JPH09239813A - Apparatus and method for producing film - Google Patents

Apparatus and method for producing film

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Publication number
JPH09239813A
JPH09239813A JP8053278A JP5327896A JPH09239813A JP H09239813 A JPH09239813 A JP H09239813A JP 8053278 A JP8053278 A JP 8053278A JP 5327896 A JP5327896 A JP 5327896A JP H09239813 A JPH09239813 A JP H09239813A
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JP
Japan
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film
roll
atom
drum
chromium
Prior art date
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Pending
Application number
JP8053278A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mika Aeba
美加 饗場
Minoru Yoshida
実 吉田
Kenji Tsunashima
研二 綱島
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To stably produce an excellent film free from a pit like surface defect for a long time in such a state that an oligomer present in a polymer is not bonded to the surface of a drum or roll during the production of the film. SOLUTION: A film producing drum or roll having a chromium plating film containing a silicon atom so that a silicon atom/chromium atom ratio becomes 10<-4> or more as a strength ratio of SIMS with respect to a chromium atom provided in the outer peripheral surface thereof is used in a film producing apparatus. Otherise, a film producing drum or roll having a chromium plating film containing a carbon atom so as to become carbon atom > oxygen atom as strength of SIMS with respect to an oxygen atom provided to the outer peripheral surface thereof is used.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フィルムの製造方
法および製造装置に関し、さらに詳しくは、ポリマー中
に存在するオリゴマーの付着およびそれに起因するフィ
ルム表面への傷などによる欠点が発生しない優れたフィ
ルムを製造する方法およびその製造装置に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film manufacturing method and a film manufacturing apparatus, and more particularly, to an excellent film which does not suffer from defects such as adhesion of oligomers existing in a polymer and scratches on the film surface caused by the adhesion. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a metal and a manufacturing apparatus thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、溶融ポリマーを口金より押出
し、その後、延伸してフィルムを成形する際、フィルム
の良好な平面性を出すために口金より押出された溶融ポ
リマーをキャスティングドラムと呼ばれる冷却ドラムで
冷却し、その後フィルムをロールに接触走行させながら
所定の温度まで予熱し、延伸、冷却する方法が工業的な
方法として使用されており、このようなキャスティング
ドラムやロールに金属表面を硬質クロムメッキで皮膜し
たものを用いていた。しかしながら従来の方法では、ポ
リマー中に存在するオリゴマー(低重合体)がフィルム
製造中に表面に析出し、前述したキャスティングドラム
やロールの表面に付着し、この付着物がフィルム上に転
写したり、この付着物による擦り傷や堀り傷が発生し、
フィルムの表面欠点となり、磁気記録用途においては記
録の抜落ち、光学用途においては光学的欠点などになり
問題であった。従来より、これを回避するために試行錯
誤が加えられてきたが、根本的に良い方法はなく、キャ
スティングドラムやロールの表面を定期的に研磨、洗浄
して付着物を除去して生産するという方法が一般的であ
り、この方法では生産を長時間行うことが不可能であ
り、生産性が落ちるという欠点があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a molten polymer is extruded from a die and then stretched to form a film, the molten polymer extruded from the die is called a casting drum in order to obtain good flatness of the film. It is used as an industrial method in which the film is preheated to a predetermined temperature while running in contact with a roll, stretched and cooled, and the metal surface is hard chrome plated on such a casting drum or roll. I used the one coated with. However, in the conventional method, the oligomer (low polymer) present in the polymer is deposited on the surface during film production, adheres to the surface of the casting drum or roll described above, and the adhered matter is transferred onto the film, Scratches and digging scratches will occur due to this deposit,
This is a surface defect of the film, which is a problem in that a recording dropout occurs in magnetic recording applications, and an optical defect occurs in optical applications. Conventionally, trial and error has been added to avoid this, but there is no fundamentally good method, and it is said that the surface of the casting drum or roll is regularly polished and washed to remove deposits and produce. The method is general, and it is impossible to carry out production for a long time by this method, and there is a drawback that productivity is lowered.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
した従来技術の問題を解決することにあり、具体的に
は、ポリマー中に存在するオリゴマー(低重合体)がフ
ィルム製造中にキャスティングドラムやロールの表面に
付着しないような状態で長時間フィルムの製造を可能に
するフィルムの製造方法およびその製造装置を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art. Specifically, the oligomer (low polymer) present in the polymer is cast during film production. It is an object of the present invention to provide a film manufacturing method and a film manufacturing apparatus capable of manufacturing a film for a long time without being attached to the surface of a drum or a roll.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
を解決するにために鋭意検討した結果、フィルムの製造
中にフィルムと接するドラムまたはロールの外周面を特
定材質のものにすれば、かかる問題点を解決し、上記し
たような表面欠点のないフィルムを製造できることを見
出し、本発明に到達したものである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for solving the above-mentioned problems, the present inventors have found that if the outer peripheral surface of a drum or roll contacting the film during the production of the film is made of a specific material. The present invention has been accomplished by solving the above problems and finding that a film having no surface defects as described above can be produced.

【0005】すなわち、外周面にクロム原子に対してケ
イ素原子をSIMSの強度比としてケイ素原子/クロム
原子が10−4 以上含有するクロムメッキ皮膜を有する
フィルム製造用ドラムまたはロールを用いてなることを
特徴とするフィルム製造装置であり、または、外周面に
酸素原子に対して炭素原子がSIMSの強度として炭素
原子>酸素原子となるように含有するクロムメッキ皮膜
を有するフィルム製造用ドラムまたはロールを用いてな
ることを特徴とするフィルム製造装置であり、さらに
は、本発明のフィルムの製造方法は、溶融ポリマーを口
金より押出し、その後、延伸してフィルムを成形するに
際して、フィルムに接するドラムまたはロールの少なく
とも1本以上にクロム原子に対してケイ素原子をSIM
Sの強度比としてケイ素原子/クロム原子が10−4
上含有するクロムメッキ皮膜を外周面に有するフィルム
製造用ドラムまたはロールを用いてなることを特徴とす
るフィルムの製造方法、または、溶融ポリマーを口金よ
り押出し、その後、延伸しててフィルムを成形するに際
して、フィルムに接するドラムまたはロールの少なくと
も1本以上に酸素原子に対して炭素原子がSIMSの強
度として炭素原子>酸素原子となるように含有するクロ
ムメッキ皮膜を外周面に有してなるフィルム製造用ドラ
ムまたはロールを用いてなることを特徴とするフィルム
の製造方法である。
That is, a drum or roll for producing a film having a chromium plating film containing silicon atoms / chromium atoms in a SIMS intensity ratio of silicon atoms / chromium atoms of 10 −4 or more on the outer peripheral surface is used. A film production apparatus characterized by using a drum or roll for film production having a chromium plating film on the outer peripheral surface so that carbon atoms with respect to oxygen atoms are contained in the SIMS strength as carbon atoms> oxygen atoms A film production apparatus characterized in that, further, the method for producing a film of the present invention, a molten polymer is extruded from a spinneret, then, when forming the film by stretching, of the drum or roll in contact with the film. Simulate at least one silicon atom with respect to chromium atom
A method for producing a film, which comprises using a drum or roll for producing a film having a chromium plating film containing 10-4 or more of silicon atoms / chromium atoms as the strength ratio of S on the outer peripheral surface, or a molten polymer. When extruded from a die and then stretched to form a film, at least one drum or roll in contact with the film contains a carbon atom with respect to an oxygen atom such that carbon atom> oxygen atom as SIMS strength. The method for producing a film is characterized by using a film-producing drum or roll having a chromium plating film on the outer peripheral surface thereof.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明における溶融ポリマーと
は、加熱によって塑性流動をとる熱可塑性樹脂をその融
点以上に加熱して溶融状態にしたものを意味し、このよ
うな熱可塑性樹脂は特に限定はされないが、代表的なも
のとして、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィ
ン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアクリロニ
トリル、ポリビニルアルコール、ポリフェニレンスルフ
ィド、ポリアセタール、ポリエーテルおよびこれらの共
重合体などが挙げられる。また、これらの熱可塑性樹脂
は2種類以上ブレンドしても構わない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The molten polymer in the present invention means a thermoplastic resin which is plastically fluidized by heating to a temperature above its melting point to bring it into a molten state, and such a thermoplastic resin is not particularly limited. Typical examples thereof include polyesters, polyamides, polyolefins, polystyrenes, polycarbonates, polyacrylonitriles, polyvinyl alcohols, polyphenylene sulfides, polyacetals, polyethers, and copolymers thereof. Further, two or more kinds of these thermoplastic resins may be blended.

【0007】なかでも、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リオレフィンおよびこれらの共重合体が好ましく、さら
には、ポリエステルおよびその共重合体が好ましい。
Of these, polyesters, polyamides, polyolefins and their copolymers are preferable, and polyesters and their copolymers are more preferable.

【0008】ここでいうポリエステルとは、芳香族ジカ
ルボン酸、脂肪族ジカルボン酸または脂環族ジカルボン
酸とジオールを主たる構成成分とするポリエステルであ
る。芳香族ジカルボン酸成分として例えば、テレフタル
酸、イソフタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、
1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレン
ジカルボン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、
4,4’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4’
−ジフェニルスルホンジカルボン酸等を挙げることがで
き、中でも好ましくはテレフタル酸、イソフタル酸、
2,6−ナフタレンジカルボン酸等を挙げることができ
る。脂肪族ジカルボン酸成分としては例えば、アジピン
酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を挙
げることができる。また、脂環族ジカルボン酸成分とし
ては例えば、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸など
を挙げることができる。これらの酸成分は一種類のみ用
いてもよく、2種類以上併用してもよく、さらには、ヒ
ドロキシ安息香酸等のオキシ酸などを一部共重合しても
よい。また、ジオール成分としては例えば、エチレング
リコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、1,3−ブタン
ジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタン
ジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2−シクロ
ヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタ
ノール、1,4−シクロヘキサンンジメタノール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアル
キレングリコール、2,2’−ビス(4’−β−ヒドロ
キシエトキシフェニル)プロパン等を挙げることができ
る。中でもエチレングリコールが好ましく用いられる。
これらのジオール成分は1種類のみ用いてもよく、2種
類以上併用してもよい。
The term "polyester" as used herein refers to a polyester containing an aromatic dicarboxylic acid, an aliphatic dicarboxylic acid or an alicyclic dicarboxylic acid and a diol as main constituent components. As the aromatic dicarboxylic acid component, for example, terephthalic acid, isophthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid,
1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid,
4,4′-diphenyl ether dicarboxylic acid, 4,4 ′
-Diphenyl sulfone dicarboxylic acid and the like can be mentioned, among which terephthalic acid, isophthalic acid,
2,6-naphthalenedicarboxylic acid and the like can be mentioned. Examples of the aliphatic dicarboxylic acid component include adipic acid, suberic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid and the like. Moreover, as an alicyclic dicarboxylic acid component, 1,4-cyclohexane dicarboxylic acid etc. can be mentioned, for example. One of these acid components may be used alone, two or more of them may be used in combination, and an oxy acid such as hydroxybenzoic acid may be partially copolymerized. Examples of the diol component include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, neopentyl glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyalkylene glycol, 2,2'-bis (4 ' Examples include -β-hydroxyethoxyphenyl) propane and the like. Among them, ethylene glycol is preferably used.
These diol components may be used alone or in combination of two or more.

【0009】さらに具体的に好ましいポリエステルとし
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−
2,6−ナフタレートおよびこれらの共重合体を挙げる
ことができる。また、これらのポリエステルは他のポリ
マーをブレンドしても構わない。
More specifically preferred polyesters are polyethylene terephthalate and polyethylene-
Mention may be made of 2,6-naphthalate and copolymers thereof. Further, these polyesters may be blended with other polymers.

【0010】また、かかるポリエステルには、必要に応
じて、難燃剤、熱安定剤、減粘剤、酸化防止剤、紫外線
吸収剤、帯電防止剤、顔料、染料、脂肪酸エステル、ワ
ックス等の有機滑剤あるいはポリシロキサンなどの消泡
剤等を配合することができる。
In addition, such polyesters may optionally contain organic lubricants such as flame retardants, heat stabilizers, viscosity reducing agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, pigments, dyes, fatty acid esters, waxes and the like. Alternatively, an antifoaming agent such as polysiloxane can be blended.

【0011】さらには、用途に応じて易滑性を付与する
ために、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カ
ルシウム、カオリン、タルク、湿式シリカ、乾式シリ
カ、リン酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコ
ニウムなどの無機粒子、アクリル酸類、スチレン、ジビ
ニルベンゼン等を構成成分とする有機粒子、ポリエステ
ル合成時に触媒を利用した内部粒子などの粒子を配合す
ることもできる。
Further, in order to impart slipperiness depending on the use, for example, clay, mica, titanium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, wet silica, dry silica, calcium phosphate, aluminum oxide, zirconium oxide, etc. Particles such as inorganic particles, organic particles having acrylic acid, styrene, divinylbenzene or the like as a constituent component, and internal particles using a catalyst during polyester synthesis may be blended.

【0012】また、本発明の効果をより良好に得るため
には、該ポリエステル中のカルボキシル末端基濃度は、
15等量/トン以上65等量/トンの範囲であることが
好ましい。
In order to obtain the effects of the present invention better, the concentration of carboxyl end groups in the polyester is
It is preferably in the range of 15 equivalents / ton or more and 65 equivalents / ton or more.

【0013】本発明では、溶融ポリマーを口金より押出
し、その後、延伸してフィルムを成形する際、フィルム
の表面性を出すために口金より押出された溶融ポリマー
をキャスティングドラムと呼ばれる冷却ドラムで冷却
し、その後フィルムをロールに接触走行させながら所定
の温度まで予熱し、延伸、冷却する方法によりフィルム
を製造するが、この際、フィルムに接するドラムまたは
ロールの少なくとも1本以上にクロム原子に対してケイ
素原子をSIMSの強度比としてケイ素原子/クロム原
子が10−4 以上含有するクロムメッキ皮膜を外周面に
有してなるドラムまたはロール、または、少なくとも1
本以上に酸素原子に対して炭素原子がSIMSの強度と
して炭素原子>酸素原子となるように含有するクロムメ
ッキ皮膜を外周面に有してなるフィルム製造用ドラムま
たはロールであることが必要である。ここでいう、クロ
ム原子に対してケイ素原子をSIMSの強度比としてケ
イ素原子/クロム原子の好ましい範囲は、5×10−4
以上かつ10−1 以下である。また、ここでいう、炭素
原子と酸素原子のSIMSの絶対強度としては、各々1
0 cps以上1010cps以下であることが好まし
い。
In the present invention, when a molten polymer is extruded from a die and then stretched to form a film, the molten polymer extruded from the die is cooled by a cooling drum called a casting drum in order to obtain a surface property of the film. After that, the film is produced by a method of preheating to a predetermined temperature while running the film in contact with a roll, stretching, and cooling. At this time, at least one drum or roll in contact with the film contains silicon for chromium atoms relative to chromium atoms. A drum or roll having a chromium plating film containing silicon atoms / chromium atoms of 10 −4 or more in terms of SIMS intensity ratio on the outer peripheral surface, or at least 1
It is necessary that the film-forming drum or roll has a chromium plating film on the outer peripheral surface containing carbon atoms more than the number of oxygen atoms so that the SIMS strength is such that carbon atoms> oxygen atoms. . The preferable range of silicon atom / chromium atom is 5 × 10 −4 in terms of SIMS intensity ratio of silicon atom to chromium atom.
It is not less than 10 −1 . The absolute intensity of the SIMS of carbon atom and oxygen atom referred to here is 1 each.
It is preferably not less than 0 cps and not more than 10 10 cps.

【0014】これによってフィルムの製造中に溶融ポリ
マーと接するドラムまたはロールの表面にポリマー中の
触媒や添加物およびポリマーの劣化物が付着しないよう
な状態で長時間フィルムを製造することが可能である。
なお、ここでいうSIMSの強度比とは、特性の評価の
項に記載したように、SIMS(SecondaryI
on Mass Spectrometry)によって
分析した、表層より100nmから2000nmの深さ
の間の平均二次イオン強度比を意味する。
This makes it possible to produce a film for a long time in a state where the catalyst or additives in the polymer and the deterioration products of the polymer do not adhere to the surface of the drum or roll which comes into contact with the molten polymer during the production of the film. .
Note that the SIMS intensity ratio here means SIMS (Secondary I) as described in the section of characteristic evaluation.
On Mass Spectrometry) means an average secondary ion intensity ratio between a depth of 100 nm and 2000 nm from the surface layer.

【0015】また、該クロムメッキ皮膜部分の表面粗度
は、1S以下が好ましく、さらには0.6S以下、さら
には0.05〜0.4Sの範囲が好ましい。1Sという
のは、JIS−B−0601の表面粗さ測定に規定され
ているRmax 値が1μmであることである。なお、この
表面粗さは、市販の表面粗さ計を用いて、サンプル長さ
1〜10mm、カットオフ0.1〜1mmで測定でき
る。また、試料が大きすぎて表面粗さ計に乗らない場合
などは、試料と同じ処理をしたサンプル片を測定するこ
とでこれを代替することも可能である。
The surface roughness of the chromium plating film portion is preferably 1 S or less, more preferably 0.6 S or less, and further preferably in the range of 0.05 to 0.4 S. 1S means that the Rmax value specified in JIS-B-0601 surface roughness measurement is 1 μm. The surface roughness can be measured using a commercially available surface roughness meter with a sample length of 1 to 10 mm and a cutoff of 0.1 to 1 mm. In the case where the sample is too large to fit on the surface roughness meter or the like, it is also possible to substitute for this by measuring a sample piece treated in the same manner as the sample.

【0016】また、該クロムメッキ皮膜中には、クロム
原子に対して炭素原子を原子個数として0.5〜5%含
有するクロムメッキ皮膜を有していることが好ましい。
Further, it is preferable that the chromium plating film has a chromium plating film containing 0.5 to 5% of carbon atoms with respect to chromium atoms as the number of atoms.

【0017】本発明の表面皮膜は、例えば、クロム酸の
めっき浴にヘキサフルオロケイ酸などのケイ素化合物を
添加する方法で得られる。また、さらにこの際に蟻酸、
蓚酸などの有機物を添加しておくと、前記した炭素を含
有した状態になり好ましい。得られためっき皮膜は、そ
の後熱処理することで構造が変化する。結晶構造は、X
線回折で確認できるが、約380℃以下では明確な結晶
構造を示さない、いわゆるアモルファス状態であり、約
380℃を超えると結晶構造を示すようになる。本発明
では、この熱処理による構造変化は、アモルファスであ
っても結晶構造であってもも構わないが、使用上メッキ
表面に傷がはいらないためには、表面が硬いほうが耐久
性が良く、従って、表面硬度としては、ハードビッカー
ス硬度で1000以上の状態をとることが好ましい。
The surface film of the present invention can be obtained, for example, by a method of adding a silicon compound such as hexafluorosilicic acid to a chromic acid plating bath. In addition, formic acid,
It is preferable to add an organic substance such as oxalic acid, because the above-mentioned carbon is contained. The structure of the obtained plating film is changed by subsequent heat treatment. The crystal structure is X
Although it can be confirmed by line diffraction, it is in a so-called amorphous state in which a clear crystal structure is not shown at about 380 ° C. or lower, and a crystal structure comes to be displayed at higher than about 380 ° C. In the present invention, the structural change due to this heat treatment may be either an amorphous or a crystalline structure, but in order to prevent scratches on the plated surface during use, the harder the surface, the better the durability. The surface hardness is preferably a hard Vickers hardness of 1000 or more.

【0018】また、該めっき皮膜厚みは薄すぎると下地
金属の柔らかさの影響を受け、また、逆に皮膜厚みが厚
すぎると熱や応力ひずみでひび割れが生じやすく欠陥と
なりやすいために、皮膜厚みとしては、0.1μm以上
15μm以下が好ましく、さらには、0.5μm以上1
0μm以下が好ましい。
If the plating film thickness is too thin, it is affected by the softness of the underlying metal, and conversely, if the plating film thickness is too thick, cracks easily occur due to heat or stress strain, resulting in defects. Is preferably 0.1 μm or more and 15 μm or less, more preferably 0.5 μm or more and 1
It is preferably 0 μm or less.

【0019】なお、該めっき皮膜を乗せる下地の金属は
特に限定されないが、通常はSUSや炭素鋼を使用する
ことが好ましい。
The underlying metal on which the plating film is placed is not particularly limited, but usually SUS or carbon steel is preferably used.

【0020】さらに、本発明では、めっき皮膜を乗せた
ドラムまたはロールの表面に幅1〜20μm、かつ長さ
50μm以上のクラックが0〜100個/10mm2
範囲であることが好ましい。ここでいうクラックとは、
表面観察で見られるひび割れのことを意味し、倍率10
0〜200倍の顕微鏡で観察することができる。クラッ
クが1本の場合は、長さをそのまま測定できるがひどい
ものになると、このクラックがこの視野内に亀甲模様の
ように存在するものがある。このような場合は、交点間
距離をクラック1本の長さと定義する。クラックが存在
すると、フィルムが接した場合にクラックの部分でフィ
ルムが削れてドラムまたはロール表面上に積り、フィル
ム表面への転写、擦り傷、堀り傷になり好ましくない。
さらに、クラックを通して下地金属との接触し、反応し
て金属アンチモンの析出やオリゴマーの析出につなが
り、同じようにフィルム表面への欠点となり好ましくな
い。
Further, in the present invention, it is preferable that the surface of the drum or roll on which the plating film is placed has a width of 1 to 20 μm and a length of 50 μm or more in the range of 0 to 100 cracks / 10 mm 2 . The crack here is
It means a crack that can be seen on the surface, and the magnification is 10
It can be observed with a microscope of 0 to 200 times. When there is one crack, the length can be measured as it is, but when it becomes terrible, this crack exists in this visual field like a hexagonal pattern. In such a case, the distance between the intersections is defined as the length of one crack. The presence of cracks is not preferable because when the film comes into contact with the film, the film is scraped at the cracked portion and piles up on the surface of the drum or roll, resulting in transfer to the film surface, scratches, and dents.
Furthermore, it contacts with the base metal through the cracks and reacts with them to lead to the precipitation of metal antimony and the precipitation of oligomers, which similarly causes defects on the film surface, which is not preferable.

【0021】[0021]

【特性の測定方法】[Characteristics measurement method]

(1)SIMSのイオン強度比 独ATOMIKA社製二次イオン質量分析装置A−DI
DA3000を用い、一次イオンO2 をイオンエネルギ
ー12kev、一次イオン電流500nAで40×40
μm領域を表層より2500nmの深さまで金属分析
し、二次イオン強度Cr+ 、Si+ (cps)を求め、
表層より100nmから2000nmの間の各々の平均
をとり、その比(Si+ /Cr+ )を求めた。
(1) Ion intensity ratio of SIMS Secondary ion mass spectrometer A-DI manufactured by ATOMIKA, Germany
Using DA3000, the primary ion O 2 was 40 × 40 at an ion energy of 12 kev and a primary ion current of 500 nA.
Metal analysis is performed from the surface layer to a depth of 2500 nm in the μm region to obtain secondary ion intensities Cr + and Si + (cps),
The average (100 nm to 2000 nm) was taken from the surface layer, and the ratio (Si + / Cr + ) was determined.

【0022】また、同じ装置を用いて一次イオンCs+
をイオンエネルギー12kev、一次イオン電流100
nAで200×200μm領域を表層より2500nm
の深さまで金属分析し、二次イオン強度O- 、C- (c
ps)を求め、表層より100nmから5000nmの
間の各々の強度比較をした。
Further, using the same apparatus, the primary ions Cs +
The ion energy is 12 kev and the primary ion current is 100
2500 nm from the surface layer in the 200 x 200 μm region with nA
Of the secondary ion intensity O , C (c
ps) was obtained, and the respective intensities from 100 nm to 5000 nm were compared from the surface layer.

【0023】(2)極限粘度[η] 試料を120℃で3時間乾燥した後、0.1g±0.0
005gを秤量し、o−クロロフェノール中160℃で
15分間撹拌して溶解した。冷却後、ヤマトラボティッ
クAVM−10S型自動粘度測定器により20℃におけ
る粘度を測定した。
(2) Intrinsic viscosity [η] After the sample was dried at 120 ° C. for 3 hours, 0.1 g ± 0.0
005 g was weighed and dissolved in o-chlorophenol by stirring at 160 ° C. for 15 minutes. After cooling, the viscosity at 20 ° C. was measured with a Yamatrabotic AVM-10S type automatic viscosity meter.

【0024】(3)カルボキシル末端濃度 Mauriceらの方法[Anal.Chim.Act
a.,22,363(1960)]に従って測定した。
(3) Carboxyl terminal concentration [Method of Maurice et al. [Anal. Chim. Act
a. , 22, 363 (1960)].

【0025】(4)ドラムまたはロール表面のクラック
評価 ドラムまたはロール表面を100〜200倍の暗視野顕
微鏡で任意の位置を10mm2 の範囲観察し、幅1〜2
0μm、長さ50μm以上のクラック(ひび割れ)を観
察、測定した。
(4) Evaluation of cracks on the surface of the drum or roll The surface of the drum or roll was observed with a dark field microscope of 100 to 200 times at an arbitrary position within a range of 10 mm 2 , and the width was 1-2.
A crack (crack) having a length of 0 μm and a length of 50 μm or more was observed and measured.

【0026】(5)ドラムまたはロール表面硬度 通常の方法に従い、ハードビッカース硬度を測定し、表
面硬度とした。
(5) Drum or Roll Surface Hardness The hard Vickers hardness was measured according to the usual method and used as the surface hardness.

【0027】(6)オリゴマーの付着評価 実際にフィルムを製造するに際して、ロール表面に白粉
が付着するかどうかを目視で判断した。白粉が蓄積して
いき、フィルム表面に擦傷や堀傷などの欠点が発生した
時点で製膜を中止し、その時間が長いほうが製膜安定性
が良いと判断した。
(6) Evaluation of Adhesion of Oligomer When actually manufacturing a film, it was visually judged whether or not white powder adhered to the roll surface. When white powder was accumulated and defects such as scratches and digs were generated on the film surface, the film formation was stopped, and it was judged that the longer the time, the better the film formation stability.

【0028】(7)表面粗度 JIS−B−0601に準拠し、東京精密製接触式表面
粗さ計を用いて、測定長4mm、カットオフ0.25m
mでRmax を測定した。
(7) Surface roughness According to JIS-B-0601, using a contact surface roughness meter manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., measuring length 4 mm, cutoff 0.25 m
Rmax was measured in m.

【0029】[0029]

【実施例】以下本発明を実施例を用いてさらに詳細に説
明する。
EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to examples.

【0030】実施例1 ポリエチレンテレフタレート(極限粘度[η]=0.6
18、カルボキシル末端基濃度41.6当量/トン、融
点256℃)のペレットを275℃で溶融し、Tダイよ
り押出して25℃に冷却したキャスティングドラムで急
冷し、非晶シートとした。その後、金属ロール4本(N
O.1〜NO.4)を用いて90℃に加熱し、シリコン
ロール(NO.5)とセラミックロール(NO.6)の
間で長手方向に3.8倍延伸した後、金属ロール6本
(NO.7〜12)で冷却し、一軸延伸フィルムを得
た。次いで、得られた一軸延伸フィルムの両側をクリッ
プで把持し、熱風加熱して95℃で幅方向に4.5倍延
伸し、120℃で2秒間熱固定して厚み8.6μmの二
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。
Example 1 Polyethylene terephthalate (Intrinsic viscosity [η] = 0.6
18, pellets having a carboxyl terminal group concentration of 41.6 equivalent / ton and a melting point of 256 ° C.) were melted at 275 ° C., extruded from a T die and rapidly cooled by a casting drum cooled to 25 ° C. to obtain an amorphous sheet. After that, 4 metal rolls (N
O. 1 to NO. 4) was heated to 90 ° C. and stretched 3.8 times in the longitudinal direction between the silicon roll (NO. 5) and the ceramic roll (NO. 6), and then 6 metal rolls (NO. 7 to 12). ), And the uniaxially stretched film was obtained. Next, both sides of the obtained uniaxially stretched film are held with clips, heated with hot air and stretched 4.5 times in the width direction at 95 ° C., and heat fixed at 120 ° C. for 2 seconds to biaxially stretch with a thickness of 8.6 μm. A polyethylene terephthalate film was obtained.

【0031】該NO.1〜NO.4ロールは硬質クロム
メッキ、NO.7〜NO.12は、表面粗度0.3Sで
SIMSでのクロム原子とケイ素元子および炭素原子と
酸素原子がSi+ /Cr+ =10−3 、C- >O- (C
- =5×104 cps、O-=3×103 cps)であ
るクロムメッキ皮膜を有してなるロール(表面ハードビ
ッカース硬度=1300)を用いた。なお、このメッキ
はクロム酸、蟻酸、ヘキサフルオロケイ酸浴中で厚み8
μmのメッキ被膜を形成させ、310℃で焼きいれして
作成した。またこのロール表面を150倍の倍率で顕微
鏡観察したが、クラックは認められなかった。
The NO. 1 to NO. 4 rolls are hard chrome plated, NO. 7-NO. No. 12 has a surface roughness of 0.3 S, and the chromium atom and the silicon atom in SIMS and the carbon atom and the oxygen atom are Si + / Cr + = 10 −3 , C > O (C.
- = 5 × 10 4 cps, O = 3 × 10 3 cps) A roll having a chrome-plated film (surface hard Vickers hardness = 1300) was used. In addition, this plating has a thickness of 8 in a chromic acid, formic acid, or hexafluorosilicic acid bath.
It was formed by forming a plated film of μm and baking at 310 ° C. Further, the surface of this roll was observed under a microscope at a magnification of 150 times, but no crack was observed.

【0032】フィルムの製造中は非常に安定であり、N
O.7〜NO.12にオリゴマーと思われる付着物もな
く、85時間の製膜が可能であった。製膜終了後、N
O.7〜NO.12の表面を観察したところ、オリゴマ
ーの付着もなく、クラックなども観察されなかった。
It is very stable during the production of the film,
O. 7-NO. It was possible to form a film for 85 hours without deposits that seemed to be oligomers in No. 12. After film formation, N
O. 7-NO. When the surface of No. 12 was observed, neither adhesion of oligomers nor cracks were observed.

【0033】実施例2 ポリエチレンテレフタレート(極限粘度[η]=0.6
21、カルボキシル末端基濃度40.5当量/トン、融
点256℃)のペレットを275℃で溶融し、Tダイよ
り押出して25℃に冷却したキャスティングドラムで急
冷し、非晶シートとした。その後、金属ロール4本(N
O.1〜NO.4)を用いて90℃に加熱し、シリコン
ロール(NO.5)とセラミックロール(NO.6)の
間で長手方向に3.6倍延伸した後、金属ロール6本
(NO.7〜12)で冷却し、一軸延伸フィルムを得
た。次いで、得られた一軸延伸フィルムの両側をクリッ
プで把持し、熱風加熱して95℃で幅方向に4.5倍延
伸し、120℃で2秒間熱固定した後、金属ロール4本
(NO.13〜NO.16)を用いて140℃に加熱
し、さらに金属ロール5本(NO.17〜NO.21)
を用いて長手方向に再度1.15倍延伸した後、200
℃で2秒間熱処理して厚み4.5μmの二軸延伸ポリエ
チレンテレフタレートフィルムを得た。
Example 2 Polyethylene terephthalate (Intrinsic viscosity [η] = 0.6
No. 21, pellets having a carboxyl end group concentration of 40.5 equivalent / ton and a melting point of 256 ° C.) were melted at 275 ° C., extruded from a T die and rapidly cooled by a casting drum cooled to 25 ° C. to obtain an amorphous sheet. After that, 4 metal rolls (N
O. 1 to NO. 4) was heated to 90 ° C. and stretched 3.6 times in the longitudinal direction between the silicon roll (NO. 5) and the ceramic roll (NO. 6), and then 6 metal rolls (NO. 7 to 12). ), And the uniaxially stretched film was obtained. Then, both sides of the obtained uniaxially stretched film were gripped with clips, heated with hot air, stretched 4.5 times in the width direction at 95 ° C., and heat-set at 120 ° C. for 2 seconds, and then four metal rolls (NO. 13 to NO. 16) and heated to 140 ° C., and further 5 metal rolls (NO. 17 to NO. 21)
Again by 1.15 times in the longitudinal direction using
It heat-processed at 2 degreeC for 2 seconds, and the 4.5-micrometer-thick biaxially-stretched polyethylene terephthalate film was obtained.

【0034】該NO.1〜NO.4ロールは硬質クロム
メッキ、NO.7〜NO.12およびNO.17〜N
O.21は、表面粗度0.3SでSIMSでのクロム原
子とケイ素元子および炭素原子と酸素原子がSi+ /C
+ =2×10−3 、C- >O- (C- =6×104
ps、O- =1×103 cps)であるクロムメッキ皮
膜を有してなるロール(表面ハードビッカース硬度=1
350)を用いた。なお、このメッキはクロム酸、蟻
酸、ヘキサフルオロケイ酸浴中で厚み8μmのメッキ被
膜を形成させ、310℃で焼きいれして作成した。また
このロール表面を150倍の倍率で顕微鏡観察したが、
クラックは認められなかった。
The NO. 1 to NO. 4 rolls are hard chrome plated, NO. 7-NO. 12 and NO. 17-N
O. No. 21 has a surface roughness of 0.3 S, and has a chromium and silicon element in SIMS and a carbon atom and an oxygen atom of Si + / C.
r + = 2 × 10 −3 , C > O (C = 6 × 10 4 c
ps, O = 1 × 10 3 cps) with a chrome-plated film (hard surface Vickers hardness = 1)
350) was used. The plating was prepared by forming a plating film having a thickness of 8 μm in a bath of chromic acid, formic acid, and hexafluorosilicic acid, and baking it at 310 ° C. Also, the surface of this roll was observed under a microscope at a magnification of 150 times.
No crack was observed.

【0035】フィルムの製造中は非常に安定であり、N
O.7〜NO.12およびNO.17〜NO.21にオ
リゴマーと思われる付着物もなく、95時間の製膜が可
能であった。製膜終了後、NO.7〜NO.12および
NO.17〜NO.21の表面を観察したところ、オリ
ゴマーの付着もなく、クラックなども観察されなかっ
た。
It is very stable during the production of the film,
O. 7-NO. 12 and NO. 17-NO. It was possible to form a film for 95 hours without deposits that appeared to be oligomers in No. 21. After completion of film formation, NO. 7-NO. 12 and NO. 17-NO. When the surface of No. 21 was observed, neither adhesion of oligomers nor cracks were observed.

【0036】実施例3 ポリエチレン−2,6−ナフタレート(極限粘度[η]
=0.625、カルボキシル末端基濃度33.6当量/
トン、融点275℃)のペレットを291℃で溶融し、
Tダイより押出して25℃に冷却したキャスティングド
ラムで急冷し、非晶シートとした。その後、金属ロール
4本(NO.1〜NO.4)を用いて130℃に加熱
し、シリコンロール(NO.5)とセラミックロール
(NO.6)の間で長手方向に3.8倍延伸した後、金
属ロール6本(NO.7〜12)で冷却し、一軸延伸フ
ィルムを得た。次いで、得られた一軸延伸フィルムの両
側をクリップで把持し、熱風加熱して135℃で幅方向
に4.5倍延伸し、160℃で2秒間熱固定して厚み
8.5μmの二軸延伸ポリエチレン−2,6−ナフタレ
ートフィルムを得た。
Example 3 Polyethylene-2,6-naphthalate (intrinsic viscosity [η]
= 0.625, carboxyl end group concentration 33.6 equivalents /
Ton, melting point 275 ° C.) at 291 ° C.,
It was extruded from a T-die and rapidly cooled with a casting drum cooled to 25 ° C. to obtain an amorphous sheet. After that, it is heated to 130 ° C. using four metal rolls (NO.1 to NO.4) and stretched 3.8 times in the longitudinal direction between the silicon roll (NO.5) and the ceramic roll (NO.6). After that, it was cooled with 6 metal rolls (NO. 7 to 12) to obtain a uniaxially stretched film. Next, the both sides of the obtained uniaxially stretched film are held by clips, heated with hot air and stretched 4.5 times in the width direction at 135 ° C., and heat fixed at 160 ° C. for 2 seconds, and biaxially stretched with a thickness of 8.5 μm. A polyethylene-2,6-naphthalate film was obtained.

【0037】ここで、該NO.1〜NO.12ロールは
実施例1と同じものを用いた。フィルムの製造中は非常
に安定であり、NO.7〜NO.12にオリゴマーと思
われる付着物もなく、103時間の製膜が可能であっ
た。製膜終了後、NO.7〜NO.12の表面を観察し
たところ、オリゴマーの付着もなく、クラックなども観
察されなかった。
Here, the NO. 1 to NO. The same 12 rolls as in Example 1 were used. It is very stable during the production of the film, and the NO. 7-NO. It was possible to form a film for 103 hours without deposits that seemed to be an oligomer in 12. After completion of film formation, NO. 7-NO. When the surface of No. 12 was observed, neither adhesion of oligomers nor cracks were observed.

【0038】比較例1 従来技術のロールとしてNO.7〜NO.12に表面粗
度1.1Sの硬質クロムメッキを用いる以外は実施例1
と同様にして二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを得たが、22時間でロール上にオリゴマーが白粉
のように付着し、フィルム表面に羽毛状の擦傷が多く発
生したため製膜を中止し、ロールを洗浄した。
Comparative Example 1 No. 1 was used as the roll of the prior art. 7-NO. Example 1 except that hard chrome plating with a surface roughness of 1.1S was used for 12
A biaxially stretched polyethylene terephthalate film was obtained in the same manner as above, but oligomers adhered to the roll like white powder in 22 hours, and many feather-like scratches were generated on the film surface, so film formation was stopped and the roll was washed. did.

【0039】比較例2 NO.7〜NO.12の表面粗度を1.1Sにする以外
は実施例1と同様にして二軸延伸ポリエチレンテレフタ
レートフィルムを得たが、49時間でロール上にオリゴ
マーが白粉のように付着し、フィルム表面に羽毛状の擦
傷が多く発生したため製膜を中止し、ロールを洗浄し
た。
Comparative Example 2 NO. 7-NO. A biaxially stretched polyethylene terephthalate film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface roughness of No. 12 was 1.1 S. However, the oligomer adhered like white powder on the roll in 49 hours, and the film surface had feathers. Since many scratches were generated, the film formation was stopped and the roll was washed.

【0040】比較例3 従来技術のロールとしてNO.17〜NO.21に表面
粗度1.1Sの硬質クロムメッキを用いる以外は実施例
1と同様にして二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを得たが、20時間でロール上にオリゴマーが白
粉のように付着し、フィルム表面に堀傷が発生し、24
時間でフィルムが破れたため製膜を中止し、ロールを洗
浄した。
Comparative Example 3 No. 1 was used as the roll of the prior art. 17-NO. A biaxially stretched polyethylene terephthalate film was obtained in the same manner as in Example 1 except that hard chrome plating having a surface roughness of 1.1S was used for No. 21, but the oligomer adhered to the roll like white powder in 20 hours, and the film was obtained. 24 digging scratches on the surface
Since the film broke in a certain time, film formation was stopped and the roll was washed.

【0041】[0041]

【発明の効果】本発明は上記構成としたため次の効果を
奏する。すなわち、ポリマー中に存在するオリゴマーが
フィルム製造中にドラムまたはロールの表面に付着しな
いような状態で長時間フィルムの製造が可能なために堀
り傷状の表面欠点のない優れたフィルムを安定して製造
することができる。従って、磁気記録用途、特に8ミリ
用途やDVC(ディジタルビデオカセット)用途や光学
用途をはじめとするベースフィルム用途のフィルムの製
造方法および製造装置として優れている。
Since the present invention has the above-mentioned structure, it has the following effects. That is, since it is possible to produce a film for a long time in a state where the oligomers present in the polymer do not adhere to the surface of the drum or roll during the production of the film, it is possible to stabilize an excellent film having no dented surface defects. Can be manufactured. Therefore, it is excellent as a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a film for base recording such as magnetic recording, particularly 8 mm, DVC (digital video cassette) and optical.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外周面にクロム原子に対してケイ素原子
をSIMSの強度比としてケイ素原子/クロム原子が1
−4 以上含有するクロムメッキ皮膜を有するフィルム
製造用ドラムまたはロールを用いてなることを特徴とす
るフィルム製造装置。
1. A silicon atom / chromium atom ratio of silicon atom / chromium atom is 1 in terms of SIMS intensity ratio on the outer peripheral surface.
A film production apparatus comprising a film production drum or roll having a chrome plating film containing 0-4 or more.
【請求項2】 外周面に酸素原子に対して炭素原子がS
IMSの強度として炭素原子>酸素原子となるように含
有するクロムメッキ皮膜を有するフィルム製造用ドラム
またはロールを用いてなることを特徴とするフィルム製
造装置。
2. A carbon atom on the outer peripheral surface of which is S with respect to oxygen
A film manufacturing apparatus comprising a film manufacturing drum or roll having a chrome-plated coating containing carbon atoms> oxygen atoms as the IMS strength.
【請求項3】 クロムメッキ皮膜部分の表面粗度が1S
以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に
記載のフィルム製造装置。
3. The surface roughness of the chromium plating film portion is 1S.
It is the following, The film manufacturing apparatus of Claim 1 or Claim 2 characterized by the following.
【請求項4】 クロムメッキ被膜部表面に存在する幅1
〜20μm、かつ長さ50μm以上のクラックが0〜1
00個/10mm2 の範囲であることを特徴とする請求
項1〜請求項3のいずれかに記載のフィルム製造装置。
4. The width 1 existing on the surface of the chrome-plated coating part.
~ 20μm, and 0 ~ 1 cracks with a length of 50μm or more
It is the range of 00 pieces / 10mm < 2 >, The film manufacturing apparatus in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 溶融ポリマーを口金より押出し、その
後、延伸してフィルムを成形するに際して、フィルムに
接するドラムまたはロールの少なくとも1本以上にクロ
ム原子に対してケイ素原子をSIMSの強度比としてケ
イ素原子/クロム原子が10−4 以上含有するクロムメ
ッキ皮膜を外周面に有するフィルム製造用ドラムまたは
ロールを用いてなることを特徴とするフィルムの製造方
法。
5. When a molten polymer is extruded from a die and then stretched to form a film, at least one drum or roll in contact with the film has a silicon atom relative to a chromium atom as a SIMS intensity ratio of silicon atom. / A method for producing a film, which comprises using a film-producing drum or roll having a chromium plating film containing 10 −4 or more of chromium atoms on its outer peripheral surface.
【請求項6】 溶融ポリマーを口金より押出し、その
後、延伸しててフィルムを成形するに際して、フィルム
に接するドラムまたはロールの少なくとも1本以上に酸
素原子に対して炭素原子がSIMSの強度として炭素原
子>酸素原子となるように含有するクロムメッキ皮膜を
外周面に有してなるフィルム製造用ドラムまたはロール
を用いてなることを特徴とするフィルムの製造方法。
6. When a molten polymer is extruded from a spinneret and then stretched to form a film, at least one drum or roll in contact with the film has a carbon atom as an SIMS strength as a carbon atom with respect to an oxygen atom. A method for producing a film, which comprises using a film-producing drum or roll having a chromium plating film contained so as to become oxygen atoms on the outer peripheral surface.
【請求項7】 溶融ポリマーが、ポリエステル、ポリア
ミド、ポリオレフィンおよびこれらの共重合体およびア
ロイより選ばれた少なくとも1種以上であることを特徴
とする請求項5または請求項6に記載のフィルムの製造
方法。
7. The production of a film according to claim 5 or 6, wherein the molten polymer is at least one selected from polyester, polyamide, polyolefin, copolymers thereof and alloys. Method.
【請求項8】 ポリエステルが、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−2,6−ナフタレートおよびこ
れらの共重合体および複合体より選ばれた少なくとも1
種以上であることを特徴とする請求項5〜請求項7のい
ずれかに記載のフィルムの製造方法。
8. The polyester is at least one selected from polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate and copolymers and composites thereof.
It is more than 1 type, The manufacturing method of the film in any one of Claims 5-7.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014148754A (en) * 2014-03-24 2014-08-21 Nomura Plating Co Ltd Forming roll and method for manufacturing the same
JP2016224410A (en) * 2015-05-29 2016-12-28 日本合成化学工業株式会社 Polyvinyl alcohol film, polarizing film, and manufacturing method for polyvinyl alcohol film
CN112646371A (en) * 2019-10-11 2021-04-13 住友化学株式会社 Optical film and flexible display device

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