JPH09218476A - Production of silver halide emulsion - Google Patents

Production of silver halide emulsion

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JPH09218476A
JPH09218476A JP32277196A JP32277196A JPH09218476A JP H09218476 A JPH09218476 A JP H09218476A JP 32277196 A JP32277196 A JP 32277196A JP 32277196 A JP32277196 A JP 32277196A JP H09218476 A JPH09218476 A JP H09218476A
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JP
Japan
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group
emulsion
silver halide
grains
solution
Prior art date
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Application number
JP32277196A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsuo Saito
光雄 斎藤
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH09218476A publication Critical patent/JPH09218476A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silver halide emulsion superior in sensitivity and image quality. SOLUTION: This silver halide emulsion contains flat silver halide grains occupying >=60% of the projection areas of the total silver halide grains and having an aspect ratio (diameter to thickness) of >=2 and parallel twin faces. The method for producing this emulsion comprises the following processes; (a) a first process of forming an emulsion comprising fine grain containing substantially no twin face by adding a silver salt solution and a halide salt solution into an aqueous solution of a dispersion medium and (b) a second process of forming the twin parallel faced on the fine grains of the first emulsion by adding a silver salt solution and a halide salt solution into the first fine grain emulsion.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は写真の分野において
有用であるハロゲン化銀(以下、「AgX」と記す)乳
剤の製造方法に関する。
The present invention relates to a method for producing a silver halide (hereinafter referred to as "AgX") emulsion which is useful in the field of photography.

【0002】[0002]

【従来の技術】平行双晶面を含む平板状AgX乳剤粒子
のその写真特性は特開平2−838号に記載の如く優れ
ているが、従来知られている該平板状粒子の製造方法は
平行双晶面形成過程の制御が不十分である。平行双晶面
の形成は核形成時の分散媒溶液条件〔ゼラチン濃度、p
H、ハロゲン塩(以後、X- 塩と記す)濃度、温度
等〕、銀塩溶液(以後、Ag+ 液と記す)とX- 塩溶液
(以後、X- 液と記す)の添加速度を調節する事により
なされている。従って核形成開始直後に形成された双晶
面もあれば、核形成終了直前に形成された双晶面も存在
し、双晶面間隔を十分に制御する事ができていない。こ
の為、(感度/粒状度)比の十分な改良が達成されてい
ない。これらの従来技術に関しては特開昭58−113
926号〜113928号、特開平2−838号、米国
特許第5171659号、リサーチ ディスクロージャ
ー誌,501巻,アイテム36544,(1994年9
月)の記載を参考にする事ができる。
The photographic characteristics of tabular AgX emulsion grains containing parallel twin planes are excellent as described in JP-A-2-838, but conventionally known methods for producing the tabular grains are parallel. Insufficient control of twin plane formation process. The formation of parallel twin planes depends on the dispersion medium solution conditions [gelatin concentration, p
H, halogen salt (hereinafter referred to as X - salt) concentration, temperature, etc.], addition rate of silver salt solution (hereinafter referred to as Ag + solution) and X - salt solution (hereinafter referred to as X - solution) are adjusted. It is done by doing. Therefore, some twin planes are formed immediately after the start of nucleation, and some twin planes are formed immediately before the end of nucleation, and the twin plane spacing cannot be sufficiently controlled. Therefore, sufficient improvement in the (sensitivity / granularity) ratio has not been achieved. Regarding these conventional techniques, JP-A-58-113
Nos. 926 to 113928, JP-A-2-838, US Pat. No. 5,171,659, Research Disclosure Magazine, Volume 501, Item 36544 (1994, 1994).
Month) can be referred to.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、平行
双晶面間隔がより制御された(感度/粒状度)比のより
優れた平板状AgX乳剤の製造方法を提供する事にあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a process for producing a tabular AgX emulsion having a more controlled parallel twin plane spacing (sensitivity / granularity) ratio.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は次項によ
って達成された。 (1)少なくともハロゲン化銀粒子と分散媒を有するハ
ロゲン化銀乳剤の製造方法において、該ハロゲン化銀粒
子の投影面積の合計の60%以上が、アスペクト比(直
径/厚さ)が2以上の平行双晶面を有する平板状ハロゲ
ン化銀粒子であり、該製造方法が次のプロセスを含み、
かつ、生成する平行双晶粒子数の20〜100%がc)
の過程で形成された事を特徴とするハロゲン化銀乳剤の
製造方法。 a)分散媒を含む水溶液中に銀塩溶液とハロゲン塩溶液
を添加し、双晶面を実質的に有しない(双晶面を2枚以
上有する粒子の数比率が0〜25%である)ハロゲン化
銀第1微粒子乳剤を形成する工程。 b)第1微粒子乳剤に次の〜の1つ以上の処置を施
す。 分散媒濃度を元の0.1〜50%に減少させる。 分散媒分子を分解し、分散媒の重量平均分子量を元の
1〜60%に低分子量化する。 ゼラチンのメチオニン基、イミダゾール基、アルコー
ル基、アミノ基の1つ以上の基を元の数の0〜60%に
減ずる。 該第1微粒子乳剤に添加すると第1微粒子上に吸着
し、次のc)の過程での平行双晶面形成確率を強制的に
高める第1吸着剤を添加する。 c)該第1微粒子乳剤に銀イオンとハロゲンイオンを添
加し、該第1微粒子上に平行双晶面を形成する工程。 (2)該第1吸着剤がN、P、S、Se、I、As、
Sb、Sn原子のオニウム塩基の1種以上を1分子中に
1基以上含有する化合物、含窒素複素環式化合物、
SCN- 塩化合物、分光増感色素、かぶり防止剤、
2価イオウ含有のヘテロ環化合物、2価イオウ含有
の有機化合物、アミノチオエーテル類、チオ尿素ま
たはその誘導体、の1種以上である(1)の製造方法。 (3)該c)の工程が、該a)の工程後に、第1吸着剤
を添加し、該第1微粒子上に該吸着剤を吸着させた後に
行われる事を特徴とする(1) の製造方法。 (4)該第1吸着剤がアンモニウム塩基含有化合物
(ピリジニウム4級塩、トリアゾリウム塩、プロトン化
した有機アミン化合物、第4級アンモニウム化合物)で
ある事を特徴とする前記(1) の製造方法。
The objects of the present invention have been achieved by the following items. (1) In the method for producing a silver halide emulsion having at least silver halide grains and a dispersion medium, 60% or more of the total projected area of the silver halide grains has an aspect ratio (diameter / thickness) of 2 or more. A tabular silver halide grain having parallel twin planes, the method comprising the following steps:
In addition, 20 to 100% of the number of parallel twin grains produced is c).
A method for producing a silver halide emulsion characterized in that it is formed in the process of. a) A silver salt solution and a halogen salt solution are added to an aqueous solution containing a dispersion medium to have substantially no twin planes (the number ratio of particles having two or more twin planes is 0 to 25%). Step of forming a silver halide first fine grain emulsion. b) subject the first fine grain emulsion to one or more of the following treatments. The dispersion medium concentration is reduced to the original 0.1-50%. Dispersion medium molecules are decomposed to lower the weight average molecular weight of the dispersion medium to 1 to 60% of the original weight. One or more groups of methionine group, imidazole group, alcohol group and amino group of gelatin are reduced to 0-60% of the original number. When added to the first fine grain emulsion, it is adsorbed on the first fine grains, and the first adsorbent forcibly increasing the parallel twin plane formation probability in the following step c) is added. c) A step of adding silver ions and halogen ions to the first fine grain emulsion to form parallel twin planes on the first fine grains. (2) The first adsorbent is N, P, S, Se, I, As,
Compounds containing at least one Sb or Sn atom onium base in one molecule, a nitrogen-containing heterocyclic compound,
SCN - salt compound, spectral sensitizing dye, antifoggant,
The method for producing (1), which is at least one of a divalent sulfur-containing heterocyclic compound, a divalent sulfur-containing organic compound, aminothioethers, thiourea or a derivative thereof. (3) The step (c) is performed after the step (a), after adding the first adsorbent and adsorbing the adsorbent on the first fine particles. Production method. (4) The method according to (1) above, wherein the first adsorbent is an ammonium base-containing compound (pyridinium quaternary salt, triazolium salt, protonated organic amine compound, quaternary ammonium compound).

【0005】本発明のその他の好ましい態様は次の通
り。 (5)該c)の工程で添加される銀イオンが銀塩溶液の
形態で添加され、ハロゲンイオンがハロゲン塩溶液の形
態で添加される事を特徴とする前記(1) 記載のハロゲン
化銀乳剤の製造方法。 (6)該c)の工程で添加される銀イオンとハロゲンイ
オンが、直径0.005〜0.07μmのハロゲン化銀
微粒子の形態で添加され、それが溶解する事により供給
される事を特徴とする前記(1) 記載のハロゲン化銀乳剤
の製造方法。 (7)該c)の工程の乳剤のハロゲンイオン濃度が、
a)の工程のハロゲンイオン濃度の1.5倍以上である
事を特徴とする前記(1) 記載のハロゲン化銀乳剤の製造
方法。 (8)該c)の工程の後に温度を10℃以上昇温し、熟
成し、平板状粒子の投影面積比率を1.5倍以上、上げ
熟成工程を有する事を特徴とする前記(1) 記載のハロゲ
ン化銀乳剤の製造方法。 (9)該熟成工程の後に、銀イオンとハロゲンイオンを
供給し、該平板状粒子を成長させる事を特徴とする前記
(6) 記載のハロゲン化銀乳剤の製造方法。
Other preferred embodiments of the present invention are as follows. (5) The silver halide described in (1) above, wherein the silver ion added in the step c) is added in the form of a silver salt solution and the halogen ion is added in the form of a halogen salt solution. Emulsion manufacturing method. (6) A feature that the silver ions and the halogen ions added in the step c) are added in the form of silver halide fine particles having a diameter of 0.005 to 0.07 μm and are supplied by being dissolved. The method for producing a silver halide emulsion according to (1) above. (7) The halogen ion concentration of the emulsion in the step c) is
The method for producing a silver halide emulsion as described in (1) above, wherein the concentration of the halogen ions in step a) is 1.5 times or more. (8) After the step (c), the temperature is raised by 10 ° C. or more to ripen, and the projected area ratio of tabular grains is increased by 1.5 times or more, and the ripening step is included. A method for producing the silver halide emulsion described. (9) A silver ion and a halogen ion are supplied after the ripening step to grow the tabular grains.
(6) A method for producing a silver halide emulsion as described above.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】次に本発明を更に詳細に説明す
る。 A)AgX乳剤粒子 少なくともAgX粒子と分散媒を有するAgX乳剤の製
造方法において、該AgX粒子の投影面積の合計の60
%以上、好ましくは80〜100%、より好ましくは9
5〜100%がアスペクト比(直径/厚さ)が2以上、
好ましくは3〜50、より好ましくは4〜30で、平行
双晶面を2または3枚、好ましくは2枚有する平板状A
gX粒子である。該平板状粒子の直径は0.1〜10μ
mが好ましく、0.2〜5μmがより好ましく、厚さは
0.02〜0.4μm、好ましくは0.04〜0.3μ
mであり、ハロゲン組成はAgCl、AgBr、AgB
rI(I- 含率は40 mol%以下)、およびそれらの2
種以上のあらゆる割合の混晶である。好ましくはAgC
l含率が49 mol%以下、より好ましくは0〜40mol
%、更に好ましくは0〜30 mol%のAgBrClIで
ある。平板状粒子の形状としては主平面が六角形、三角
形、およびその角が丸くなった円形を挙げる事ができ、
隣接辺比率〔1粒子内で、該六角形の(最長辺の長さ/
最短辺の長さ)〕が1〜3、好ましくは1〜2、より好
ましくは1〜1.5の六角形、またはその角が丸くなっ
た粒子がより好ましい。該円形平板状粒子の場合、その
直線部比率〔(各辺の直線部の長さの合計/欠落部を補
充した時に形成される六角形の各辺の長さの合計〕は
0.01〜0.99、好ましくは0.1〜0.9であ
る。該平板状粒子の直径分布の変動係数、および厚さ分
布の変動係数(分布の標準偏差/平均値)は0.01〜
0.4が好ましく、0.01〜0.3がより好ましく、
0.01〜0.2が更に好ましい。直径とは該粒子の主
平面を基板面上に置き、顕微鏡でその投影形状を観察し
た時の投影面積と等しい面積を有する円の直径を指すも
のとする。該粒子の〔厚さ/最外平行双晶面隔(主平面
に最も近い双晶面2枚の間隔)〕は1.2以上、好まし
くは2〜500、より好ましくは3〜100である。最
外平行双晶面間隔の粒子間分布の変動係数は0〜0.5
が好ましく、0〜0.4がより好ましく、0〜0.2が
更に好ましい。
Next, the present invention will be described in more detail. A) AgX Emulsion Grain In the method for producing an AgX emulsion having at least AgX grains and a dispersion medium, the total projected area of the AgX grains is 60.
% Or more, preferably 80 to 100%, more preferably 9
5-100% has an aspect ratio (diameter / thickness) of 2 or more,
A plate-like A having preferably 3 to 50, more preferably 4 to 30 and having 2 or 3 parallel twin planes, preferably 2 parallel twin planes.
gX particles. The diameter of the tabular grains is 0.1 to 10 μm.
m is preferable, 0.2 to 5 μm is more preferable, and the thickness is 0.02 to 0.4 μm, preferably 0.04 to 0.3 μm.
m, and the halogen composition is AgCl, AgBr, AgB
rI (I - content is 40 mol% or less), and 2 of them
It is a mixed crystal in any proportion of at least one kind. Preferably AgC
l content is 49 mol% or less, more preferably 0 to 40 mol
%, More preferably 0 to 30 mol% AgBrClI. Examples of the shape of tabular grains include hexagonal main planes, triangles, and circles with rounded corners.
Adjacent side ratio [Within one particle, the length of the longest side of the hexagon
The length of the shortest side)] is 1 to 3, preferably 1 to 2, more preferably 1 to 1.5, or a particle having rounded corners is more preferable. In the case of the circular tabular grains, the linear portion ratio [(total length of linear portions on each side / total length of each side of hexagon formed when replenishing missing portions]] is 0.01 to 0.99, preferably 0.1 to 0.9. The coefficient of variation of the diameter distribution of the tabular grains and the coefficient of variation of the thickness distribution (standard deviation of distribution / average value) are 0.01 to.
0.4 is preferable, 0.01 to 0.3 is more preferable,
0.01 to 0.2 is more preferable. The diameter refers to the diameter of a circle having an area equal to the projected area when the projected shape is observed by a microscope with the main plane of the particle placed on the substrate surface. The [thickness / outermost parallel twin plane spacing (distance between two twin planes closest to the principal plane)] of the grains is 1.2 or more, preferably 2 to 500, and more preferably 3 to 100. The variation coefficient of the distribution of grains in the outermost parallel twin plane spacing is 0 to 0.5.
Is preferred, 0-0.4 is more preferred, and 0-0.2 is even more preferred.

【0007】B)無双晶微粒子形成 本発明のAgX乳剤の製造方法では、まず、分散媒水溶
液中にAg+ 液とX-液を添加し、双晶面を実質的に有
しないAgX第1微粒子をまず形成する。ここで双晶面
を実質的に有しないとは、双晶面を2枚以上有する粒子
の数比率が25%以下、好ましくは0〜10%、より好
ましくは0〜1%、を指す。更に好ましくは双晶面を1
枚有する粒子の数比率が30%以下、好ましくは0〜1
0%、より好ましくは0〜1%を指す。該微粒子の投影
粒子直径は0.01〜0.3μm、好ましくは0.02
〜0.2μm、より好ましくは0.03〜0.1μmで
ある。
B) Formation of Twin-Free Crystal Fine Particles In the method for producing AgX emulsion of the present invention, first, Ag + liquid and X liquid are added to an aqueous dispersion medium solution to form AgX first fine particles having substantially no twin plane. Are first formed. Here, “having substantially no twin planes” means that the number ratio of particles having two or more twin planes is 25% or less, preferably 0 to 10%, more preferably 0 to 1%. More preferably, the twin plane is 1
The number ratio of particles to be included is 30% or less, preferably 0 to 1
0%, more preferably 0 to 1%. The projected particle diameter of the fine particles is 0.01 to 0.3 μm, preferably 0.02.
˜0.2 μm, more preferably 0.03 to 0.1 μm.

【0008】該微粒子は双晶面が形成され難い条件下で
形成すればよい。該条件については特開平2−1460
33号の記載を参考にする事ができる。本発明の場合は
特に、該分散媒水溶液中のX- 塩濃度を低くし、分散媒
濃度を高くする事が好ましい。X- 塩が双晶面を形成す
る能力は同一濃度の時、(I- >Br- >Cl- )であ
るから、特にI- とBr- の濃度を低く抑える事が好ま
しい。X- 濃度としては10-1.7mol/リットル以下が好
ましく、10-4〜10-2mol/リットルがより好ましい。
分散媒濃度としては0.1〜10重量%、好ましくは
0.3〜10重量%、より好ましくは0.6〜5重量%
である。その他、Ag+ 液とX- 液の添加中の攪拌混合
性を良くする事が好ましい。この場合、Ag+ 液とX-
液はそれぞれ、2個以上、好ましくは10〜1015個、
より好ましくは50〜1010個の添加孔から液面下添加
する事が好ましく、その詳細については特開平6−86
923号、米国特許第5424180号の記載を参考に
する事ができる。攪拌混合方法としては激しく混合して
も発泡しない密閉混合法等を用いる事が好ましく、その
詳細については特開平4−302605号の記載を参考
にする事ができる。
The fine particles may be formed under the condition that twin planes are not easily formed. Regarding the conditions, JP-A-2-1460
The description of No. 33 can be referred to. In the case of the present invention, it is particularly preferable to lower the X - salt concentration in the dispersion medium aqueous solution and increase the dispersion medium concentration. Since the ability of the X salt to form twin planes is (I > Br > Cl ) at the same concentration, it is particularly preferable to keep the concentrations of I and Br low. The X concentration is preferably 10 −1.7 mol / liter or less, more preferably 10 −4 to 10 −2 mol / liter.
The concentration of the dispersion medium is 0.1 to 10% by weight, preferably 0.3 to 10% by weight, more preferably 0.6 to 5% by weight.
It is. In addition, it is preferable to improve the stirring and mixing property during the addition of the Ag + liquid and the X liquid. In this case, Ag + liquid and X
The number of liquids is 2 or more, preferably 10 to 10 15 ,
More preferably, it is added below the liquid surface through 50 to 10 10 addition holes. For details, see JP-A-6-86.
The description of US Pat. No. 923, US Pat. No. 5,424,180 can be referred to. As a stirring and mixing method, it is preferable to use a closed mixing method or the like which does not foam even when vigorously mixed, and the details thereof can be referred to the description in JP-A-4-302605.

【0009】更には、Ag+ 液とX- 液の少なくとも一
方に分散媒を含有させる事が好ましい。該分散媒濃度は
0.01〜10重量%が好ましく、0.1〜5重量%が
より好ましく、0.3〜2重量%が更に好ましい。ま
た、該添加液の温度を加温(25〜60℃)して添加す
る事もできる。該分散媒溶液の温度は1〜60℃が好ま
しく、5〜50℃がより好ましい。pHは1〜12、好
ましくは1.7〜10を用いる事ができる。該微粒子乳
剤は別の容器で調製した後に、前記第1容器に添加する
事もできるし、別の混合容器で連続的または断続的に製
造し、第1容器に蓄積する事により準備する事もでき
る。その詳細に関しては特開平4−34544号、同2
−166442号、同4−184326〜184330
号の記載を参考にする事ができる。
Further, it is preferable that at least one of the Ag + liquid and the X liquid contains a dispersion medium. The concentration of the dispersion medium is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight, still more preferably 0.3 to 2% by weight. Further, the temperature of the addition liquid may be warmed (25 to 60 ° C.) to be added. The temperature of the dispersion medium solution is preferably 1 to 60 ° C, more preferably 5 to 50 ° C. The pH may be 1 to 12, preferably 1.7 to 10. The fine grain emulsion may be added to the first container after being prepared in another container, or may be prepared by continuously or intermittently producing in another mixing container and accumulating in the first container. it can. For details, see JP-A-4-34544 and 2
-166442, 4-184326 to 184330.
You can refer to the description of the issue.

【0010】該微粒子のサイズは小さい方が、次の工程
で、該微粒子上に双晶面が形成され易い。それは双晶面
の面積が小さい為に双晶面が短時間で完成される事、サ
イズが小さい為、溶質イオンの拡散供給がはやく、該双
晶面上へのAgX層の積層過程も短時間内で起り、双晶
面の固定化もはやく起る為である。また、該微粒子のサ
イズ分布は狭い方が好ましい。それは、次の工程で該微
粒子上の相対する面上に互いに平行な双晶面を形成した
時、該双晶面間隔の揃った平行双晶粒子が得られる為で
ある。該サイズ分布の変動係数は0〜0.4が好まし
く、0〜0.3がより好ましく、0〜0.2が最も好ま
しい。
When the size of the fine particles is smaller, twin planes are more likely to be formed on the fine particles in the next step. Because the twin plane is small in area, the twin plane can be completed in a short time. Since the size is small, solute ions are rapidly diffused and supplied, and the stacking process of the AgX layer on the twin plane is short. This is because it occurs inside and the twin planes are no longer fixed. The size distribution of the fine particles is preferably narrow. This is because, when twin planes parallel to each other are formed on the surfaces of the fine particles facing each other in the next step, parallel twin grains having uniform twin plane intervals can be obtained. The variation coefficient of the size distribution is preferably 0 to 0.4, more preferably 0 to 0.3, and most preferably 0 to 0.2.

【0011】該双晶粒子の比率は次のようにして求める
事ができる。第1微粒子を低温(25〜40℃)、(X
- 塩濃度>10-2.3mol/リットル)でAgX溶剤なしで、オ
ストワルド熟成を生じさせなく、かつ、新核発生も生じ
させない添加速度でAg+ とX- を添加し、すべての核
を約0.2μm直径以上にまで成長させる。生成粒子の
レプリカ膜の透過型電子顕微鏡写真像(TEM像)を観
察し、各種形状粒子の存在頻度を求める事により確認で
きる。これに関しては特開平2−146033号の記載
を参考にする事ができる。
The ratio of the twin crystal grains can be determined as follows. The first fine particles are heated to a low temperature (25 to 40 ° C), (X
- Without AgX solvent at a salt concentration> 10 -2.3 mol / l), without causing Ostwald ripening, and new nucleation even Ag + and X in occurs allowed without addition rate - was added, all nuclear about 0 Grow to a diameter of 2 μm or more. This can be confirmed by observing the transmission electron micrograph image (TEM image) of the replica film of the produced particles and determining the existence frequency of various shaped particles. Regarding this, the description in JP-A No. 2-146033 can be referred to.

【0012】C)双晶面形成過程 このようにして該微粒子乳剤を調製した後、次に該微粒
子上に積層欠陥として双晶面を形成する。最終的に得ら
れるAgX乳剤の該平板粒子の総数の30〜100%、
好ましくは60〜100%、より好ましくは90〜10
0%の平板粒子の平行双晶面形成が、この双晶面形成過
程で形成される。該双晶面を形成する方法として次の方
法を挙げる事ができる。 (1)該微粒子乳剤条件を双晶面が形成され易い条件に
設定してAg+ とX- を添加する。具体例として、a)
- 塩溶液を添加し、X- 濃度を1.5倍以上、好まし
くは2〜1000倍、より好ましくは5〜100倍に上
げる。X- イオン種としてはCl- 、Br- 、I- 種を
挙げる事ができる。同じX- 濃度条件下において、双晶
面を形成する能力は(Cl- <Br- <I- )の順であ
るから、特にBr- 濃度、I- 濃度を高くする事がより
好ましい。Br- の添加量としては好ましくは10-1
10-2.7mol/リットル、より好ましくは10-1.5〜10
-2.2mol/リットルであり、I- の添加量としては好まし
くは10-1.5〜10-4mol/リットル、好ましくは10
-1.7〜10-3.5mol/リットル、Cl- の添加量としては
好ましくは10-0.7〜10-2.5mol/リットル、より好ま
しくは10-1〜10-2mol/リットルである。
C) Twin crystal plane formation process After the fine grain emulsion is prepared in this manner, a twin plane is then formed on the fine grains as a stacking fault. 30 to 100% of the total number of the tabular grains of the finally obtained AgX emulsion,
Preferably 60 to 100%, more preferably 90 to 10%
Parallel twin plane formation of 0% tabular grains is formed during this twin plane formation process. The following method can be mentioned as a method for forming the twin plane. (1) Ag + and X - are added while setting the conditions of the fine grain emulsion so that twin planes are easily formed. As a specific example, a)
X - salt solution is added to increase the X - concentration to 1.5 times or more, preferably 2-1000 times, more preferably 5-100 times. Examples of X ion species include Cl , Br , and I species. At a concentration conditions, the ability to form twin planes - the same X (Cl - <Br - < I -) forward a because of, in particular Br - concentration, I - it is more preferable to increase the concentration. The addition amount of Br is preferably 10 −1 to
10 -2.7 mol / liter, more preferably 10 -1.5 to 10
It was -2.2 mol / l, I - The preferred amount of 10 -1.5 to 10 -4 mol / liter, preferably 10
-1.7 to 10 -3.5 mol / l, Cl - The amount of the preferably 10 -0.7 ~10 -2.5 mol / l, more preferably 10 -1 ~10 -2 mol / liter.

【0013】b)分散媒濃度を元の0.1〜50%に、
好ましくは1〜20%に減少させる。分散媒濃度として
は0.01〜5重量%が好ましく、0.1〜3重量%が
より好ましい。該減少方法としては、乳剤を遠心分離
し、上澄み液を除去する方法、限外濾過法や遠心濾過法
による分散媒の除去法を挙げる事ができる。 c)分散媒分子を分解し、分散媒を低分子量化する方
法。この場合、重量平均分子量を、元の分子量の1〜9
0%にする事が好ましく、3〜60%、更には5〜30
%にする事がより好ましい。低分子量化の方法として
は、酸加水分解法、アルカリ加水分解法、酵素分解法を
挙げる事ができる。該分解反応の詳細に関しては、理化
学辞典,岩波書店(1987年)、化学大辞典,共立出
版(1960年)、化学辞典,東京化学同人(1994
年)の各々の「加水分解」、「加水分解酵素」の項、井
村伸正ら編,生化学ハンドブック,20章,21章,丸
善(1984年)の記載を参考にする事ができる。
B) The concentration of the dispersion medium is 0.1 to 50% of the original,
It is preferably reduced to 1 to 20%. The concentration of the dispersion medium is preferably 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 3% by weight. Examples of the reducing method include a method of centrifuging an emulsion and removing a supernatant, and a method of removing a dispersion medium by an ultrafiltration method or a centrifugal filtration method. c) A method of decomposing the dispersion medium molecule to lower the molecular weight of the dispersion medium. In this case, the weight average molecular weight is 1 to 9 of the original molecular weight.
0% is preferable, 3 to 60%, and further 5 to 30
% Is more preferable. Examples of the method for lowering the molecular weight include an acid hydrolysis method, an alkali hydrolysis method and an enzymatic decomposition method. For details of the decomposition reaction, see Physics and Chemistry Dictionary, Iwanami Shoten (1987), Chemistry Dictionary, Kyoritsu Publishing (1960), Chemistry Dictionary, Tokyo Kagaku Dojin (1994).
"Hydrolysis", "Hydrolytic Enzymes", edited by Nobumasa Imura et al., Biochemistry Handbook, Chapters 20, 21 and Maruzen (1984).

【0014】d)乳剤のpH値の選択。Br- 濃度が1
-1〜10-2.5mol/リットル域では、pHを下げる程、
双晶面形成確率は増加する。Cl- 濃度が10-0.7〜1
-2mol/リットル域ではpHを上げる程、双晶面形成確
率は増加する。従って乳剤のpH値を選択する事によっ
て双晶面形成確率を高くする事ができる。pHは1〜1
2、好ましくは1.7〜10の中から最も好ましい条件
を選ぶ事ができる。
D) Selection of the pH value of the emulsion. Br - concentration is 1
In the range of 0 -1 to 10 -2.5 mol / liter, the lower the pH,
The twin plane formation probability increases. Cl - concentration is 10 -0.7 to 1
In the 0 -2 mol / liter region, the twin plane formation probability increases as the pH increases. Therefore, the twin plane formation probability can be increased by selecting the pH value of the emulsion. pH is 1 to 1
The most preferable condition can be selected from 2, preferably 1.7 to 10.

【0015】e)分散媒の保護コロイド性を低下させる
方法。例えばゼラチンの場合は酸化剤を添加し、ゼラチ
ンのメチオニン基をメチオニンスルホキシド基に酸化す
る事により、保護コロイド性が低下し、双晶面形成確率
が高くなる。また、無水フタル酸を加え、ゼラチンのア
ミノ基をアミド化する事により、保護コロイド性が低下
する。即ち、分散媒の吸着基の数、または特定の吸着基
の数を元の数の0〜90%、好ましくは1〜60%、よ
り好ましくは1〜30%に減ずる。ゼラチンの場合は、
メチオニン基、イミダゾール基、アルコール基、アミノ
基数に対して適用される。該酸化剤については特開昭6
1−3136号、同61−3134号、特開平6−13
0528号、同6−102485号および特願平6−1
02485号の記載を参考にする事ができ、H2 2
より好ましく用いる事ができる。該分散媒の化学修飾に
関しては、安孫子義弘編,にかわとゼラチン,丸善大阪
支所(1987年)、A. G. Wardら編, The Science an
d Technology of Gelatin,Academic Press, London
(1977年)、生化学実験講座1−IV、東京化学同人
(1977年)の記載を参考にする事ができる。
E) A method of reducing the protective colloid property of the dispersion medium. For example, in the case of gelatin, by adding an oxidizing agent to oxidize the methionine group of gelatin to a methionine sulfoxide group, the protective colloid property is lowered and the twin plane formation probability is increased. Further, by adding phthalic anhydride to amidate the amino group of gelatin, the protective colloid property is lowered. That is, the number of adsorbing groups of the dispersion medium or the number of specific adsorbing groups is reduced to 0 to 90% of the original number, preferably 1 to 60%, and more preferably 1 to 30%. For gelatin,
It applies to the number of methionine groups, imidazole groups, alcohol groups, and amino groups. For the oxidizing agent, see Japanese Patent Laid-Open No.
1-3136, 61-3134, JP-A-6-13
No. 0528, No. 6-102485 and Japanese Patent Application No. 6-1
The description of No. 02485 can be referred to, and H 2 O 2 can be used more preferably. Regarding chemical modification of the dispersion medium, edited by Abiko Yoshihiro, Nishikawa and Gelatin, Maruzen Osaka Branch (1987), AG Ward et al., The Science an
d Technology of Gelatin, Academic Press, London
(1977), Biochemistry Experiment Course 1-IV, Tokyo Kagaku Dojin (1977) can be referred to.

【0016】f)その他、Ag+ 液とX- 液の添加速度
を該第1微粒子形成時の1.2〜30倍、好ましくは
1.5〜20倍に上げる方法、温度を該第1微粒子形成
時の3〜40℃、好ましくは5〜30℃だけ下げる方
法、を挙げる事ができる。双晶面形成機構的には、2個
以上の無双晶微粒子を合着させ、合着双晶粒子を形成す
る事も考えられる。しかし、X- 濃度が10-2.3モル/
リットル以上の条件で該第1微粒子乳剤を遠心分離し、粒子
同志を合着させた後にゼラチン溶液中に入れ、Ag+
- を添加し、該粒子を成長させても、双晶粒子形成は
生じなかった。従って該手法は有効な手法とはいえな
い。
F) In addition, a method of increasing the addition rate of the Ag + solution and the X - solution to 1.2 to 30 times, preferably 1.5 to 20 times that of the formation of the first fine particles, and the temperature to the first fine particles. There may be mentioned a method of lowering the temperature by 3 to 40 ° C., preferably 5 to 30 ° C. at the time of formation. In terms of the twin plane formation mechanism, it is considered that two or more twin-free grains are coalesced to form coalesced twin grains. However, the X - concentration is 10 -2.3 mol /
Even if the first fine grain emulsion is centrifuged under the condition of liter or more, and the grains are fused together, they are put into a gelatin solution and Ag + and X - are added to grow the grains, but twin crystal grains are formed. Did not occur. Therefore, this method is not an effective method.

【0017】2)AgX粒子表面上に吸着する第1吸着
剤を、該第1微粒子に吸着させ、Ag+ 液とX- 液を添
加する。該第1吸着剤の具体例としては次の化合物例を
挙げる事ができる。含窒素複素環式化合物(3〜7原子
環で窒素原子を1個以上含む環式化合物を含有する化合
物)で、具体例としてプリン塩基類(例えばプリン、ア
デニン、グアニン、カイネチン、キサンチン、尿酸
等)、ピリミジン塩基類(例えばウラシル、シトシン、
ピリミジン、チミン等)、を挙げる事ができる。その
他、特開昭62−218959号に記載されたチオ尿素
誘導体、特開昭62−299961号に記載された2価
イオウ含有のヘテロ環化合物、特開昭63−41845
号に記載された2価イオウ含有化合物、特開平2−34
号、特願平7−146891号に記載されたピリジニウ
ム4級塩化合物、特開平3−212639号、同4−2
83742号に記載されたアミノチオエーテル類、米国
特許5061617号記載のSCN- 塩化合物、特開平
4−335632号記載のトリアゾリウム塩を挙げる事
ができる。
2) The first adsorbent adsorbed on the surface of the AgX particles is adsorbed on the first fine particles, and the Ag + liquid and the X liquid are added. The following compound examples can be given as specific examples of the first adsorbent. A nitrogen-containing heterocyclic compound (a compound containing a cyclic compound containing at least one nitrogen atom in a ring of 3 to 7 atoms), and specific examples include purine bases (eg, purine, adenine, guanine, kinetin, xanthine, uric acid, etc.). ), Pyrimidine bases (eg, uracil, cytosine,
Pyrimidine, thymine, etc.). In addition, a thiourea derivative described in JP-A-62-218959, a divalent sulfur-containing heterocyclic compound described in JP-A-62-299996, and JP-A-63-41845.
Compounds containing divalent sulfur described in JP-A-2-34
Japanese Patent Application No. 7-146891, pyridinium quaternary salt compounds, JP-A-3-212639 and 4-2.
Examples thereof include aminothioethers described in No. 83742, SCN - salt compounds described in US Pat. No. 5,061,617, and triazolium salts described in JP-A-4-335632.

【0018】その他、プロトン化した有機アミン化合物
(第1級〜第3級アミン化合物)、第4級アンモニウム
化合物、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアミン、ポ
リビニルピリジン、ジカルコゲン有機化合物を挙げる事
ができる。これらの化合物の詳細に関しては、米国特許
第4400463号、同4713323号、同4804
621号、同5178997号、同5178998号、
同5183732号、同5185239号、同5176
992号、同5298387号、特開平7−16830
0号、新実験化学講座,第14巻(III,IV),丸善(1
977年)、L.G. Wade著, Organic Chemistry, Prenti
ce-Hall(1987年)、高分子大辞典,丸善(199
4年)、欧州特許第627657A号の記載を参考にす
る事ができる。更には従来公知の分光増感色素、かぶり
防止剤の中から有効な吸着剤を選ぶ事ができ、これらの
化合物の詳細に関しては後述の文献の記載を参考にする
事ができる。より好ましい吸着剤としてピリジニウム4
級塩、2価イオウ含有化合物を挙げる事ができる。
Other examples include protonated organic amine compounds (primary to tertiary amine compounds), quaternary ammonium compounds, polyvinylpyrrolidone, polyvinylamine, polyvinylpyridine, and dichalcogen organic compounds. For details of these compounds, see US Pat. Nos. 4,400,463, 4,713,323 and 4,804.
No. 621, No. 5178997, No. 5178998,
No. 5183732, No. 5185239, No. 5176
No. 992, No. 5298387, JP-A-7-16830.
No. 0, New Experimental Chemistry Course, Volume 14 (III, IV), Maruzen (1
977), by LG Wade, Organic Chemistry, Prenti
ce-Hall (1987), Macromolecule Dictionary, Maruzen (199)
4 years) and European Patent No. 627657A can be referred to. Further, an effective adsorbent can be selected from conventionally known spectral sensitizing dyes and antifoggants, and the details of these compounds can be referred to the description of the literature described later. Pyridinium 4 as a more preferable adsorbent
Mention may be made of graded salts and divalent sulfur-containing compounds.

【0019】次に前記化合物をより系統的に説明する。
含窒素複素環式化合物は4)項に、ピリジニウム4級塩化
合物、トリアゾリウム塩、プロトン化した有機アミン化
合物、第4級アンモニウム化合物、(ポリビニルアミ
ン、ポリビニルピリジンのプロトン化した態様)は広義
には1)項のオニウム塩基含有化合物に分類され、狭義に
はアンモニウム塩基含有化合物に分類される。ピリジニ
ウム4級塩化合物、トリアゾリウム塩はより狭義には2)
項の複素環窒素4級塩基含有化合物に分類される。かぶ
り防止剤は4)項に、分光増感色素は5)項に分類される。
プロトン化していないポリビニルピロリドン、ポリビニ
ルピリジンは4)項に分類される。
Next, the above compound will be described more systematically.
The nitrogen-containing heterocyclic compound is described in 4) in the broad sense of the pyridinium quaternary salt compound, triazolium salt, protonated organic amine compound, quaternary ammonium compound, (protonated embodiment of polyvinylamine, polyvinylpyridine). It is classified as an onium base-containing compound in 1), and is narrowly classified as an ammonium base-containing compound. Pyridinium quaternary salt compounds and triazolium salts are more narrowly defined as 2).
It is classified as a heterocyclic nitrogen quaternary base-containing compound. Antifoggants are classified in 4) and spectral sensitizing dyes are classified in 5).
Non-protonated polyvinylpyrrolidone and polyvinylpyridine are classified in 4).

【0020】1)オニウム塩基含有化合物 下記一般式(I−1)〜(I−8)で表わされるオニウ
ム塩基を1分子中に1基以上、好ましくは2〜10
4 基、より好ましくは3〜103 基含有する化合物。
1) Onium base-containing compound One or more onium bases represented by the following general formulas (I-1) to (I-8) in one molecule, preferably 2 to 10
Compounds containing 4 groups, more preferably 3 to 10 3 groups.

【0021】[0021]

【化1】 Embedded image

【0022】式中、R1 〜R3 はそれぞれ同じであって
も異なってもよく、それぞれ、水素原子または、アルキ
ル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基を表わ
し、該水素原子数は2個以下が好ましく、1個以下がよ
り好ましく、0個が更に好ましい。即ち、炭素数1〜2
0の直鎖または分枝アルキル基、シクロアルキル基、炭
素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアラル
キル基、アリール基が好ましい。これらの基は下記置換
基で置換されていてもよい。Y- はアニオン(負荷電の
原子または原子群)を表わす。例えば酸基、OH- 基、
ハロゲンイオンを挙げる事ができ、具体例としてC
- 、Br- 、NO3 - 、0.5SO4 2−、CH3 CO
- 、p−トルエンスルホナートを挙げる事ができる。
2 はR1またはR3 と閉環を形成する事もできる。な
お、該オニウム塩基を1分子中に1基のみ有する化合物
の場合や、特に記載がない場合は、(I−1)〜(I−
8)式の自由結合手はR4 基に結合している。R4 基は
1 〜R3 と同じ定義の基を表わす。該置換可能な基と
しては以下の基(以後、これら全体をSB1とよぶ)を
挙げる事ができる。ハロゲン原子(例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば、メ
チル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、
t−ブチル基、n−オクチル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、アリル
基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基等)、アルキニ
ル基(例えば、プロパルギル基、3−ペンチニル基
等)、アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル
基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、4−メチルフェニル基等)、ヘテロ環基(例えば、
フリル基、イミダゾリル基、ピペリジル基、モルホリノ
基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ
基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェ
ノキシ基、2−ナフチルオキシ基等)、アミノ基(例え
ば、無置換アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ
基、アニリノ基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチ
ルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等)、ウレイド基(例
えば、無置換ウレイド基、N−メチルウレイド基、N−
フェニルウレイド基等)、ウレタン基(例えば、メトキ
シカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基
等)、スルホニルアミノ基(例えば、メチルスルホニル
アミノ基、フェニルスルホニルアミノ基等)、スルファ
モイル基(例えば、無置換スルファモイル基、N,N−
ジメチルスルファモイル基、N−フェニルスルファモイ
ル基等)、カルバモイル基(例えば、無置換カルバモイ
ル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、N−フェニル
カルバモイル基等)、スルホニル基(例えば、メシル
基、トシル基等)、スルフィニル基(例えば、メチルス
ルフィニル基、フェニルスルフィニル基等)、アルキル
オキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル
基(例えば、フェノキシカルボニル基等)、アシル基
(例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピ
バロイル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ
基、ベンゾイルオキシ基等)、リン酸アミド基(例え
ば、N,N−ジエチルリン酸アミド基等)、アルキルチオ
基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等)、アリー
ルチオ基(例えば、フェニルチオ基等)、シアノ基、ス
ルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基、ニ
トロ基、スルフィノ基、アンモニオ基(例えば、トリメ
チルアンモニオ基等)、ホスホニオ基、ヒドラジノ基等
である。これらの基はさらに置換されていてもよい。ま
た置換基が二つ以上あるときは同じでも異なっていても
よい。(I−1)〜(I−8)のオニウム塩基の炭素原
子総数は1〜30が好ましく、2〜20がより好まし
い。
In the formula, R 1 to R 3 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or an aryl group, and the number of hydrogen atoms is 2. The following is preferable, one or less is more preferable, and 0 is further preferable. That is, carbon number 1-2
A straight-chain or branched alkyl group having 0, a cycloalkyl group, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 6 to 20 carbon atoms, and an aryl group are preferable. These groups may be substituted with the following substituents. Y - represents an anion (negatively charged atom or atomic group). For example, acid groups, OH - groups,
Halogen ions can be mentioned, and specific examples include C
l -, Br -, NO 3 -, 0.5SO 4 2-, CH 3 CO
O - and p-toluenesulfonate can be exemplified.
R 2 can also form a ring closure with R 1 or R 3 . In the case of a compound having only one onium base in one molecule, or unless otherwise specified, (I-1) to (I-
The free bond of the formula 8) is bonded to the R 4 group. R 4 represents a group having the same definition as R 1 to R 3 . Examples of the substitutable group include the following groups (hereinafter, these are collectively referred to as SB1). Halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group,
t-butyl group, n-octyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc., alkenyl group (eg, allyl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group, etc.), alkynyl group (eg, propargyl group, 3-pentynyl group) Aralkyl group (e.g., benzyl group, phenethyl group, etc.), aryl group (e.g., phenyl group, naphthyl group, 4-methylphenyl group, etc.), heterocyclic group (e.g.,
Furyl group, imidazolyl group, piperidyl group, morpholino group, etc.), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, butoxy group, etc.), aryloxy group (eg, phenoxy group, 2-naphthyloxy group, etc.), amino group ( For example, unsubstituted amino group, dimethylamino group, ethylamino group, anilino group, etc., acylamino group (eg, acetylamino group, benzoylamino group, etc.), ureido group (eg, unsubstituted ureido group, N-methylureido group) , N-
Phenylureido group, etc.), urethane group (eg, methoxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group, etc.), sulfonylamino group (eg, methylsulfonylamino group, phenylsulfonylamino group, etc.), sulfamoyl group (eg, unsubstituted sulfamoyl group) , N, N-
Dimethylsulfamoyl group, N-phenylsulfamoyl group, etc.), carbamoyl group (eg, unsubstituted carbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, etc.), sulfonyl group (eg, mesyl group, A sulfinyl group (eg, a methylsulfinyl group, a phenylsulfinyl group, etc.), an alkyloxycarbonyl group (eg, a methoxycarbonyl group,
Ethoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenoxycarbonyl group, etc.), acyl group (eg, acetyl group, benzoyl group, formyl group, pivaloyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetoxy group, benzoyloxy group, etc.) ), A phosphoric acid amide group (eg, N, N-diethylphosphoric acid amide group, etc.), an alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, etc.), an arylthio group (eg, phenylthio group, etc.), a cyano group, a sulfo group, A carboxy group, a hydroxy group, a phosphono group, a nitro group, a sulfino group, an ammonio group (for example, a trimethylammonio group, etc.), a phosphonio group, a hydrazino group, and the like. These groups may be further substituted. When there are two or more substituents, they may be the same or different. 1-30 are preferable and, as for the carbon atom total number of the onium base of (I-1)-(I-8), 2-20 are more preferable.

【0023】(I−1)式でR1 〜R4 が水素原子以外
の原子の場合、該N+ はpH1.0〜12.0の領域に
おいてpHに依存せず、常にN+ を保つ。しかし、R1
〜R 4 の内の1つ以上が水素原子の場合、該水素原子の
pKa値(Kaは酸解離定数)以上のpHにおいては該
水素原子がプロトンとして解離し、オニウム塩基ではな
くなる確率が増す。この場合は、(該pKa+0.3)
以下、好ましくは該pKa以下、より好ましくは(該p
Ka−0.3)以下のpH条件で反応溶液中に該化合物
を共存させる事を指す。
In the formula (I-1), R1~ RFourIs other than hydrogen atom
If the atom is+Is in the range of pH 1.0-12.0
Independently of pH, N+Keep. But R1
~ R FourWhen one or more of are hydrogen atoms,
At pH values above the pKa value (Ka is the acid dissociation constant),
The hydrogen atom dissociates as a proton, not an onium base.
Increase the probability of becoming. In this case, (the pKa + 0.3)
Or less, preferably the pKa or less, more preferably (the p
Ka-0.3) and the compound in the reaction solution under pH conditions below.
Means to coexist.

【0024】前記オニウム塩基を次の態様で2基以上、
好ましくは3〜103 基を連結する事もできる。(i)
2価の連結基Lを介して該自由結合手間で、またはR1
基を介して連結する。Lはアルキレン、アリーレン、ア
ルケニレン、−SO2 −、−SO−、−O−、−S−、
−CO−、−NR5 −(R5 はアルキル基、アリール
基、水素原子を表わす)を単独または組合せて構成され
るものを表す。好ましくはアルキレン、アルケニレンで
ある。(ii)重合体鎖で結合する。結合されるオニウム
塩基は同一種であっても互いに異なっていてもよく、前
記(I−1)〜(I−8)式の2種以上の基を連結した
態様でもよい。その場合の各種オニウム基の総計は2〜
104 基、好ましくは3〜103 基である。
Two or more of the above-mentioned onium bases are prepared in the following manner,
Preferably, 3 to 10 3 groups can be linked together. (I)
Via the divalent linking group L via the free bond, or R 1
It connects through a group. L is an alkylene, arylene, alkenylene, -SO 2 -, - SO - , - O -, - S-,
—CO—, —NR 5 — (R 5 represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom) alone or in combination. Preferred are alkylene and alkenylene. (Ii) Bonding with a polymer chain. The onium bases to be bonded may be of the same kind or different from each other, and may be an embodiment in which two or more kinds of groups of the formulas (I-1) to (I-8) are linked. In that case, the total of various onium groups is 2 to
It is 10 4 , preferably 3 to 10 3 .

【0025】該重合鎖の形成方法としては、次の方法を
挙げる事ができる。 (a)逐次重合法 2つの官能基間の重縮合反応を利用する方法(例:ポリ
アミド結合鎖、ポリエステル結合鎖、酸無水物結合
鎖)、と2つの官能基間の重付加反応を利用する方法
(例:ポリウレタン鎖、ポリ尿素鎖)を挙げる事ができ
る。 (b)連鎖重合 例えば不飽和結合をもつモノマーが活性種(ラジカル、
アニオン、カチオン)に付加する反応をくり返す事によ
って重合体を生成する様式(例:ビニルモノマーの重合
によるポリビニル重合体、ポリスチレン重合体)。前記
オニウム基を置換基として有するモノマーを重合する事
により、または、ポリマーへの置換反応により、前記該
オニウム塩基を有する化合物を合成する事ができる。該
重合体鎖としては鎖状鎖が好ましく、網状鎖は溶解し難
い為に好ましくない。
The following method can be mentioned as a method for forming the polymer chain. (A) Sequential polymerization method A method utilizing a polycondensation reaction between two functional groups (eg, a polyamide-bonded chain, a polyester-bonded chain, an acid anhydride-bonded chain), and a polyaddition reaction between two functional groups. Methods (eg, polyurethane chains and polyurea chains) can be mentioned. (B) Chain polymerization For example, a monomer having an unsaturated bond is an active species (radical,
A mode in which a polymer is generated by repeating the reaction of adding to an anion or a cation (eg, a polyvinyl polymer or a polystyrene polymer by polymerization of a vinyl monomer). The compound having the onium base can be synthesized by polymerizing a monomer having the onium group as a substituent or by a substitution reaction to a polymer. As the polymer chain, a chain chain is preferable, and a network chain is not preferable because it is difficult to dissolve.

【0026】特にpH1.5〜12.0領域内にpKa
値(Kaは酸解離定数)を有する酸解離基を有するモノ
マーとの共重合体が好ましい。一般式で表わすと、(I
−9)式で表わされる。ここでR8 は前記R1 〜R3
同様の置換基を表わす。R9は該酸解離基を有する置換
基を表わす。n1は1〜5000、好ましくは1〜10
00、より好ましくは2〜300の整数を表わし、n
2、n3は0以上の整数、好ましくは1〜104 、より
好ましくは2〜103 の整数を表わす。この場合、pH
を該pKa値より上げたり、下げたりする事により、該
9 基の水溶性の程度を変化させ、該重合体の吸着性を
変化させる事ができ好ましい。例えば−COOH基のよ
うな酸基の場合、そのpKa値以上、好ましくは(pK
a+0.3)以上のpHに調節する事により(−COO
H→−COO- +H+ )となり、該基の親水性が上がり
AgX粒子に吸着していた該重合体の脱着が促進され
る。即ち、該重合体が不要になった場合に、反応溶液の
pH値を調節する事により、該重合体をAgX粒子から
脱着、除去する事ができる利点がある。−NH2 基のよ
うな塩基の場合はそのpKa値以下、好ましくは(pK
a−0.3)以下に下げる事により(−NH2 +H+
−NH3 + ) となり、水溶性が増す。該解離性基として
−SO3 M、−SO2 M、−OSO3 M、−COOM、
−NH 2 、−NHR1 、−NR1 3 、−SO4 M、−
OPO3 2 、(−O)2 POOMを挙げる事ができ、
好ましくは−SO3 M、−SO2 M、−COOM、−N
2 、−NHR1 、−OPO3 2 である。ここでMは
H、アルカリ金属、又は−NH4 を表わす。
In particular, pKa is within the pH range of 1.5 to 12.0.
Having an acid dissociative group having a value (Ka is an acid dissociation constant)
Copolymers with mers are preferred. When expressed by a general formula, (I
-9) It is represented by a formula. Where R8Is R1~ RThreeWhen
Represents a similar substituent. R9Is a substitution having the acid dissociative group
Represents a group. n1 is 1 to 5000, preferably 1 to 10
00, more preferably an integer of 2 to 300, and n
2, n3 is an integer of 0 or more, preferably 1 to 10Four,Than
Preferably 2-10ThreeRepresents the integer. In this case, the pH
By raising or lowering the pKa value
R9The degree of water solubility of the group is changed to improve the adsorptivity of the polymer.
It can be changed and is preferable. For example, the -COOH group
In the case of such an acid group, its pKa value or more, preferably (pK
a-0.3) or more by adjusting the pH (-COO
H → -COO-+ H+), The hydrophilicity of the group increases
The desorption of the polymer adsorbed on the AgX particles is promoted.
You. That is, when the polymer is no longer needed, the reaction solution
By adjusting the pH value, the polymer was removed from the AgX particles.
It has the advantage of being removable and removable. -NHTwoBased
In the case of such a base, the pKa value or less, preferably (pK
a-0.3) or lower (-NHTwo+ H+
-NHThree +) Becomes more soluble in water. As the dissociative group
-SOThreeM, -SOTwoM, -OSOThreeM, -COOM,
-NH Two, -NHR1, -NR1RThree, -SOFourM,-
OPOThreeMTwo, (-O)TwoYou can mention POM,
Preferably -SOThreeM, -SOTwoM, -COOM, -N
HTwo, -NHR1, -OPOThreeMTwoIt is. Where M is
H, alkali metal, or -NHFourRepresents

【0027】またR8 に親水性基を導入し、(n1/n
2)比を種々変化させると、該重合体の吸着特性をほぼ
連続的に変化させる事ができ好ましい。該水溶性基とし
ては、−OH、−CN、−CONH2 、−COOC
3 、−(CH2 CH2 O)−、−CONH−を挙げる
事ができる。これらの基を合有するモノマーを重合さ
せ、前記(I−9)式で表わされる化合物を合成すれば
よい。該(n1/n2)比および(n1/n3)比は1
-4〜104 、好ましくは10-3〜103 領域で好まし
い比率を選ぶ事ができる。該モノマーの具体例として
(I−11)〜(I−16)
Further, by introducing a hydrophilic group into R 8 , (n1 / n
2) It is preferable to change the ratio variously, because the adsorption characteristics of the polymer can be changed almost continuously. As the water-soluble group, -OH, -CN, -CONH 2, -COOC
H 3, - (CH 2 CH 2 O) -, - CONH- can be exemplified. The compound represented by the formula (I-9) may be synthesized by polymerizing a monomer having these groups. The (n1 / n2) ratio and the (n1 / n3) ratio are 1
0 -4 to 10 4, preferably you can choose a preferred ratio of 10 -3 to 10 3 region. Specific examples of the monomer include (I-11) to (I-16)

【0028】[0028]

【化2】 Embedded image

【0029】を挙げる事ができる。ここでR10は、R7
〜R9 のいずれかを指す。R11は炭素数1〜10のアル
キル基を表わす。該重合体鎖の具体例として、ポリビニ
ル鎖、ポリスチレン鎖、ポリアミド鎖、ポリエステル
鎖、ポリエーテル鎖、ポリエーテルスルホン鎖、ポリエ
ーテルケトン鎖、ポリシリコーン鎖、ポリトリアジン
鎖、ポリエン鎖、ポリグリコース鎖を挙げる事ができ、
ポリビニル鎖、ポリアミド鎖、ポリエステル鎖がより好
ましい。
The following can be mentioned. Where R 10 is R 7
It refers to any of ~R 9. R 11 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples of the polymer chain include polyvinyl chain, polystyrene chain, polyamide chain, polyester chain, polyether chain, polyethersulfone chain, polyetherketone chain, polysilicone chain, polytriazine chain, polyene chain, polyglycose chain. I can give you
Polyvinyl chains, polyamide chains, and polyester chains are more preferable.

【0030】また、前記(I−9)式の共重合体の具体
例を(I−21)〜(I−24)に示した。また、これ
らの化合物の具体例を(I−31)〜(I−54)に示
した。これらの重合体鎖の合成方法の詳細に関しては日
本化学会編、化学便覧、応用化学編、第8章、丸善(1
986年)、鈴木周一ら編、化学ハンドブック、第VIII
章、朝倉書店(1993年)、日本化学会編、新実験化
学講座、第19巻、丸善(1978年)、米国特許第4
525446号の記載を参考にする事ができる。
Specific examples of the copolymer of the formula (I-9) are shown in (I-21) to (I-24). Specific examples of these compounds are shown in (I-31) to (I-54). For details of the synthesis method of these polymer chains, see the Chemical Society of Japan, Chemical Handbook, Applied Chemistry, Chapter 8, Maruzen (1
986), edited by Shuichi Suzuki et al., Chemistry Handbook, Chapter VIII
Chapter, Asakura Shoten (1993), edited by The Chemical Society of Japan, New Laboratory Chemistry, Vol. 19, Maruzen (1978), US Patent No. 4
525446 can be referred to.

【0031】[0031]

【化3】 Embedded image

【0032】[0032]

【化4】 Embedded image

【0033】[0033]

【化5】 Embedded image

【0034】[0034]

【化6】 [Chemical 6]

【0035】[0035]

【化7】 Embedded image

【0036】その他の具体例としてトリアゾール類のオ
ニウム態様であるトリアゾリウム塩を挙げる事ができ、
その具体的化合物例を(I−55)〜(I−58)に示
した。該化合物のその他の詳細に関しては特開平4−3
35632号の記載を参考にする事ができる。これらの
内、スルホニウム塩基、ホスホニウム塩基、セレノニウ
ム塩基、アルソニウム塩基、スチボニウム塩基、スタン
ノニウム塩基、ヨードニウム塩基、複素環4級塩基含有
化合物がより好ましい。
Another specific example is a triazolium salt which is an onium form of triazoles,
Specific examples of the compounds are shown in (I-55) to (I-58). For other details of the compound, see JP-A No. 4-3
No. 35632 can be referred to. Among these, sulfonium base, phosphonium base, selenonium base, arsonium base, stibonium base, stannonium base, iodonium base, and heterocyclic quaternary base-containing compound are more preferable.

【0037】(2)複素環窒素4級塩基含有化合物 前記(1)記載のオニウム塩基において複素環窒素4級
塩基含有化合物がより好ましい。該塩基を一般式で表わ
すと(II−1)〜(II−4)式で表わされる。該基を1
分子中に1基以上、好ましくは2〜300基、より好ま
しくは3〜100基含有する化合物。ここでA1 〜A4
は含窒素有機ヘテロ環を完成させる為の非金属原子群を
表わし、それぞれが同一でも異なっていてもよい。O、
N、S原子を含んでもよく、ベンゼン環が縮環していて
もよい。A1 〜A6 で構成されるヘテロ環は置換基を有
してもよく、該置換基はそれぞれが同一でも異なってい
てもよい。置換基としては前記SB1を挙げる事ができ
る。好ましい例としてはA1 〜A4 は5〜6員環(例え
ば、ピリジン環、イミダゾール環、チアゾール環、オキ
サゾール環、ピラジン環、ピリミジン環など)をあげる
ことができ、さらに好ましい例としてピリジン環をあげ
ることができる。(II−1)〜(II−4)式のカチオン
基を、2価の連結基Lを介して、または重合体鎖を介し
て互いに連結した(該カチオン基を2基以上有する化合
物)ものを挙げる事ができる。連結するカチオン基は互
いに同一でも、異なっていてもよい。Lは前記Lと同じ
2価の連結基を表わす。好ましい例としてアルキレン、
アルケニレンをあげることができる。該重合体鎖として
は前記(B)−(1)に記載の重合体鎖を挙げる事がで
きる。R21、R22は前記R1 、R3 と同じ定義の基を表
わし、Y- も前記Y- と同じ基を表わす。該化合物の具
体例を(II−11)〜(II−15)に示した。即ち、
(I−9)式の(B1−R7 )くり返しユニットとして
(II−11)〜(II−15)のカチオン含有くり返しユ
ニットを導入した態様を挙げる事ができる。この場合の
n1、n2、n3の規定は前記規定と同じである。
(2) Heterocyclic nitrogen quaternary base-containing compound Among the onium bases described in (1) above, a heterocyclic nitrogen quaternary base-containing compound is more preferable. The base is represented by the general formulas (II-1) to (II-4). The group is 1
A compound having one or more groups, preferably 2 to 300 groups, and more preferably 3 to 100 groups in the molecule. Where A 1 to A 4
Represents a non-metal atom group for completing the nitrogen-containing organic heterocycle, and each may be the same or different. O,
It may contain N and S atoms, and the benzene ring may be condensed. The heterocycle composed of A 1 to A 6 may have a substituent, and the substituents may be the same or different. Examples of the substituent include SB1 described above. As a preferred example, A 1 to A 4 can be a 5- or 6-membered ring (for example, a pyridine ring, an imidazole ring, a thiazole ring, an oxazole ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, etc.), and a more preferred example is a pyridine ring. I can give you. (II-1) to (II-4) cation groups are linked to each other via a divalent linking group L or a polymer chain (a compound having two or more cation groups). I can name it. The cationic groups to be linked may be the same as or different from each other. L represents the same divalent linking group as L above. As a preferred example, alkylene,
You can give alkenylene. Examples of the polymer chain include the polymer chains described in the above (B)-(1). R 21 and R 22 represent the same group as defined for R 1 and R 3, and Y also represents the same group as Y . Specific examples of the compound are shown in (II-11) to (II-15). That is,
(I-9) expression (B1-R 7) repeatedly as a unit (II-11) can be mentioned aspects of introducing a cation-containing repeating units of ~ (II-15). In this case, the rules for n1, n2, and n3 are the same as the above rules.

【0038】(i)より好ましい化合物は一般式(II−
21)式と(II−22)式で表わされる。ここでR23
24はR1 、R2 と同様の置換基を表わし、A5 〜A8
はA 1 〜A3 と同じで、含窒素ヘテロ環を完成させる為
の非金属原子群を表わし、それぞれが同じでも異なって
いてもよい。n11は0または1を表わし、分子内塩の
場合には0である。n12は0または1を表わす。Lは
前記と同じ2価の連結基を表わす。Y- は前記と同じア
ニオンを表わす。該化合物の具体例を(II−31)〜
(II−42)に示した。該化合物に関するその他の詳細
に関しては特開平8−29902号、同2−34号の記
載を参考にする事ができる。
The compound more preferable than (i) is represented by the general formula (II-
21) and (II-22). Where Rtwenty three,
Rtwenty fourIs R1, RTwoRepresents a substituent similar toFive~ A8
Is A 1~ AThreeSame as above, to complete the nitrogen-containing heterocycle
Represents a non-metallic atomic group of
May be. n11 represents 0 or 1, which is an intramolecular salt.
In some cases it is zero. n12 represents 0 or 1. L is
It represents the same divalent linking group as described above. Y-Is the same as above
Represents Nion. Specific examples of the compound (II-31) to
(II-42). Other details about the compound
For details, see Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 8-29902 and 2-34.
You can refer to the article.

【0039】[0039]

【化8】 Embedded image

【0040】[0040]

【化9】 Embedded image

【0041】[0041]

【化10】 Embedded image

【0042】[0042]

【化11】 Embedded image

【0043】(ii)より好ましい化合物例として更に一
般式(III −1)式で表わされる化合物を挙げる事がで
きる。ここでR31は前記R1 、R2 と同様の置換基を表
わし、R32〜R36はそれぞれ同じでも、異なっていても
よく、それぞれH原子またはこれと置換可能な基を表わ
す。該置換可能な基として前記SB1を挙げる事ができ
る。R32とR33、R33とR34、R34とR35、R35とR36
は縮環していてもよい。但し、R32〜R36の少なくとも
1つが、アリール基であり、R31がアラルキル基である
態様がより好ましい。Y- は前記Y- と同じである。R
32とR33、R33とR34、R34とR35、R35とR36は縮環
してキノリン環、イソキノリン環、アクリジン環を形成
してもよい。以下の(III −2)〜(III −14)に該
化合物の具体的化合物例を示した。該化合物のその他の
詳細に関しては特願平7−146891号の記載を参考
にする事ができる。
As a more preferable example of the compound (ii), a compound represented by the general formula (III-1) can be given. Here, R 31 represents the same substituent as R 1 and R 2, and R 32 to R 36 may be the same or different and each represents an H atom or a group substitutable with it. Examples of the substitutable group include SB1. R32 and R33 , R33 and R34 , R34 and R35 , R35 and R36
May be fused. However, it is more preferable that at least one of R 32 to R 36 is an aryl group and R 31 is an aralkyl group. Y - is the Y - is the same as. R
32 and R 33 , R 33 and R 34 , R 34 and R 35 , and R 35 and R 36 may be fused to form a quinoline ring, isoquinoline ring or acridine ring. Specific compound examples of the compound are shown in the following (III-2) to (III-14). For the other details of the compound, the description in Japanese Patent Application No. 7-146891 can be referred to.

【0044】[0044]

【化12】 Embedded image

【0045】[0045]

【化13】 Embedded image

【0046】(iii)より好ましい化合物例として更に、
一般式(I−9)式で表わされ、かつ、該オニウム塩基
が(II−3)式または(II−4)式で表わされる化合
物。更には1分子中に該複素環窒素4級塩基と非環状第
4級アンモニウム塩基をそれぞれ1基以上含有する化合
物を挙げる事ができる。好ましくは各々を1〜10
4 基、好ましくは2〜103 基含有した化合物を挙げる
事ができる。その具体的化合物例を(III −21)に示
した。該化合物の詳細に関しては世界特許94−205
51号の記載を参考にする事ができる。前記(1)、
(2)の化合物の合成法およびその他の詳細に関しては
米国特許第3017270号、欧州特許第039209
2B1、米国特許第5418078号、同452544
6号、特開平2−293838号、同7−306489
号の記載を参考にする事ができる。
(Iii) As a more preferred compound example,
The compound represented by the formula (I-9), and the onium base represented by the formula (II-3) or (II-4). Further, there can be mentioned a compound containing at least one heterocyclic nitrogen quaternary base and at least one acyclic quaternary ammonium base in one molecule. Preferably each is 1 to 10
Examples thereof include compounds containing 4 groups, preferably 2 to 10 3 groups. Specific examples of the compounds are shown in (III-21). For details of the compound, refer to World Patent No. 94-205.
No. 51 can be referred to. (1),
Regarding the synthetic method and other details of the compound of (2), US Pat. No. 3,017,270 and European Patent No. 039209.
2B1, U.S. Pat.
6, JP-A-2-2933838 and JP-A-7-306489.
You can refer to the description of the issue.

【0047】(3)芳香族環に1基以上のヨード基と1
基以上の−OH基が置換した芳香族化合物で、ヨード基
は1〜8基、好ましくは2〜5基置換している事が好ま
しく、ヒドロキシ基が1〜3基、置換している事が好ま
しい。ここで芳香族化合物とはベンゼン核をもつ炭素環
式化合物を指し、ベンゼン環に他のベンゼン環や複素環
が縮合した化合物(例えばナフタリン、アントラセン、
キノリン、インドール)も含まれる。芳香族環とは該ベ
ンゼン核、該縮合ベンゼン環、該縮合複素環が含まれる
が、好ましくは該ベンゼン核、該ベンゼン環を指す。よ
り好ましくは少なくとも1個のヨード置換基を含む8−
ヒドロキシキノリン〔一般式は(IV−1)式で表わされ
る〕、少なくとも2個のヨード置換基を有するフェノー
ルでありその具体的化合物例を(IV−2)〜(IV−1
2)に示した。
(3) One or more iodo groups and one aromatic ring
In the aromatic compound in which the -OH groups or more are substituted, the iodine group is preferably substituted by 1 to 8 groups, preferably 2 to 5 groups, and the hydroxy group is substituted by 1 to 3 groups. preferable. Here, the aromatic compound means a carbocyclic compound having a benzene nucleus, and a compound in which another benzene ring or a heterocycle is condensed with the benzene ring (for example, naphthalene, anthracene,
Quinoline and indole) are also included. The aromatic ring includes the benzene nucleus, the condensed benzene ring, and the condensed heterocycle, and preferably the benzene nucleus and the benzene ring. More preferably 8-containing at least one iodo substituent
Hydroxyquinoline [general formula is represented by formula (IV-1)], a phenol having at least two iodo-substituents, and specific compound examples thereof are (IV-2) to (IV-1).
2).

【0048】(IV−2) 8−ヒドロキシ−7−ヨード
−5−キノリンスルホン酸 (IV−3) 5,7−ジヨード−8−ヒドロキシキノリ
ン (IV−4) 5−クロロ−8−ヒドロキシ−7−ヨード
キノリン (IV−5) 8−ヒドロキシ−7−ヨード−5−キノリ
ンカルボン酸 これらの化合物の詳細に関しては米国特許第54118
53号、同5411852号の記載を参考にする事がで
きる。
(IV-2) 8-Hydroxy-7-iodo-5-quinolinesulfonic acid (IV-3) 5,7-diiodo-8-hydroxyquinoline (IV-4) 5-chloro-8-hydroxy-7 -Iodoquinoline (IV-5) 8-hydroxy-7-iodo-5-quinolinecarboxylic acid For details of these compounds, see US Pat. No. 54118.
The description of No. 53 and No. 5411852 can be referred to.

【0049】[0049]

【化14】 Embedded image

【0050】4)含窒素複素環式化合物 3〜7員環中に窒素原子を1コ以上含有する複素環を1
分子中に1個以上含有する化合物であり、好ましくは次
の化合物を挙げる事ができる。 (a)アザインデン類 より好ましくはテトラアザインデン類であり、具体例と
して、キサンチノイド類〔一般式(V−1)式で表わさ
れ、具体例としてキサンチン、尿酸を挙げる事ができ
る〕、アミノアザインデン類(具体例としてプリン、ア
デニン、グアニン、カイネチンを挙げる事ができる)を
挙げる事ができる。 (b)ジアジン類(ピリダジン類、ピリミジン類、ピラ
ジン類) この内、置換ピリミジン類が好ましい。該置換基として
は前記SB1を挙げる事ができる。具体的化合物例とし
てウラシル、シトシン、チミン、(V−2)〜(V−
5)式の化合物を挙げる事ができる。 これらの化合物の詳細に関しては特公平5−40298
号、特開平5−265111号、同5−204077
号、同5−232612号、特開昭64−8325号、
日本化学会編、新実験化学講座第14巻、第9章、丸善
(1978年)の記載を参考にする事ができる。かぶり
防止剤として知られる含窒素複素環化合物としてはアゾ
ール類、メルカプトピリミジン類、メルカプトトリアジ
ン類、アザインデン類を挙げることができる。 5)分光増感色素 シアニン色素、メロシアニン色素、複合メロシアニン色
素を挙げる事ができる。シアニン色素は2個の含窒素複
素環をメチン基−CH=またはその連鎖で結合した陽イ
オン構造をもつ色素を指し、酸基を1個以上、より好ま
しくは1〜2個有する事が好ましい。ここで酸基とは−
SO3 - 、−OSO3 - 、−COO- を指し、好ましく
は−SO3 - 基を指す。イミダシアニン、オキサシアニ
ン、チアシアニン、セレナシアニンおよびその2種の複
合シアニンが好ましく、イミダシアニン、オキサシアニ
ンがより好ましい。これら4)、5)の化合物の詳細に
関してはResearch Disclosure 、501巻、アイテム3
6544、1994年9月(以後、「R.D.1994
年」と記す)、T.H.James 編、写真過程の理論、第8
章、Macmillan 社(1977年)および後述の文献の記
載を参考にする事ができる。具体的化合物例を(VI−
1)〜(VI−3)に示した。分光増感色素もアンモニウ
ム塩基含有化合物の一種である。
4) Nitrogen-Containing Heterocyclic Compound One heterocyclic ring containing one or more nitrogen atoms in a 3- to 7-membered ring is used.
It is a compound containing one or more molecules, and the following compounds are preferred. (A) Azaindenes More preferred are tetraazaindenes, and specific examples thereof include xanthinoids [represented by the general formula (V-1), and specific examples thereof include xanthine and uric acid], aminoaza Examples thereof include indenes (specific examples thereof include purine, adenine, guanine, and kinetin). (B) Diazines (pyridazines, pyrimidines, pyrazines) Of these, substituted pyrimidines are preferable. Examples of the substituent include SB1. Specific examples of compounds include uracil, cytosine, thymine, (V-2) to (V-
5) Compounds of the formula can be mentioned. For details of these compounds, see JP-B-5-40298.
No. 5,265,111, and No. 5-204077.
No. 5,232,612, JP-A-64-8325,
Reference can be made to the description in the New Experimental Chemistry Course, Volume 14, Chapter 9, Maruzen (1978), edited by The Chemical Society of Japan. Examples of nitrogen-containing heterocyclic compounds known as antifoggants include azoles, mercaptopyrimidines, mercaptotriazines, and azaindenes. 5) Spectral sensitizing dyes: cyanine dyes, merocyanine dyes, and complex merocyanine dyes can be mentioned. The cyanine dye refers to a dye having a cation structure in which two nitrogen-containing heterocycles are bonded by a methine group —CH═ or a chain thereof, and preferably has one or more acid groups, more preferably one or two acid groups. Here, the acid group is-
It refers to SO 3 , —OSO 3 , and —COO , preferably the —SO 3 group. Imidacyanin, oxacyanine, thiacyanine, serenacyanine and complex cyanines of the two are preferable, and imidacyanin and oxacyanine are more preferable. For details of these 4) and 5) compounds, see Research Disclosure, Volume 501, Item 3.
6544, September 1994 (hereinafter referred to as “RD 1994
Year ”), edited by TH James, Theory of Photographic Process, 8th
Chapters, Macmillan, Inc. (1977) and the references below can be referred to. Examples of specific compounds (VI-
1) to (VI-3). Spectral sensitizing dyes are also one type of compounds containing ammonium base.

【0051】[0051]

【化15】 Embedded image

【0052】(V−2) 4,5,6−トリアミノピリ
ミジン (V−3) 4,6−ジアミノピリミジン−ヘミサルフ
ェイト−モノハイドレート (V−4) 2,4−ジアミノ−1,3,5−トリアジ
ン (V−5) 4,6−ビス(メチルアミノ)ピリミジン 6)SCN- 塩化合物 具体的化合物例としてHSCN、NaSCN、KSC
N、NH4 SCNを挙げる事ができる。一般式で表す
と、M1 + SCN- 、M2 2+ (SCN)2 2-であり、M
1 + は1価カチオンを表し、M2 2+ は2価カチオンを
表す。40℃の水に対する溶解度が10-3mol/リットル以
上、好ましくは10-2mol/リットル以上の可溶性塩を指す。
(V-2) 4,5,6-triaminopyrimidine (V-3) 4,6-diaminopyrimidine-hemisulfate-monohydrate (V-4) 2,4-diamino-1,3 , 5-Triazine (V-5) 4,6-bis (methylamino) pyrimidine 6) SCN - salt compound As specific compound examples, HSCN, NaSCN, KSC
N, can be mentioned NH 4 SCN. In the general formula, M 1 + SCN , M 2 2+ (SCN) 2 2− , M
1 + represents a monovalent cation, and M 2 2+ represents a divalent cation. It means a soluble salt having a solubility in water at 40 ° C. of 10 −3 mol / liter or more, preferably 10 −2 mol / liter or more.

【0053】7)その他に特開昭62−299961号
に記載された2価イオウ含有のヘテロ環基を有する化合
物、特開昭63−41845号に記載された2価イオウ
含有の有機化合物、特開平3−212639号、同4−
283742号に記載されたアミノチオエーテル類、特
開昭62−218959号に記載のチオ尿素またはその
誘導体を挙げる事ができる。 これらの化合物の一般式を(VII −1)〜(VII −4)
式に示し、それらの具体的化合物例を(VII −1a)〜
(VII −4d)式に示した。これらの化合物の詳細に関
してはそれぞれの化合物に対応する前記文献の記載を参
考にする事ができる。
7) In addition, compounds having a divalent sulfur-containing heterocyclic group described in JP-A-62-299961; divalent sulfur-containing organic compounds described in JP-A-63-41845; Kaihei 3-212639, 4-
The amino thioethers described in JP-A-283374 and the thiourea or its derivatives described in JP-A-62-218959 can be mentioned. The general formulas of these compounds are represented by (VII-1) to (VII-4)
Are shown in the formulas, and specific examples of these compounds (VII-1a) to
It is shown in the formula (VII-4d). The details of these compounds can be referred to the description of the above-mentioned literature corresponding to each compound.

【0054】[0054]

【化16】 Embedded image

【0055】[0055]

【化17】 Embedded image

【0056】[0056]

【化18】 Embedded image

【0057】式中のZ70は置換または無置換の飽和また
は不飽和ヘテロ環をイオウ原子と共に形成するに必要な
原子群を表わし、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄
原子から構成される原子群である。該複素環は3〜8員
環であり、該環は他の環と縮合して縮合環を形成しても
よい。該複素環は1つ以上の置換基を有してもよい。該
置換基としては前記SB1を挙げる事ができる。
Z 70 in the formula represents an atomic group necessary for forming a substituted or unsubstituted saturated or unsaturated heterocycle with a sulfur atom, and is an atom composed of a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. It is a group. The heterocyclic ring is a 3- to 8-membered ring, and the ring may be condensed with another ring to form a condensed ring. The heterocycle may have one or more substituents. Examples of the substituent include SB1.

【0058】X70はアルキル置換していてもよいアミノ
基、四級アルキルアンモニオ基、またはカルボキシ基を
表わし、L70、L71、L72は前記Lと同じ定義の2価の
有機連結基を表わす。Y- はアニオン基を表わし、前記
- と同じ定義である。mは四級アルキルアンモニオ基
の数と同じである。該アルキル基の炭素数は1〜3が好
ましい。M70は水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類
金属、置換または無置換のアルキル基、置換または無置
換のアリール基、置換または無置換の複素環基を表わ
す。X71はCO又はSO2 を表わす。R75はヒドロキシ
基、置換または無置換の(アルキル基、又はアリール
基、又は複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリール
オキシ基)を表わす。置換基としては前記SB1を挙げ
る事ができる。(VII−4)式の分子の炭素原子総数は
25以下が好ましく、20以下がより好ましい。第1吸
着剤としてはこれらの1種以上、好ましくは2種以上を
添加するが、該第1吸着剤の添加量は、飽和吸着量の
0.1〜100%が好ましく、1〜80%がより好まし
く、3〜60%が更に好ましい。該双晶面形成方法とし
ては前記(1) の(a) 〜(f) 、(2) の1)〜7)の方法の少な
くとも1つ以上、好ましくは2つ以上を併用して用いる
事ができる。該双晶面形成方法としては、前記(1) のb)
〜e)が好ましく、b)、c)、e)がより好ましく、c)、e)の
方法が更に好ましい。前記(1) の方法に対して(2) の方
法がより好ましく、(2) の方法の内、前記1)〜6)が好ま
しく、1)、2)、6)がより好ましく、1)、2)が更に好まし
い。
X 70 represents an amino group which may be alkyl-substituted, a quaternary alkylammonio group, or a carboxy group, and L 70 , L 71 and L 72 are divalent organic linking groups having the same definition as L above. Represents Y represents an anionic group and has the same definition as Y . m is the same as the number of quaternary alkylammonio groups. The alkyl group preferably has 1 to 3 carbon atoms. M 70 represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group. X 71 represents CO or SO 2 . R 75 represents a hydroxy group, substituted or unsubstituted (alkyl group or aryl group, or heterocyclic group, amino group, alkoxy group, aryloxy group). Examples of the substituent include SB1 described above. The total number of carbon atoms in the molecule of the formula (VII-4) is preferably 25 or less, more preferably 20 or less. As the first adsorbent, one or more, preferably two or more of these are added, and the addition amount of the first adsorbent is preferably 0.1 to 100% of the saturated adsorption amount, and 1 to 80%. More preferably, 3-60% is still more preferable. As the twin plane forming method, at least one, preferably two or more of the methods (1) to (f) in (1) and 1) to 7) in (2) above may be used in combination. it can. The twin plane formation method includes b) in the above (1)
To e) are preferable, b), c) and e) are more preferable, and the methods of c) and e) are further preferable. The method of (2) is more preferable with respect to the method of (1), among the method of (2), 1) to 6) are preferable, 1), 2) and 6) are more preferable, 1), 2) is more preferable.

【0059】ピリジニウム4級塩のようなカチオン性有
機化合物は、AgX粒子の{111}面上のハロゲンイ
オンX- に吸着し、{111}面の成長を抑制する。こ
れは例えば、該粒子のイオン電導度を誘電損失測定法で
測定すると、イオン電導度が増加する事や、該粒子に対
する水溶液中での吸着平衡定数を求め、立方体{10
0}面に対する該定数と比較する事によって結論され
る。該吸着は静電相互作用に基づくと考えられる。無双
晶八面体AgBr粒子にピリジニウム4級塩化合物を吸
着させ、Ag+ 液とBr- 液を添加し、該粒子を成長さ
せると、該粒子が双晶粒子化する。これは、図1に示す
ように、吸着剤がAg+ とBr- イオンの積層位置を正
規の位置から、準安定位置にシフトさせ、積層欠陥形成
確率を強制的に高めた為と解される。該カチオンは水溶
液中のBr- とも相互作用し、吸着⇔脱着の平衡状態に
あるから、それが脱着した時にAg+ とBr- が該脱着
場所に積層し、双晶面層が完成される。ピリジニウム塩
の場合は、pH3〜10において該吸着性に対するpH
依存性は小さい。これは該pH域で、その分子構造が変
わらない為である。しかし、pH3以下ではゼラチンの
−NH3 + 基との競争吸着になる事や、溶液のイオン強
度が高くなる事による静電作用力が低下する事により、
脱着確率が増す。従って、後の工程で該吸着剤を脱着す
る時に、pH1〜3を用いる事ができる。
A cationic organic compound such as a quaternary salt of pyridinium adsorbs to the halogen ion X on the {111} plane of the AgX particles, and suppresses the growth of the {111} plane. This is because, for example, when the ionic conductivity of the particles is measured by a dielectric loss measurement method, the ionic conductivity is increased, and the adsorption equilibrium constant for the particles in an aqueous solution is obtained, and the cube {10
It is concluded by comparing with the constant for the 0 ° plane. The adsorption is believed to be based on electrostatic interactions. When a pyridinium quaternary salt compound is adsorbed on non-twinned octahedral AgBr particles and Ag + liquid and Br liquid are added and the particles are grown, the particles become twinned particles. This is because the adsorbent shifts the stacking position of Ag + and Br ions from the normal position to the metastable position as shown in FIG. 1 to forcibly increase the stacking fault formation probability. . Since the cation also interacts with Br in the aqueous solution and is in an equilibrium state of adsorption and desorption, when desorbed, Ag + and Br are laminated at the desorption site to complete the twin plane layer. In the case of a pyridinium salt, the pH for the adsorptivity at pH 3 to 10
Dependence is small. This is because the molecular structure does not change in the pH range. However, at pH 3 or lower, competitive adsorption with the -NH 3 + group of gelatin occurs, and the electrostatic action force decreases due to the increase in ionic strength of the solution.
Desorption probability increases. Therefore, when desorbing the adsorbent in a later step, pH 1 to 3 can be used.

【0060】前記プリン塩基類やピリミジン塩基類のよ
うな含窒素複素環化合物の場合、AgX粒子に対する吸
着性は、該pH域でpH依存性を示す。該化合物の酸解
離定数をKaとする時、pKa以上のpHで吸着性が高
くなる。pKa以下のpHではプロトン付加の為、吸着
性が低下する。従って、該化合物を好ましくはその(p
Ka−0.3)以上、より好ましくはpKa〜(pKa
+2)、更に好ましくは(pKa+0.2)〜(pKa
+1)のpHで第1微粒子上に吸着させる。次にAg+
液とX- 液を添加し、第1微粒子上に積層欠陥として双
晶面を形成する。
In the case of the nitrogen-containing heterocyclic compounds such as the purine bases and pyrimidine bases, the adsorptivity to AgX particles shows pH dependence in the pH range. Assuming that the acid dissociation constant of the compound is Ka, the adsorptivity increases at a pH of pKa or more. At a pH below pKa, the adsorbability decreases due to proton addition. Therefore, the compound is preferably
Ka-0.3) or more, more preferably pKa to (pKa
+2), more preferably (pKa + 0.2) to (pKa)
Adsorb on the first fine particles at a pH of +1). Then Ag +
The liquid and the X liquid are added to form twin planes as stacking faults on the first fine particles.

【0061】粒子上に1枚の双晶面が形成された(図2
(a)の態様)後、次の双晶面がどこに形成されるか
は、図2で説明される。(b)図の如く第1双晶面のす
ぐ上に第2双晶面が形成される態様はより不安定であ
り、でき難い。更に、図1の如く吸着剤が吸着した状態
では、その上へのAgXの成長は起り難いので、該面上
に更に双晶面は形成され難い。1枚の双晶面が形成され
ると、その端部での成長核形成が促進され、それに続く
正常成長が生じる為、双晶面が存在する面の隣接面上に
は新たな双晶面が形成され難い。即ち、図2(d)の態
様は形成され難い。この状況は一重双晶面端に凹入角が
存在する間、続く。この為、双晶面が形成された面とは
反対側の面上が、最も双晶面の形成され易い面となる。
即ち、図2(d)の態様。系の過飽和度が高すぎると、
すべての面上でほぼ同時に双晶面が形成される確率が高
くなり、前記作り分けが難しくなる。一方、過飽和度が
低すぎると双晶面は形成され難くなる為、過飽和度を選
ぶ事により、前記の作り分けを行う事が好ましい。この
ようにして双晶面間隔が制御された平行2重双晶面が形
成される。
One twin plane was formed on the grain (FIG. 2).
After (a) embodiment), where the next twin plane is formed will be described with reference to FIG. The manner in which the second twin plane is formed immediately above the first twin plane as shown in (b) is more unstable and difficult to achieve. Further, as shown in FIG. 1, when the adsorbent is adsorbed, it is difficult for AgX to grow on the adsorbent, and thus twin planes are not easily formed on the surface. When one twin plane is formed, growth nucleation is promoted at the edge of the twin plane, and normal growth thereafter occurs. Therefore, a new twin plane is formed on the plane adjacent to the twin plane. Are difficult to form. That is, it is difficult to form the aspect of FIG. This situation continues while there is a dip angle at the edge of the single twin plane. Therefore, the surface opposite to the surface on which the twin plane is formed is the surface on which the twin plane is most likely to be formed.
That is, the mode of FIG. If the system is oversaturated,
The probability that twin planes will be formed on all the planes at substantially the same time will be high, making it difficult to separate the twin planes. On the other hand, if the degree of supersaturation is too low, twin planes are less likely to be formed. In this way, parallel double twin planes with controlled twin plane spacing are formed.

【0062】ピリジニウム塩の場合は、AgX粒子表面
のX- に吸着した状態で双晶面が形成される為、Ag+
が積層される時に積層欠陥が生ずると考えられる。一
方、アデニン等の場合は、AgX粒子表面のAg+ に吸
着した状態で双晶面が形成される為、X- が積層される
時に積層欠陥が生ずると考えられる。該平行双晶面形成
は該第1微粒子上以外に新たな新核中にも形成する事が
できるが、該第1微粒子上に形成する事がより好まし
い。ここで新たな新核とは、双晶面形成時に添加したA
+ とX- により生じた新核を指す。生成する該平行双
晶粒子数の20%以上、好ましくは40〜100%、よ
り好ましくは80〜100%が、該第1微粒子に基づく
事が好ましい。また、最終的に生成する平行双晶粒子数
の20%以上、好ましくは40〜100%、より好まし
くは80〜100%が該c)の過程で第1微粒子の相対
する反対側の面上に双晶面を形成された平行2重双晶粒
子である事が好ましい。
In the case of a pyridinium salt, since a twin plane is formed in a state of being adsorbed on X on the surface of AgX particles, Ag +
It is considered that stacking faults occur when are stacked. On the other hand, in the case of adenine or the like, a twin plane is formed in a state of being adsorbed by Ag + on the surface of AgX particles, and therefore it is considered that a stacking fault occurs when X is stacked. The parallel twin plane formation can be formed not only on the first fine particles but also on new nuclei, but it is more preferable to form on the first fine particles. Here, the new nuclei are A added at the time of twin plane formation.
Refers to the new nucleus produced by g + and X . It is preferable that 20% or more, preferably 40 to 100%, and more preferably 80 to 100% of the number of the generated parallel twin grains is based on the first fine particles. Further, 20% or more, preferably 40 to 100%, and more preferably 80 to 100% of the number of finally produced parallel twin grains is on the opposite surface of the first fine particles in the process of c). It is preferable that the particles are parallel double twin grains having twin planes.

【0063】従来、双晶面形成は、第1微粒子形成中に
なされてきた。それは反応溶液の過飽和度が高くなり、
核が最初にどっとできる時に双晶面ができ易い為であ
る。この時、核のサイズは小さい為、積層欠陥面は短時
間で完成され、かつ、それが再配列を起す前に、該欠陥
面上へのAgXの積層が起こり、該欠陥面が固定化され
易い為である。この場合、該欠陥面形成確率が高い条件
下で第1微粒子を形成すると、平行双晶面のみの作り分
けが困難で、非平行双晶面も多数混入する。平行双晶面
であろうが、非平行双晶面であろうが、安定核までの成
長が短時間内で起る為、生じた双晶面の殆んどが固定化
されてしまう為である。それに対して、本発明法では双
晶面形成時期を、核形成開始時から少し後にずらせる事
により、どのような双晶面をも固定化する過程を除去す
る事をねらっている。これにより(平行双晶粒子数/全
粒子数)=a1 、好ましくは(平行2重双晶粒子数/全
粒子数)=a2 の比率の高い双晶面形成が可能になる。
該Ag+ とX- の添加方法としてはその他、直径0.0
05〜0.07μm、好ましくは0.005〜0.05
μmの予め調製されたAgX微粒子乳剤を添加し、それ
が溶解する事により供給される態様も挙げる事ができ
る。
Conventionally, twin plane formation has been performed during the formation of the first fine particles. It increases the degree of supersaturation of the reaction solution,
This is because twin planes are easily formed when the nuclei are initially formed. At this time, since the size of the nucleus is small, the stacking fault surface is completed in a short time, and before the rearrangement of the stacking fault surface occurs, the stacking of AgX occurs on the fault surface, and the fault surface is fixed. This is because it is easy. In this case, if the first fine particles are formed under the condition that the defect plane formation probability is high, it is difficult to form only parallel twin planes, and many non-parallel twin planes are mixed. Regardless of whether it is parallel twin planes or non-parallel twin planes, most of the twin planes generated are fixed because the growth of stable nuclei occurs within a short time. is there. On the other hand, the method of the present invention aims to eliminate the process of fixing any twin planes by slightly shifting the twin plane formation time from the start of nucleation. This makes it possible to form twin planes with a high ratio of (number of parallel twin grains / total number of grains) = a 1 , preferably (number of parallel double twin grains / total number of grains) = a 2 .
The addition method of the Ag + and X is 0.0
05-0.07 μm, preferably 0.005-0.05
A mode in which an AgX fine grain emulsion of μm prepared in advance is added and the emulsion is supplied by dissolution can also be mentioned.

【0064】D)双晶面形成後の過程 このようにして双晶面を形成した後、成長に入るが、そ
の入り方に、次の3つの方法を挙げる事ができる。1)
前記C項の(1) 、(2)の方法で平行双晶面を形成した
後、次に温度を10℃以上、好ましくは20〜80℃、
より好ましくは30〜70℃だけ上げ、オストワルド熟
成し、平板状粒子を成長させ、それ以外の粒子を消滅さ
せ、平板状粒子の投影面積比率を1.5倍以上、好まし
くは3〜300倍、更に好ましくは6〜100倍に上げ
る。これにより平板状粒子の該投影面積比率を60〜1
00%、好ましくは80〜100%に上げる。この場
合、Ag+ 液とX- 液を臨界添加速度(それ以上の添加
速度で添加すると、新核が発生する添加速度)の0.1
〜35%、好ましくは1〜20%の添加速度で添加しな
がら熟成する事もできる。また、Ag+ 液とX- 液を添
加し、平板状粒子を優先的に成長させ、それ以外の粒子
とのサイズ差を大きくした後、該オストワルド熟成する
事もできる。
D) Process after formation of twin planes After the twin planes have been formed in this way, the process begins to grow, and the following three methods can be mentioned as the way of entering. 1)
After forming the parallel twin planes by the method (1) and (2) of the above item C, the temperature is then 10 ° C or higher, preferably 20 to 80 ° C.
More preferably, the temperature is raised by 30 to 70 ° C., aging is performed at Ostwald ripening, tabular grains are grown, other grains are extinguished, and the projected area ratio of tabular grains is 1.5 times or more, preferably 3 to 300 times, More preferably, it is increased 6 to 100 times. Thereby, the projected area ratio of tabular grains is 60 to 1
Increase to 00%, preferably 80-100%. In this case, Ag + solution and X - (if added at more addition rate, addition rate new nuclei are generated) fluid the critical addition rate 0.1
Aging can also be carried out while adding at an addition rate of ˜35%, preferably 1 to 20%. It is also possible to add Ag + solution and X - solution to preferentially grow tabular grains to increase the size difference from the other grains and then ripen the Ostwald.

【0065】2)C項の(1) の場合、次に成長過程に入
る事もできるし、第2吸着剤を吸着させた後に成長過程
に入る事もできる。特に第1微粒子のAgCl含率が5
〜100モル%、好ましくは20〜100モル%の場合
は、後者の工程がより好ましい。第2吸着剤の添加量
は、粒子の飽和吸着量の0.1〜100%、好ましくは
3〜90%である。C項の(2) の場合、次に成長過程に
入る事もできるし、第1吸着剤を脱着した後に成長過程
に入る事もできる。更には該脱着した後に、該第1吸着
剤を系外に、遠心分離等で除去し、その後に成長過程に
入る事もできる。更には新たな第2吸着剤を吸着させた
後に成長過程に入る事もできる。第2吸着剤は粒子成長
修飾剤であり、前記第1吸着剤の中から選ぶ事もできる
し、公知のかぶり防止剤、増感色素、界面活性剤の中か
ら選ぶ事もできる。具体例として、前記ピリジニウム塩
化合物、SCN- 塩、ポリアルキレンオキシド化合物を
挙げる事ができる。これらの化合物の詳細に関しては後
述の文献の記載および米国特許第5171659号、同
第5147771号、同第5439787号、同第54
11851号、特開平7−225444号、特願平5−
263128号の記載を参考にする事ができる。 3)1)、2)で双晶面を形成した後、続いて成長過程
に入る。または第2吸着剤を吸着させた後、成長過程に
入る。
2) In the case of item (1) of item C, the growth process can be started next, or the growth process can be started after the second adsorbent is adsorbed. In particular, the AgCl content of the first fine particles is 5
The latter step is more preferable in the case of ˜100 mol%, preferably 20-100 mol%. The addition amount of the second adsorbent is 0.1 to 100%, preferably 3 to 90% of the saturated adsorption amount of particles. In the case of item (2) of item C, the growth process can be started next, or the growth process can be started after desorption of the first adsorbent. Furthermore, after the desorption, the first adsorbent can be removed from the system by centrifugation or the like, and then the growth process can be started. Further, it is possible to start the growth process after adsorbing a new second adsorbent. The second adsorbent is a grain growth modifier, and can be selected from the above-mentioned first adsorbent, or can be selected from known antifoggants, sensitizing dyes, and surfactants. Specific examples thereof include the pyridinium salt compound, SCN - salt, and polyalkylene oxide compound. The details of these compounds are described in the following references and US Pat. Nos. 5,171,659, 5,147,771, 5,439,787, and 54.
11851, JP-A-7-225444, Japanese Patent Application No. 5-
The description of No. 263128 can be referred to. 3) After forming twin planes in 1) and 2), the growth process is started. Alternatively, after adsorbing the second adsorbent, the growth process starts.

【0066】E)成長過程 次の成長過程では、Ag+ 液とX- 液を添加、または予
め調製したAgX微粒子を供給する事により、またはそ
の併用法により、該平板状粒子を所望のサイズにまで成
長させる。この場合、平板状粒子のエッジ面を優先的に
成長させるには、オストワルド熟成が生じない範囲内
で、かつ、低過飽和度下で成長させる事が好ましい。低
過飽和度下では、主平面上に比べてエッジの双晶欠陥部
で成長核形成が優先的に起る為である。その為、該微粒
子添加法をより好ましく用いる事ができる。該微粒子の
直径は0.15μm以下が好ましく、0.01〜0.1
μmがより好ましい。Ag+ 液とX- 液の添加速度は臨
界添加速度の1〜90%が好ましく、3〜60%がより
好ましく、6〜35%がより好ましい。該微粒子添加法
に関しては、特開平4−34544号、同2−1664
42号、同4−184326〜184330号の記載を
参考にする事ができる。
E) Growth Process In the next growth process, the tabular grains were made to have a desired size by adding Ag + liquid and X liquid, or by supplying AgX fine particles prepared in advance, or by a combination method thereof. Grow up to. In this case, in order to preferentially grow the edge faces of the tabular grains, it is preferable to grow them within a range where Ostwald ripening does not occur and under a low supersaturation degree. This is because under a low supersaturation degree, growth nuclei are preferentially formed in twin defect portions at the edges as compared with those on the main plane. Therefore, the method of adding fine particles can be used more preferably. The diameter of the fine particles is preferably 0.15 μm or less, and is 0.01 to 0.1.
μm is more preferred. The addition rate of the Ag + solution and the X - solution is preferably 1 to 90%, more preferably 3 to 60%, and further preferably 6 to 35% of the critical addition rate. Regarding the method of adding the fine particles, JP-A-4-34544 and 2-1664
No. 42 and No. 4-184326-184330 can be referred to.

【0067】高アスペクト比の平板状粒子を得る為には
平行双晶平板状粒子を、厚さ方向の成長を抑え、エッジ
方向に選択的に成長させればよい。その為には主平面が
成長するに必要な過飽和度よりも低い低過飽和度下で該
平板状粒子を成長させればよい。エッジ面の双晶面端の
くぼみ部分は新たな成長核形成を必要とせずにエンドレ
スに成長しえる構造になっており、低過飽和度下でも常
に成長しえる。しかし、実験結果によると、その成長速
度は分散媒種に大きく依存する為に、吸着分散媒種の
(吸着⇔脱着)周期(即ち、吸着の強さ)が該成長速度
を律している因子の1つである。一方、平板状粒子の厚
さdと該成長速度(dA/dt)の間には(dA/d
t)∝1/dの関係が存在する為、溶質の拡散供給速度
も該成長速度を律している因子の1つである。一方、メ
チオニン含率とフタル化率を変化させ、AgX粒子に対
する吸着力を変化させた種々のゼラチン溶液中で平板状
粒子を成長させると、無修飾のゼラチンに対して、はじ
めは吸着力を弱めるにつれ、各粒子の成長速度は速くな
り、かつ均一化する傾向になる。これはゼラチン分子間
の吸着力が均一化する為の効果と解せられる。更に吸着
力を低下させると、成長速度はより速くなるが、粒子間
の成長速度分布が広がる。従って、該粒子間分布が狭く
なる該組合せ組成領域のゼラチンを用いて成長させる事
がより好ましい。この場合、特願平7−192609号
記載の修飾ゼラチンをより好ましく用いる事ができる。
この場合、厚さが等しければ、各エッジ面の単位面積当
たりの成長速度は均一化しており、多核成長機構化(成
長核数は3〜∞)していると考えられる。
In order to obtain a tabular grain having a high aspect ratio, parallel twin tabular grains may be selectively grown in the edge direction while suppressing the growth in the thickness direction. For that purpose, the tabular grains may be grown under a low supersaturation degree lower than the supersaturation degree required for growing the main plane. The dented portion of the twin plane edge of the edge surface has a structure capable of growing endlessly without the need for forming new growth nuclei, and can always grow even under a low supersaturation degree. However, according to the experimental results, the growth rate greatly depends on the dispersion medium species, and therefore the (adsorption ⇔ desorption) cycle of the adsorption dispersion medium species (that is, the strength of adsorption) determines the growth rate. Is one of. On the other hand, between the thickness d of the tabular grains and the growth rate (dA / dt), (dA / d
t) Since there is a relation of ∝1 / d, the diffusion supply rate of the solute is one of the factors controlling the growth rate. On the other hand, when tabular grains are grown in various gelatin solutions in which the methionine content and the phthalation rate are changed and the adsorption power to AgX particles is changed, the adsorption power is weakened to unmodified gelatin at first. As a result, the growth rate of each particle tends to become faster and uniform. It can be understood that this is an effect for making the adsorption force between gelatin molecules uniform. If the adsorption power is further reduced, the growth rate becomes faster, but the distribution of the growth rate between particles widens. Therefore, it is more preferable to grow using gelatin in the combination composition region in which the distribution between particles becomes narrow. In this case, the modified gelatin described in Japanese Patent Application No. 7-192609 can be more preferably used.
In this case, if the thicknesses are the same, it is considered that the growth rate per unit area of each edge surface is uniform and the multi-nucleus growth mechanism is established (the number of growth nuclei is 3 to ∞).

【0068】粒子成長は通常、次の過程で行われる。
1)溶質イオンを添加供給する過程→2)添加された溶
質イオンが粒子表面の反応サイトまで拡散していく過程
→3)吸着分散媒分子と溶質イオンとの交換吸着による
粒子表面上で新たな成長核ができる過程→4)吸着分散
媒分子と、溶質イオンとの交換吸着による成長核の成
長。一方、次の各現象が起る為に必要な過飽和度の大き
さの順は、結合手の数とGibbs-Thomson 式より次の通り
である。〔a)バルク溶液中での新核発生>b)溶質の
添加口近辺で生じるAgXクラスターの成長>c)完全
結晶面上での新たな成長核の形成>平行双晶粒子のトラ
フ部での成長核の形成>d)大きな成長核の成長〕。ま
た、該成長中、常に、(バルク溶液中の溶質イオンの過
飽和度>粒子表面上における溶質イオンの過飽和度)の
関係が存在する。
Grain growth is usually performed in the following process.
1) Process of adding and supplying solute ions → 2) Process of added solute ions diffusing to the reaction site on the particle surface → 3) New solute ion on the particle surface due to exchange adsorption of disperse medium molecules and solute ions Process of forming growth nuclei → 4) Growth of growth nuclei by exchange and adsorption of adsorbing dispersion medium molecules and solute ions. On the other hand, the order of magnitude of supersaturation required for each of the following phenomena to occur is as follows from the number of bonds and the Gibbs-Thomson equation. [A) Generation of new nuclei in bulk solution> b) Growth of AgX clusters generated in the vicinity of solute addition port> c) Formation of new growth nuclei on perfect crystal plane> In trough part of parallel twin grains Formation of growth nuclei> d) Growth of large growth nuclei]. Further, during the growth, there is always a relationship of (supersaturation degree of solute ions in bulk solution> supersaturation degree of solute ions on particle surface).

【0069】(溶質イオンの供給速度/秒)が大きく、
2)の過程が遅いと、バルク溶液中の過飽和度が上昇
し、a)の現象が起る。これを防止するには溶質イオン
を2〜1015個の多孔より供給する事、攪拌混合性を良
くする事、平板状粒子の粒子密度を高くする事〔1〜1
00個/(10μm)3 〕が好ましい。分散媒分子の吸
着が強すぎると、3)、4)の速度が低下する。これ
は、1)の供給速度が同じなら、溶質イオンの(需要速
度<供給速度)となり、やはりa)の現象が起る。これ
を防止する為には、適度の吸着力の分散媒を用いる事が
好ましく、特願平7−192609号記載の修飾ゼラチ
ンを好ましく用いる事ができる。
(Solute ion supply rate / second) is large,
If the process of 2) is slow, the degree of supersaturation in the bulk solution increases and the phenomenon of a) occurs. To prevent this, solute ions are supplied from 2 to 10 15 pores, stirring and mixing properties are improved, and the particle density of tabular grains is increased [1-1.
00 / (10 μm) 3 ] is preferable. If the adsorption of the dispersion medium molecules is too strong, the speeds of 3) and 4) will decrease. If the supply rate in 1) is the same, the solute ion becomes (demand rate <supply rate), and the phenomenon in a) also occurs. In order to prevent this, it is preferable to use a dispersion medium having an appropriate adsorption power, and the modified gelatin described in Japanese Patent Application No. 7-192609 can be preferably used.

【0070】F)その他 前記D項、および成長過程後において、第1吸着剤、お
よび第2吸着剤を脱着する場合、次の方法を用いる事が
できる。 1)該吸着剤の脱着確率は、高温になる程、上昇する。
従って、低温で該双晶面を形成し、より高温(10℃以
上、好ましくは20〜80℃、より好ましくは30〜7
0℃だけ高温)で脱着する。2)pHを調節する。吸脱
着平衡のpH依存性を調べ、最も脱着しやすいpH条件
を求めて、該pH下で脱着する。3)吸脱着平衡のX-
濃度依存性を調べ、最も脱着しやすいX- 濃度条件を求
めて、該X- 濃度下で脱着する。4)他の写真的に有効
な吸着剤と交換吸着させる。例えば分光増感色素、かぶ
り防止剤、界面活性剤との交換吸着である。該交換吸着
体は、そのままAgX乳剤中に残存し、塗布されても、
有効な吸着剤である事が好ましい。5)第1吸着剤に対
する有機溶剤を選んで、抽出する方法。用いる事のでき
る有機溶媒に関しては、溶剤ハンドブック,講談社サイ
エンティフィック(1976年)の記載を参考にする事
ができる。 6)前記酸化剤を添加し、吸着基を酸化し、吸着能を失
活させる。例えば2価のカルコゲン原子を含む有機吸着
剤の場合、該カルコゲン原子をH2 2 等で酸化し、吸
着能を失活させる事ができる。
F) Others When desorbing the first adsorbent and the second adsorbent after the item D and the growth process, the following method can be used. 1) The desorption probability of the adsorbent increases with increasing temperature.
Therefore, the twin plane is formed at a low temperature, and at a higher temperature (10 ° C or higher, preferably 20 to 80 ° C, more preferably 30 to 7 ° C).
Desorption at 0 ℃). 2) Adjust pH. The pH dependence of the adsorption / desorption equilibrium is investigated, the pH condition at which desorption is most easily performed is determined, and desorption is performed under the pH. 3) adsorption-desorption equilibrium of the X -
The concentration dependence is investigated, the X - concentration condition that is most likely to be desorbed is determined, and desorption is performed under the X - concentration. 4) Exchange adsorption with another photographically effective adsorbent. For example, it is exchange adsorption with a spectral sensitizing dye, an antifoggant, and a surfactant. The exchange adsorbent remains in the AgX emulsion as it is, and even if coated,
It is preferably an effective adsorbent. 5) A method of selecting and extracting an organic solvent for the first adsorbent. Regarding the organic solvent that can be used, the description in Solvent Handbook, Kodansha Scientific (1976) can be referred to. 6) Add the above-mentioned oxidizing agent to oxidize the adsorption group to deactivate the adsorption ability. For example, in the case of an organic adsorbent containing a divalent chalcogen atom, the adsorption ability can be deactivated by oxidizing the chalcogen atom with H 2 O 2 or the like.

【0071】該脱着した後の、系外への除去は、遠心分
離法、限外濾過法、固体吸着剤による脱着法、従来のA
gX乳剤脱塩法を用いる事ができ、その詳細については
特開平4−308840号、同1−201651号、お
よび後述の文献の記載を参考にする事ができる。該粒子
形成開始から終了までの間のpHは1〜12、好ましく
は1.7〜10、X- の過剰濃度は10-1〜10-3mol/
リットルが好ましく、10-1.4〜10-2 .5mol/リットル
がより好ましい。またAgX溶剤濃度は0〜1mol/リッ
トルの中から最も好ましい濃度を選ぶ事ができる。分散
媒濃度は0.01〜10g/リットル、好ましくは0.
1〜5g/リットルの中から、温度は10〜100℃、
好ましくは20〜90℃の中からそれぞれ好ましい条件
を選ぶ事ができる。AgX溶剤、分散媒の詳細に関して
は後述の文献の記載を参考にする事ができる。
After the desorption, the removal to the outside of the system is carried out by a centrifugation method, an ultrafiltration method, a desorption method using a solid adsorbent, or a conventional A method.
The gX emulsion desalting method can be used, and for details thereof, reference can be made to JP-A-4-308840, JP-A-1-201651, and the description of the literature described later. The pH from the start to the end of the particle formation is 1 to 12, preferably 1.7 to 10, and the excess concentration of X is 10 −1 to 10 −3 mol /.
Liter, and more preferably 10 -1.4 ~10 -2 .5 mol / l. The most preferable concentration of AgX solvent can be selected from 0 to 1 mol / liter. The dispersion medium concentration is 0.01 to 10 g / liter, preferably 0.1.
From 1 to 5 g / liter, the temperature is 10 to 100 ° C,
Preferably, each preferable condition can be selected from 20 to 90 ° C. The details of the AgX solvent and the dispersion medium can be referred to the description of the literature described later.

【0072】得られた平板粒子はエッジ面に全エッジ面
積の1〜100%、好ましくは5〜80%に{100}
面を有する事ができる。前記双晶面形成過程、双晶面形
成後の過程、成長過程、該平板状粒子の粒子構造および
粒子内ハロゲン組成構造に関するその他の詳細に関して
は、特開昭58−113926号〜113928号、同
63−151618号、同63−311244号、特開
平2−838号、同1−158426号、同2−298
935号、同3−121445号、同4−34544
号、同5−204086号、特願平6−184128
号、前記C項に記載の文献、および後述の文献の記載を
参考にする事ができる。
The tabular grains thus obtained have an edge surface of 1 to 100%, preferably 5 to 80% of the total edge area of {100}.
Can have a face. For details of the twin plane formation process, the process after twin plane formation, the growth process, the grain structure of the tabular grains and the halogen composition structure in the grains, see JP-A Nos. 58-113926 to 113928, 63-151618, 63-311244, JP-A-2-838, 1-158426, 2-298.
No. 935, No. 3-121445, No. 4-34544.
No. 5-204086, Japanese Patent Application No. 6-184128
No., the documents described in the section C, and the documents described later can be referred to.

【0073】このようにして得られた粒子をホスト粒子
とし、エピタキシャル粒子を形成して用いてもよい。ま
た、該粒子をコアとして内部に転位線を有する粒子を形
成してもよい。その他、該粒子をサブストレートとし
て、サブストレートと異なるハロゲン組成のAgX層を
積層させ、種々の既知のあらゆる粒子構造の粒子を作る
こともできる。これらに関しては後述の文献の記載を参
考にすることができる。また、該平板粒子をコアとし
て、浅内潜乳剤を形成して用いてもよい。また、コア/
シェル型粒子を形成することもできる。これについては
特開昭59−133542号、同63−151618
号、米国特許第3,206,313号、同3,317,
322号、同3,761,276号、同4,269,9
27号、同3,367,778号の記載を参考にするこ
とができる。
The particles thus obtained may be used as host particles to form epitaxial particles. Further, particles having dislocation lines therein may be formed using the particles as a core. Alternatively, the particles may be used as a substrate, and AgX layers having a different halogen composition from the substrate may be laminated to produce various known particles having various particle structures. Regarding these, the description in the following literature can be referred to. Further, a shallow inner latent emulsion may be formed and used by using the tabular grains as a core. Also, core /
Shell type particles can also be formed. Regarding this, JP-A-59-133542 and 63-151618.
U.S. Pat. Nos. 3,206,313 and 3,317,
No. 322, No. 3,761,276, No. 4,269,9
The description in No. 27 and No. 3,367,778 can be referred to.

【0074】本発明の方法で製造したAgX乳剤粒子を
他の1種以上のAgX乳剤とブレンドして用いることも
できるし、粒径の異なる本発明の乳剤粒子を2種以上ブ
レンドして用いることもできる。ブレンド比率(ゲスト
AgX乳剤モル/ブレンド後のAgX乳剤モル)は好ま
しくは0.99〜0.01の範囲で適宜、最適比率を選
んで用いることができる。本発明の乳剤に粒子形成から
塗布工程までの間に添加できる添加剤およびその添加量
に特に制限はなく、従来公知のあらゆる写真用添加剤を
最適添加量で添加することができる。例えばAgX溶
剤、AgX粒子へのドープ剤(例えば第8族貴金属化合
物、その他の金属化合物、カルコゲン化合物、SCN化
物等)、分散媒、かぶり防止剤、増感色素(青、緑、
赤、赤外、パンクロ、オルソ用等)、強色増感剤、化学
増感剤(イオウ、セレン、テルル、金および第8族貴金
属化合物、リン化合物、ロダン化合物、還元増感剤の単
独およびその2種以上の併用)、かぶらせ剤、乳剤沈降
剤、界面活性剤、硬膜剤、染料、色像形成剤、カラー写
真用添加剤、可溶性銀塩、潜像安定剤、現像剤(ハイド
ロキノン系化合物等)、圧力減感防止剤、マット剤、帯
電防止剤、寸度安定剤等をあげることができる。
The AgX emulsion grains produced by the method of the present invention may be blended with one or more other AgX emulsions, or two or more emulsion grains of the present invention having different grain sizes may be blended and used. You can also The blend ratio (moles of guest AgX emulsion / moles of AgX emulsion after blending) is preferably in the range of 0.99 to 0.01, and an appropriate ratio can be appropriately selected and used. There are no particular restrictions on the additives that can be added to the emulsion of the present invention during the period from the grain formation to the coating step, and the amounts thereof can be added, and any conventionally known photographic additives can be added in optimal amounts. For example, an AgX solvent, a dopant for AgX particles (for example, a Group 8 noble metal compound, another metal compound, a chalcogen compound, an SCN compound, etc.), a dispersion medium, an antifoggant, a sensitizing dye (blue, green,
Red, infrared, panchromatic, ortho, etc.), supersensitizers, chemical sensitizers (sulfur, selenium, tellurium, gold and Group 8 noble metal compounds, phosphorus compounds, rhodan compounds, reduction sensitizers alone and Two or more of these), fogging agents, emulsion sedimenting agents, surfactants, hardeners, dyes, color image forming agents, color photographic additives, soluble silver salts, latent image stabilizers, developers (hydroquinone System compounds, etc.), pressure desensitizing agents, matting agents, antistatic agents, dimensional stabilizers and the like.

【0075】本発明法で調製したAgX乳剤は、従来公
知のあらゆる写真感光材料に用いることができる。例え
ば、黒白ハロゲン化銀写真感光材料〔例えば、Xレイ感
材、印刷用感材、印画紙、ネガフィルム、マイクロフィ
ルム、直接ポジ感材、超微粒子乾板感材(LSIフォト
マスク用、シャドーマスク用、液晶マスク用)〕、カラ
ー写真感光材料(例えばネガフィルム、印画紙、反転フ
ィルム、直接ポジカラー感材、銀色素漂白法写真など)
に用いることができる。更に拡散転写感光材料(例え
ば、カラー拡散転写要素、銀塩拡散転写要素)、熱現像
感光材料(黒白、カラー)、高密度 digital記録感材、
ホログラフィー用感材などをあげることができる。塗布
銀量は0.01g/m2以上の好ましい値を選ぶことがで
きる。AgX乳剤製造方法(粒子形成、脱塩、化学増
感、分光増感、写真用添加剤の添加方法等)および装
置、AgX粒子構造、支持体、下塗り層、表面保護層、
写真感光材料の構成(例えば層構成、銀/発色材モル
比、各層間の銀量比等)と製品形態および保存方法、写
真用添加剤の乳化分散、露光、現像方法等に関しても制
限はなく、従来もしくは今後公知となるあらゆる技術、
態様を用いることができる。これらの詳細に関しては下
記文献の記載を参考にすることができる。
The AgX emulsion prepared by the method of the present invention can be used in all conventionally known photographic light-sensitive materials. For example, black-and-white silver halide photographic light-sensitive materials [for example, X-ray light-sensitive materials, printing light-sensitive materials, photographic paper, negative films, microfilms, direct positive light-sensitive materials, ultrafine dry plate light-sensitive materials (for LSI photomasks, shadow masks) , Liquid crystal masks)], color photographic light-sensitive materials (eg, negative film, photographic paper, reversal film, direct positive color light-sensitive material, silver dye bleaching method, etc.)
Can be used. In addition, diffusion transfer photosensitive materials (for example, color diffusion transfer elements, silver salt diffusion transfer elements), photothermographic materials (black and white, color), high-density digital recording photosensitive materials,
Examples include holographic materials. The silver coating amount can be selected to be a preferable value of 0.01 g / m 2 or more. AgX emulsion production method (grain formation, desalting, chemical sensitization, spectral sensitization, photographic additive addition method, etc.) and equipment, AgX grain structure, support, undercoat layer, surface protective layer,
There are no restrictions on the composition of the photographic material (for example, layer composition, silver / coloring material molar ratio, silver ratio between layers, etc.), product form and storage method, emulsification and dispersion of photographic additives, exposure, development method, etc. , Any technology known or known in the future,
Embodiments can be used. For details of these, the description of the following literature can be referred to.

【0076】リサーチ ディスクロージャー(Research
Disclosure)、176巻(アイテム17643)(12
月、1978年)、同307巻(アイテム30710
5、11月、1989年)、ダフィン(Duffin)著、写真
乳剤化学(Photographic Emulsion Chemistry) 、Focal
Press, New York (1966年)、ビル著(E. J. Bir
r)、写真用ハロゲン化銀乳剤の安定化(Stabilization o
f Photographic Silver Halide Emulsion)、フォーカル
プレス(Focal Press) 、ロンドン(1974年)、ジ
ェームス編(T. H. James) 、写真過程の理論(The Theor
y of PhotographicProcess)第4版、マクミラン(Macmil
lan) 、ニューヨーク(1977年)
Research Disclosure
Disclosure) Volume 176 (Item 17643) (12
Mon, 1978), Volume 307 (Item 30710)
May, November, 1989), by Duffin, Photographic Emulsion Chemistry, Focal
Press, New York (1966), Bill (EJ Bir
r), photographic silver halide emulsion stabilization (Stabilization o)
f Photographic Silver Halide Emulsion, Focal Press, London (1974), James Ed. (TH James), Theory of Photographic Process (The Theor)
y of PhotographicProcess) 4th Edition, Macmil
lan), New York (1977)

【0077】グラフキデ著(P. Glafkides)、写真の化学
と物理(Chimie et Physique Photographique) 、第5
版、エディション ダ リジンヌヴェル(Edition del,
UsineNouvelle, パリ(1987年)、同第2版、ポウ
ル モンテル、パリ(1957年)、ゼリクマンら(V.
L. Zelikman et al.),写真乳剤の調製と塗布(Making an
d Coating Photographic Emulsion), Focal Press (1
964年)、ホリスター(K. R. Hollister) ジャーナル
オブ イメージング サイエンス(Journal ofImaging
science), 31巻、P.148〜156(1987
年)、マスカスキー(J. E. Maskasky), 同30巻、P.
247〜254(1986年)同32巻、160〜17
7(1988年)、同33巻、10〜13(1989
年)、
P. Glafkides, Chemistry and Physics of Photography (Chimie et Physique Photographique), No. 5.
Edition, edition da lysine Novel
UsineNouvelle, Paris (1987), 2nd edition, Paul Montell, Paris (1957), Zerikman et al.
L. Zelikman et al.), Making and coating photographic emulsions (Making an
d Coating Photographic Emulsion), Focal Press (1
964), KR Hollister, Journal of Imaging Science
science), volume 31, p. 148-156 (1987
), JE Maskasky, pp. 30, p.
247-254 (1986) 32 volumes, 160-17
7 (1988), 33 volumes, 10-13 (1989)
Year),

【0078】フリーザーら編、ハロゲン化銀写真過程の
基礎(Die Grundlagen Der Photogrphischen Prozesse M
it Silverhalogeniden),アカデミッシェ フェルラーク
ゲゼルシャフト(Akademische Verlaggesellschaft), フ
ランクフルト(1968年)。Helmut Gernscheim 著、
The History of Photography, Thames and Hudson,Lond
on(1969年),日化協月報1984年、12月号、P.
18〜27、日本写真学会誌、49巻、7〜12(19
86年)、同52巻、144〜166(1989年)、
同52巻、41〜48(1989年)、特開昭58−1
13926〜113928、同59−90841号、同
58−111936、同62−99751、同60−1
43331、同60−143332、同61−1463
0、同62−6251、
Freezer et al., The Basics of Silver Halide Photographic Process (Die Grundlagen Der Photogrphischen Prozesse M
it Silverhalogeniden), Akademische Verlaggesellschaft, Frankfurt (1968). Helmut Gernscheim,
The History of Photography, Thames and Hudson, Lond
on (1969), JCIA Monthly Report, 1984, December issue, p.
18-27, Journal of the Photographic Society of Japan, Volume 49, 7-12 (19)
1986), 52 volumes, 144-166 (1989),
52, 41-48 (1989), JP-A-58-1
13926-113928, 59-90841, 58-111936, 62-99751, 60-1.
43331, same 60-143332, same 61-1463.
0, 62-6251,

【0079】特開平1−131541、同2−838、
同2−146033、同3−155539、同3−20
0952、同3−246534、同4−34544、同
2−28638、同4−109240、同2−7334
6、特願平2−326222、同6−215513号、
AgX写真分野のその他の日本特許、米国特許、欧州特
許、世界特許、ジャーナル オブ イメージング サイ
エンス(Journal of Imaging Science)、ジャーナル オ
ブ フォトグラフィック サイエンス(Journalof Photo
graphic Science) 、フォトグラフィック サイエンス
アンド エンジニアリング(Photographic Science an
d Engineering)、日本写真学会誌、日本写真学会講演要
旨集、International Congress of Photographic Scien
ceおよびThe International East-West Symposiumon th
e Factors Influencing Photographic Sensitivityの講
演要旨集。特願平6−104065、同5−32450
2号。本発明の乳剤は特開昭62−269958号、同
62−266538号、同63−220238号、同6
3−305343号、同59−142539号、同62
−253159号、特開平1−131541号、同1−
297649号、同2−42号、同1−158429
号、同3−226730号、同4−151649号、特
願平4−179961号、欧州特許0508398A1
の実施例の塗布試料の構成乳剤として好ましく用いるこ
とができる。
JP-A-1-131541 and JP-A-2-838,
2-146033, 3-155539, 3-20
0952, same 3-246534, same 4-34544, same 2-28638, same 4-109240, same 2-7334.
6, Japanese Patent Application Nos. 2-326222 and 6-215513,
Other Japanese patents in the field of AgX photography, US patents, European patents, world patents, Journal of Imaging Science, Journal of Photographic Science.
graphic Science, Photographic Science and Engineering
d Engineering), Journal of the Photographic Society of Japan, Proceedings of the Photographic Society of Japan, International Congress of Photographic Scien
ce and The International East-West Symposiumon th
Lecture summary of e Factors Influencing Photographic Sensitivity. Japanese Patent Application Nos. 6-104065 and 5-32450
No. 2. The emulsions of the present invention are disclosed in JP-A Nos. 62-269958, 62-266538, 63-220238 and 6-62.
3-305343, 59-242539, 62
-253159, JP-A-1-131541 and 1-
No. 297649, No. 2-42, No. 1-158429.
Nos. 3-226730, 4-151649, Japanese Patent Application No. 4-179961 and European Patent 0508398A1.
It can be preferably used as a constitutional emulsion of the coated sample of the above example.

【0080】[0080]

【実施例】次に実施例により本発明を更に詳細に説明す
るが、本発明の実施態様はこれに限定されるものではな
い。 実施例1 第1反応容器にゼラチン溶液−1(H2 O 1.2リッ
トル、平均分子量約10万のゼラチン25g、KBr
0.36gを含み、pH6.0)を入れ、温度30℃に
保ち、攪拌しながら、Ag−1液(1ml中にAgNO3
を0.1g含む)とX−1液(1ml中にKBrを0.0
706gとゼラチンを0.01g含む)を、20ml/分
で50秒間、同時混合添加し、第1微粒子乳剤を調製し
た。該乳剤の2mlを採取し、色素−1溶液(0.1重量
%の溶液)を0.5ml添加し、混合し、その直接法電子
顕微鏡観察を行った。平均粒子直径約0.04μmであ
った。
Next, the present invention will be described in more detail by way of examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto. Example 1 Gelatin solution-1 (1.2 liters of H 2 O, 25 g of gelatin having an average molecular weight of about 100,000, KBr were added to the first reaction vessel.
Including 0.36g, pH 6.0 was added, the temperature was kept at 30 ° C, and Ag-1 solution (AgNO 3 in 1 ml) was stirred.
0.1g) and solution X-1 (0.0ml of KBr in 1ml).
706 g and 0.01 g of gelatin) were simultaneously mixed and added at 20 ml / min for 50 seconds to prepare a first fine grain emulsion. 2 ml of the emulsion was sampled, 0.5 ml of the dye-1 solution (0.1% by weight solution) was added and mixed, and the direct electron microscope observation was performed. The average particle diameter was about 0.04 μm.

【0081】化合物−1溶液(H2 O 30mlと化合物
−1を0.2g含む)とKBr−1液(1ml中にKBr
を0.1g含む)8mlを加え、3分間混合した後、Ag
−1液とX−1液を15ml/分で3分間、同時混合添加
した。KBr−1液を12ml添加し、温度を70℃に上
げ、更に15分間熟成した。Ag−1液を3ml/分で7
分間添加した後、(NH4)2SO4 −1液〔H2 O 20mlと
(NH4)2SO4 4gを含む〕とNaOH 1N液を入れ、p
H9.0とした。12分間熟成した後、H2 SO4
N液でpH6とし、Ag−1液とX−1液を用いて、p
Br2.1に保ちながら同時混合添加した。Ag−1液
は初期流量3ml/分、直線流量加速量0.18ml/分で
38分間添加した。2分間攪拌した後、増感色素−1を
飽和吸着量の70%だけ吸着させた。沈降剤を加え、温
度を40℃に下げ、pH4.0とし、乳剤を凝集沈降さ
せた。従来の沈降水洗法に従って、乳剤を4回水洗した
後、ゼラチン溶液を加え、再分散し、pH6.4、pB
r2.8、収量1リットルとした。かぶり防止剤TAI
(4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テ
トラザインデン)を10-3モル/mol AgX だけ添加し
た。
Compound-1 solution (containing 30 ml of H 2 O and 0.2 g of compound-1) and KBr-1 solution (KBr in 1 ml).
(Including 0.1 g) was added and mixed for 3 minutes, then Ag
Solution-1 and solution X-1 were simultaneously added at 15 ml / min for 3 minutes. 12 ml of KBr-1 solution was added, the temperature was raised to 70 ° C., and the mixture was aged for 15 minutes. Ag-1 solution at 3 ml / min 7
After addition minutes, and (NH 4) 2 SO 4 -1 solution [H 2 O 20 ml
(Containing 4 g of (NH 4 ) 2 SO 4 ] and NaOH 1N solution, p
It was set to H9.0. After aging for 12 minutes, H 2 SO 4 1
The pH was adjusted to 6 with the N liquid, and p was obtained using Ag-1 liquid and X-1 liquid.
Simultaneous mixed addition was performed while maintaining Br2.1. The Ag-1 solution was added at an initial flow rate of 3 ml / min and a linear flow rate acceleration amount of 0.18 ml / min for 38 minutes. After stirring for 2 minutes, the sensitizing dye-1 was adsorbed by 70% of the saturated adsorption amount. A precipitating agent was added, the temperature was lowered to 40 ° C., the pH was adjusted to 4.0, and the emulsion was coagulated and precipitated. After washing the emulsion 4 times with the conventional settling water washing method, a gelatin solution was added and redispersed to obtain a pH of 6.4 and pB.
The r was 2.8 and the yield was 1 liter. Antifoggant TAI
(4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene) was added in an amount of 10 -3 mol / mol AgX.

【0082】[0082]

【化19】 Embedded image

【0083】該乳剤1mlを採取し、粒子のレプリカのT
EM像を観察した所、粒子の全投影面積の95%がアス
ペクト比3以上の平板状粒子であり、その平均粒子直径
は1.3μm、平均厚さは0.13μmであった。該乳
剤を55℃に昇温させ、金増感剤(塩化金酸:NaSC
N=1:50モル比の水溶液)を金量で6×10-6mol/
mol AgX だけ添加し、2分後に Na2S2O3・5H2O水溶液
(0.01重量%)を1×10-5mol/mol AgX だけ添加
し、30分間熟成した。温度を40℃に降温し、増粘
剤、塗布助剤を加えて三酢酸セルロースベース上に保護
層と共にAg量0.8g/m2で塗布した。乾燥させ、裁
断し、試料1とした。なお、該沈降剤を添加する前に乳
剤1.0mlを採取し、ここに色素−1液(0.01%水
溶液)を2mlを加え、混合した。0.1mlをとり出し、
純水30mlで希釈し、乳剤を遠心分離した。上澄み液を
すて、純水10mlを加え、再分散した。その0.1mlを
採取し、純水100mlを加えて希釈した。その0.00
1mlを採取し、銀板の上にのせ、乾燥させた。粒子をス
ーパーSEM(走査型電子顕微鏡)で観察し、全平板粒
子数を観察した所、約550個であった。一方、実施例
1で化合物−1の添加を省く以外は同じ処方でAgX乳
剤を調製した。得られた乳剤中の平板粒子数を同じ手法
で求めた所、3個であった。従って、生成平板粒子の9
9%以上が化合物−1の添加により生成した事を示して
いる。
A 1 ml portion of the emulsion was sampled and a replica T of the grain was prepared.
When the EM image was observed, 95% of the total projected area of the grains were tabular grains having an aspect ratio of 3 or more, and the average grain diameter was 1.3 μm and the average thickness was 0.13 μm. The emulsion was heated to 55 ° C. and the gold sensitizer (chloroauric acid: NaSC
(N = 1: 50 molar ratio aqueous solution) in an amount of 6 × 10 −6 mol / gold
Only mol AgX was added, and 2 minutes later, a Na 2 S 2 O 3 .5H 2 O aqueous solution (0.01 wt%) was added at 1 × 10 −5 mol / mol AgX and the mixture was aged for 30 minutes. The temperature was lowered to 40 ° C., a thickener and a coating aid were added, and the mixture was coated on a cellulose triacetate base together with a protective layer at an Ag amount of 0.8 g / m 2 . Sample 1 was dried and cut. Before adding the precipitant, 1.0 ml of the emulsion was sampled, and 2 ml of dye-1 liquid (0.01% aqueous solution) was added and mixed. Take out 0.1 ml,
It was diluted with 30 ml of pure water and the emulsion was centrifuged. The supernatant was discarded, 10 ml of pure water was added, and redispersed. 0.1 ml was taken and diluted with 100 ml of pure water. That 0.00
1 ml was taken, placed on a silver plate and dried. The grains were observed with a super SEM (scanning electron microscope), and the total number of tabular grains was about 550. On the other hand, an AgX emulsion was prepared with the same formulation except that the addition of the compound-1 was omitted in Example 1. When the number of tabular grains in the obtained emulsion was determined by the same method, it was three. Therefore, 9 of the produced tabular grains
It shows that 9% or more was generated by addition of the compound-1.

【0084】実施例2 実施例1と同じプロセスで、実施例1と同じ第1微粒子
乳剤を、まず調製した。該乳剤にゼラチン分解酵素アク
チナーゼ15mg添加し、30℃で約40分間経時し、ゼ
ラチンを低分子量化した。該乳剤の粘度低下割合を測定
し、予め求められた(ゼラチンの平均分子量−ゼラチン
水溶液の粘度)の関係、と対比して求めた平均分子量は
約10,000であった。次にH2 2 (3.1重量
%)液を5ml添加し、10分間攪拌した後KBr−1液
を15ml添加し、次にAg−1液とX−1液を20ml/
分で3分間、同時混合添加した。次に75℃に昇温し、
20分間熟成した。この時、該酵素は失活した。次にA
g−1液を3ml/分で6分間添加した。(NH4)2SO4−1
液とNaOH 1N液を添加し、pH9.0とした。12分
間熟成をした後、 H2SO4 1N液でpH6とし、Ag−
1液とX−1液を用いて、pBr1.8に保ちながら、
同時混合添加した。Ag−1液は初期流量3ml/分、直
線流量加速量0.2ml/分で32分間添加した。2分間
攪拌した後、増感色素−1を飽和吸着量の65%だけ吸
着させた。沈降剤を加え、温度を40℃に下げ、pH
4.0とし、乳剤を凝集沈降させた。これ以後の工程は
実施例1と同じ処置をし、塗布試料2を得た。該乳剤1
mlを採取し、粒子のレプリカのTEM像を観察した所、
粒子の全投影面積の96%がアスペクト3以上の平板状
粒子であり、その平均粒子直径は1.6μm、平均厚さ
は0.15μmであった。なお、該沈降剤を添加する前
に乳剤1.0mlを採取し、ここに色素−1液(0.01
%水溶液)を2mlを加え、混合した。0.1mlをとり出
し、純水30mlで希釈し、乳剤を遠心分離した。上澄み
液をすて、純水10mlを加え、再分散した。その0.1
mlを採取し、純水10mlを加えて希釈した。その0.0
01mlを採取し、銀板の上にのせ、乾燥させた。粒子を
スーパーSEM(走査型電子顕微鏡)で観察し、全平板
粒子数を観察した所、約600個であった。一方、実施
例2で分解酵素とH2 2 の添加を省く以外は同じ処方
でAgX乳剤を調製した。得られた乳剤中の平板粒子数
を同じ手法で求めた所、8個であった。従って、生成平
板粒子の98%以上が分解酵素とH2 2 の添加により
生成した事を示している。また粒子成長開始直前に採取
した乳剤を遠沈し、上澄み液を取り出し、減圧下で濃縮
した。10℃以下に冷却し、ゲル化させた後、冷水水洗
し、脱塩した。アミノ酸分析した所、メチオオン含率は
0μmol/gであった。元のゼラチンのメチオニン含率は
48μmol/gであった。
Example 2 By the same process as in Example 1, the same first fine grain emulsion as in Example 1 was first prepared. The gelatin degrading enzyme actinase (15 mg) was added to the emulsion and the mixture was allowed to stand at 30 ° C. for about 40 minutes to lower the gelatin molecular weight. The average molecular weight determined by measuring the viscosity reduction ratio of the emulsion and comparing it with the previously determined relationship (average molecular weight of gelatin-viscosity of aqueous gelatin solution) was about 10,000. Next, 5 ml of H 2 O 2 (3.1% by weight) solution was added, and after stirring for 10 minutes, 15 ml of KBr-1 solution was added, and then 20 ml of Ag-1 solution and X-1 solution were added.
Simultaneous mixed addition for 3 minutes. Then raise the temperature to 75 ° C,
Aged for 20 minutes. At this time, the enzyme was inactivated. Then A
Solution g-1 was added at 3 ml / min for 6 minutes. (NH 4) 2 SO 4 -1
The solution and NaOH 1N solution were added to adjust the pH to 9.0. After aging for 12 minutes, the pH was adjusted to 6 with H 2 SO 4 1N solution, and Ag-
While maintaining pBr 1.8 using solution 1 and solution X-1,
Simultaneous addition was performed. The Ag-1 solution was added for 32 minutes at an initial flow rate of 3 ml / min and a linear flow rate acceleration amount of 0.2 ml / min. After stirring for 2 minutes, the sensitizing dye-1 was adsorbed by 65% of the saturated adsorption amount. Add a precipitating agent, lower the temperature to 40 ° C, and adjust the pH.
The emulsion was coagulated and set to 4.0. The subsequent steps were the same as in Example 1 to obtain a coated sample 2. The emulsion 1
ml was collected and the TEM image of the particle replica was observed,
96% of the total projected area of the grains were tabular grains having an aspect ratio of 3 or more, and the average grain diameter was 1.6 μm and the average thickness was 0.15 μm. Before adding the precipitating agent, 1.0 ml of the emulsion was sampled, and the dye-1 solution (0.01
% Aqueous solution), and mixed. 0.1 ml was taken out, diluted with 30 ml of pure water, and the emulsion was centrifuged. The supernatant was discarded, 10 ml of pure water was added, and redispersed. That 0.1
ml was sampled and diluted with 10 ml of pure water. That 0.0
01 ml was taken, placed on a silver plate and dried. The grains were observed with a super SEM (scanning electron microscope), and the total number of tabular grains was about 600. On the other hand, an AgX emulsion was prepared with the same formulation except that the addition of the degrading enzyme and H 2 O 2 was omitted in Example 2. When the number of tabular grains in the obtained emulsion was determined by the same method, it was 8. Therefore, it is shown that 98% or more of the produced tabular grains were produced by the addition of the degrading enzyme and H 2 O 2 . The emulsion collected just before the start of grain growth was spun down, and the supernatant was taken out and concentrated under reduced pressure. After cooling to 10 ° C. or lower to cause gelation, it was washed with cold water and desalted. Amino acid analysis revealed that the methionone content was 0 μmol / g. The methionine content of the original gelatin was 48 μmol / g.

【0085】比較例1 反応容器にゼラチン溶液−11(H2 O 1.2リット
ル、ゼラチン15g、KBr1.0g、化合物−1を
0.15g含む)を入れ、温度を30℃に保ち攪拌しな
がらAg−1液とX−1液を15ml/分で3分間同時混
合添加した。次にKBr−1液を12ml添加し、温度を
70℃に昇温し、15分間熟成した。Ag−1液を3ml
/分で6分間添加した後、(NH4)2SO4−1液とNaOH 1
N液を入れ、pH9.0とした。12分間熟成した後、
H2SO4 1N液でpH6とし、Ag−1液とX−1液を
用いて、pBr2.1に保ちながら、同時混合添加し
た。Ag−1液は初期流量3ml/分、直線流量加速量
0.2ml/分で38分間した。2分間攪拌した後、増感
色素−1を飽和吸着量の70%だけ吸着させた。沈降剤
を添加する工程以後は、実施例1と同じ処理をし、塗布
試料11を得た。該乳剤中の粒子のレプリカのTEM像
を観察した所、粒子の全投影面積の95%がアスペクト
比3以上の平板状粒子であり、その平均粒子直径は1.
2μm、平均厚さ0.14μmであった。試料1、2、
11を、光学ウェッジとマイナス青フィルターを通して
1/100秒間露光をし、MAA−1現像液〔メトール
2.5g、アスコルビン酸10g、KBr1.0g、メ
タホウ酸ナトリウム35g、H2 Oを入れ1リットルと
する〕で20℃、10分間現像をした。停止液、定着
液、水洗液を通し、乾燥させた。該写真特性の結果は
(感度/粒状度)相対比で比較した。感度は(かぶり+
0.2)の濃度を与える露光量の逆数で表し、粒状度は
試料を(かぶり+0.2)の濃度を与える光量で一様露
光し、前記現像処理を行った後、従来法に従って測定し
た。該測定結果は次の通りであった。試料11(10
7)、試料2(109)、試料11(100)。比較例
に対して実施例が優れている事が分かった。また各々の
平板状粒子の双晶面間隔のバラツキの変動係数を、低温
電子顕微鏡観察より求めた所、実施例1(0.25)、
実施例(0.27)、比較例1(0.43)であり、実
施例1、2の方が双晶面間隔が揃っていた。なお、実施
例1の第1微粒子の80mlをとり出し、ゼラチン溶液
(ゼラチン6g、H2 O 120ml、KBr 0.6g
を含む)に入れた。溶液のpBr値を一定に保ちなが
ら、35℃で新核を発生させなく、かつ、オストワルド
熟成が生じない添加速度でAg+ 液とX- 液を添加し、
第1微粒子を直径約0.25μmに成長させた。生成粒
子のレプリカのTEM像を観察した所、個数で99.7
%が無双晶粒子であった。
Comparative Example 1 Gelatin solution-11 (containing 1.2 liters of H 2 O, 15 g of gelatin, 1.0 g of KBr and 0.15 g of compound-1) was placed in a reaction vessel and the temperature was kept at 30 ° C. with stirring. Solution Ag-1 and solution X-1 were simultaneously mixed and added at 15 ml / min for 3 minutes. Next, 12 ml of KBr-1 solution was added, the temperature was raised to 70 ° C., and the mixture was aged for 15 minutes. 3 ml of Ag-1 solution
(NH 4 ) 2 SO 4 -1 liquid and NaOH 1
Liquid N was added to adjust the pH to 9.0. After aging for 12 minutes,
The pH was adjusted to 6 with H 2 SO 4 1N solution, and Ag-1 solution and X-1 solution were simultaneously mixed and added while maintaining pBr2.1. The Ag-1 solution was subjected to an initial flow rate of 3 ml / min and a linear flow rate acceleration amount of 0.2 ml / min for 38 minutes. After stirring for 2 minutes, the sensitizing dye-1 was adsorbed by 70% of the saturated adsorption amount. After the step of adding the precipitating agent, the same treatment as in Example 1 was carried out to obtain a coated sample 11. Observation of a TEM image of a grain replica in the emulsion revealed that 95% of the total projected area of the grain was a tabular grain having an aspect ratio of 3 or more, and the average grain diameter was 1.
The thickness was 2 μm and the average thickness was 0.14 μm. Samples 1, 2,
11 was exposed for 1/100 seconds through an optical wedge and a minus blue filter, and MAA-1 developer [2.5 g of metol, 10 g of ascorbic acid, 1.0 g of KBr, 35 g of sodium metaborate, and H 2 O were added to make 1 liter. Then, development was performed at 20 ° C. for 10 minutes. The stop solution, the fixing solution and the washing solution were passed through and dried. The results of the photographic properties were compared in relative ratio (sensitivity / granularity). Sensitivity is (fog +
It is expressed by the reciprocal of the exposure amount giving a density of 0.2), and the granularity was measured according to the conventional method after uniformly exposing the sample with a light amount giving a density of (fog + 0.2) and performing the developing treatment. . The measurement results were as follows. Sample 11 (10
7), sample 2 (109), sample 11 (100). It was found that the example is superior to the comparative example. The coefficient of variation of the twin plane spacing variation of each tabular grain was determined by observation with a low-temperature electron microscope, and Example 1 (0.25),
It was Example (0.27) and Comparative Example 1 (0.43), and twin plane spacings were more uniform in Examples 1 and 2. 80 ml of the first fine particles of Example 1 was taken out, and a gelatin solution (gelatin 6 g, H 2 O 120 ml, KBr 0.6 g) was used.
Including). While keeping the pBr value of the solution constant, Ag + solution and X - solution were added at an addition rate that does not generate new nuclei at 35 ° C and does not cause Ostwald ripening.
The first fine particles were grown to have a diameter of about 0.25 μm. When the TEM image of the replica of the generated particles was observed, the number was 99.7.
% Were twin-free grains.

【0086】実施例3 反応容器にゼラチン溶液−3(H2 O 1200ml、メ
チオニン含率が0μmol/gの酸化ゼラチン25g、KB
r 0.3gを含みpH6.0)を入れ、温度を40℃
に保ちながら、Ag−1液とX−1液を8ml/分で2分
間、同時混合添加した。次に表1の化合物3−1を8×
10-4モルだけ添加し、10分間攪拌混合した。次に温
度を60℃に昇温し、HNO3(3N)液でpH2.8と
した。KBr−1液を10ml添加した。Ag−1液とX
−1液を4ml/分で10分間、同時混合添加した。次に
溶液のpHを9.0とし、KBr−1液を12ml添加
し、18分間熟成をした。次にAg−1液とX−1液を
銀電位−20mV(対、室温飽和カロメル電極電位)に保
ちながら同時混合添加した。Ag−1液のスタート添加
速度は5ml/分、直線流量加速量は0.1ml/分で38
分間添加した。2分間攪拌した後、増感色素−1を飽和
吸着量の70%だけ吸着させた。沈降剤を加え、温度を
35℃に下げ、pH4近傍とし、乳剤を凝集沈降させ
た。これ以降の工程は実施例1と同じ処置をし、塗布試
料3−1を得た。添加する化合物を表1の3−1の代わ
りに3−2〜3−11を添加する以外は同じにしてAg
X乳剤形成を行った。粒子形成以降の工程は実施例1と
同じ処置をし、対応する塗布試料を3−1〜3−11と
した。それぞれの場合に得られたAgX粒子のレプリカ
膜のTEMを観察した結果を表1に示した。また試料1
と同じ方法で露光し、現像処理し、写真性能を求め、結
果を表1に示した。前記と同様にして感度、粒状度を求
め、結果を表1に示した。なお、表1で化合物番号は本
文中に記載の番号の化合物を指す。a1(%)は得られ
たAgX乳剤中のアスペクト比が3.0以上の平板粒子
の投影面積比率%を指す。a2は(感度/粒状度)の相
対値を表す。3−1〜3−11の試料の写真性はいずれ
も比較例1よりも優れていた。
Example 3 Gelatin solution-3 (1200 ml of H 2 O, 25 g of oxidized gelatin having a methionine content of 0 μmol / g, KB) was placed in a reaction vessel.
pH of 6.0) containing 0.3 g of r
While maintaining the above, the Ag-1 solution and the X-1 solution were simultaneously mixed and added at 8 ml / min for 2 minutes. Then, the compound 3-1 in Table 1 was 8 ×
Only 10 −4 mol was added and mixed with stirring for 10 minutes. Next, the temperature was raised to 60 ° C. and the pH was adjusted to 2.8 with HNO 3 (3N) solution. 10 ml of KBr-1 solution was added. Ag-1 solution and X
Solution-1 was simultaneously mixed and added at 4 ml / min for 10 minutes. Next, the pH of the solution was adjusted to 9.0, 12 ml of KBr-1 solution was added, and the mixture was aged for 18 minutes. Next, the Ag-1 solution and the X-1 solution were simultaneously mixed and added while keeping the silver potential at -20 mV (vs. room temperature saturated calomel electrode potential). The start addition rate of Ag-1 solution is 5 ml / min, and the linear flow rate acceleration is 0.1 ml / min.
Minutes. After stirring for 2 minutes, the sensitizing dye-1 was adsorbed by 70% of the saturated adsorption amount. A precipitating agent was added, the temperature was lowered to 35 ° C., and the pH was adjusted to around 4 to coagulate and precipitate the emulsion. The subsequent steps were the same as in Example 1 to obtain a coated sample 3-1. The compound to be added is the same except that 3-2 to 3-11 is added instead of 3-1 in Table 1 to Ag.
X emulsion formation was performed. The same treatments as in Example 1 were carried out in the steps after particle formation, and the corresponding coated samples were 3-1 to 3-11. Table 1 shows the results of observing the TEM of the replica film of AgX particles obtained in each case. Sample 1
Exposure, development processing and photographic performance determination were carried out in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1. The sensitivity and granularity were determined in the same manner as above, and the results are shown in Table 1. In addition, the compound number in Table 1 refers to the compound having the number described in the text. a1 (%) indicates the projected area ratio% of tabular grains having an aspect ratio of 3.0 or more in the obtained AgX emulsion. a2 represents the relative value of (sensitivity / granularity). The photographic properties of the samples 3-1 to 3-11 were all better than that of Comparative Example 1.

【0087】[0087]

【表1】 [Table 1]

【0088】[0088]

【発明の効果】本発明法により製造されたAgX乳剤は
(感度/粒状度)において優れる。
The AgX emulsion produced by the method of the present invention is excellent in (sensitivity / granularity).

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ハロゲン化銀粒子上に吸着剤を吸着させ、双晶
面を形成する本発明法の原子モデルの断面図を示す。
FIG. 1 shows a cross-sectional view of an atomic model of the method of the present invention in which an adsorbent is adsorbed on silver halide grains to form twin planes.

【図2】第1微粒子の{111}面上に双晶面が2枚形
成される時の粒子断面の概略図を示す。
FIG. 2 is a schematic view of a grain cross section when two twin planes are formed on the {111} plane of the first fine particles.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11……第1吸着剤の分子 12……Ag+ 原子 13……ハロゲンイオン 14……積層欠陥原子層 21……ハロゲン化銀第1微粒子 22……双晶面11 …… Molecule of the first adsorbent 12 …… Ag + atom 13 …… Halogen ion 14 …… Stacking fault atomic layer 21 …… Silver halide first fine particles 22 …… Twin plane

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくともハロゲン化銀粒子と分散媒を
有するハロゲン化銀乳剤の製造方法において、該ハロゲ
ン化銀粒子の投影面積の合計の60%以上が、アスペク
ト比(直径/厚さ)が2以上の平行双晶面を有する平板
状ハロゲン化銀粒子であり、該製造方法が次のプロセス
を含み、かつ、生成する平行双晶粒子数の20〜100
%がc)の過程で形成された事を特徴とするハロゲン化
銀乳剤の製造方法。 a)分散媒を含む水溶液中に銀塩溶液とハロゲン塩溶液
を添加し、双晶面を実質的に有しない(双晶面を2枚以
上有する粒子の数比率が0〜25%である)ハロゲン化
銀第1微粒子乳剤を形成する工程。 b)第1微粒子乳剤に次の〜の1つ以上の処置を施
す。 分散媒濃度を元の0.1〜50%に減少させる。 分散媒分子を分解し、分散媒の重量平均分子量を元の
1〜60%に低分子量化する。 ゼラチンのメチオニン基、イミダゾール基、アルコー
ル基、アミノ基の1つ以上の基を元の数の0〜60%に
減ずる。 該第1微粒子乳剤に添加すると第1微粒子上に吸着
し、次のc)の過程での平行双晶面形成確率を強制的に
高める第1吸着剤を添加する。 c)該第1微粒子乳剤に銀イオンとハロゲンイオンを添
加し、該第1微粒子上に平行双晶面を形成する工程。
1. A method for producing a silver halide emulsion having at least silver halide grains and a dispersion medium, wherein 60% or more of the total projected area of the silver halide grains has an aspect ratio (diameter / thickness) of 2 or more. It is a tabular silver halide grain having the above parallel twin planes, the production method includes the following process, and the number of parallel twin grains to be generated is from 20 to 100.
% Is formed in the step c), a method for producing a silver halide emulsion. a) A silver salt solution and a halogen salt solution are added to an aqueous solution containing a dispersion medium to have substantially no twin planes (the number ratio of particles having two or more twin planes is 0 to 25%). Step of forming a silver halide first fine grain emulsion. b) subject the first fine grain emulsion to one or more of the following treatments. The dispersion medium concentration is reduced to the original 0.1-50%. Dispersion medium molecules are decomposed to lower the weight average molecular weight of the dispersion medium to 1 to 60% of the original weight. One or more groups of methionine group, imidazole group, alcohol group and amino group of gelatin are reduced to 0-60% of the original number. When added to the first fine grain emulsion, it is adsorbed on the first fine grains, and the first adsorbent forcibly increasing the parallel twin plane formation probability in the following step c) is added. c) A step of adding silver ions and halogen ions to the first fine grain emulsion to form parallel twin planes on the first fine grains.
【請求項2】 該第1吸着剤が、N、P、S、Se、
I、As、Sb、Sn原子のオニウム塩基の1種以上を
1分子中に1基以上含有する化合物、含窒素複素環式
化合物、SCN- 塩化合物、分光増感色素、かぶ
り防止剤、2価イオウ含有のヘテロ環化合物、2価
イオウ含有の有機化合物、アミノチオエーテル類、
チオ尿素またはその誘導体、の1種以上である請求項1
記載のハロゲン化銀乳剤の製造方法。
2. The first adsorbent is N, P, S, Se,
Compounds containing one or more onium bases of I, As, Sb, and Sn atoms in one molecule, nitrogen-containing heterocyclic compounds, SCN - salt compounds, spectral sensitizing dyes, antifoggants, and divalent compounds Sulfur-containing heterocyclic compounds, divalent sulfur-containing organic compounds, aminothioethers,
2. One or more of thiourea or a derivative thereof.
A method for producing a silver halide emulsion as described above.
【請求項3】 該c)の工程が、該a)の工程後に、第
1吸着剤を添加し、該第1微粒子上に該吸着剤を吸着さ
せた後に行われる事を特徴とする請求項1記載のハロゲ
ン化銀乳剤の製造方法。
3. The step c) is performed after the step a), after adding the first adsorbent and adsorbing the adsorbent onto the first fine particles. 1. The method for producing a silver halide emulsion according to 1.
【請求項4】 第1吸着剤がピリジニウム4級塩、トリ
アゾリウム塩、プロトン化した有機アミン化合物及び第
4級アンモニウム化合物から選ばれるアンモニウム塩基
含有化合物である事を特徴とする請求項1記載のハロゲ
ン化銀乳剤の製造方法。
4. The halogen according to claim 1, wherein the first adsorbent is an ammonium base-containing compound selected from pyridinium quaternary salts, triazolium salts, protonated organic amine compounds and quaternary ammonium compounds. Method for producing silver halide emulsion.
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