品質な液晶表示素子を供給することができ
る。Further, according to the liquid crystal display element of the present invention, a microlens having a short focal length can be formed inside a high definition liquid crystal display element, and the effective aperture ratio of the liquid crystal display element can be improved. . Therefore, the display screen is bright,
It is possible to supply a liquid crystal display device having a high quality display image.

【０１０２】さらに、本発明の画像投影型表示装置によ
れば、実効開口率が高く、高精細な液晶表示素子を画像
表示装置に組み込むことができ、表示画面が明るく、表
示画像が高品質な画像投影型表示装置を供給することが
できる。Further, according to the image projection type display device of the present invention, a high-definition liquid crystal display element having a high effective aperture ratio can be incorporated into the image display device, the display screen is bright, and the display image is of high quality. An image projection display device can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】実施形態１の液晶表示素子を示す断面図であ
る。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display element of Embodiment 1.

【図２】（ａ）〜（ｅ）は、実施形態１のマイクロレン
ズ基板の製造工程を示す図である。2A to 2E are views showing a manufacturing process of the microlens substrate of the first embodiment.

【図３】実施形態２の液晶表示素子を示す断面図であ
る。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display element of Embodiment 2.

【図４】（ａ）〜（ｅ）は、実施形態２のマイクロレン
ズ基板の製造工程を示す図である。4A to 4E are views showing a manufacturing process of the microlens substrate of the second embodiment.

【図５】実施形態２のマイクロレンズ基板におけるマイ
クロレンズアレイの製造工程を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a manufacturing process of a microlens array on the microlens substrate of the second embodiment.

【図６】実施形態３の画像投影型表示装置における光学
系を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an optical system in an image projection display device according to a third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１０１、３０１ 第１の透明基板 １０２、３０２ マイクロレンズアレイ １０３、３０３ シール樹脂 １０４、３０４ 注入口 １０５、３０５ 第２の透明基板 １０６、３０６ 貼り合わせ基板 １０７、３０７ 透明樹脂 １０８、３０８ 空槽 １０９、３０９ マイクロレンズ基板 １１１、３１１ ブラックマトリクス １１２、３１２ 透明電極 １１３、３１３ 配向膜 １１４、３１４ シール材 １１５、３１５ 液晶層 １１６、３１６ 透明基板 ４０１ 透明性基板 ４０２ フォトレジスト ４０３ レンズパターン ４０４ 開口部 ４０５ 半球状の凹型部 ６０１ 白色光源 ６０２ ＵＶ−ＩＲフィルター ６０３、６０７ ダイクロイックミラー群 ６０４ 反射鏡 ６０５ 液晶表示素子 ６０６ フィールドレンズ ６０８ 投影レンズ ６０９ 液晶プロジェクターの光学系 101, 301 First transparent substrate 102, 302 Microlens array 103, 303 Seal resin 104, 304 Injection port 105, 305 Second transparent substrate 106, 306 Bonded substrate 107, 307 Transparent resin 108, 308 Empty tank 109, 309 Microlens substrate 111, 311 Black matrix 112, 312 Transparent electrode 113, 313 Alignment film 114, 314 Sealing material 115, 315 Liquid crystal layer 116, 316 Transparent substrate 401 Transparent substrate 402 Photoresist 403 Lens pattern 404 Opening 405 Hemisphere Concave part 601 White light source 602 UV-IR filter 603, 607 Dichroic mirror group 604 Reflecting mirror 605 Liquid crystal display element 606 Field lens 608 Projection lens 609 Liquid crystal projector Optical system

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 表面に複数のマイクロレンズが形成され
た第１の透明基板と、該第１の透明基板のマイクロレン
ズ形成側表面と対向するように配置された第２の透明基
板とが、両基板の周縁部をシール樹脂により貼り合わせ
られ、該シール樹脂に設けられた注入口から、該マイク
ロレンズとは異なる屈折率を有する透明樹脂が両基板間
に注入されて硬化されているマイクロレンズ基板。1. A first transparent substrate having a plurality of microlenses formed on its surface, and a second transparent substrate arranged so as to face the surface of the first transparent substrate on which microlenses are formed, A microlens in which the peripheral portions of both substrates are bonded with a sealing resin, and a transparent resin having a refractive index different from that of the microlens is injected between both substrates through an injection port provided in the sealing resin and cured. substrate. 【請求項２】 前記マイクロレンズが凸レンズ形状であ
り、前記透明樹脂が該マイクロレンズよりも低い屈折率
を有する請求項１に記載のマイクロレンズ基板。2. The microlens substrate according to claim 1, wherein the microlens has a convex lens shape, and the transparent resin has a refractive index lower than that of the microlens. 【請求項３】 前記マイクロレンズが凹レンズ形状であ
り、前記透明樹脂が該マイクロレンズよりも高い屈折率
を有する請求項１に記載のマイクロレンズ基板。3. The microlens substrate according to claim 1, wherein the microlens has a concave lens shape, and the transparent resin has a higher refractive index than the microlens. 【請求項４】 前記マイクロレンズが複数のブロックに
分かれて形成され、前記シール樹脂が各ブロックの周縁
部にも設けられ、前記第１の透明基板のブロック周縁部
と第２の透明基板の対向する部分とが貼り合わせられて
いる請求項１に記載のマイクロレンズ基板。4. The microlens is divided into a plurality of blocks, and the sealing resin is also provided on the periphery of each block, and the block periphery of the first transparent substrate faces the second transparent substrate. The microlens substrate according to claim 1, wherein a portion to be formed is attached. 【請求項５】 前記第１の透明基板上に設けられたフォ
トポリマーをパターン化して加熱することにより、凸レ
ンズ形状のマイクロレンズが形成されている請求項１に
記載のマイクロレンズ基板。5. The microlens substrate according to claim 1, wherein a convex lens-shaped microlens is formed by patterning and heating the photopolymer provided on the first transparent substrate. 【請求項６】 前記第１の透明基板上に設けられたフォ
トポリマーをパターン化して加熱することにより凸レン
ズ状型を作製し、該第１の透明基板表面をエッチングし
て表面に該凸レンズ状型を形状転写することにより、凸
レンズ形状のマイクロレンズが形成されている請求項１
に記載のマイクロレンズ基板。6. A convex lens-shaped mold is produced by patterning and heating a photopolymer provided on the first transparent substrate, and the surface of the first transparent substrate is etched to form the convex lens-shaped mold on the surface. 2. A convex lens-shaped microlens is formed by shape-transferring
The microlens substrate according to. 【請求項７】 前記第１の透明基板上に設けられた紫外
線硬化型樹脂に、凹状型を押し当てて紫外線照射するこ
とにより、凸レンズ形状のマイクロレンズが形成されて
いる請求項１に記載のマイクロレンズ基板。7. The convex-lens-shaped microlens is formed by pressing a concave mold against an ultraviolet-curable resin provided on the first transparent substrate and irradiating it with ultraviolet light. Microlens substrate. 【請求項８】 前記第１の透明基板表面を半球の凹型状
にエッチングすることにより、凹レンズ形状のマイクロ
レンズが形成されている請求項１に記載のマイクロレン
ズ基板。8. The microlens substrate according to claim 1, wherein concave lens-shaped microlenses are formed by etching the surface of the first transparent substrate into a hemispherical concave shape. 【請求項９】 前記第１の透明基板上に設けられた紫外
線硬化型樹脂に、凸状型を押し当てて紫外線照射するこ
とにより、凹レンズ形状のマイクロレンズが形成されて
いる請求項１に記載のマイクロレンズ基板。9. The concave-lens-shaped microlens is formed by pressing a convex mold against the ultraviolet-curable resin provided on the first transparent substrate and irradiating it with ultraviolet rays. Microlens substrate. 【請求項１０】 前記第１の透明基板と第２の透明との
間を真空状態にして、シール部に設けられた注入口を透
明樹脂の中に浸した後、基板外部を大気圧にすることに
より、前記透明樹脂が両基板間に注入されている請求項
１に記載のマイクロレンズ基板。10. A vacuum state is provided between the first transparent substrate and the second transparent substrate, the injection port provided in the seal portion is immersed in the transparent resin, and then the outside of the substrate is brought to atmospheric pressure. The microlens substrate according to claim 1, wherein the transparent resin is injected between the substrates. 【請求項１１】 前記シール樹脂として熱硬化型樹脂ま
たは耐熱温度１５０℃以上の紫外線硬化型樹脂が用いら
れ、前記透明樹脂として耐熱温度１５０℃以上の紫外線
硬化型樹脂が用いられている請求項１に記載のマイクロ
レンズ基板。11. A thermosetting resin or an ultraviolet curable resin having a heat resistant temperature of 150 ° C. or higher is used as the sealing resin, and an ultraviolet curable resin having a heat resistant temperature of 150 ° C. or higher is used as the transparent resin. The microlens substrate according to. 【請求項１２】 請求項１乃至１２のいずれか１つに記
載のマイクロレンズ基板における第２の透明基板側表面
に、少なくとも透明電極および配向膜が形成されて対向
基板が構成され、第３の透明基板上にマトリクス状に複
数の絵素電極およびスイッチング素子が形成され、該絵
素電極およびスイッチング素子の近傍を通ってバス配線
が形成されたアクティブマトリクス基板と該対向基板と
が、電極形成側表面を対向させて配設され、両基板間に
液晶層が挟持されている液晶表示素子。12. The counter substrate is formed by forming at least a transparent electrode and an alignment film on the second transparent substrate side surface of the microlens substrate according to claim 1, and forms a counter substrate. A plurality of picture element electrodes and switching elements are formed in a matrix on a transparent substrate, and an active matrix substrate on which bus wiring is formed through the vicinity of the picture element electrodes and the switching elements and the counter substrate are on the electrode formation side. A liquid crystal display device in which the surfaces are arranged so as to face each other and a liquid crystal layer is sandwiched between both substrates. 【請求項１３】 請求項１２に記載の液晶表示素子と、
液晶表示素子に光を供給する光源と、液晶表示素子から
の出射光を投影する投影レンズとを少なくとも備えた画
像投影型表示装置。13. A liquid crystal display device according to claim 12,
An image projection display device comprising at least a light source for supplying light to a liquid crystal display element, and a projection lens for projecting light emitted from the liquid crystal display element.
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0930523A1 (en) * 1998-01-19 1999-07-21 Matsushita Electronics Corporation Liquid crystal display device
EP0965862A2 (en) * 1998-06-17 1999-12-22 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Planar microlens array and method of manufacturing same
US6137555A (en) * 1997-03-26 2000-10-24 Matsushita Electronics Corporation Liquid crystal panel with uniform adhesive layer and method of manufacturing
US6295107B1 (en) * 1997-11-07 2001-09-25 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal display with shielding layer for passing parallel rays of light into micro-lens array
JP2001305518A (en) * 2000-04-19 2001-10-31 Toshiba Corp Display device
US6628353B2 (en) 1998-11-10 2003-09-30 Kabushiki Kaisha Toshiba Flat display device having a display panel including a plurality pixels and a microlens substrate including a plurality of microlens
US7715104B2 (en) 2004-03-26 2010-05-11 Sony Corporation Micro-lens array substrate and production method therefor
US7999987B2 (en) 2007-12-03 2011-08-16 Seiko Epson Corporation Electro-optical display device and electronic device
CN102736315A (en) * 2012-06-29 2012-10-17 京东方科技集团股份有限公司 Color film substrate and display apparatus
JP2014071201A (en) * 2012-09-28 2014-04-21 Fujifilm Corp Cellulose acylate film, polarizing plate, and liquid crystal display device
JP2014081410A (en) * 2012-09-28 2014-05-08 Fujifilm Corp Cellulose acylate film, polarizing plate and liquid crystal display device
WO2018219088A1 (en) * 2017-06-01 2018-12-06 京东方科技集团股份有限公司 Color film substrate and display panel

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6137555A (en) * 1997-03-26 2000-10-24 Matsushita Electronics Corporation Liquid crystal panel with uniform adhesive layer and method of manufacturing
US6295107B1 (en) * 1997-11-07 2001-09-25 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal display with shielding layer for passing parallel rays of light into micro-lens array
EP0930523A1 (en) * 1998-01-19 1999-07-21 Matsushita Electronics Corporation Liquid crystal display device
EP0965862A2 (en) * 1998-06-17 1999-12-22 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Planar microlens array and method of manufacturing same
JP2000002803A (en) * 1998-06-17 2000-01-07 Nippon Sheet Glass Co Ltd Flat plate type micro lens array
EP0965862A3 (en) * 1998-06-17 2001-12-12 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Planar microlens array and method of manufacturing same
US6628353B2 (en) 1998-11-10 2003-09-30 Kabushiki Kaisha Toshiba Flat display device having a display panel including a plurality pixels and a microlens substrate including a plurality of microlens
JP2001305518A (en) * 2000-04-19 2001-10-31 Toshiba Corp Display device
US7715104B2 (en) 2004-03-26 2010-05-11 Sony Corporation Micro-lens array substrate and production method therefor
US7978413B2 (en) 2004-03-26 2011-07-12 Sony Corporation Micro-lens array substrate and method for manufacturing thereof
US7999987B2 (en) 2007-12-03 2011-08-16 Seiko Epson Corporation Electro-optical display device and electronic device
CN102736315A (en) * 2012-06-29 2012-10-17 京东方科技集团股份有限公司 Color film substrate and display apparatus
WO2014000373A1 (en) * 2012-06-29 2014-01-03 京东方科技集团股份有限公司 Colour film substrate and display device
JP2014071201A (en) * 2012-09-28 2014-04-21 Fujifilm Corp Cellulose acylate film, polarizing plate, and liquid crystal display device
JP2014081410A (en) * 2012-09-28 2014-05-08 Fujifilm Corp Cellulose acylate film, polarizing plate and liquid crystal display device
WO2018219088A1 (en) * 2017-06-01 2018-12-06 京东方科技集团股份有限公司 Color film substrate and display panel
US10732451B2 (en) 2017-06-01 2020-08-04 Hefei Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Color filter substrate and display panel

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